JP2004039580A - Organic electroluminescent image display device - Google Patents
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-
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- H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
Abstract
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は有機エレクトロルミネッセント画像表示装置に係り、特に混色がなく発光輝度の高い良好な画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機のエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶ディスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこと等の利点をもっており、近年、画像表示装置の画素等としての実用化が進んでいる。
有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置としては、（１）三原色の有機ＥＬ素子層を各発光色毎に所定のパターンで形成したもの、（２）白色発光の有機ＥＬ素子層を使用し、三原色のカラーフィルタを介して表示するもの、（３）青色発光の有機ＥＬ素子層を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするもの等が提案されている。
【０００３】
しかし、上記の（１）の有機ＥＬ画像表示装置では、各発色光の取出し効率は高いものの、各色の有機ＥＬ素子の特性を均一にすることが難しく、さらに、微細なパターンで三原色の有機ＥＬ素子層を形成する工程が複雑であり、量産化を難しいものとしている。
また、上記の（２）の有機ＥＬ画像表示装置では、白色光を三原色のカラーフィルタで分解すると、三原色の中の一色の発光効率が白色光の３分の１に低下して取出し効率が悪く、このため高効率の白色有機ＥＬ素子が必要となるが、十分な輝度を安定して得られる白色有機ＥＬ素子は未だ得られていない。
これに対して、上記の（３）の有機ＥＬ画像表示装置では、色変換蛍光体層の変換効率が光吸収効率と蛍光効率の積で決定されるため、光吸収効率と蛍光効率の高い蛍光色素を使用することにより、変換効率が非常に高い三原色発光が可能である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、色変換蛍光体層からは全方位に光が発光されるため、発光された光が隣接する他の絵素に入射すると、混色を生じて画像表示品質の低下を来たすという問題がある。
また、一般に画像表示装置においては、輝度が重要な因子であり、上記のような色変換蛍光体層を使用した有機ＥＬ画像表示装置においても同様である。しかし、上述のように色変換蛍光体層から全方位に光が発光されるため、発光された光の利用効率が低く、高い輝度が得られず画像表示品質に支障を来たすという問題もある。
【０００５】
さらに、製造上においても、色変換蛍光体層は膜厚が１０μｍ程度と厚いものであり、三原色の形成を試みる場合、アライメント精度を考慮に入れて各色の色変換蛍光体層間に間隙を設ける必要がある。仮に、各色の色変換蛍光体層に間隙を設けないと、各色の色変換蛍光体層が重なり、この重なり部分が凸状態となって、後工程の各層の形成に支障を来たすことになる。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、混色がなく輝度が高い高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置は、透明基材と、該透明基材上に順次設けられたカラーフィルタ層、色変換蛍光体層、透明保護層、透明電極層、有機エレクトロルミネッセンス素子層、および、背面電極層とを少なくとも備え、前記透明電極層が前記有機エレクトロルミネッセンス素子層を介して前記背面電極層と交差する複数の部位を絵素となし、絵素に対応する前記色変換蛍光体層間に障壁を備え、該障壁は５０％以上の光反射率を有するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記障壁は各絵素に対応する前記色変換蛍光体層を囲むように設けられているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明基材と前記カラーフィルタとの間に、所定の開口パターンを有するブラックマトリックスを備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記有機エレクトロルミネッセンス素子層は青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えているような構成とした。
【０００７】
上記のような本発明では、色変換蛍光体層間に設けられた障壁が、色変換蛍光体層から全方位に発光された光が隣接する絵素に入射するのを防止し、かつ、発光された光を反射して輝度を向上させる作用をなす。また、各色の色変換蛍光体層の間に凹部が存在する場合に、色変換蛍光体層間に設けられた障壁により平坦化がなされる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）画像表示装置の一実施形態を示す部分平面図であり、図２は図１に示される有機ＥＬ画像表示装置のＩＩ−ＩＩ線における縦断面図であり、図３は図１に示される有機ＥＬ画像表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線における縦断面図である。尚、図１では、後述する補助電極７、透明電極層８を示すために、青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１１の一部を切り欠いた状態で示している。図１〜図３において、有機ＥＬ画像表示装置１は、透明基材２と、この透明基材２上に所定の開口パターンを備えたブラックマトリックス３を介して帯状の赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇ、青色着色層４Ｂからなるカラーフィルタ層４が設けられている。
【０００９】
このカラーフィルタ層４上には、赤色変換蛍光体層５Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇと青色変換ダミー層５Ｂからなる色変換蛍光体層５が形成されている。この色変換蛍光体層５を構成する各層は、赤色着色層４Ｒ上に赤色変換蛍光体層５Ｒが、緑色着色層４Ｇ上に緑色変換蛍光体層５Ｇが、青色着色層４Ｂ上に青色変換ダミー層５Ｂがそれぞれ帯状に配設されている。本発明では、上記の各帯状の色変換蛍光体層５の間にストライプ状の障壁９が設けられている。図４は、このようなカラーフィルタ層４と色変換蛍光体層５および障壁９との位置関係を示す図であり、ブラックマトリックス３、カラーフィルタ層４の状態を示すために、色変換蛍光体層５と障壁９の一部を切り欠いた状態で示している。図示例では、後述する透明電極層８と背面電極層１１とが青色有機ＥＬ素子層１０を介して交差する部位（絵素（ブラックマトリックス３の開口部３ａに対応））の各配列上に、色変換蛍光体層５が帯状に配設されており、この１列に配列された絵素に対応する色変換蛍光体層５の間に障壁９がストライプ状に設けられている。
【００１０】
また、本発明では、上記の障壁９が５０％以上の光反射率、好ましくは６０％以上の光反射率を有するものとする。ここで、上記の光反射率は、（株）日立製作所製 分光光度計Ｕ−３４１０型に積分球を取り付け、ＭｇＯ白色板を標準板として１００％を調整後、５００〜６００ｎｍにわたって５ｎｍ間隔で測定した光反射率の平均値とする。障壁９の光反射率が５０％未満であると、色変換蛍光体層５から発光された光の利用効率向上という本発明の効果の一つが充分に発現されず好ましくない。
尚、上記の実施形態では、障壁９が各帯状の色変換蛍光体層５の間にストライプ状に設けられているが、各絵素に対応する各色変換蛍光体層５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを囲むように格子形状に障壁９を設けてもよい。このような格子形状の障壁９を設けた場合、図４に示されるストライプ状の障壁９に掛け渡すように直角方向にも障壁９（図４に２点鎖線で示す）が形成され、ブラックマトリックスの各開口部３ａ（上記の絵素に対応）を囲むように障壁９が存在し、この障壁９に囲まれるように、各絵素に対応した色変換蛍光体層５が存在することになる。
【００１１】
このような色変換蛍光体層５と障壁９とを覆うように透明保護層６が透明基材２上に設けられ、この透明保護層６上に補助電極７および透明電極層８が周辺の端子部から中央の画素領域まで帯状に配設され形成されている。図５は、このように補助電極７と透明電極層８が透明保護層６上に形成されている状態を示す部分平面図である。尚、図５には、上述の格子形状の障壁９を２点鎖線で示している。
【００１２】
また、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１では、上記のように配設された帯状の透明電極層８と直角に交差し、ブラックマトリックス３の開口部上に位置するように帯状の青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１１とが透明保護層６上に形成されている。また、帯状の透明電極層８と直角に交差し、ブラックマトリックス３の遮光部上に位置するように、絶縁層１３を介して隔壁部１５が透明保護層６上に形成されている。この隔壁部１５の上部平面にはダミーの有機ＥＬ素子層１０′と背面電極層１１′とが形成されており、これらは、隔壁部１５をパターニング手段として利用した青色有機ＥＬ素子層１０および背面電極層１１の形成において、帯状のパターンを形成するために、不要な形成材料を透明電極層８上に到達しないよう隔壁部１５に付着させて排除した結果形成されたものである。
尚、図示例では、絶縁層１３は隔壁部１５の形成部位のみにストライプ状に設けられているが、これに限定されるものではなく、透明電極層８と背面電極層１１とが青色有機ＥＬ素子層１０を介して交差する各部位（絵素）に開口をもつような格子形状のパターンからなる絶縁層１３であってもよい。
【００１３】
上述のような本発明の有機ＥＬ画像表示装置１では、青色有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光が、赤色変換蛍光体層５Ｒにて赤色蛍光とされ、緑色変換蛍光体層５Ｇにて緑色蛍光とされ、青色変換ダミー層５Ｂでは青色光がそのまま透過し、その後、各色の光はカラーフィルタ層４にて色補正されて三原色表示がなされる。そして、色変換蛍光体層５間に設けられた障壁９によって、色変換蛍光体層５から全方位に発光された光が隣接する絵素に入射することが防止される。例えば、帯状の赤色変換蛍光体層５Ｒ（透明電極層８）と背面電極層１１とが青色有機ＥＬ素子層１０を介して交差して形成される１個の絵素では、この絵素に対応する赤色変換蛍光体層５Ｒから発光された光は障壁９により遮光されて隣接する別の絵素に到達することが阻止される。また、赤色変換蛍光体層５Ｒから発光された光は障壁９によって反射されて対応する絵素に戻される。したがって、色変換蛍光体層５から発光された光の利用効率が大幅に向上して発光輝度が高いものとなる。これにより、混色がなく輝度の高い高品質の画像表示が可能である。
【００１４】
尚、上述の例では、ブラックマトリックス３を介してカラーフィルタ層４等の各構成層が設けられているが、ブラックマトリックス３を備えない形態であってもよい。
