JP2003528212A - イオン交換材料 - Google Patents
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Abstract
Description
イオン交換膜の製造方法およびこのような膜に関するが、これらに限られるわけ
ではない。
媒の層4と電極6とによって両面を挟まれた水素イオン伝導高分子電解質膜(P
EM)の薄板2を備え得る。層2,4,6は1mm未満の厚さを有する膜電極ア
センブリ(MEA)を形成する。
て導入される。 Pt陽極(燃料極)2H2→4H++4e− 水素イオンは伝導PEMを介して陰極へ移動する。同時に、酸化剤が陰極(酸
化剤電極)に導入され、該陰極では以下の電気化学反応が起こる。
介して2つの電極を接続することにより、回路に電流が流れ、電池から電力が取
り出される。
ン伝導性ポリマー材料は、高い導電性(低EWまたは高イオン交換能力)、低い
水分取り込み、堅牢性および膜を鋳造するのに用いることができる溶媒での溶解
性を有する。しかしながら、上記の必要条件の一部は互いに競合するものである
。例えば、不利な点として、鋳造溶媒での材料の溶解性を高めるために行う工程
によって、材料の水分取り込みが増加する可能性があり、材料の導電性を高める
ために行う工程によっても水分吸収が増加する傾向があり、それによって燃料電
池で使用した場合に材料の早期損傷を生じる。
に関連する問題を扱うことにある。 本発明の第一の態様によれば、イオン伝導性材料、例えば水に対する感受性が
好適に低い膜の製造方法であって、少なくともある程度の結晶性を有するか結晶
可能である第一のイオン伝導性ポリマー材料を結晶性を高める手段(以下、「結
晶性向上手段」)で処理する工程を有する方法において、処理される第一のイオ
ン伝導性ポリマー材料(以下、「処理イオン伝導性材料」という)が前記イオン
伝導性材料の構成要素、例えば膜であることを特徴とする方法が提供される。
に対して1,4−または1,3−結合、特には1,4−結合を有し得る。
ンデルおよびオズボーンの報告(Blundell and Osborn、
Polymer 24, 953, 1983)に記載の方法に従って、広角X
線回折(広角X線散乱またはWAXSとも称される)によって測定する。別法と
して、示差走査熱量法(DSC)を用いて、結晶性を評価することができると考
えられる。前記第一のイオン伝導性ポリマー材料の結晶性レベルは0%であり得
る(例:材料が結晶可能である場合)。あるいは結晶性レベルは、好適にはブル
ンデルおよびオズボーンの報告に記載の方法に従って測定して、少なくとも1%
、好適には少なくとも5%、好適には少なくとも10%、より好ましくは少なく
とも15%、特には少なくとも20%重量部であり得る。前記第一のポリマー材
料の結晶性レベルは、20%未満、好ましくは15%未満、より好ましくは10
%未満、特には5%未満であり得る。
ルは、前記第一のポリマー材料での結晶性レベルより少なくとも1%高いものと
なり得る。結晶性レベルは5%以上であることができる。好適には、結晶性レベ
ルは、少なくとも10%強、好ましくは少なくとも15%強、より好ましくは少
なくとも20%強、特には少なくとも25%強である。
のイオン伝導性ポリマー材料の加熱を行うことができる。好ましくは、前記第一
のポリマー材料を、好適には不活性(例:窒素)雰囲気下に、少なくとも0.5
分間および30分未満にわたり、材料のTgを超えない温度で加熱する。別法と
してないしは追加で、前記結晶性向上手段には、結晶性向上溶媒で前記第一のイ
オン伝導性ポリマー材料を処理することができる。好ましいそのような溶媒は極
性非プロトン性溶媒であり、アセトン、ジメチルアセトアミド(DMA)、ジメ
チルホルムアミド(DMF)、テトラヒドロフラン(THF)および塩化メチレ
ンなどがあり得る。結晶性向上溶媒、特にはアセトン、塩化メチレンまたはテト
ラヒドロフランを使用した後、好ましくは、例えば留去による溶媒除去が関与す
るさらに別の工程を設ける。
施例に記載の方法に従って評価することができる。処理前後での水に対する材料
の感受性間の差は、少なくとも5%、好適には少なくとも10%、好ましくは少
なくとも20%、より好ましくは少なくとも40%、特には少なくとも60%で
あることができる。場合によってはそれは、少なくとも80%であることができ
る。
ることが前記第一のイオン伝導性ポリマー材料の必要条件である。その材料は、
多くの反復単位から構成されていることができ、そのうちの一部は結晶可能であ
るかある程度の結晶性を有することができ、一部は非晶質である。例えば、イオ
ン交換部位、例えばスルホン酸基を有する反復単位は、嵩高い基または−SO2 −などの反復単位の場合のように非晶質となる傾向がある。結晶性または結晶可
能な反復単位は好適には、ポリエーテルケトン結晶格子におけるエーテル単位と
交換可能な部分がある。ケトン単位および/または−S−単位は交換可能である
ことから、結晶性または結晶可能単位の構成要素であることができる。
は−Q−基(Qは−O−または−S−を表す)によって結合された部分を有する
芳香族基を有する。−SO2−および/または形状および/または配座がポリエ
ーテルケトン単位が取る結晶性配座と不適合である基を持たない反復単位を有す
る。
料」とも称する)は下記式の部分
も一部は官能化されてイオン交換部位を提供する。単位I、IIおよびIIIに
おけるフェニル部分は独立に、置換されていても良く、架橋されていてもよい。
上記の材料は結晶可能であるか結晶性である。ここで、m,r,s,t,v,w
及びzは独立して0又は正の整数を表し、E,E’は独立して酸素原子または硫
黄原子または直接結合を表し、Gは酸素原子もしくは硫黄原子、または直接結合
、または−O−Ph−O−部分を表し、前記Phはフェニル基を示し、Arはそ
の1つ以上のフェニル部分を介して隣接する部分に結合される以下の部分(i) * ,(i)〜部分(x)の一つから選択される。
よい。
ホン化、リン酸化、カルボキシル化、第4級アミノアルキル化、またはクロロメ
チル化され、さらに−CH2PO3H2、−CH2NR3 20+ を得るよう任
意に変更されて、カチオンまたはアニオン交換膜を提供する。前記R20はアル
キルまたは−CH2NAr3 X+であり、前記ArXは芳香族化合物(アレーン
)である。なおさらに、芳香族化合物部分は、既存の方法により容易に合成され
て、ポリマー上に−OSO3H及び−OPO3H2カチオン型交換サイトを生成
する水酸基を含み得る。この型のイオン交換サイトは国際特許出願公開第WO9
5/08581号に記載されるように提供され得る。
交換サイトのみがスルホン化される。
、当然イオン化を考慮して、以下のグループ、すなわちH、NR4 y+から選択
される1つ以上の成分を表す。前記式中、Ry はH、C1−C4アルキル、また
はアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、または第8亜族の金属、好ましくは
H、NR4 +、Na、K、Ca、Mg、Fe、及びPtを表す。好ましくは、M
はHを表す。この種のスルホン化は国際特許出願公開第WO96/29360号
に記載されるように提供され得る。
の1,4−または1,3−架橋、特に1,4−架橋を有し得る。
る種類の式IIの反復単位、及び1つ以上の異なる種類の式IIIの反復単位を
含み得る。
、単位I、単位II及び/又は単位IIIは、互いに適切に結合している。すな
わち、単位I、単位II、及び単位IIIの間には他の原子または基は結合され
ていない。
場合、該フェニル部分は1つ以上のハロゲン、特にフッ素及び塩素原子、または
アルキル、シクロアルキル、またはフェニル基により任意に置換され得る。好ま
しいアルキル基はC1−10、特にC1−4アルキル基である。好ましいシクロ
アルキル基は、シクロヘキシルと、例えばアダマンチルのような多環基(mul
ticyclic group)とを含む。いくつかの場合において、ポリマー
の架橋に任意の置換基が用いられ得る。例えば、炭化水素の任意の置換基が官能
基化、例えばスルホン化され、架橋反応を引き起こされ得る。好ましくは、前記
フェニル部分は未置換である。
の基は、アルキル、ハロゲン、yがゼロ以上の整数であるCyF2y+1、O−
Rq(Rqはアルキル、ペルフルオロアルキル及びアリールから成る群から選択
される)、CF=CF2、CN、NO2及びOHを含む。トリフルオロメチル化
されたフェニル部分が好ましい状況もあり得る。
性を改良するため、例えば水中における膨潤性を減少させるために適当に架橋処
理される。架橋を行うためには、任意の適当な手段が用いられ得る。例えば、E
