JP2003525316A - 安定剤組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
酸素および熱の作用に対して安定化するためのその使用に関する。
び/または美学的な特性は公知の通り、光、酸素および熱の作用により劣化する
。この劣化は通常、材料の黄変、変色、亀裂形成または脆化として現れる。安定
剤または安定剤組成物によって、光、酸素および熱による有機材料の損傷に対し
て満足のいく保護が得られるべきである。
れはたとえば次の成分を含有している:
化防止剤として、たとえば次の式のピペリジン−トリアジン−化合物を開示して
いる:
−ホルミルアミノピペリジン誘導体、たとえば:
る第二アミン官能基を有する前記の種類の化合物は、しばしば立体障害アミン安
定剤もしくはHALS(Hindered Amine Light Stabilizers)と呼ばれている。
れていることは明らかである。従って本発明の根底には、光、酸素および熱の作
用に対して高い保護作用を有する新規の安定剤組成物を提供するという課題が存
在する。
ることができることが判明した。
第二アミン、または第二アミンから誘導される第三アミン、ヒドロキシルアミン
、アルコキシルアミンまたはアミドから選択される、少なくとも150の分子量
を有する窒素化合物少なくとも1種、および B)鉄化合物少なくとも1種 を含有する安定剤組成物である。
位にあるすべての窒素原子が水素以外のものであり、分子中に1つもしくは複数
のアミン窒素原子を有する第二アミンが考えられる。アミン−窒素原子は有利に
は5員もしくは6員の飽和ヘテロ環式の環系、たとえばピペリジン環またはピロ
リジン環の成分であり、この場合、アミン−窒素原子に対してα−位にある置換
基は、たとえばC1〜C4−アルキル基、有利にはメチル基である。ヘテロ環式
の環はもう1つの別のヘテロ原子、たとえば窒素、酸素または硫黄を有していて
もよく、その際、このヘテロ原子はアミン窒素原子に対して隣接する位置にない
。たとえば冒頭に記載した特許出願明細書およびその中で引用されている従来技
術に記載されているような公知のHALS安定剤が考えられる。
から誘導される、つまりその中で第二アミンのアミン窒素原子に存在する水素原
子が、アルキル基、有利には第一アルキル基、特にC1〜C8−アルキル基(こ
れはOHおよびCNから選択される置換基を1つ、2つ、3つもしくは4つ有し
ていてもよい)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、特にC1〜C8−アルコキシ基
、アルケニル基、特にC3〜C6−アルケニル基またはアシル基、特にC1〜C 8 −アシル基により代えられている第三アミン、ヒドロキシルアミン、アルコキ
シルアミンまたはアミドが考えられる。
鎖の側基の成分であってもよい。
も300、および特に450〜5000の分子量を有しているとよい。
般式:
キシ、C3〜C6−アルケニルまたはC1〜C8−アシル、有利にはHを表し、 Qは、分子量15以上、有利には30以上、特に45〜5000、たいていは
45〜2000、または400までを有し、O、NまたはCを介して結合してい
るm価の有機基を表し、かつ mは、1〜100、有利には2〜30の整数を表す]を有する。
表し、これはC1〜C4−アルキルから選択される置換基を1つ、2つもしくは
3つ有していてもよく、 R5は、C8〜C22−アルキルを表し、 R6は、水素またはラジカル重合開始剤の基を表し、 R7は、C1〜C18−アルキルを表し、 kは、0または1を表し、 x、zは、相互に無関係に1〜12を表し、かつ nは、偶数mを表す]から選択される。
ンは次のものである: 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−アセテート、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−2−エチルヘキサノエ
ート、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ステアレート、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ヘキサデカノエート、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ベンゾエート、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−(4−t−ブチル)ベ
ンゾエート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)スクシネート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アジペート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)フタレート、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)イソフタレート
、 ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)テレフタレート
、 N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アジピ
ンアミド、 N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N,
N−ビスホルミル−1,6−ジアミノヘキサン、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)セバケート
、 ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル)セバケート、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−n−ブチ
ル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロ
キシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、 N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ヘキ
サメチレンジアミンと4−t−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジンとの縮合生成物、 トリス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ニトリロトリ
アセテート、 テトラキス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−1,2
,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、 1,1′−(1,2−エチレン)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペ
ラジノン)、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−2−n−
ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル)マロネート
、 3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザス
ピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、 ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル)セバケート、 ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
イル)スクシネート、 N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ヘキ
サメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリア
ジンとの縮合生成物、 2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチル−アミノ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3