また、色変換蛍光体層５は、青色有機ＥＬ素子層１０からの青色発光を赤色蛍光、緑色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層５Ｇを備えているが、これに限定されるものではなく、発光（青色）波長よりも長波長の蛍光へ変換できる色変換蛍光体層を備えるものであればよい。そして、色変換蛍光体層５からの各色の光を色補正して色純度を高めるカラーフィルタ層４との組み合わせを適正なものに設定することにより、三原色表示を行うことができる。
【００１５】
次に、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１の各構成部材について説明する。
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明基材２は、光透過性を有するガラス材料、樹脂材料、これらの複合材料からなるものを使用することができる。透明基材２の厚みは、材料、画像表示装置の使用状況等を考慮して設定することができ、例えば、０．１〜１．１ｍｍ程度とすることができる。
ブラックマトリックス３は所定のパターンで開口部３ａと遮光部３ｂを備えている。図６は、透明基材２上にブラックマトリックス３を介してカラーフィルタ層４を形成した状態を示す部分平面図であり、ブラックマトリックス３の状態を示すために、赤色着色層４Ｒの一部を切り欠いた状態で示している。このようなブラックマトリックス３は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
【００１６】
また、カラーフィルタ層４は、色変換蛍光体層５からの各色の光を色補正して色純度を高めるものである。カラーフィルタ層４を構成する青色着色層４Ｂ、赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇは、青色有機ＥＬ素子層１０からの青色発光、赤色変換蛍光体層５Ｒからの赤色蛍光、および、緑色変換蛍光体層５Ｇからの緑色蛍光の特性に応じて適宜材料を選択することができ、例えば、顔料、顔料分散剤、バインダー樹脂、反応性化合物および溶媒を含有する顔料分散組成物で形成することができる。カラーフィルタ層４は、上述の顔料分散組成物を使用した顔料分散法により形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成することができる。このようなカラーフィルタ層４の厚みは、各着色層の材料、色変換蛍光体層５から発光される蛍光等に応じて適宜設定することができ、例えば、１〜３μｍ程度の範囲で設定することができる。
【００１７】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する障壁９は、各絵素に対応する色変換蛍光体層５の間に配設されるものであり、５０％以上の光反射率を有するものである。このような障壁９は、例えば、白色粒子、または、白色に近い明色の顔料を含有した樹脂組成物をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法等によりストライプ形状、格子形状等に形成することができる。白色粒子としては、無機白色粒子および／または有機白色粒子を使用することができる。無機白色粒子としては、炭酸カルシウム、アルミナ、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、シリカ等が挙げられる。また、有機白色粒子は、平行光線透過率が８０％以上である熱可塑性樹脂をポリエステルと溶融混合し分散粒子化して得られたものを使用することができる。この場合、分散粒子径を小さくするために、相溶化剤を混合することが効果的である。樹脂としては、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。障壁９の厚みは、通常、色変換蛍光体層５と同程度とされ、例えば、１０〜２０μｍ程度とし、また、幅はブラックマトリックス３よりも狭いことが望ましい。色変換蛍光体層５の間に凹部が存在していても、上記のような障壁９を設けることにより平坦化が可能となる。
【００１８】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する色変換蛍光体層５のうち、赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるいは、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層５Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層５Ｇに使用する蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができる。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することができるが、例えば、使用する樹脂１００重量部に対し０．１〜１重量部程度とすることができる。
また、青色変換ダミー層５Ｂは、青色有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層４に送るものであり、赤色変換蛍光体層５Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができる。
【００１９】
赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変換蛍光体層５のパターン形成をフォトリソグラフィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層５Ｂに使用することができる。
【００２０】
色変換蛍光体層５を構成する赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層５Ｇは、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成する場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶化させた塗布液を上記の障壁９を覆うようにスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤色変換蛍光体層５Ｒや緑色変換蛍光体層５Ｇを形成することができる。また、青色変換ダミー層５Ｂは、所望の感光性樹脂塗料を上記の障壁９を覆うようにスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により形成することができる。
このような色変換蛍光体層５の厚みは、赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇが青色有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、１０〜２０μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層５Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。
【００２１】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明保護層６は、色変換蛍光体層５以下の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、青色有機ＥＬ素子層１０の厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなす。
このような透明保護層６は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
上記の透明保護層６の形成は、上記の樹脂材料が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂は成膜後そのまま硬化させる。また、使用材料がフィルム状に成形されている場合、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することができる。このような透明保護層６の厚みは、例えば、１〜５μｍ程度とすることができる。
【００２２】
本発明では、上記の透明保護層６上に絶縁性の透明バリアー層として無機酸化物膜を設けることが好ましい。この無機酸化物膜は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化鉛、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウム等の１種あるいは２種以上の酸化物を用いて形成することができ、特に酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタンが好適に使用できる。無機酸化物膜の厚みは、バリアー性と透明性とを考慮して０．０１〜０．５μｍの範囲で適宜設定することができる。このような無機酸化物膜は２層以上の多層構成であってもよく、また、窒化珪素等の窒化物を副成分として含有したものであってもよい。
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する補助電極７は、一般には、金属材料が用いられ、金、銀、銅、マグネシウム合金（ＭｇＡｇ等）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、金属カルシウム等を挙げることができる。このような補助電極７は、周辺の端子部から中央の画素領域までブラックマトリックス３の遮光部分上に位置するように配設されている。
【００２３】
また、有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明電極層８の材料としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、これらの混合物を使用することができ、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化第二スズ等の導電材料を挙げることができる。この透明電極層８は、周辺の端子部から中央の画素領域までブラックマトリックス３の開口部分上および上記補助電極７上に位置するように帯状に配設されている。このような透明電極層８はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層８の厚みは、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍ程度とすることができる。
補助電極７および透明電極層８は、上述の材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング法により薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法を用いたパターンエッチングで所望の形状とすることができる。
【００２４】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する青色有機ＥＬ素子層１０は、発光層単独からなる構造、発光層の透明電極層８側に正孔注入層を設けた構造、発光層の背面電極層１１側に電子注入層を設けた構造、発光層の透明電極層８側に正孔注入層を設け、背面電極層１１側に電子注入層を設けた構造等とすることができる。
青色有機ＥＬ素子層１０を構成する発光層は、以下の機能を併せ持つものである。
・注入機能：電界印加時に陽極または正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極または電子注入層より電子を注入することができる機能
・輸送機能：注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で移動させる機能
