JP2003527456A - 金属を腐食から保護する方法と、その実施のための非汚染反応性調製物 - Google Patents
金属を腐食から保護する方法と、その実施のための非汚染反応性調製物Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、金属製品を腐食から保護する方法に関するものであって、少なくとも、被膜形成結合剤と、金属と反応する少なくとも1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つのオリゴマー添加剤とで形成される調製物を金属製品に直接に、すなわちいかなる予備処理もなしに塗布することを特徴とする。また、本発明にかかる調整物は、被膜形成結合剤と、金属と反応する少なくとも1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つのオリゴマー添加剤とを含むことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属表面を腐食から保護するのに使用可能な新
しい高分子化合物、その合成および特に塗料用結合材との混合によるその使用に
関するものである。
しい高分子化合物、その合成および特に塗料用結合材との混合によるその使用に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】ホスホン化群およびフッ素化群をもつ重合体または共重合体がす
でに知られている。特に特許BE09400881で説明されているこのような
生成物は、少なくとも1つのホスホン化鎖が不飽和単量体を介して固定される少
なくとも1つの過酸化物基および/またはヒドロペルオキシド基によって活性化
されるハロゲン化重合体および/または共重合体から得られる。
でに知られている。特に特許BE09400881で説明されているこのような
生成物は、少なくとも1つのホスホン化鎖が不飽和単量体を介して固定される少
なくとも1つの過酸化物基および/またはヒドロペルオキシド基によって活性化
されるハロゲン化重合体および/または共重合体から得られる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記特許で説明されている生成物は金属表面の
保護を可能にするが、多数の欠点を有している。
保護を可能にするが、多数の欠点を有している。
【0004】従来の技術で説明されている生成物の第一の欠点は、その合成にあ
たり、市販のポリフッ化ビニリデン(PVDF)タイプのハロゲン化重合体およ
び/または共重合体等の基本生成物から出発する必要があることである。ところ
で、こうした市販製品は非常に手の込んだものであるので、値段が非常に高い。
このことは最終製品のコストを押し上げる原因となっている。
たり、市販のポリフッ化ビニリデン(PVDF)タイプのハロゲン化重合体およ
び/または共重合体等の基本生成物から出発する必要があることである。ところ
で、こうした市販製品は非常に手の込んだものであるので、値段が非常に高い。
このことは最終製品のコストを押し上げる原因となっている。
【0005】別の欠点は、重合体および/または共重合体が熱可塑性であるとい
うこと、つまり熱に感じやすいということである。
うこと、つまり熱に感じやすいということである。
【0006】第三の欠点は、電子ビームまたはオゾンによる活性化は費用のかか
る方法であることである。
る方法であることである。
【0007】さらに別の欠点は、上記文献で説明されている方法では、金属の保
護時間に幅をもたせることができないことである。
護時間に幅をもたせることができないことである。
【0008】ところで、業界では、金属部品をその使用前に一時的に保護するこ
とを望んでいる、あるいは金属部品の後日の使用に応じて多少なりとも長い保護
を望んでいる。つまり、保護された部品を数ヶ月の間ストックしておくことがで
き、そしてそのストックの期間後に使用できることを欲している。
とを望んでいる、あるいは金属部品の後日の使用に応じて多少なりとも長い保護
を望んでいる。つまり、保護された部品を数ヶ月の間ストックしておくことがで
き、そしてそのストックの期間後に使用できることを欲している。
【0009】また、ホスホン化群、被膜形成群および網目状化可能な群をもつ重
合体または共重合体も知られている。
合体または共重合体も知られている。
【0010】リンを含む共重合体の合成についての現在の技術は次のように要約
できる。
できる。
【0011】下記特許で説明されている、次の化学式のアクリル酸塩であるリン
酸化単量体
酸化単量体
【0012】これらの生成物の欠点は、まず第一に加水分解(C−O−P結合)
に対する不安定さと、次に1を超える二重反応性結合における官能基数である。
したがって、当然のことながらこれらの生成物は溶媒和塗料分野から除外される
。
に対する不安定さと、次に1を超える二重反応性結合における官能基数である。
したがって、当然のことながらこれらの生成物は溶媒和塗料分野から除外される
。
【0013】下記特許で説明されている、複数のタイプであるホスホン化単量体
【0014】それらの主な欠点は、価格に加えて、重合における反応性が非常に
悪いことである。
悪いことである。
【0015】下記特許で説明されている、スチレン系
【0016】これらの生成物の欠点は、その合成が難しいこと、および価格が非
常に高いことである。
常に高いことである。
【0017】下記特許で説明されている、アクリル酸塩系
【0018】これらの生成物については、得られた生成物が化学的に不安定であ
る恐れがある。さらに、アルデヒドや特に合成に不可欠なホルマリンの使用と排
出が環境面で非常に非難されている。
る恐れがある。さらに、アルデヒドや特に合成に不可欠なホルマリンの使用と排
出が環境面で非常に非難されている。
【0019】下記特許で説明されている、フルオロホスホン化系
【0020】それらの欠点は、ラジカル重合における反応性が悪いこと、および
予備合成が非常に複雑であることである。
予備合成が非常に複雑であることである。
【0021】通常の塗料は、金属上に被膜を形成する被膜形成生成物と、1つま
たは複数の溶剤と、顔料および/または染料で構成されており、常温もしくはそ
れ以上の温度で固まる。これらの塗料は、金属に酸化、不純物および/または汚
れのないときに、あるいはたとえばリン酸塩処理とその後のクロム酸塩処理によ
る金属の防食処理後に、金属に直接に塗布される。この防食処理に用いられる生
成物は、有毒である重金属の派生物や非常に揮発性の高い溶剤を含んでいる。し
たがって、これらの処理は人の健康に対しても、環境に対しても有害である。
たは複数の溶剤と、顔料および/または染料で構成されており、常温もしくはそ
れ以上の温度で固まる。これらの塗料は、金属に酸化、不純物および/または汚
れのないときに、あるいはたとえばリン酸塩処理とその後のクロム酸塩処理によ
る金属の防食処理後に、金属に直接に塗布される。この防食処理に用いられる生
成物は、有毒である重金属の派生物や非常に揮発性の高い溶剤を含んでいる。し
たがって、これらの処理は人の健康に対しても、環境に対しても有害である。
【0022】また、現在の技術の一部をなしているものとして下記特許を挙げる
ことができる。 *水媒質においていくつかのテロマーを合成する方法であって、かつリン化添加
剤を予定している方法について説明しているEP 0 516 346。 *ポリエステルの代わりとなるいくつかのホスホン群を確たる意図もなしにほぼ
ランダムに挙げているEP 0 277 711。しかし、追求されているのは
ホスホネートではなく、とりわけアミンである。 *有機ホスホネートのことではなく、リン酸無機亜鉛添加剤のことをほのめかし
ているEP 0 035 316。
ことができる。 *水媒質においていくつかのテロマーを合成する方法であって、かつリン化添加
剤を予定している方法について説明しているEP 0 516 346。 *ポリエステルの代わりとなるいくつかのホスホン群を確たる意図もなしにほぼ
ランダムに挙げているEP 0 277 711。しかし、追求されているのは
ホスホネートではなく、とりわけアミンである。 *有機ホスホネートのことではなく、リン酸無機亜鉛添加剤のことをほのめかし
ているEP 0 035 316。
【0023】本発明は防食保護および金属上への付着を確保する性質を有する処
理方法と調製物に関するものであるが、すべての予備処理、特にリン酸塩処理と
クロム酸塩処理による防食処理を無くしたものである。
理方法と調製物に関するものであるが、すべての予備処理、特にリン酸塩処理と
クロム酸塩処理による防食処理を無くしたものである。
【0024】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は金属製品を腐食から保護する