−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、 2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチル−アミノ−1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジン−4−イル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス−
(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、 8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−
トリアザスピロ[4.5]−デカン−2,4−ジオン、 3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
ピロリジン−2,5−ジオン、 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−
ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,
3,5−トリアジンとの縮合生成物、 4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、 N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−n−ドデシル
スクシンイミド、 N−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−n−ドデ
シルスクシンイミド、 2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジア
ザ−オキソ−スピロ−[4.5]−デカン、 7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8
−ジアザ−4−オキソスピロ[4.5]デカンとエピクロロヒドリンとの縮合生
成物、 4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとテトラメチロールア
セチレンジ尿素およびポリ(メトキシプロピル−3−オキシ)−[4(2,2,
6,6−テトラメチル)ピペリジニル]シロキサンとの縮合生成物、および交互
のN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)マレイン酸イミド
−C20〜C24−α−オレフィン−コポリマー。後者が特に有利である。
、リガンドを有する鉄錯体、 d)鉄ハロゲン化物−もしくは鉄プソイドハロゲン化物−化合物 から選択される。
ピルまたはt−ブチル、 L5、L6は、−(CH2)n−または−CO−、その際、変項L5およびL 6 に関して、nは相互に無関係に0、1、2または3を表す]の化合物である。
(CO)2]2、[(H3C)5C5Fe(CO)2]2ならびにこれらから誘
導される鉄酸塩M[Fe(CO)2C2H5]およびM[Fe(CO)2(H3 C)5C5]を使用することもでき、この場合、Mは、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属、有利にはナトリウムの等価物を表す。
しくは両方のシクロペンタジエニル環において置換されている誘導体が挙げられ
る。さらに二量体のフェロセン誘導体も使用することができる。この場合、個々
のフェロセン単位の結合は、シクロペンタジエニル環の炭素原子を介して化学結
合またはメチレン結合、エチレン結合、プロピレン結合、ブチレン結合もしくは
フェニルホスフィン結合によって行われる。
C10−アロイル、C1〜C4−アルキル基、たとえばメチル、エチル、n−プ
ロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチルまたはt−ブチル
が考えられる。さらにこれらの置換基中で、1つもしくは2つのCH2基もしく
はCH3基がO、NH、NCH3もしくはOH、NH2により代えられていても
よい。この場合、これらのヘテロ原子またはヘテロ原子を有するフラグメントの
結合は、炭素原子に対して行われる。さらに1つもしくは2つのCH2基がCO
により、または1つもしくは2つのCH3基がCNにより代えられていてもよい
。その他にまた、場合によりすでに記載した基以外に、シクロペンタジエニル環
における置換基としてジフェニルホスフィン基がその役割を果たしてもよい。
て配位結合しているリガンド、有利には多座、たとえば2座、3座もしくは4座
のリガンドを有する鉄錯体を使用する。これにはO含有リガンド、たとえばスル
フェート、アセテート、オキサレート、シトレート、タータレート、ラクテート
、グルコネートまたはアセチルアセトネート(acac)を有するFe(II)
/Fe(III)の錯体または塩、つまり [Fe3O(SO4)6(OH)3]5 -、[Fe3O(O2CCH3)6(O
H2)3]+、[Fe3O(O4C2)6(OH2)3]5 -、[Fe(C4H
4O6)2]2 - / -、Fe(C4H4O6)、Fe2(C4H4O6)3、Fe
(C3H5O3)2、Fe(C6H11O7)2、[Fe(C2O4)3]3 -
、FeC2O4、[Fe(C2O4)2]2 -、Fe(acac)3、Fe(a
cac)2、Fe(C6H6O7)、Fe(C6H5O7)のような化合物が挙
げられる。
ぱら、もしくは主としてOを含有するリガンドは、多環式エーテル、たとえばス
フェランド、クリプタンド、クリプタスフェランド、ヘミスフェランド、コロナ
ンドまたはこれらのエーテルの開鎖の代表例ならびにポダンドであってもよい。
本発明により使用すべきFe化合物を準備するためにFe(II)またはFe(
III)と一緒に使用することができるこれらのリガンドの記載はたとえば、C.
J. Pedersen, H. K. Frensdorff, "Makrocyclische Polyether und ihre Kompl
exe", Angew. Chem. 84(1)、第16〜26頁、1972年;G. Gokel, "Crown E
thers & Cryptands"、Roy. Soc. Chem., Black Bear Press Cambridgeより刊行
、英国、1991年;D. J. Cram, "Praeorganisation - von Solventien zu Sp
haeranden", Angew. Chem. 98、第1041〜1060頁、1986年;Phase T
ransfer Catalysts, Merck-Schuchardt Firmenschrift;G. W. Gokel, S. H. Ko
rzeniowski, "Macrocyclic Polyether Synthesis", Springer Verlag Berlin, H
eidelberg, New York、第55〜151頁、1982年;US特許文献3760
005のような文献に見ることができるが、しかしこの場合、ヒ素を含有するリ
ガンドを使用すべきではない。
フェナントロリン(phen)、1,8−ナフトピリジン(napy)、2,2
′−ビピリジン(bipy)およびジベンゾ[b,i]−1,4,8,11−テ
トラアザ−[14]アヌレン(taa)を有する錯体、つまり [Fe(en)(H2O)4]2+/3+、[Fe(en)2(H2O)2] 2+/3+ 、[Fe(en)3]2+/3+、[Fe(phen)3]2+/3 + 、[Fe(napy)4]2+/3+、[Fe(bipy)4]2+/3+お
よび
る鉄の錯体を使用することができ、これらはたとえば文献(たとえばB. Mennier
, Chem. Rev., Vol. 92(8)、第1411〜1456頁、1992年)から公知で
ある。使用可能なその他のN含有リガンドはフタロシアニンおよびその誘導体で
ある。
たはニトリロ三酢酸(NTA)を用いて、 [Fe(EDTA)(H2O)]- /2 -、[Fe(NTA)(H2O)2]、
もしくは[Fe(NTA)(H2O)2]- のような化合物が生じ、8−ヒドロキシキノリン(chin)または5−メチル
−8−ヒドロキシキノリン(H3C−chin)を用いて [Fe(chin)3]/[Fe(chin)3]2 -もしくは[Fe(H3
C−chin)3]/[Fe(H3C−chin)3]2 - のような化合物が生じ、これらを同様に使用することができる。
化合物は、次の式を有する:
たはC1〜C12−アルキルチオを表す]。有利なハロゲンはClおよびBrで
ある。基L8は、相互に無関係に水素、シアノ、C1〜C12−アルキル、C1 〜C12−アルコキシまたはハロゲンを表し、その際、ClおよびBrは有利で
