JP2003517513A - アシルホスフィンオキシド開始剤を使用する光開始剤システム - Google Patents
アシルホスフィンオキシド開始剤を使用する光開始剤システムInfo
- Publication number
- JP2003517513A JP2003517513A JP2001545903A JP2001545903A JP2003517513A JP 2003517513 A JP2003517513 A JP 2003517513A JP 2001545903 A JP2001545903 A JP 2001545903A JP 2001545903 A JP2001545903 A JP 2001545903A JP 2003517513 A JP2003517513 A JP 2003517513A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- composition according
- resin
- epoxy
- filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003999 initiator Substances 0.000 title description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 94
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- -1 hexafluorophosphate Chemical compound 0.000 claims description 80
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 30
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 claims description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 2
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 30
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 27
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 20
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 15
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 12
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 6
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 5
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920013701 VORANOL™ Polymers 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- DSZTYVZOIUIIGA-UHFFFAOYSA-N 1,2-Epoxyhexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC1CO1 DSZTYVZOIUIIGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 1-(6-hydroxy-6-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1C=CC=CC1(C)O ILBBNQMSDGAAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CCCCC(=O)OC1CC2OC2CC1 IDSLNGDJQFVDPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQNSRQYYCSXZDF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenoxymethyl)cyclohexane Chemical compound C=COCC1CCC(COC=C)CC1 DQNSRQYYCSXZDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPSURBCYSCOZSE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound CCCC(O)OC=C FPSURBCYSCOZSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 2-(4-acetyl-2-methoxyphenoxy)acetic acid Chemical compound COC1=CC(C(C)=O)=CC=C1OCC(O)=O WVXLLHWEQSZBLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OCC1OC1 CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OROZEKGYHWNLDN-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]fluoren-1-one Chemical compound O=C1C2=CC3=CC=CC=C3C2=CC=C1C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 OROZEKGYHWNLDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGURUTWFKYJCH-UHFFFAOYSA-N 2-[[1-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)cyclohexyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC1(COCC2OC2)CCCCC1 HIGURUTWFKYJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexane-1,6-diol Chemical compound CCC(CO)CCCCO AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBJWYMFTMJFGOL-UHFFFAOYSA-N 2-hexadecyloxirane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC1CO1 QBJWYMFTMJFGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical class OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSZWWUDQMAHNAQ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CCl SSZWWUDQMAHNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXQFGCIAJSWBTO-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-4-[(5-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl]-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound C1CC2OC2C(C)C1(C(O)=O)CC1CCC2OC2C1C UXQFGCIAJSWBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBXYLMVLLSYZLN-UHFFFAOYSA-N 5beta-Ranol Natural products OC1CC2CC(O)CCC2(C)C2C1C1CCC(C(CCC(O)CCO)C)C1(C)C(O)C2 PBXYLMVLLSYZLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical group C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910001312 Amalgam (dentistry) Inorganic materials 0.000 description 1
- ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N Bis(2,3-epoxycyclopentyl)ether Chemical compound C1CC2OC2C1OC1CCC2OC21 ADAHGVUHKDNLEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000545760 Unio Species 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNSNSKYRRVETLB-UHFFFAOYSA-N [O-]C(C1=CC=CC([I+]C2=CC=CC(C(O)=O)=C2)=C1)=O Chemical compound [O-]C(C1=CC=CC([I+]C2=CC=CC(C(O)=O)=C2)=C1)=O CNSNSKYRRVETLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N butylazanide Chemical compound CCCC[NH-] MSZJEPVVQWJCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- DNWBGZGLCKETOT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane;1,3-dioxane Chemical compound C1CCCCC1.C1COCOC1 DNWBGZGLCKETOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical class [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000448 dental amalgam Substances 0.000 description 1
- 210000004268 dentin Anatomy 0.000 description 1
- 210000004513 dentition Anatomy 0.000 description 1
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- BCQKUSCWNFMCKI-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;hydrogen sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 BCQKUSCWNFMCKI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonimidic acid Chemical compound CCS(N)(=O)=O ZCRZCMUDOWDGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YZEALOSLVNYYJR-UHFFFAOYSA-N ethyl n-(2-ethenoxyethyl)-n-(3-triethoxysilylpropyl)carbamate Chemical compound C=COCCN(C(=O)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC YZEALOSLVNYYJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSGWSXRILNPXKJ-UHFFFAOYSA-N ethyl oxirane-2-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CO1 LSGWSXRILNPXKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTFPVUVWTIJYHK-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;oxiran-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CC(=C)C(=O)OCC1CO1 ZTFPVUVWTIJYHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- KOARAHKGQSHYGJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC(=O)OCC1CO1 KOARAHKGQSHYGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- LOTWRKOXHCMWDB-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-hydroxyethyl)benzamide Chemical compound OCCN(CCO)C(=O)C1=CC=CC=C1 LOTWRKOXHCMWDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- LUUFSCNUZAYHAT-UHFFFAOYSA-N octadecane-1,18-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCCCCCCCO LUUFSCNUZAYHAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- YPNZYYWORCABPU-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CC(=C)C(=O)OCC1CO1 YPNZYYWORCABPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000001415 potassium malate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 102220042337 rs199607550 Human genes 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007984 tetrahydrofuranes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036346 tooth eruption Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- SEAZOECJMOZWTD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC1CO1 SEAZOECJMOZWTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/30—Compositions for temporarily or permanently fixing teeth or palates, e.g. primers for dental adhesives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
- A61K6/891—Compounds obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
Abstract
(57)【要約】
a)アリールヨードニウム塩およびb)アシルホスフィンオキシド誘導体を含む可視光線光重合性組成物。これらの組成物は歯科用組成物としてエポキシ樹脂とともに使用することができる。本発明は可視光線源を使用して、驚くべき短時間で増大した硬化深さを達成して、その結果、より安全でかつ費用のかからない装置を使用して、以前には達成しえなかった深さまでエポキシ樹脂を硬化させる。さらに、アリールヨードニウム塩およびアシルホスフィンオキシドの開始剤組み合わせは新規であり、非常に有効であり、かつ、湿条件下に使用した場合、望ましくない多量の水吸収を生じる、米国特許第5,856,373号明細書に記載されるヒドロキシル基含有化合物を使用しなくてもよい。
Description
【0001】
本発明はアリールヨードニウム塩およびアシルホスフィンオキシド誘導体を含
む組成物に関する。本発明は特にカチオン重合性エポキシ化合物または樹脂をさ
らに含んでいてもよい前記歯科用組成物に関する。
む組成物に関する。本発明は特にカチオン重合性エポキシ化合物または樹脂をさ
らに含んでいてもよい前記歯科用組成物に関する。
【0002】
エポキシ化合物は既に種々のカチオン性開始剤システムにより硬化されている
。米国特許第4,256,828号明細書にはエポキシド、ヒドロキシル官能性基を有す
る有機物質、およびハロゲン含有錯イオンの光感受性芳香族スルホニウムまたは
ヨードニウム塩を含む光共重合性組成物が記載されている。この特許はまた被覆
された基材も記載する。米国特許第4,250,053号明細書にはカチオン性反応のた
めの増感芳香族ヨードニウムまたは芳香族スルホニウム塩光開始剤システムが記
載されている。米国特許第4,026,705号明細書には、ある種の有機染料をジアリ
ールハロニウム塩と組み合わせて使用する、可視放射線エネルギーで硬化するこ
とができるエポキシ組成物が記載されている。種々のオレフィン系および環状有
機化合物とオルガノシリコーン環状化合物のカチオン重合も記載されている。WO
95/30402には、エポキシド可視光線硬化用のヨードニウム塩およびフェロセニウ
ム塩のシステムが記載されている。米国特許第5,856,373号明細書には、ヒドロ
キシル含有物質の存在下に十分な硬化を生じるヨードニウム塩と可視光線増感剤
のシステムが記載されている。
。米国特許第4,256,828号明細書にはエポキシド、ヒドロキシル官能性基を有す
る有機物質、およびハロゲン含有錯イオンの光感受性芳香族スルホニウムまたは
ヨードニウム塩を含む光共重合性組成物が記載されている。この特許はまた被覆
された基材も記載する。米国特許第4,250,053号明細書にはカチオン性反応のた
めの増感芳香族ヨードニウムまたは芳香族スルホニウム塩光開始剤システムが記
載されている。米国特許第4,026,705号明細書には、ある種の有機染料をジアリ
ールハロニウム塩と組み合わせて使用する、可視放射線エネルギーで硬化するこ
とができるエポキシ組成物が記載されている。種々のオレフィン系および環状有
機化合物とオルガノシリコーン環状化合物のカチオン重合も記載されている。WO
95/30402には、エポキシド可視光線硬化用のヨードニウム塩およびフェロセニウ
ム塩のシステムが記載されている。米国特許第5,856,373号明細書には、ヒドロ
キシル含有物質の存在下に十分な硬化を生じるヨードニウム塩と可視光線増感剤
のシステムが記載されている。
【0003】
本発明は、a)アリールヨードニウム塩およびb)アシルホスフィンオキシド
化合物を含む組成物を提供する。この組成物は、さらに、c)(モノマーのよう
な)カチオン重合性エポキシ化合物または樹脂を含むことができる。
化合物を含む組成物を提供する。この組成物は、さらに、c)(モノマーのよう
な)カチオン重合性エポキシ化合物または樹脂を含むことができる。
【0004】
【発明の実施の態様】
驚くべきことに、本発明の光開始剤組成物がカチオン重合性エポキシ樹脂を含
む系における光開始剤として使用できることが見出された。すなわち、このよう
なシステムは可視光線硬化技術を使用して硬化することができる。前記開始剤は
被覆およびフィルム技術に使用されるような薄いエポキシ系樹脂試料においての
み急速な硬化をもたらした。さらに、UV照射の強力でかつ潜在的に有害な線源
では、有意な深さまで重合を達成することが以前から要求されていた。本発明は
可視光線源を使用して、驚くべき短時間で増大した硬化深さを達成して、その結
果、より安全でかつ費用のかからない装置を使用して、以前には達成しえなかっ
た深さまでエポキシ樹脂を硬化させる。さらに、アリールヨードニウム塩および
