JP2003520642A - 滅菌放射線を用いた治療用流体の病原体不活性化のためのデバイスおよび方法 - Google Patents
滅菌放射線を用いた治療用流体の病原体不活性化のためのデバイスおよび方法Info
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Abstract
Description
るための、滅菌放射線を用いた生物学的流体の処理に関する。特に、本発明は、
放射線量の均一性を示しながら、連続的なフローの配置で滅菌放射線を用いて治
療用流体中の病原体を不活性化するためのデバイスおよび方法に関する。
る。これらの流体の多くは、生物起源の流体(例えば、血液、血漿、または血液
もしくは血漿の種々のフラクション)である。例えば、血液の凝固を促進し生命
を脅かす出血を防ぐ血漿タンパク質第VIII因子が、この第VIII因子を欠
く血友病患者の止血を維持するために用いられる。別の例は、血漿由来免疫グロ
ブリンである。これは、患者の免疫性防御を強化および補充するために用いられ
る。ドナーの血液が保有する病原体(例えば、ウイルスおよび他の微生物)によ
るこのような流体の汚染は、患者の健康にとって有害であり得、そして患者の死
さえも引き起こし得る。従って、これらの流体が患者に導入される前に、これら
の病原体を実質的に消滅させる方法が実施されなければならず、一方でこの病原
体不活性化プロセスの間、有用な流体成分の変性を最小限に抑えなければならな
い。
を不活性化するための界面活性剤処理、熱処理、および種々のウイルス性物質を
無害にするための化学処理ならびに光化学処理が挙げられる。いくつかの光化学
処理法は、米国特許第5,683,661号、同第5,854,967号、同第5,
972,593号、およびそれらに引用されている参考文献に記載されている。
しかし、これらの方法は、大容量で連続的な処理の適用(例えば、第VIII因
子または免疫グロブリンの製造用の生産ライン)の助けとほとんどならない傾向
がある。これらの方法はまた、高価でもある。
は、広範な病原体の不活性化に有効であることが見出された。滅菌放射線プロセ
スの使用は、代表的に化学処理よりも経済的である。滅菌放射線は、病原体の遺
伝的な核酸(DNA)の結合を切断し得る電磁放射線と定義される。代表的に核
酸は、処理されたタンパク質産物よりも滅菌放射線による損傷に対する感受性が
ずっと大きい。
のための装置について記載している。しかし、開示されたこのバッチ処理法は、
空間的に不均等な様式での流体の照射を引き起こす。さらに開示された無作為で
無秩序な攪拌プロセスが、種々の流体成分に対する広範な照射時間の原因となる
。この不均等な照射は、一貫性のない放射線量の原因となり得、非効果的な病原
体の除去(照射不足)または有益な生物学的物質に対する損傷(過剰照射)を引
き起こし得る。
効であり、そして大容量の生産の助けとなる。一貫した滅菌放射線照射場を伴う
連続的なフロープロセスにおいて、流体の移行時間、滞留時間は、流体によって
受け取られた放射線量に直接的に関連する。従って、連続的なフロー処理プロセ
スは、流体要素の滞留時間の分布が、可能な限り狭いことを必要とする。バッチ
プロセスとの類似性から、短い滞留時間の分布は、不充分な不活性化線量の放射
の原因となり、そして長い滞留時間の分布は、有益な生物学的物質の効能の損傷
および減少の原因となり得る。
な流体フローに対して放物線状の速度プロフィールが存在する。このプロフィー
ルにおいて、チャネルの中央の流体は、最大速度で移動し、そしてチャネル壁に
近い流体は、ほとんど静止状態を維持する。従って、滞留時間は、中央での最大
速度に対しては最も短く、そして中央から半径方向外側へ移動するフロープロフ
ィールの連続部分に対して増加する。乱流または機械的な攪拌の非存在下でにお
いて、チャネル壁付近の流体量は、極めて長い滞留時間を有する。従って、この
チャネル壁付近の体積流量は、放射線への過剰照射の危険を伴う。さらに、特定
のチャネル壁が、放射線源の近位側にある場合、生物学的流体の極めて重篤な過
剰照射が生じ得る。
、流体の一貫した放射線量を制御する因子である。特定の生物学的流体の光学密
度に依存して、流体への滅菌放射線の透過は、極めて浅くなり得る。このことは
、低度または中程度のエネルギーで加速された電子かまたは短い波長のUV線の
場合において、特にあてはまる。例えば、200Kevの電子の水への浸入度は
、0.5mm(20mils)よりも小さい。同様に250nmの波長のUV線