ある。さらに芳香族もしくはヘテロ芳香族環A、B、C、DおよびEは、縮合し
ていてもよく、その際、縮合した環A、B、Cのそれぞれ存在する基L7は、残
りの6つの位置に分散している。たとえば「0/+」は、錯体中にFe(II)
もしくはFe(III)が存在するかどうかに応じて、全電荷を示す(つまり、
Fe(II)が存在する場合には0、Fe(III)が存在する場合には+1(
「+」)である)。
II)とジチオカーボネートR2NCS2 -との錯体、たとえば[Fe(S2C
NR2)3]-(R=CH3、C2H5)である。
化物の場合、ClおよびBrのFe(II)塩およびFe(III)塩、ならび
に錯化合物FeX4 - /2 -(X=Cl、Br)を使用することができる。本発明
により使用すべきFe−プソイドハロゲン化物の化合物にはたとえば[Fe(C
N)6]3 -/[Fe(CN)6]4 -ならびに[Fe(SCN)]3 - x(H2
O)3+x]x+(x=0、1、2)の系列のチオシアネート錯体が挙げられる
。
るが、しかしヘキサシアノ鉄酸塩の場合には、K+以外に、[Fe(CN)6] 3 - の場合にFe2+が、および[Fe(CH)6]4 -の場合にFe3+もまた
使用される。
r-、I-、SO4 2 -、H3COO2 -、CrO4 2 -、BF4 -ならびにB(C6 H5)4 -を使用する。
る。
ことができる。該物質としてたとえばH2O2、カロー酸およびペルオキソジ硫
酸ならびにこれらとナトリウムもしくはカリウムとのモノ塩もしくはジ塩、さら
に有機過酸、たとえば過安息香酸または置換された過安息香酸、あるいはまたペ
ルオキソ化合物、たとえばt−ブチルペルオキシドが考えられる。
は通常の装置により行うが、これは乾燥した状態でも湿った状態でも行うことが
できる。あるいはまた、所望の場合には通例の分散剤を使用するか、または添加
してもよい。上記のペルオキソ基を有する物質以外に、酸素、たとえば空気酸素
を、単独の、もしくは付加的な活性剤として使用してもよい。これは空気中で粉
砕することにより、または規定により調整された酸素(空気)と不活性ガス、た
とえば窒素とからなる混合物下で行うことができる。
な溶剤中に、上記の活性剤、たとえばペルオキソ基を有する物質または酸素の存
在下もしくは不在下で溶解するか、もしくは部分的に溶解し、かつ適切な措置に
より再び沈殿させることにより行うことができる。このような措置はたとえば、
場合により使用される溶剤に依存して、その中でFe化合物が不溶性である液体
による希釈、酸もしくはアルカリによる中和、溶液の冷却、凍結乾燥または噴霧
乾燥であってもよい。
硫酸を用いた処理によりスルホン酸誘導体を製造することができ、これは部分的
に溶解して、もしくは微細に分散して存在しており、かつ水で希釈することによ
り沈殿する。次いで、こうして得られた微粒子の懸濁液を場合により(部分的に
)中和した後で上記の物質により再び活性化することができ、その際、ここでも
再び、ニトロキシル化合物の製造のために使用すべき出発化合物を添加すること
ができる。
質量ppm〜5質量%、有利には3質量ppm〜0.1質量%、特に5質量pp
m〜0.01質量%含有する。
くとも150、特に少なくとも300の分子量を有する、少なくとも1種の安定
したニトロキシルラジカル(N−オキシルラジカル)を含有する。これは安定し
た遊離基であり、これは通常、純粋物質として製造することができ、かつ数年に
わたって分解することなく貯蔵することができる。これは通常、アミンの窒素原
子に対してα−位にあるすべての置換基が水素以外のものである第二アミンから
誘導される。
キル基またはアリール基を表し、これらは対になって結合して環系になっていい
てもよく、かつYは、5員環もしくは6員環を完成するために必要とされる基を
表す]を有する。たとえばRはC1〜C20−アルキル基、特にC1〜C8−ア
ルキル基、C5−シクロアルキル基またはC6−シクロアルキル基、ベンジル基
またはフェニル基を表す。Yはたとえばアルキレン基−(CH2)2−または−
(CH3−である。
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシまたはシアノを有していてもよい] 有利には環式アミンの立体障害N−オキシル、たとえばピペリジン化合物また
はピロリジン化合物を使用し、これらは環中に別のヘテロ原子、たとえば窒素、
酸素もしくは硫黄を有していてもよく、その際、これらのヘテロ原子は立体障害
アミンの窒素原子に隣接する位置には存在していない。立体障害はアミンの窒素
原子に対して両方の隣接位置での置換基により得られ、その際、置換基として炭
化水素基が考えられ、これがα−CH2−基のすべての4つの水素原子と交代す
る。たとえば置換基としてフェニル、C3〜C6−シクロアルキル、ベンジルお
よび特にC1〜C6−アルキル基が挙げられ、その際、同一のα−C原子に結合
しているアルキル基は相互に結合して5員環もしくは6員環になっていてもよい
。
づく一般構造を有している。
ート、 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−エチル
ヘキサノエート、 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ステア
レート、 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル−ベンゾ
エート、 1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル(4−t
−ブチル)ベンゾエート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−スクシネート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−アジペート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−セバケート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−n−ブチルマロネート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−フタレート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−イソフタレート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−テレフタレート、 ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−ヘキサヒドロテレフタレート、 N,N−ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)−アジピンアミド、 N−(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
−カプロラクタム、 N−(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
ドデシルスクシンイミド、 2,4,6−トリス−[N−ブチル−N−(1−オキシル−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−4−イル]−s−トリアジン、 N,N′−ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)−N,N′−ビスホルミル−1,6−ジアミノヘキサン、 4,4′−エチレンビス(1−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペラ
ジン−3−オン)および トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−1−オキシル−ピペリジン−4−
イル)ホスファイト。
.01〜10質量%、特に0.05〜1質量%の量で使用する。
助安定剤を1種以上含有していてもよい: a)アルキル化モノフェノール、たとえば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチ
ルフェノール、2−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブ
チル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−n−ブチルフェノ
ール、2,6−ジ−t−ブチル−4−イソ−ブチルフェノール、2,6−ジ−シ
クロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4