アシルホスフィンオキシドの開始剤組み合わせは新規であり、非常に有効であり
、かつ、湿条件下に使用した場合、望ましくない多量の水吸収を生じる、米国特
許第5,856,373号明細書に記載されるヒドロキシル基含有化合物を使用しなくて
もよい。
む系における光開始剤として使用できることが見出された。すなわち、このよう
なシステムは可視光線硬化技術を使用して硬化することができる。前記開始剤は
被覆およびフィルム技術に使用されるような薄いエポキシ系樹脂試料においての
み急速な硬化をもたらした。さらに、UV照射の強力でかつ潜在的に有害な線源
では、有意な深さまで重合を達成することが以前から要求されていた。本発明は
可視光線源を使用して、驚くべき短時間で増大した硬化深さを達成して、その結
果、より安全でかつ費用のかからない装置を使用して、以前には達成しえなかっ
た深さまでエポキシ樹脂を硬化させる。さらに、アリールヨードニウム塩および
アシルホスフィンオキシドの開始剤組み合わせは新規であり、非常に有効であり
、かつ、湿条件下に使用した場合、望ましくない多量の水吸収を生じる、米国特
許第5,856,373号明細書に記載されるヒドロキシル基含有化合物を使用しなくて
もよい。
【0005】
本発明の光開始剤システムおよび光重合性組成物は、可視光線に対して感受性
を有し、熱を使用しなくても所望の性質を有するポリマーに急速に光硬化する。
本発明の目的では、可視光線とは約400〜700ナノメーターの波長を有する
光と定義される。本発明の組成物の光重合は、可視光線スペクトル領域内の波長
を有する化学線放射を発する放射線源へ該組成物を露光させて生じる。露光は使
用する組成物の量および特定成分に依存し、または照射源および該源からの距離
および硬化すべき組成物の厚さに依存し、約1秒間以下から10分間以上であっ
てもよい。本発明の組成物は非常に良好な貯蔵安定性および良好な熱安定性を有
する一剤型(one-part)安定化組成物である。
を有し、熱を使用しなくても所望の性質を有するポリマーに急速に光硬化する。
本発明の目的では、可視光線とは約400〜700ナノメーターの波長を有する
光と定義される。本発明の組成物の光重合は、可視光線スペクトル領域内の波長
を有する化学線放射を発する放射線源へ該組成物を露光させて生じる。露光は使
用する組成物の量および特定成分に依存し、または照射源および該源からの距離
および硬化すべき組成物の厚さに依存し、約1秒間以下から10分間以上であっ
てもよい。本発明の組成物は非常に良好な貯蔵安定性および良好な熱安定性を有
する一剤型(one-part)安定化組成物である。
【0006】
本発明の組成物において有用であるカチオン重合性エポキシ樹脂は、開環によ
って重合し得るオキシラン環:すなわち
って重合し得るオキシラン環:すなわち
【0007】
【化1】
【0008】
を有する有機化合物を含む。このような物質は、広くエポキシドと呼ばれ、モノ
マー性エポキシ化合物およびポリマー性タイプのエポキシドを含み、脂肪族、環
状脂肪族、芳香族または複素環式化合物である。これらの物質は一般的には分子
当たり平均して少なくとも1個の重合性エポキシ基を有し、好ましくは分子当た
り少なくとも約1.5個の重合性エポキシ基を有する。ポリマー性エポキシドと
しては、末端エポキシ基を有する線状ポリマー(例えば、ポリオキシアルキレン
グリコールのジグリシジルエーテル)、骨格オキシラン単位を有するポリマー(
例えば、ポリブタジエンポリエポキシド)、およびペンダントエポキシ基を有す
るポリマー(例えば、グリシジルメタクリレートポリマーまたはコポリマー)が
挙げられる。エポキシドは分子当たり、1個、2個またはそれ以上のエポキシ基
を含む純粋な化合物であってもよく、または混合物であってもよい。分子当たり
のエポキシ基の「平均」値は、エポキシ含有物質中のエポキシ基の全数を存在す
るエポキシ分子の全数で割ることによって決定される。
マー性エポキシ化合物およびポリマー性タイプのエポキシドを含み、脂肪族、環
状脂肪族、芳香族または複素環式化合物である。これらの物質は一般的には分子
当たり平均して少なくとも1個の重合性エポキシ基を有し、好ましくは分子当た
り少なくとも約1.5個の重合性エポキシ基を有する。ポリマー性エポキシドと
しては、末端エポキシ基を有する線状ポリマー(例えば、ポリオキシアルキレン
グリコールのジグリシジルエーテル)、骨格オキシラン単位を有するポリマー(
例えば、ポリブタジエンポリエポキシド)、およびペンダントエポキシ基を有す
るポリマー(例えば、グリシジルメタクリレートポリマーまたはコポリマー)が
挙げられる。エポキシドは分子当たり、1個、2個またはそれ以上のエポキシ基
を含む純粋な化合物であってもよく、または混合物であってもよい。分子当たり
のエポキシ基の「平均」値は、エポキシ含有物質中のエポキシ基の全数を存在す
るエポキシ分子の全数で割ることによって決定される。
【0009】
これらのエポキシ含有物質は、低分子量モノマー性物質から高分子量ポリマー
まで種々なものであってもよく、またその骨格および置換基の性質において大き
く異なっていてもよい。例えば、骨格はいかなる種類のものであってもよく、ま
たその置換基は室温でカチオン硬化に実質的に干渉しない基である。許容される
置換基の例としては、ハロゲン、エステル基、エーテル、スルフォネート基、シ
ロキサン基、ニトロ基、ホスフェート基などが挙げられる。エポキシ含有物質の
分子量は、約58〜約100,000以上まで変化してもよい。
まで種々なものであってもよく、またその骨格および置換基の性質において大き
く異なっていてもよい。例えば、骨格はいかなる種類のものであってもよく、ま
たその置換基は室温でカチオン硬化に実質的に干渉しない基である。許容される
置換基の例としては、ハロゲン、エステル基、エーテル、スルフォネート基、シ
ロキサン基、ニトロ基、ホスフェート基などが挙げられる。エポキシ含有物質の
分子量は、約58〜約100,000以上まで変化してもよい。
【0010】
有用なエポキシ含有物質としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−2−メ
チルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカル
ボキシレート、およびビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチ
ル)アジペートによって代表されるエポキシシクロヘキサンカルボキシレートな
どのシクロヘキセンオキシド基を含むものが挙げられる。この性質を有する有用
なエポキシドのより詳細なリストについては、米国特許第3,117,099号明細書を
参照する。これは本明細書中に参考として挿入する。
3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−2−メ
チルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−2−メチルシクロヘキサンカル
ボキシレート、およびビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチ
ル)アジペートによって代表されるエポキシシクロヘキサンカルボキシレートな
どのシクロヘキセンオキシド基を含むものが挙げられる。この性質を有する有用
なエポキシドのより詳細なリストについては、米国特許第3,117,099号明細書を
参照する。これは本明細書中に参考として挿入する。
【0011】
さらに、本発明を実施するために特に有用であるエポキシ含有物質としては、
次式:
次式:
【0012】
【化2】
【0013】
(式中、R'はアルキル、特に、C1〜C6アルキル、またはアリールであり、
nは1〜6の整数である。)を有するグリシジルエーテルモノマーが挙げられる
。その例としては、多価フェノールと過剰量のエピクロロヒドリンなどのクロロ
ヒドリンとの反応によって得られる多価フェノールのグリシジルエーテル(例え
ば、2,2−ビス−(2,3−エポキシプロポキシフェノール)−プロパンのジ
グリシジルエーテル)がある。本発明の実施において使用され得るエポキシドの
別な例としては、米国特許第3,018,262号明細書(本明細書中に参考として挿入
する)および "Handbook of Epoxy Resins" by Lee and Neville, McGraw Hill
Book Co., New York (1967) に記載されるものがある。
nは1〜6の整数である。)を有するグリシジルエーテルモノマーが挙げられる
。その例としては、多価フェノールと過剰量のエピクロロヒドリンなどのクロロ
ヒドリンとの反応によって得られる多価フェノールのグリシジルエーテル(例え
ば、2,2−ビス−(2,3−エポキシプロポキシフェノール)−プロパンのジ
グリシジルエーテル)がある。本発明の実施において使用され得るエポキシドの
別な例としては、米国特許第3,018,262号明細書(本明細書中に参考として挿入
する)および "Handbook of Epoxy Resins" by Lee and Neville, McGraw Hill
Book Co., New York (1967) に記載されるものがある。
【0014】
本発明において使用し得る多数の市販エポキシ樹脂が存在する。特に、容易に
入手可能なエポキシドとしては、オクタデシレンオキシド、エピクロロヒドリン
、スチレンオキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、グリシドール、グリシジ
ルメタクリレート、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(例えば、Shell
Chemical Co.,製の商標名、"Epon 828"、"Epon 825"、"Epon 1004"、および"Epo
n 1010"、Dow Chemical Co.製の "DER-331"、"DER-332"、および"DER-334")、
ビニルシクロヘキセンジオキシド(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-420
6")、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキセ
ンカルボシキレート(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4221"または "UV
R 6110"または "UVR 6105")、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメ
チル−3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキセンカルボシキレート(例え
ば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4201")、ビス(3,4−エポキシ−6−メ
チルシクロヘキシルメチル)アジペート(例えば、Union Carbide Corp.製の "E
RL-4289")、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル(例えば、Unio
n Carbide Corp.製の "ERL-0400")、ポリプロプレングリコール変性脂肪族エポ
キシ(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4050" および "ERL-4052")、ジ
ペンテンジオキシド(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4269")、エポキ
シ化ポリブタジエン(例えば、FMC Corp.製の "Oxiron 2001")、エポキシ官能
性基含有シリコーン樹脂、燃焼遅延エポキシ樹脂(例えば、Dow Chemical Co.か
ら入手可能な臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂、"DER-580")、フェノール
ホルムアルデヒドノボラックの1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル(
例えば、Dow Chemical Co.製の "DEN-431"および "DEN-438")、およびレゾルシ
ノールジグリシジルエーテル(例えば、Koppers Company, Inc.製の "Kopoxite")
、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート(例えば、Union Carbid
e Corp.製の "ERL-4299"または "UVR-6128")、2−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキ
サン(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4234")、ビニルシクロヘキセン
モノオキシド(Union Carbide Corp.製)、1,2−エポキシヘキサデカン(例
えは、Union Carbide Corp.製の "UVR-6216")、アルキル炭素数8〜10のアル
キルグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier
7")、アルキル炭素数12〜14のアルキルグリシジルエーテル(例えば、Shel
l Chemical Co.製の "HELOXY Midifier 8")、ブチルグリシジルエーテル(例え
ば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 61")などのアルキルグリシジ
ルエーテル、クレジルグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "
HELOXY Modifier 62")、p−第3級ブチルフェニルグリシジルエーテル(例え
ば、、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 65")、1,4−ブタンジオ
ールのジグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modif
ier 67")、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル(例えば、Shell C
hemical Co.製の "HELOXY Modifier 68")、シクロヘキサンジメタノールのジグ
リシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 107")
、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.
製の "HELOXY Modifier 44")、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 48")、脂肪族ポリオ
ールのポリグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Mod
ifier 84")、ポリグリコールジエポキシド(例えば、Shell Chemical Co.製の
"HELOXY Modifier 32")などの多官能性グリシジルエーテル、ビスフェノールF
エポキシド(例えば、Ciba-Geigy Corp.製の "EPN-1138" または"GY-281")、9
,9−ビス>4−(2,3−エポキシプロポキシ)−フェニルフルオレノン(例
えば、Shell Chemical Co.製の "Epon 1079")が挙げられる。
入手可能なエポキシドとしては、オクタデシレンオキシド、エピクロロヒドリン
、スチレンオキシド、ビニルシクロヘキセンオキシド、グリシドール、グリシジ
ルメタクリレート、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(例えば、Shell
Chemical Co.,製の商標名、"Epon 828"、"Epon 825"、"Epon 1004"、および"Epo
n 1010"、Dow Chemical Co.製の "DER-331"、"DER-332"、および"DER-334")、
ビニルシクロヘキセンジオキシド(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-420
6")、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキセ
ンカルボシキレート(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4221"または "UV
R 6110"または "UVR 6105")、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメ
チル−3,4−エポキシ−6−メチル−シクロヘキセンカルボシキレート(例え
ば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4201")、ビス(3,4−エポキシ−6−メ
チルシクロヘキシルメチル)アジペート(例えば、Union Carbide Corp.製の "E
RL-4289")、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル(例えば、Unio
n Carbide Corp.製の "ERL-0400")、ポリプロプレングリコール変性脂肪族エポ
キシ(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4050" および "ERL-4052")、ジ
ペンテンジオキシド(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4269")、エポキ
シ化ポリブタジエン(例えば、FMC Corp.製の "Oxiron 2001")、エポキシ官能
性基含有シリコーン樹脂、燃焼遅延エポキシ樹脂(例えば、Dow Chemical Co.か
ら入手可能な臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂、"DER-580")、フェノール
ホルムアルデヒドノボラックの1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル(
例えば、Dow Chemical Co.製の "DEN-431"および "DEN-438")、およびレゾルシ
ノールジグリシジルエーテル(例えば、Koppers Company, Inc.製の "Kopoxite")
、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート(例えば、Union Carbid
e Corp.製の "ERL-4299"または "UVR-6128")、2−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキ
サン(例えば、Union Carbide Corp.製の "ERL-4234")、ビニルシクロヘキセン
モノオキシド(Union Carbide Corp.製)、1,2−エポキシヘキサデカン(例
えは、Union Carbide Corp.製の "UVR-6216")、アルキル炭素数8〜10のアル
キルグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier
7")、アルキル炭素数12〜14のアルキルグリシジルエーテル(例えば、Shel
l Chemical Co.製の "HELOXY Midifier 8")、ブチルグリシジルエーテル(例え
ば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 61")などのアルキルグリシジ
ルエーテル、クレジルグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "
HELOXY Modifier 62")、p−第3級ブチルフェニルグリシジルエーテル(例え
ば、、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 65")、1,4−ブタンジオ
ールのジグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modif
ier 67")、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル(例えば、Shell C
hemical Co.製の "HELOXY Modifier 68")、シクロヘキサンジメタノールのジグ
リシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 107")
、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.