が硫黄原子を表す場合は、ポリマー鎖間の架橋は、それぞれの鎖上の硫黄原子を
介して行われ得る。これに代わって、前記ポリマーは米国特許第5561202
号に記載されるスルホンアミドブリッジによって架橋されてもよい。別の代替手
段としては、欧州特許出願公開第EP−A−0008895号に記載される架橋
処理がある。
られ得る物質を生成するために架橋を行う必要がない。このようなポリマーは架
橋ポリマーよりも調製が容易であり得る。このように、第1及び/又は第2の態
様の前記ポリマーは結晶性であり得る。好ましくは、上記の第1材料は記載され
るように任意に架橋処理されない。
位において、各フェニレン部分は独立して他の部分への1,4−または1,3−
結合を有し得る。好ましくは、前記フェニレン部分は1,4−結合を有する。
、Gは直接結合を表す。
くは、各単位Iは同一である。「b」は上記の第1材料における式IIのモル%
を表し、好ましくは、各単位IIは同一である。「c」は前記材料における式I
IIのモル%を表し、好ましくは、各単位IIIは同一である。好ましくは、a
は、45〜100の範囲、より好ましくは45〜55の範囲、特に48〜52の
範囲にある。好ましくは、b及びcの合計は0〜55の範囲、より好ましくは4
5〜55の範囲、特に48〜52の範囲にある。好ましくは、a対b及びcの合
計の比率は0.9〜1.1の範囲にあり、より好ましくは約1である。好ましく
は、a、b及びcの合計は、少なくとも90であり、好ましくは、少なくとも9
5であり、より好ましくは少なくとも99、特に約100である。好ましくは、
上記の第1材料は実質的に部分I、部分II及び/又は部分IIIからなる。
ムコポリマーまたはブロックコポリマーであり得る。
m,r,s,t,v,w及びzは本願中のいずれかの文に記載されているのと同
様である。
1材料は一般式IV*の反復単位を有するホモポリマーであるか、
ランダムコポリマーまたはブロックコポリマーであり得る。式中、A、B、C及
びDは独立して0または1を表し、E,E’,G,Ar,m,r,s,t,v,
w及びzは本願中のいずれかの文に記載されている通りである。
範囲にある。好ましくは、rは0〜3の範囲、より好ましくは0〜2の範囲、特
に0〜1の範囲にある。好ましくは、tは0〜3の範囲、より好ましくは0〜2
の範囲、特に0〜1の範囲にある。好ましくは、sは0または1である。好まし
くはvは0または1である。好ましくは、wは0または1である。好ましくはz
は0または1である。
れる。
もよい。
部分から選択され、(xvi)は1,6−の部分、2,3−の部分、2,6の−
部分、または2,7−の部分から選択され、(xvii)は1,2−の部分、1
,4−の部分、1,5−の部分、1,8−の部分、または2,6−の部分から選
択される。
部分を含み得る。このような好ましいクラスにおいて、好ましくは、ポリマーは
ポリマー鎖内にてアリール(または別の不飽和)部分同士の間に−O−及び−S
O2−を含み得る。したがって、この場合好ましくは、第1の態様のポリマーは
、式IIIの部分のみから構成されず、式I及び/又は式IIの部分も含む。
び/又はIIの部分を適当に含むに過ぎない。上述されたように、前記ポリマー
がホモポリマー、またはランダムコポリマー、またはブロックコポリマーである
場合、上記のホモポリマーまたはコポリマーは、一般式IVの反復単位を適当に
含む。このようなポリマーは、いくつかの実施の形態において、一般式Vの反復
単位を少しも含まなくてもよい。
り、これらのうち、部分(i)*,(i),(ii),(iv)が好ましい。好
ましい部分Arは、部分(xi)*,(xi),(xii),(xiv),(x
v),(xvi)であり、これらのうち、部分(xi)*,(xi),(xii
),(xiv)は特に好ましい。別の好ましい部分は、部分(v)であり、特に
部分(xvi)である。特に単位IV*及び/又は単位V*を含む代替の第1材
料に関して、好ましいAr部分は部分(v)であり、特に部分(xvi)である
。
ホン化可能な単位である、例えば、多環式フェニレン部分またはナフタリンなど
の縮合環芳香族部分を含む。このような容易にスルホン化される単位は、比較的
穏和な条件下においてスルホン化され、1単位あたりに2つのスルホン基を導入
する。したがって、好ましいポリマーは、非局在化芳香族部分内に少なくとも1
0個のπ電子を有し得る。π電子の数は12以下であり得る。好ましいポリマー
は、ビフェニレン部分を含む。他の好ましいポリマーは、ナフタレン部分を含む
。好ましいポリマーは、2つの酸素原子に結合されている前記の電子過多で、不
活性化されておらず、容易にスルホン化可能な単位を含む。特に好ましいポリマ
ーは、−O−ビフェニレン−O−部分を含む。他の特に好ましいポリマーは、−
O−ナフタレン−O−部分を含む。
化が比較的容易な第2の型の部分とを含む。例えば、前記第2部分は例2に後述
される比較的穏和な方法を用いてスルホン化可能であり得るが、第1部分はその
ような方法では実質的にスルホン化可能にはなり得ない。例2の方法の使用は、
現在用いられている発煙硫酸を用いる方法に対して有利であり得る。好ましい前
記第2部分は、nが少なくとも2である整数である部分−Phn−を含む。好ま
しくは、前記部分は少なくとも1つのエーテル酸素に結合されている。特に好ま
しいのは、前記部分が−O−Phn−O−であり、前記エーテル基がPh−Ph
結合に対しパラ位にある場合である。
なるコポリマーである。 (a)E及びE’は酸素原子を表し、Gは直接結合を表し、Arは構造(iv
)の部分を表し、m及びsはゼロを表し、wは1を表し、A及びBは1を表す式
IVの単位。 (b)Eは酸素原子を表し、E’は直接結合を表し、Arは構造(i)の部分
を表し、mはゼロを表し、Aは1を表し、Bはゼロを表す式IVの単位。 (c)E及びE’は酸素原子を表し、Gは直接結合を表し、Arは構造(iv
)の部分を表し、m及びvはゼロを表し、zは1を表し、C及びDは1を表す式
Vの単位。 (d)Eは酸素原子を表し、E’は直接結合を表し、Arは構造(ii)の部
分を表し、mは0を表し、Cは1を表し、Dは0を表す式Vの単位。 (e)E及びE’が酸素原子を表し、Arは構造(i)を表し、mは0を表し
、Cは1を表し、Zは1を表し、Gは直接結合を表し、vは0を表し、Dは1を
表す式Vの単位。
構造を表し、mは0を表し、Aは1を表し、Bは0を表す式IVの単位。 (bb)E及びE’は酸素原子を表し、Arは構造(iv)の部分を表し、m
,wは0を表し、Gは直接結合を表し、s,rは1を表し、A及びBは1を表す
式IVの単位。 (cc)E及びE’が酸素原子を表し、Arは構造(i)を表し、m,wは0
を表し、Gは直接結合を表し、s,rは1を表し、A及びBは1を表す式IVの
単位。
)の部分を表し、mは1を表し、wは1を表し、sはゼロを表し、A及びBは1
を表す式IVの単位。 (g)Eは酸素原子を表し、E’は直接結合であり、Gは直接結合を表し、A
rは構造(iv)の部分を表し、m及びsはゼロを表し、wは1を表し、A及び
Bは1を表す式IVの単位。 (h)E及びE’は酸素原子を表し、Gは直接結合を表し、Arは構造(iv
)の部分を表し、mは1を表し、zは1を表し、vは0を表し、C及びDは1を
表す式Vの単位。 (i)Eは酸素原子を表し、E’は直接結合を表し、Gは直接結合を表し、A
rは構造(iv)の部分を表し、m及びvはゼロを表し、zは1を表し、C及び
Dは1を表す式Vの単位。
))のいずれかとコポリマーを形成し得る他の第2の単位は、E及びE’が酸素
原子を表し、Gは直接結合を表し、Arは構造(v)の部分を表し、mは0を表
し、wは1を表し、sは0を表し、A及びBは1を表す式IVの単位、または、
E及びE’は酸素原子を表し、Gは直接結合を表し、Arは構造(v)の部分を
表し、mは0を表し、zは1を表し、vは0を表し、C及びDは1を表す式Vの
単位を含む。
から選択される単位を含む第1の単位と、単位(f),(g),(h),(i)
から選択される第2の単位とからなり得る。また、単位(d)及び(h)を含む
ポリマーが好ましいこともある。状況に応じて、第1単位は(aa),(bb)
,(cc)から、第2単位は(f),(g),(h),(i)から選択されても
よい。
、特に反復単位(b),(d)または(e)と、単位(f)または(h)から選
択される第2の反復単位とを組み合わせて有するコポリマーである。他の特に好
適なポリマーは、反復単位(aa),(bb)から選択される第1の反復単位と
、第2の反復単位(f),(h)とを組み合わせて有するコポリマーである。
v)の部分を表し、Eが直接結合を表し、E’が酸素原子を表し、Gが直接結合
を表し、w,s及びmは0を表し、A及びBは1を表す式IV*の単位、及び/