・発光機能：電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
【００２５】
このような機能をもつ発光層の材料としては、例えば、特開平８−２７９３９４号公報に開示されているベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等を挙げることができる。
具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤を挙げることができる。
【００２６】
また、上記の金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオン等を挙げることができる。
また、上記のスチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。
【００２７】
また、上記のジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等を挙げることができる。
また、上記の芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。
【００２８】
さらに、発光層の材料として、特開平５−２５８８６２号公報に記載されている一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることができる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェニルフェノラート）アルミニウム（ＩＩＩ）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（ＩＩＩ）等が挙げられる。
発光層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００２９】
正孔注入層の材料としては、従来より光伝導材料の正孔注入材料として使用されているものや有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中から任意のものを選択して使用することがでる。正孔注入層の材料は、正孔の注入、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物あるいは無機物のいずれであってもよい。具体的には、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることができる。
【００３０】
さらに、正孔注入層の材料として、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（ＩＩ）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタメチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げることができる。正孔注入層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００３１】
また、電子注入層の材料としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して使用することができる。具体的には、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体等を挙げることができる。電子注入層の厚みは特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００３２】
青色有機ＥＬ素子層１０の形成は、隔壁部１５をマスクとして上述した発光層材料を用いて真空蒸着法等により成膜して行うことができる。この方法では、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスク（周辺部の補助電極７や透明電極層８からなる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介して成膜することによって、隔壁部１５がマスクパターンとなり、各隔壁部１５間のみを発光層材料が通過して透明電極層８に到達することができる。これにより、フォトリソグラフィー法等のパターニングを行うことなく、帯状の青色有機ＥＬ素子層１０を形成することができる。このような隔壁部１５を用いた青色有機ＥＬ素子層１０の形成では、図１および図２に示されるように、複数配列している障壁部１５のうち、最も周辺部に位置している隔壁部１５の上部平面に、上記の画像表示領域の端部が位置しており、幅方向の約半分（画像表示領域側）のみにダミーの有機ＥＬ素子層１０′が形成されている。
【００３３】
また、青色有機ＥＬ素子層１０が発光層単独からなる構造ではなく、発光層の透明電極層８側に正孔注入層を備えた構造、発光層の背面電極層１１側に電子注入層を備えた構造、発光層の透明電極層８側に正孔注入層を備え背面電極層１１側に電子注入層を備えた構造とする場合、それぞれ上述の正孔注入層材料、電子注入層材料を用いて真空蒸着法等により成膜することにより、上記の発光層と同様に、帯状パターンを形成することができる。
【００３４】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する背面電極層１１の材料としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属、合金、これらの混合物で形成される。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。電子注入性および電極としての酸化等に対する耐久性を考えると、電子注入性金属と、これより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物が好ましく、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、リチウム／アルミニウム混合物等が挙げられる。このような背面電極層１１はシート抵抗が数百Ω／□以下が好ましく、このため、背面電極層１１の厚みは、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍ程度とすることができる。
【００３５】
上記の背面電極層１１は、隔壁部１５をマスクとして上述の電極材料を用いて真空蒸着法、イオンプレーティング蒸着法等の方法により成膜して形成することができる。すなわち、隔壁部１５がマスクパターンとなり、各隔壁部１５間のみを電極材料が通過して青色有機ＥＬ素子層１０上に到達することができる。そして、フォトリソグラフィー法等のパターニングを行う必要がないので、青色有機ＥＬ素子層１０の特性を劣化させることがない。
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する絶縁層１３は、ブラックマトリックス３の遮光部上に位置するように形成されている。この絶縁層１３は、例えば、透明保護層６と同様の材料で成膜し、これをフォトリソグラフィー法を用いたパターンエッチングで所望の形状として形成することができる。このような絶縁層１３の厚みは１〜５μｍ程度とすることができる。
【００３６】
有機ＥＬ画像表示装置１を構成する隔壁部１５は、上述のように、帯状の透明電極層８と直角に交差するように青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１１とを帯状に形成するための隔壁パターンである。すなわち、隔壁部１５は、透明電極層８上に青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１１を真空蒸着法等により形成する際のマスクの役割を果たすものである。このような隔壁部１５は、感光性樹脂をスピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして形成することができる。図２に示される例では、隔壁部１５は下すぼまりの逆台形状の断面を有しているが、このように、隔壁部１５を下すぼまり、もしくは、上すぼまりの形状とするには、所定の厚みに設けたポジ型またはネガ型の感光性樹脂層を、露光方向を変えて多重露光する方法、パターンをずらして異なる方向から多重露光する方法等により実現することができる。図２に示されるように、隔壁部１５が下すぼまりの場合には、法線方向からの蒸着の際に、隔壁部１５の下層である絶縁層１３への付着を避けることができる。隔壁部１５の高さは１〜２０μｍ程度、幅はブラックマトリックス３の遮光部の幅等に応じて設定することができ、通常、ブラックマトリックス幅よりも２μｍ程度細い幅とする。
【００３７】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
［実施例］
ブラックマトリックスの形成
透明基材として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子（株）製Ｓｎ面研磨品）を準備した。この透明基材を定法にしたがって洗浄した後、透明基材の片側全面にスパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、複合クロム薄膜のエッチングを行って、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部を、上記の８０μｍ開口辺方向に１００μｍピッチ、２８０μｍ開口辺方向に３００μｍピッチでマトリックス状に備えたブラックマトリックスを形成した。
【００３８】
カラーフィルタ層の形成
赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を調製した。すなわち、赤色着色層用感光性塗料は、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等の単品、あるいは、２種以上の混合物からなる着色材をバインダー樹脂に分散させたものとした。バインダー樹脂としては、透明（可視光透過率５０％以上）な樹脂が好ましく、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂が挙げられる。また、着色材の含有量は、形成された着色層中に５〜５０重量％含有されるように設定した。
【００３９】
緑色着色層用感光性塗料は、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料、ハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等の単品、あるいは、２種以上の混合物からなる着色材をバインダー樹脂に分散させたものとした。バインダー樹脂としては、上記の透明樹脂が挙げられ、着色材の含有量は、形成された着色層中に５〜５０重量％含有されるように設定した。
青色着色層用感光性塗料は、銅フタロシアニン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等の単品、あるいは、２種以上の混合物からなる着色材をバインダー樹脂に分散させたものとした。バインダー樹脂としては、上記の透明樹脂が挙げられ、着色材の含有量は、形成された着色層中に５〜５０重量％含有されるように設定した。
【００４０】
次に、上記の３種の着色層用感光性塗料を用いて各色の着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリックスが形成された上記の透明基材全面に、緑色着色層用の感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。その後、所定の着色層用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅８５μｍ）の緑色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。