は、約75ミクロン(約3mils)の浸入度のヒト血漿において強度の半分を
失う。従って、比較的薄い流体フロー通路が、流体に対するより均一な放射線量
を提供することに関して有利であり得る。
置された、液体の混合を容易にするための静的なミキサーを利用するUV照射装
置を記載している。この装置はまた、流体温度を制御するための熱交換器を組み
込み、照射時の局在化した加熱を防止する。この局在化した加熱は、その称する
ところでは、物質の不溶性粒子の形成の原因となる。これらの粒子は病原体をU
V線から遮蔽し得る。従って、’01454号特許出願は、これらの粒子が形成
する可能性を減少させるために、熱交換器を提供している。しかし、この装置は
、流体の滞留時間分布の制御よりも流体温度の制御に焦点を合わせている。静的
なミキサーの存在は流動抵抗を増加させ、そして流体の滞留時間の分布に対する
深刻な逆効果を有し、また流体フローの圧力水頭を有意に増加させ、それによっ
てこのデバイスが大容量のスループットの助けとほとんどならない。さらに、ス
クリューチャネル間で形成される深いチャネルが、流体の混合にも関わらず、流
体の不均等な放射線量の助けとなる。この装置は、浅い浸入度に起因する不均等
量の照射を扱うための制御された方法を提供しない。
極めて有効な、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することは、本発明の
目的である。
御および予想可能な混合を用いた、滅菌放射線による生物学的流体の病原体不活
性化のための連続的なフローデバイスおよび方法を提供することもまた、本発明
の目的である。
続的なフローデバイスおよび方法を提供することもまた、本発明の目的である。
線照射に対するさらに別の制御を提供する、連続的なフローデバイスおよび方法
を提供することもまた、本発明の目的である。
小限に抑える、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが、本発明の
別の目的である。
連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別の目的である。
が可能である、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本発明の別
の目的である。
本発明の別の目的である。
提供することが本発明の別の目的である。
が本発明の別の目的である。
性の実証が可能である、連続的なフローデバイスおよび方法を提供することが本
発明の別の目的である。
らかになる。
布を示す連続的なフローの通路の配置における滅菌放射線を用いた生物学的流体
中の病原体を不活性化するためのデバイスおよび方法を提供する。このデバイス
はまた、二次流れの生成を通じた制御された予測可能な流体の回転を提供する。
この回転は、流体の放射線照射の制御に寄与する。このデバイスは、高い光学密
度を有する流体に放射線量の均一性を提供することに関して特に有効である。
する放射線透過性の円筒形の管を備え、これによって、それらの間に比較的細い
間隙を提供する。頂部(top plate)プレートおよび底部プレート(b
ottom plate)は、この管をシールする。頂部プレートおよび底部プ
レートは、タイロッド(tie rod)で共に保持される。底部プレートは、
管とローターとの間の細い間隙と流体連通した流体入口(fluid inle
t)を有する。頂部プレートは、同様に管とローターとの間の間隙と流体連通し
た流体出口(fluid outlet)を有する。底部プレートは、基盤(b
ase)に固定されており、基盤は、ドライブコントローラおよびドライブシャ
フトを有するモーターを備える。ローターシャフトは、円筒形のローターを通じ
て軸方向に配置されており、そして底部プレート上のローター開口部を通って延
びている。このローターシャフトはまた、基盤上の開口部を通って延びており、
そしてこのモーターのドライブシャフト上のローターシャフトギアおよびモータ
ーギアを介して、モーターと機械的に連結されている。
このデバイスを通過する流体のフローを提供する。流体がこのデバイスを通って
上方向へ流れるとき、放射線源は、管を通じて流体を滅菌照射する。放射線源は
、特定の流体に対して最適な波長で、滅菌UV線を提供する。管とローターとの
間の間隙は、流体フロー中での最小限の圧力降下を伴う高流量の流体を提供する
ために設計されている。流体が流れるとき、モーターはローターを駆動し、テイ