または、Arが構造(v)の部分を表し、Eが直接結合を表し、E’が酸素原子
を表し、Gが直接結合を表し、z,v及びmが0を表し、C及びDが1を表す式
V* の反復単位を含む。
)〜(i)(及び/又は(aa),(bb),(cc))のいずれも含み得る。
単位を含む第1材料が好ましくなり得る。 コポリマーは、1つ以上の第1の反復単位、及び1つ以上の前記第2の反復単
位を有して調製され得る。
ば、上記された第1の反復単位及び第2の反復単位のモル%は、溶媒中における
ポリマーの溶解度を変化させるために変更され得る。前記溶媒は、例えば、ポリ
マーからのフィルム及び/又は膜を形成するために用いられ得る有機溶媒、及び
/または他の溶媒、特に水である。コモノマー単位のモル%は、結晶性及び/又
は結晶化能を変化させるために変更され得る。ホモポリマーについては、結晶性
及び/又は結晶化能の程度はイオン交換サイトとの官能化の程度により決定され
得る。
を有し、好ましくは、極性非プロトン溶媒、例えば、NMP、DMSOまたはD
MF中において10〜30%w/wの範囲にある溶解度を適切に有する。好まし
い材料は、結晶性向上手段との処理の後の熱水中においてほぼ不溶性である。
ホン化が比較的困難であり、上記されたタイプの第2の単位はよりスルホン化が
容易であり得る。
しかしながら、いくつかの状況においては、ジ−スルホン化、またはマルチ−ス
ルホン化が行なわれることが可能であり得る。
は最大100モル%までスルホン化され得る。上記の第1材料が−O−ビフェニ
レンO−部分を含む場合は、フェニル部分は最大100モル%までスルホン化さ
れ得る。nが整数、好ましくは1−3である−O−(フェニル)n−O−部分は
、最大100モル%まで、比較的容易にスルホン化することが可能であると考え
られる。式−O−(フェニル)n−CO−、または−O−(フェニル)n−SO
2 −も100モル%までスルホン化され得るが、より強力な条件が要求され得る
。式−CO−(フェニル)n −CO−及び−SO2−(フェニル)n−SO2−
はスルホン化するのがより困難であり、いくつかのスルホン化条件下においては
、100モル%より低いレベルまでしかスルホン化され得ないか、あるいは全く
スルホン化されないこともある。
少なくとも150℃、好ましくは少なくとも154℃、より好ましくは少なくと
も160℃、特に少なくとも164℃であり得る。いくつかの場合において、T
g は、少なくとも170℃、または少なくとも190℃、または250℃より大
きいか、300℃に等しくてもよい。
少なくとも0.4、より好ましくは少なくとも0.6、特に少なくとも0.7(
最少0.8の換算粘度(RV)に対応する)のインヘレント粘度(IV)を有し
得る。RVは、25℃にて、密度1.84gcm−3の濃硫酸中のポリマー溶液
について測定され、前記溶液は溶液100cm3あたり1gのポリマーを含む。
IVは、25℃にて、密度1.84gcm−3の濃硫酸中のポリマー溶液につい
て測定され、前記溶液は溶液100cm3あたり1gのポリマーを含む。
適宜に用いる。 上記の第1材料の融解吸熱(Tm )の主ピークは少なくとも300℃であり得
る。
の一般式IVまたはIV*のものである結晶性または結晶可能単位を有すること
ができる。好適には、結晶可能であるためには前記第二の単位は、式(ii)、
(viii)、(ix)または(x)のAr基を含まない。より好ましくはそれ
は、式(v)、(vi)または(vii)のAR基をも持たないものであること
ができる。好ましいAr基は、1以上のカルボニルおよび/またはエーテル基と
ともに1以上のフェニル基からなる。
Mを画定する単一の材料を含むことができる。従ってこの場合、触媒材料は反対
側の前記単一材料と接触することができる。しかしながら好ましくは、イオン伝
導性膜は前記第一のイオン伝導性ポリマー材料を別の材料とともに含む複合膜で
ある(以下、「複合膜材料」という)。
することができる。例えば、非支持伝導性ポリマー膜の形での前記第一のイオン
伝導性材料は、前記複合膜材料と接触、例えばそれに積層させることができる。
別の形態として(そして好ましくは)、前記複合膜材料または前記第一のイオン
伝導性材料のいずれか一方を多孔性とすることができ、前記複合膜材料または前
記第一のイオン伝導性材料の他方をその多孔性材料に含浸させることができる。
持材料であることができる。この場合、前記複合膜材料好ましくは、前記第一の
イオン伝導性材料と比較して強く、ないしは水吸収度が低い。
体であることができる。さらに別の形態では、前記第一のイオン伝導性ポリマー
材料および前記複合膜材料が均一混合物を規定することができる。
または好ましくは実質的にそれからなる材料。そのような支持材料は、WO97
/25369およびWO96/28242に従って記載のもの(ポリテトラフル
オロエチレンに関するその文書の内容は参照によって本明細書に含まれる)およ
び表面変性ポリテトラフルオロエチレンであることができる。
ポリプロピレンまたはポリエチレンおよびそれのいずれかのコポリマー。 (C)ポリベンゾアゾール(PBZ)またはポリアラミド(PARまたはケブ
ラー(Kevlar;登録商標))ポリマーなどのリオトロピック液晶ポリマー
類。好ましいポリベンゾアゾールポリマー類には、ポリベンゾオキサゾール(P
BO)、ポリベンゾチアゾール(PBT)およびポリベンズイミダゾール(PB
I)ポリマー類などがある。好ましいポリアラミドポリマー類には、ポリパラ−
フェニレンテレフタルアミド(PPTA)ポリマー類などがある。上記ポリマー
の構造は、WO99/10165の表4に挙げてあり、その明細書の内容は参照
によって本明細書に組み込まれる。
イド(PPO)、ポリフェニレンスルホキシド(PPSO)、ポリフェニレンス
ルフィド(PPS)、ポリフェニレンスルフィドスルホン(PPS/SO2)、
ポリパラフェニレン(PPP)、ポリフェニルキノキザリン(PPQ)、ポリア
リールケトン、ポリエーテルスルホン(PES)およびポリエーテルケトンなら
びにポリエーテルエーテルケトンポリマー類、例えばそれぞれビクトレックス社
(Victrex Plc.)から販売されているPEK(商標名)ポリマー類
およびPPEK(商標名)ポリマー類。
び/またはIIIを有するポリマー。ただし、そのようなポリマーが結晶可能、
結晶性または非晶質であることができ、官能化されてイオン交換部位を提供しな
い場合を除く。
好適には前記第一のイオン伝導性ポリマー材料に関して本明細書に記載の種類の
ものであるイオン交換部位を提供する(E)に記載のポリマー類。
交換部位を提供する(D)に記載のポリマー類。 (H)例えばWO99/10165に記載のカルボキシル−、ホスホニル−ま
たはスルホニル置換パーフルオロビニルエーテル類などのパーフルオロイオノマ
ー。特に好ましい例は、パーフルオロスルホネートイオノマー(Journal
of Electrochemical Society, Vol 13に
, pp 514−515 (1985) に記載)であるNAFION(商標名)
である。
まれる)に記載のα,β,β−トリフルオロスチレンモノマー単位を有するイオ
ン伝導性ポリマー類。
ホン酸、ポリビニルホスホン酸(PVPA)、ポリビニルカルボン(PVCA)
酸およびポリビニルスルホン酸(PVSA)ポリマー類、ならびにそれらに金属
塩を含むイオン伝導性ポリマー類。
実施形態では、それは少なくとも部分的結晶性を有することができるか、あるい
は結晶可能であることができる。その場合、前記第一の態様の方法には、前記第
一のイオン伝導性ポリマー材料に関して前述した前記結晶性向上手段で前記複合
膜材料を処理する工程を有することができる。
オン伝導性ポリマー材料用の支持体として作用する。イオン伝導性材料は、各種
形態で複合膜材料を組み合わせることができる。その方法では、前記第一のイオ
ン伝導性材料および前記複合膜材料とを一緒に積層することができる。しかしな
がら好ましくは、その方法は多孔性複合膜材料に前記第一のイオン伝導性材料を
含浸させる工程を有する。
前記第一のイオン伝導性材料を含む第一の溶媒製剤であって前記第一のイオン伝
導性材料が好ましくは第一の溶媒に溶解しているものと前記ファブリックを接触
させる工程を有することができる。従って、前記ファブリックに前記製剤を含浸
させることができる。その後、前記第一の溶媒を除去して、前記ファブリックの
孔部に前記伝導性ポリマーを残すようにすることができる。
前記材料の表面を可溶化させるように選択することができる。 前記第一の溶媒は、少なくとも5重量%のレベルまで材料を溶解させることが
できるようにすることができる。それは、第一のイオン伝導性材料と前記複合膜
材料との間の接触を向上させることができる。場合により前記第一の溶媒は、前