方法であって、少なくとも、被膜形成結合剤と、金属と反応する少なくとも1つ
の腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つのオリゴマー添加剤と
で形成される調製物を金属製品に直接に、すなわちいかなる予備処理もなしに塗
布することを特徴とする方法を目的とする。
方法であって、少なくとも、被膜形成結合剤と、金属と反応する少なくとも1つ
の腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つのオリゴマー添加剤と
で形成される調製物を金属製品に直接に、すなわちいかなる予備処理もなしに塗
布することを特徴とする方法を目的とする。
【0025】本方法のその他の特徴によれば、処理すべき金属製品が、スケール
層が形成されない程度に過度に酸化した表面を有する場合において、その表面の
酸化物を、必ずしも絶無にする必要はないが、微量にするために大雑把にブラッ
シングしてから、上記調製物を塗布する。
層が形成されない程度に過度に酸化した表面を有する場合において、その表面の
酸化物を、必ずしも絶無にする必要はないが、微量にするために大雑把にブラッ
シングしてから、上記調製物を塗布する。
【0026】また、処理すべき金属製品が、その表面に過度に脂分が付着してい
る場合において、その表面の脂分を、必ずしも絶無にする必要はないが、微量に
するために大雑把にクリーニングしてから、上記調製物を塗布する。
る場合において、その表面の脂分を、必ずしも絶無にする必要はないが、微量に
するために大雑把にクリーニングしてから、上記調製物を塗布する。
【0027】また本発明は、結合剤および少なくとも1つの添加剤を含む、金属
製品を腐食から保護するための調製物であって、被膜形成結合剤と、金属と反応
性する少なくとも1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つ
のオリゴマー添加剤とを含むことを特徴とする調製物も目的とする。
製品を腐食から保護するための調製物であって、被膜形成結合剤と、金属と反応
性する少なくとも1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つ
のオリゴマー添加剤とを含むことを特徴とする調製物も目的とする。
【0028】その他の特徴によれば、この調製物はさらに1つまたは複数の着色
添加剤を含む。
添加剤を含む。
【0029】また、この調製物はさらに1つまたは複数の湿潤剤を含む。
【0030】また、かかる湿潤剤は下記のものから選ばれる少なくとも1つの成
分から形成される。 ⇒ ホスホン酸エトキシルアルキルおよびアリール ⇒ フッ素炭化物誘導体 ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニア ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸カリウム ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸アミノアルコール ⇒ ペルフルオロアルキルアクリル酸塩
分から形成される。 ⇒ ホスホン酸エトキシルアルキルおよびアリール ⇒ フッ素炭化物誘導体 ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニア ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸カリウム ⇒ ペルフルオロアルキルスルホン酸アミノアルコール ⇒ ペルフルオロアルキルアクリル酸塩
【0031】また、上記添加剤は結合剤と相溶しやすい鎖状重合体をもつ。
【0032】また、上記添加剤は結合剤と相溶しやすいシーケンスまたは側鎖を
もつブロックまたはグラフト統計共重合体である。
もつブロックまたはグラフト統計共重合体である。
【0033】また、上記添加剤は結合剤と相溶しやすい少なくとも1つの単量体
と、少なくとも1つのホスホン化単量体との共重合体である。
と、少なくとも1つのホスホン化単量体との共重合体である。
【0034】また、上記結合剤と相溶しやすい単量体は鎖状重合可能であり、メ
タクリル酸アクリル系、スチレン系、塩化ビニル、フッ化ビニルまたはビニルエ
ステルから選ばれる。
タクリル酸アクリル系、スチレン系、塩化ビニル、フッ化ビニルまたはビニルエ
ステルから選ばれる。
【0035】また、上記結合剤と相溶しやすい単量体は、重縮合可能な単量体、
ジオールまたは二酸エポキシドから選ばれる。
ジオールまたは二酸エポキシドから選ばれる。
【0036】また、上記調製物はホスホン酸基を含む。
【0037】また、上記反応性添加剤はホスホン酸塩またはリン酸塩であり、そ
れらの鎖状分子は炭化水素化されるか、あるいはフッ素化されるか、もしくはク
ロロフッ素化される。
れらの鎖状分子は炭化水素化されるか、あるいはフッ素化されるか、もしくはク
ロロフッ素化される。
【0038】また、上記反応性添加剤は下記のものから選ばれる少なくとも1つ
の成分によって形成される。 ⇒ ホスホン酸またはホスホン酸アルキル ⇒ リン酸 ⇒ アミノトリメチレンホスホン酸 ⇒ 1−ヒドロキシエチリデン−1−1−ジホスホン酸 ⇒ エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ⇒ ヘクサメチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ⇒ ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸
の成分によって形成される。 ⇒ ホスホン酸またはホスホン酸アルキル ⇒ リン酸 ⇒ アミノトリメチレンホスホン酸 ⇒ 1−ヒドロキシエチリデン−1−1−ジホスホン酸 ⇒ エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ⇒ ヘクサメチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ⇒ ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸
【0039】
【実施の態様】本発明は、非限定的な参考例としてのみ示されている以下の詳細
な説明を読むことによってより良く理解されるであろう。
な説明を読むことによってより良く理解されるであろう。
【0040】本発明の調製物の処方で用いられる生成物のうち、下記のものを挙
げることができる。
げることができる。
【0041】A)被膜形成結合剤 これは塗料で用いられる不飽和単量体から得
られた単独重合体および共重合体である。これらの単量体は、ビニル、アクリル
、スチレン、ジエン、ハロゲンといったタイプのものであるか、あるいは専門家
によく知られているタイプのものである。
られた単独重合体および共重合体である。これらの単量体は、ビニル、アクリル
、スチレン、ジエン、ハロゲンといったタイプのものであるか、あるいは専門家
によく知られているタイプのものである。
【0042】反応性結合剤の場合には、反応性は(もっとも多くの場合)カルボ
キシル基によってもたらされるが、ホスホン化基によってももたらされる。この
ことは結合材を本発明の添加剤とより相溶しやすくさせる。
キシル基によってもたらされるが、ホスホン化基によってももたらされる。この
ことは結合材を本発明の添加剤とより相溶しやすくさせる。
【0043】ホスホン基は反応性添加剤について下記で述べる単量体によっても
たらされる。
たらされる。
【0044】B)反応添加剤 これはモル質量の小さい(数1000未満および
好ましくは1000近くの)分子化合物または高分子化合物である。
好ましくは1000近くの)分子化合物または高分子化合物である。
【0045】一方、これらの添加剤はすべてリン化基(好ましくはホスホン基)
をもつ。それらの主な役割は金属とその表面において反応することである。それ
故に、酸基(P−OH)が必要最小限である。
をもつ。それらの主な役割は金属とその表面において反応することである。それ
故に、酸基(P−OH)が必要最小限である。
【0046】3つの大きなクラスの添加剤が想定可能である。
【0047】ホスホン化アルカンまたはアルケン。これらの生成物は鎖の端にお
いておよび/または鎖の内側において1つまたは複数のホスホン基を有する。
いておよび/または鎖の内側において1つまたは複数のホスホン基を有する。
【0048】下記化学式が可能である。
●モノホスホン化合物:
ここに、Q=何もなしかSCxH2xである。なお、x=2,3。
すべての場合において、R=H、あるいはアルキル
●ジホスホン化合物およびテレシェリック化合物:
ここに、R=H、アルキル
Z’はモノホスホン化合物について先に説明した基に類似している。
