JP2004035560A

JP2004035560A - ネイルエナメル

Info

Publication number: JP2004035560A
Application number: JP2003271608A
Authority: JP
Inventors: Marco Vicic; マルコ・ヴィシッチ; Colette Cazeneuve; コレット・カズヌーヴ; Nathalie Mougin; ナタリー・ムジャン
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 2002-07-08
Filing date: 2003-07-07
Publication date: 2004-02-05
Also published as: FR2841775A1; FR2841775B1; EP1380281A1

Abstract

【課題】　良好な耐久性を有する被膜形成ポリマーを含むネイルエナメル、および当該ネイルエナメルを用いた爪のメイクアップまたはケア方法を提供する。
【解決手段】　化粧品に許容できる媒体中に、被膜形成ポリマーを含むネイルエナメルであって、２３℃でテーバ式摩耗メータにより生成される摩耗を被膜に与えた場合に、０．５ｍｇ／分未満の質量損失速度を有する被膜を形成することが可能であることを特徴とする。
【選択図】　なし

Description

　本発明の主題は、良好な耐久力特性を有する被膜形成ポリマーを含むネイルエナメルである。また、本発明の主題は、爪のメイクアップまたはケア方法でもある。

　ネイルエナメル組成物は、エナメルベース(varnish base)として、爪のメイクアップ製品として、爪のメイクアップ製品の上に適用されるトップコートとも呼ばれる仕上げ組成物として、または爪の美容ケア製品として用いることができる。これらの組成物は、ヒトの爪または付け爪に適用することができる。

　ネイルエナメル組成物は、周知のように、有機溶媒または水性媒体中に被膜形成ポリマーを含む。このエナメルは、乾燥後に、爪の上に着色または無色の被膜を形成し、かくして、摩擦やかき傷などの外的な攻撃から爪を保護し美化することを可能にする。現在のところ、ネイルエナメルは、しばしば経時的に乏しい耐久性を示す：すなわち、被膜が、特にフレーキングまたは解離によって、１または２日後には劣化してしまう。かかる劣化は、しばしば爪の先端で起こる。エナメルが損傷を受けると、ユーザーはその損傷を受けたエナメルを取り除き、エナメルを適用し直す必要がある。ユーザーは、エナメルを部分的に適用することによって損傷を受けたエナメルを修正することもできるが、この種の修正は完全に美的なメイクアップをもたらすものではない。ユーザーが何もしなければ、損傷を受けたエナメルがメイクアップの美的外観を損ない、爪に対して良好な保護を与えない。

　他のネイルエナメル、例えば容易に剥がすことのできるエナメルまたは水で除去可能なエナメルは、いずれも経時的に良好な耐久力を与えない。

　それゆえ、美的でない欠点をを示すことなく、経時的に満足できる耐久力を有する、爪に堆積した被膜を得ることを可能にするネイルエナメルを利用可能とする必要がある。

　それゆえ、本発明の目的は、経時的に良好な耐久特性、特に摩擦、水およびフレーキングに対して良好な耐性を有するネイルエナメル組成物を提供することである。

　本発明者らは、摩耗の際に低い質量損失速度(rate of mass loss)を示すネイルエナメルが、経時的に良好な耐久性を有するエナメルを得ることを可能にすることを見出した。

　より正確には、本発明の主題は、化粧品に許容できる媒体中に、被膜形成ポリマーと有機溶媒とを含むネイルエナメル組成物であって、２３℃でテーバ式摩耗メータ(Taber abrasimeter)により生成される摩耗を被膜に加えた場合に、０．５ｍｇ／分未満の質量損失速度を有する被膜を形成することが可能なネイルエナメル組成物である。

