JP2003528333A - コリメータ及びフォーカス光学系 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 この発明は、一般的には均一強度プロファイルを生成し、リソグラフや他の応用分野に使用される高ゲインコリメータを提供する。集光光学系も提供される。コリメータは、光学系と光学系の下流側のガイドチャネルを備える。光学チャネルは、好ましくは、多毛細管チューブ及び／又はマイクロプレートを含む。多毛細管チューブは、ｘ線ビームの中心部分を、円、楕円、矩形、方形などにコリメート或いは集光する。多毛細管型コリメータと類似の形状を有する円錐形、パラボラ型共振リフレクタ又は斜入射リフレクタが使用され、集光立体角を増加させ、円、方形などの環状のｘ線ビームを生成する。ビームの内径は、多毛細管コリメータの出射径とほぼ等しい。環状ビーム形状は、強度プロファイル、コリメーション角が必要に応じて、アブソーバ又は多毛細管チューブにより調整され、ハイブリッドｘ線コリメータ光学系の出射アパチャにおいて所望の強度プロファイルを生成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

本発明は、放射光、好ましくはX線発光スペクトルの光を集光する装置と方法に
関する。特に、本発明は、短波長放射リソグラフィー及び非リソグラフィー動作
等の放射光を集光及び誘導するコリメータとフォーカス光学系を提供する。

【０００２】

【発明の背景】

X線コリメータは、一般に点状X線光源により発生される球面放射場をX線リソグ
ラフィーで用いる平面放射場に変換する近似X線リソグラフィーに使用される。
一般のX線リソグラフィー処理に於いては、基線X線光源はシンクロトロンである
。このシンクロトロンは、加速された電子ビームより生じたX線からコリメート
されたX線ビームを発生させる。マスクと、レジストとウェハを含む高等なX線ス
テッパと一体成形された場合、そのような装置は１０分の１ミクロン未満のトラ
ンジスタゲートを成形していた。このシンクロトロンは高出力を発生できるため
、高ウェハスループットが可能であった。

【０００３】 しかしながら、そのようなシンクロトロン系装置の使用に関しては不都合がいく
つかある。例えば、公知のシンクロトロンは非常に大型でかなりのスペースを取
る。更に、シンクロトロンは高額である。一般的に、シンクロトロンを費用効果
的にするには多数のステッパを使用する必要がある。現在の工場設計をシンクロ
トロンが収納できるように変更するには費用と時間が掛かるため、業界ではシン
クロトロン系X線リソグラフィー処理を適用することには少し不本意なところが
ある。

【０００４】 半導体装置を製造するX線リソグラフィーの工程の一つに、レジストに化学変化
を起こすことが可能な放射をマスクを介して照射することによりレジストに形状
パターンを形成する工程がある。装置形状寸法の小さいものが希望されるため、
より短い波長を使用することが必要である。小さい光源サイズでは球面に近い放
射パターンになるため、短波長（例えば、１０ｎｍ以下又は１ｎｍの波長）を使
用すると問題が起きる。X線は点状X線光源から放射状に発光されるが、リソグラ
フィックマスクを正確に照射するためには典型的には略平行なビームが必要であ
る。又は、レジスト層上のリソグラフィックマスクを透過する光線により発生す
る画像の歪みを補正すること、例えばその歪み補正専用のマスクを用いることが
典型的に必要となる。

【０００５】 X線トモグラフィ等の非リソグラフィーの応用に於いては、シンクロトロンはX線
放射光源として使用されている。X線リソグラフィーの場合と同様シンクロトロ
ンはコスト高と不便であるという欠点がある。点状X線光源が使用可能ではある
が、大きな集光角コリメータ／フォーカス光学系が必要となる。

【０００６】 上記及びその他の理由で、１個のステッパと共に費用効果的に使用でき、遠紫外
線エキシマレーザ等の現在の高等光学ステッパ光源と同様なサイズのX線光源が
要求されている。レーザプラズマシステム、濃密度プラズマフォーカスシステム
及び電子ビームシステムを含むそのようなX線光源を開発する試みがいくつかな
されている。著しいX線パワーはこれらのX線点光源から発生できるが、この放射
は２πから４πステラジアンの角度で放射されるという欠点がある。

