JP2003513284A - ひずみ補償を有する電磁式位置及び配向追跡方法及び装置 - Google Patents
ひずみ補償を有する電磁式位置及び配向追跡方法及び装置Info
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Abstract
Description
存在している限られた容積内において、正確な位置、配向、及び運動を追跡する
ための方法及び装置に関する。
/磁気式追跡装置は、いろいろな種類のひずみに対して鋭敏である。このような
ひずみは、電磁式追跡装置においては金属対象物内の渦電流によって、または強
磁性材料が原因であり得、一方慣性式追跡装置の場合にはドリフトまたは振動が
原因であり得る。
ては、ビークルまたは航空機参照フレームのドリフト及び運動を補償するために
、付加的なセンサ、または1組のセンサを必要とする。たとえこれらの付加的な
センサを用いたとしても、これらのシステムは振動及び温度の不安定さに敏感で
あり、付加的な補償が必要になる。慣性式追跡システムも、分乃至時間単位の期
間にわたってドリフトを生ずるようになる。
るように、組合わせシステム、即ち、光学及び磁気センシングを組合わせたシス
テムが設計されている。このようなシステムの1つはHansenの米国特許第5,831,
260号に開示されている。光学式追跡モジュールを有する組合わせシステム(例
えば、慣性/光学または磁気/光学)は、暗視デバイスが酷く干渉するか、また
は寄生照明または光学雑音が存在する応用に対しては使用が制限される。
によって、または強磁性材料によってもたらされ得る。渦電流自体は場を生成し
、これらの場は追跡目的のために使用される源からの場に干渉する。この種のひ
ずみを補償するための1つの解法は、マッピングの使用を含む。マッピングを用
いると金属物体によってひずまされる関心容積内の電磁場が事前に限定され、位
置及び配向を解くために使用される。本明細書が参照している米国特許出願第09
/215,052号には、その好ましい実施の形態の一部として、これらの場マッピング
と共にグリーン関数の使用が開示されている。
るにも拘わらず効果的であるアプローチに対する要望が残されている。このよう
な解法は、理想的には、運動捕捉及び医療機器を含むさまざまな応用に有用であ
ろう。
ある。従来のアプローチに優る種々の長所の中で、本発明は、実際の測定の前に
マッピングする必要性を排除し、新しい場にひずみが発生した場合には実時間で
調整することを可能にする。これは、航空機のコックピット、または医療/手術
機器の追尾ような環境においては重要である。
システムに特に適用可能である。上述した設計と同様に、容積内の追跡される対
象物上に1つまたはそれ以上のプローブセンサを配置し、各プローブセンサは源
によって生成された場の磁気誘導ベクトル成分を測定し、その容積内の対象物の
位置、配向、及び運動を決定する。しかしながら、本発明においては、電磁ひず
みを補償するために、対象物上に配置された1つまたは複数のプローブセンサの
他に、少なくとも1つのウィットネス(witness)センサと称する静止センサを
使用する。各ウィットネスセンサは、関心参照フレームに対して既知の固定位置
に、及び配向で、関心容積の付近またはその内部の点に、そして追跡される対象
物上のセンサに近接して支持される。
する中で、対象物の位置及び配向を計算するように動作する処理ユニットに印加
される。プロセッサは、各ウィットネスセンサからのデータを使用して、実効電
磁源の位置、配向、及び強度のようなパラメータを計算する。簡易化のために点
源またはダイポールとして取扱うことができる実効源(1つまたは複数)は、ウ
ィットネスセンサの近傍に実の(real)源の場と同一の場プラスひずみの場を発
生する。無ひずみ平静環境の場合には、単一の実効源は実際の実の源と一致し、
それと同一であることに注目されたい。これにより、各プローブセンサが測定す
るにつれて、実効源(1つまたは複数)の計算されたパラメータを、あたかもそ
の対象物が実効源(1つまたは複数)によって発生された無ひずみ電磁場内にあ
るかのように位置及び配向を計算するための入力として使用することが可能にな
る。
、既知の空間点における電磁誘導ベクトル成分を測定する少なくとも1つのウィ
ットネスセンサと、対象物のパースペクティブから電磁誘導ベクトル成分を測定
する1つまたはそれ以上のプローブセンサと、必要計算を行う制御/処理ユニッ
トとを含む。本発明の用途は、航空機、戦車、及び武装ビークル応用におけるヘ