記複合膜材料を官能化(例:スルホン化)できるものとすることで、上記で記載
のようにその材料の表面にイオン交換部位を設けるようにしてもよい。
きるか、あるいはプロトン性溶媒であることができる。極性非プロトン性溶媒は
、前記複合膜支持材料を可溶化する能力を持たない場合があるが、プロトン性溶
媒は前記材料を可溶化することができ、場合によっては官能化(例:スルホン化
)することができる場合がある。
を含むか実質的にそれからなるものである。前記溶媒は少なくとも90%、好ま
しくは少なくとも95%、より好ましくは少なくとも97%、特には少なくとも
98%酸を含むことができる。前記強酸溶媒は、硫酸、スルホン酸(例:メタン
スルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸)、
フッ化水素酸およびリン酸のうちの1以上であることができる。
なる。前記溶媒は少なくとも96%、好ましくは少なくとも98%の酸を含むこ
とができる。前記溶媒は99%未満の酸を含むことができる。前記プロトン性の
第一の溶媒は好ましくは、容易にスルホン化して本明細書に記載のスルホネート
単位とするが、スルホネート単位とするには困難ではないように調製される。
一のイオン伝導性材料を含む第一の溶媒製剤であって第一の材料が好ましくは前
記第一の溶媒に溶解しているものと微孔性膜とを接触させる工程を有することが
できる。従って前記微孔性膜には、前記製剤を含浸させることができる。その後
、前記第一の溶媒を除去して、前記微孔性膜の孔部に前記伝導性ポリマーを残す
ようにすることができる。
含む溶媒製剤と複合膜材料とを接触させる工程を有することができる。前記第一
の溶媒は好ましくは、複合膜材料をある程度可溶化するものである。前記第一の
溶媒は、前記ファブリックの処理に関して前述のものであることができる。その
後、前記方法には好ましくは、複合膜材料を第二の溶媒と接触させる工程がある
。前記第二の溶媒は好ましくは、転相を生じさせるように調製する。好適には転
相によって、前記複合膜材料は多孔性となる。前記第二の溶媒は好ましくは、前
記材料にとっては非溶媒である。好ましい第二の溶媒は水系であり、特に好まし
いものは水である。
て、前記ポリマーが前記複合膜材料に形成された孔部に浸透するようにする。好
適には上記の転相によって孔部が形成された後に、前記第一のイオン伝導性ポリ
マーを前記複合膜材料と接触させることができる。それに関しては、前記第一の
イオン伝導性ポリマーを、上記の前記第一の溶媒と全く同一であることができる
溶媒に溶かして提供することができる。そのような組み合わせを、前記の方法で
製造した微孔性膜と接触させて、前記第一のイオン伝導性ポリマーを前記膜の孔
に含浸させることができる。
を後処理して、好適には複合膜材料上に前記イオン伝導性ポリマーの実質的に連
続薄膜を形成するようにすることができる。後処理には、前記複合膜材料の孔部
に第一のイオン伝導性ポリマーを含む製造物を、前記第一のイオン伝導性ポリマ
ーが相対的に可溶であり、前記複合膜材料が実質的に不溶である第三の溶媒と接
触させる工程があってもよい。これによって、孔部で第一のイオン伝導性ポリマ
ーがわずかに溶解して、孔間での材料の合体によって薄膜形成を生じるようにさ
せることができる。場合により、前記イオン伝導性ポリマーを前記第三の溶媒に
溶かして提供することで、前記複合膜材料の表面上に前記イオン伝導性ポリマー
の層を成膜するようにすることができる。前記第三の溶媒は、上記の前記第一の
溶媒と全く同一であることができる。前記第三の溶媒は好ましくは、極性非プロ
トン性溶媒である。NMPが好適な溶媒である。
一のイオン伝導性材料のいずれかが、イオン伝導性材料もしくは膜材料のいずれ
かの他方に対して支持体として作用することができるか、あるいは別形態として
、前記複合膜材料および前記第一のイオン伝導性材料を互いに混合して、例えば
米国特許第5834566号に記載の実質的に均質な合金を形成することができ
る。
性材料および前記第一のイオン伝導性ポリマー材料ではない複合膜材料を含むイ
オン伝導性膜の製造に関して前述した方法に従って、イオン伝導性膜を製造する
ことができる。しかしながら、第一のイオン伝導性ポリマー材料がイオン伝導性
である複合膜材料用の支持体を提供する場合、前記説明で複合膜材料について言
及している部分を前記第一のイオン伝導性材料に置き換え、前記第一のイオン伝
導性ポリマー材料に関する前記の言及をイオン伝導性である前記複合膜材料に関
する言及に置き換えなければならない以外、前記の方法に従って(前記第一のイ
オン伝導性ポリマー材料とともに非イオン伝導性材料を含む複合膜材料のイオン
伝導性膜製造に関しての方法)、イオン伝導性膜を製造することができる。
ー材料を含む膜を製造し、次に前記前駆体材料、例えば膜を前記結晶性向上手段
で処理することによって前記イオン伝導性材料、例えば水に対する感受性の低く
なった膜を得る工程がある。前記手段による処理は、前記前駆体材料、例えば膜
の製造後のいかなる時点でも行うことができる。
が熔解していることで前記前駆体材料、例えば膜が調製されていてもよい溶媒中
での前記第一のイオン伝導性ポリマー材料の溶解度は低下する。溶解度は、良好
な材料、例えば前記結晶性向上手段での処理後に前記第一の溶媒を用いた第一の
イオン伝導性材料からの膜を鋳造することが実質的に不可能になると考えられる
程度のレベルまで低下する場合がある。
合膜材料を含む場合、前記複合膜材料および前記第一のイオン伝導性ポリマー材
料をともに、前記結晶性向上手段で処理することができる。別法として、複合膜
材料を前記第一のイオン伝導性材料と組み合わせて前駆体膜を形成した後、その
組み合わせ物を独立に前記結晶性向上手段で処理することができ、その手段は個
々の処理に関して同一でも異なっていてもよい。例えば1実施形態では、第一の
イオン伝導性材料または前記複合膜材料を薄膜に成形した後、それを前記結晶性
向上手段で処理することができる。次に、前記第一のイオン伝導性材料または前
記複合膜材料の他方のものを、前記処理材料と接触させる。それに関しては、処
理材料は好適には、前記のように多孔性とすることができ、接触させることがで
きる。その後、未だ処理されていない第一のイオン伝導性材料または複合膜材料
を、前記結晶性向上手段で処理することができる。
オン伝導性材料を下記のように調製することができる。 FC1−複合膜材料の浸透孔部; FC2−前記複合膜材料が浸透する支持体材料として作用するもの; FC3−表面官能化されてイオン交換部位を提供する(ただし、ポリマー本体
は官能化されない)支持体材料として作用するもの。 前記第一のイオン伝導性ポリマーと組み合わせた場合、前記複合膜材料を下記
のように調製することができる。 CM1−複合膜材料の孔部に浸透する非結晶可能性および非結晶性材料として
のもの; CM2−ファブリックとしてのもの(例:ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
エーテルケトン、ポリエーテルジフェニルエーテルケトン/ポリエーテルケトン
); CM3−非スルホン化非晶質微孔性膜としてのもの; CM4−非スルホン化半結晶微孔性膜としてのもの。
り得る。
。 3.FC1+CM3。後処理して結晶性を高める(FC1のみ影響を受ける)
。 4.FC1+CM4。後処理して結晶性を高める(FC1およびCM4が影響
を受ける)。 5.FC1+CM4。CM4を前処理して、結晶性を高める。FC1を後処理
する。 6.FC1+FC3。後処理して結晶性を高める(FC1およびFC3が影響
を受ける)。 7.FC1+FC3。表面官能化したFC3を前処理して結晶性を高める。F
C1を後処理して結晶性を高める。 8.FC1+FC2。後処理して結晶性を高める(FC1およびFC1が影響
を受ける)。 9.FC1+FC2。FC2を前処理して結晶性を高める。FC1を後処理し
て結晶性を高める。 10.CM1+CM4。後処理して結晶性を高める(CM4のみが影響を受け
る)。 11.CM1+CM4。CM4を前処理して結晶性を高める。 12.CM1+FC3。後処理して結晶性を高める(表面官能化FC3が影響
を受ける)。 13.CM1+FC3。表面官能化FC3を前処理して結晶性を高める。 14.CM1+FC2。後処理して結晶性を高める(FC2が影響を受ける)
。 15.CM1+FC2。FC2を前処理して結晶性を高める。 この方法には、得られた前記イオン伝導性膜と触媒材料とを組み合わせ、好適
にはMEAを製造する後工程があってもよい。MEAは、水素または直接メタノ
ール燃料電池用であることができる。
用されるものである。
る膜に適用されるものである。
に従って製造されるイオン伝導性膜と触媒材料および/または電極とを組み合わ
