JP2004051995A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004051995A5 JP2004051995A5 JP2003276560A JP2003276560A JP2004051995A5 JP 2004051995 A5 JP2004051995 A5 JP 2004051995A5 JP 2003276560 A JP2003276560 A JP 2003276560A JP 2003276560 A JP2003276560 A JP 2003276560A JP 2004051995 A5 JP2004051995 A5 JP 2004051995A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- substituent
- hydrogen atom
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
すなわち、本発明の第一の要旨は下記式(1)〜(3)
(式中、a〜fはそれぞれ0〜2の整数を示し、R1〜R3は水素原子またはメチル基を示し、Z1〜Z3は炭素数10〜22の多環式炭化水素構造を示す。ただし、aとb、cとd、eとfが同時に0であることはない。)で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を含む(共)重合体であって、
上記式(1)で表される構成単位が、下記式(16)および(17)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位であり、
上記式(2)で表される構成単位が、下記式(18)、(19)、(20)、および(22)〜(30)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位である(共)重合体。
(ただし、式(16)〜(30)で表される単量体中の多環式炭化水素構造は、
炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基で置換された多環式炭化水素構造でもよく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1〜6のエステル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、アミノ基、またはシアノ基のいずれかを有していてもよい。)
上記式(1)で表される構成単位が、下記式(16)および(17)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位であり、
上記式(2)で表される構成単位が、下記式(18)、(19)、(20)、および(22)〜(30)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位である(共)重合体。
炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基で置換された多環式炭化水素構造でもよく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1〜6のエステル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、アミノ基、またはシアノ基のいずれかを有していてもよい。)
Claims (2)
- 下記式(1)〜(3)
上記式(1)で表される構成単位が、下記式(16)および(17)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位であり、
上記式(2)で表される構成単位が、下記式(18)、(19)、(20)、および(22)〜(30)から選ばれる少なくとも1種の単量体から導かれる構成単位である(共)重合体。
炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基で置換された多環式炭化水素構造でもよく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1〜6のエステル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、アミノ基、またはシアノ基のいずれかを有していてもよい。) - 下記式(A)〜(C)
で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上含むことを特徴とする請求項1記載の(共)重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003276560A JP4315756B2 (ja) | 2002-07-19 | 2003-07-18 | (共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002211344 | 2002-07-19 | ||
JP2003276560A JP4315756B2 (ja) | 2002-07-19 | 2003-07-18 | (共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004051995A JP2004051995A (ja) | 2004-02-19 |
JP2004051995A5 true JP2004051995A5 (ja) | 2006-08-31 |
JP4315756B2 JP4315756B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=31949521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003276560A Expired - Fee Related JP4315756B2 (ja) | 2002-07-19 | 2003-07-18 | (共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4315756B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060147832A1 (en) * | 2003-03-04 | 2006-07-06 | Hideo Hada | Polymer and positive type resist composition |
JP4796794B2 (ja) * | 2005-07-27 | 2011-10-19 | ダイセル化学工業株式会社 | ラクトン骨格を含む多環式エステル |
JP5005197B2 (ja) * | 2005-07-27 | 2012-08-22 | 株式会社ダイセル | 多環式エステル |
JP4832019B2 (ja) * | 2005-07-27 | 2011-12-07 | 株式会社ダイセル | 環状カーボネート骨格を含む多環式エステル |
JP4781086B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-09-28 | ダイセル化学工業株式会社 | 脂環式骨格を有する高分子化合物 |
JP5285884B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2013-09-11 | 東京応化工業株式会社 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
JP5418268B2 (ja) * | 2010-02-10 | 2014-02-19 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP5572127B2 (ja) * | 2011-06-08 | 2014-08-13 | 株式会社ダイセル | 脂環式骨格を有する高分子化合物 |
JP5793388B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-10-14 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 |
JP6002378B2 (ja) | 2011-11-24 | 2016-10-05 | 東京応化工業株式会社 | 高分子化合物の製造方法 |
JP5757851B2 (ja) * | 2011-11-25 | 2015-08-05 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JP5775804B2 (ja) * | 2011-12-06 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス |
JP2013130654A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス |
JP2013137338A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-11 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス |
-
2003
- 2003-07-18 JP JP2003276560A patent/JP4315756B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004051995A5 (ja) | ||
EP1632534A3 (en) | Curable resin composition, curable film and cured film | |
EP1826196A3 (en) | Vinyl ether compounds | |
TW200634035A (en) | Solid titanium catalyst component, catalyst for polymerization of olefin and process for producing olefin polymer | |
JP2003176417A5 (ja) | ||
EP2031007A3 (en) | Norbornene-type polymers, compositions thereof and lithographic processes using such compositions | |
EP2105451A3 (en) | Nitrile group-containing polymer and method of synthesizing the same, composition containing nitrile group-containing polymer, and laminate | |
JP2007504312A5 (ja) | ||
JP2004083852A5 (ja) | ||
JP2003327610A5 (ja) | ||
JP2006045507A5 (ja) | ||
JP2004535412A5 (ja) | ||
JP2009530485A5 (ja) | ||
JP2006503143A5 (ja) | ||
JP2018076394A5 (ja) | ||
JP2006206765A5 (ja) | ||
JP2001310939A5 (ja) | ||
EP0908462A3 (en) | Silatrane derivative and curable silicone composition containing same | |
JP2008129071A5 (ja) | ||
JP2008063398A5 (ja) | ||
JP2008024686A5 (ja) | ||
TW200630375A (en) | Composition containing siloxane compound and phenol compound | |
JP2007126359A5 (ja) | ||
WO2009078394A1 (ja) | 4-ヒドロキシフェニルアルキルアミン誘導体 | |
JP2007131784A5 (ja) |