ルメット取付型ディスプレイ用追跡装置の他に、電磁ひずみまたは干渉を受け得
るどのような電磁式追跡システムにも存在する。これらの応用領域は、特に、電
磁式運動捕捉システム、及び医療システム及び機器を含む。
102が、電磁ひずみが存在し得る関心容積104内において追跡される対象物
である。1つまたはそれ以上のプローブセンサ106が対象物上に支持されてい
て、実の物理的源110によって生成された交流電磁場の磁気誘導ベクトル成分
を測定する。既知の位置及び配向を有する静止“ウィットネス”センサ112(
または1組のセンサ)が、源110から既知の距離R0に配置されている。
20への経路114及び116を介して相互接続され、プロセッサユニット12
0は容積106内の対象物102の位置及び配向を出力する。プローブまたはウ
ィットネスセンサとして複数の単軸センサを使用することができるが、本発明は
、好ましくは、誘導ベクトルの3成分を測定する多軸センサを使用する。各ウィ
ットネスセンサからの磁場データは、ウィットネスセンサから距離Reffに配置
されている“実効”源(1つまたは複数)122の位置、強度、及び配向を計算
するためにプロセッサユニット120によって使用される。実効源122は実の
源ではないが、存在し得る電磁ひずみの場と等価な電磁場をウィットネスセンサ
の近傍に発生する源をモデルするようになっている。所要の精度及び処理時間に
依存して、この実効源を取扱うために少なくとも2つのオプションが存在する。
第1のオプションは実際の源の場と同一の場プラスひずみ場を発生する単一の実
効源を考えることであり、第2のオプションは実際の源に追加される単一の、ま
たは複数の実効源を考える(場は、実の源からの場と、ひずみをモデルする1つ
または複数の実効源からの場との重畳と考えられる)ことである。この第2のオ
プションはより正確であるが、より強力なリアルタイム計算が要求される。実効
源122(または、実の源110の場と、1つまたは複数の実効源12の場との
重畳)によって発生する無ひずみ場123内で測定された結果は、各プローブセ
ンサ106の、従って対象物102の位置及び配向を決定するために使用される
。従って、ひずみは自動的に斟酌されることになる。
タは自己較正型である。図1に示した容積は立方体であるが、このシステムはど
のようなジオメトリでも動作する。マッピングアプローチは規則正しい幾何学的
容積を使用することにより利益を得るものであるが、本発明は本質的にマッピン
グを必要としないので任意容積形状に容易に適用される。ウィットネスセンサ(
1つまたは複数)は容積内に配置する必要はない。最適の結果を得るための唯一
の条件は、ウィットネスセンサ(1つまたは複数)及びプローブセンサ(1つま
たは複数)を互いに十分に接近させることである。
れている電磁放射の実の源によって測定された磁気誘導ベクトルであるとする。
この磁場は、次式によって正確に表すことができる。 ここにGはグリーン関数であり、密度関数に等しい。
副容積Vdist内に空間的に分布しているひずみの場を表している。この場合、実
際の源は(0,0,0)に配置されているが、適切な座標変換によって、どのよう
な適当な代替位置をも使用できることに注目されたい。多重ウィットネスセンサ
(例えば、Nセンサ)の場合には、R0の代わりにR0i(i=1…N)を対応し
て置換することにより、1組Nの類似式が得られる。
のオプション)の場として、以下のように近似的に表すことができる。 上記第2のオプションからは、次式が得られる。 Reff及び についてのこれらの式の解は、例えば最良適合法によって、また
は準ニュートン法によって見出すことができる。
における電磁場を表している。 rについての解が、システムの出力を定義する。
スセンサ(1つまたは複数)を配置することによって向上する。即ち、精度は、 r≪R0n,Reff である場合に高められる。ウィットネスセンサを複数にするとReffについての
、従ってrについての解の精度が向上する。更に、十分な精度を達成できる容積
が大きくなる。
(1または複数)から入力データが収集される。ブロック204において、実効
源(1または複数)のパラメータが計算される。もしウィットネスセンサ(1ま
たは複数)からのデータが変化していれば、これはステップ220において斟酌
される。ステップ206において、プローブセンサ(1または複数)からの入力
データが収集される。ステップ208において、ウィットネス及びプローブセン
サからの入力を使用して、対象物の位置及び配向が関心容積の座標に対して計算
