JP2003513081A - ベンゾイルシクロヘキサンジオンおよびベンゾイルピラゾール、それらの製造法、並びに除草剤および植物生長調節剤としてのそれらの使用 - Google Patents
ベンゾイルシクロヘキサンジオンおよびベンゾイルピラゾール、それらの製造法、並びに除草剤および植物生長調節剤としてのそれらの使用Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は一般式(I)
【化1】
のベンゾイル化合物、それらの製造法、並びにそれらの除草剤および植物生長調節剤としての使用に関する。この一般式(I)において、R1、R2、R3およびR4は種々の基を示し、Xはヘテロ原子を含有するアルキレン鎖であり、Hetは複素環またはヘテロ芳香環を示す。
Description
【0001】
本発明は除草剤および植物生長調節剤の技術分野、特に有用な植物の栽培にお
ける広葉雑草および緑草の選択的な防除のための除草剤の技術分野に関する。 除草作用を有する特定のベンゾイル誘導体、例えばフェニル環の3−位に、直
接結合した、あるいは単原子または多原子の橋を介して結合した複素環基を有す
るものが、種々の刊行物からすでに知られている。WO 99/07697は上
記の位置に炭素原子鎖を通して結合する、場合により置換される複素環基が結合
したベンゾイルピラゾールを開示している。WO 99/10327およびWO
99/10328はそれぞれ、炭素原子鎖およびヘテロ原子を介して結合する、
場合により置換される複素環基が結合したベンゾイルシクロヘキサンジオンおよ
びベンゾイルピラゾールを開示している。
ける広葉雑草および緑草の選択的な防除のための除草剤の技術分野に関する。 除草作用を有する特定のベンゾイル誘導体、例えばフェニル環の3−位に、直
接結合した、あるいは単原子または多原子の橋を介して結合した複素環基を有す
るものが、種々の刊行物からすでに知られている。WO 99/07697は上
記の位置に炭素原子鎖を通して結合する、場合により置換される複素環基が結合
したベンゾイルピラゾールを開示している。WO 99/10327およびWO
99/10328はそれぞれ、炭素原子鎖およびヘテロ原子を介して結合する、
場合により置換される複素環基が結合したベンゾイルシクロヘキサンジオンおよ
びベンゾイルピラゾールを開示している。
【0002】
しかしながら、これらの刊行物から知られているベンゾイル誘導体の使用は実
施においてしばしば欠点を伴う。すなわち、既知化合物の除草活性または植物の
生長を調節する活性はいつも十分というわけではなく、あるいは除草活性が十分
でも有用な植物にとって望ましくない損傷が観察される。 本発明の目的は、除草作用および植物の生長を調節する作用を有し、従来から
知られている欠点を克服する化合物を提供することである。
施においてしばしば欠点を伴う。すなわち、既知化合物の除草活性または植物の
生長を調節する活性はいつも十分というわけではなく、あるいは除草活性が十分
でも有用な植物にとって望ましくない損傷が観察される。 本発明の目的は、除草作用および植物の生長を調節する作用を有し、従来から
知られている欠点を克服する化合物を提供することである。
【0003】
したがって、本発明はフェニル環の3−位が特定的に置換された式(I)
【化7】
[式中、Qは2−位で結合する式(Q1)の基または4−位で結合する式(Q2)
の基
の基
【化8】
であり;
Xは、OR3a、OCOR3a、ハロゲン、OCONHR3a、OSO2R3a、(C1
〜C6)アルキル、(C2〜C6)アルケニル、(C2〜C6)アルキニル、フェニルおよ
びフェニル−(C1〜C6)−アルキルからなる群より選択されるw基により置換さ
れ、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子により中断されるか、
またはこのヘテロ原子が炭素鎖の末端の1つに接続し、上記のアルキル、アルケ
ニル、アルキニルおよびフェニル基は場合によりハロゲン、ヒドロキシル、メル
カプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(
C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシカルボニルオキシ、(C1〜C4 )−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ
−(C1〜C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルコキシからなる群より選択される1個以上の基により置換される直鎖状または
分枝鎖状の(C1〜C6)−アルキレン、(C2〜C6)−アルケニレンまたは(C2〜C 6 )−アルキニレンであり;
〜C6)アルキル、(C2〜C6)アルケニル、(C2〜C6)アルキニル、フェニルおよ
びフェニル−(C1〜C6)−アルキルからなる群より選択されるw基により置換さ
れ、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子により中断されるか、
またはこのヘテロ原子が炭素鎖の末端の1つに接続し、上記のアルキル、アルケ
ニル、アルキニルおよびフェニル基は場合によりハロゲン、ヒドロキシル、メル
カプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(
C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシカルボニルオキシ、(C1〜C4 )−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ
−(C1〜C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルコキシからなる群より選択される1個以上の基により置換される直鎖状または
分枝鎖状の(C1〜C6)−アルキレン、(C2〜C6)−アルケニレンまたは(C2〜C 6 )−アルキニレンであり;
【0004】
Hetは環原子として少なくとも1個の窒素原子、および場合により、窒素、
酸素および硫黄からなる群より選択される1、2または3個のヘテロ原子をさら
に含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり; R1およびR2は互いに独立して、水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シア
ノ、チオシアナト、(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜C 6 )−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜
C6)−アルキニル、OS(O)nR10、(C1〜C6)−アルキル−A、(C2〜C6)−
アルケニル−A、(C2〜C6)−アルキニル−A、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1 〜C6)−アルキル−Aであるか、またはそれぞれシアノおよびニトロからなる群
より選択されるm基およびハロゲン基より選択されるw基により置換される、(
C2〜C6)−アルケニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−ア
ルキニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルキル
−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3 〜C9)−シクロアルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロ
アルキル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)
−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)
−シクロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアル
キル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−
シクロアルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)
−シクロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアル
キル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−
シクロアルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C6)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、OR10、OCOR10、S(O)nR10、S
O2N(R10)2、NR10SO2R10またはNR10COR10であり;
酸素および硫黄からなる群より選択される1、2または3個のヘテロ原子をさら
に含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり; R1およびR2は互いに独立して、水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シア