製の "HELOXY Modifier 44")、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Modifier 48")、脂肪族ポリオ
ールのポリグリシジルエーテル(例えば、Shell Chemical Co.製の "HELOXY Mod
ifier 84")、ポリグリコールジエポキシド(例えば、Shell Chemical Co.製の
"HELOXY Modifier 32")などの多官能性グリシジルエーテル、ビスフェノールF
エポキシド(例えば、Ciba-Geigy Corp.製の "EPN-1138" または"GY-281")、9
,9−ビス>4−(2,3−エポキシプロポキシ)−フェニルフルオレノン(例
えば、Shell Chemical Co.製の "Epon 1079")が挙げられる。
【0015】
なおも他のエポキシ樹脂は、グリシジルアクリレートおよびグリシジルメタク
レートなどのアクリル酸エステルまたはグリシドールと1種以上の共重合性ビニ
ル化合物とのコポリマーを含む。このようなコポリマーの例としては、1:1ス
チレン−グリシジルメタクリレート、1:1メチルメタクリレート−グリシジル
アクリレートおよび62.5:24:13.5メチルメタクリレート−エチルアクリレート
−グリシジルメタクリレートがある。
レートなどのアクリル酸エステルまたはグリシドールと1種以上の共重合性ビニ
ル化合物とのコポリマーを含む。このようなコポリマーの例としては、1:1ス
チレン−グリシジルメタクリレート、1:1メチルメタクリレート−グリシジル
アクリレートおよび62.5:24:13.5メチルメタクリレート−エチルアクリレート
−グリシジルメタクリレートがある。
【0016】
他の有用なエポキシ樹脂は周知であり、エピクロロヒドリン類のようなエポキ
シド、例えばエピクロロヒドリン;アルキレンオキシド、例えばプロピレンオキ
シド、スチレンオキシド;アルケニルオキシド、例えば、ブタジエンオキシド;
グリシジルエステル、例えば、エチルグリシデートがある。 他の有用なエポキシ樹脂はエポキシ官能性基、特にシクロヘキシルエポキシ基
を有するシリコーン、特にシリコーン骨格を有するものがある。その例としては
、全てGE Bayer Siliconesから販売されているUV 9300、UV 9315、UV 9400、UV
9425 がある。
シド、例えばエピクロロヒドリン;アルキレンオキシド、例えばプロピレンオキ
シド、スチレンオキシド;アルケニルオキシド、例えば、ブタジエンオキシド;
グリシジルエステル、例えば、エチルグリシデートがある。 他の有用なエポキシ樹脂はエポキシ官能性基、特にシクロヘキシルエポキシ基
を有するシリコーン、特にシリコーン骨格を有するものがある。その例としては
、全てGE Bayer Siliconesから販売されているUV 9300、UV 9315、UV 9400、UV
9425 がある。
【0017】
本発明の光重合性組成物において有用であるカチオン重合性エポキシ化合物ま
たは樹脂の量は、広い範囲にわたって変化してもよい。好ましい量は光重合性組
成物において、40〜99.98重量%であり、より好ましい量は80〜99.
9重量であり、特に好ましい量は90〜99重量%である。 エポキシ樹脂であるポリマー類は、所望により室温でのカチオン硬化に実質的
に干渉しない他の官能性基を含んでいてもよい。
たは樹脂の量は、広い範囲にわたって変化してもよい。好ましい量は光重合性組
成物において、40〜99.98重量%であり、より好ましい量は80〜99.
9重量であり、特に好ましい量は90〜99重量%である。 エポキシ樹脂であるポリマー類は、所望により室温でのカチオン硬化に実質的
に干渉しない他の官能性基を含んでいてもよい。
【0018】
種々のエポキシ含有物質のブレンドは、特に本発明において期待される。この
ようなブレンドの例としては、低分子量(200以下)、中間分子量(約200
〜10,000)および高分子量(約10,000以上)などの2種以上の分子
量分布を有するエポキシ含有化合物が挙げられる。または、あるいはさらに、こ
れらのエポキシ樹脂は脂肪族および芳香族などの異なった化学的性質、あるいは
極性および非極性などの官能性基を有するエポキシ含有物質のブレンドを含んで
いてもよい。他のカチオン重合性モノマーまたはポリマーもさらに混合していて
もよい。
ようなブレンドの例としては、低分子量(200以下)、中間分子量(約200
〜10,000)および高分子量(約10,000以上)などの2種以上の分子
量分布を有するエポキシ含有化合物が挙げられる。または、あるいはさらに、こ
れらのエポキシ樹脂は脂肪族および芳香族などの異なった化学的性質、あるいは
極性および非極性などの官能性基を有するエポキシ含有物質のブレンドを含んで
いてもよい。他のカチオン重合性モノマーまたはポリマーもさらに混合していて
もよい。
【0019】
ヒドロキシ含有物質は添加することができるが、本発明の必要な実施態様では
ない。もしもこれらを使用するなら、ヒドロキシル官能性基を有するいかなる液
体または固体有機物質であってもよい。 好ましくは、ヒドロキシ含有物質は2種以上の第1級または第2級脂肪族ヒド
ロキシル基(すなわち、ヒドロキシル基は非芳香族炭素原子に直接に結合してい
る)を含む。ヒドロキシル基は末端に存在するか、あるいはそれらはポリマーま
たはコポリマーにぶら下がっていてもよい。ヒドロキシル含有有機物質の分子量
は非常に低い(例えば、32)から非常に高い(例えば、1,000,000以上)に変
化していてもよい。好適なヒドロキシ含有物質は低分子量、すなわち、約32〜
200、中間分子量、すなわち、約200〜10,000、または高分子量、す
なわち、約10,000以上を有していてもよい。ここで使用する全ての分子量
は重量平均分子量である。
ない。もしもこれらを使用するなら、ヒドロキシル官能性基を有するいかなる液
体または固体有機物質であってもよい。 好ましくは、ヒドロキシ含有物質は2種以上の第1級または第2級脂肪族ヒド
ロキシル基(すなわち、ヒドロキシル基は非芳香族炭素原子に直接に結合してい
る)を含む。ヒドロキシル基は末端に存在するか、あるいはそれらはポリマーま
たはコポリマーにぶら下がっていてもよい。ヒドロキシル含有有機物質の分子量
は非常に低い(例えば、32)から非常に高い(例えば、1,000,000以上)に変
化していてもよい。好適なヒドロキシ含有物質は低分子量、すなわち、約32〜
200、中間分子量、すなわち、約200〜10,000、または高分子量、す
なわち、約10,000以上を有していてもよい。ここで使用する全ての分子量
は重量平均分子量である。
【0020】
ヒドロキシ含有物質は、所望により室温でのカチオン硬化に実質的に干渉しな
い他の官能性基を含んでいてもよい。すなわち、ヒドロキシル含有物質は、所望
により本来、非芳香族であっても、あるいは芳香族官能性基を含んでいてもよい
。もしも最終ヒドロキシル含有物質が室温でのカチオン硬化に実質的に干渉しな
いなら、ヒドロキシ含有物質は所望により分子の骨格に窒素、酸素、硫黄などの
ヘテロ原子を含んでいてもよい。ヒドロキシル含有物質は、例えば、天然あるい
は合成セルロース系物質から選択してもよい。もちろん、ヒドロキシル含有物質
はまた、熱または光に対して不安定である基を実質的に含まない。すなわち、こ
の物質は約100℃以下の温度で、あるいは光共重合性組成物の所望の硬化条件
下に遭遇する化学光線の存在下に分解したり、あるいは揮発性成分を遊離しない
であろう。 1個のヒドロキシル官能性基を有する好適なヒドロキシル含有物質の代表例と
しては、アルカノール、ポリオキシアルキレングリコールのモノアルキルエーテ
ル、アルキレングリコールのモノアルキルエーテル、および当該技術分野で公知
の他のものが挙げられる。
い他の官能性基を含んでいてもよい。すなわち、ヒドロキシル含有物質は、所望
により本来、非芳香族であっても、あるいは芳香族官能性基を含んでいてもよい
。もしも最終ヒドロキシル含有物質が室温でのカチオン硬化に実質的に干渉しな
いなら、ヒドロキシ含有物質は所望により分子の骨格に窒素、酸素、硫黄などの
ヘテロ原子を含んでいてもよい。ヒドロキシル含有物質は、例えば、天然あるい
は合成セルロース系物質から選択してもよい。もちろん、ヒドロキシル含有物質
はまた、熱または光に対して不安定である基を実質的に含まない。すなわち、こ
の物質は約100℃以下の温度で、あるいは光共重合性組成物の所望の硬化条件
下に遭遇する化学光線の存在下に分解したり、あるいは揮発性成分を遊離しない
であろう。 1個のヒドロキシル官能性基を有する好適なヒドロキシル含有物質の代表例と
しては、アルカノール、ポリオキシアルキレングリコールのモノアルキルエーテ
ル、アルキレングリコールのモノアルキルエーテル、および当該技術分野で公知
の他のものが挙げられる。
【0021】
有用なモノマー性ポリヒドロキシル有機物質の代表例としては、アルキレング
リコール(例えば、1,2−エタンジオール;1,3−プロパンジオール;1,
4−ブタンジオール;1,6−ヘキサンジオール;1,8−オクタンジオール;
2−エチル−1,6−ヘキサンジオール;ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキ
サン;1,18−ジヒドロキシオクタデカン;3−クロロ−1,2−プロパンジ
オール);ポリヒドロキシアルカン(例えば、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、ペンタエリスリトール、ソルビトール)およびN,N−ビス(ヒドロキシエ
チル)ベンズアミドなどの他のポリヒドロキシ化合物;2−ブチン(butyne)−1
,4−ジオール;4,4'−ビス(ヒドロキシメチル)ジフェニルスルフォン;
ヒマシ油;などが挙げられる。
リコール(例えば、1,2−エタンジオール;1,3−プロパンジオール;1,
4−ブタンジオール;1,6−ヘキサンジオール;1,8−オクタンジオール;
2−エチル−1,6−ヘキサンジオール;ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキ
サン;1,18−ジヒドロキシオクタデカン;3−クロロ−1,2−プロパンジ
オール);ポリヒドロキシアルカン(例えば、グリセリン、トリメチロールエタ
ン、ペンタエリスリトール、ソルビトール)およびN,N−ビス(ヒドロキシエ
チル)ベンズアミドなどの他のポリヒドロキシ化合物;2−ブチン(butyne)−1
,4−ジオール;4,4'−ビス(ヒドロキシメチル)ジフェニルスルフォン;
ヒマシ油;などが挙げられる。
【0022】
有用なポリマー性ヒドロキシル含有物質の代表例としては、ポリオキシエチレ
ンおよびポリオキシプロピレングリコール、および特にジオールでは100〜5
000当量またはトリオールでは70〜3300当量に相当する分子量約200
〜約10,000を有するポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレングル
コールジオールおよびトリオール;種々の分子量を有するポリテトラメチレンエ
ーテルグリコール(ポリテトラヒドロフラン"ポリTHF");ヒドロキシプロピ
ルおよびヒドロキシエチルアクリレートおよびメタクリレートとアクリレートエ
ステル、ハロゲン化ビニルまたはスチレンなどの他のフリーラジカル重合性モノ
マーとのコポリマー;ビニルアセテートコポリマーの加水分解または一部加水分
解によって生成したペンダントヒドロキシル基を含有するコポリマー、ペンタン
トヒドロキシル基を有するポリビニルアセタール樹脂;ヒドロキシルエチル化お
よびヒドロキシルプロピル化セルロースなどの変性セルロースポリマー;ヒドロ
キシ末端ポリエステル;ヒドロキシ末端ポリラクトン、および特にポリカプロラ
クトン;フッ素化ポリオキシエチレンまたはポリオキシプロピレングリコール;
およびヒドロキシ末端ポリアルカジエンが挙げられる。
ンおよびポリオキシプロピレングリコール、および特にジオールでは100〜5
000当量またはトリオールでは70〜3300当量に相当する分子量約200
〜約10,000を有するポリオキシエチレンおよびポリオキシプロピレングル
コールジオールおよびトリオール;種々の分子量を有するポリテトラメチレンエ
ーテルグリコール(ポリテトラヒドロフラン"ポリTHF");ヒドロキシプロピ
ルおよびヒドロキシエチルアクリレートおよびメタクリレートとアクリレートエ
ステル、ハロゲン化ビニルまたはスチレンなどの他のフリーラジカル重合性モノ
マーとのコポリマー;ビニルアセテートコポリマーの加水分解または一部加水分
解によって生成したペンダントヒドロキシル基を含有するコポリマー、ペンタン
トヒドロキシル基を有するポリビニルアセタール樹脂;ヒドロキシルエチル化お
よびヒドロキシルプロピル化セルロースなどの変性セルロースポリマー;ヒドロ
キシ末端ポリエステル;ヒドロキシ末端ポリラクトン、および特にポリカプロラ
クトン;フッ素化ポリオキシエチレンまたはポリオキシプロピレングリコール;
およびヒドロキシ末端ポリアルカジエンが挙げられる。
【0023】
有用な市販ヒドロキシル含有物質としては、 "Terathane" 650、1000、2000お
よび2900などのポリテトラメチレンエーテルグリコールの "Terathane"シリーズ
(du Pont de Nemoursから入手可能である);"Pep"450、550および650などの第
2級ヒドロキシル基を有するポリオキシアルキレンテトロールの"Pep"(Wyandot
te Chemicals Corporationから入手可能である);"Butvar" B-72A、B-73、B-76
、B-90およびB-98などのポリビニルアセタール樹脂の"Butvar"シリーズ(Monsan
to Chemical Companyから入手可能である);および"Formvar" 7/70、12/85、7/
95S、7/95E、15/95Sおよび15/95E;"Tone" 0200、0210、0230、0240、0300など
のポリカプロラクトンポリオールの"Tone"シリーズ(Union Carbideから入手可
能である); "Paraplex U-148"(Rohm and Haasから入手可能である)および脂
肪族ポリエステルジオール;"Multron" R-2、R-12A、R-16、R-18、R-38、R-68お
よびR-74などの飽和ポリエステルポリオールの"Multron" Rシリーズ(Mobay Che
mical Co.から入手可能である);約100当量を有するヒドロキシルプロピル
化セルロースである"Klucel E"(Hercules Inc.から入手可能である);および
約400ヒドロキシル当量を有するセルロースアセテートブチレートエステルで
ある"アルコール可溶性ブチレート" (Eastman Kodakから入手可能である);プ
ロピレングリコールジオールなどのポリエーテルポリオール(例えば、ARCO Che
mical Co.製の "Arcol PPG-425"、"Arcol PPG-725"、"Arcol PPG-1025"、"Arcol
PPG-2025"、"Arcol PPG-3025"、"Arcol PPG-4025");ポリプロピレングリコー
ルトリオール(例えば、ARCO Chemical Co.製の "Arcol LT-28"、"Arcol LHT-42
"、"Arcol LHT 112"、"Arcol LHT-240"、"Arcol LG-56"、"Arcol LG-168"、"Arc
ol LG-650");エチレンオキシド封止ポリオキシプロピレントリオールまたはジ
オール(例えば、ARCO Chemical Co.製の"Arcol 11-27"、"Arcol 11-34"、"Arco