　また、本発明の主題は、上記ネイルエナメル組成物の少なくとも一つの層を爪に適用することを含む、爪のメイクアップまたは非治療的ケアのための美容処理方法である。

　本願では、表現“被膜形成ポリマー”は、２０℃から３０℃の範囲の温度で、それ自体で、もしくは被膜形成助剤の存在下で、爪に連続的かつ付着性の被膜を形成することが可能なポリマーを意味すると解される。

　このネイルエナメル被膜からの質量損失速度は、以下に記載するプロトコールに従って測定される。

　２３±２℃および５５±５％の相対湿度において２４時間乾燥させて、約１００μｍの厚み（乾燥後）を有する被膜を得るように、金属（スチール）支持体上に組成物の層を堆積させる。この被膜を、Taber Industries社からCS10Fの商品名で市販されている二つの摩耗輪を備えたテーバ式摩耗メータ（リファレンス番号 5130 Abraser）を用いて、各摩耗輪に２．５Ｎの力をかけて、６０分間摩耗する。摩耗操作の際に、被膜からの質量損失速度を６０分間にわたって測定する。

　本発明に係るネイルエナメル被膜は、０．５ｍｇ／分未満、好ましくは０．２ｍｇ／分未満、さらに好ましくは０．１ｍｇ／分未満の質量損失速度を有する。

　有利に、ネイルエナメル被膜は、上記テーバ式摩耗メータで１０秒間摩耗した後に、１４％以下、好ましくは１２％以下の光沢損失を有する。光沢損失は、（Ｂｏ−Ｂ）／Ｂｏ比（％）に相当し、ここでＢは摩耗後の被膜の光沢を示し、Ｂｏは摩耗前の被膜の光沢を示す。被膜の光沢は、Byk-Gardner光沢計を用いて、６０゜の光線角度で測定する。

　本発明のある実施態様によれば、被膜形成ポリマーは、特に、−１５０℃から０℃の範囲、好ましくは−８０℃から０℃の範囲の、少なくとも一つのガラス転移温度（Ｔｇ）を有する。

　被膜形成ポリマーは、０℃より高くかつ１５０℃以下、好ましくは１０℃から１００℃の範囲のさらなるガラス転移温度を有することもできる。

　ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）の測定は、DMTA（Dynamical and Mechanical Temperature Analysis）によって行われる。

　ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）を測定するために、粘弾性テスト(viscoelasticimetry test)を、２３℃および５０−５５％の相対湿度において２４時間乾燥させた後の約１５０±５０μｍの厚み、５ｍｍの幅、および１０ｍｍの長さのポリマー被膜のサンプルに対して、Polymer TA Instruments社のDMTA装置(モデル DMA2980)を用いて行う。このサンプルに引っ張り応力をかける。このサンプルに０．０１Ｎの静的な力をかけ、それに１Ｈｚの周波数で±８μｍのシヌソイド変位(sinusoidal displacement)が重ねられる。かくして、この作業は、低い変形レベルで、線形領域において行われる。この引っ張り応力を、−１５０℃から＋２２０℃までの温度で、１分当たり３℃の温度変化でサンプルに適用する。

　テストポリマーの複素弾性率Ｅ^★＝Ｅ’＋ｉＥ”を、温度の関数として測定する。

　動的貯蔵弾性率Ｅ’および動的損失弾性率Ｅ”、および減衰力(damping power)：ｔｇδ＝Ｅ”／Ｅ’を、これらの測定から導く。

　温度の関数としてのｔｇδ値の曲線を照合する；この曲線は少なくとも一つのピークを有する。ポリマーのガラス転移温度Ｔｇは、このピークの頂上が位置する温度に相当する。

　曲線が少なくとも二つのピークを有する場合（この場合には、ポリマーは少なくとも２つのＴｇを有する）、曲線が最も高い振幅のピークを有する温度（すなわち最も高いｔｇδ値に相当する；この場合“優性”ＴｇのみがテストポリマーのＴｇ値と考えられる）が、テストポリマーのＴｇ値とされる。