せる工程を有する方法に適用されるものである。
である。
で製造されるMEAに適用されるものである。
に使用することができることから、本発明はイオン伝導性材料、例えば前記第一
の態様および/または本明細書に記載の方法に従った方法で製造される膜を組み
込んだ燃料電池または電気分解装置に適用される。その材料、例えば膜を水素燃
料電池または直接メタノール燃料電池で用いることができる。その膜はさらに、
濾過(濾過膜の一部として)、例えば限外濾過、精密濾過または逆浸透で用いる
こともできる。最も好ましい用途は、前述の燃料電池でのものである。
プロトン交換膜に基づく水の電気分解。 2.代表的には副産物としての水素とともに塩素および水酸化ナトリウムを製
造するためのブライン溶液の電気分解が関与する塩素アルカリ電気分解。 3.複合膜の化学的不活性および高い電気伝導度による従来の電池での電極分
離板。 4.イオン選択電極、特にはCa2+、Na+、K+等のイオンなどの特定イ
オンの電位差測定で用いられるもの。その複合膜は、イオン交換膜の電気伝導度
が湿度とともに変動することから、湿度センサー用のセンサー材料として用いる
こともできると考えられる。 5.イオン交換クロマトグラフィーによる分離用のイオン交換材料。代表的な
そのような用途は、水の脱イオン化および脱塩(例:重金属汚染水の精製)、イ
オン分離(例:希土金属イオン、超ウラン元素)、ならびに妨害イオン種の除去
である。 6.分析前濃縮技術(ドナン透析法)で用いられるイオン交換膜。この方法は
代表的には、希薄な分析対象イオン種を濃縮するための分析化学的方法で用いら
れる。 7.電流の駆動力下に、膜を用いてイオン溶液の成分を分離する電気透析での
イオン交換膜。電解用途には、塩水の工業的規模での脱塩、ボイラー給水補給水
および化学プロセス水の製造、糖溶液の脱灰、柑橘類果汁の脱酸、アミノ酸分離
などがある。 8.濃度勾配によって、溶質を膜の片側(補給側)から他方の側に拡散させる
透析用途での膜。溶質間の分離は、分子の大きさにおける差から生じる膜横断で
の拡散速度の差の結果として行われる。そのような用途には、血液透析(人工腎
臓)およびビールからのアルコール除去などがある。 9.気体分離(気体透過)および浸透気化(液体透過)法での膜。 10.水分解およびそれに続く廃水溶液からの酸および塩基の回収で用いられ
る両極性膜。
ーは、下記の方法によって製造することができる。
;あるいは (b)下記一般式の化合物
−E′H)を表し;X1はハロゲン原子または基−EH(または適切であれば−
E′H)の他方を表し;Y2はハロゲン原子または基−E′Hを表し;X2はハ
ロゲン原子または基−E′H(または適切であれば−EH)の他方を表す)。 (c)適宜の工程としての、段落(a)に記載の方法の生成物と段落(b)に
記載の方法の生成物との共重合。その場合に、単位VI、VIIおよび/または
VIIIのフェニル部分は置換されていても良く;化合物VI、VIIおよび/
またはVIIIはスルホン化されていても良く;Ar、m、w、r、s、z、t
、v、G、EおよびE′は、EおよびE′が直接結合を表さない以外は前述の通
りであり、 この方法には、段落(a)、(b)および/または(c)に記載の反応生成物
をスルホン化および/または架橋して前記ポリマーを製造する工程があってもよ
い。
リマー形成後に上記の基で置換してもよい。 好ましくは、Y1、Y2、X1および/またはX2がハロゲン原子、特にはフ
ッ素原子を表す場合、活性化基、特にはカルボニル基またはスルホン基を、ハロ
ゲン原子に対してオルト位またはパラ位に配置する。
しい。好ましくはハロゲン原子は、活性化基、特にカルボニル基に対してメタ位
またはパラ位に配置する。
素原子を表し、他方は水酸基を表す。より好ましくはこの場合、Y1がフッ素原
子を表し、Y2が水酸基を表す。有利には、Arが構造(i)の部分を表し、m
が1を表す場合に、段落(a)に記載の方法を用いることができる。
酸基を表す。好ましくはX1およびX2はそれぞれハロゲン原子を表し、好適に
は同一のハロゲン原子を表す。
塩、そのような塩基の混合物の存在下に行う。この反応での使用に好ましい塩基
には、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムならびにそれらの混合物などがある。
ロファイル、使用される塩基の種類、重合温度、使用される溶媒および重合時間
によって変動し得る。さらに、製造されるポリマーの分子量は、過剰のハロゲン
またはヒドロキシ反応物を用いることで制御され、その過剰率は例えば0.1〜
5.0モル%の範囲である。
されるポリマーでは、一般式VI、VIIおよびVIIIの部分(末端基Y1、
Y2、X1、X2を除く)が、規則的順序で(即ち、ある前記部分の単独単位が
、別の前記部分の単独単位によって分離されている)存在してもよい。または半
規則的順序で(すなわち、ある前記部分の単独単位が、全てが同じ長さであると
は限らない別の部分の列によって分離されている)存在してもよい。あるいは不
規則に(すなわち、ある部分の少なくとも一部複数の単位が、同じ長さであって
も同じ長さでなくともよい他の部分の列によって分離されている)存在していて
もよい。上記の部分は好適には、エーテル基またはチオエーテル基を介して結合
されている。
およびVIIIにおける部分であって、−O−原子の一方に結合した−フェニル
−SO2または−フェニル−CO−を有する部分は、重縮合反応で形成されるポ
リマーにおいて、前述のように規則的順序で、半規則的順序で、あるいは不規則
に存在することができる。
件あるいは別個に製造されるポリマーバッチの入念な混合の結果、互いに同一で
あっても、規則的に異なっていてもよい。
リッチ(Aldrich U. K.)から)、又は通常はフリーデル−クラフ
ツ反応とそれに続く官能基の適切な誘導体化が関与する標準的な方法によって製
造することができる。本明細書に記載のモノマーの一部の製造は、文献に記載さ
れている(P M Hergenrother, B J Jensen an
d S J Havens, Polymer 29, 358 (1988) ,
H R Kricheldorf and U Delius, Macro
molecules 荷に, 517 (1989) and P A Stani
land, Bull, Soc, Chem, Belg., 98 (9−1
0) , 667 (1989) )。
化されない式VI、VIIおよび/またはVIIIの化合物が製造される可能性
があり、そのような化合物をスルホン化してから前記重縮合反応を行うことがで
きる。
%、好ましくは少なくとも97重量%、より好ましくは少なくとも98重量%;
そして好ましくは98.5重量%未満)中で行うことができる。例えば乾燥ポリ
マーを硫酸と接触させることができ、40℃より高い温度、好ましくは55℃よ
り高い温度で、少なくとも1時間、好ましくは少なくとも2時間、より好ましく
は約3時間加熱撹拌することができる。所望の生成物は、好適には冷水と接触さ
せることで沈殿させ、標準的方法によって単離することができる。スルホン化は
、米国特許第5362836号および/またはEP0041780に記載の方法
に従って行うこともできる。
の発明の態様または本明細書に記載の実施形態の特徴と組み合わせることができ
る。
、本発明の具体的な実施形態について説明する。 別段の断りがない限り、下記に記載の化学薬品は全て、シグマ−アルドリッチ
・ケミカル社(Sigma−Aldrich Chemical Compan
y, Dorset, U. K.) から入手したものをそのまま使用した。
ド、窒素導入管および排出管を取り付けた700mLフランジ付きフラスコに、
4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(89.03g、0.408モル)(BD
F)、4,4′−ジヒドロキシビフェニル(24.83、0.133モル)、4
,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン(13.35g、0.053モル)(
Bis−S)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン(45.7g、0.21
3モル)(DHB)およびジフェニルスルホン(332g)を入れ、窒素で1時
間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層流下に140℃〜150℃
で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を維持しながら、乾燥炭酸ナ