【０００７】 発光されたX線を均一強度のコリメートされたビームに再誘導するX線光学系を使
って点光源放射発光場を再誘導する試みに各種装置が使用されている。一つの例
はポリキャピラリガラス管であり、もう一つの例はマイクロチャンネルプレート
である。１．１ｎｍレーザ−プラズマ放射の０．０４８ステラジアンの立体角が
ポリキャピラリ管でコリメートされ、均一強度を発生させている。しかし、これ
らの装置は発光X線場の比較的小さな立体角のみをコリメートしている。そのよ
うな点光源から発光されたX線の多くの部分を均一にコリメートでき、それによ
り利用可能な点光源放射をより効率的に集光し、コリメートする装置が要求され
ている。

【０００８】 集光及びコリメート可能な立体角は、グレージング入射X線リフレクタ又は可変
厚X線共鳴被膜リフレクタを用いて大きくできる。共鳴被膜はX線臨界反射角を大
きくするために開発され、１．１ｎｍ放射に対し、０．２１ステラジアンの立体
角がコリメート可能である。この立体角は、ポリキャピラリコリメータ単体より
も立体角が約４倍大きい。ガラス管コリメーションは、可変厚多層X線反射被膜
を有する円錐形又は放物面リフレクタにより達成される。

【０００９】 しかし、この装置はコリメータの軸領域で非常にコリメートされたX線ビームを
達成しないという欠点を有する。非常にコリメートされたX線ビームを達成する
には、コリメータの中心部分でビームブロックを使用するのが一般的であり、そ
の結果環状のX線ビームが生じる。この装置の更なる欠点は、ウェハ上にX線露光
をするためには、動作中にコリメータをウェハに沿って走査しなければならない
ことである。走査複雑さを追加し、処理効率を低くしシステムのコストを高くす
る。

【００１０】 従って、比較的大きな立体角のコリメーションを実現し全出力開口に沿って均一
強度を達成するX線コリメータが要求されている。

【００１１】

【発明の概要】

本発明は、X線スペクトルの放射や略１３ｎｍ未満の波長の光や本発明に従って
好適に反射、コリメートされるその他波長の光等の短波長光をコリメートする公
知の装置及び方法の欠点をかなり緩和する。特に、本発明は、一般的に均一強度
のプロフィールを生成する高利得X線コリメータを提供する。本発明では、ハイ
ブリッドリフレクタ（例えば、グレージング入射X線リフレクタ又は共鳴反射光
学系）とガイドチャンネル（例えば、ポリキャピラリ管又はマイクロチャンネル
プレート）が提供される。これは、X線リソグラフィーに於いて特殊な効用であ
る。また、トモグラフィー、X線光電分光、X線回折、X線顕微鏡検査、X線蛍光等
の非リソグラフィー応用に於いて使用するフォーカス光学系が提供される。一実
施例では、フォーカス光学系はコリメータの前方（すなわち、上流端）に設けら
れ、リフレクタ及び／又はガイドチャンネルの上流の入射光をフォーカスする。
そのようなフォーカス光学系は多層ポリノミアルレンズである。

【００１２】 ガイドチャンネルはポリキャピラリ管や、マイクロチャンネルプレート又はポリ
キャピラリ管や、マイクロチャンネルプレートの組み合わせで形成することがで
きる。ガイドチャンネルはX線ビームの中心部分を円形、楕円形、正方形、四角
形等の所望の形状にコリメート又はフォーカスする。リフレクタは、特定光（例
えば、X線や紫外線）を所望の状態に反射できる任意の反射光学系で構成できる
。例えば、ポリキャピラリコリメータと同様の形状を有する放物面共鳴リフレク
タは集光された立体角を増加させ、ポリキャピラリコリメータの出口サイズとほ
ぼ同じ内部サイズを有する円形、正方形、他、環状X線ビームを発生するために
使用される。環状ビーム形状、強度プロフィール及びコリメーション角は、必要
に応じて吸収材又はポリキャピラリ管で調整され、ハイブリッドX線コリメータ
光学系の出口開口部で所望の強度プロフィールを提供する。

【００１３】 リフレクタは、所望のスポットにコリメートされた光をフォーカスするためのフ
ォーカス光学系でもよい。例えば、楕円状のプロフィールがフォーカス光学系と
して使用可能である。また、フォーカス光学系は2つの一般的な放物面リフレク
タ光学系を端と端をくっつけて配置することにより得られる。このリフレクタ光
学系は同一である必要はない。

【００１４】 本発明は、集光される放射の立体角が増加されるという効果がある。本発明の別
の効果は、放射線が集光される立体角（すなわち、集光角）の増加によりコリメ
ータにより発生されたコリメートされたパワーの量が増加することである。本発
明の更なる効果は、X線リソグラフィ処理に於ける露光されたウェハのスループ
ットが高くでき、より大きなコリメートされたパワーの発生があるということと
、この大きなコリメートされたパワーの発生によりコリメータを走査する必要が
減少することである。