　本発明のある実施態様によれば、本発明に係るネイルエナメルは、１０から２００ＭＰａの範囲、好ましくは１０から１００ＭＰａの範囲、さらに好ましくは１０から５０ＭＰａの範囲のヤング率を有する被膜を形成することが可能である。

　ネイルエナメル被膜の機械特性は、単調な引っ張り応力(monotonic tensile stress)の負荷の下に、ＳＴＭ規格、ボリューム06.01 D 2370-92“Standard Test Method for Tensile Properties of Organic Coatings（有機コーティングの引っ張り特性の標準試験法）”に従って測定される。テフロン（登録商標）鋳型の上に堆積させたネイルエナメル層を、２３±２℃および５５±５％の相対湿度において４８時間乾燥させて得られた１５０±５０μｍの厚みを有するフリーの被膜から、試験片を切断する。この試験片はダンベル状であり、有効長が３３ｍｍで、有効幅が６ｍｍである。この試験片の断面積（ｓ）を以下のように定義する：ｓ＝幅ｘ厚さ（ｍｍ^２）。この断面積（ｓ）は応力を計算するために使用する。

　この試験は、変位の測定のための光学伸び計を備えた引っ張り強度試験機であって、Zwick Z010の商品名で市販されている装置で行う。この測定を、乾燥と同じ温度および湿度条件下、すなわち２３±２℃の温度および５５±５％の相対湿度で行う。この試験片を、５０ｍｍ／分の変位速度で引っ張る。

　それゆえ変位速度が負荷され、試験片の長さ（Ｌ）と、その長さにするために必要な力（ｆ）とを同時に測定する。長さ（Ｌ）は、ダンベル状の試験片に配置された付着パッドを用いて光学伸び計で測定する。これら二つのパッド間の最初の距離は、％で表されるひずみε＝（Ｌ／Ｌｏ）ｘ１００を算出するために用いられる有効長Ｌｏを定義する。

　応力曲線σ（＝ｆ／ｓ）は、かくして、ひずみεの関数として得られる。この試験は、試験片が破断するまで行われる。

　ＭＰａで表されるヤング率（弾性の係数）は、曲線σ＝ｆ(ε)の傾きに対応し、この曲線の最初の部分（この試験の最初）において考慮される。

　有利に、本発明に係るネイルエナメルは、２２０ｘ１０^５から１０００ｘ１０^５Ｊ／ｍ^３の範囲、好ましくは２４０ｘ１０^５から１０００ｘ１０^５Ｊ／ｍ^３の範囲の破断エネルギーＷｒを有する被膜を形成することが可能である。

　Ｊ／ｍ^３で表される破断エネルギーＷｒは、応力の関数としての応力曲線の下の面積に対応し、この面積は以下の式で定義される：

　ここで、
−ｆは、被膜試験片に適用される力を示す；
−ｓは、被膜試験片の断面積を示す；
−Ｌｏは、ひずみを加える前の被膜試験片の最初の長さを示す；
−ｌmaxは、引っ張り段階の最後の試験片の最大長さである。

　本発明の特定の実施態様によれば、本発明に係るネイルエナメルは、３００から２０００％、好ましくは５００から２０００％の範囲の破断ひずみε_ｒを有する被膜を形成することができる。この破断ひずみε_ｒは、ブレークポイント前のサンプルの最大ひずみ（％）である。

　有利に、被膜形成ポリマーは２５℃で水に不溶性であり、すなわち２５℃では水に１重量％未満しか溶けない（１重量％未満の可溶性）。ポリマーは、好ましくは有機溶媒、例えばエチルアセタートまたはブチルアセタートに可溶性である（２５℃で９０重量％以上の可溶性）。

　被膜形成ポリマーは、特に３０００００以下、および好ましくは１００００から１５００００の範囲の数平均分子量を有する。

　摩耗耐性のエナメルを得ることを可能にする被膜形成ポリマーは、フリーラジカルポリマー、重縮合物、好ましくは重縮合物から選択することができる。特に、ポリマーは非架橋のものである。