され、ステップ210において出力される。本発明の1つの長所は、実効源のた
めの解を規則的な間隔で計算できることであり、ウィットネス及びプローブセン
サが同一近似位置にあることが好ましいので、外部雑音(例えば、RF)によっ
てほぼ等しく影響されるから、本質的に連続的な雑音補償を可能にしていること
である。
ト302は容積304内で運動する。源306は容積内に交流電磁場を放射する
。この電磁場は、少なくとも1つのウィットネスセンサ308と、オペレータ3
02のヘルメットに取付けられている少なくとも1つのプローブセンサ310と
によって受信される。処理ユニット(図示してない)は、これらのセンサから入
力を受け、源320によって生成された実効場(または、320及び306から
の場の重畳)を、プローブセンサ310によって測定された場の成分に適用する
ことによって、対象物(この場合には、パイロットのヘルメット)の位置及び配
向を計算する。
ディスプレイ用追跡装置、及び医療/手術機器の追尾の他に、電磁ひずみまたは
干渉を受け得るどのような電磁式追跡システムにも存在する。同時出願された米
国特許出願第09/215,052号に開示されているように、これらの応用領域は、特に
、電磁運動捕捉システム、及び医療システム及び機器を含む。
Claims (28)
- 【請求項1】 電磁ひずみが存在する限られた容積内の対象物の位置及び配
向を決定する装置であって、 測定可能な磁気誘導ベクトル成分を有する電磁場の実の源と、 上記関心容積付近に、または該容積内に支持されていて、固定された既知の位
置及び配向を使用して上記誘導ベクトル成分を測定するように各々が動作する1
つまたは複数の静止ウィットネスセンサと、 上記対象物上に支持されていて、上記誘導ベクトル成分を測定する1つまたは
それ以上のプローブセンサと、 上記各ウィットネスセンサ及び各プローブセンサと通信するプロセッサと、 を備え、 上記プロセッサは、 a)少なくとも1つの実効電磁源の特性を計算する機能を遂行し、上記実効源
は、上記実の源によって生成される場に類似する、または該場と同一の場を、上
記容積内に存在する電磁ひずみと共に上記各ウィットネスセンサの近傍に発生す
るモデル源として定義され、 b)上記各プローブセンサによって測定された上記誘導ベクトル成分を受信す
る機能と、 c)上記実効源の特性を、上記各プローブセンサによって測定された上記誘導
ベクトル成分に適用することによって、上記対象物の位置及び配向を計算する機
能と、 を更に遂行することを特徴とする装置。 - 【請求項2】 上記対象物は上記容積内で運動し、 上記対象物の運動を追跡するために、上記プロセッサによって遂行される少な
くとも機能b)及びc)を規則的な間隔で繰り返す、 ことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 上記実効源の計算された特性は、上記実効源の強度、位置、
及び配向を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項4】 上記限られた容積はビークル内部の少なくとも一部分を含み
、上記各プローブセンサは上記ビークルのオペレータに対して支持されているこ
とを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項5】 上記ビークル内部は航空機コックピットの一部を形成し、上
記各プローブセンサは上記オペレータが着用すヘルメット上に取付けられている
ことを特徴とする請求項4に記載の装置。 - 【請求項6】 上記プローブセンサの少なくとも1つは、医療機器上に位置
決めされることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項7】 上記プローブセンサの少なくとも1つは、人体上に位置決め
されることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項8】 複数のウィットネスセンサを含み、上記実効源の特性は、最
良適合近似によって決定されることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項9】 複数のウィットネスセンサを含み、上記実効源の特性は、エ
ラー最小化または最適化手順によって決定されることを特徴とする請求項1に記
載の装置。 - 【請求項10】 上記実効源は、点源として取扱われることを特徴とする請