ラー渦の形態で流体中に二次流れを与え、この二次流れが、管により近い流体と
ローターにより近い流体とを交換する。このテイラー渦により引き起こされる制
御される予測可能な混合は、このデバイスを通じて流れる流体の均一な放射線量
を提供する。このデバイスはまた、デバイス内の流体の滞留時間の狭い分布を示
す。
する相対的に平坦で剛性の流体チャンバー、内部底部表面ならびに流体入口およ
び流体出口を備える。このチャンバーは、流体入口から外向きに突出している角
度付けられた側表面を有し、そしてこの側表面は、入口を通って流れる流体のた
めのディフューザー(diffuser)を形成している。このチャンバーの出
口はまた、角度付けられた側表面で構成されており、出口での圧力水頭を減少さ
せ得る。放射線源は、チャンバーの頂部表面に隣接して提供される。カスケード
上部表面(cascading upper surface)を有するカスケ
ード基盤(cascading base)は、流体チャンバー内の内部底部表
面上に配置される。このカスケード上部表面は、流体チャンバーを通って流れる
ときに、流体に対するカスケード効果を生成する複数のハンプ(hump)を有
する。流体がチャンバーを通って流れるとき、流体の薄膜が各ハンプに覆い被さ
り、そして高透明度のプレートを通過する放射線に曝される。カスケード基盤の
幾何学は、渦形成の形態で流体中に二次流れを与える。この渦形成は、流体の制
御された予測可能な混合を提供し、流体の均一な放射線照射を保証する。
定の実施形態が示されているが、一方で当業者が本明細書に記載される発明を改
変し得るがなお本発明の所望の結果を達成し得ることが最初から理解される。従
って、以下の説明は、適切な分野の当業者に向けられた広範な参考となる開示で
あって、本発明の限定ではないと理解されるべきである。図1および図2を参照
すると、デバイス10は、デバイス10を通って流れる流体を均一に照射するた
めに提供される。このデバイス10は、管12内に配置された同心円の円筒形ロ
ーターを有する放射線透過性の円筒形の管12を備え、それによってそれらの間
に細い間隙16を提供する。円筒形の管12は、特定の流体を滅菌するために用
いられる放射線のタイプに対して高度に透明である。好ましくは、この円筒形の
管12は、溶融石英またはポリ(メチルペンテン)から作製される。頂部プレー
ト18および底部プレート20は、円筒形の管12をシールする。頂部プレート
18および底部プレート20は、1つ以上のタイロッド22を用いて共に保持さ
れる。底部プレート20は、円筒形の管12とローター14との間の細い間隙1
6と流体連通した流体入口24を備える。頂部プレート18は、同様に円筒形の
管12とローター14との間の薄い間隙16と流体連通した流体出口26を備え
る。流体のフロー方向は、図1における矢印AおよびBにより示される。しかし
、流体入口24および流体出口26は、円筒形の管12の任意の位置で提供され
る。頂部プレート18および底部プレート20は、シリンダーと頂部プレート1
8ならびにシリンダーと底部プレート20との間の液密シールを提供するように
設計される。圧縮型のシールを提供するのに適切な硬度(durometer)
を有するo−リング、グロメット(grommet)または他の形態の材料(示
されていない)が、シールを提供するために用いられ得る。
ーラ30およびドライブシャフト34を有するモーター32を備える。ローター
シャフト36は、円筒形のローター14を通じて軸方向に配置されており、そし
て底部プレート20のローター開口部38を通って伸びている。ローターシール
39は、ローターシャフト36の周囲およびローター開口部38内に同心円状に
配置されている。ローターシール39は、流体が円筒形の管12から漏れるのを
防ぐ。ローターシャフト36はまた、基盤28上の開口部40を通って延びてお
り、そしてこのモーター32のドライブシャフト34上のローターシャフトギア
42およびモーターギア44を介して、モーター32と機械的に連結されている
。あるいは、モーター32は、ローターシャフト36に直接的に連結されている
。この構成において、モーター32は、直立位置(upright posit
ion)に取りつけられており、そしてローターシャフト36とインラインであ
る。
ら頂部プレート18の出口26への、このデバイス10を通過する流体のフロー
を提供する。流体がこのデバイス10の円筒形の管12を通って上方向へ流れる
とき、放射線源(示されていない)は、円筒形の管12を通じて流体を照射(矢