　特に、ポリマーは重縮合物とすることができ、特にポリウレタン、ポリウレア、ポリウレア−ウレタン、およびこれらの混合物から選択することができる。

　重縮合物は、好ましくは、
　−直鎖状または分枝状Ｃ_１−Ｃ_１２、好ましくはＣ_１−Ｃ_６アルキルジイソシアナート、Ｃ_４−Ｃ_２０シクロアルキルジイソシアナート、Ｃ_６−Ｃ_２０アリールジイソシアナートから選択される少なくとも一つのジイソシアナート；
　−５００から５００００の範囲、好ましくは１０００から３０００の範囲、好ましくは５００から８０００の範囲の数平均分子量を有する、不安定な水素原子を含む少なくとも２つの官能基を含む少なくとも一つのプレポリマー、特にジオールまたは第一級または第二級ジアミン；
　−５００未満、特に５０以上かつ５００未満、好ましくは７５以上かつ５００未満の分子量を有する、不安定な水素原子を含む２つの官能基を含む少なくとも一つのカップラー、特にジオールまたは第一級または第二級ジアミンまたはアミノアルコール；
の重縮合から形成されたものから選択される。

　ジイソシアナートは、例えば、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、トルエンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、またはテトラメチルキシリレンジイソシアナートであってもよい。

　上記プレポリマーは、例えば、１０から８０のテトラメチレンオキシド単位を有する（ポリ（テトラメチレンオキシド））ジオール；（Ｃ_２−Ｃ_８）アルキレンアミノ（Ｃ_２−Ｃ_８）アルキルタイプまたはＣ_２−Ｃ_８ω-ヒドロキシアルキルタイプの末端基を含むポリジメチルシロキサン；ヒドロキシル末端基を有する水素化ポリブタジエンとすることができる。

　カップラーは、好ましくはジオールであり、特に４から１２の炭素原子、好ましくは４から８の炭素原子を有するジオールである。カップラーとしては、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、アミノエタノール、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、またはシクロヘキサンジメタノールを挙げることができる。

　プレポリマーは、好ましくは非水溶性である（プレポリマーが２５℃で１重量％未満の水溶性を有する）。

　有利には、上記プレポリマーおよびカップラーが、プレポリマー／カップラーのモル比が１から１／５の範囲であり、かつ（プレポリマー＋カップラー）／ジイソシアナートのモル比が０．９から１．１の範囲であるような量で、ポリウレタン中に存在する。

　（プレポリマー＋カップラー）／ジイソシアナートの重量比が１未満である場合には、フリーのイソシアナート基が、エタノールのような不安定な水素原子を含む化合物との反応によりブロックされている。

　好ましくはポリマーは、プレポリマー、ジイソシアナート、およびカップラーが、ポリマー中に以下のモル比：
　プレポリマー：１
　ジイソシアナート：２から６
　カップラー：１から５
で存在するものである。

　被膜形成ポリマーは、組成物の全重量に対して０．１から６０重量％、好ましくは０．１から４０重量％の範囲の量でネイルエナメル組成物中に存在することができる。

　本発明に係るネイルエナメルは、スルホンアミド樹脂、アルキド樹脂、およびセルロースエステル、例えばセルロースアセトブチラート、セルロースアセタート、セルロースアセトプロピオナートのような一般に樹脂と呼ばれる付加的な被膜形成ポリマーをさらに含むことができる。