Zは非共役ジエン(たとえばジビニルベンゼンまたはヘクサジエン1−5)から
のアルキレンまたはアリレン。 ●ポリホスホン化合物: 構造は複数のホスホン基を含みうる(≧2)。たとえば、PBHTから次の化
学式をもつ。 ここに、R=Hまたはアルキル。 参考文献:
のアルキレンまたはアリレン。 ●ポリホスホン化合物: 構造は複数のホスホン基を含みうる(≧2)。たとえば、PBHTから次の化
学式をもつ。 ここに、R=Hまたはアルキル。 参考文献:
【0049】すべてホスホン系の統計テロマーおよびコテロマー。構造はそれぞ
れ次のとおりである。 R−(M1)n−X ここにn≧2 および R−(M1)x−(M2)y−X ここにx≧2(統計的)
れ次のとおりである。 R−(M1)n−X ここにn≧2 および R−(M1)x−(M2)y−X ここにx≧2(統計的)
【0050】ホスホン基はビニル、アリル、アクリルまたはスチレン単量体から
か、あるいはホスホネートタイプのテロジェン剤(R−X)(アルキルまたはハ
ロジェノアルキル)からもたらされる。
か、あるいはホスホネートタイプのテロジェン剤(R−X)(アルキルまたはハ
ロジェノアルキル)からもたらされる。
【0051】コモノマーM2はすべて専門家によく知られている、共重合で一般
に用いられるものである。いくつかの例は次のとおりである。 ここに、R=H、アセテートビニルからのアルキル ここに、R=H、アセテートアリルからのアルキル ● メタクリレートメチル(MMA)やメタクリレートホスホン化メチル(M
APHOS)から、ラジカル反応によっておよび加水分解後に、次の化学式の不
規則コポリマーを得る。
に用いられるものである。いくつかの例は次のとおりである。 ここに、R=H、アセテートビニルからのアルキル ここに、R=H、アセテートアリルからのアルキル ● メタクリレートメチル(MMA)やメタクリレートホスホン化メチル(M
APHOS)から、ラジカル反応によっておよび加水分解後に、次の化学式の不
規則コポリマーを得る。
【0052】ブロックホスホンコテロマー。コントロールされたラジカル重合に
おける最近の進歩によって、ブロック重合へのアクセスが可能
おける最近の進歩によって、ブロック重合へのアクセスが可能
【0053】メタクリル誘導体の場合には、次の2つの方法が用いられた。
− 原子移動によるラジカル重合(ATRP)
MMAやMAPHOSを用いた例:
− チウランヌ(thiuranne)では、先と同様のコテロマーは次のよう
にして得られる。 参考文献:フォトイニファーター(photoiniferter)としてピペ
リジノ−ジチオカルバメート誘導体が存在する中でのMMAのリビングラジカル
にして得られる。 参考文献:フォトイニファーター(photoiniferter)としてピペ
リジノ−ジチオカルバメート誘導体が存在する中でのMMAのリビングラジカル
【0054】C)防食添加剤
− 改変されたオルトリン酸亜鉛、カルシウム、ストロンチウム
− 改変されたオルトリン酸亜鉛、アルミニウム
− 改変された有機オルトリン酸亜鉛
− 改変されたオルトリン酸亜鉛、モリブデン
− 改変されたホスフェート、ケイ酸亜鉛、水和アルミニウム
− 改変されたポリホスフェート亜鉛、カルシウム、アルミニウム、ストロンチ
ウム − その他
ウム − その他
【0055】D)その他の添加剤 無機顔料
:
アルミニウム、雲母、ガラス片、タルク、酸化チタン、酸化鉄、硫酸バリウム
、クロム緑、グラファイト、シリカ、ケイ酸塩など。有機顔料 : キナクリドン、ピラゾロン、イソニドリン、キノフタロン、フタロシアニン、
インダトーンなど。 − 界面活性剤: − ホスホネートエトキシルアルキルおよびアリール − 過フッ化炭化水素誘導体 − ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニア − ペルフルオロアルキルスルホン酸カリウム − ペルフルオロアルキルスルホン酸アミノアルコール − ペルフルオロアルキルアクリル酸塩
、クロム緑、グラファイト、シリカ、ケイ酸塩など。有機顔料 : キナクリドン、ピラゾロン、イソニドリン、キノフタロン、フタロシアニン、
インダトーンなど。 − 界面活性剤: − ホスホネートエトキシルアルキルおよびアリール − 過フッ化炭化水素誘導体 − ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニア − ペルフルオロアルキルスルホン酸カリウム − ペルフルオロアルキルスルホン酸アミノアルコール − ペルフルオロアルキルアクリル酸塩
【0056】本発明は、後述する詳細によってよりよく理解することができるが
、それらは例示に過ぎず、それらに限定されるものではない。
、それらは例示に過ぎず、それらに限定されるものではない。
【0057】
本発明によって、コーティングや塗装の実施を単純化することができるとともに
、使用する結合剤と添加剤間の諸性質のシナジー効果を利用することができる。
とりわけ、結合剤が良好なバリア性質を有しているならば、また添加剤が非常に
良好な、金属への付着性を有しているならば、得られる生成物は素晴らしい耐食
性を有する。
、使用する結合剤と添加剤間の諸性質のシナジー効果を利用することができる。
とりわけ、結合剤が良好なバリア性質を有しているならば、また添加剤が非常に
良好な、金属への付着性を有しているならば、得られる生成物は素晴らしい耐食
性を有する。
【0058】重合体間の相溶性はかなり稀な特性であるので、同じ種類の重合体
の組み合わせを用いるか、あるいは非常に近い種類の、すなわち、いくつかの新
しい単位をもちうることになろうとも、分子サイズまたは組成において異なって
いるが大半の特性において結合材の特性と共通している重合体の組み合わせを用
いる。
の組み合わせを用いるか、あるいは非常に近い種類の、すなわち、いくつかの新
しい単位をもちうることになろうとも、分子サイズまたは組成において異なって
いるが大半の特性において結合材の特性と共通している重合体の組み合わせを用
いる。
【0059】ホスホン化単量体は、重合可能な二重結合と、この単量体の側鎖に
C−P結合によって結びつくホスホン基とをもつ。同様に、ポリ縮合可能な単量
体は、単量体の側鎖にC−P結合によって結びつくホスホネート基をもつ。
C−P結合によって結びつくホスホン基とをもつ。同様に、ポリ縮合可能な単量
体は、単量体の側鎖にC−P結合によって結びつくホスホネート基をもつ。
【0060】例として、次の化学式のスチレン単量体を挙げることができる。
ここに、RおよびR’は類似のものであってもよいし、異なっているものであっ
てもよいし、等しいものであってもよい。
てもよいし、等しいものであってもよい。
【0061】また、次の化学式のアクリル単量体を挙げることもできる。
ここに、RおよびR’は類似のものであってもよいし、異なっているものであっ
てもよい。
てもよい。
【0062】反応添加剤も、ATOCHEM社の、PBHT等の市販のオリゴマ
ーを化学的に改変することから得ることができる。 ここに、Z=何もなしかS−CH2−CH2である。
ーを化学的に改変することから得ることができる。 ここに、Z=何もなしかS−CH2−CH2である。
【0063】先に説明したホスホン添加剤は酸の形のもとでのみ効果的である。
【0064】ホスホンエステルの化学変化は、それが単量体上であろうとも共重
合体上であろうとも、専門家によく知られており、酸性媒質または塩基性媒質に
て実施されることによって一酸のホスホン酸を得ることができるか、あるいはハ
ロジェノシランを使用することによって次の反応から二酸のホスホン酸を調製す
ることができる。
合体上であろうとも、専門家によく知られており、酸性媒質または塩基性媒質に
て実施されることによって一酸のホスホン酸を得ることができるか、あるいはハ
ロジェノシランを使用することによって次の反応から二酸のホスホン酸を調製す
ることができる。
【0065】
【実施例】非限定的な例として示されている以下の説明を読むことによって、本
発明の実施方法をより良く理解することができる。
発明の実施方法をより良く理解することができる。
【0066】実施例1:MMA/MAPHOS 55/45共重合体の合成
【0067】水冷却器と、窒素ビュラージュ装置と、臭素瓶とを備えた1リット
ルのトリコル(tricol)の中に、MMAを20.0g(0.2モル)、M
APHOSを44.4g(0.2モル)、THFを400ml入れる。また、臭
素瓶の中に、100mlのTHFで溶かした1.968gのAIBNを入れる。
ルのトリコル(tricol)の中に、MMAを20.0g(0.2モル)、M
APHOSを44.4g(0.2モル)、THFを400ml入れる。また、臭
素瓶の中に、100mlのTHFで溶かした1.968gのAIBNを入れる。