l E-351"、"Arcol E-452"、"Arcol E-785"、"Arcol E-786");エトキシル化ビ
スフェノールA;プロピレンオキシドまたはエチレンオキシド系ポリオール(例
えば、Dow Chemical Co. 製の"Voranol 230-056"、"Voranol 220シリーズ"、"Vo
ranol 230シリーズ"、"Voranol 240シリーズ"などの "Voranol"ポリエーテルポ
リオール)が挙げられる。
よび2900などのポリテトラメチレンエーテルグリコールの "Terathane"シリーズ
(du Pont de Nemoursから入手可能である);"Pep"450、550および650などの第
2級ヒドロキシル基を有するポリオキシアルキレンテトロールの"Pep"(Wyandot
te Chemicals Corporationから入手可能である);"Butvar" B-72A、B-73、B-76
、B-90およびB-98などのポリビニルアセタール樹脂の"Butvar"シリーズ(Monsan
to Chemical Companyから入手可能である);および"Formvar" 7/70、12/85、7/
95S、7/95E、15/95Sおよび15/95E;"Tone" 0200、0210、0230、0240、0300など
のポリカプロラクトンポリオールの"Tone"シリーズ(Union Carbideから入手可
能である); "Paraplex U-148"(Rohm and Haasから入手可能である)および脂
肪族ポリエステルジオール;"Multron" R-2、R-12A、R-16、R-18、R-38、R-68お
よびR-74などの飽和ポリエステルポリオールの"Multron" Rシリーズ(Mobay Che
mical Co.から入手可能である);約100当量を有するヒドロキシルプロピル
化セルロースである"Klucel E"(Hercules Inc.から入手可能である);および
約400ヒドロキシル当量を有するセルロースアセテートブチレートエステルで
ある"アルコール可溶性ブチレート" (Eastman Kodakから入手可能である);プ
ロピレングリコールジオールなどのポリエーテルポリオール(例えば、ARCO Che
mical Co.製の "Arcol PPG-425"、"Arcol PPG-725"、"Arcol PPG-1025"、"Arcol
PPG-2025"、"Arcol PPG-3025"、"Arcol PPG-4025");ポリプロピレングリコー
ルトリオール(例えば、ARCO Chemical Co.製の "Arcol LT-28"、"Arcol LHT-42
"、"Arcol LHT 112"、"Arcol LHT-240"、"Arcol LG-56"、"Arcol LG-168"、"Arc
ol LG-650");エチレンオキシド封止ポリオキシプロピレントリオールまたはジ
オール(例えば、ARCO Chemical Co.製の"Arcol 11-27"、"Arcol 11-34"、"Arco
l E-351"、"Arcol E-452"、"Arcol E-785"、"Arcol E-786");エトキシル化ビ
スフェノールA;プロピレンオキシドまたはエチレンオキシド系ポリオール(例
えば、Dow Chemical Co. 製の"Voranol 230-056"、"Voranol 220シリーズ"、"Vo
ranol 230シリーズ"、"Voranol 240シリーズ"などの "Voranol"ポリエーテルポ
リオール)が挙げられる。
【0024】
本発明の組成物に使用してもよいヒドロキシル含有有機物質の量は、ヒドロキ
シル含有物質とエポキシドとの相溶性、ヒドロキシル含有物質の当量および官能
性基、最終硬化組成物において所望される物理的性質、所望の光硬化速度などの
要因に応じて広い範囲にわたって変化してもよい。好ましい量は光重合性組成物
の20重量%以下であり、特に好ましい量は0.5〜5重量%である。
シル含有物質とエポキシドとの相溶性、ヒドロキシル含有物質の当量および官能
性基、最終硬化組成物において所望される物理的性質、所望の光硬化速度などの
要因に応じて広い範囲にわたって変化してもよい。好ましい量は光重合性組成物
の20重量%以下であり、特に好ましい量は0.5〜5重量%である。
【0025】
種々のヒドロキシル含有物質のブレンドもまた本発明で期待される。このよう
なブレンドの例としては、低分子量(200以下)、中間分子量(約200〜1
0,000)、および高分子量(約10,000以上)などの2種以上の分子量
分布を有するヒドロキシル含有化合物が挙げられる。または、あるいはさらに、
ヒドロキシル含有物質は、脂肪族および芳香族などの異なった化学的性質、また
は極性および非極性などの異なった官能性基を有するヒドロキシル含有物質のブ
レンドを含んでいてもよい。別な例としては、2種以上の多官能性ヒドロキシル
物質の混合物または1種以上の単官能性ヒドロキシル物質と多官能性ヒドロキシ
物質の混合物を使用してもよい。
なブレンドの例としては、低分子量(200以下)、中間分子量(約200〜1
0,000)、および高分子量(約10,000以上)などの2種以上の分子量
分布を有するヒドロキシル含有化合物が挙げられる。または、あるいはさらに、
ヒドロキシル含有物質は、脂肪族および芳香族などの異なった化学的性質、また
は極性および非極性などの異なった官能性基を有するヒドロキシル含有物質のブ
レンドを含んでいてもよい。別な例としては、2種以上の多官能性ヒドロキシル
物質の混合物または1種以上の単官能性ヒドロキシル物質と多官能性ヒドロキシ
物質の混合物を使用してもよい。
【0026】
本発明の光重合性(光硬化性)組成物は、さらに、放射線硬化性モノマーまた
は樹脂を含んでいてもよい。 このような放射線硬化性モノマーまたは樹脂は、例えば、アクリレート、ビニ
ルベンゼン誘導体、アリル誘導体、ビニルケトンから選択される。
は樹脂を含んでいてもよい。 このような放射線硬化性モノマーまたは樹脂は、例えば、アクリレート、ビニ
ルベンゼン誘導体、アリル誘導体、ビニルケトンから選択される。
【0027】
エポキシ樹脂へのビニルエーテル化合物の添加は、光硬化を促進させるか、あ
るいは最終硬化組成物の所望の物理的性質を誘発するために有用である。ビニル
エーテル化合物の例としては、全てISP Global Technologies Deutschland GmbH
, Frechen, Germanyから入手可能である、Rapicure DVE-3(トリエチレングリコ
ールジビニルエーテル)、Rapicure CHVE(1,4−シクロヘキサンジメタノー
ルジビニルエーテル)およびRapicure HBVE(ブタンジオールモノビニルエーテ
ル)がある。放射線硬化性モノマーまたは樹脂に対するエポキシ化合物または樹
脂の割合は、これらの成分の混合物の重量に基づいて、10:90〜90:10
である。 芳香族ヨードニウム錯塩またはアリールヨードニウム塩は、次式で示される。
るいは最終硬化組成物の所望の物理的性質を誘発するために有用である。ビニル
エーテル化合物の例としては、全てISP Global Technologies Deutschland GmbH
, Frechen, Germanyから入手可能である、Rapicure DVE-3(トリエチレングリコ
ールジビニルエーテル)、Rapicure CHVE(1,4−シクロヘキサンジメタノー
ルジビニルエーテル)およびRapicure HBVE(ブタンジオールモノビニルエーテ
ル)がある。放射線硬化性モノマーまたは樹脂に対するエポキシ化合物または樹
脂の割合は、これらの成分の混合物の重量に基づいて、10:90〜90:10
である。 芳香族ヨードニウム錯塩またはアリールヨードニウム塩は、次式で示される。
【0028】
【化3】
【0029】
式中、Ar1およびAr2は炭素原子4〜20を有する芳香族基であり、例えば
、フェニル、チエニル、フラニルおよびピラゾリル基からなる群から選択され;
Zは例えば、酸素;硫黄;
、フェニル、チエニル、フラニルおよびピラゾリル基からなる群から選択され;
Zは例えば、酸素;硫黄;
【0030】
【化4】
【0031】
[式中、Rはアリール(炭素原子6〜20を有する。フェニルなど)またはアシ
ル(炭素原子2〜20を有する。アセチル、ベンゾイルなど);炭素−炭素結合
:または
ル(炭素原子2〜20を有する。アセチル、ベンゾイルなど);炭素−炭素結合
:または
【0032】
【化5】
【0033】
(式中、R1およびR2は水素、炭素原子1〜4を有するアルキル基、および炭
素原子2〜4を有するアルケニル基から選択される。)である。]からなる群か
ら選択される。かつ、nは0または1であり;また、X−はハロゲン含有錯体ア
ニオンであり、例えば、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート
、ヘキサフルオロアーセネートおよびヘキサフルオロアンチモネートから選択さ
れる。
素原子2〜4を有するアルケニル基から選択される。)である。]からなる群か
ら選択される。かつ、nは0または1であり;また、X−はハロゲン含有錯体ア
ニオンであり、例えば、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート
、ヘキサフルオロアーセネートおよびヘキサフルオロアンチモネートから選択さ
れる。
【0034】
芳香族ヨードニウムカチオンは安定であり、当該技術分野で周知であって、十
分に認識されている。例えば、米国特許第3,565,906号;第3,712,920号;第3,75
9,989号、および第3,763,187号明細書; F. Beringerら、「ジアリールヨードニ
ウム塩 IX」J. Am. Chem. Soc. 81, 342-51 (1959)およびF. Beringerら、「ジ
アリールヨードニウムXXII」J. Chem. Soc. 1964, 442-51;F. Beringerら、「
ヘテロサイクリックヨード含有ヨードニウム塩」J. Org. Chem. 30, 1141-8 (19
65)を参照。
分に認識されている。例えば、米国特許第3,565,906号;第3,712,920号;第3,75
9,989号、および第3,763,187号明細書; F. Beringerら、「ジアリールヨードニ
ウム塩 IX」J. Am. Chem. Soc. 81, 342-51 (1959)およびF. Beringerら、「ジ
アリールヨードニウムXXII」J. Chem. Soc. 1964, 442-51;F. Beringerら、「
ヘテロサイクリックヨード含有ヨードニウム塩」J. Org. Chem. 30, 1141-8 (19
65)を参照。
【0035】
代表的なAr1およびAr2基は、フェニル、チエニル、フラニルおよびピラ
ゾリル基から選択される炭素原子4〜20を有する芳香族基である。これらの芳
香族基は所望により1つ以上の融合ベンゾ環(例えば、ナフチルなど;ベンゾ−
チエニル、ジベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニルなど)を有し
ていてもよい。このような芳香族基は所望によりエポキシド、ビニルエーテルま
たはヒドロキシと本質的に非反応性である次の非塩基性基;ハロゲン、ニトロ、
N−アリールアミノ基、エステル基(例えば、メトキシカルボニルおよびエトキ
シカルボニルなどのアルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル)、スルフォ
エステル基(例えば、メトキシスルフォニルおよびブトキシスルフォニルなどの
アルコキシスルフォニル基、フェノキシスルフォニル基など)、アミド基(例え
ば、アセトアミド、ブチルアミド、エチルスルフォンアミドなど)、カルバミル
基(例えば、カルバミル、N−アルキルカルバミル、N−フェニルカルバミルな
ど)、スルファミル基(例えば、スルファミル、N−アルキルスルファミル、N
,N−ジアルキルスルファミル、N−フェニルスルファミルなど)、アルコキシ
基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなど)、アリール基(例えば、フェ
ニル)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチルなど)、アリールオキシ
基(例えば、フェノキシ)、アルキルスルフォニル(例えば、メチルスルフォニ
ル、エチルスルフォニルなど)、アリールスルフォニル基(例えば、フェニルス
ルフォニル基)、パーフルオロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、パー
フルオロエチルなど)、およびパーフルオロアルキルスルフォニル基(例えば、
トリフルオロメチルスルフォニル、パーフルオロブチルスルフォニルなど)で置
換されていてもよい。
ゾリル基から選択される炭素原子4〜20を有する芳香族基である。これらの芳
香族基は所望により1つ以上の融合ベンゾ環(例えば、ナフチルなど;ベンゾ−
チエニル、ジベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニルなど)を有し
ていてもよい。このような芳香族基は所望によりエポキシド、ビニルエーテルま
たはヒドロキシと本質的に非反応性である次の非塩基性基;ハロゲン、ニトロ、
N−アリールアミノ基、エステル基(例えば、メトキシカルボニルおよびエトキ
シカルボニルなどのアルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル)、スルフォ
エステル基(例えば、メトキシスルフォニルおよびブトキシスルフォニルなどの
アルコキシスルフォニル基、フェノキシスルフォニル基など)、アミド基(例え
ば、アセトアミド、ブチルアミド、エチルスルフォンアミドなど)、カルバミル
基(例えば、カルバミル、N−アルキルカルバミル、N−フェニルカルバミルな
ど)、スルファミル基(例えば、スルファミル、N−アルキルスルファミル、N
,N−ジアルキルスルファミル、N−フェニルスルファミルなど)、アルコキシ
基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなど)、アリール基(例えば、フェ
ニル)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチルなど)、アリールオキシ
基(例えば、フェノキシ)、アルキルスルフォニル(例えば、メチルスルフォニ
ル、エチルスルフォニルなど)、アリールスルフォニル基(例えば、フェニルス
ルフォニル基)、パーフルオロアルキル基(例えば、トリフルオロメチル、パー
フルオロエチルなど)、およびパーフルオロアルキルスルフォニル基(例えば、
トリフルオロメチルスルフォニル、パーフルオロブチルスルフォニルなど)で置
換されていてもよい。
【0036】
芳香族ヨードニウム錯塩光開始剤の好適な例としては、ジフェニルヨードニウ
ムテトラフルオロボレート;ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムテトラフル
オロボレート;フェニル−4−メチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート;ジ(4−ヘプチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート;ジ(
3−ニトロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−クロ
ロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(ナフチル)−ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート;ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート;ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート
:ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアーセネート;ジ(4−フェノキシフ
ェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート;フェニル−2−チエニルヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェート;3,5−ジ−メチルピラゾリル−4−フェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジフェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート;ジ(2,4−ジクロロフェニル)−ヨードニウムヘキ
サフルオロホスフェート;ジ(4−ブロモフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−メトキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(3−カルボキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェ
ート;ジ(3−メトキシカルボニルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(3−メトキシスルフォニルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−アセトアミドフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロ
ホスフェート;およびジ(2−ベンゾチエニル)ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートが挙げられる。
ムテトラフルオロボレート;ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムテトラフル
オロボレート;フェニル−4−メチルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート;ジ(4−ヘプチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート;ジ(
3−ニトロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(4−クロ
ロフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジ(ナフチル)−ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート;ジ(4−トリフルオロメチルフェニル)ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート;ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート
:ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアーセネート;ジ(4−フェノキシフ
ェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート;フェニル−2−チエニルヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェート;3,5−ジ−メチルピラゾリル−4−フェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート;ジフェニルヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート;ジ(2,4−ジクロロフェニル)−ヨードニウムヘキ
サフルオロホスフェート;ジ(4−ブロモフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−メトキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(3−カルボキシフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェ
ート;ジ(3−メトキシカルボニルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホス
フェート;ジ(3−メトキシスルフォニルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート;ジ(4−アセトアミドフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロ
ホスフェート;およびジ(2−ベンゾチエニル)ヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェートが挙げられる。
【0037】
本発明組成物に使用するに適した芳香族ヨードニウム錯塩のうち、好ましい塩
はジアリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェートおよびジアリールヨード
ニウムヘキサフルオロアンチモネートである。これらの塩は一般的により熱安定
性であって、より速く反応を促進し、かつ、錯体イオンの他の芳香族ヨードニウ
ム塩よりも不活性溶媒中により早く溶解するから好ましい。 芳香族ヨードニウム錯塩は、Beringerら、J. Am. Chem. Soc.81, 342 (1959)
の記載に従って、対応する芳香族ヨードニウム単純塩(例えば、ジフェニルヨー
ドニウム重硫酸塩)をメタセシス(metathesis)して調製してもよい。
はジアリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェートおよびジアリールヨード
ニウムヘキサフルオロアンチモネートである。これらの塩は一般的により熱安定
性であって、より速く反応を促進し、かつ、錯体イオンの他の芳香族ヨードニウ
ム塩よりも不活性溶媒中により早く溶解するから好ましい。 芳香族ヨードニウム錯塩は、Beringerら、J. Am. Chem. Soc.81, 342 (1959)
の記載に従って、対応する芳香族ヨードニウム単純塩(例えば、ジフェニルヨー
ドニウム重硫酸塩)をメタセシス(metathesis)して調製してもよい。
【0038】
アリールヨードニウム錯塩は、好ましくは光開始剤組成物中、約10〜90重
量%、好ましくは約30〜70重量%、および最も好ましくは約40〜60重量
%存在する。これは、好ましくは光重合性組成物中、約0.01〜10重量%、
より好ましくは、約0.02〜5重量%、および最も好ましくは約0.05〜4
重量%存在する。 (ジ)アリールヨードニウム塩のみはエポキシ樹脂の光硬化を開始しない。
量%、好ましくは約30〜70重量%、および最も好ましくは約40〜60重量
%存在する。これは、好ましくは光重合性組成物中、約0.01〜10重量%、
より好ましくは、約0.02〜5重量%、および最も好ましくは約0.05〜4
重量%存在する。 (ジ)アリールヨードニウム塩のみはエポキシ樹脂の光硬化を開始しない。
【0039】
本発明の増感剤は、アシルホスフィンオキシド化合物または誘導体である。ア
シルホスフィンオキシド増感剤はEP 0 007508、EP 0 057474、EP 0 073413およ
びDE 36 33436に記載され、アクリル系樹脂の開始剤としての性能は公知である
。ジアリールヨードニウム化合物における増感剤として作用する能力については
どこにも記載されていない。好ましくは、アシルホスフィンオキシド化合物は、
ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド("Lucir
in R TPO", BASF)などのアシルジフェニルホスフィンオキシド、またはビス(
2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド(Irgacure
819, Ciba)などのジアシルホスフィンオキシドである。 増感剤はある程度、貯蔵安定性を考慮して選択される。したがって、特定の増
感剤の選択は、ある程度、特定のエポキシ、ビニルエーテル、ヒドロキシ含有物
質および選択されたヨードニウム塩に依存する。 一例として、好ましい種類のアシルホスフィンオキシドは、次式:
シルホスフィンオキシド増感剤はEP 0 007508、EP 0 057474、EP 0 073413およ
びDE 36 33436に記載され、アクリル系樹脂の開始剤としての性能は公知である
。ジアリールヨードニウム化合物における増感剤として作用する能力については
どこにも記載されていない。好ましくは、アシルホスフィンオキシド化合物は、
ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド("Lucir
in R TPO", BASF)などのアシルジフェニルホスフィンオキシド、またはビス(
2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド(Irgacure
819, Ciba)などのジアシルホスフィンオキシドである。 増感剤はある程度、貯蔵安定性を考慮して選択される。したがって、特定の増
感剤の選択は、ある程度、特定のエポキシ、ビニルエーテル、ヒドロキシ含有物
質および選択されたヨードニウム塩に依存する。 一例として、好ましい種類のアシルホスフィンオキシドは、次式:
【0040】
【化6】
【0041】
式中、Arは同じまたは異なっていてもよい芳香族基である。
可視光線増感剤は、好ましくは光開始剤組成物中、約10〜90重量%、好ま
しくは約30〜70重量%および最も好ましくは約40〜60重量%存在する。
これは、好ましくは光重合性組成物中、約0.01〜10重量%、より好ましく
は約0.02〜5重量%、および最も好ましくは約0.05〜4重量%存在する
。
しくは約30〜70重量%および最も好ましくは約40〜60重量%存在する。
これは、好ましくは光重合性組成物中、約0.01〜10重量%、より好ましく
は約0.02〜5重量%、および最も好ましくは約0.05〜4重量%存在する
。
【0042】
本発明の光重合性組成物は、本発明組成物の成分を「安全光」条件下に単に混
合して調製する。好適な不活性溶媒は、この混合物に効果を与える場合、所望に
より使用してもよい。好適な溶媒の例としては、アセトンとアセトニトリルがあ
り、かつ、本発明組成物の成分と認められるほど反応しない溶媒全てが含まれる
。重合されるべき液体物質は、重合されるべき他の液体または固体物質の溶媒と
して使用してもよい。無溶媒組成物は温和に加熱して、または加熱しないで、エ
ポキシ樹脂またはビニルエーテル中に芳香族ヨードニウム錯塩および増感剤を単
に溶解させて調製することができる。
合して調製する。好適な不活性溶媒は、この混合物に効果を与える場合、所望に
より使用してもよい。好適な溶媒の例としては、アセトンとアセトニトリルがあ
り、かつ、本発明組成物の成分と認められるほど反応しない溶媒全てが含まれる
。重合されるべき液体物質は、重合されるべき他の液体または固体物質の溶媒と
して使用してもよい。無溶媒組成物は温和に加熱して、または加熱しないで、エ
ポキシ樹脂またはビニルエーテル中に芳香族ヨードニウム錯塩および増感剤を単
に溶解させて調製することができる。
【0043】
歯科用途は、特に本発明から利益を得ることができる。現在まで、アクリレー
トおよびメタクリレート系化学物質が接着用および修復用歯科組成物として広く
使用されている。この化学物質は有利にも光開始剤システムを使用して可視光線
により硬化することができる。しかしながら、この化学物質は重合プロセス中に
かなり大きく縮むという欠点を有する。反対に、本発明のエポキシ樹脂は重合中
、先行技術のアクリレートおよびメタクリレート樹脂よりも有意に縮まない。本
発明は許容される時間枠内で、かつ歯科医院で既に入手されている可視光線装置
を使用して十分な深さまでエポキシ樹脂を硬化するシステムを提供する。
トおよびメタクリレート系化学物質が接着用および修復用歯科組成物として広く
使用されている。この化学物質は有利にも光開始剤システムを使用して可視光線
により硬化することができる。しかしながら、この化学物質は重合プロセス中に
かなり大きく縮むという欠点を有する。反対に、本発明のエポキシ樹脂は重合中
、先行技術のアクリレートおよびメタクリレート樹脂よりも有意に縮まない。本
発明は許容される時間枠内で、かつ歯科医院で既に入手されている可視光線装置
を使用して十分な深さまでエポキシ樹脂を硬化するシステムを提供する。
【0044】
本発明の歯科用物質は充填しても、あるいはしなくてもよく、直接的美容修復
物質(例えば、前方および後方修復材)、補綴材、口腔硬組織のための接着剤お
よびプライマー、封止材、被覆材、歯腔裏層材、いかなる種類のブラケット(例
えば、金属、プラスチックおよびセラミック)とともに使用する歯科矯正用ブラ
ケット接着剤、歯冠および架工義歯セメント、合成歯冠、合成歯、義歯などの歯
科用物質が挙げられる。これらの歯科用物質は口内で使用され、天然歯に隣接し
て配置される。ここで使用する「隣接して配置する」との語は、一時的または永
久に結合(例えば、接着剤)した歯科用物質の据え置きまたは天然歯に接触する
タッチング(例えば、咬合側または近位)を呼ぶ。ここで使用する「コンポジッ
ト」との語は、充填した歯科用物質を呼ぶ。ここで使用する「修復材」との語は
、歯に隣接して配置した後、重合されるコンポジットを呼ぶ。ここで使用する「
補綴材」との語は、歯に隣接して配置する前に、最終用途(例えば、歯冠、架工
義歯、被覆材、インレー、アンレーなど)に形成して重合されるコンポジットを
呼ぶ。ここで使用する「封止材」との語は、軽充填コンポジットまたは歯に隣接
して配置された後、硬化した未充填歯科用物質を呼ぶ。ここで使用する「重合性
」との語は、歯科用物質を例えば、フリーラジカル反応、イオン性反応またはそ
の混合した反応メカニズムによって硬化または硬質化することを呼ぶ。
物質(例えば、前方および後方修復材)、補綴材、口腔硬組織のための接着剤お
よびプライマー、封止材、被覆材、歯腔裏層材、いかなる種類のブラケット(例
えば、金属、プラスチックおよびセラミック)とともに使用する歯科矯正用ブラ
ケット接着剤、歯冠および架工義歯セメント、合成歯冠、合成歯、義歯などの歯
科用物質が挙げられる。これらの歯科用物質は口内で使用され、天然歯に隣接し
て配置される。ここで使用する「隣接して配置する」との語は、一時的または永
久に結合(例えば、接着剤)した歯科用物質の据え置きまたは天然歯に接触する
タッチング(例えば、咬合側または近位)を呼ぶ。ここで使用する「コンポジッ
ト」との語は、充填した歯科用物質を呼ぶ。ここで使用する「修復材」との語は
、歯に隣接して配置した後、重合されるコンポジットを呼ぶ。ここで使用する「
補綴材」との語は、歯に隣接して配置する前に、最終用途(例えば、歯冠、架工
義歯、被覆材、インレー、アンレーなど)に形成して重合されるコンポジットを
呼ぶ。ここで使用する「封止材」との語は、軽充填コンポジットまたは歯に隣接
して配置された後、硬化した未充填歯科用物質を呼ぶ。ここで使用する「重合性
」との語は、歯科用物質を例えば、フリーラジカル反応、イオン性反応またはそ
の混合した反応メカニズムによって硬化または硬質化することを呼ぶ。
【0045】