ノ、チオシアナト、(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜C 6 )−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜
C6)−アルキニル、OS(O)nR10、(C1〜C6)−アルキル−A、(C2〜C6)−
アルケニル−A、(C2〜C6)−アルキニル−A、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1 〜C6)−アルキル−Aであるか、またはそれぞれシアノおよびニトロからなる群
より選択されるm基およびハロゲン基より選択されるw基により置換される、(
C2〜C6)−アルケニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−ア
ルキニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルキル
−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3 〜C9)−シクロアルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロ
アルキル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)
−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)
−シクロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアル
キル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−
シクロアルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)
−シクロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアル
キル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−
シクロアルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C6)−シクロアル
ケニル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、OR10、OCOR10、S(O)nR10、S
O2N(R10)2、NR10SO2R10またはNR10COR10であり;
【0005】
R3は水素、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ
、ホルミルであるか、またはそれぞれシアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−
アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオ
キシ、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−ハロアルケニル、(C2〜C4)−
ハロアルキニル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ
、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より
選択されるm基により置換される(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジ
アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハ
ロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシまたはハロ−(C1〜C4)−アルコキシであ
り; R3aは水素、(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−
アルキニル、フェニル、フェニル−(C1〜C6)−アルキルであり、最後に挙げた
5個の基は、非芳香族部分が、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、
シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアル
キルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボ
ニル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜
C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコ
キシからなる群より選択されるw基により置換可能であり; R4は直鎖状または分枝状の[C(R11)2]m−(A)p−[C(R11)2]m−R12であり
;
、ホルミルであるか、またはそれぞれシアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−
アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオ
キシ、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−ハロアルケニル、(C2〜C4)−
ハロアルキニル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ
、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より
選択されるm基により置換される(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジ
アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハ
ロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシまたはハロ−(C1〜C4)−アルコキシであ
り; R3aは水素、(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−
アルキニル、フェニル、フェニル−(C1〜C6)−アルキルであり、最後に挙げた
5個の基は、非芳香族部分が、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、
シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアル
キルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボ
ニル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜
C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコ
キシからなる群より選択されるw基により置換可能であり; R4は直鎖状または分枝状の[C(R11)2]m−(A)p−[C(R11)2]m−R12であり
;
【0006】
Aは酸素または硫黄であり;
R5はOR16、(C1〜C6)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C6)−アルキルチオ
、(C2〜C6)−アルケニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルチオ、(C2〜C 6 )−アルキニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルチオ、(C1〜C6)−アルキ
ルスルフィニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルフィニル、(C2〜C6)−アル
ケニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルフィニル、(C2〜C6)
−アルキニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルフィニル、(C1 〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、(C2〜
C6)−アルケニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルホニル、(C2 〜C6)−アルキニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルホニル、シ
アノ、シアナト、チオシアナトまたはハロゲンであり; R6は水素、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン−4−イル
、テトラヒドロチオピラン−3−イルであるか、あるいはそれぞれハロゲン、(
C1〜C6)−アルキルチオおよび(C1〜C6)−アルコキシからなる群より選択さ
れるw基により置換される(C1〜C6)−アルキル、(C3〜C6)−シクロアルキル
、(C1〜C6)−アルコキシ、(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)−ア
ルコキシ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C6)−アルキルチオまたはフェニルであり、あるいは共有の炭素原子に結合した