【0068】反応性混合液を15分間ガス抜きし、それを70℃に過熱する。次
に、30mlの重合開始剤を1滴ずつ加える。2時間後、30mlの重合開始剤
を再度1滴ずつ注ぐ。最後に、4時間後、重合開始剤の残り分を1滴ずつ注ぐ。
に、30mlの重合開始剤を1滴ずつ加える。2時間後、30mlの重合開始剤
を再度1滴ずつ注ぐ。最後に、4時間後、重合開始剤の残り分を1滴ずつ注ぐ。
【0069】反応から6時間後、4リットルのペンタンの中で反応性混合液を沈
殿させる。このようにして得られた共重合体を濾過し、それを200mlのジク
ロロメタンで可溶化する。再度、4リットルのペンタンの中で沈殿させる。濾過
後に、かくして、非常に吸湿性の高い、細かい白い粉が得られる。それを真空フ
ラスコの中で4時間乾燥させる。このようにして59.8gの共重合体が得られ
る。すなわち93%の収率である。
殿させる。このようにして得られた共重合体を濾過し、それを200mlのジク
ロロメタンで可溶化する。再度、4リットルのペンタンの中で沈殿させる。濾過
後に、かくして、非常に吸湿性の高い、細かい白い粉が得られる。それを真空フ
ラスコの中で4時間乾燥させる。このようにして59.8gの共重合体が得られ
る。すなわち93%の収率である。
【0070】RMN−1H(CDCl3)分析は、MMAを54%、MAPHO
Sを46%含む共重合体の組成を確認している。
Sを46%含む共重合体の組成を確認している。
【0071】実施例2:MMA−MAPHOS 55/45共重合体の加水分解
水冷却器と、窒素ビュラージュ装置と、臭素瓶とを備えた1リットルのトリコ
ルの中に、500mlのジクロロメタンで溶けている状態の、例1から得られた
共重合体を59.8g(0.37モル)入れる。この溶液を25分間ガス抜きし
、次に、窒素のもとで蒸留されたばかりの53ml(0.41モル)のブロモト
リメチルシランを1滴ずつ加える。室温で3時間攪拌する。
ルの中に、500mlのジクロロメタンで溶けている状態の、例1から得られた
共重合体を59.8g(0.37モル)入れる。この溶液を25分間ガス抜きし
、次に、窒素のもとで蒸留されたばかりの53ml(0.41モル)のブロモト
リメチルシランを1滴ずつ加える。室温で3時間攪拌する。
【0072】反応が終了したならば、溶媒をロタベーパー(rotavapor
)で蒸発させる。次に、さらにメタノール(500ml)を加える。室温で3時
間攪拌する。そして再度、溶媒を蒸発させる。このようにして黄色がかったペー
スト状の、加水分解された、58.8gの共重合体が得られる。
)で蒸発させる。次に、さらにメタノール(500ml)を加える。室温で3時
間攪拌する。そして再度、溶媒を蒸発させる。このようにして黄色がかったペー
スト状の、加水分解された、58.8gの共重合体が得られる。
【0073】実施例3:MMA/ホスホンスチレン共重合体の合成
MMAとは、メタクリレートメチルであり、ホスホンスチレンの化学式は次の
とおりである。
とおりである。
【0074】これらの生成物はすでに説明された。参考文献:Eur.Poly
m.
m.
【0075】実施例4:スチレン−ブタジエン共重合体へのホスホンチオール HS−(CH2)3−P
O(OEt)2のグラフト化 3リットルのフラスコの中に、FINAPREN 502を10g、ホスホン
チオールを2.76g、700mlのTHFで溶かしたベンゾフェノンを0.1
g入れる。この溶液を15分間窒素でガス抜きする。そして、反応性混合液を2
4時間紫外線にかける。
O(OEt)2のグラフト化 3リットルのフラスコの中に、FINAPREN 502を10g、ホスホン
チオールを2.76g、700mlのTHFで溶かしたベンゾフェノンを0.1
g入れる。この溶液を15分間窒素でガス抜きする。そして、反応性混合液を2
4時間紫外線にかける。
【0076】溶液からゲルが形成されたことが分かる。このゲルを合計2.5リ
ットルのTHFで再度可溶化する。反応が終了したならば、溶液を700mlに
濃縮し、4リットルのメタノールの中で沈殿させる。得られた白い沈殿物を濾過
し、洗い、真空下で乾燥させる。このようにしてグラフト共重合体を弾性ゴムの
形で単離する。
ットルのTHFで再度可溶化する。反応が終了したならば、溶液を700mlに
濃縮し、4リットルのメタノールの中で沈殿させる。得られた白い沈殿物を濾過
し、洗い、真空下で乾燥させる。このようにしてグラフト共重合体を弾性ゴムの
形で単離する。
【0077】RMN−1H(CDCl3)分析は、期待される生成物の構造を確
認している。
認している。
【0078】元素分析については、この分析から、グラフト共重合体のリンのパ
ーセンテージが我々に示される。この場合、パーセンテージは2%である。した
がって、グラフト化収率は50%である。
ーセンテージが我々に示される。この場合、パーセンテージは2%である。した
がって、グラフト化収率は50%である。
【0079】実施例5:エポキシド群を含んでいる共重合体の合成
攪拌器を備えた3.5リットルのオートクレーブの中に、2リットルのアセト
ニトリル、1モルの2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4モルの2−(ジメ
トキシホスホネート)エチルビニルエーテル、22gの過酸化ベンゾイルを入れ
る。この混合液を真空でガス抜きし、5モルのクロロトリフルオロエチレンを加
える。95℃に加熱する。圧力が30バールまで上昇する。この圧力は6時間後
に10バールまで低下する。反応しなかったクロロトリフルオロエチレンを除去
するために、反応装置は冷却され、脱ガスされる。乾燥抽出物が38%近くであ
る共重合体の溶液が得られる。この重合体は19〜21%のフッ素をもたらすフ
ッ素化モチーフを含んでいる(元素分析)。
ニトリル、1モルの2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4モルの2−(ジメ
トキシホスホネート)エチルビニルエーテル、22gの過酸化ベンゾイルを入れ
る。この混合液を真空でガス抜きし、5モルのクロロトリフルオロエチレンを加
える。95℃に加熱する。圧力が30バールまで上昇する。この圧力は6時間後
に10バールまで低下する。反応しなかったクロロトリフルオロエチレンを除去
するために、反応装置は冷却され、脱ガスされる。乾燥抽出物が38%近くであ
る共重合体の溶液が得られる。この重合体は19〜21%のフッ素をもたらすフ
ッ素化モチーフを含んでいる(元素分析)。
【0080】実施例6:シリル群をもつ、例5の共重合体の合成
3リットルの反応装置の中に、アセトニトリルで実施例5により得られた共重
合体であって、0.5モルの等価物OP(OCH3)2を含んでいる共重合体を
160g入れる。さらに1モルのブロモトリメチルシランを加え、室温で2時間
攪拌する。溶媒の反応および蒸発後、核磁気共鳴によって、OCH3群に代わっ
て、共重合体上にO−Si(CH3)3が存在していことを確認することができ
る。
合体であって、0.5モルの等価物OP(OCH3)2を含んでいる共重合体を
160g入れる。さらに1モルのブロモトリメチルシランを加え、室温で2時間
攪拌する。溶媒の反応および蒸発後、核磁気共鳴によって、OCH3群に代わっ
て、共重合体上にO−Si(CH3)3が存在していことを確認することができ
る。
【0081】この重合体をそのまま保存することも可能であるし、余分のメタノ
ールを用いてこの重合体を加水分解させることも可能である。このようにして、
酸性ホスホネート構造単位(−PO(OH)2)をもつ共重合体が得られる。
ールを用いてこの重合体を加水分解させることも可能である。このようにして、
酸性ホスホネート構造単位(−PO(OH)2)をもつ共重合体が得られる。
【0082】実施例7:
反応装置の中に、実施例5の共重合体を160g入れ、ブロモトリメチルシラ
ンの代わりに1モルのクロロトリメチルシランを加える。この場合、大半はメチ
ルエステル基とシリル基をもつホスホネート誘導体が得られる。加水分解後、−
PO(OCH3)(OH)という化学式の酸とエステルの混合ホスホネート構造
単位をもつ共重合体が得られる。
ンの代わりに1モルのクロロトリメチルシランを加える。この場合、大半はメチ
ルエステル基とシリル基をもつホスホネート誘導体が得られる。加水分解後、−
PO(OCH3)(OH)という化学式の酸とエステルの混合ホスホネート構造
単位をもつ共重合体が得られる。
【0083】実施例8:実施例6の共重合体のアンモニウム塩の合成
反応装置の中に、実施例2により得られた共重合体であって、約0.5モルの
等価物PO(OH)2を含んでいる共重合体を140g入れる。1モルのシクロ
ヘキシルアミン、すなわち181gを加え、1時間反応させる。得られた生成物
の赤外線によって、OHバンドの消失を明らかにすることができる。
等価物PO(OH)2を含んでいる共重合体を140g入れる。1モルのシクロ