同様に、赤色着色層の感光性塗料を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅８５μｍ）の赤色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。さらに、青色着色層の感光性塗料を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅８５μｍ）の青色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。
【００４１】
障壁の形成
白色顔料として、粒径１μｍ以下の酸化チタンを準備し、これをバインダー樹脂に分散させて障壁用感光性塗料とした。バインダー樹脂としては、カラーフィルタ層形成で挙げた透明樹脂を使用することができ、白色顔料の含有量は、形成された障壁中に５０〜９０重量％含有されるように設定した。
次に、上記の障壁用感光性塗料を、ブラックマトリックスとカラーフィルタ層が形成された上記の透明基材全面に、スピンコート法により塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。その後、所定の障壁用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅１５μｍ）の障壁（厚み１２μｍ）を形成した。
【００４２】
色変換蛍光体層の形成
次に、青色変換ダミー層用塗布液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）製カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法により障壁を覆うように着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、青色着色層上で、かつ、障壁の開口部に帯状（幅８５μｍ）の青色変換ダミー層（厚み１０μｍ）を形成した。
次いで、緑色変換蛍光体（アルドリッチ（株）製クマリン６）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型レジストを緑色変換蛍光体層用塗布液とし、これをスピンコート法により障壁を覆うように着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、緑色着色層上で、かつ、障壁の開口部に帯状（幅８５μｍ）の緑色変換蛍光体層（厚み１０μｍ）を形成した。
【００４３】
更に、赤色変換蛍光体（アルドリッチ（株）製ローダミン６Ｇ）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型レジストを赤色変換蛍光体層用塗布液とし、これをスピンコート法により障壁を覆うように着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、赤色着色層上で、かつ、障壁の開口部に帯状（幅８５μｍ）の赤色変換蛍光体層（厚み１０μｍ）を形成した。
【００４４】
透明保護層の形成
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明基材上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、上記の障壁および色変換蛍光体層を覆うように透明保護層（厚み５μｍ）を形成した。形成した透明保護層は、透明かつ均一な膜であった。
【００４５】
補助電極の形成
次に、上記の透明保護層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基材上から色変換蛍光体層上に乗り上げるように透明保護層上に形成されたストライプ状のパターンであり、色変換蛍光体層上では幅１５μｍでブラックマトリックスの遮光部上に位置し、透明基材周縁部の端子部では幅が６０μｍのものとした。
【００４６】
透明電極層の形成
次いで、上記の補助電極を覆うように透明保護層上にイオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。この透明電極層は、透明基材上から色変換蛍光体層上に乗り上げるように形成された幅８０μｍの帯状パターンであり、色変換蛍光体層上ではカラーフィルタ層の各着色層上に位置するとともに、上記の補助電極に重なるものであった。
【００４７】
絶縁層と隔壁部の形成
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うように透明バリアー層上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分間）を行って絶縁膜（厚み１μｍ）を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、ブラックマトリックスの開口部に、絶縁層の開口部が位置するように配置され、絶縁層の開口部は、ブラックマトリックス開口部よりも大きい９０μｍ×２９０μｍの長方形状とした。
【００４８】
次に、隔壁部用塗料（日本ゼオン（株）製フォトレジスト ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン（株）製ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁部を形成した。この隔壁部は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
【００４９】
青色有機ＥＬ素子層の形成
次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機ＥＬ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁部がマスクパターンとなり、各隔壁部間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。同様にして、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層とした。その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。このようにして形成された青色有機ＥＬ素子層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様の層構成でダミーの青色有機ＥＬ素子層が形成された。
【００５０】
背面電極層の形成
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して上記の隔壁部が形成されている領域に真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。
これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム／銀混合物からなる背面電極層（厚み２００ｎｍ）が青色有機ＥＬ素子層上に形成された。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして青色有機ＥＬ素子層上に存在するものであり、隔壁部の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。
【００５１】
以上により、有機ＥＬ画像表示装置を得た。この有機ＥＬ画像表示装置の透明電極層と背面電極層に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ２の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機ＥＬ素子層を発光させた。そして、色変換蛍光体層で色変換、あるいは、そのまま透過し、カラーフィルタ層で色補正された後、透明基材の反対面側で観測される各色の発光について、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）を測定した。その結果、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．６４、ｙ＝０．３５の赤色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．２５、ｙ＝０．６５の緑色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．１２、ｙ＝０．１６の青色発光が確認され、高輝度（８２ｃｄ／ｍ２）で色純度の高い三原色画像表示が可能であった。
【００５２】
［比較例］
障壁を形成しない他は、実施例と同様にして、有機ＥＬ画像表示装置を得た。この有機ＥＬ画像表示装置に実施例と同様に電圧を印加して画像表示品質を観察し、各色の発光について、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）を測定した。その結果、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．６２、ｙ＝０．３７の赤色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．２７、ｙ＝０．６３の緑色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．１４、ｙ＝０．１８の青色発光が確認され、三原色画像表示は可能であるものの、色純度がやや不十分で、輝度（８０ｃｄ／ｍ２）が低く、高輝度で色純度の高い三原色画像表示は得られなかった。
【００５３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば色変換蛍光体層間に設けられた障壁によって、色変換蛍光体層から全方位に発光された光が隣接する絵素に入射することが防止され色純度が向上するとともに、障壁によって反射されて対応する絵素部位に戻され、色変換蛍光体層から発光された光の利用効率が大幅に向上して発光輝度が高まり、これにより、混色がなく輝度の高い高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置の一実施形態を示す部分平面図である。
【図２】図１に示される有機エレクトロルミネッセント画像表示装置のＩＩ−ＩＩ線における縦断面図である。
【図３】図１に示される有機エレクトロルミネッセント画像表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ線における縦断面図である。
【図４】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置におけるカラーフィルタ層と色変換蛍光体層との位置関係を示す部分平面図である。
【図５】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置において透明保護層上に形成された補助電極と透明電極層の状態を示す部分平面図である。
【図６】透明基材上にブラックマトリックスを介してカラーフィルタ層を形成した状態を示す部分平面図である。
【符号の説明】
１…有機エレクトロルミネッセント画像表示装置
２…透明基材
３…ブラックマトリックス
４…カラーフィルタ層
４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…着色層
５…色変換蛍光体層
５Ｒ…赤色変換蛍光体層
５Ｇ…緑色変換蛍光体層
５Ｂ…青色変換ダミー層
６…透明保護層
７…補助電極
８…透明電極層
９…障壁
１０…有機エレクトロルミネッセンス素子層
１１…背面電極層
１３…絶縁層
１５…隔壁部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an organic electroluminescent image display device, and more particularly, to an organic electroluminescent image display device capable of displaying a good image with high light emission luminance without color mixture.