,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール
、2,4,6−トリ−シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4
−メトキシメチルフェノール、直鎖状もしくは側鎖で分岐したノニルフェノール
、たとえば2,6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6
−(1′−メチル−ウンデセ−1′−イル)−フェノール、2,4−ジメチル−
6−(1′−メチル−ヘプタデセ−1′−イル)−フェノール、2,4−ジメチ
ル−6−(1′−メチル−トリデセ−1′−イル)−フェノールおよびこれらの
混合物; b)アルキルチオメチルフェノール、たとえば2,4−ジ−オクチルチオメチ
ル−6−t−ブチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−メチル
−フェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,
6−ジ−ドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール; c)ヒドロキノンおよびアルキル化したヒドロキノン、たとえば2,6−ジ−
t−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−t−ブチル−ヒドロキノン
、2,5−ジ−t−アミル−ヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデ
シルオキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシアニソール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル−ステアレ
ート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート; d)トコフェロール、たとえばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ
−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびこれらの混合物(ビタミンE); e)ヒドロキシル化したチオジフェニルエーテル、たとえば2,2′−チオ−
ビス(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−チオ−ビス(4−
オクチルフェノール)、4,4′−チオ−ビス(6−t−ブチル−3−メチルフ
ェノール)、4,4′−チオ−ビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)
、4,4′−チオ−ビス(3,6−ジ−s−アミルフェノール)、4,4′−ビ
ス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−ジスルフィド; f)アルキリデンビスフェノール、たとえば2,2′−メチレン−ビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−t−ブ
チル−4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス[4−メチル−6−
(α−メチルシクロヘキシル)−フェノール]、2,2′−メチレン−ビス(4
−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(6−ノニル−
4−メチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−ブチル
フェノール)、2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノー
ル)、2,2′−エチリデン−ビス(6−t−ブチル−4−イソブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレン−ビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフ
ェノール]、2,2′−メチレン−ビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−
4−ノニルフェノール]、4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−t−ブチル
フェノール)、4,4′−メチレンビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノー
ル)、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)
−ブタン、2,6−ビス(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジ
ル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)−ブタン、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチル−フェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エ
チレングリコール−ビス[3,3−ビス(3′−t−ブチル−4′−ヒドロキシ
フェニル)−ブチレート]、ビス(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ル−フェニル)−ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3′−t−ブチル−2′
−ヒドロキシ−5′−メチル−ベンジル)−6−t−ブチル−4−メチル−フェ
ニル]−テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフ
ェニル)−ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−プロパン、2,2−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプト−ブタン、1,1,5,5−テト
ラ−(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ペンタン; g)O−、N−およびS−ベンジル化合物、たとえば3,5,3′,5′−テ
トラ−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−メチルベンジル−メルカプトアセテート、トリ
デシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル−メルカプトアセテ
ート、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−アミン、
ビス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−ジチオ
テレフタレート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−
スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル
−メルカプトアセテート; h)ヒドロキシベンジル化マロネート、たとえばジオクタデシル−2,2−ビ
ス(3,5−ジ−t−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネート、ジオク
タデシル−2−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−マ
ロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−マロネート、ジ−[4(1,1,3,3−テ
トラメチルブチル)−フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−マロネート; i)ヒドロキシベンジル−芳香族化合物、たとえば1,3,5−トリス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2
,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール; j)トリアジン化合物、たとえば2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン
、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6
−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−
トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−
トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレ
ート; k)ベンジルホスホネート、たとえばジメチル−2,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−5−t−ブチル−4−
ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジルホスホン酸−モノエチルエステルのCa塩; l)アシルアミノフェノール、たとえば4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、
4−ヒドロキシステアリン酸アニリド、N−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−カルバミン酸オクチルエステル; m)β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−エトキシフェニル)プロピオン酸と
、単環式もしくは多環式アルコール、たとえばメタノール、エタノール、n−オ
クタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール
、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス(ヒドロキシエチル)−
イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)−シュウ酸ジアミド、
3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオ
ール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6
,7−トリオキサビシクロ−[2.2.2]−オクタンとのエステル;β−(5
−t−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と、単環式
もしくは多環式アルコール、たとえばメタノール、エタノール、n−オクタノー
ル、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9
−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペン
チルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリット、トリス(ヒドロキシエチル)−イソシア
ヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)−シュウ酸ジアミド、3−チア
ウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト
リメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ−[2.2.2]−オクタンとのエステル;β−(3,5−ジ
シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と、単環式もしくは多
環式アルコール、たとえばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカ
ノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレング
リコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリッ
ト、トリス(ヒドロキシエチル)−イソシアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロ
キシエチル)−シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデ
カノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロ
キシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ−[2.2.2]
−オクタンとのエステル;および/または3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル酢酸と、単環式もしくは多環式アルコール、たとえばメタノール、
エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1
,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス(ヒドロキシエチル)−イソ
シアヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)−シュウ酸ジアミド、3−
チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール
、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7
−トリオキサビシクロ−[2.2.2]−オクタンとのエステル; n)β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオン
酸のアミド、たとえばN,N′−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル−プロピオニル)−ヘキサメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−トリメチレンジ
アミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル)−ヒドラジン; o)2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、たとえば2−(
2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′
,5′−ジ−t−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、
2−(5′−t−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、
2−(2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェ
ニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−t−ブチル−2′−ヒド
ロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3′−t−ブチル
−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−(3′−s−ブチル−5′−t−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)
−ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)
−ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ジ−t−アミル−2′−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′,5′−ビス(α,α−ジメチル
ベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3′−
t−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル
)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−t−ブチル−5′−[2−(2
−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2′−ヒドロキシフェニル)−
ベンゾトリアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−5′−メチル