ヘキシルアミン、すなわち181gを加え、1時間反応させる。得られた生成物
の赤外線によって、OHバンドの消失を明らかにすることができる。
【0084】実施例9:
反応装置の中に、実施例5の場合と同じ成分を入れるが、1モルのクロロトリ
フルオロエチレンを1モルのCH2=CH−O−(CH2)2−C8F17で置
き換える。
フルオロエチレンを1モルのCH2=CH−O−(CH2)2−C8F17で置
き換える。
【0085】次に、反応は実施例5の場合と同じ条件のもとで行われる。最終生
成物は元素分析で確定された、31%近くのフッ素率を有する。この共重合体は
実施例6から8の技術と同じ技術により処理されることができる。
成物は元素分析で確定された、31%近くのフッ素率を有する。この共重合体は
実施例6から8の技術と同じ技術により処理されることができる。
【0086】実施例10:
実施例5から8により化合物を合成するが、ヒドロキシエチルビニルエーテル
をCH2=CH−O−(CH2)3−Si(CH3)(OCH3)2という化学
式のジメトキシメチルシリルプロピルビニルエーテルで置き換える。
をCH2=CH−O−(CH2)3−Si(CH3)(OCH3)2という化学
式のジメトキシメチルシリルプロピルビニルエーテルで置き換える。
【0087】実施例11:
反応装置の中に、実施例10による約180gの共重合体であって、0.5モ
ルの−PO(OCH3)2等価物を含んでいる共重合体を入れる。さらに、1モ
ルのクロロトリメチルシランを加え、室温で2時間反応させる。例2または例3
の場合と同様に、RMN−1Hによって、OSi(CH3)3群の存在に対応す
る信号が出現することが証明される。
ルの−PO(OCH3)2等価物を含んでいる共重合体を入れる。さらに、1モ
ルのクロロトリメチルシランを加え、室温で2時間反応させる。例2または例3
の場合と同様に、RMN−1Hによって、OSi(CH3)3群の存在に対応す
る信号が出現することが証明される。
【0088】例12:
実施例5の場合と同じ操作条件を用いて、反応装置の中に、1モルのアリルア
ルコールと1モルのジエチルホスホネートで構成される混合液を入れる。冷却後
、6.5対1.5の割合のフッ化ビニリデンとクロロトリフルオロエチレンの混
合気を入れる。例5の場合と同じ圧力条件のもとで、6時間の反応とガス抜き後
に、元素分析によって測定されたフッ素率が40%に近いフッ素化共重合体が得
られる。
ルコールと1モルのジエチルホスホネートで構成される混合液を入れる。冷却後
、6.5対1.5の割合のフッ化ビニリデンとクロロトリフルオロエチレンの混
合気を入れる。例5の場合と同じ圧力条件のもとで、6時間の反応とガス抜き後
に、元素分析によって測定されたフッ素率が40%に近いフッ素化共重合体が得
られる。
【0089】実施例13:
実施例5と同じ操作条件を用いて、まず最初に、反応装置の中に、1モルのヒ
ドロキシエチルアリルエーテルと1モルのジエチルビニルホスホネートで構成さ
れた混合液を入れる。脱ガスと冷却後、さらに6モルのフッ化ビニリデンと2モ
ルのヘクサフルオロプロピレン(CF3−CF=CF2)を加える。5時間の反
応後、約48%のフッ素を含む共重合体が得られる。
ドロキシエチルアリルエーテルと1モルのジエチルビニルホスホネートで構成さ
れた混合液を入れる。脱ガスと冷却後、さらに6モルのフッ化ビニリデンと2モ
ルのヘクサフルオロプロピレン(CF3−CF=CF2)を加える。5時間の反
応後、約48%のフッ素を含む共重合体が得られる。
【0090】実施例14:
実施例5の操作条件に従って、まず最初に1モルのジエチルアリルホスホネー
ト、1モルのアリルアルコールおよび1モルのアセテートビニルを入れる。冷却
と脱ガス後、6モルのクロロトリエチレンを加える。6時間の反応後、約31%
のフッ素を含んでいる共重合体が得られる。
ト、1モルのアリルアルコールおよび1モルのアセテートビニルを入れる。冷却
と脱ガス後、6モルのクロロトリエチレンを加える。6時間の反応後、約31%
のフッ素を含んでいる共重合体が得られる。
【0091】実施例15:
容量1,000mlのハステロイ(Hastelloy)製オートクレーブ反
応装置の中に、次のものを入れる。 − 234g(1.69モル)のホスホネートHPO(OEt)2 − 2.5g(1.71.10−2モル)の過酸化ジ−t−ブチル − 200g(4.93モル)のアセトニトリル および108g(1.69モル)のフッ化ビニリデン(VF2) 140℃で5時間の反応後、3に近いDPnと約90%のVF2転化率を有す
る、テロマー混合物H(−CF2−CH2)n−PO(OEt)2が得られる。
応装置の中に、次のものを入れる。 − 234g(1.69モル)のホスホネートHPO(OEt)2 − 2.5g(1.71.10−2モル)の過酸化ジ−t−ブチル − 200g(4.93モル)のアセトニトリル および108g(1.69モル)のフッ化ビニリデン(VF2) 140℃で5時間の反応後、3に近いDPnと約90%のVF2転化率を有す
る、テロマー混合物H(−CF2−CH2)n−PO(OEt)2が得られる。
【0092】実施例16:
実施例15で説明した同じ条件のもとで、クロロトリフルオロエチレン(CT
FE)との反応を行う。入れるクロロトリフルオロエチレンの量は197g(1
.69モル)である。得られたテロマー混合物H−(CFCl−CF2)n−P
O(OEt)2は、2に近いDPnと78%のCTFE転化率を有する。
FE)との反応を行う。入れるクロロトリフルオロエチレンの量は197g(1
.69モル)である。得られたテロマー混合物H−(CFCl−CF2)n−P
O(OEt)2は、2に近いDPnと78%のCTFE転化率を有する。
【0093】実施例17:
実施例15によるが、ホスホネートはハイドロジェノホスホネートジメチルH
PO(OCH3)である。
PO(OCH3)である。
【0094】実施例18:
実施例16によるが、ホスホネートはハイドロジェノホスホネートジメチルH
PO(OCH3)2である。
PO(OCH3)2である。
【0095】実施例19:
実施例15の生成物が、ハロシランXSi(CH3)2(ここにX=Cl,B
r)によるシリル化後にメタノールによってか、あるいは塩化水素酸によって加
水分解される。つまり、50gのモノアドドイット(monoadduit)H
CF2−CH2−PO(OEt)2と39.4gのBrSi(CH3)3をCH
2Cl2(溶媒)のもとで1滴ずつ加え、2時間の攪拌後に、さらにこの媒質に
50mlのメタノールを加える。蒸留後、34.7gの一酸生成物H−CF2−
CH2−PO(OH)(OEt)が得られる。
r)によるシリル化後にメタノールによってか、あるいは塩化水素酸によって加
水分解される。つまり、50gのモノアドドイット(monoadduit)H
CF2−CH2−PO(OEt)2と39.4gのBrSi(CH3)3をCH
2Cl2(溶媒)のもとで1滴ずつ加え、2時間の攪拌後に、さらにこの媒質に
50mlのメタノールを加える。蒸留後、34.7gの一酸生成物H−CF2−
CH2−PO(OH)(OEt)が得られる。
【0096】実施例20:
実施例16の生成物が実施例19で説明したように加水分解される。
【0097】冷却器を備えた100mlのフラスコの中に、20mlのトルエン
に8mlのHCl 12N(9.6.10−2モルの1eqエステル用HCl
6eq)を加えて溶かした4.00g(1.57.10−2モル)のモノアドド
イットを入れる。溶液は12時間溶媒還流(120℃)する。
に8mlのHCl 12N(9.6.10−2モルの1eqエステル用HCl
6eq)を加えて溶かした4.00g(1.57.10−2モル)のモノアドド
イットを入れる。溶液は12時間溶媒還流(120℃)する。
【0098】溶液の冷却後、トルエンは蒸発され、溶液は50mlの蒸留水で洗
われる。再度、溶液は濃縮される。濃縮とオーブンでの乾燥後に、水相から引き
出された質量4.44gの白い固体が得られる。RMN分析は、「ホスホンエス
テル」集合の75%が取り出されたことを示している。
われる。再度、溶液は濃縮される。濃縮とオーブンでの乾燥後に、水相から引き
出された質量4.44gの白い固体が得られる。RMN分析は、「ホスホンエス
テル」集合の75%が取り出されたことを示している。
【0099】実施例21:
冷却器を備えた100mlのフラスコの中に、6gのPBHT R−20、4
gのチオールHS−(CH2)3−PO(OEt)2、0.18gのAIBN、
60gのTHF(溶媒)を入れる。70℃で4時間の反応後、および生成物の処
理後、RMN分析は19%のグラフト化率を我々に示している。これらの条件の
もとで、グラフト生成物は2.6%のリンを含んでいる。これらの反応は下記文
献ですでに説明されている。