トリウム(43.24g、0.408モル)を加えた。3時間かけて320℃ま
で徐々に昇温させ、次に1.5時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒− 1 で0.39kNsm−2の溶融粘度を有していた。
b〜1eについては実施例1aの重合手順に従った。Ifについての重合手順に
ついて以下に記載する。
排出管を取り付けた700mLフランジ付きフラスコに、4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノン(89.03g、0.408モル)、4,4′−ジヒドロキシビ
フェニル(24.83g、0.133モル)、4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン(66.73g、0.267モル)およびジフェニルスルホン(33
2g)を入れ、窒素で1時間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層
流下に140℃〜150℃で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を
維持しながら、乾燥炭酸ナトリウム(42.44g、0.4モル)および炭酸カ
リウム(1.11g、0.008モル)を加えた。3時間かけて315℃まで徐
々に昇温させ、次に0.5時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒− 1 で0.62kNsm−2の溶融粘度を有していた。
類の非晶質同等物である。
で個々のポリマーを撹拌することで、実施例1a〜1fからのポリマーをスルホ
ン化した。その後、反応溶液を撹拌脱イオン水に滴下した。スルホン化ポリマー
が自由流動ビーズとして沈殿した。濾過を行い、次にpHが中性となるまで脱イ
オン水で洗浄し、その後乾燥することで回収を行った。滴定によって、ビフェニ
ル単位の100モル%がスルホン化され、ビフェニル単位を有する2個の各芳香
環上に、エーテル結合に対してオルト位の1個のスルホン酸基を与えたことを確
認した。
の実施例2a〜2fのスルホン化ポリマーから膜を製造した。得られたポリマー
を最大濃度で80℃にて溶解した。ある例では、実施例2に記載の方法に従って
スルホン化した実施例3dおよび3eに記載のポリマーの50:50(重量比)
混合物を用いて、膜を製造した。得られた均一溶液を清浄なガラス板上に注ぎ、
ステンレス製のガードナーナイフ(Gardner Knife)を用いて引き
延ばして400ミクロンの薄膜を得た。減圧下に100℃で24時間溶媒蒸発さ
せることで、平均厚さ40ミクロンの膜を製造した。
分間にわたり脱イオン水(500mL)に浸漬し、取り出し、リントフリー紙に
より短時間で乾燥させて水を除去し、秤量し、50℃の乾燥機で1日間乾燥させ
、デシケータ中で放冷して室温とし、短時間で秤量した。水取り込み%を下記の
ように計算し、結果を実施例6に示した表に載せてある。
レン(100mL)中に60分間浸漬し、取り出し、50℃の乾燥機で1日間乾
燥させた。沸騰脱イオン水(500mL)に60分間浸漬し、取り出し、リント
フリー紙により短時間で乾燥させて表面水を除去し、秤量し、50℃の乾燥機で
1日乾燥させ、デシケータ中で放冷させて室温とし、短時間で秤量した。水取り
込み%は、前述の方法に従って計算して35%であった。
従った。各膜の水取り込み%を前述のように計算し、下記の表にまとめた。
1b、1dおよび1fからのスルホン化ポリマーの結晶性指数値の測定 ある方法では、広角X先散乱(WAXS)によって行われる測定に関して「結
晶性指数」を定義することで、結晶性を定量することができる。この手法は、W
AXSパターンに関して測定を定義するものである。WAXSパターンにおける
結晶ピークの測定面積を、そのパターンの選択された角度範囲にわたっての総結
晶および非晶質散乱のパーセントとして取る。第一の近似に対しては、結晶性指
数は、広く同様のポリマー材料についての結晶性に比例するはずである。結晶性
がゼロの場合、それはゼロに制限され、結晶性が100%の場合は100%に制
限される。
アセトンにて後処理した実施例1b、1dおよび1fからのスルホン化ポリマー
の膜を、下記の要領でWAXSによって調べた。
散型検出器を用いるシーメンス(Siemens)D5000型X線回折計を用
いて行った。測定は、対称反射幾何形状で取り付けた1枚の膜シートから行った
。プログラム式発散スリットを用いて、2θ測定範囲10〜49°にわたって試
料表面6mm長の一定照射領域を維持した。
乱のみを示したが、アセトン処理前後での実施例1bおよび1dからの膜のパタ
ーンは、非晶質帯域以外に、相対的に鋭い結晶ピークを示した。
パターンを減じることで、測定されたWAXSパターンを分析した。類似してる
が非晶質薄膜から測定されたパターンおよびより結晶性の高い膜で認められるも
のに相当する1組のピーク(約18.8、20.8、22.9、29.1および
40.0° 2θ)の組み合わせによって、得られたパターンを適合させた。適
合化ピークおよび適合化非晶質パターンの合わせた面積のパーセントとして取っ
たこれらのピークによって適合させた総面積として、結晶性指数を計算した。
排出管を取り付けた700mLフランジ付きフラスコに、4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノン(89.03g、0.408モル)、4,4′−ジヒドロキシビ
フェニル(29.79g、0.16モル)、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルホン(36.04g、0.144モル)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン(20.57g、0.096モル)およびジフェニルスルホン(332g
)を入れ、窒素で1時間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層流下
に140℃〜150℃で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を維持
しながら、乾燥炭酸ナトリウム(43.24g、0.408モル)を加えた。3
時間かけて320℃まで徐々に昇温させ、次に1.5時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒− 1 で0.6kNsm−2の溶融粘度を有していた。
施例7aの重合手順に従った。モル比およびMVのまとめについては、下記の表
に詳細に示した。
ホン化およびその後の溶解 実施例7a〜fからのポリマーを実施例2に記載の方法に従ってスルホン化し
、NMPに溶解させ、10ミクロンフィルターで濾過し、清浄なガラス板上に注
ぎ、ガードナーナイフを用いて引き延ばした。溶媒を減圧下に100℃で24時
間留去して、平均厚さ40ミクロンの膜を製造した。実施例4に記載の方法に従
って、沸騰水取り込みを測定した。結果は実施例9に示した表に詳細に記載して
ある。
従った。各膜の水取り込み%を実施例4に記載の方法に従って計算した。結果は
下記の表にまとめてある。
ーの結晶性指数値の測定 実施例8cおよび8fで製造し、実施例9に記載の方法でアセトンにて後処理
した実施例7cおよび7fからのスルホン化ポリマーの膜を、前記実施例に記載
の方法に従ってWAXSによって調べた。
乱のみを示したが、アセトン処理前後での実施例7cからの膜のパターンは、非
晶質帯域以外に、相対的に鋭い結晶ピークを示した。
500mLの三頸丸底フラスコに、98%硫酸(180g)を入れ、撹拌しなが
らポリエーテルケトン(PEK(商標名)P22、ビクトレックス社(Vict
rex plc))(20g)を加えた。55℃まで昇温させ、発煙硫酸(20
%遊離SO3)(120g)を加えた。溶液を55℃で60分間撹拌した。溶液
を直ちに冷却して20℃とし、その後撹拌した脱イオン水を滴下した。スルホン
化ポリマーが自由流動ビーズとして沈殿した。濾過を行い、続いてpHが中性と
なるまで脱イオン水で洗浄し、次に乾燥することで回収を行った。滴定により、
当量は476であった。
間維持してから急冷して20℃とした以外、上記の手順を3回繰り返した。スル
ホン化ポリマーの当量は568、667および758であった。
0ミクロンフィルターで濾過し、清浄なガラス板上に注ぎ、ガードナーナイフを
用いて引き延ばした。溶媒を減圧下に100℃で24時間留去して、平均厚さ4
0ミクロンの膜を製造した。実施例4に記載の方法に従って、沸騰水取り込みを
測定した。結果は実施例11に示した表に詳細に記載してある。