フェニル)−ベンゾトリアゾールからなる混合物、および2−(3′−t−ブチ
ル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フ
ェニル−ベンゾトリアゾール、2,2′メチレン−ビス[4−(1,1,3,3
−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イル−フェノール];
2−[3′−t−ブチル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒ
ドロキシ−フェニル]−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300と
の反応生成物;[R−CH2CH2−COO(CH2)3]2、その際、R=3
′−t−ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル−フェニル; p)2−ヒドロキシベンゾフェノン、たとえば4−ヒドロキシ−、4−メトキ
シ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベ
ンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−、2′ヒドロキシ−4,4
′−ジメトキシ−誘導体; q)置換もしくは非置換の安息香酸のエステル、たとえば4−t−ブチル−フ
ェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニル−サリチレート
、ジベンゾイルレゾルシン、ビス(4−t−ブチル−ベンゾイル)−レゾルシン
、ベンゾイルレゾルシン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸−
2,4−ジ−t−ブチルフェニルエステル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シ安息香酸−オクタデシルエステル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
安息香酸−2−メチル−4,6−ジ−t−ブチルフェニルエステル; r)3−アリールアクリル酸エステル、たとえばエチル−α−シアノ−β,β
−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−α−シアノ−β,β−ジフェニルア
クリレート、メチル−α−メトキシカルボニルシンナメート、メチル−α−シア
ノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、ブチル−α−シアノ−β−メチ
ル−p−メトキシ−シンナメートおよびメチル−α−メトキシカルボニル−p−
メトキシシンナメート; s)オキサアミジン、たとえば4,4′−ジオクチルオキシオキサアニリド、
2,2′−ジエトキシオキサアニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′
−ジ−t−ブトキシアニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−t
−ブトキシアニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキシアニリド、N,N′−
ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサアミド、2−エトキシ−5−t−ブ
チル−2′−エトキシアニリドおよびこれらと2−エトキシ−2′−エチル−5
,4′−ジ−t−ブトキシアニリドとの混合物、ならびにo−、p−メトキシ−
二置換されたオキシアニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二置換
されたオキシアニリドの混合物; t)ホスファイトおよびホスホナイト、たとえばトリフェニルホスファイト、
ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス(
ノニルフェニル)−ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、ジステアリル−ペンタエリトリットジホスファイト、トリス(
2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ホスファイト、ジイソデシルペンタエリト
リット−ジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ペンタエ
リトリットジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニ
ル)−ペンタエリトリットジホスファイト、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエ
リトリットジホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニ
ル)−ペンタエリトリットジホスファイト、ビス(2,4,6−トリ−t−ブチ
ルフェニル)−ペンタエリトリットジホスファイト、トリ−ステアリル−ソルビ
ット−トリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4
,4′−ビフェニレン−ジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8
,10−テトラ−t−ブチル−12H−ジベンゾ[d、g]−1,3,2−ジオ
キサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12
−メチル−ジベンゾ−[d、g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2
,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−メチルホスファイト、ビス(2
,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−エチルホスファイト; u)金属脱活剤、たとえばN,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリ
チラール−N′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビス(サリチロイル)−
ヒドラジン、N,N′−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリア
ゾール、ビス(ベンジリデン)−シュウ酸ジヒドラジド、オキシアニリド、イソ
フタル酸−ジヒドラジド、セバシン酸−ビス−フェニルヒドラジド、N,N′−
ジアセチル−アジピン酸−ジヒドラジド、N,N′−ビス−サリチロイル−シュ
ウ酸−ジヒドラジド、N,N′−ビス−サリチロイル−チオプロピオン酸−ジヒ
ドラジド; v)ヒドロキシルアミン、たとえば水素化した獣脂アミンからのN,N−ジベ
ンジルヒドロキシアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオ
クチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−
ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オク
タデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシ
ルアミン、N,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
により誘導される分解に対して安定させるために適切である。生存していない有
機材料とはたとえば化粧品、たとえばクリームおよびローション、医薬製剤、た
とえばピルおよび座薬、写真撮影材料、特に写真用エマルション、プラスチック
および塗料のための前駆物質、しかし特に塗料およびプラスチック、たとえば合
成ポリマー自体と理解する。このような材料の例は次のものである: 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、たとえばポリプロピレン
、ポリイソブチレン、ポリブテン−1、ポリ−4−メチル−ペンテン−1、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエンならびにシクロオレフィン、たとえばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー;さらにポリエチレン(これは場合により