　前記付加的な被膜形成ポリマーは、組成物の全重量に対して、０．０１から５０重量％の範囲、好ましくは１から３０重量％の範囲の量で存在することができる。

　本発明に係るネイルエナメル組成物は、エナメルの被膜形成特性を改良するための被膜形成助剤を含むことができる。

　被膜形成助剤は、所望の機能を満たすことができる、当業者に公知のあらゆる化合物、特に可塑剤から選択することができる。

　可塑剤の例としては、以下：
　シトラート、例えばトリエチルシトラート、トリブチルシトラート、トリエチルアセチルシトラート、トリブチルアセチルシトラート、２-トリエチルヘキシルアセチルシトラート、
　フタラート、例えばジエチルフタラート、ジブチルフタラート、ジオクチルフタラート、ジペンチルフタラート、ジメトキシエチルフタラート、
　トリクレシルホスファート、ベンジルベンゾアート、トリブチルホスファート、ブチルアセチルリシノレアート、グリセリルアセチルリシノレアート、ブチルグリコラート、トリブトキシエチルホスファート、トリフェニルホスファート、ジブチルタートラート、カンファー、グリセリルトリアセタート、Ｎ-エチル-o,p-トルエンスルホンアミド、およびこれらの混合物を挙げることができる。

　可塑剤は、組成物の全重量に対して、０．０１から１０重量％、好ましくは０．１から５重量％の範囲の量で組成物中に存在することができる。有利には、可塑剤は、被膜形成ポリマー／可塑剤の重量比が１．５から３の範囲となるように組成物中に存在する。

　本発明に係る組成物は、水性媒体または有機溶媒、好ましくは有機溶媒を含むことができる。特に無水とすることができる。

　組成物の水性媒体は、本質的に水からなるものとすることができる。組成物中の水分含量は、組成物の全重量に対して、１０から９５重量％、好ましくは４０から９０重量％、さらに好ましくは６０から８５重量％の範囲とすることができる。

　組成物は、特に組成物の全重量に対して０．１から１５重量％の範囲とすることができる量で、水と混和性の溶媒、例えば１から５の炭素原子を有する低級モノアルコール、２から８の炭素原子を有するグリコール、Ｃ_３−Ｃ_４ケトン、Ｃ_２−Ｃ_４アルデヒドを含むこともできる。

　組成物が水性媒体を含む場合には、被膜形成ポリマーは、水性媒体中に分散した固形粒子の形態で存在する。かかる分散物は、ラテックスまたは擬ラテックス(pseudolatex)の名称で知られており、当業者に周知の技術に従って調製することができる。

　組成物の有機溶媒は、以下：
　−室温で液状のケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、アセトン；
　−室温で液状のアルコール、例えばエタノール、イソプロパノール、ｎ-プロパノール、ｎ-ブタノール、ジアセトンアルコール、２-ブトキシエタノール、シクロヘキサノール；
　−室温で液状のグリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ペンチレングリコール、グリセロール；
　−室温で液状のプロピレングリコールエーテル、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコールモノ-ｎ-ブチルエーテル；
　−短鎖エステル（全部で３から８の炭素原子を有する）、例えばエチルアセタート、メチルアセタート、プロピルアセタート、ｎ−ブチルアセタート、イソペンチルアセタート；
　−室温で液状のエーテル、例えばジエチルエーテル、ジメチルエーテルまたはジクロロジエチルエーテル；
　−室温で液状のアルカン、例えばデカン、ヘプタン、ドデカン、イソドデカン、シクロヘキサン；
　−室温で液状の芳香族環式化合物、例えばトルエンおよびキシレン；
　−室温で液状のアルデヒド、例えばベンズアルデヒド、アセトアルデヒド；
　−これらの混合物
から選択される一以上の有機溶媒を含むことができる。

　組成物中の有機溶媒の含量は、組成物の全重量に対して、１０から９５重量％、好ましくは４０から９０重量％、さらに好ましくは６０から８５重量％の範囲とすることができる。