[0002]
[Prior art]
Organic electroluminescent (EL) elements have advantages such as high visibility due to self-coloration, being an all-solid display unlike liquid crystal displays, being less affected by temperature changes, and having a large viewing angle. In recent years, practical use as a pixel or the like of an image display device has been advanced.
An image display device using an organic EL element includes (1) an organic EL element layer of three primary colors formed in a predetermined pattern for each emission color, and (2) an organic EL element layer of white light emission. (3) Using a blue light-emitting organic EL element layer, installing a color conversion phosphor layer using a fluorescent dye, and converting blue light into green fluorescence or red fluorescence. And the like that display three primary colors are proposed.
[0003]
However, in the organic EL image display device of the above (1), although the extraction efficiency of each colored light is high, it is difficult to make the characteristics of the organic EL elements of each color uniform, and further, the organic EL devices of the three primary colors are formed in a fine pattern. The process of forming the element layer is complicated, which makes mass production difficult.
In the organic EL image display device of the above (2), when white light is decomposed by three primary color filters, the luminous efficiency of one of the three primary colors is reduced to one third of that of white light, and the extraction efficiency is poor. Therefore, a high-efficiency white organic EL element is required, but a white organic EL element capable of stably obtaining sufficient luminance has not yet been obtained.
On the other hand, in the organic EL image display device of the above (3), since the conversion efficiency of the color conversion phosphor layer is determined by the product of the light absorption efficiency and the fluorescence efficiency, the fluorescence having the high light absorption efficiency and the high fluorescence efficiency is obtained. By using a dye, emission of three primary colors with extremely high conversion efficiency is possible.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, since light is emitted from the color conversion phosphor layer in all directions, there is a problem that when the emitted light is incident on another adjacent picture element, color mixing occurs and the image display quality is degraded.
In general, luminance is an important factor in an image display device, and the same applies to an organic EL image display device using a color conversion phosphor layer as described above. However, since light is emitted in all directions from the color conversion phosphor layer as described above, there is a problem that the efficiency of use of the emitted light is low, high luminance cannot be obtained, and the image display quality is hindered.
[0005]
Further, even in manufacturing, the color conversion phosphor layer is as thick as about 10 μm, and when forming the three primary colors, it is necessary to provide a gap between the color conversion phosphor layers of each color in consideration of alignment accuracy. There is. If no gap is provided between the color conversion phosphor layers of the respective colors, the color conversion phosphor layers of the respective colors overlap, and the overlapping portion becomes a convex state, which hinders the formation of the respective layers in the subsequent process.
The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide an organic electroluminescent image display device capable of displaying a high-quality image with no color mixture and high luminance.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve such an object, an organic electroluminescent image display device according to the present invention includes a transparent substrate, a color filter layer, a color conversion phosphor layer, and a transparent protective layer sequentially provided on the transparent substrate. A layer, a transparent electrode layer, an organic electroluminescent element layer, and at least a back electrode layer, and a plurality of portions where the transparent electrode layer intersects with the back electrode layer through the organic electroluminescent element layer with a pixel. None, a barrier was provided between the color conversion phosphor layers corresponding to the picture elements, and the barrier had a light reflectance of 50% or more.
As another aspect of the present invention, the barrier is provided so as to surround the color conversion phosphor layer corresponding to each picture element.
As another aspect of the present invention, a configuration is provided in which a black matrix having a predetermined opening pattern is provided between the transparent substrate and the color filter.
As another aspect of the present invention, the organic electroluminescent element layer emits blue light, the color conversion phosphor layer converts a blue light into a green fluorescence, emits a green light, and converts the blue light into a red fluorescence. And a red conversion layer that emits light.