架橋していてもよい)、たとえば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度およ
び高分子量のポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度および超高分子のポリ
エチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポ
リエチレン(LDPE)、低密度の直鎖状ポリエチレン(LLDPE)、低密度
の分枝鎖状ポリエチレン(VLDPE)。
されているが、特にポリエチレンおよびポリプロピレンは、種々の方法で、特に
ラジカル的に、もしくは触媒を用いて製造することができ、その際、触媒は通常
、IVb属、Vb属、VIb属またはVIII属の金属1種以上を含有する。こ
れらの触媒系は通常、フィリップス(Phillips)、Standard Oil Indiana、ツィー
グラー(・ナッタ)、TNZ(DuPont)、メタロセンまたはシングルサイト触媒
(SSC)と呼ばれている。
チレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物(たとえばPP/
HDPE、PP/LDPE)および種々のポリエチレンの混合物(たとえばLD
PE/HDPE)。
ーとのコポリマー、たとえばエチレン−プロピレン−コポリマー、低密度の直鎖
状ポリエチレン(LLDPE)およびこれらと低密度ポリエチレン(LDPE)
との混合物、プロピレン−ブテン−1−コポリマー、プロピレン−イソブチレン
−コポリマー、エチレン−ブテン−1−コポリマー、エチレン−ヘキセン−コポ
リマー、エチレン−メチルペンテン−コポリマー、エチレン−ヘプテン−コポリ
マー、エチレン−オクテン−コポリマー、プロピレン−ブタジエン−コポリマー
、イソブチレン−イソプレン−コポリマー、エチレン−アルキルアクリレート−
コポリマー、エチレン−アルキルメタクリレート−コポリマー、エチレン−ビニ
ルアセテート−コポリマーおよびこれらと一酸化炭素とのコポリマー、またはエ
チレン−アクリル酸−コポリマーおよびこれらの塩(イオノマー)、ならびにエ
チレンとプロピレンおよびジエン、たとえばヘキサンジエン、ジシクロペンタジ
エンまたはエチリデンノルボルネンのターポリマー;さらにこれらのコポリマー
相互および1.に記載したポリマーとの混合物、たとえばポリプロピレン/エチ
レン−プロピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテート−コポ
リマー、LDPE/エチレン−アクリル酸−コポリマー、LLDPE/エチレン
−ビニルアセテート−コポリマー、LLDPE/エチレン−アクリル酸−コポリ
マーおよび交互に、もしくはランダムに構成されたポリアルキレン/一酸化炭素
−コポリマーおよびこれらとその他のポリマー、たとえばポリアミドとの混合物
。
ルキレンとデンプンとの混合物を含む。
レン)。
のコポリマー、たとえばスチレン−ブタジエン、スチレン−アクリロニトリル、
スチレン−アルキルメタクリレート、スチレン−ブタジエン−アルキルアクリレ
ートおよび−メタクリレート、スチレン−マレイン酸無水物、スチレン−アクリ
ロニトリル−メタクリレート;スチレン−コポリマーとその他のポリマー、たと
えばポリアクリレート、ジエン−ポリマーまたはエチレン−プロピレン−ジエン
−ターポリマーとからなる耐衝撃性の高い混合物;ならびにスチレンのブロック
−コポリマー、たとえばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレ
ン−スチレン、スチレン−エチレン/ブテン−スチレンまたはスチレン−エチレ
ン/プロピレン−スチレン。
リブタジエン上のスチレン、ポリブタジエン−スチレン−もしくはポリブタジエ
ン−アクリロニトリル−コポリマー上のスチレン、ポリブタジエン上のスチレン
およびアクリロニトリル(もしくはメタクリロニトリル);ポリブタジエン上の
スチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエン上の
スチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエン上のスチレン、アクリロニトリ
ルおよび無水マレイン酸もしくはマレイン酸イミド;ポリブタジエン上のスチレ
ンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエン上のスチレンおよびアルキルアクリ
レートもしくはアルキルメタクリレート、エチレン−プロピレン−ジエン−ター
ポリマー上のスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートもし
くはポリアルキルメタクリレート上のスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート−ブタジエン−コポリマー上のスチレンおよびアクリロニトリル、ならび
にこれらと6.に記載したコポリマーとの混合物、たとえばいわゆるABSポリ
マー、MBSポリマー、ASAポリマーまたはAESポリマーが公知である。
チレン−イソプレンからなる塩素化および臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)
、塩素化もしくはクロロスルホン化したポリエチレン、エチレンと塩素化エチレ
ンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモポリマーおよび−コポリマー、特に
ハロゲン含有のビニル化合物からなるポリマー、たとえばポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン;ならびにこれらの
コポリマー、たとえば塩化ビニル−塩化ビニリデン、塩化ビニル−ビニルアセテ
ートまたは塩化ビニリデン−ビニルアセテート。
ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、ブチルアクリレートで耐衝撃性に
変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリル
ニトリル。
リマー、たとえばアクリロニトリル−ブタジエン−コポリマー、アクリロニトリ
ル−アルキルアクリレート−コポリマー、アクリロニトリル−アルコキシアルキ
ルアクリレート−コポリマー、アクリロニトリル−ハロゲン化ビニル−コポリマ
ーまたはアクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエン−ターポリマ
ー。
から誘導されるポリマー、たとえばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテー
ト、−ステアレート、−ベンゾエート、−マレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレート、ポリアリルメラミン;ならびにこれらと1.に記載した
オレフィンとのコポリマー。
ングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、またはこれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
たとえばエチレンオキシドを含有するポリオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタ
ン、アクリレートもしくはMBSにより変性されているポリアセタール。
とスチレンポリマーもしくはポリアミドとの混合物。
よびポリブタジエンおよび他方では脂肪族もしくは芳香族ポリイソシアネートと
から誘導されるポリウレタン、ならびにこれらの前駆物質。
応するラクタムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポリア
ミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12、4/
6、12/12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレン、ジアミンお
よびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンおよび
イソフタル酸および/またはテレフタル酸および場合により変性剤としてのエラ
ストマーから製造されるポリアミド、たとえばポリ−2,4,4−トリメチルヘ
キサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレン−イソフタルアミド
。前記のポリアミドとポリオレフィン、オレフィン−コポリマー、イオノマーま
たは化学的に結合したもしくはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリ
マー;またはポリエーテル、たとえばポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー。さら
にEPDMもしくはABSで変性されたポリアミドまたはコポリアミド;ならび
に加工の際に縮合したポリアミド(”RIM−ポリアミド系)。
エステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンゾイミダゾール。
または相応するラクトンから誘導されるポリエステル、たとえばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロールシク
ロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシ
ル末端基を有するポリエーテルから誘導されるブロック−ポリエーテルエステル
;さらにポリカーボネートまたはMBSにより変性されたポリエステル。
ら誘導される架橋ポリマー、たとえばフェノール−ホルムアルデヒド−樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド−樹脂およびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。
、ならびに架橋剤としてのビニル化合物から誘導される不飽和ポリエステル樹脂
、ならびにそのハロゲン含有の難燃性変態。
とえばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリ
レート。
ソシアネートまたはエポキシド樹脂により架橋されているアルキド樹脂、ポリエ
ステル樹脂およびアクリレート樹脂。
導される架橋したエポキシド樹脂、たとえば通常の硬化剤、たとえば無水物もし
くはアミンにより促進されて、もしくは促進されずに架橋するビスフェノール−
A−ジグリシジルエーテル、ビスフェノール−F−ジグリシジルエーテルの前駆
物質。
これらのポリマー同族体の化学的に変化した誘導体、たとえばセルロースアセテ
ート、−プロピオネートおよび−ブチレート、もしくはセルロースエーテル、た
とえばメチルセルロース;ならびにコロホニウム樹脂および誘導体。
M、ポリアミド/EPDMもしくはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、
PVC/MBS、PC/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE
、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、P
OM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6.6
およびコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC
/ABSまたはPBT/PET/PC。
物質、たとえば鉱油、獣脂または植物性油脂、油およびワックス、または任意の
質量比の合成エステルと鉱油をベースとする油、ワックスおよび脂肪、たとえば
これは紡糸調製物として適用されている。ならびにこれらの水性エマルション。
クスまたはカルボキシル化したスチレン−ブタジエン−コポリマーのラテックス
。
ンおよびスチレンのホモポリマーおよびコポリマーを安定化するために適切であ
る。
、有利には0.01〜2質量%、特に0.05〜1質量%の濃度で安定化すべき
有機材料にその製造前、製造中またはその製造後に添加する。
5質量%の濃度で含有されているマスターバッチの形で製造し、かつ安定化すべ
き材料に添加することができる。
4−ピペリジニル)マレイン酸イミド−C20〜C24−α−オレフィン−コポ
リマーと、鉄−ジベンゾ[b、i]−1,4,8,11−テトラアザ−[14]
アヌレン0.1%とを混合することにより安定剤組成物を製造した。
サー中、180℃で混合し、次いで実験室用押出機中、180℃の温度で均質化
し、かつ造粒した。得られた粒状物からインフレーション装置中で、厚さ70μ
mのシートを製造した。該シートをDIN5338によるXenotest 1200タイプ
の促進耐候性試験装置中で曝露した。引き続きXenotest 1200中で0時間、50
4時間、1008時間および1512時間曝露した後でEN ISO 527−
1により伸び率を測定した。伸び率はシートの老化のための尺度である。伸び率
の低下とともにシートはその品質を失う。結果は第1表にまとめられている。
値(カルボニル値)を測定した。CO値は、曝露条件下で光酸化により形成され
るカルボニル基の濃度のための尺度である。CO値は試験シートの厚さに依存し
、その場合、1715cm- 1(5.83μmに相応)でのCO−バンド最大値
のIR−吸光率は、ポリマーの老化に依存した隣接バンドの吸光率と比較して表
される。ポリエチレンに関して次の定義が該当する。
1ppmおよび付加的にN,N′−ビス(1−オキシル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−N,N′−ビスホルミル−1,6−ジアミノ
ヘキサン(ニトロキシルラジカル)0.1質量%を使用した。
ジカル0.5質量%を使用した。
Claims (10)
- 【請求項1】 安定剤組成物において、 A)アミンの窒素原子に対してα−位にあるすべての置換基が水素とは異なる
第二アミン、または該第二アミンから誘導される第三アミン、ヒドロキシルアミ
ン、アルコキシルアミンまたはアミドから選択される、少なくとも150の分子
量を有する窒素化合物少なくとも1種、および B)鉄化合物少なくとも1種 を含有する、安定剤組成物。 - 【請求項2】 窒素化合物が一般式: 【化1】 [式中、 R1は、H、C1〜C8−アルキル、CH2CN、OH、C1〜C8−アルコ
キシ、C3〜C6−アルケニルまたはC1〜C8−アシルを表し、 Qは、分子量15以上を有し、O、NまたはCを介して結合しているm価の有
機基を表し、かつ mは、1〜100の整数を表す]を有する、請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 Qが、 【化2】 【化3】 【化4】 [式中、 R2は、C1〜C12−アルキルまたは−(CH2)z−COOR7を表し、 R3は、水素またはC1〜C18−アルキルを表し、 R4は、C1〜C18−アルキル、ビニル、イソプロペニルまたはフェニルを
表し、これはC1〜C4−アルキルから選択される置換基を1つ、2つもしくは
3つ有していてもよく、 R5は、C8〜C22−アルキルを表し、 R6は、水素またはラジカル重合開始剤の基を表し、 R7は、C1〜C18−アルキルを表し、 kは、0または1を表し、 x、zは、相互に無関係に1〜12を表し、かつ nは、偶数mを表す]から選択されている、請求項2記載の組成物。 - 【請求項4】 鉄化合物が、 a)有機金属鉄カルボニル化合物、 b)非置換もしくは置換されたフェロセン化合物、 c)鉄原子が酸素、窒素、硫黄および/またはリンを介して配位結合している
リガンドを有する鉄錯体、 d)鉄ハロゲン化物−もしくは鉄プソイドハロゲン化物−化合物 から選択されている、請求項1から3までのいずれか1項記載の組成物。 - 【請求項5】 窒素化合物に対して鉄化合物1質量ppm〜5質量%を含有
している、請求項1から4までのいずれか1項記載の組成物。 - 【請求項6】 安定したニトロキシルラジカルを付加的に少なくとも1種含
有する、請求項1から5までのいずれか1項記載の組成物。 - 【請求項7】 窒素化合物に対してニトロキシルラジカルを0.01〜10
質量%含有する、請求項6記載の組成物。 - 【請求項8】 生存していない有機材料を光、熱または酸素の作用に対して
安定化するための、請求項1から7までのいずれか1項記載の安定剤組成物の使
用。 - 【請求項9】 有機材料が合成ポリマー、特にポリオレフィンまたはスチレ
ンのホモポリマーもしくはコポリマーを含む、請求項8記載の使用。 - 【請求項10】 合成ポリマーを少なくとも1種および請求項1から7まで
のいずれか1項記載の安定剤組成物を有効量含有する、熱可塑性成形材料。
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