順に従った。各膜の水取り込み%を実施例4に記載の方法に従って計算し、結果
は下記の表にまとめてある。
排出管を取り付けた700mLフランジ付きフラスコに、4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノン(89.03g、0.408モル)、4,4′−ジヒドロキシビ
フェニル(24.83g、0.133モル)、2,4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン(11.42g、0.053モル)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン(45.7g、0.213モル)およびジフェニルスルホン(332g)を入
れ、窒素で1時間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層流下に14
0℃〜150℃で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を維持しなが
ら、乾燥炭酸ナトリウム(43.24g、0.408モル)を加えた。3時間か
けて320℃まで徐々に昇温させ、次に1.5時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒−
1で0.80kNsm−2の溶融粘度を有していた。
の重合手順に従った。実施例12a、12bおよび12cについてのモル比およ
びMVのまとめについては、下記の表に詳細に示した。
2bおよび12cのポリマーをスルホン化し、膜作製し、評価を行い、アセトン
で後処理し、結果は下記の表に示した。
丸底フラスコに、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(11.36g、0.0
52モル)、4,4′−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ビフェニル(L
CDC)(25.17g、0.05モル)、4,4′−ジヒドロキシビフェニル
(6.21g、0.0333モル)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン(
14.28g、0.0667モル)およびジフェニルスルホン(90g)を入れ
、窒素で1時間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層流下に140
℃〜150℃で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を維持しながら
、乾燥炭酸ナトリウム(10.6g、0.1モル)および炭酸カリウム(0.2
8g、0.002モル)を加えた。3時間かけて315℃まで徐々に昇温させ、
次に1時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒− 1 で0.18kNsm−2の溶融粘度を有していた。
丸底フラスコに、4,4′−ジフルオロベンゾフェノン(11.36g、0.0
505モル)、4,4′−ジクロロジフェニルスルホン(14.36g、0.0
5モル)、4,4′−ジヒドロキシビフェニル(6.21g、0.0333モル
)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン(14.28g、0.0667モル
)およびジフェニルスルホン(83g)を入れ、窒素で1時間にわたってパージ
を行った。次に、内容物を窒素層流下に140℃〜150℃で加熱して、ほぼ無
色の溶液を形成した。窒素層流を維持しながら、乾燥炭酸ナトリウム(10.6
0g、0.1モル)および炭酸カリウム(0.28g、0.002モル)を加え
た。3時間かけて315℃まで徐々に昇温させ、次に140分間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒−
1で0.39kNsm−2の溶融粘度を有していた。
の溶解および膜作製 実施例14および15からのポリマーを実施例2に記載の方法に従ってスルホ
ン化し、別個にそれぞれ80℃および室温で15重量%にてNMPに溶解させた
。得られた均一溶液を10ミクロンフィルターで濾過し、清浄なガラス板上に注
ぎ、ガードナーナイフを用いて引き延ばして400ミクロンの薄膜を得た。溶媒
を減圧下に100℃で24時間留去した。実施例4に記載の方法に従って、各膜
について沸騰水取り込みを測定した。結果は下記の表に詳細に示した。
に従った。各膜の水取り込み%を実施例4に記載の方法に従って計算した。結果
は下記の表にまとめてある。
排出管を取り付けた700mLフランジ付きフラスコに、4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノン(89.03g、0.408モル)、4,4′−ジヒドロキシビ
フェニル(37.24g、0.20モル)、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン(42.84g、0.20モル)およびジフェニルスルホン(332g)を
入れ、窒素で1時間にわたってパージを行った。次に、内容物を窒素層流下に1
40℃〜150℃で加熱して、ほぼ無色の溶液を形成した。窒素層流を維持しな
がら、乾燥炭酸ナトリウム(43.24g、0.408モル)を加えた。3時間
かけて330℃まで徐々に昇温させ、次に1時間維持した。
ーを120℃の空気乾燥器で乾燥した。ポリマーは400℃および1000秒− 1 で0.48kNsm−2の溶融粘度を有していた。
s−S比をそれぞれ80:20、70:30および0:100とする以外、実施
例18aについて記載の方法に従って、実施例18b〜18dのポリマーを製造
する。それらのポリマーの溶融粘度は、それぞれ0.34kNsm−2、0.4
2kNsm−2および0.43kNsm−2であった。
8dのポリマーをスルホン化し、膜作製し、評価を行い、アセトンで後処理し、
結果は下記の表に示した。
500mLの三頸丸底フラスコに、98%硫酸(180g)を入れた。その硫酸
を窒素層流下に50℃まで加熱した。窒素層流の維持および撹拌を行いながら、
ポリエーテルケトン(PEEK(商標名)450P、ビクトレックス社)を加え
た。ポリマーは溶解し、それを50℃で90分間撹拌した。溶液を直ちに冷却し
て20℃とし、その後撹拌した脱イオン水を滴下した。スルホン化ポリマーが自
由流動ビーズとして沈殿した。濾過を行い、続いてpHが中性となるまで脱イオ
ン水で洗浄し、次に乾燥することで回収を行った。滴定により、当量は644で
あった。上記のスルホン化ポリマーをNMPに溶かし(15重量%)、10ミク
ロンフィルターで濾過し、清浄なガラス板上に注ぎ、ガードナーナイフを用いて
引き延ばした。溶媒を減圧下に100℃で24時間留去して、平均厚さ40ミク
ロンの膜を製造した。沸騰水中では、その膜は過度に膨潤して、破壊して細片と
なった。
。沸騰水中、膜は損傷を受けず、水取り込み%は実施例4に記載の方法での計算
で127%であった。
テルスルホンをN−メチルピロリドン(NMP)に、下記の表に示した濃度で溶
かした。得られた均一溶液を清浄なガラス板上に注ぎ、ステンレス製ガードナー
ナイフを用いて引き延ばした。溶媒を減圧下に100℃で24時間留去して、厚
さ400ミクロンの薄膜を得た。減圧下で24時間にわたり100℃で溶媒留去
することで、平均厚さ40ミクロンの膜を製造した。
記の表に詳細に示してある。 得られた膜を還流アセトンに浸漬した以外、実施例5の手順に従った。各膜に
ついての沸騰水取り込みを、実施例4に記載の方法に従って測定した。結果は下
記の表に詳細に示してある。
外、実施例22の手順に従った。実施例4に記載の方法に従って沸騰水取り込み
を測定し、膜を還流アセトンに浸漬した以外、実施例5の手順に従った。結果を
以下に表に示した。
れ、本明細書とともに公開された全ての論文および文書に向いているが、そのよ
うな全ての論文および文書の内容は、参照によって本明細書に組み込まれるもの
とする。
特徴および/またはそのように開示された方法またはプロセスの全ての工程は、
そのような特徴および/または工程の少なくとも一部が互いに排除する組み合わ
せを除き、いかなる組み合わせでも組み合わせることができる。
は、別段の明瞭な断りがない限り、同一、等価または類似の目的に寄与する別の
特徴によって置き換えることが可能である。従って、別段の明瞭な断りがない限
り、開示の各特徴は、包括的な一連の等価または類似の特徴の1例に過ぎない。
書(添付の特許請求の範囲、要約書および図面を含む)に開示の特徴のあらゆる
新規なものまたは新規な組み合わせ、あるいは開示の方法もしくはプロセスの工