求項1に記載の装置。 - 【請求項11】 上記実効源は、ダイポール源として取扱われることを特徴
とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項12】 上記各ウィットネスセンサ及び各プローブセンサは、上記
磁気誘導ベクトルの成分を測定することを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項13】 電磁ひずみが存在する限られた容積内の対象物の位置及び
配向を決定する方法であって、 a)磁気誘導ベクトル成分を有する電磁場を、静止源によって生成させるステ
ップと、 b)上記容積付近の、または該容積内の1つまたはそれ以上の静止点において
上記電磁場の成分を測定するステップと、 c)上記対象物に対する1つまたはそれ以上の点において上記電磁場の成分を
測定するステップと、 d)上記静止源によって所与のウィットネスセンサの近傍に発生される実効電
磁場の特性を、上記限られた容積内に存在する電磁ひずみと共に計算するステッ
プと、 e)上記対象物に対して測定された上記誘導ベクトル成分を受信するステップ
と、 f)上記実効場の特性を、上記誘導ベクトル成分に適用することによって、上
記対象物の位置及び配向を計算するステップと、 を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項14】 上記対象物は上記容積内で運動し、 上記対象物の運動を追跡するために、少なくともステップe)及びf)を規則
的な間隔で繰り返す、 ことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項15】 上記実効電磁場の特性を計算するステップは、上記実効場
の強度、位置、及び配向の計算を含むことを特徴とする請求項13に記載の方法
。 - 【請求項16】 上記対象物は、ビークル内部に位置決めされることを特徴
とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項17】 上記対象物は、個人の身体上に支持されることを特徴とす
る請求項13に記載の方法。 - 【請求項18】 上記実効電磁場の特性を計算するステップは、最良適合近
似を遂行するステップを含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項19】 上記実効電磁場の特性を計算するステップは、エラー最小
化または最適化手順を遂行するステップを含むことを特徴とする請求項13に記
載の方法。 - 【請求項20】 上記実効源を、点源として取扱うステップを更に含むこと
を特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項21】 上記実効源を、ダイポール源として取扱うステップを更に
含むことを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項22】 上記各静止点において誘導ベクトルの3成分を測定するこ
とを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項23】 上記誘導ベクトルの成分を、各点において上記対象物に対
して測定することを特徴とする請求項13に記載の方法。 - 【請求項24】 電磁ひずみが存在する中で、追跡される対象物上に配置さ
れたセンサによって交流電磁放射を受信する型の位置/配向追跡システムにおい
て、 上記電磁ひずみの源に対してその場の中に固定された位置及び配向を有する少
なくとも1つのウィットネスセンサと、 プロセッサ手段と、 を備え、 上記プロセッサ手段は、 a)上記ウィットネスセンサ付近の無ひずみ仮想場を計算し、そして b)上記対象物があたかも上記無ひずみ仮想場内に配置されているかのように
、上記対象物の位置及び配向を計算する、 ために上記ウィットネスセンサと通信することを特徴とする改良。 - 【請求項25】 上記ウィットネスセンサは、上記対象物の直近にあること
を特徴とする請求項24に記載の改良。 - 【請求項26】 複数の離間したウィットネスセンサを更に含むことを特徴
とする請求項24に記載の改良。 - 【請求項27】 追跡される上記対象物上に複数のセンサを更に含むことを
特徴とする請求項24に記載の改良。 - 【請求項28】 上記対象物は、人体上に支持されていることを特徴とする
請求項24に記載の改良。
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