gのチオールHS−(CH2)3−PO(OEt)2、0.18gのAIBN、
60gのTHF(溶媒)を入れる。70℃で4時間の反応後、および生成物の処
理後、RMN分析は19%のグラフト化率を我々に示している。これらの条件の
もとで、グラフト生成物は2.6%のリンを含んでいる。これらの反応は下記文
献ですでに説明されている。
【0100】実施例22:
MMAおよびMAPHOSブロック共重合体の合成を実施する。ステップ1
:
チウラム(thiurame)を用いてMMAの重合を行う。
次の化学式の化合物(A)が得られる。
ここに、数における分子量は約20,000に等しい。ステップ2
:
MAPHOSを用いて化合物(A)の光化学重合を行い、次の化学式の共重合
体(B)を得る。 1つの鎖あたり7MAPHOSを加える(この場合、pは7に等しい)。 数における分子量は約21,000である(RMNによってコントロールされ
る構造)。ステップ3 : 化合物3をBrSi(Me)3によって、次にCH3OHによって加水分解す
る。
体(B)を得る。 1つの鎖あたり7MAPHOSを加える(この場合、pは7に等しい)。 数における分子量は約21,000である(RMNによってコントロールされ
る構造)。ステップ3 : 化合物3をBrSi(Me)3によって、次にCH3OHによって加水分解す
る。
【0101】実施例23:
スチレンと過酸化物ジキュミル(dicumyle)と「Tempo」(ピペ
リジンニトロキシル)との混合液を1000/1/2の分子割合で入れる。
リジンニトロキシル)との混合液を1000/1/2の分子割合で入れる。
【0102】この混合液を120℃に8時間加熱する。GPG(ゲル・パーミエ
ーション・クロマトグラフィ)でアリコートを分析する。この分析は、期待され
ていた50,000という質量にかなり近い、質量45,000のポリスチレン
の形成を示している。
ーション・クロマトグラフィ)でアリコートを分析する。この分析は、期待され
ていた50,000という質量にかなり近い、質量45,000のポリスチレン
の形成を示している。
【0103】反応性混合液の中に、生成物CH2=CH−φ−CH2−PO(O
C2H5)2を入れる。ポリスチレンとホスホン化単量体のそれぞれの分子割合
は1対100である。混合液を120℃に10時間加熱する。このことはホスホ
ン化スチレン誘導体への全転化につながる。
C2H5)2を入れる。ポリスチレンとホスホン化単量体のそれぞれの分子割合
は1対100である。混合液を120℃に10時間加熱する。このことはホスホ
ン化スチレン誘導体への全転化につながる。
【0104】ポリスチレン当量での最終分子量は68,000である。1HのR
MNによれば、芳香族陽子全体について、ホスホン化モチーフが1つ存在するの
に対してスチレンモチーフが5つ存在することが確認されている。ClSiMe
3を用いてエステルの加水分解を行い、対応する二塩基酸を得る。
MNによれば、芳香族陽子全体について、ホスホン化モチーフが1つ存在するの
に対してスチレンモチーフが5つ存在することが確認されている。ClSiMe
3を用いてエステルの加水分解を行い、対応する二塩基酸を得る。
【0105】実施例24:
次の化学式をもつ網目状化可能なホスホネートの合成を行う。
【0106】 トリエチルアミンのもとでクロロホルム中のPOCl3上にアル
コールC12H25OHを1モルずつ加え、形成された塩化水素酸を捕集する。
2時間の反応後、不飽和アルコールC18H35OHを加え、CHCl3中での
2時間の還流後、混合液を加水分解する。抽出後、一塩基酸を単離する。なお、
この一塩基酸の酸価は上記化学式に相当している。
コールC12H25OHを1モルずつ加え、形成された塩化水素酸を捕集する。
2時間の反応後、不飽和アルコールC18H35OHを加え、CHCl3中での
2時間の還流後、混合液を加水分解する。抽出後、一塩基酸を単離する。なお、
この一塩基酸の酸価は上記化学式に相当している。
【0107】この例については、下記3つの調製のうちの一つを用いることがで
きる。調製A 例24により得られた化合物から、下記組成をもつ水溶液を調製する。 例24による化合物を10パート ノニルフェノキシ酢酸を1パート 8.5≦pH≦9.5を得るのに十分な量のアミノエタノール モノメチルエーテルプロピレングリコールを6パート 100パートつくるための水
きる。調製A 例24により得られた化合物から、下記組成をもつ水溶液を調製する。 例24による化合物を10パート ノニルフェノキシ酢酸を1パート 8.5≦pH≦9.5を得るのに十分な量のアミノエタノール モノメチルエーテルプロピレングリコールを6パート 100パートつくるための水
【0108】この溶液を鋼表面に塗布する。水除去後、保護が得られる。
ASTM規格D 1735−62に従って37.8℃の水分飽和大気にさらす。
1週間後、ASTM規格D610−68に従って腐食を評価する。結果は、グレ
ード10と評価された。これは腐食が皆無であることを意味している。一方、処
理を受けなかった鋼供試体は24時間後においてすでに腐食グレード1を呈して
いる。このことは表面の50%が腐食していることに相当している。
1週間後、ASTM規格D610−68に従って腐食を評価する。結果は、グレ
ード10と評価された。これは腐食が皆無であることを意味している。一方、処
理を受けなかった鋼供試体は24時間後においてすでに腐食グレード1を呈して
いる。このことは表面の50%が腐食していることに相当している。
【0109】実施例24による化合物は、168時間の一時的な保護を可能にし
ている。なぜならば、この化合物は網目状化されていないからである。鋼からこ
の化合物を除去し、次に鋼に後工程の処理を受けさせることができる。たとえば
、圧延したり、引き抜きしたり、切断、プレス、溶接等によって加工したりする
ことができる。
ている。なぜならば、この化合物は網目状化されていないからである。鋼からこ
の化合物を除去し、次に鋼に後工程の処理を受けさせることができる。たとえば
、圧延したり、引き抜きしたり、切断、プレス、溶接等によって加工したりする
ことができる。
【0110】調製B
例24の化合物を5パート
50%のアクリルスチレン共重合体を5パート
ノニルフェノキシ酢酸を1パート
8.5≦pH≦9.5を得るのに十分な量のジメチルアミノエタノール
モノメチルエーテルプロピレングリコールを6パート
100パートつくるための水
【0111】亜鉛めっき鋼上にて、6週間さらした後においてグレード10が得
られる。処理なしの場合には、同じ表面は1週間さらした後においてグレード1
0を呈している。被膜形成化合物、すなわちアクリルスチレン共重合体を加えた
ので、保護がアップしている。
られる。処理なしの場合には、同じ表面は1週間さらした後においてグレード1
0を呈している。被膜形成化合物、すなわちアクリルスチレン共重合体を加えた
ので、保護がアップしている。
【0112】調製C
実施例13の化合物を5パート
50%のアクリルスチレン共重合体を5パート
ノニルフェノキシ酢酸を1パート
8.5≦pH≦9.5を得るのに十分な量のシクロヘキシルアミン
置換されたギ酸イミダゾールを2パート
モノメチルエーテルプロピレングリコールを6パート
100パートつくるための水
【0113】例20の場合と同じ試験条件のもとで、亜鉛めっき鋼上にて、10
日さらした後においてグレード10が得られる。
日さらした後においてグレード10が得られる。
【0114】同じ調製物から、塩化ナトリウム3.5%の水溶液中に浸漬するこ
とによって腐食試験を行う。観察されたことによれば、保護なしの場合には、裸
の鋼表面を浸漬してから15分後に腐食が現れるが、調製物を塗布した後は、1
2時間さらしても腐食はまったく観察されない。
とによって腐食試験を行う。観察されたことによれば、保護なしの場合には、裸
の鋼表面を浸漬してから15分後に腐食が現れるが、調製物を塗布した後は、1
2時間さらしても腐食はまったく観察されない。
【0115】この調製物は一時的な保護を可能にする調製物である、つまり洗浄
によって容易に除去されることができる。
によって容易に除去されることができる。
【0116】実施例25:
実施例13により得られた酸の塩のエポキシド化を行う。実施例13の1モルの
酸に1モルのアンモニア水を、次に1.2モルのp−クロロ過安息香酸を加え、
1時間還流を行う。混合液は乾燥抽出物50%に濃縮される。
酸に1モルのアンモニア水を、次に1.2モルのp−クロロ過安息香酸を加え、
1時間還流を行う。混合液は乾燥抽出物50%に濃縮される。
【0117】実施例26:
実施例14により得られた混合液にアクリル酸を1モルずつ加え、8時間還流す
る。ハイドロキノンを1%加えた後に、アクリル化した生成物が得られる。
る。ハイドロキノンを1%加えた後に、アクリル化した生成物が得られる。
【0118】実施例27:
ペラプラ(Pelaprat)及びその共同者が説明している方法に従ってハイ
ドロジェノホスホネートジエチルHPO(OEt)2を1−ドデセン上に加える
。90%の収率で化合物C12H25PO(OEt)2が得られる。この化合物
を、ハムイ(Hamoui)及びその共同者が説明している方法に従って(Ma
cromol.Chem.Phys.,1985,1995)、ブロモトリメチ
ルシランによって加水分解する。したがって二塩基酸C12H25PO(OH)
2が得られる。
ドロジェノホスホネートジエチルHPO(OEt)2を1−ドデセン上に加える
。90%の収率で化合物C12H25PO(OEt)2が得られる。この化合物
を、ハムイ(Hamoui)及びその共同者が説明している方法に従って(Ma
cromol.Chem.Phys.,1985,1995)、ブロモトリメチ
ルシランによって加水分解する。したがって二塩基酸C12H25PO(OH)
2が得られる。
【0119】水を除去するために、「dean stark」システムを用いて
、高温のトルエン中でこの二塩基酸のエステル化を実施する。エステル化は、C
18H35OHという化学式のアルコールを用いてなされる。これにより、次の
化学式の化合物が得られる。 この化合物を例14の場合と同様にエポキシド化する。次に、例15の場合と同
様にアクリル化を行う。
、高温のトルエン中でこの二塩基酸のエステル化を実施する。エステル化は、C
18H35OHという化学式のアルコールを用いてなされる。これにより、次の
化学式の化合物が得られる。 この化合物を例14の場合と同様にエポキシド化する。次に、例15の場合と同
様にアクリル化を行う。
【0120】実施例28:
実施例16の場合と同様に、ハイドロジェノホスホネートジメチルHPO(OC
H3)2を1モルのアリルグリシディルエーテルに加える。量的に次の化合物が
得られる。
H3)2を1モルのアリルグリシディルエーテルに加える。量的に次の化合物が
得られる。
【0121】このエポキシドに10−2モルのエチルラウリルアミンのもとで脂
肪酸C18H37CO2Hを加え、次の化学式の化合物を得る。
肪酸C18H37CO2Hを加え、次の化学式の化合物を得る。
【0122】上記化合物に塩化アクリロイルを加え、次の化学式の化合物を得る
。
。
【0123】この化合物をブロモトリメチルシランによって加水分解する。これ
によって、次の化学式の、対応する酸が量的に得られる。
によって、次の化学式の、対応する酸が量的に得られる。
【0124】裸の鋼上において長時間の保護を得るには、下記2つの組成のうち
のいずれか一つを使用することができる。調製A 例28で得られた化合物を145パート アクリル酸ヒドロキシエチルによってグラフト化されたポリビニルジフ ルオライドを220パート アンモニア水を6パート 酸化チタンルチルを167パート 赤色酸化鉄を33パート 分散剤を2.5パート ジエチレングリコールを33パート 消泡剤を2.5パート メチロールメラミンを68パート 水を323パート この組成の特性は次のとおりである。 8.6≦pH≦8.8 顔料とグラフト化されたポリビニルジフルオライドとの比率=0.55/1.0
FORD粘度 No.4=45/50秒 メラミン%:乾燥抽出物:18.6 噴霧によって塗布するか、あるいは希釈後に塗布する。 被覆を180℃で10分あるいは150℃で15分加熱硬化する。保護時間が
500時間である被覆が得られる(AFNOR規格x41.002に従って測定
された耐塩水ミスト性)。 引っかき硬さはF.2Hである。 NFR30038による付着性は100%である。
のいずれか一つを使用することができる。調製A 例28で得られた化合物を145パート アクリル酸ヒドロキシエチルによってグラフト化されたポリビニルジフ ルオライドを220パート アンモニア水を6パート 酸化チタンルチルを167パート 赤色酸化鉄を33パート 分散剤を2.5パート ジエチレングリコールを33パート 消泡剤を2.5パート メチロールメラミンを68パート 水を323パート この組成の特性は次のとおりである。 8.6≦pH≦8.8 顔料とグラフト化されたポリビニルジフルオライドとの比率=0.55/1.0
FORD粘度 No.4=45/50秒 メラミン%:乾燥抽出物:18.6 噴霧によって塗布するか、あるいは希釈後に塗布する。 被覆を180℃で10分あるいは150℃で15分加熱硬化する。保護時間が
500時間である被覆が得られる(AFNOR規格x41.002に従って測定
された耐塩水ミスト性)。 引っかき硬さはF.2Hである。 NFR30038による付着性は100%である。
【0125】調製B
実施例28で得られた化合物を6パート
マレイン酸ビニル共重合体を5パート
98%のポリビニルアルコールを4パート
8.5≦pH≦9.0を得るのに十分な量のアンモニア水
ヒドロキシエチルセルロースを1パート
非イオン浸潤剤(HLB:12)を1パート
Zn3(PO4)2,2H2Oを8パート
100パートつくるための水
調製物の密度は1.08〜1.10である。
FORD粘度 No.4は20〜22秒である。
噴霧等によって塗布する。
150℃で15分加熱硬化する。鋼の長時間(500時間以上)の保護が得ら
れる。
れる。
【0126】実施例29:
実施例17で得られたアルコールから、
Journal of Phys.Chem.,44,395,1989で説
明されているパラジウム触媒を用いて、ブチルビニルエーテルによるトランスビ
ニル化を実施し、次の化学式の化合物を得る。 BrSi(Me)3およびアンモニア水を用いてこの化合物を加水分解し、次
の化学式の二塩を得る。
明されているパラジウム触媒を用いて、ブチルビニルエーテルによるトランスビ
ニル化を実施し、次の化学式の化合物を得る。 BrSi(Me)3およびアンモニア水を用いてこの化合物を加水分解し、次
の化学式の二塩を得る。
【0127】実施例30:
実施例14で調製されたエポキシドから、実施例15の方法に従ってケイ皮酸
を加える。 次の化学式の生成物が得られる。
を加える。 次の化学式の生成物が得られる。
【0128】また、上記のように加水分解を行うことによって、次の化学式の化
合物が得られる。 また、本発明による調製物は水性エマルジョンの形をとることもできる。
合物が得られる。 また、本発明による調製物は水性エマルジョンの形をとることもできる。
【0129】実施例31:
ポリエチレン水性エマルジョンが下記成分から調製された。
【0130】ドデシルホスホン酸の合成
ドデシルホスホン酸は次のように2つのステップで調製された。
【0131】臭素瓶、アルゴン流入口、蒸留器とを備えたトリコルの中に、ブロ
モドデカンを49.8g入れる。そして不活性雰囲気のもとに置き、130℃に
加熱する。次に、漏斗を用いて36.5gの亜リン酸トリエチルを1滴ずつ加え
る。24時間の反応後、真空下での蒸留によって残っている薬剤を除去する。こ
れによって、55.1gのドデシルホスホネートジエチル1が得られる。すなわ
ち90%の収率である。
モドデカンを49.8g入れる。そして不活性雰囲気のもとに置き、130℃に
加熱する。次に、漏斗を用いて36.5gの亜リン酸トリエチルを1滴ずつ加え
る。24時間の反応後、真空下での蒸留によって残っている薬剤を除去する。こ
れによって、55.1gのドデシルホスホネートジエチル1が得られる。すなわ
ち90%の収率である。
【0132】次に、このようにして単離された化合物1のうちの30.6gが5
00mlのジクロロメタンで30.6gの可溶化される。そして、30.6gの
ブロモブロモトリメチルシラン(2eq)が不活性雰囲気のもとで加えられる。
混合液は室温で3時間攪拌される。次に、溶媒が蒸発され、500mlのメタノ
ールが加えられる。室温で2時間の攪拌後、メタノールが蒸発される。白い固体
が得られるので、それをエーテルで洗い、真空下で乾燥させる。かくして、23
.9gのドデシルホスホン酸2が単離される。すなわち95.6%の収率である
。
00mlのジクロロメタンで30.6gの可溶化される。そして、30.6gの
ブロモブロモトリメチルシラン(2eq)が不活性雰囲気のもとで加えられる。
混合液は室温で3時間攪拌される。次に、溶媒が蒸発され、500mlのメタノ
ールが加えられる。室温で2時間の攪拌後、メタノールが蒸発される。白い固体
が得られるので、それをエーテルで洗い、真空下で乾燥させる。かくして、23
.9gのドデシルホスホン酸2が単離される。すなわち95.6%の収率である
。
【0133】ポリエチレン水性エマルジョンの調製
加圧反応装置の中に、エチレン−アクリル酸共重合体AC5120、25%の
アンモニア水溶液、脱塩水を入れる。そして強い機械式攪拌のもとで110℃に
15分間加熱する。次に、氷で急速に冷やす。pH=10の完全に均一の乳状の
エマルジョンが得られる。 機械式攪拌器の中に、ポリエチレン水性エマルジョンを置く。弱い攪拌のもと