【００１５】 本発明の上記及びその他の特徴及び効果は、同様な参照符号は同様な部分を示す
添付図面に沿った以下の本発明の詳細な説明からよく理解されるであろう。

【００１６】

【実施の形態】

この発明に従って、光をコリメート（平行化）し、さらに、付随的にフォーカ
シング（焦点合わせ）するシステムが提供される。この光は、好ましくは、ｘ線
スペクトル又は１３ナノメータよりも波長の短い光である。光が、リフレクタ（
反射器）或いはガイドチャネルの反射或いはコリメートのレンジの範囲内である
限り、他の波長の光もコリメート或いは付随的なフォーカシングが、この発明に
従って可能である。この説明において、「光」という用語は、「放射(radiation
)」という用語とほぼ同義である。放射とは、この発明においてコリメートされ
、及び／又は、フォーカシングされた波長を表し、例えば、ｘ線スペクトル或い
は１３ナノメール以下の波長の範囲にある。

【００１７】 図１−６に示すように、ｘ線又は他の光源などのソース１０が用意される。図
はｘ線源を示す。このｘ線源は、例えば、ｘ線リゾグラフシステムで使用されう
るｘ線源を示す。このｘ線リゾグラフシステムにおいては、ソース１０によって
示された位置に近接して配置されたプラズマターゲットが、高エネルギーレーザ
、電子ビーム、陽子ビーム、光子ビームにより励起される。ソース１０は、所望
の波長の光を放出する。図においては、放射された光は、矢印２０で概略的に示
されている。

【００１８】 ソース１０からのｘ線などの光は、コリメータ３０により集められる。このコ
リメータは、光学系４０（以下、反射装置４０と呼ぶ）とガイドチャネル装置５
０とを備える。

【００１９】 反射器は、光源１０からの光２０を、任意（所望の）形態で収集し反射する。
ソース１０は、ガイドチャネル５０の外にあるが、反射器４０内にあり、例えば
、図１−３に示すように、ガイドチャネル５０と反射機４０との間の領域にある
。ソース１０からの光２０を反射することができる任意の適当な反射器を使用で
きる。好適実施例において、リフレクタ４０は、ｘ線を反射するものが採用され
る。実施例において、円錐形のパラボラ型共振リフレクタ又はグレージングイン
シデンスリフレクタ（斜入射型リフレクタ；grazing incidence reflector）で
、ガイドチャネル５０に類似の形状を有するものが、収集立体角を大きくするた
めに使用され、円形、方形などの環状のｘ線ビームを生成する。この環状ｘ線ビ
ームの内径は、多毛細管（polycapillary）コリメータの出射径にほぼ等しい。
受光されて反射される入射光の一部をコリメート及び／又はフォーカシングする
ことができる任意の形状のリフレクタ４０（例えば、パラボラ共振リフレクタ或
いはグレージングインシデンスリフレクタ）が 使用可能である。生成される出
射ビームの形状は、どのようなものでもよく、ガイドチャネル５０の形状にマッ
チする必要もない。好適実施例では、リフレクタ４０からの出射ビームは、ガイ
ドチャネル５０の形状にほぼ合致する。好適実施例においては、グレージングイ
ンシデンスリフレクタ又は共振リフレクタ光学系がリフレクタ４０として使用可
能である。リフレクタ４０は、光をコリメートするように反射する形状を有する
。動作時には、入射光２０の一部は、リフレクタ４０の反射性内面４５に衝突し
、より線形な形式、すなわち、コリメートされた形式で反射される。コリメータ
３０から出射するコリメートされた光は図１に矢印６０で表される。図示される
ように、出射光６０は、望ましくは、実質的にコリメートされ、且つ、均一の強
度プロファイルを有する。出射光は、望ましくは、任意のパターンで配置された
平行又はほぼ平行なビームを含む。このパターンは、例えば、環状、円形、方形
、リング状である。この任意のパターンは、任意の位置又はプリントフィールド
（図６，７に符号２２０で表される）をスキャンしてもよい。