2個のR6基は、場合により1〜4個のメチル基により置換されるOCH2CH2
O、OCH2CH2CH2O、SCH2CH2SおよびSCH2CH2CH2Sからなる
群より選択される炭素鎖を形成し;
、(C2〜C6)−アルケニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルチオ、(C2〜C 6 )−アルキニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルチオ、(C1〜C6)−アルキ
ルスルフィニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルフィニル、(C2〜C6)−アル
ケニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルフィニル、(C2〜C6)
−アルキニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルフィニル、(C1 〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、(C2〜
C6)−アルケニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルホニル、(C2 〜C6)−アルキニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルホニル、シ
アノ、シアナト、チオシアナトまたはハロゲンであり; R6は水素、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン−4−イル
、テトラヒドロチオピラン−3−イルであるか、あるいはそれぞれハロゲン、(
C1〜C6)−アルキルチオおよび(C1〜C6)−アルコキシからなる群より選択さ
れるw基により置換される(C1〜C6)−アルキル、(C3〜C6)−シクロアルキル
、(C1〜C6)−アルコキシ、(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)−ア
ルコキシ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C6)−アルキルチオまたはフェニルであり、あるいは共有の炭素原子に結合した
2個のR6基は、場合により1〜4個のメチル基により置換されるOCH2CH2
O、OCH2CH2CH2O、SCH2CH2SおよびSCH2CH2CH2Sからなる
群より選択される炭素鎖を形成し;
【0007】
R7は水素、(C1〜C6)−アルキルまたは(C1〜C6)−ハロアルキルであり;
R8は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルであるか、または
場合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C 4 )−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシか
らなる群より選択される1個以上の基により置換されるフェニルであり; R9は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6 )−アルキルカルボニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)
−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)
−アルキルスルホニルであるか、あるいはそれぞれ場合によりハロゲン、ニトロ
、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−
アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個
以上の基により置換されるベンゾイル、ベンゾイルメチル、フェノキシカルボニ
ルまたはフェニルスルホニルであり; R10は水素であるか、またはそれぞれヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、
アミノ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)
−アルキルチオ、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシイ
ミノ、(C1〜C4)−アルコキシチオカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニ
ル−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C4)−アルキルチオカルボニル、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノカルボニル、
(C1〜C4)−アルキルイミノオキシ、(C1〜C4)−アルコキシアミノ、(C1〜C 4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシ−(C2〜C6)−アルコキシカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル
オキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシお
よびヘテロアリールオキシからなる群より選択されるw基により置換される(C1 〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、(
C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、フェニルまたはフェニル−(
C1〜C6)−アルキルであり;
場合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C 4 )−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシか
らなる群より選択される1個以上の基により置換されるフェニルであり; R9は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6 )−アルキルカルボニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)
−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)
−アルキルスルホニルであるか、あるいはそれぞれ場合によりハロゲン、ニトロ
、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−
アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個
以上の基により置換されるベンゾイル、ベンゾイルメチル、フェノキシカルボニ
ルまたはフェニルスルホニルであり; R10は水素であるか、またはそれぞれヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、
アミノ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)
−アルキルチオ、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシイ
ミノ、(C1〜C4)−アルコキシチオカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニ
ル−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C4)−アルキルチオカルボニル、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノカルボニル、
(C1〜C4)−アルキルイミノオキシ、(C1〜C4)−アルコキシアミノ、(C1〜C 4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシ−(C2〜C6)−アルコキシカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル
オキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシお
よびヘテロアリールオキシからなる群より選択されるw基により置換される(C1 〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、(
C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、フェニルまたはフェニル−(
C1〜C6)−アルキルであり;
【0008】
R11は、水素、(C1〜C4)−アルキルまたはハロゲンであり;
R12は、それぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−アルキ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)
−アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオお
よびR13からなる群より選択されるw基により置換されるシクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、または酸素、窒素および硫黄からなる群より選択され