印Cにより示される)する。あるいは、流体入口24および流体出口26は、管
12上の任意の位置に提供され、任意の方向の流体フローを提供し得る。円筒形
の管12とローター14との間の間隙16は、デバイス10を通過する流体の高
流量および最小限の圧力低下の助けとなる比較的細い流体通路を提供する。流体
が流れるとき、モーター30はローター14を駆動し、テイラー渦の形態で流体
に二次流れを与え、この二次流れが、円筒形の管12により近い流体とローター
14により近い流体とを交換する。流体通路とテイラー渦により引き起こされる
混合との組合せは、デバイス10内の流体の滞留時間の狭い分布を提供する。
ティングされるかまたはUV反射物質をプリントされており、流体の均一な放射
線照射を提供することに関してさらなる助けとなる。好ましくは、このコーティ
ングは、酸化マグネシウムかまたは酸化チタンである。さらに、光ファイバー技
術が、このデバイス10のローター14に組み込まれて、放射線源からの管12
を通じた放射線と共に、ローターからの放射線を提供する。この配置は、流体フ
ローの2つの側からの流体の照射を提供する。
部に流体チャンバー113を規定する、相対的に平坦で剛性な流体チャンバーハ
ウジング112を備える。この流体チャンバーハウジング112は、放射線透過
性の平坦な頂部表面114、流体入口116および流体出口118を有する。こ
のチャンバー113は、流体入口116から外向きに突出している、角度付けら
れた側表面120および122を有し、そして図4に示すように、入口116を
通って流れる流体のためのディフューザー124を形成している。このチャンバ
ーハウジング112の出口118はまた、角度付けられた側表面で構成されてお
り、出口116での圧力水頭を減少させ得る。流体チャンバーハウジング112
の平坦な頂部表面114は、特定の流体を滅菌するための用いられる放射線のタ
イプに対して高度に透明である材料から作製される。カスケード基盤126は、
流体チャンバー113の底部を含む。カスケード基盤126は、流体チャンバー
113内に配置されたカスケード上部表面128を有する。このカスケード上部
表面128は、流体チャンバー113を通って流れるときに、流体に対するカス
ケード効果を生成する複数のハンプ130を有する。
覆い被さり、そして高透明度の頂部表面114を通過する放射線(図3において
矢印Cにより示される)に曝される。カスケード基盤126は、渦形成の形態で
流体中に二次流れを与える。この渦形成は、流体の制御された予測可能な混合を
提供し、流体チャンバー113内の流体の均一な放射線照射を保証する。
BS、改質アクリル樹脂および改質PET)から射出成形され得る。これらの樹
脂はまた、UV照射に対して高度な反射性を有する色素(例えば、無機酸化物)
とブレンドされ得る。あるいは、カスケード上部表面128は、UV反射物質(
例えば、金属酸化物)でコーティングされるかまたはプリントされ、流体の均一
な放射線照射を提供することに関してさらなる助けとなる。好ましくは、このコ
ーティングは、酸化マグネシウムまたは酸化チタンである。
例えば、電離UVレーザーまたはパルスレーザー)である。しかし、γ線または
電子(β)線もまた用いられ得る。滅菌放射線のタイプは、滅菌される特定の流
体に基き変化し得る。滅菌放射線のこれらのタイプの全ては、広範な病原体に対
して有効であることが見出されている。図5で示されるグラフは、UV線に対す
る波長の範囲にわたるヒト血漿の吸収性を表わす。好ましくは、240nmと2
50nmとの間の波長を有するUV線が、ヒト血漿を処理するために用いられる
。
40、および100の吸光度(absorbance)での光の強度を浸入度の
関数として表わすグラスを示す。250nmの波長でのUV線は、約0.15m
m(6mils)の浸入度のヒト血漿において強度の半分を失う。このことは、
流体中での(特に、流体チャンバー壁での)非均一な放射線量の分布をもたらし
得る。デバイス10により流体中に与えられるテイラー渦およびデバイス110
のカスケード基盤126により与えられる渦形成は、この効果を実質的に最小化
し、それによってより均一な流体の放射線照射を提供する。従って、これらのデ
バイスは、高い光学密度を有する流体に均一な放射線量を提供することに関して
特に有効である。
実証される。
。この青色色素を用いて、デバイス内の流体の滞留時間を分光光度計を使用して
測定した。流体流がデバイスの流体出口を通って出るときに流体流の吸光度を、