【００２０】 出力ビームの形状、強度プロファイル及び／又はコリメーション角は、必要に
応じて、調整可能である。調整には、アブソーバ６５等を使用する。例えば、ア
ブソーバ６５は、コリメータ３０の出射端１４０を向いて位置し、強度プロファ
イルを調整することができる。一実施例において、出力端１４０において、リフ
レクタ４０に近い側のコリメータ３０の出射光の強度は、リフレクタ４０から遠
い側よりも弱く、ガイドチャネル５０の外である。従って、実施例においては、
光強度は、リフレクタ４０からの距離に従って増加する。平坦な強度プロファイ
ルを生成するために、グラデーションが付された（階調付けられた）アブソーバ
が使用可能である。換言すると、アブソーバ６５は、リフレクタに近い側の光を
より少なく吸収する。そのようなアブソーバ６５の使用は、出射光６０が均一な
強度プロファイルを持つことが望ましい場合に有効である。

【００２１】 ガイドチャネル装置５０は、光源１０から、ガイドチャネル５０の始端７０に
到達した光２０を集めてコリメータされた形で伝送する。入射光２０を集めてコ
リメートされた形式で伝送する任意の好適なガイドチャネル５０が、使用可能で
ある。好適実施例においては、ガイドチャネル５０は、ｘ線を集めて伝送する。
好適実施例では、複数のガイドチャネル素子８０がガイドチャネル５０に含まれ
ている。ガイドチャネル素子８０は、好ましくは、多毛細管（ポリキャピラリ）
チューブ（polycapillary tubes）又はマイクロチャネルプレート又はそれらの
組み合わせから構成され、ガイドチャネル装置５０に使用される。ガイドチャネ
ルは、ｘ線ビームの中心部を、円、楕円、矩形、方形等の任意の形状にコリメー
ト又はフォーカスする。各ガイドチャネル素子（すなわち、多毛細管チューブ及
び／又はマイクロチャネルプレート）は、図で符号８０で表される。多毛細管チ
ューブ（polycapillary tubes）又はマイクロチャネルプレート８０は、入射光
８０を収集し、それを所望の位置に伝送するようなパターンに配置される。ガイ
ドチャネル５０内の多毛細管チューブ８０は、チューブの長さ方向に幅を変化さ
せることにより、適宜テーパ加工されてもよい。加えて、多毛細管チューブ８０
は、結合・接着されたり又は溶融されることにより、１つに（モノリシック）さ
れてもよく、或いはマトリックスに形成されてもよい。図１に示すように、コリ
メータ３０から出射する光６０は、ガイドチャネル装置５０によりコリメートさ
れている。

【００２２】 一実施例において、図１に示すように、ガイドチャネル素子８０（例えば、多
毛細管チューブ又はマイクロチャネルプレート８０）とリフレクタ４０の間には
ギャップ８５が存在する。実施例においては、出射光６０の一部はリフレクタと
ガイドチャネル５０からのものである。他の実施例においては、図２に示すよう
に、ガイドチャネル５０の素子８０はリフレクタ４０まで延びている。この実施
例においては、出射ビーム６０は、ガイドチャネル５０から来る。動作時には、
入射光２０の一部はリフレクタ４０により反射され、一又は複数のガイドチャネ
ル素子８０、すなわち、リフレクタ４０に近く、リフレクタ４０で反射された光
を受光するように適合されてされているものにより受光される。

【００２３】 多毛細管チューブ又はマイクロチャネル８０の任意の形状や配置が使用できる
。図４に示す実施例では、方形断面形状の多毛細管チューブ８０が半分配置され
ている。代わりに、円形の配置が図４の符号９０で示すように使用可能である。

【００２４】 この発明のコリメータ３０の一実施アプリケーションは、ｘ線リソグラフィ又
はマイクロリソグラフィにある。リソグラフィ動作において、コリメータ３０か
ら出射されるコリメートされた光６０は、処理対象のウエハ又は他の基板上のマ
スク／フォトレジストにより受光される。典型的な実施例において、コリメート
された光６０は所望の位置に偏向光学系又はフォーカシング光学系を用いて照射
される。

【００２５】 他の実施例においては、放射光をフォーカス（集光）することが望まれる。こ
の実施例は図３に示される。実施例において、リフレクタ（反射板）は、集光光
学系としての形状を有し、集光光学系４２として参照される。任意の形状が、集
光光学系４２として選択可能である。この集光光学系４２は、入射光を受光し、
集光地位１２０に反射する。一実施例において、一般に、楕円断面形状が集光光
学系４２として使用可能である。好適実施例においては、集光光学系４２は、線
形に配置された２つのほぼパラボラ状のリフレクタ４０を備える。２つのリフレ
クタ４０を使用する実施例においては、リフレクタは、付随的に、同一のプロフ
ァイルを備え、或いは、異なるプロファイルを備えてもよい。上流側のリフレク
タ部４６は、好ましくは、下流側のリフレクタ部４８と同様のプロファイルを有
し、結果として、集光点１２０に向けた反射になる。集光光学系４２は、トモグ
ラフ（断層ｘ線写真）、ｘ線光電子分光器、ｘ線回析、ｘ線顕微鏡、ｘ線蛍光な
どの非リゾグラフの応用分野で使用される。