る1〜4個のヘテロ原子を含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールである
か、または式(Va)〜(Vt):
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)
−アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオお
よびR13からなる群より選択されるw基により置換されるシクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、または酸素、窒素および硫黄からなる群より選択され
る1〜4個のヘテロ原子を含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールである
か、または式(Va)〜(Vt):
【化9】
の基であり;
【0009】
R13は[(C1〜C4)−アルキレン−O−(C1〜C4)−アルキレン]O−O−(C1
〜C4)−アルキルであるか、あるいはそれぞれハロゲン原子wにより置換される
(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニルまたは(C2〜C4)−アルキニル
であり; R14は水素、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C2〜C4)−
アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、アリール
、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロ−
(C1〜C4)−アルキルであり; R15は水素、テトラヒドロフラン−2−イル、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜
C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、ア
リール、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、
ハロ−(C1〜C4)−アルキルであるか、またはR14およびR15は1個の原子また
は2個の直接隣接する原子に結合する場合には、それらと結合する原子と一緒に
なって、場合によりさらに酸素、窒素および硫黄からなる群より選択されるヘテ
ロ原子を含有する飽和の、または部分的または完全に不飽和の5〜6員環を形成
し;
(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニルまたは(C2〜C4)−アルキニル
であり; R14は水素、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C2〜C4)−
アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、アリール
、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロ−
(C1〜C4)−アルキルであり; R15は水素、テトラヒドロフラン−2−イル、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜
C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、ア
リール、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、
ハロ−(C1〜C4)−アルキルであるか、またはR14およびR15は1個の原子また
は2個の直接隣接する原子に結合する場合には、それらと結合する原子と一緒に
なって、場合によりさらに酸素、窒素および硫黄からなる群より選択されるヘテ
ロ原子を含有する飽和の、または部分的または完全に不飽和の5〜6員環を形成
し;
【0010】
R16は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C 6
)−アルコキシ(C1〜C6)−アルキル、ホルミル、(C1〜C6)−アルキルカルボ
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル誘導体およびそれらの農業的に有用な塩に関する。
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル誘導体およびそれらの農業的に有用な塩に関する。
【0011】
多数の本発明の式(I)の化合物は、溶媒およびpHのような外部条件に応じ
て種々の互変異性体で存在することができる。 QがQ1であり、R12がヒドロキシルである場合、幾つかの互変異性体が可能
である:
て種々の互変異性体で存在することができる。 QがQ1であり、R12がヒドロキシルである場合、幾つかの互変異性体が可能
である:
【化10】
置換基の性質に応じて、式(I)の化合物は、塩基との反応により除去するこ
とができる酸性プロトンを含有する。適当な塩基の例は、リチウム、ナトリウム
、カリウム、マグネシウムおよびカルシウムの水素化物、水酸化物および炭素塩
、またはアンモニアおよび有機アミン(例えばトリエチルアミンおよびピリジン
)である。このような塩もまた本発明の範囲内である。
とができる酸性プロトンを含有する。適当な塩基の例は、リチウム、ナトリウム
、カリウム、マグネシウムおよびカルシウムの水素化物、水酸化物および炭素塩
、またはアンモニアおよび有機アミン(例えばトリエチルアミンおよびピリジン
)である。このような塩もまた本発明の範囲内である。
【0012】
式(I)および連続するすべての式において、炭素鎖を含有する基、例えばア
ルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノおよびア
ルキルチオ、並びに炭素骨格構造の相当する不飽和および/または置換された基
、例えばアルケニルおよびアルキニルはそれぞれ直鎖状または分枝状である。特
に断りがなければ、これらの基において例えば1〜6個の炭素原子を有する、ま
たは不飽和基の場合は2〜6個の炭素原子を有する低級炭素骨格構造が好ましい
。特に好ましいのはそれぞれ4個以下の炭素原子を有する基である。アルコキシ
、ハロアルキルなどのような結合した意味においてもまた、アルキル基は例えば
メチル、エチル、n−またはi−プロピル、n−、i−、t−またはz−ブチル
、ペンチル、ヘキシル、例えばn−ヘキシル、i−ヘキシルおよび1,3−ジメ
チルブチル、ヘプチル、例えばn−ヘプチル、1−メチルヘキシルおよび1,4
−ジメチルペンチルであり;アルケニルおよびアルキニル基はアルキル基に相当
する可能な不飽和基の意味を有し;アルケニルは例えばアリル、1−メチルプロ
パ−2−エン−1−イル、2−メチルプロパ−2−エン−1−イル、ブタ−2−
エン−1−イル、ブタ−3−エン−1−イル、1−メチルブタ−3−エン−1−
イルおよび1−メチルブタ−2−エン−1−イルであり;アルキニルは例えばプ
ロパルギル、ブタ−2−イン−1−イル、ブタ−3−イン−1−イル、1−メチ
ルブタ−3−イン−1−イルである。多重結合は不飽和基の何れかの位置に存在
することができる。
ルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルアミノおよびア
ルキルチオ、並びに炭素骨格構造の相当する不飽和および/または置換された基
、例えばアルケニルおよびアルキニルはそれぞれ直鎖状または分枝状である。特
に断りがなければ、これらの基において例えば1〜6個の炭素原子を有する、ま
たは不飽和基の場合は2〜6個の炭素原子を有する低級炭素骨格構造が好ましい
。特に好ましいのはそれぞれ4個以下の炭素原子を有する基である。アルコキシ
、ハロアルキルなどのような結合した意味においてもまた、アルキル基は例えば
メチル、エチル、n−またはi−プロピル、n−、i−、t−またはz−ブチル
、ペンチル、ヘキシル、例えばn−ヘキシル、i−ヘキシルおよび1,3−ジメ
チルブチル、ヘプチル、例えばn−ヘプチル、1−メチルヘキシルおよび1,4
−ジメチルペンチルであり;アルケニルおよびアルキニル基はアルキル基に相当
する可能な不飽和基の意味を有し;アルケニルは例えばアリル、1−メチルプロ
パ−2−エン−1−イル、2−メチルプロパ−2−エン−1−イル、ブタ−2−
エン−1−イル、ブタ−3−エン−1−イル、1−メチルブタ−3−エン−1−
イルおよび1−メチルブタ−2−エン−1−イルであり;アルキニルは例えばプ
ロパルギル、ブタ−2−イン−1−イル、ブタ−3−イン−1−イル、1−メチ
ルブタ−3−イン−1−イルである。多重結合は不飽和基の何れかの位置に存在
することができる。
【0013】
環中で炭素原子の数の表示がないシクロアルキルは、炭素環式飽和環系、例え
ばシクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルである。同様に、シク
ロアルケニルは単環式アルケニル基、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル
、シクロペンテニルおよびシクロヘキセニルであり、ここでシクロアルケニルは
何れかの位置に存在する1個の二重結合を含有する。
ばシクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルである。同様に、シク
ロアルケニルは単環式アルケニル基、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル
、シクロペンテニルおよびシクロヘキセニルであり、ここでシクロアルケニルは
何れかの位置に存在する1個の二重結合を含有する。
【0014】
ジアルキルアミノのような二置換アミノ基の場合、これらの2個の置換基は同
一であるか、または異なる。 ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。ハロアルキル、ハロアル
ケニルおよびハロアルキニルはそれぞれ部分的または完全にハロゲン、好ましく
はフッ素または塩素および/または臭素、特にフッ素または塩素により置換され
たアルキル、アルケニルまたはアルキニル、例えばCF3、CHF2、CH2F、
CF3CF2、CH2FCHCl、CCl3、CHCl2、CH2CH2Clであり;
ハロアルコキシは例えばOCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OC
H2CF3およびOCH2CH2Clであり;このことはハロアルケニルおよびハロ
ゲンにより置換された他の基にもあてはまる。
一であるか、または異なる。 ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。ハロアルキル、ハロアル
ケニルおよびハロアルキニルはそれぞれ部分的または完全にハロゲン、好ましく
はフッ素または塩素および/または臭素、特にフッ素または塩素により置換され
たアルキル、アルケニルまたはアルキニル、例えばCF3、CHF2、CH2F、
CF3CF2、CH2FCHCl、CCl3、CHCl2、CH2CH2Clであり;
ハロアルコキシは例えばOCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OC
H2CF3およびOCH2CH2Clであり;このことはハロアルケニルおよびハロ
ゲンにより置換された他の基にもあてはまる。
【0015】
「ヘテロシクリル」なる用語は環構成員として炭素の他に窒素、酸素および硫
黄からなる群より選択される1〜4個の同一または異なるヘテロ原子を含有する
3〜10員の飽和、部分的または完全に不飽和の単環式または二環式複素環基を
意味する。化学的に可能ならば、結合は複素環の何れかの位置で起こる。ヘテロ
シクリルは好ましくはアジリジニル、テトラヒドロキノリニル、ピロリジニル、
ピロリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニ
ル、オキサゾリジニル、オキサゾリニル、イソキサゾリジニル、イソキサゾリニ
ル、チアゾリニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニル、モルホリニル、ピペリジ
ニル、ピペラジニル、アゼパニル、5,6,7,8−テトラヒドロベンゾキノリニ
ル、2−オキサ−3−アザピシクロ〔3.3.0〕−3−オクテニル、6−オキサ
−7−アザビシクロ〔4.3.0〕−7−ノネニルであり、ヘテロシクリルが少な
くとも1個の窒素原子を含まないならば、テトラヒドロフラニルである。
黄からなる群より選択される1〜4個の同一または異なるヘテロ原子を含有する
3〜10員の飽和、部分的または完全に不飽和の単環式または二環式複素環基を
意味する。化学的に可能ならば、結合は複素環の何れかの位置で起こる。ヘテロ
シクリルは好ましくはアジリジニル、テトラヒドロキノリニル、ピロリジニル、
ピロリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニ
ル、オキサゾリジニル、オキサゾリニル、イソキサゾリジニル、イソキサゾリニ
ル、チアゾリニル、チアゾリジニル、ピラゾリジニル、モルホリニル、ピペリジ
ニル、ピペラジニル、アゼパニル、5,6,7,8−テトラヒドロベンゾキノリニ
ル、2−オキサ−3−アザピシクロ〔3.3.0〕−3−オクテニル、6−オキサ
−7−アザビシクロ〔4.3.0〕−7−ノネニルであり、ヘテロシクリルが少な
くとも1個の窒素原子を含まないならば、テトラヒドロフラニルである。
【0016】
ヘテロアリールは、環構成員として炭素の他に窒素、酸素および硫黄からなる
群より選択される1〜4個の同一または異なるヘテロ原子を含有する3〜10員
の単環式または二環式ヘテロ芳香環基を意味する。化学的に可能ならば、結合は
ヘテロ芳香環の何れかの位置で起こる。ヘテロアリールは好ましくはピロリル、
ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、イソ
チアゾリル、1,2,3−トリアゾリル、ピリダジニル、1,2,4−トリアゾリル
、1,2,3−オキサジアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキ
サジアゾリル、テトラゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−チアジ
アゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリル、1,3,4−
チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、インドリル、ピラジニル、1,2,4
−トリアジニル、1,3,5−トリアジニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ベンゾキサ
ゾリル、ベンゾチアゾリル、イソインドリル、イソキノリニル、キノリニル、キ
ナゾリニル、5,6,7,8−テトラヒドロベンゾキノリニル、キノキサリニル、
ベンゾピラゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリルであり、ヘテロア
リールが少なくとも1個の窒素原子を含まないならばフラニルおよびチエニルで
ある。 アリールは単環式または多環式芳香族炭化水素基、例えばフェニル、ナフチル
、ビフェニルおよびフェナントリルである。
群より選択される1〜4個の同一または異なるヘテロ原子を含有する3〜10員
の単環式または二環式ヘテロ芳香環基を意味する。化学的に可能ならば、結合は
ヘテロ芳香環の何れかの位置で起こる。ヘテロアリールは好ましくはピロリル、
ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、イソキサゾリル、イソ
チアゾリル、1,2,3−トリアゾリル、ピリダジニル、1,2,4−トリアゾリル
、1,2,3−オキサジアゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,2,5−オキ
サジアゾリル、テトラゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−チアジ
アゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,2,5−チアジアゾリル、1,3,4−
チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、インドリル、ピラジニル、1,2,4
−トリアジニル、1,3,5−トリアジニル、ベンゾキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ベンゾキサ
ゾリル、ベンゾチアゾリル、イソインドリル、イソキノリニル、キノリニル、キ
ナゾリニル、5,6,7,8−テトラヒドロベンゾキノリニル、キノキサリニル、
ベンゾピラゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾトリアゾリルであり、ヘテロア
リールが少なくとも1個の窒素原子を含まないならばフラニルおよびチエニルで
ある。 アリールは単環式または多環式芳香族炭化水素基、例えばフェニル、ナフチル
、ビフェニルおよびフェナントリルである。
【0017】
「部分的または完全にハロゲン化された」という表現はこのように特徴づけら
れた基において幾つかまたはすべての水素原子が上記のような同一または異なる
ハロゲン原子により置換されることを意味する。 あるグループまたは基が多置換される場合、これは種々の置換基を組み合わせ
る時に化学化合物の構造の一般原理を考慮しなければならない、すなわち化学的
に不安定または不可能であると当業者に知られている化合物の生成を回避するこ
とを意味する。このことは個々の基の組み合わせについてもあてはまる。 あるグループまたは基が他の基により多置換される場合、これらの他の基は同
一であるか、または異なる。
れた基において幾つかまたはすべての水素原子が上記のような同一または異なる
ハロゲン原子により置換されることを意味する。 あるグループまたは基が多置換される場合、これは種々の置換基を組み合わせ
る時に化学化合物の構造の一般原理を考慮しなければならない、すなわち化学的
に不安定または不可能であると当業者に知られている化合物の生成を回避するこ
とを意味する。このことは個々の基の組み合わせについてもあてはまる。 あるグループまたは基が他の基により多置換される場合、これらの他の基は同
一であるか、または異なる。
【0018】
置換基のタイプおよび結合に応じて、式(I)の化合物は立体異性体として存
在することができる。例えば1個以上のアルケニル基が存在する場合、ジアステ
レオマーが生じる。例えば1個以上の不斉炭素原子が存在する場合、エナンチオ
マーおよびジアステレオマーが生じる。立体異性体は製造中に生成した混合物か
ら慣用の分離法、例えばクロマトグラフィーによる分離技術によって得ることが
できる。また、立体異性体は光学的に活性な出発物質および/または補助物質を