時間の関数としてモニターした。吸光度を、データ取得システムに備え付けられ
たフロースルー分光光度計を用いてモニターした。特別な注入弁(inject
or valve)を用いて、反復ごとに同量の色素が用いられることを保証し
た。グリセロール−水溶液を用いて、血漿の流動抵抗(4℃にて約3cp)をシ
ミュレートした。測定されたグリセロール−水溶液の流動抵抗は、2.77cp
であった。この実験に関して、流量は、102ml/分であり、そしてローター
とシリンダーとの間の間隙は、0.1088インチであった。吸光度の読み出し
を、0.5秒ごとに行った。
表にする。
布A(ti)を、以下の式を用いて生分布R(ti)からまず算出した。
下のように算出した。
のように定義される。
ーター半径の比であり、そしてνは流体の動粘性率である。渦は、1724以上
のテイラー数で存在する。
流体の滞留時間の80%を表わす。これらの時間の決定方法は、図8に例示目的
で図示されている。図8に示される曲線は、図7で示された50rpmの曲線で
ある。この例は、デバイスのローターが0rpmと100rpmとの間で作動し
た場合に、最も短い滞留時間の分布が達成されたことを証明する。
から大きく逸脱することなく想到され、そして保護の範囲は、添付の特許請求の
範囲によってのみ限定される。
不活性化するためのデバイスの断面側面立体図である。
口に隣接する角度付けられた側表面を示す。
ト血漿の紫外線吸収率を表わすグラフである。
て表わすグラフである。
ローターの種々のRPMにて、デバイスを通って流れる流体に対する滞留時間の
分布を示すグラフである。
時間の80%を算出する方法を説明するグラフである。
Claims (39)
- 【請求項1】 流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以
下: 流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器; 該容器内に配置されたミキサーであって、該流体の制御された予測可能な混合
を提供するミキサー;および 該容器から固定された距離に配置された放射線源であって、ここで、該放射線
源が、該容器を通って移動する該流体を照射する、放射線源 を備える、デバイス。 - 【請求項2】 前記放射線透過性容器が、石英から作製される、請求項1に
記載のデバイス。 - 【請求項3】 前記放射線透過性容器が、ポリ(メチルペンテン)から作製
される、請求項1に記載のデバイス。 - 【請求項4】 前記放射線源が、紫外線源である、請求項1に記載のデバイ
ス。 - 【請求項5】 前記放射線源が、電離紫外線レーザーである、請求項1に記
載のデバイス。 - 【請求項6】 前記電離紫外線レーザーが、パルスレーザーである、請求項
5に記載のデバイス。 - 【請求項7】 前記電離紫外線レーザーが、およそ240nmと260nm
との間の紫外光放射を生じる、請求項5に記載のデバイス。 - 【請求項8】 請求項7に記載のデバイスであって、前記紫外光放射のエネ
ルギーが、0.1Jよりも大きい、デバイス。 - 【請求項9】 流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、以
下: 流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器; 該容器内に配置されたミキサーであって、該ミキサーと該容器との間に間隙を
形成し、ここで、該ミキサーが、該間隙を通って移動する該流体フロー内に二次
流れを与える、ミキサー;および 該容器から固定された距離に配置された滅菌紫外線源であって、該間隙を通っ
て移動する該流体を照射する、紫外線源 を備える、デバイス。 - 【請求項10】 前記ミキサーが、回転シリンダーを備える、請求項9に記
載のデバイス。 - 【請求項11】 前記ミキサーが、カスケード表面を備える、請求項9に記
載のデバイス。 - 【請求項12】 前記二次流れが、テイラー渦である、請求項9に記載のデ
バイス。 - 【請求項13】 前記二次流れが、幾何学的に誘導される渦状形態である、
請求項9に記載のデバイス。 - 【請求項14】 前記滅菌紫外線源が、紫外線レーザーである、請求項9に
記載のデバイス。 - 【請求項15】 前記紫外線レーザーが、およそ240nmと260nmと
の間の紫外光放射を生じる、請求項14に記載のデバイス。 - 【請求項16】 前記紫外光放射のエネルギーが、0.1Jよりも大きい、