[0007]
In the present invention as described above, the barrier provided between the color conversion phosphor layers prevents light emitted in all directions from the color conversion phosphor layer from entering adjacent picture elements, and emits light. It functions to improve the luminance by reflecting the reflected light. Further, when there is a concave portion between the color conversion phosphor layers of the respective colors, flattening is performed by a barrier provided between the color conversion phosphor layers.
[0008]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a partial plan view showing an embodiment of the organic electroluminescent (EL) image display device of the present invention, and FIG. 2 is a vertical sectional view taken along line II-II of the organic EL image display device shown in FIG. FIG. 3 is a vertical sectional view of the organic EL image display device shown in FIG. 1 taken along the line III-III. In FIG. 1, the blue organic
[0009]
On this
[0010]
In the present invention, it is assumed that the
In the above-described embodiment, the
[0011]
A transparent
[0012]
Further, in the organic EL
In the illustrated example, the insulating
[0013]
In the organic EL
[0014]
In the above-described example, each constituent layer such as the
The color conversion phosphor layer 5 includes a red
[0015]
Next, each component of the organic EL
As the
The
[0016]
The
[0017]
The
[0018]
Of the color conversion phosphor layers 5 constituting the organic EL
The blue
[0019]
When the red
[0020]
When the red
The thickness of the color conversion phosphor layer 5 has such a function that the red
[0021]
When there is a step (surface unevenness) due to the structure of the color conversion phosphor layer 5 or less, the transparent
Such a transparent
When the above-mentioned resin material is a liquid, the above-mentioned transparent
[0022]
In the present invention, it is preferable to provide an inorganic oxide film on the transparent
The
[0023]
Further, as a material of the
The
[0024]
The blue organic
The light-emitting layer constituting the blue organic
-Injection function: A function that can inject holes from the anode or the hole injection layer and apply electrons from the cathode or the electron injection layer when an electric field is applied.
・ Transport function: Function to move injected charges (electrons and holes) by electric field force
・ Light-emitting function: Provides a field for recombination of electrons and holes, and connects it to light emission
[0025]
Examples of the material of the light emitting layer having such a function include fluorescent brighteners such as benzothiazole, benzimidazole and benzoxazole disclosed in JP-A-8-279394, metal chelated oxinoid compounds. , Styrylbenzene compounds, distyrylpyrazine derivatives, aromatic dimethylidin compounds, and the like.
Specifically, benzothiazoles such as 2-2 '-(p-phenylenedivinylene) -bishenzothiazole; {2- [2- [4- (2-benzimidazolyl) phenyl] vinyl] benzimidazole; Benzimidazoles such as 2- (4-carboxyphenyl) vinyl] benzimidazole; {2,5-bis (5,7-di-t-pentyl-2-benzoxazolyl) -1,3,4-thiadiazole; Benzoxazoles such as 4,4'-bis (5,7-t-pentyl-2-benzooxazolyl) stilbene and 2- [2- (4-chlorophenyl) vinyl] naphtho [1,2-d] oxazole And the like.
[0026]
Examples of the metal chelated oxinoid compounds include 8-hydroxyquinoline-based metal complexes such as tris (8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) magnesium, and bis (benzo [f] -8-quinolinol) zinc. Dilithium eptridione and the like can be mentioned.
Examples of the styrylbenzene compound include 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene, 1,4-bis (3-methylstyryl) benzene, 1,4-bis (4-methylstyryl) benzene, Distyrylbenzene, 1,4-bis (2-ethylstyryl) benzene, 1,4-bis (3-ethylstyryl) benzene, 1,4-bis (2-methylstyryl) -2-methylbenzene, 1,4 -Bis (2-methylstyryl) -2-ethylbenzene and the like.
[0027]
Examples of the distyrylpyrazine derivatives include 2,5-bis (4-methylstyryl) pyrazine, 2,5-bis (4-ethylstyryl) pyrazine, and 2,5-bis [2- (1-naphthyl) pyrazine. Vinyl] pyrazine, 2,5-bis (4-methoxystyryl) pyrazine, 2,5-bis [2- (4-biphenyl) vinyl] pyrazine, 2,5-bis [2- (1-pyrenyl) vinyl] pyrazine And the like.
Examples of the aromatic dimethylidin-based compounds include 1,4-phenylenedimethylidin, 4,4-phenylenedimethylidin, 2,5-xylylenedimethylidin, 2,6-naphthylenedimethylidin, , 4-Biphenylenedimethylidin, 1,4-p-terephenylenedimethylidin, 9,10-anthracenediyldylmethylidin, 4,4'-bis (2,2-di-t-butylphenylvinyl) Biphenyl, 4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl, and the like, and derivatives thereof can be given.
[0028]
Further, as a material of the light emitting layer, a compound represented by the general formula (Rs-Q) 2-AL-OL described in JP-A-5-258860 can also be mentioned. Is a hydrocarbon having 6 to 24 carbon atoms including a benzene ring, OL is a phenylate ligand, Q is a substituted 8-quinolinolate ligand, and Rs is a substituted 8-quinolinolate ligand on an aluminum atom. Represents an 8-quinolinolate substituent selected to sterically hinder the binding of two or more ligands). Specifically, bis (2-methyl-8-quinolinolate) (para-phenylphenolate) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolate) (1-naphtholate) aluminum (III) and the like can be mentioned.
The thickness of the light emitting layer is not particularly limited, and may be, for example, about 5 nm to 5 μm.
[0029]
As the material for the hole injection layer, any material can be selected from those conventionally used as a hole injection material for a photoconductive material and those known for the hole injection layer of an organic EL device. Can be used. The material of the hole injection layer has any one of a hole injection property and an electron barrier property, and may be an organic substance or an inorganic substance. Specifically, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styryl anthracene derivatives, fluorenone derivatives, Examples thereof include hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, and dielectric polymer oligomers such as thiophene oligomers.
[0030]
Further, examples of the material for the hole injection layer include a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, and a styrylamine compound. Examples of the porphyrin compound include polyfin, 1,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-polyfin copper (II), aluminum phthalocyanine chloride, and copper octamethylphthalocyanine. Examples of the aromatic tertiary amine compound and styrylamine compound include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl and N, N'-diphenyl-N, N'-bis. (3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine, 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4 (di-p-tolylamino) styryl] stilbene, 3 -Methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, 4,4 ', 4 "-tris [N- ( 3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine, etc. The thickness of the hole injection layer is not particularly limited, and may be, for example, about 5 nm to 5 μm.