【００２６】 図示と説明を容易にするため、図１−４は、この発明に従うコリメータの上部
部分の断面を示す。図１の実施例の全体の断面は図５に示される。

【００２７】 図６と７に示す他の好適実施例において、コリメータ３０は、ガイドチャネル
５０の上流側に配置された光学系４０を備える。光学系４０は、好ましくは、多
層光学系或いはポリノミアル（polynomial shape）である。ただし、他の好適な
光学系が、任意の形式で放射光２０を方向付けるために使用可能である。他の実
施例として、光学系４０は、斜入射リフレクタでもよい。一実施例において、直
接通過光は、アブソーバ或いはフィルタ２３０を光学系４０のフロントエンド２
１２の中央に配置することにより（図７に示すように）、光学系４０においてブ
ロックされ或いはフィルタされる。他の実施例において、アブソーバ或いはフィ
ルタ２３０は、ｘ線の一部を通過する。光学系４０は、望ましくは、ガイドチャ
ネル５０の正面全体を照明するように選択される。望ましくは、集光された光は
、光学系に向けて１回反射される。ガイドチャネル５０は、望ましくは、複数の
ガイドチャネル素子８０、例えば、多毛細管チューブ又はマイクロチャネルプレ
ートを含む。ガイドチャネル素子８０は、まっすぐでもよく、或いはガイドチャ
ネル５０内で湾曲していてもよい。動作時には、光学系４０は、ｘ線を要求され
た大きな角度で曲げ、所望の方向に向け、コリメータ３０のゲインを高める。こ
の実施例のガイドチャネル５０は、例えば、方向、局所的発散・開き、強度等の
調整を可能とする。出射光６０は、必要に応じて、方向を設定されて、最終的に
、マスク、イメージャ、又は結晶構造などの所望の位置２２０に向けられる。望
ましくは、出射光６０は、所望の角度特性で、位置２２０を照明することができ
るほぼ平行ビーム用である。他の光学系が、図１−５に示す構成により、ガイド
チャネル５０を囲うように向けられてもよい。さらに、アブソーバ６５や他の素
子が、上記説明で議論したように、この実施例の装置に組み込まれてもよい。

【００２８】 この例において、フロントの径は３．１４８ｃｍ、バックの径は６．７９２ｃ
ｍ、そして長さは１８．３ｃｍである。ソース１０から光学系４０のフロント２
１２への角度は１４．２３度である。ソースから光学系４０のバック２１４への
角度は８．２２３度である。反射角度は、光学フロントで、１０．１４度、光学
バックで３．６６度である。

【００２９】 他の例において、フルフィールド照明パターンが、中央で負の総合発散、外部
エッジで正の総合発散を示すようなポリノミアル型リフレクタ光学系４０が使用
可能である。ビームブロックアブソーバ２３０は、フロントエンド２３０の中央
部に配置されて、センター部分は照明されない。多数の毛細管チューブを含むガ
イドチャネル５０が使用される。毛細管チューブは、入射線の角度に合致したわ
ずかな湾曲を有する。毛細管チューブに入射する線は、スムーズな内面により複
数回反射され、上述のように、平行又はほぼ平行ビームとして、出射される。放
射ｘ線６０の均一性は光学系４０を調整することにより強化される。

【００３０】 動作時には、ｘ線などの入射光２０は、例えば、フロントエンド２１２に配置
されたアパチャ１３０を通って最適条件で、受光される。入射光２０の一部はリ
フレクタ４０によって反射され、出射アパチャ１４０から出射する。入射光２０
の他の部分は、ガイドチャネル内で受光され、ガイドチャネル内をガイドされ出
射アパチャ１４０から出射される。出射光６０の強度は、アブソーバ６５等によ
り調整可能である。このアブソーバ６５は、好ましくは、出射アパチャ１４０又
はその近傍に配置される。ｘ線の実施例において、出射光は、集積回路や他の電
子部品の製造に使用されるｘ線リゾグラフに使用可能である。