　組成物は、特に爪に対して組成物の良好な適用を可能にする粘稠度を組成物に付与する、増粘剤を含むことができる。増粘剤は、特に有機溶剤増粘剤であり、疎水性シリカ、例えばEP-A-898960に記載されているもの、および例えばDegussa社から“AEROSIL R812（登録商標）”、Cabot社から“CAB-O-SIL TS-530（登録商標）”、“CAB-O-SIL TS-610（登録商標）”、“CAB-O-SIL TS-720（登録商標）”、Degussa社から“AEROSIL R972（登録商標）”、“AEROSIL R974（登録商標）”の商品名で市販されているもの；モンモリロナイト、ステアラルコニウムヘクトライト、ステアラルコニウムベントナイトなどのクレー；多糖のアルキルエーテル（特に、そのアルキル基が１から２４、好ましくは１から１０、さらに好ましくは１から６、さらに好ましくは１から３の炭素原子を含むもの）、例えばEP-A-898958に記載されているもの、および例えばAqualon社から“N-HANCE-AG 200（登録商標）”および“N-HANCE AG 50（登録商標）”の名称で市販されているもの、から選択することができる。

　増粘剤は、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して０．０５から１０重量％、好ましくは０．１から３重量％の範囲の量で存在させることができる。

　また、組成物は、脂溶性着色剤、顔料、パールエッセント剤、および光沢剤から選択することができる着色物質を含むこともできる。

　脂溶性着色剤は、例えば、スーダンレッド、ＤＣレッド１７、ＤＣグリーン６、β-カロテン、ダイズ油、スーダンブラウン、ＤＣイエロー１１、ＤＣバイオレット２、ＤＣオレンジ５、およびキノリンイエローとすることができる。これらは、一般に、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して０．０１から６重量％、好ましくは０．０１から３重量％の範囲の量で存在させることができる。

　顔料、パールエッセント剤、および光沢剤は、組成物、特にベースおよび／またはトップ組成物中に、組成物の重量に対して０．０１から２５重量％、好ましくは０．０１から１５重量％の範囲の量で存在させることができる。本発明で用いることができる無機顔料としては、チタニウム、ジルコニウム、またはセリウムの酸化物、および亜鉛、鉄またはクロムの酸化物およびフェリックブルーを挙げることができる。本発明で用いることができる有機顔料の中では、カーボンブラック、バリウム、ストロンチウム、カルシウムおよびアルミニウムラッカーを挙げることができる。パールエッセント剤の中では、酸化チタン、酸化鉄、天然顔料またはオキシ塩化ビスマスで被覆されたマイカ、例えば着色マイカチタンを挙げることができる。

　本発明に係る組成物、特にベースおよび／またはトップ組成物は、かかる組成物中に取り込むことができるとして当業者に公知であるあらゆる化粧品添加剤、例えば、フィラー、展着剤、湿潤剤、分散剤、消泡剤、防腐剤、ＵＶスクリーニング剤、活性剤、界面活性剤、保湿剤、香料、中和剤、安定化剤および酸化防止剤をさらに含むことができる。もちろん、当業者であれば、本発明に係る組成物の有利な特性が企図した添加により損なわれない、または実質的に損なわれないように、これらの任意添加化合物および／またはその量を慎重に選択するであろう。

　本発明を、以下の実施例においてより詳細に例証する。

ａ）以下のポリウレタンを調製した：
　４８．７５ｇ（１ｍｏｌ）の１４００の分子量を有するポリテトラメチレンオキシド、１２．５５ｇ（４ｍｏｌ）のブタンジオール、および３３．３ｇのメチルエチルケトンを、窒素雰囲気下で、中央攪拌装置および凝縮装置を備えた５００ｍｌの反応器に導入した。

　この反応媒体を、室温で攪拌し、溶媒の還流温度で１５分間加熱した。次いで、３９．９ｇ（５．１５ｍｏｌ）のイソホロンジイソシアナートを、３０分にわたり滴下して加えた。この反応を１時間進行させ、次いで５ｍｌのメチルエチルケトンと０．１ｇのスズジブチルジラウラートの混合物を添加した。６０ｇのメチルエチルケトンを加え、反応を１時間１０分進行させ、さらに６０ｇのメチルエチルケトンを加えた。２０ｇのエタノールを加えて、残りのイソシアナート官能基を中和した。