[0031]
The material of the electron injection layer may be any material having a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer, and any material may be selected from conventionally known compounds. can do. Specifically, nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthalene perylene, carbodiimide, fluorenylidene methane derivatives, anthraquinodimethane And an anthrone derivative, an oxadiazole derivative, a thiazole derivative in which an oxygen atom of the oxadiazole ring is replaced with a sulfur atom, a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group, and tris (8-quinolinol) aluminum And the like, metal complexes of 8-quinolinol derivatives, phthalocyanines, metal phthalocyanines, distyrylpyrazine derivatives and the like. The thickness of the electron injection layer is not particularly limited, and may be, for example, about 5 nm to 5 μm.
[0032]
The blue organic
[0033]
Further, the blue organic
[0034]
The material of the
[0035]
The
The insulating
[0036]
As described above, the
[0037]
【Example】
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[Example]
Formation of black matrix
As a transparent base material, soda glass (Sn-face polished product manufactured by Central Glass Co., Ltd.) having a size of 150 mm × 150 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. After washing the transparent substrate according to a standard method, a thin film (0.2 μm thick) of chromium oxynitride composite is formed on the entire surface of one side of the transparent substrate by a sputtering method, and a photosensitive resist is applied on the composite chromium thin film. By performing mask exposure, development, and etching of the composite chrome thin film, black having a rectangular opening of 80 μm × 280 μm in a matrix at a pitch of 100 μm in the direction of the opening of 80 μm and a pitch of 300 μm in the direction of the opening of 280 μm. A matrix was formed.
[0038]
Formation of color filter layer
Three kinds of photosensitive coatings for colored layers of red, green and blue were prepared. That is, the photosensitive coating material for the red coloring layer is a single material such as perylene pigment, lake pigment, azo pigment, quinacridone pigment, anthraquinone pigment, anthracene pigment, isoindoline pigment, or a mixture of two or more kinds. Was dispersed in a binder resin. As the binder resin, a transparent (visible light transmittance of 50% or more) resin is preferable, and examples thereof include transparent resins such as polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, and carboxymethyl cellulose. The content of the coloring material was set so as to be contained in the formed colored layer in an amount of 5 to 50% by weight.
[0039]
The photosensitive paint for the green colored layer may be a single product of a halogen-substituted phthalocyanine pigment, a halogen-substituted copper phthalocyanine pigment, a triphenylmethane-based basic dye, an isoindoline-based pigment, an isoindolinone-based pigment, or two types. The colorant composed of the above mixture was dispersed in a binder resin. Examples of the binder resin include the above-mentioned transparent resins, and the content of the coloring material is set so as to be 5 to 50% by weight in the formed colored layer.
The photosensitive coating for the blue colored layer is a single material such as a copper phthalocyanine pigment, an indanthrene pigment, an indophenol pigment, a cyanine pigment, a dioxazine pigment, or a coloring material composed of a mixture of two or more binder resins. Was dispersed. Examples of the binder resin include the above-mentioned transparent resins, and the content of the coloring material is set so as to be 5 to 50% by weight in the formed colored layer.
[0040]
Next, colored layers of each color were formed using the above three types of photosensitive paints for colored layers. That is, a photosensitive coating material for a green coloring layer was applied by spin coating on the entire surface of the transparent substrate on which the black matrix was formed, and prebaked (80 ° C., 30 minutes). Thereafter, exposure was performed using a predetermined colored layer photomask. Next, development is performed with a developing solution (a 0.05% KOH aqueous solution), and then, post-baking (100 ° C., 30 minutes) is performed. A colored layer (1.5 μm thickness) was formed.
Similarly, a band-shaped (width 85 μm) red coloring layer (thickness 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern using the red coloring layer photosensitive paint. Further, a band-like (width 85 μm) blue coloring layer (thickness 1.5 μm) was formed at a predetermined position with respect to the black matrix pattern using the blue coloring layer photosensitive paint.
[0041]
Barrier formation
Titanium oxide having a particle size of 1 μm or less was prepared as a white pigment, and this was dispersed in a binder resin to obtain a photosensitive coating for barrier. As the binder resin, the transparent resin described in the color filter layer formation can be used, and the content of the white pigment is set so as to be 50 to 90% by weight in the formed barrier.
Next, the above-mentioned photosensitive coating material for a barrier was applied to the entire surface of the above-mentioned transparent substrate on which a black matrix and a color filter layer were formed by a spin coating method, and prebaked (80 ° C., 30 minutes). Thereafter, exposure was performed using a predetermined barrier photomask. Next, development is performed with a developer (aqueous 0.05% KOH solution), and then post-baking (100 ° C., 30 minutes) is performed. (Thickness: 12 μm).
[0042]
Formation of color conversion phosphor layer
Next, a coating solution for a blue conversion dummy layer (Color Mosaic CB-7001 manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) is applied on the colored layer by spin coating so as to cover the barrier, and prebaked (80 ° C., 30 minutes). Was done. Next, patterning was performed by a photolithography method, and post baking (100 ° C., 30 minutes) was performed. As a result, a band-like (width 85 μm) blue conversion dummy layer (
Next, an alkali-soluble negative resist in which a green conversion phosphor (
[0043]
Further, an alkali-soluble negative resist in which a red conversion phosphor (Rhodamine 6G manufactured by Aldrich Co., Ltd.) is dispersed is used as a coating liquid for a red conversion phosphor layer. It was applied and pre-baked (80 ° C., 30 minutes). Next, patterning was performed by a photolithography method, and post baking (100 ° C., 30 minutes) was performed. As a result, a band-like (width 85 μm) red conversion phosphor layer (
[0044]
Formation of transparent protective layer
A norbornene-based resin (ARTON manufactured by JSR Corporation) having an average molecular weight of about 100,000 was applied to a transparent substrate by spin coating using a coating solution for a transparent protective layer diluted with toluene, and then baked (100 ° C.). , 30 minutes). As a result, a transparent protective layer (thickness: 5 μm) was formed so as to cover the barrier and the color conversion phosphor layer. The formed transparent protective layer was a transparent and uniform film.
[0045]
Formation of auxiliary electrode
Next, a chromium thin film (thickness: 0.2 μm) is formed on the entire surface of the transparent protective layer by a sputtering method, a photosensitive resist is applied on the chromium thin film, mask exposure, development, and etching of the chromium thin film are performed. Thus, an auxiliary electrode was formed. The auxiliary electrode is a stripe-shaped pattern formed on the transparent protective layer so as to ride on the color conversion phosphor layer from the transparent substrate, and has a width of 15 μm and a black matrix light-shielding portion on the color conversion phosphor layer. The terminal located on the upper side and having a width of 60 μm at the terminal portion at the periphery of the transparent base material was used.