使用する立体選択的反応により選択的に製造することができる。本発明はまた、
式Iに含まれるが特に定義されないすべての立体異性体およびそれらの混合物に
関する。 “Y”および“Z”の意味の選択において、“Y”および“Z”は同時にヘテ
ロ原子の2価の基ではない。
在することができる。例えば1個以上のアルケニル基が存在する場合、ジアステ
レオマーが生じる。例えば1個以上の不斉炭素原子が存在する場合、エナンチオ
マーおよびジアステレオマーが生じる。立体異性体は製造中に生成した混合物か
ら慣用の分離法、例えばクロマトグラフィーによる分離技術によって得ることが
できる。また、立体異性体は光学的に活性な出発物質および/または補助物質を
使用する立体選択的反応により選択的に製造することができる。本発明はまた、
式Iに含まれるが特に定義されないすべての立体異性体およびそれらの混合物に
関する。 “Y”および“Z”の意味の選択において、“Y”および“Z”は同時にヘテ
ロ原子の2価の基ではない。
【0019】
より重要なのは式(I)
(式中、R1はニトロ、ハロゲン、シアノ、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1
〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、OR10 またはS(O)nR10であり; R2は水素、ニトロ、ハロゲン、シアノ、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1
〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、OR10 またはS(O)nR10であり、そして R12は(C3〜C6)−シクロアルキル、置換された(C3〜C6)−シクロアルケニ
ル、フェニル、あるいはそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜
C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ
−(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオおよびR13からなる群より選択されるw基により置換され、酸素、窒
素および硫黄からなる群より選択される1〜4個のヘテロ原子を含有する5〜6
員のヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり、あるいは式(Va)〜(Vh
)の基である) のベンゾイル化合物である。
〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、OR10 またはS(O)nR10であり; R2は水素、ニトロ、ハロゲン、シアノ、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1
〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、OR10 またはS(O)nR10であり、そして R12は(C3〜C6)−シクロアルキル、置換された(C3〜C6)−シクロアルケニ
ル、フェニル、あるいはそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜
C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ
−(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオおよびR13からなる群より選択されるw基により置換され、酸素、窒
素および硫黄からなる群より選択される1〜4個のヘテロ原子を含有する5〜6
員のヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり、あるいは式(Va)〜(Vh
)の基である) のベンゾイル化合物である。
【0020】
特に重要なのは式(I)
(式中、Xは酸素原子により中断される、または炭素鎖の末端の1つに結合する
酸素原子を有する(C1〜C3)−アルキレン、(C2〜C4)−アルケニレンまたは(
C2〜C4)−アルキニレン鎖であり、そしてR1はベンゾイル環の2−位にあり、
R2は4−位にある) のベンゾイル化合物である。
酸素原子を有する(C1〜C3)−アルキレン、(C2〜C4)−アルケニレンまたは(
C2〜C4)−アルキニレン鎖であり、そしてR1はベンゾイル環の2−位にあり、
R2は4−位にある) のベンゾイル化合物である。
【0021】
とりわけ重要なのは式(I)
(式中、R1は塩素、臭素、ヨウ素、ニトロまたはメチルであり;
R2は塩素、臭素、トリフルオロメチルまたは(C1〜C4)−アルキルスルホニ
ルであり; R3は水素であり、そして XはOCH2、CH2O、OCH2CH2、CH2OCH2、CH2OCH2CH=C
H、CH=CHCH2OおよびC≡C−CH2Oからなる群より選択される炭素鎖
である) のベンゾイル化合物である。
ルであり; R3は水素であり、そして XはOCH2、CH2O、OCH2CH2、CH2OCH2、CH2OCH2CH=C
H、CH=CHCH2OおよびC≡C−CH2Oからなる群より選択される炭素鎖
である) のベンゾイル化合物である。
【0022】
好ましいのは式(I)
(式中、kは1であり;
Hetはイソキサゾリジニル、イソキサゾリニルおよびイソキサゾリルからな
る群より選択される基であり、そして Aは酸素である) のベンゾイル化合物である。
る群より選択される基であり、そして Aは酸素である) のベンゾイル化合物である。
【0023】
また、好ましいのは式(I)
(式中、Hetは1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、
オキサゾリルおよびチアゾリルからなる群より選択される基であり、そしてkは
1である) のベンゾイル化合物である。
オキサゾリルおよびチアゾリルからなる群より選択される基であり、そしてkは
1である) のベンゾイル化合物である。
【0024】
さらに、好ましいのは式(I)
(式中、Hetはキノリニル、5,6,7,8−テトラヒドロキノリニル、ベンゾ
キサゾリルおよびベンゾチアゾリルからなる群より選択される基であり、そして
kは0である) のベンゾイル化合物である。
キサゾリルおよびベンゾチアゾリルからなる群より選択される基であり、そして
kは0である) のベンゾイル化合物である。
【0025】
特に好ましいのは式(I)
(式中、Qは式(Q1)の基である)
のベンゾイル化合物である。
【0026】
とりわけ好ましいのは式(I)
(式中、Q1は2−位で結合する式(Q1a)
【化11】
のシクロヘキサン−1,3−ジオン環であり;
R17、R18、R20およびR22は互いに独立して水素または(C1〜C4)−アル
キルであり; R19は水素、テトラヒドロピラン−2−イル、テトラヒドロピラン−3−イル
、テトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、テトラ
ヒドロチオピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イルであり、ある
いはそれぞれ場合により1〜3個の(C1〜C4)−アルキル基により置換される1
,3−ジオキソラン−2−イル、1,3−ジオキサン−2−イル、1,3−オキサ
チオラン−2−イル、1,3−オキサチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2
−イルまたは1,3−ジチアン−2−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(
C1〜C4)−アルキルチオおよび(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択さ
れるw基により置換される(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C3)−シクロアル
キルであり; R21は水素、(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C6)−アルコキシカルボニル
であり、あるいは R19およびR22は結合または3〜6員環を形成し、あるいは R19およびR20はそれらと結合する炭素原子と一緒になってカルボニル基を形
成する) のベンゾイル化合物である。
キルであり; R19は水素、テトラヒドロピラン−2−イル、テトラヒドロピラン−3−イル
、テトラヒドロピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、テトラ
ヒドロチオピラン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イルであり、ある
いはそれぞれ場合により1〜3個の(C1〜C4)−アルキル基により置換される1
,3−ジオキソラン−2−イル、1,3−ジオキサン−2−イル、1,3−オキサ
チオラン−2−イル、1,3−オキサチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2
−イルまたは1,3−ジチアン−2−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(
C1〜C4)−アルキルチオおよび(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択さ