　合成されたポリマーを石油エーテルから沈殿させ、無水リン酸の存在下で真空下で４０℃で乾燥させた。

　このポリマーは以下の特徴を有する：
数平均分子量：６２４２６ｇ／ｍｏｌ
多分散率(polydispersity index)：１．６
ガラス転移温度：−５０℃および＋６０℃

ｂ）以下の組成を有するネイルエナメルを調製した：
　得られた２５ｇのポリマーを、ブチルアセタート／エチルアセタートが７０／３０の重量比の混合物７０ｇ中に溶解させた。

　次いで、得られた溶液を爪に適用した。乾燥後に、本願明細書において上述したプロトコールに従って測定して以下の特性を有するエナメル被膜を得た。

２３℃において被膜にテーバ式摩耗メータで生成した摩耗を加えた場合の質量損失速度：＜０．１ｍｇ／分
１時間後の光沢損失：３±１％
ヤング率＝４５±５ＭＰａ
破断エネルギー＝２５０ｘ１０^５Ｊ／ｍ^３
破断ひずみ＝５００±５０％

　このエナメルは、爪に適用した後に良好な摩耗耐性を示す被膜を形成した。

Claims

　化粧品に許容できる媒体中に、被膜形成ポリマーを含むネイルエナメルであって、２３℃でテーバ式摩耗メータにより生成される摩耗を被膜に加えた場合に、０．５ｍｇ／分未満の質量損失速度を有する被膜を形成することが可能なネイルエナメル。
　ネイルエナメル被膜が、０．２ｍｇ／分未満、好ましくは０．１ｍｇ／分未満の質量損失速度を示すことを特徴とする、請求項１記載のネイルエナメル。
　ポリマーが、−１５０℃から０℃の範囲の少なくとも一つのガラス転移温度を有することを特徴とする、請求項１または２記載のネイルエナメル。
　ポリマーが、−８０℃から０℃の範囲の少なくとも一つのガラス転移温度を有することを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜形成ポリマーが、０℃より大きく１５０℃以下の、好ましくは１０℃から１００℃の範囲のさらなるガラス転移温度を有することを特徴とする、請求項１ないし４のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　１０から２００ＭＰａの範囲のヤング率を有する被膜を形成可能であることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜が１０から１００ＭＰａ、好ましくは１０から５０ＭＰａの範囲のヤング率を有することを特徴とする、請求項６記載のネイルエナメル。
　２２０ｘ１０^５から１０００ｘ１０^５Ｊ／ｍ^３の範囲の破壊エネルギーを有する被膜を形成可能であることを特徴とする、請求項１ないし７のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜が２４０ｘ１０^５から１０００ｘ１０^５Ｊ／ｍ^３の範囲の破壊エネルギーを有することを特徴とする、請求項８記載のネイルエナメル。
　３００から２０００％の範囲の破断ひずみを有する被膜を形成可能であることを特徴とする、請求項１ないし９のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜が５００から２０００％の範囲の破断ひずみを有することを特徴とする、請求項１０記載のネイルエナメル。
　テーバ式摩耗メータを用いて１０秒間摩耗した後に、１４％以下、好ましくは１０％以下、さらに好ましくは６％未満の光沢損失（光沢は摩耗付与から１時間後に測定）を有する被膜を形成可能であることを特徴とする、請求項１ないし１１のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜形成ポリマーが、ポリウレタン、ポリウレア、ポリウレア−ウレタン、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１ないし１２のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜形成ポリマーが、
　−直鎖状または分枝状Ｃ_１−Ｃ_１２アルキルジイソシアナート、Ｃ_４−Ｃ_２０シクロアルキルジイソシアナート、Ｃ_６−Ｃ_２０アリールジイソシアナートから選択される少なくとも一つのジイソシアナート；
　−５００から５００００の範囲、好ましくは１０００から３０００の範囲、好ましくは５００から８０００の範囲の数平均分子量を有する、不安定な水素原子を含む少なくとも２つの官能基を含む少なくとも一つのプレポリマー、特にジオールまたは第一級または第二級ジアミン；
　−５００未満、特に５０以上かつ５００未満、好ましくは７５以上かつ５００未満の分子量を有する、不安定な水素原子を含む２つの官能基を含む少なくとも一つのカップラー、特にジオールまたは第一級または第二級ジアミンまたはアミノアルコール；