請求項15に記載のデバイス。 - 【請求項17】 流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、
以下: 内部表面、流体入口、流体出口を有するシールされた放射線透過性の中空のシ
リンダーであって、該流体入口および該流体出口が流体フロー中の流体と流体連
通している、放射線透過性の中空のシリンダー; 該シリンダー内に同心的に配置されている円筒形ローターであって、これによ
って該ローターと該中空シリンダーの内部表面との間に間隙を形成する、円筒形
ローター; 該円筒形ローターに連結されたローターシャフト; 該ローターシャフトに機械的に連結され、そして該シリンダー内で該ローター
の回転を与え得るモーターであって、ここで、該ローターの回転が、該間隙を通
って移動する該流体フロー内にテイラー渦を与える、モーター;および 該間隙を通って移動する該流体を照射する、該シリンダーから固定された距離
に配置された滅菌放射線源 を備える、デバイス。 - 【請求項18】 前記シリンダーが、垂直位置にある、請求項17に記載の
デバイス。 - 【請求項19】 前記シリンダーが、水平位置にある、請求項17に記載の
デバイス。 - 【請求項20】 前記シリンダーが、頂部プレートおよび底部プレートでシ
ールされる、請求項17に記載のデバイス。 - 【請求項21】 請求項20に記載のデバイスであって、前記流体出口が前
記頂部プレートを通過し、そして前記流体入口が前記底部プレートを通過する、
デバイス。 - 【請求項22】 前記ローターが、およそ毎分0回転と毎分200回転との
間の速度で回転する、請求項17に記載のデバイス。 - 【請求項23】 前記ローターが、およそ毎分0回転と毎分100回転との
間の速度で回転する、請求項17に記載のデバイス。 - 【請求項24】 前記ローターが、およそ毎分50回転と毎分100回転と
の間の速度で回転する、請求項17に記載のデバイス。 - 【請求項25】 前記ローターが、該ローター上に放射線反射コーティング
を有する、請求項17に記載のデバイス。 - 【請求項26】 前記ローターが、放射線反射物質から作製される、請求項
17に記載のデバイス。 - 【請求項27】 流体中の病原体を不活性化するためのデバイスであって、
以下: 流体フロー中の流体と流体連通している放射線透過性容器であって、該容器が
、該容器の流体通路を通って移動する該流体フロー中に二次流れを与えるカスケ
ード表面を備える流体通路を規定する、放射線透過性容器;および 該容器から固定された距離に配置された滅菌放射線源であって、該容器の流体
通路を通って移動する該流体を照射する、放射線源 を備える、デバイス。 - 【請求項28】 前記滅菌放射線源が、紫外線レーザーである、請求項27
に記載のデバイス。 - 【請求項29】 前記紫外線レーザーが、パルスレーザーである、請求項2
8に記載のデバイス。 - 【請求項30】 前記滅菌放射線源が、およそ240nmと260nmとの
間の紫外光放射を生じる、請求項27に記載のデバイス。 - 【請求項31】 前記紫外光放射のエネルギーが、0.1Jよりも大きい、
請求項30に記載のデバイス。 - 【請求項32】 前記容器が、平坦な頂面を有する長方形型を有する、請求
項27に記載のデバイス。 - 【請求項33】 前記平坦な頂面が石英から作製される、請求項32に記載
のデバイス。 - 【請求項34】 前記平坦な頂面が、ポリ(メチルペンテン)である、請求
項32に記載のデバイス。 - 【請求項35】 前記容器の前記カスケード表面が、放射線反射物質でコー
ティングされている、請求項27に記載のデバイス。 - 【請求項36】 前記容器の前記カスケード表面が、放射線反射物質から作
製される、請求項27に記載のデバイス。 - 【請求項37】 連続的なフローの配置で滅菌放射線によって流体中の病原
体を不活性化するための方法であって、以下の工程: 連続的な流体フロー中の流体のための流体通路を形成する工程; 該流体通路内の該流体の二次流れを与える工程;および 該流体通路内の該流体を照射する工程、 を包含する、方法。 - 【請求項38】 請求項37に記載の方法であって、前記与えられた二次流
れが、該流体フローの細い流体通路内でのテイラー渦である、方法。 - 【請求項39】 請求項37に記載の方法であって、前記与えられた二次流
れが、幾何学的に誘導される渦状形態である、方法。
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