[0046]
Formation of transparent electrode layer
Next, an indium tin oxide (ITO) electrode film having a thickness of 150 nm is formed on the transparent protective layer by an ion plating method so as to cover the auxiliary electrode, and a photosensitive resist is applied on the ITO electrode film and a mask is formed. Exposure, development, and etching of the ITO electrode film were performed to form a transparent electrode layer. This transparent electrode layer is a band-shaped pattern having a width of 80 μm formed so as to ride on the color conversion phosphor layer from the transparent substrate, and is located on each color layer of the color filter layer on the color conversion phosphor layer. At the same time, it overlapped the above-mentioned auxiliary electrode.
[0047]
Formation of insulating layer and partition
Using a coating liquid for a transparent protective layer obtained by diluting a norbornene-based resin (ARTON manufactured by JSR Corporation) having an average molecular weight of about 100,000 with toluene, coating the transparent barrier layer by spin coating so as to cover the transparent electrode layer. After that, baking (100 ° C., 30 minutes) was performed to form an insulating film (thickness: 1 μm). Next, a photosensitive resist was applied on the insulating film, and mask exposure, development, and etching of the insulating film were performed to form an insulating layer. This insulating layer was arranged so that the opening of the insulating layer was located at the opening of the black matrix, and the opening of the insulating layer had a rectangular shape of 90 μm × 290 μm larger than the opening of the black matrix.
[0048]
Next, a coating material for a partition portion (photoresist @ ZPN1100 manufactured by Zeon Corporation) was applied to the entire surface by spin coating so as to cover the insulating layer, and prebaked (70 ° C., 30 minutes). Thereafter, exposure was performed using a predetermined photomask for the partition, development was performed with a developer (ZTMA-100, manufactured by Zeon Corporation), and post-baking (100 ° C., 30 minutes) was performed. Thus, a partition portion was formed on the insulating layer. The partition had a height of 10 μm, a lower (insulating layer side) width of 15 μm, and an upper width of 26 μm.
[0049]
Formation of blue organic EL element layer
Next, a blue organic EL element layer including a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer was formed by a vacuum deposition method using the above-described partition wall as a mask. That is, first, 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine was placed at 200 nm through a photomask having an opening corresponding to an image display area. By depositing the film to a thickness of 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl to a thickness of 20 nm, the partition wall portion is masked. The hole injecting layer material was passed only between the partition portions to form a hole injecting layer on the transparent electrode layer in the same manner as in 4,4'-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl. Was deposited to a thickness of 50 nm to form a light emitting layer, and then tris (8-quinolinol) aluminum was deposited to a thickness of 20 nm to form an electron injection layer. The formed blue organic EL element layer was present between each partition as a band-like pattern having a width of 280 μm, and a dummy blue organic EL element layer was formed on the upper surface of the partition with the same layer configuration. .
[0050]
Formation of back electrode layer
Next, magnesium and silver are simultaneously vapor-deposited through a photomask having a predetermined opening wider than the image display region in a region where the above-mentioned partition wall portion is formed by a vacuum vapor deposition method (magnesium vapor deposition rate = 1. (3-1.4 nm / sec, silver deposition rate = 0.1 nm / sec) to form a film.
As a result, a back electrode layer (thickness: 200 nm) made of a magnesium / silver mixture was formed on the blue organic EL element layer using the partition wall as a mask. This back electrode layer was present on the blue organic EL element layer as a band-like pattern having a width of 280 μm, and a dummy back electrode layer was also formed on the upper surface of the partition wall.
[0051]
Thus, an organic EL image display device was obtained. A voltage of DC 8.5 V was applied to the transparent electrode layer and the back electrode layer of this organic EL image display device at 10 mA / cm.2By applying the same at a constant current density and continuously driving, the blue organic EL element layer at a desired portion where the transparent electrode layer and the back electrode layer intersect emitted light. Then, the CIE chromaticity coordinates (JIS @ Z) of the emission of each color observed on the opposite surface side of the transparent substrate after being color-converted by the color-converting phosphor layer or transmitted as it is and color-corrected by the color filter layer. 8701) was measured. As a result, red light emission with x = 0.64 and y = 0.35 in CIE chromaticity coordinates, green light emission with x = 0.25 and y = 0.65 in CIE chromaticity coordinates, and x = 2 in CIE chromaticity coordinates Blue light emission of 0.12 and y = 0.16 was confirmed, and high luminance (82 cd / m23), three-primary-color image display with high color purity was possible.
[0052]
[Comparative example]
An organic EL image display device was obtained in the same manner as in Example except that no barrier was formed. A voltage was applied to the organic EL image display device in the same manner as in the example to observe the image display quality, and the CIE chromaticity coordinates (JIS Z 8701) were measured for the emission of each color. As a result, red light emission of x = 0.62 and y = 0.37 in CIE chromaticity coordinates, x = 0.27 in CIE chromaticity coordinates, green light emission of y = 0.63, and x = 6 in CIE chromaticity coordinates Blue light emission of 0.14 and y = 0.18 was confirmed, and although three-primary-color image display was possible, the color purity was somewhat insufficient and the luminance (80 cd / m2), And a three-primary-color image display with high luminance and high color purity could not be obtained.
[0053]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, the barrier provided between the color conversion phosphor layers prevents light emitted in all directions from the color conversion phosphor layer from being incident on adjacent picture elements, and As the purity is improved, the light is reflected by the barrier and returned to the corresponding picture element site, and the efficiency of use of light emitted from the color conversion phosphor layer is greatly improved, thereby increasing the luminous brightness. An organic electroluminescent image display device capable of displaying high-quality images with high luminance is obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partial plan view showing one embodiment of an organic electroluminescent image display device of the present invention.
FIG. 2 is a vertical sectional view of the organic electroluminescent image display device shown in FIG. 1, taken along line II-II.
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the organic electroluminescent image display device shown in FIG. 1, taken along line III-III.
FIG. 4 is a partial plan view showing a positional relationship between a color filter layer and a color conversion phosphor layer in the organic electroluminescent image display device of the present invention.
FIG. 5 is a partial plan view showing a state of an auxiliary electrode and a transparent electrode layer formed on a transparent protective layer in the organic electroluminescent image display device of the present invention.
FIG. 6 is a partial plan view showing a state where a color filter layer is formed on a transparent substrate via a black matrix.
[Explanation of symbols]
1. Organic electroluminescent image display device
2. Transparent substrate
3. Black matrix
4 ... Color filter layer
4R, 4G, 4B: colored layer
5. Color conversion phosphor layer
5R: red conversion phosphor layer
5G: green conversion phosphor layer
5B: Blue conversion dummy layer
6 ... Transparent protective layer
7 ... Auxiliary electrode
8 ... Transparent electrode layer
9 ... Barrier
10 ... Organic electroluminescence element layer
11 ... back electrode layer
13 ... insulating layer
15 ... partition
Claims (4)
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