で、Xanthanゴムを、次にドデシルホスホン酸を加える。添加剤がエマル
ジョン中で完全に溶けるように、徐々に攪拌速度を上げる。
アンモニア水溶液、脱塩水を入れる。そして強い機械式攪拌のもとで110℃に
15分間加熱する。次に、氷で急速に冷やす。pH=10の完全に均一の乳状の
エマルジョンが得られる。 機械式攪拌器の中に、ポリエチレン水性エマルジョンを置く。弱い攪拌のもと
で、Xanthanゴムを、次にドデシルホスホン酸を加える。添加剤がエマル
ジョン中で完全に溶けるように、徐々に攪拌速度を上げる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
B05D 7/24 B05D 7/24 302K
302N
302P
303 303A
C09D 5/08 C09D 5/08
7/12 7/12
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ
,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML,
MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K
E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG
,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,
RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT,
AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,C
H,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ
,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,
HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,K
G,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT
,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,
MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S
D,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR
,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN,YU,
ZA,ZW
(72)発明者 ブーテヴィン・ベルナル・ジャン・レオン
フランス国、34000、ヘロ、モンペリ、リ
ュ アーマチユ 1
(72)発明者 ヘルヴォ・イヴ
フランス国、34000、ヘロ、モンペリ、ア
ヴェニュード ロデヴェ 174
Fターム(参考) 4D075 BB04X BB65X CA33 CA47
DB01 EA07 EA10 EB14 EB15
EB17 EB19 EB22 EB52 EB56
EC01 EC11
4J038 CC022 CD022 CD102 CF002
CG002 HA416 JC13 JC22
KA08 NA03 PC02
Claims (15)
- 【請求項1】金属製品を腐食から保護する方法であって、少なくとも、被膜形成
結合剤と、金属と反応する少なくとも1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有
する少なくとも1つのオリゴマー添加剤とで形成される調製物を金属製品に直接
に、すなわちいかなる予備処理もなしに塗布することを特徴とする方法。 - 【請求項2】処理すべき金属製品が、スケール層が形成されない程度に過度に酸
化した表面を有する場合において、その表面の酸化物を、必ずしも絶無にする必
要はないが、微量にするために大雑把にブラッシングしてから、上記調製物を塗
布することを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】処理すべき金属製品が、その表面に過度に脂分が付着している場合
において、その表面の脂分を、必ずしも絶無にする必要はないが、微量にするた
めに大雑把にクリーニングしてから、上記調製物を塗布することを特徴とする請
求項1記載の方法。 - 【請求項4】結合剤および少なくとも1つの添加剤を含む、金属製品を腐食から
保護するための調製物であって、被膜形成結合剤と、金属と反応する少なくとも
1つの腐食抑制添加剤と、ホスホン酸を有する少なくとも1つのオリゴマー添加
剤とを含むことを特徴とする調製物。 - 【請求項5】さらに1つまたは複数の着色添加剤を含むことを特徴とする請求項
4記載の調製物。 - 【請求項6】さらに1つまたは複数の湿潤剤を含むことを特徴とする請求項4記
載の調製物。 - 【請求項7】下記から選ばれる少なくとも1つの成分から形成される湿潤剤を含
むことを特徴とする請求項4記載の調製物。 ・ホスホン酸エトキシルアルキルおよびアリール ・フッ素炭化物誘導体 ・ペルフルオロアルキルスルホン酸アンモニア ・ペルフルオロアルキルスルホン酸カリウム ・ペルフルオロアルキルスルホン酸アミノアルコール ・ペルフルオロアルキルアクリル酸塩 - 【請求項8】添加剤が結合剤と相溶しやすい鎖状重合体をもつことを特徴とする
請求項4記載の調製物。 - 【請求項9】添加剤が結合剤と相溶しやすいシーケンスまたは側鎖をもつブロッ
クまたはグラフト統計共重合体であることを特徴とする請求項8記載の調製物。 - 【請求項10】添加剤が結合剤と相溶しやすい少なくとも1つの単量体と、少な
くとも1つのホスホン化単量体との共重合体であることを特徴とする請求項8記
載の調製物。 - 【請求項11】結合剤と相溶しやすい単量体が鎖状重合可能であり、メタクリル
酸アクリル系、スチレン系、塩化ビニル、フッ化ビニルまたはビニルエステルか
ら選ばれることを特徴とする請求項8記載の調製物。 - 【請求項12】結合剤と相溶しやすい単量体が重縮合可能な単量体、ジオールま
たは二酸エポキシドから選ばれることを特徴とする請求項8記載の調製物。 - 【請求項13】ホスホン酸基を含むことを特徴とする請求項4記載の調製物。
- 【請求項14】反応性添加剤がホスホン酸塩またはリン酸塩であり、それらの鎖
状分子が炭化水素化されるか、あるいはフッ素化されるか、もしくはクロロフッ
素化されることを特徴とする請求項4記載の調製物。 - 【請求項15】反応性添加剤が下記から選ばれる少なくとも1つの成分によって
形成されることを特徴とする請求項14に記載の調製物。 ・ホスホン酸またはホスホン酸アルキル ・リン酸 ・アミノトリメチレンホスホン酸 ・1−ヒドロキシエチリデン−1−1−ジホスホン酸 ・エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ・ヘクサメチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 ・ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR99/07440 | 1999-06-11 | ||
FR9907440 | 1999-06-11 | ||
PCT/FR2000/001636 WO2000077101A1 (fr) | 1999-06-11 | 2000-06-13 | Procede de protection des metaux contre la corrosion et composition reactive non polluante pour sa mise en oeuvre |
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JP2001503947A Pending JP2003527456A (ja) | 1999-06-11 | 2000-06-13 | 金属を腐食から保護する方法と、その実施のための非汚染反応性調製物 |
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-
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- 2000-06-13 US US10/018,175 patent/US6740173B1/en not_active Expired - Fee Related
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