の重縮合から形成された重縮合物であることを特徴とする、請求項１ないし１３のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　ジイソシアナートが、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、トルエンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、またはテトラメチルキシリレンジイソシアナートから選択されることを特徴とする、請求項１４記載のネイルエナメル。
　プレポリマーが、１０から８０のテトラメチレンオキシド単位を有する（ポリ（テトラメチレンオキシド））ジオール；（Ｃ_２−Ｃ_８）アルキレンアミノ（Ｃ_２−Ｃ_８）アルキルタイプまたはＣ_２−Ｃ_８ω-ヒドロキシアルキルタイプの末端基を含むポリジメチルシロキサン；ヒドロキシル末端基を有する水素化ポリブタジエンから選択されることを特徴とする、請求項１４または１５記載のネイルエナメル。
　プレポリマーが非水溶性であることを特徴とする、請求項１４ないし１６のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　カップラーが、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、アミノエタノール、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、またはシクロヘキサンジメタノールから選択されることを特徴とする、請求項１４ないし１７のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　プレポリマーおよびカップラーが、プレポリマー／カップラーのモル比が１から１／５の範囲であり、かつ（プレポリマー＋カップラー）／ジイソシアナートのモル比が０．９から１．１の範囲であるような量で、ポリウレタン中に存在することを特徴とする、請求項１４ないし１８のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　ポリマーが、プレポリマー、ジイソシアナート、およびカップラーが、ポリマー中に以下のモル比：
　プレポリマー：１
　ジイソシアナート：２から６
　カップラー：１から５
で存在するものであることを特徴とする、請求項１４ないし１８のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　（プレポリマー＋カップラー）／ジイソシアナートの重量比が１未満である場合に、フリーのイソシアナート基が、エタノールのような不安定な水素原子を含む化合物との反応によりブロックされていることを特徴とする、請求項１４ないし２０のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜形成ポリマーが、３０００００以下、好ましくは１００００から１５００００までの範囲の数平均分子量を有することを特徴とする、請求項１ないし２１のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　被膜形成ポリマーが、組成物の全重量に対して０．１から６０重量％、好ましくは０．１から４０重量％の範囲の量で存在することを特徴とする、請求項１ないし２２のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　スルホンアミド樹脂、アルキド樹脂、およびセルロースエステルから選択される付加的な被膜形成ポリマーを含むことを特徴とする、請求項１ないし２３のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　可塑剤を含むことを特徴とする、請求項１ないし２４のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　有機溶媒を含むことを特徴とする、請求項１ないし２５のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　無水であることを特徴とする、請求項２６に記載のネイルエナメル。
　水性媒体を含むことを特徴とする、請求項１ないし２６のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　増粘剤、着色物質、フィラー、展着剤、湿潤剤、分散剤、消泡剤、防腐剤、ＵＶスクリーニング剤、活性剤、界面活性剤、保湿剤、香料、中和剤、安定化剤および酸化防止剤から選択される化粧品添加剤を含むことを特徴とする、請求項１ないし２８のいずれか一項に記載のネイルエナメル。
　請求項１ないし２９のいずれか一項に記載のネイルエナメルの少なくとも一つの層を爪に適用することを含む、爪のメイクアップまたは非治療的ケアのための美容処理方法。