れるw基により置換される(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C3)−シクロアル
キルであり; R21は水素、(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C6)−アルコキシカルボニル
であり、あるいは R19およびR22は結合または3〜6員環を形成し、あるいは R19およびR20はそれらと結合する炭素原子と一緒になってカルボニル基を形
成する) のベンゾイル化合物である。
【0027】
下記のすべての式において、特に断りがなければ、置換基および記号は式(I
)で記載したものと同じ意味を有する。 置換基の意味に応じて、本発明の化合物は例えば下記のスキームで示した1種
以上の方法により製造することができる。
)で記載したものと同じ意味を有する。 置換基の意味に応じて、本発明の化合物は例えば下記のスキームで示した1種
以上の方法により製造することができる。
【0028】
本発明の式(I)(式中、QはQ1であり、R5はヒドロキシルである)の化
合物は、例えばスキーム1に従って製造することができる。このために、式(Q
1b)のシクロヘキサンジオンを(Rがヒドロキシルである場合)ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのような脱水剤の存在下でまたは塩基触媒と共に、また(R
が臭素または塩素である場合)シアン化物源の存在下でまたは塩基触媒と共に直
接式(IVa)(式中、Rは求核的に置換可能な脱離基、アルコキシ基またはヒド
ロキシルである)の安息香酸誘導体と反応させる。これらの方法は例えばEP−
A 0 369 803、EP−B 0 283 261およびWO 99/1032
7に記載されている。
合物は、例えばスキーム1に従って製造することができる。このために、式(Q
1b)のシクロヘキサンジオンを(Rがヒドロキシルである場合)ジシクロヘキ
シルカルボジイミドのような脱水剤の存在下でまたは塩基触媒と共に、また(R
が臭素または塩素である場合)シアン化物源の存在下でまたは塩基触媒と共に直
接式(IVa)(式中、Rは求核的に置換可能な脱離基、アルコキシ基またはヒド
ロキシルである)の安息香酸誘導体と反応させる。これらの方法は例えばEP−
A 0 369 803、EP−B 0 283 261およびWO 99/1032
7に記載されている。
【0029】
スキーム1:
【化12】
【0030】
本発明の式(I)(式中、QはQ2である)の化合物は、例えばスキーム2に
従って式(Q2a)のピラゾールを式(IVb)の安息香酸と反応させることによ
り製造することができ、その反応はWO 99/10328から知られている。
従って式(Q2a)のピラゾールを式(IVb)の安息香酸と反応させることによ
り製造することができ、その反応はWO 99/10328から知られている。
【0031】
スキーム2:
【化13】
【0032】
本発明の式(I)(式中、QはQ1であり、R5はOR16である)の化合物は
、例えばスキーム3に従って求電子置換反応により、すなわちスキーム1に従っ
て製造した化合物を式L1−R16(式中、L1は求核的に置換可能な脱離基、例え
ばハロゲン、イミダゾリル、ピリジル、アセテート、トリフルオロアセテート、
メシレート、トリフレートである)の化合物と反応させることにより得られる。
このような反応は例えばWO 99/10328から知られている。
、例えばスキーム3に従って求電子置換反応により、すなわちスキーム1に従っ
て製造した化合物を式L1−R16(式中、L1は求核的に置換可能な脱離基、例え
ばハロゲン、イミダゾリル、ピリジル、アセテート、トリフルオロアセテート、
メシレート、トリフレートである)の化合物と反応させることにより得られる。
このような反応は例えばWO 99/10328から知られている。
【0033】
スキーム3:
【化14】
【0034】
スキーム4で示した本発明の式(Ia)(式中、QはQ1であり、R5はヒド
ロキシルである)の化合物とハロゲン化試薬、例えば塩化オキサリルまたは臭化
オキサリルとの反応は本発明の式(Ib)の化合物を与え、それを適当ならば塩
基触媒と共に求核性物質、例えばアルカリ金属シアン化物、アルカリ金属シアネ
ート、アルカリ金属チオシアネート、アルキルチオアルコールおよびチオフェノ
ールと反応させて、さらに本発明の式(Ic)(式中、R5はアルキルチオ、ハ
ロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロアルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロ
アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、シアノ、シアナトまたはチオシアナト
である)の化合物を得ることができる。このような反応は例えば Synthesis 12,
1287 (1992年) に記載されている。さらに、R5が硫黄を含有する基である化合
物Icをペルオキシ酢酸、過酸化水素、m−クロロペルオキシ安息香酸およびペ
ルオキシモノ硫酸カリウムのような酸化剤と反応させるとR5がアルキルスルフ
ィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ハロアルケニル
スルフィニル、アルキニルスルフィニル、ハロアルキニルスルフィニル、アルキ
ルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、ハロアルケニ
ルスルホニル、アルキニルスルホニル、場合により置換されるフェニルチオまた
はハロアルキニルスルホニルである本発明の式(Ic)の化合物が得られる。こ
のような反応は例えばJ. Org. Chem. 53, 532 (1988年), Tetrahedron Lett. 21
, 1287 (1981年) に記載されている。
ロキシルである)の化合物とハロゲン化試薬、例えば塩化オキサリルまたは臭化
オキサリルとの反応は本発明の式(Ib)の化合物を与え、それを適当ならば塩
基触媒と共に求核性物質、例えばアルカリ金属シアン化物、アルカリ金属シアネ
ート、アルカリ金属チオシアネート、アルキルチオアルコールおよびチオフェノ
ールと反応させて、さらに本発明の式(Ic)(式中、R5はアルキルチオ、ハ
ロアルキルチオ、アルケニルチオ、ハロアルケニルチオ、アルキニルチオ、ハロ
アルキニルチオ、アルキルスルフィニル、シアノ、シアナトまたはチオシアナト
である)の化合物を得ることができる。このような反応は例えば Synthesis 12,
1287 (1992年) に記載されている。さらに、R5が硫黄を含有する基である化合
物Icをペルオキシ酢酸、過酸化水素、m−クロロペルオキシ安息香酸およびペ
ルオキシモノ硫酸カリウムのような酸化剤と反応させるとR5がアルキルスルフ
ィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、ハロアルケニル
スルフィニル、アルキニルスルフィニル、ハロアルキニルスルフィニル、アルキ
ルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、ハロアルケニ
ルスルホニル、アルキニルスルホニル、場合により置換されるフェニルチオまた
はハロアルキニルスルホニルである本発明の式(Ic)の化合物が得られる。こ
のような反応は例えばJ. Org. Chem. 53, 532 (1988年), Tetrahedron Lett. 21
, 1287 (1981年) に記載されている。
【0035】
スキーム4:
【化15】
【0036】
本発明の式(I)(式中、QはR9基が水素ではないQ2である)の化合物は
例えばスキーム5に従って求電子置換反応により、すなわちスキーム2に従って
製造した化合物を式L2−R9(式中、L2求核的に置換可能な脱離基である)の
化合物と反応させることにより得られる。このような反応は例えばWO 99/
10328から知られている。
例えばスキーム5に従って求電子置換反応により、すなわちスキーム2に従って
製造した化合物を式L2−R9(式中、L2求核的に置換可能な脱離基である)の
化合物と反応させることにより得られる。このような反応は例えばWO 99/
10328から知られている。
【0037】
スキーム5:
【化16】
【0038】
スキーム1および2で使用される式(IVa)および(IVb)の安息香酸誘導体
は当業者に知られている反応により製造することができる。例えば、Rがアルコ
キシである式(IVa)の安息香酸誘導体は、スキーム6aに従って式(IVc)の
安息香酸エステルを式(VIa)の複素環またはヘテロ芳香環と反応させることに
より製造することができる。ここで、X1およびX2はそれぞれXの一部である。
このような反応は例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」、E8a巻,45〜176頁
(1993年)およびE8c巻,397〜630頁(1994年), Georg Thieme Verlag から知
られている。
は当業者に知られている反応により製造することができる。例えば、Rがアルコ
キシである式(IVa)の安息香酸誘導体は、スキーム6aに従って式(IVc)の
安息香酸エステルを式(VIa)の複素環またはヘテロ芳香環と反応させることに
より製造することができる。ここで、X1およびX2はそれぞれXの一部である。