程のあらゆる新規なものまたは新規な組み合わせに適用されるものである。
Claims (19)
- 【請求項1】 少なくともある程度の結晶性を有し又は結晶可能である第一
のイオン伝導性ポリマー材料を結晶性を高める手段をもって処理する工程を有す
るイオン伝導性材料の製造方法において、このように処理される第一のイオン伝
導性ポリマー材料が前記イオン伝導性材料の組成物であることを特徴とする方法
。 - 【請求項2】 前記処理イオン伝導性材料における結晶性のレベルが、前記
第一のポリマー材料における結晶性のレベルより少なくとも1%高い請求項1に
記載の方法。 - 【請求項3】 前記結晶性レベルが少なくとも5%高い請求項2に記載の方
法。 - 【請求項4】 前記結晶性向上手段が実質的に乾燥状態である場合に、前記
第一のイオン伝導性ポリマー材料を加熱する工程を有する請求項1〜3のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項5】 前記結晶性向上手段は、前記第一のイオン伝導性ポリマー材
料を結晶性向上溶媒によって処理することを含む請求項1〜4のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項6】 前記溶媒が極性非プロトン性溶媒である請求項5に記載の方
法。 - 【請求項7】 処理前後での水に対する前記材料の感受性における差が少な
くとも5%である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、−CO−および/
または−Q−基によって結合された部分を有した芳香族基を有する反復単位を有
し、Qが−O−または−S−を表す請求項1〜7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、下記式の部分 【化1】 と、下記式の部分 【化2】 と、下記式の部分 【化3】 とのうちの少なくとも1つを有し、上記式中、単位I、II及びIIIのうちの
少なくとも1つにおける少なくとも一部は官能化されてイオン交換部位を提供し
、単位I、IIおよびIIIにおけるフェニル部分は独立に置換され、或いは架
橋されていてもよく、前記材料は結晶可能であるか結晶性を有し、m、r、s、
t、v、wおよびzは独立にゼロまたは正の整数を表し、E,E′は独立に、酸
素もしくは硫黄原子または直接結合を表し、Gは酸素もしくは硫黄原子、直接結
合または−O−Ph−O−部分を表し、Phはフェニル基を表し、Arは、1以
上のフェニル部分を介して隣接部分に結合した下記の部分(i)*、(i)〜(
x) 【化4】 のいずれかから選択される請求項1〜8のいずれかに記載の方法。 - 【請求項10】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料をスルホン化する請
求項1〜9のいずれかに記載の方法。 - 【請求項11】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、 下記一般式の反復単位を有するホモポリマー 【化5】 または下記一般式の反復単位を有するホモポリマー 【化6】 または下記一般式の反復単位を有するホモポリマー 【化7】 または下記一般式の反復単位を有するホモポリマー 【化8】 または少なくとも2種類の異なる単位であるIV及びV、又は異なる単位IV * 及びV*のランダムポリマー若しくはブロックコポリマーであり、上記式中、
A、B、CおよびDは独立に0または1を表し、E,E′は独立に酸素もしくは
硫黄原子または直接結合を表し、Gは酸素もしくは硫黄原子、直接結合または−
O−Ph−O−部分を表し、m、r、s、t、v、wおよびzは独立にゼロまた
は正の整数を表す、請求項1〜10のいずれかに記載の方法。 - 【請求項12】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、官能化されてイ
オン交換部位を与える複数フェニレン部分と縮合環芳香族部分との少なくとも一
方を有する請求項1〜11のいずれかに記載の方法。 - 【請求項13】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が−O−ビフェニレ
ン−O−部分又は−O−ナフタレン−O−部分を有する請求項1〜12のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項14】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、そのポリマー鎖
に少なくともいくつかのケトン部分を有する請求項1〜13のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項15】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料が、 (a)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(i
v)の部分を表し、mおよびsがゼロを表し、wが1を表し、AおよびBが1を
表す式IVの単位と、 (b)Eが酸素原子を表し、E′が直接結合を表し、Arが構造(i)の部分
を表し、mがゼロを表し、Aが1を表し、Bがゼロを表す式IVの単位と、 (c)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(i
v)の部分を表し、mおよびvがゼロを表し、zが1を表し、CおよびDが1を
表す式Vの単位と、 (d)Eが酸素原子を表し、E′が直接結合を表し、Arが構造(ii)の部
分を表し、mが0を表し、Cが1を表し、Dが0を表す式Vの単位と、 (f)EおよびE′が酸素原子を表し、Arが構造(i)を表し、mが0を表
し、Cが1を表し、Zが1を表し、Gが直接結合を表し、vが0を表し、Dが1
を表す式Vの単位と、 (dd)Eが酸素原子を表し、E′が直接結合を表し、Arが構造(i)*を
表し、mが0を表し、Aが1を表し、Bが0を表す式IVの単位と、 (ee)EおよびE′が酸素原子を表し、Arが構造(iv)を表し、mおよ
びwが0を表し、Gが直接結合を表し、sおよびrが1を表し、AおよびBが1
を表す式IVの単位と、 (ff)EおよびE′が酸素原子を表し、Arが構造(i)を表し、mおよび
wが0を表し、Gが直接結合を表し、sおよびrが1を表し、AおよびBが1を
表す式IVの単位とから選択された第一の反復単位と、 (f)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(i
v)を表し、mが1を表し、wが1を表し、sがゼロを表し、AおよびBが1を
表す式IVの単位と、 (g)Eが酸素原子を表し、E′が直接結合を表し、Gが直接結合を表し、A
rが構造(iv)を表し、mおよびsがゼロを表し、wが1を表し、AおよびB
が1を表す式IVの単位と、 (h)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(i
v)を表し、mが1を表し、zが1を表し、vが0を表し、CおよびDが1を表
す式Vの単位と、 (i)Eが酸素原子を表し、E′が直接結合を表し、Gが直接結合を表し、A
rが構造(iv)を表し、mおよびvがゼロを表し、zが1を表し、CおよびD
が1を表す式Vの単位と、 (j)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(v
)を表し、mが0を表し、wが1を表し、sが0を表し、AおよびBが1を表す
式IVの単位; (k)EおよびE′が酸素原子を表し、Gが直接結合を表し、Arが構造(v
)を表し、mが0を表し、zが1を表し、vが0を表し、CおよびDが1を表す
式Vの単位とから選択された第二の反復単位とからなるコポリマーである請求項
1〜14のいずれかに記載の方法。 - 【請求項16】 前記第一のイオン伝導性ポリマー材料を含む前駆体膜を製
造する工程と、次に前記前駆体膜を前記結晶性向上手段で処理する工程とを有す
る請求項1〜15のいずれかに記載の方法。 - 【請求項17】 触媒材料と前記イオン伝導性材料とを組み合わせる工程か
らなる請求項1〜16のいずれかに記載の方法。 - 【請求項18】 請求項1〜17のいずれかに記載の方法で製造されるイオ
ン伝導性材料。 - 【請求項19】 触媒材料及び電極の少なくとも一方を、請求項1〜17の
いずれかに記載の方法で製造されるイオン伝導性膜と組み合わせる工程を有する
膜電極アセンブリ(MEA)の製造方法。
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