ある用途では、充填剤の使用は妥当であろう。充填剤の選択は、その外見、放
射線不透過性および物理的かつ機械的性質などのコンポジットの重要な性質に影
響を与える。外見はコンポジット成分の量および相対的屈折率の調整によって部
分的に影響され、それゆえ、コンポジットに半透明、不透明または真珠様光沢の
変化をきたす。本発明のエポキシ樹脂組成物は単独で、あるいは希釈モノマーと
の混合物として、石英(屈折率1.55)、サブミクロンシリカ(1.46)お
よびモル比5.5:1のSiO2:ZrO2非ガラス質微粒子(1.54)など
の充填剤の屈折率に接近するかあるいは近似する屈折率を備えることができる。
このように、歯科用物質の外見は所望により天然生歯の外見に大きく近似させる
ことができる。
射線不透過性および物理的かつ機械的性質などのコンポジットの重要な性質に影
響を与える。外見はコンポジット成分の量および相対的屈折率の調整によって部
分的に影響され、それゆえ、コンポジットに半透明、不透明または真珠様光沢の
変化をきたす。本発明のエポキシ樹脂組成物は単独で、あるいは希釈モノマーと
の混合物として、石英(屈折率1.55)、サブミクロンシリカ(1.46)お
よびモル比5.5:1のSiO2:ZrO2非ガラス質微粒子(1.54)など
の充填剤の屈折率に接近するかあるいは近似する屈折率を備えることができる。
このように、歯科用物質の外見は所望により天然生歯の外見に大きく近似させる
ことができる。
【0046】
放射線不透過性は、X線試験によって検出されるコンポジット性能の1つの基
準である。しばしば、放射線不透過性コンポジットは、例えば、歯科医師が充填
物を残すことがよいかどうかを決定することができるから望ましいであろう。他
の状況下では、非放射線不透過性コンポジットが望ましいであろう。
準である。しばしば、放射線不透過性コンポジットは、例えば、歯科医師が充填
物を残すことがよいかどうかを決定することができるから望ましいであろう。他
の状況下では、非放射線不透過性コンポジットが望ましいであろう。
【0047】
コンポジット中に導入される充填剤の量(ここでは、「負荷濃度」とよび、歯
科用物質の全重量に対する重量%で表示する)は、充填剤、エポキシ樹脂および
組成物の他の成分の種類、およびコンポジットの最終目的に依存して変化するで
あろう。
科用物質の全重量に対する重量%で表示する)は、充填剤、エポキシ樹脂および
組成物の他の成分の種類、およびコンポジットの最終目的に依存して変化するで
あろう。
【0048】
いくつかの歯科用物質(例えば、封止材)では、本発明のエポキシ樹脂組成物
はわずかに充填されるか(例えば、約40重量%以下の負荷濃度を有する)ある
いは充填されない。好ましくは、歯科用物質の粘度は十分に低く咬合歯表面の穴
や裂溝中ならびにエナメル質の腐食域中に浸透でき、それゆえ、歯科用物質の持
続性を助ける。高強度や耐久性が望まれる用途(例えば、前方または後方修復材
、補綴材、歯冠および架工義歯セメント、合成歯冠、合成歯、および義歯)では
、負荷濃度は約95重量%と非常に高い。ほとんどの修復および補綴用途では、
一般的に約70〜90重量%の負荷濃度が好ましい。
はわずかに充填されるか(例えば、約40重量%以下の負荷濃度を有する)ある
いは充填されない。好ましくは、歯科用物質の粘度は十分に低く咬合歯表面の穴
や裂溝中ならびにエナメル質の腐食域中に浸透でき、それゆえ、歯科用物質の持
続性を助ける。高強度や耐久性が望まれる用途(例えば、前方または後方修復材
、補綴材、歯冠および架工義歯セメント、合成歯冠、合成歯、および義歯)では
、負荷濃度は約95重量%と非常に高い。ほとんどの修復および補綴用途では、
一般的に約70〜90重量%の負荷濃度が好ましい。
【0049】
充填剤は、医療用途に使用される組成物中への混合に適した1種以上のいかな
る物質、歯科用修復組成物などで目下、使用されている充填剤などから選択して
もよい。充填剤は細かく粉砕され、好ましくは最大粒子径約50マイクロメータ
ー以下および平均粒子径約10マイクロメーター以下を有する。充填剤は単峰性
または多峰性(例えば二峰性)粒子サイズ分布を有する。充填剤は無機物質であ
る。これはまた、重合性樹脂中に不溶性である架橋型有機物質であり、所望によ
り無機充填剤で充填される。充填剤はとにかく非毒性であって、口内での使用に
適しているべきである。充填剤は放射線不透過性、放射線透過性または非放射線
不透過性である。
る物質、歯科用修復組成物などで目下、使用されている充填剤などから選択して
もよい。充填剤は細かく粉砕され、好ましくは最大粒子径約50マイクロメータ
ー以下および平均粒子径約10マイクロメーター以下を有する。充填剤は単峰性
または多峰性(例えば二峰性)粒子サイズ分布を有する。充填剤は無機物質であ
る。これはまた、重合性樹脂中に不溶性である架橋型有機物質であり、所望によ
り無機充填剤で充填される。充填剤はとにかく非毒性であって、口内での使用に
適しているべきである。充填剤は放射線不透過性、放射線透過性または非放射線
不透過性である。
【0050】
好適な無機充填剤の例としては、石英、窒化物(例、シリコーン窒化物)、例
えばCe、Sb、Sn、Zr、Sr、BaおよびAlから誘導されたガラス、コ
ロイド状シリカ、長石、ホウ珪酸塩ガラス、カオリン、タルク、チタニア、およ
び亜鉛ガラス;米国特許第4,695,251号明細書に記載されるものなどの低モース
硬度充填剤;およびサブミクロンシリカ粒子(例えば、Degussa販売の"Aerosil"
シリーズ"OX50"、"130"、"150"および"200"シリカおよびCabot Co
rp.販売の"Cab-O-Sil M5"シルカ)などの天然または合成物質がある。好適な有
機充填剤粒子の例としては、充填または未充填粉砕ポリカーボネート、ポリエポ
キシドなどがある。好ましい充填剤粒子は石英、サブミクロンシリカおよび米国
特許第4,503,169号明細書に記載されるタイプの非ガラス質微粒子である。IVA、
VA、VIA、VIIA、VIII、IB、またはIB族の金属、IIIB族のアルミニウム、インジ
ウム、およびタリウム、およびIVB族のスズおよび鉛などの純金属、またはこれ
らの合金から製造された粒子状金属充填剤などの金属充填剤を混合してもよい。
従来の歯科用アマルガム合金粉末、通常、銀、スズ、銅、および亜鉛の混合物も
また所望により混合してもよい。粒子状金属充填剤は、好ましくは平均粒子径約
1ミクロン〜約100ミクロン、より好ましくは1ミクロン〜約50ミクロンを
有する。これらの充填剤の混合物ならびに有機および無機物質から製造された充
填剤の組み合わせも期待される。未処理またはシラノール処理フルオロアルミノ
珪酸塩ガラス充填剤は、特に好ましい。これらのガラスは経口環境下に置かれた
とき、歯科作業部位でフッ素を放出するさらなる利点を有する。
えばCe、Sb、Sn、Zr、Sr、BaおよびAlから誘導されたガラス、コ
ロイド状シリカ、長石、ホウ珪酸塩ガラス、カオリン、タルク、チタニア、およ
び亜鉛ガラス;米国特許第4,695,251号明細書に記載されるものなどの低モース
硬度充填剤;およびサブミクロンシリカ粒子(例えば、Degussa販売の"Aerosil"
シリーズ"OX50"、"130"、"150"および"200"シリカおよびCabot Co
rp.販売の"Cab-O-Sil M5"シルカ)などの天然または合成物質がある。好適な有
機充填剤粒子の例としては、充填または未充填粉砕ポリカーボネート、ポリエポ
キシドなどがある。好ましい充填剤粒子は石英、サブミクロンシリカおよび米国
特許第4,503,169号明細書に記載されるタイプの非ガラス質微粒子である。IVA、
VA、VIA、VIIA、VIII、IB、またはIB族の金属、IIIB族のアルミニウム、インジ
ウム、およびタリウム、およびIVB族のスズおよび鉛などの純金属、またはこれ
らの合金から製造された粒子状金属充填剤などの金属充填剤を混合してもよい。
従来の歯科用アマルガム合金粉末、通常、銀、スズ、銅、および亜鉛の混合物も
また所望により混合してもよい。粒子状金属充填剤は、好ましくは平均粒子径約
1ミクロン〜約100ミクロン、より好ましくは1ミクロン〜約50ミクロンを
有する。これらの充填剤の混合物ならびに有機および無機物質から製造された充
填剤の組み合わせも期待される。未処理またはシラノール処理フルオロアルミノ
珪酸塩ガラス充填剤は、特に好ましい。これらのガラスは経口環境下に置かれた
とき、歯科作業部位でフッ素を放出するさらなる利点を有する。
【0051】
所望により、充填剤粒子の表面は、充填剤と重合性樹脂との間の結合を増強す
るために、架橋剤などの表面処理剤で処理してもよい。架橋剤はエポキシド、ビ
ニルエーテル、アクリレート、メタクリレートなどの反応性硬化基を使用して機
能化されていてもよい。架橋剤の例としては、グリシジルトリメトキシシラン、
O(ビニルオキシエチル)−N−(トリエトキシシリルプロピル)ウレタン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
るために、架橋剤などの表面処理剤で処理してもよい。架橋剤はエポキシド、ビ
ニルエーテル、アクリレート、メタクリレートなどの反応性硬化基を使用して機
能化されていてもよい。架橋剤の例としては、グリシジルトリメトキシシラン、
O(ビニルオキシエチル)−N−(トリエトキシシリルプロピル)ウレタン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【0052】
本発明の歯科用物質は、また促進剤、阻害剤、吸収剤、安定化剤、顔料、染料
、粘度調整剤、表面張力抑制剤および湿潤助剤、抗酸化剤、および当業者に周知
である他の成分を含むことができる。 歯科用物質における各成分の量および種類は、硬化前および後に所望の物理的
性質および操作性をもたらすように調整されるべきである。例えば、歯科用物質
の硬化速度、硬化安定性、流動性、圧縮強度、引張強度および耐久性は、通常、
重合開始剤の種類および量、およびもし存在するなら、充填剤の負荷および粒子
径分布を変化させて部分的に調整する。このような調整は、通常、先行技術の歯
科用物質を使用した経験に基づいて、実施する。
、粘度調整剤、表面張力抑制剤および湿潤助剤、抗酸化剤、および当業者に周知
である他の成分を含むことができる。 歯科用物質における各成分の量および種類は、硬化前および後に所望の物理的
性質および操作性をもたらすように調整されるべきである。例えば、歯科用物質
の硬化速度、硬化安定性、流動性、圧縮強度、引張強度および耐久性は、通常、
重合開始剤の種類および量、およびもし存在するなら、充填剤の負荷および粒子
径分布を変化させて部分的に調整する。このような調整は、通常、先行技術の歯
科用物質を使用した経験に基づいて、実施する。
【0053】
歯科用物質を歯に適用する場合、歯は所望により当業者に公知である方法によ
って、象牙質またはエナメル接着剤などのプライマーで前処理することができる
。 本発明の特に有用な組成物は、経口環境下での重合において有用である可視光
線による光重合性歯科用組成物である。これらの組成物は、a)カチオン重合性
エポキシ樹脂、b)アリールヨードニウム塩、c)アシルホスフィンオキシドお
よび所望によりd)組成物中に存在する歯科用充填剤を含む。これらの成分は、
該光重合性樹脂を可視光線に露光して、少なくとも1mmの深さまで硬化させる
に十分な量にて存在する。この組成物はさらにオキセタン、オキソラン、環状ア
セタール、ラクタム、ラクトンおよびビニルエーテルから選択されるカチオン硬
化性樹脂を含んでいてもよい。この組成物はさらにアクリレート、メタクリレー
ト、アリル化合物、ビニルベンゼン化合物またはラジカル重合に適した他の不飽
和化合物から選択されるラジカル硬化性樹脂を含んでいてもよい。
って、象牙質またはエナメル接着剤などのプライマーで前処理することができる
。 本発明の特に有用な組成物は、経口環境下での重合において有用である可視光
線による光重合性歯科用組成物である。これらの組成物は、a)カチオン重合性
エポキシ樹脂、b)アリールヨードニウム塩、c)アシルホスフィンオキシドお
よび所望によりd)組成物中に存在する歯科用充填剤を含む。これらの成分は、
該光重合性樹脂を可視光線に露光して、少なくとも1mmの深さまで硬化させる
に十分な量にて存在する。この組成物はさらにオキセタン、オキソラン、環状ア
セタール、ラクタム、ラクトンおよびビニルエーテルから選択されるカチオン硬
化性樹脂を含んでいてもよい。この組成物はさらにアクリレート、メタクリレー
ト、アリル化合物、ビニルベンゼン化合物またはラジカル重合に適した他の不飽
和化合物から選択されるラジカル硬化性樹脂を含んでいてもよい。
【0054】
本発明の組成物は、歯の修復および歯におけるブラケット、歯冠、補綴材また
はインレーの固定に使用することができる。特に断りのない限り、全ての部およ
びパーセントは重量による。また全ての分子量は重量平均分子量である。 本発明の組成物は、例えば、金属、ガラス、織物、紙の被覆材、印刷業界のネ
ガティブ印刷レリーフ製造、導電板、可視光線硬化性接着剤または封止材、可視
光線による成形品の補強などの産業上の用途においても同様に有用である。重要
な利点は紫外線と比較して、特に顔料を含む系において硬化の深さがより深いこ
とおよび可視光線の有害性が少ないことである。
はインレーの固定に使用することができる。特に断りのない限り、全ての部およ
びパーセントは重量による。また全ての分子量は重量平均分子量である。 本発明の組成物は、例えば、金属、ガラス、織物、紙の被覆材、印刷業界のネ
ガティブ印刷レリーフ製造、導電板、可視光線硬化性接着剤または封止材、可視
光線による成形品の補強などの産業上の用途においても同様に有用である。重要
な利点は紫外線と比較して、特に顔料を含む系において硬化の深さがより深いこ
とおよび可視光線の有害性が少ないことである。
【0055】
実施例1
Union Carbide製エポキシ樹脂ERL4221、19.5g、ISP TECHNOLOGIES, INC,
.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(4
−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアンチ
モネート0.2935gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上記
得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(Barium-Gla
s GM27884 SCHOTT Landshut)12gを充填した。コンポジットは光の存在しな
い状況下、室温にて安定である。
.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(4
−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアンチ
モネート0.2935gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上記
得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(Barium-Gla
s GM27884 SCHOTT Landshut)12gを充填した。コンポジットは光の存在しな
い状況下、室温にて安定である。
【0056】
実施例2
Union Carbide製エポキシ樹脂ERL4221、19.5g、ISP TECHNOLOGIES, INC,
.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(4
−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアンチ
モネート0.2935gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上記
得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(F-Quarz-06
6, Industrial Corporation)12gを充填した。コンポジットは光の存在しな
い状況下、室温にて安定である。
.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(4
−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアンチ
モネート0.2935gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上記
得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(F-Quarz-06
6, Industrial Corporation)12gを充填した。コンポジットは光の存在しな
い状況下、室温にて安定である。
【0057】
実施例3
Union Carbide製エポキシ樹脂ERL4221、19.5g、ISP TECHNOLOGIES, IN
C,.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(
4−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアン
チモネート0.7235gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上
記得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(SILBOND
FW12 EST, Quarzwerke)13gを充填した。コンポジットは光の存在しない状況
下、室温にて安定である。
C,.製ビニルエーテルDVE-3、4.5g、LUCIRIN TPO、0.1800gおよび(
4−n−ドデシルオキシフェニル)フェニルヨードニウム−ヘキサフルオロアン
チモネート0.7235gを一緒にして、光の存在しない状況下で攪拌した。上
記得られた光硬化性エポキシシステム5.60gにシラン処理充填剤(SILBOND
FW12 EST, Quarzwerke)13gを充填した。コンポジットは光の存在しない状況
下、室温にて安定である。
【0058】
アシルホスフィン触媒混合物の実施例
触媒混合物は、酢酸エチル10g中に(4−n−ドデシルオキシフェニル)フ
ェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート7.2gおよびLucirin TPO
、1.8gを溶解して調製する(光の存在しない状況下に十分に攪拌して)。 この触媒混合物は前記モノマーを硬化することができる。例えば、この触媒混
合物1.90gはエポキシ樹脂ERL4221(Union Carbide)9.75gおよびビニ
ルエーテルDVE-3(ISP Technologies)2.2gのモノマー混合物を硬化深さ6
.4mmまで硬化することができる(90秒、ランプ:Kulzer UniXS)。
ェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート7.2gおよびLucirin TPO
、1.8gを溶解して調製する(光の存在しない状況下に十分に攪拌して)。 この触媒混合物は前記モノマーを硬化することができる。例えば、この触媒混
合物1.90gはエポキシ樹脂ERL4221(Union Carbide)9.75gおよびビニ
ルエーテルDVE-3(ISP Technologies)2.2gのモノマー混合物を硬化深さ6
.4mmまで硬化することができる(90秒、ランプ:Kulzer UniXS)。
【0059】
表1:実施例の性質
実施例1 実施例2 実施例3
開始剤 TPO/ヨードニウム TPO/ヨードニウム TPO/ヨードニウム
モノマー ERL4221/DVE-3 ERL4221/DVE-3 ERL4221/DVE-3
充填剤 Ba-Glas(エポキシ化)F-Quarz(エポキシ化)Silbond FW12EST
硬化深さ
1分光硬化 2.8 3.7 6.0
[mm]
半透明性、
2mm 非常に良好 低い 非常に低い
横軸強度
[Mpa] 68 36 59
圧縮強度
[N/mm2] 160 190 120
直径方向
引張強度 28 34 25
[N/mm2]
美学仕様 不透明 灰色 不透明
【0060】
これらの実施例は、広く使用されているメタクリレート樹脂系光硬化性組成物
と同様な機械的強度を示す。
と同様な機械的強度を示す。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年3月4日(2002.3.4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
G03F 7/004 501 G03F 7/038 501
7/029 A61C 13/00 C
7/038 501 13/14 B
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF
,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,
AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B
Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK
,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,
GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J
P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR
,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,
MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R
O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ
,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,
VN,YU,ZA,ZW
(72)発明者 ジーグラー,ウォルフラム
ドイツ 25335 エルムスホルン ロベル
ト−ボッシュ−ストラッセ5
Fターム(参考) 2H025 AA01 AB20 AC01 AD01 BC13
BC23 BC42 BD03 BD06 BE07
CA34 CA48
4C089 AA01 AA06 AA09 BC20 BD20
4J031 BA07 BA08 BA13 BB01 BB02
BB03 BC11 CA83 CB06
4J036 AA01 DD07 EA01 EA02 EA04
EA05 FA01 GA24 HA02 JA15
Claims (16)
- 【請求項1】 a)少なくとも1種のアリールヨードニウム塩、およびb)
少なくとも1種のアシルホスフィンオキシド誘導体を含む組成物。 - 【請求項2】 前記アリールヨードニウム塩はジアリールヨードニウム塩で
ある、請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 アリールヨードニウム塩はジアリールヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェートまたはジアリールヨードニウムヘキサフルオロアンチモネー
トである、請求項1または2記載の組成物。 - 【請求項4】 前記アシルホスフィンオキシド誘導体はアシルジフェニルホ
スフィンオキシドおよびジアシルフェニルホスフィンオキシドからなる群から選
択される、先の請求項のいずれか1つに記載の組成物。 - 【請求項5】 前記組成物は、さらにc)少なくとも1種のカチオン重合性
エポキシ化合物または樹脂を含む、先の請求項のいずれか1つに記載の組成物。 - 【請求項6】 前記組成物は、エポキシ化合物または樹脂以外の別なカチオ
ン硬化性化合物または樹脂を含む、請求項5記載の組成物。 - 【請求項7】 前記別なカチオン硬化性化合物または樹脂は、オキセタン、
オキソラン、環状アセタール、ラクタム、ラクトン、およびビニルエーテルから
なる群から選択される、請求項6記載の組成物。 - 【請求項8】 前記組成物は、別な放射線硬化性化合物または樹脂を含む、
請求項5〜7のいずれか1つに記載の組成物。 - 【請求項9】 前記別な放射線硬化性樹脂は、アクリレート、ビニルベンゼ
ン誘導体、アリル誘導体、ビニルケトンからなる群から選択される、請求項8記
載の組成物。 - 【請求項10】 前記組成物は、d)少なくとも1種の充填剤、および/ま
たはe)少なくとも1種の放射線不透過性充填剤を含む、請求項5〜9のいずれ
か1つに記載の組成物。 - 【請求項11】 充填剤は無機または架橋型有機物質またはこれらの混合物
である、請求項10記載の組成物。 - 【請求項12】 請求項5〜11のいずれか1つに記載の組成物を重合して
得られうる重合した組成物。 - 【請求項13】 前記組成物は1mm以上の厚さを有する、請求項12記載
の重合した組成物。 - 【請求項14】 請求項1〜13のいずれか1つに記載される組成物の歯科
用組成物としての使用。 - 【請求項15】 請求項1〜13のいずれか1つに記載される組成物の歯の
修復のための使用。 - 【請求項16】 請求項1〜13のいずれか1つに記載される組成物のブラ
ケット、歯冠、補綴材またはインレーの固定への使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19961347A DE19961347A1 (de) | 1999-12-17 | 1999-12-17 | Photoinitiatorsystem mit Acylphosphinoxid-Initiatoren |
DE19961347.8 | 1999-12-17 | ||
PCT/EP2000/011405 WO2001044873A1 (en) | 1999-12-17 | 2000-11-16 | Photoinitiator system with acylphosphine oxide initiators |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003517513A true JP2003517513A (ja) | 2003-05-27 |
Family
ID=7933345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001545903A Pending JP2003517513A (ja) | 1999-12-17 | 2000-11-16 | アシルホスフィンオキシド開始剤を使用する光開始剤システム |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7144927B1 (ja) |
EP (1) | EP1252551B1 (ja) |
JP (1) | JP2003517513A (ja) |
AT (1) | ATE333667T1 (ja) |
AU (1) | AU776794B2 (ja) |
CA (1) | CA2392771A1 (ja) |
DE (2) | DE19961347A1 (ja) |
WO (1) | WO2001044873A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017126074A (ja) * | 2017-02-10 | 2017-07-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
CN109464287A (zh) * | 2017-09-08 | 2019-03-15 | 辽宁爱尔创生物材料有限公司 | 一种牙科用复合树脂材料的制备方法及其制备的产品 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5131888B2 (ja) * | 2002-09-25 | 2013-01-30 | 株式会社Adeka | 新規な芳香族スルホニウム塩化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光学的立体造形用樹脂組成物並びに光学的立体造形法 |
WO2005048674A1 (ja) * | 2003-11-14 | 2005-05-26 | Bridgestone Corporation | 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法 |
DE102009016025B4 (de) | 2009-04-02 | 2014-12-11 | Voco Gmbh | Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
US8921475B2 (en) | 2009-07-28 | 2014-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Cationically hardenable dental composition, process of production and use thereof |
DE102010003883A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Lichthärtbares Kompositmaterial |
DE102010003881A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dentale Abdeckmasse |
DE102010003884A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung |
US8915736B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-12-23 | Voco Gmbh | Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal |
EP2436668B1 (de) | 2010-09-30 | 2012-09-12 | VOCO GmbH | Polymerisierbare Verbindungen umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement |
US8697769B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-04-15 | Voco Gmbh | Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element |
EP2436366B1 (de) | 2010-09-30 | 2015-07-29 | VOCO GmbH | Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement als Versiegelungsmaterial |
EP2436365B1 (de) | 2010-09-30 | 2017-03-08 | VOCO GmbH | Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement |
EP2450025B1 (de) | 2010-11-08 | 2012-11-28 | VOCO GmbH | Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement |
DE102011003289A1 (de) | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Voco Gmbh | Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren |
DE102011105593A1 (de) | 2011-06-27 | 2012-12-27 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
DE102011113264A1 (de) | 2011-09-13 | 2013-03-14 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von fluidführenden Leitungssystemen |
DE102012001978A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher |
DE102012001979A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe |
DE102012003393B4 (de) | 2012-02-23 | 2013-09-26 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von fluidführenden Leitungssystemen |
DE102012212429A1 (de) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Voco Gmbh | Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials |
DE102012214540A1 (de) | 2012-08-15 | 2014-02-20 | Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH | Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung |
DE102013008176A1 (de) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Voco Gmbh | Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays |
EP2935967A1 (de) * | 2012-12-20 | 2015-10-28 | SML Verwaltungs GmbH | Leuchtmittel sowie verfahren zum aktivieren einer aushärtung eines auskleidungsschlauchs |
DE102012024905A1 (de) * | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung von Leitungssystemen und Verfahren zur Sanierung von Leitungssystemen |
DE102014116402A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren |
DE102014116389A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen |
DE102017103084A1 (de) | 2017-02-15 | 2018-08-16 | Voco Gmbh | Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren |
DE102017105841A1 (de) | 2017-03-17 | 2018-09-20 | Voco Gmbh | Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren |
DE102018103415A1 (de) | 2018-02-15 | 2019-08-22 | Voco Gmbh | Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf |
DE102018111361A1 (de) | 2018-05-14 | 2019-11-14 | Sml Verwaltungs Gmbh | Auskleidungsschlauch für die Sanierung fluidführender Systeme |
DE102018114690A1 (de) | 2018-06-19 | 2019-12-19 | Voco Gmbh | Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung |
DE102019122174A1 (de) | 2019-08-19 | 2021-02-25 | Voco Gmbh | Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane |
CN111303577A (zh) * | 2020-02-28 | 2020-06-19 | 山东非金属材料研究所 | 一种增材制造用可见光敏液体树脂、其制备方法及使用方法 |
DE102021131472A1 (de) | 2021-11-30 | 2023-06-01 | Relineeurope Gmbh | Auskleidungsschlauch zur Sanierung fluidführender Leitungssysteme |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0632813A (ja) * | 1992-07-17 | 1994-02-08 | Three Bond Co Ltd | 重合開始剤組成物 |
JPH08245783A (ja) * | 1995-02-22 | 1996-09-24 | Heraeus Kulzer Gmbh | 重合性化合物の使用 |
JPH09268204A (ja) * | 1996-02-01 | 1997-10-14 | Tokuyama Corp | 可視光線重合開始剤および可視光線重合性組成物 |
JPH11335220A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Tokuyama Corp | 歯科用硬化性組成物 |
JP2002513078A (ja) * | 1998-04-24 | 2002-05-08 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 重金属を含まない被覆配合物 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3806738C1 (ja) | 1988-03-02 | 1989-09-07 | Espe Stiftung & Co Produktions- Und Vertriebs Kg, 8031 Seefeld, De | |
TW381106B (en) * | 1994-09-02 | 2000-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides |
US5744511A (en) | 1995-04-19 | 1998-04-28 | Tokuyama Corporation | Visible ray polymerization initiator and visible ray polymerizable composition |
CH691970A5 (de) * | 1996-03-04 | 2001-12-14 | Ciba Sc Holding Ag | Alkylphenylbisacylphosphinoxide und Photoinitiatormischungen. |
US6054007A (en) * | 1997-04-09 | 2000-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Method of forming shaped adhesives |
JPH10316708A (ja) | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Showa Denko Kk | 光硬化性組成物及び色戻り防止方法 |
AU763355B2 (en) * | 1998-08-20 | 2003-07-17 | Kuraray Co., Ltd. | Bonding compositions for dental use |
-
1999
- 1999-12-17 DE DE19961347A patent/DE19961347A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-11-16 US US10/148,745 patent/US7144927B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-16 EP EP00981263A patent/EP1252551B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-16 DE DE60029481T patent/DE60029481T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-16 JP JP2001545903A patent/JP2003517513A/ja active Pending
- 2000-11-16 WO PCT/EP2000/011405 patent/WO2001044873A1/en active Search and Examination
- 2000-11-16 AU AU18573/01A patent/AU776794B2/en not_active Ceased
- 2000-11-16 CA CA002392771A patent/CA2392771A1/en not_active Abandoned
- 2000-11-16 AT AT00981263T patent/ATE333667T1/de not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0632813A (ja) * | 1992-07-17 | 1994-02-08 | Three Bond Co Ltd | 重合開始剤組成物 |
JPH08245783A (ja) * | 1995-02-22 | 1996-09-24 | Heraeus Kulzer Gmbh | 重合性化合物の使用 |
JPH09268204A (ja) * | 1996-02-01 | 1997-10-14 | Tokuyama Corp | 可視光線重合開始剤および可視光線重合性組成物 |
JP2002513078A (ja) * | 1998-04-24 | 2002-05-08 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 重金属を含まない被覆配合物 |
JPH11335220A (ja) * | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Tokuyama Corp | 歯科用硬化性組成物 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017126074A (ja) * | 2017-02-10 | 2017-07-20 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
CN109464287A (zh) * | 2017-09-08 | 2019-03-15 | 辽宁爱尔创生物材料有限公司 | 一种牙科用复合树脂材料的制备方法及其制备的产品 |
CN109464287B (zh) * | 2017-09-08 | 2021-09-10 | 辽宁爱尔创生物材料有限公司 | 一种牙科用复合树脂材料的制备方法及其制备的产品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7144927B1 (en) | 2006-12-05 |
AU776794B2 (en) | 2004-09-23 |
DE60029481D1 (en) | 2006-08-31 |
DE19961347A1 (de) | 2001-06-21 |
EP1252551A1 (en) | 2002-10-30 |
WO2001044873A1 (en) | 2001-06-21 |
EP1252551B1 (en) | 2006-07-19 |
AU1857301A (en) | 2001-06-25 |
ATE333667T1 (de) | 2006-08-15 |
DE60029481T2 (de) | 2007-07-12 |
CA2392771A1 (en) | 2001-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1252551B1 (en) | Photoinitiator system with acylphosphine oxide initiators | |
US5856373A (en) | Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure | |
JP3321173B2 (ja) | 増強された硬化深さを有する可視光硬化性エポキシ系 | |
JP4369051B2 (ja) | 光重合可能な歯科用組成物 | |
JP4430397B2 (ja) | カチオン重合性樹脂のための三元光開始剤システム | |
JP4009754B2 (ja) | エポキシ/ポリオール樹脂組成物を硬化させるための3成分光開始剤系 | |
JP4979387B2 (ja) | カチオン重合可能な樹脂を硬化させるための、アントラセンベースの電子供与体を含む光開始剤系 | |
JP2002500172A (ja) | 硬質組織の処理方法 | |
JP2001520758A (ja) | エポキシ樹脂を硬化させるための3成分光開始剤系 | |
EP1237980B1 (en) | Photoinitiator system with titanocene initiators | |
CA2203267C (en) | Visible-light curable epoxy system with enhanced depth of cure | |
MXPA00011973A (en) | Photopolymerizable dental compositions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071102 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100901 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110221 |