【００３１】 従って、ｘ線又は他の波長等の光をコリメートするための装置と方法が提供さ
れていることが理解できる。この発明は、説明の目的で示されており、限定では
ない好適実施例以外にも適用可能である。上述の特定の実施例の種々の均等物が
実施可能である。

【００３２】

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係わるコリメータの一実施例の部分断面側面図。

【図２】 本発明に係わるコリメータの別の実施例の部分断面側面図。

【図３】 本発明に係わるコリメータとフォーカス光学系の組み合わせの一実施例の部分断
面側面図。

【図４】 本発明に係わるコリメータの部分断面端面図。

【図５】 本発明に係わるコリメータの一実施例の断面側面図。

【図６】 本発明に係わるコリメータの別の実施例の断面側面図。

【図７】 本発明に係わるコリメータの別の実施例の断面側面図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ， ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ， ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (71)出願人 ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシ ティー・オブ・カリフォルニア ＴＨＥ ＲＥＧＥＮＴＳ ＯＦ ＴＨＥ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ ＯＦ ＣＡＬＩＦ ＯＲＮＩＡ アメリカ合衆国、カリフォルニア州94607 −5200、オークランド、フランクリン・ス トリート1111、トゥエルブス・フロア (72)発明者 フォスター、リチャード、エム アメリカ合衆国 カリフォルニア州90266、 マンハッタン ビーチ、８ス ストリー ト、324 (72)発明者 タルク、アイ、シー、エドモンド アメリカ合衆国、カリフォルニア州92014， デル マール、ストラットフォード コー ト ナンバー304Ａ、510 (72)発明者 レーン、ステファン、エム アメリカ合衆国 カリフォルニア州94610、 オークランド、ストラットフォード ロー ド、738 (72)発明者 バルビー、トロイ、ダブリュー、ジュニア アメリカ合衆国 カリフォルニア州94607、 オークランド、フランクリン ストリー ト、1111、12ス フロアー Ｆターム(参考） 2H042 DB14 DD04 DD06 DD07 DD09 DE04 2H046 AA02 AA32 AB04 2H052 BA03 BA07 BA12

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学系と、 光学系の背後に配置され、フロントエンドを備え、フロントエンドを介して光
   学系からの光を受けるガイドチャネルと、 を備えるコリメータ。
2. 【請求項２】 ガイドチャネルは、複数の多毛細管チューブを備えることを特徴とする請求項
   １に記載のコリメータ。
3. 【請求項３】 ガイドチャネルは、複数のマイクロチャネルプレートを備えることを特徴とす
   る請求項１に記載のコリメータ。
4. 【請求項４】 ガイドチャネルは、少なくとも１つの多毛細管チューブと少なくとも１つのマ
   イクロチャネルプレートを備えることを特徴とする請求項１に記載のコリメータ
   。
5. 【請求項５】 前記光学系は反射器であることを特徴とする請求項１に記載のコリメータ。
6. 【請求項６】 前記光学系はフロントエンドを備え、さらに、実質的に光学系のフロントエン
   ドに配置されたフィルタ装置を備えることを特徴とする請求項１に記載のコリメ
   ータ。
7. 【請求項７】 前記光学系はフロントエンドを備え、さらに、アブソーバを備えることを特徴
   とする請求項１に記載のコリメータ。
8. 【請求項８】 出射端を備えるコリメータで光をコリメートする方法であって、 コリメートされるべき光を提供し、 前記光の一部をリフレクタで反射し、 反射ステップの後で、光にガイドチャネルを通過させ、 コリメートされた光がガイドチャネルから出射する、 コリメート方法。
9. 【請求項９】 ガイドチャネルは、複数のガイドチャネル素子を備え、反射ステップでリフラ
   クタにより反射された光は１又は複数のガイドチャネル素子により受光され、コ
   リメートされた光ビームは、ガイドチャネル素子から、コリメータの実質的な出
   力端で出射することを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. 【請求項１０】 前記コリメートされた光は、リソグラフ、マイクロリソグラフ、断層写真、ｘ
    線光電子分光器、ｘ線回析、ｘ線顕微鏡、ｘ線蛍光を含むグループの選択された
    プロセスに使用される、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
11. 【請求項１１】 コリメータからのコリメートされた光を用いるリソグラフ方法であって、コリ
    メータは出力端を備えており、 コリメートされるべき光を提供し、 前記光の一部をリフレクタでコリメートされた形態で反射し、 リフレクタからの光をガイドチャネルを用いてコリメートし、 コリメートされた光ビームをコリメータの出射端から出射し、マスク及び／又
    はフォトレジストに到達させる、 リソグラフ方法。