このような反応は例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」、E8a巻,45〜176頁
(1993年)およびE8c巻,397〜630頁(1994年), Georg Thieme Verlag から知
られている。
【0039】
スキーム6a:
【化17】
【0040】
Rがアルコキシである式(IVa)の安息香酸誘導体はまた、スキーム6bに従
って式(IVd)の安息香酸エステルを式(VIb)の複素環またはヘテロ芳香環と
反応させることにより製造することができる。スキーム6aおよび6cに示した
反応は、例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」,VI/3巻,第4版,493頁以
降参照,Georg Thieme Verlag (1965年) から知られている。
って式(IVd)の安息香酸エステルを式(VIb)の複素環またはヘテロ芳香環と
反応させることにより製造することができる。スキーム6aおよび6cに示した
反応は、例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」,VI/3巻,第4版,493頁以
降参照,Georg Thieme Verlag (1965年) から知られている。
【0041】
スキーム6b:
【化18】
【0042】
Rがアルコキシである式(IVa)の安息香酸誘導体はまた、スキーム6cに従
って式(IVf)の安息香酸エステルおよび式(VIIb)の1,3−双極性化合物を
いわゆる1,3−双極性付加環化反応に付すことにより製造することができる。
ここで、X3は適当ならば酸素または硫黄原子に結合した、アルケニレンまたは
アルキニレン基である。A−B−Cは化合物(VIIa)の1,3−双極性基である
。その例はアジド、ニトリルオキシドおよびジアゾ化合物である。
って式(IVf)の安息香酸エステルおよび式(VIIb)の1,3−双極性化合物を
いわゆる1,3−双極性付加環化反応に付すことにより製造することができる。
ここで、X3は適当ならば酸素または硫黄原子に結合した、アルケニレンまたは
アルキニレン基である。A−B−Cは化合物(VIIa)の1,3−双極性基である
。その例はアジド、ニトリルオキシドおよびジアゾ化合物である。
【0043】
スキーム6c:
【化19】
【0044】
同様に、1,3−双極性付加環化反応を使用してスキーム6dに従って式(IV
f)の化合物および式(VIIIa)の化合物から式(IVa)の安息香酸誘導体を製
造することができる。ここで、X4は場合により酸素または硫黄原子に結合した
アルケニレンまたはアルキニレン基である。上記の1,3−双極性付加環化反応
および1,3−双極性化合物の製造は、例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」
、10/4巻,55〜91頁 (1968年); E5巻、1591〜1592頁 および 1607頁 (1985
年); E4b巻, 968〜1051頁 (1990年); 並びに8b巻, 499〜506頁 (1994年), Ge
org Thieme Verlag から知られている。
f)の化合物および式(VIIIa)の化合物から式(IVa)の安息香酸誘導体を製
造することができる。ここで、X4は場合により酸素または硫黄原子に結合した
アルケニレンまたはアルキニレン基である。上記の1,3−双極性付加環化反応
および1,3−双極性化合物の製造は、例えばHouben-Weylの「有機化学の方法」
、10/4巻,55〜91頁 (1968年); E5巻、1591〜1592頁 および 1607頁 (1985
年); E4b巻, 968〜1051頁 (1990年); 並びに8b巻, 499〜506頁 (1994年), Ge
org Thieme Verlag から知られている。
【0045】
スキーム6d:
【化20】
式(IVa)の安息香酸は、新規化合物であり、本発明の主題である。
【0046】
本発明の式(I)の化合物は、広範囲の経済的に重要な単子葉および双子葉の
有害植物に対して優れた除草活性を有する。活性物質はまた、根茎、地下茎また
は他の宿根器官からシュートが出て、防除しにくい多年生の雑草において効果的
に作用する。これに関して、物質が種をまく前、発芽前または発芽後に施用され
るかどうかは一般に重要ではない。特に、本発明の化合物により防除することが
できる単子葉および双子葉の雑草植物群の幾つかの代表例を特定の種に限定する
ことなく挙げることができる。すなわち、例示しているだけであって限定してい
るわけではない。単子葉の雑草種の中で活性物質が効果的に作用するものは例え
ば一年生植物群のアベナ(Avena)、ロリウム(Lolium)、アロペキュラス(Alo
pecurus)、ファラリス(Phalaris)、エチノクロア(Echinochloa)、ジギタリ
ア(Digitaria)、セタリア(Setaria)およびシペルス(Cyperus)種であり、
また多年生植物種の中ではアグロピロン(Agropyron)、シノドン(Cynodon)、
インペラタ(Imperata)およびモロコシ(Sorghum)、さらに多年生のシペルス
(Cyperus)種である。双子葉の雑草種の場合、作用スペクトルは、例えば1年
生植物のガリウム(Galium)、ビオラ(Viola)、ベロニカ(Veronica)、ラミ
ウム(Lamium)、ステラリア(Stellaria)、アマランタス(Amaranthus)、シ
ナピス(Sinapis)、イポメア(Ipomoea)、シダ(Sida)、マトリカリア(Matr
icaria)およびアブチロン(Abutilon)、さらに多年生雑草の場合はヒルガオ(
Convolvulus)、シルシウム(Cirsium)、ルメックス(Rumex)およびヨモギ(A
rtemisia)まで及ぶ。イネの特定の栽培条件下で発生する雑草、例えばエチノク
ロア(Echinochloa)、サギタリア(Sagittaria)、アリスマ(Alisma)、エレ
オキャリス(Eleocharis)、シルプス(Scirpus)およびシペルス(Cyperus)も
また、本発明の活性物質により著しく良好に防除される。本発明の化合物が発芽
前に土壌面に施用される場合、雑草の発芽は完全に防止され、または雑草は子葉
段階まで生長するが3〜4週間経つと生長が止まり、最終的に完全に枯れる。活
性物質が発芽後に植物の葉っぱ部分に施用される場合、処理してから非常に短い
時間で一様に生長が徹底的に止まり、弱い植物は施用時の生長段階のままであり
、またはそれらはある時間が経過すると完全に枯れ、その結果このようにして作
物にとって有害な雑草による競争は非常に早い段階で、また持続した方法で除去
される。
有害植物に対して優れた除草活性を有する。活性物質はまた、根茎、地下茎また
は他の宿根器官からシュートが出て、防除しにくい多年生の雑草において効果的
に作用する。これに関して、物質が種をまく前、発芽前または発芽後に施用され
るかどうかは一般に重要ではない。特に、本発明の化合物により防除することが
できる単子葉および双子葉の雑草植物群の幾つかの代表例を特定の種に限定する
ことなく挙げることができる。すなわち、例示しているだけであって限定してい
るわけではない。単子葉の雑草種の中で活性物質が効果的に作用するものは例え
ば一年生植物群のアベナ(Avena)、ロリウム(Lolium)、アロペキュラス(Alo
pecurus)、ファラリス(Phalaris)、エチノクロア(Echinochloa)、ジギタリ
ア(Digitaria)、セタリア(Setaria)およびシペルス(Cyperus)種であり、
また多年生植物種の中ではアグロピロン(Agropyron)、シノドン(Cynodon)、
インペラタ(Imperata)およびモロコシ(Sorghum)、さらに多年生のシペルス
(Cyperus)種である。双子葉の雑草種の場合、作用スペクトルは、例えば1年
生植物のガリウム(Galium)、ビオラ(Viola)、ベロニカ(Veronica)、ラミ
ウム(Lamium)、ステラリア(Stellaria)、アマランタス(Amaranthus)、シ
ナピス(Sinapis)、イポメア(Ipomoea)、シダ(Sida)、マトリカリア(Matr
icaria)およびアブチロン(Abutilon)、さらに多年生雑草の場合はヒルガオ(
Convolvulus)、シルシウム(Cirsium)、ルメックス(Rumex)およびヨモギ(A
rtemisia)まで及ぶ。イネの特定の栽培条件下で発生する雑草、例えばエチノク
ロア(Echinochloa)、サギタリア(Sagittaria)、アリスマ(Alisma)、エレ
オキャリス(Eleocharis)、シルプス(Scirpus)およびシペルス(Cyperus)も
また、本発明の活性物質により著しく良好に防除される。本発明の化合物が発芽
前に土壌面に施用される場合、雑草の発芽は完全に防止され、または雑草は子葉
段階まで生長するが3〜4週間経つと生長が止まり、最終的に完全に枯れる。活
性物質が発芽後に植物の葉っぱ部分に施用される場合、処理してから非常に短い
時間で一様に生長が徹底的に止まり、弱い植物は施用時の生長段階のままであり
、またはそれらはある時間が経過すると完全に枯れ、その結果このようにして作
物にとって有害な雑草による競争は非常に早い段階で、また持続した方法で除去
される。
【0047】
本発明の化合物は、単子葉および双子葉の雑草に対して優れた除草活性を有す
るが、例えばコムギ、オオムギ、ライムギ、イネ、トウモロコシ、サトウダイコ
ン、ワタおよびダイズのような経済的に重要な作物である植物の被害は全くない
か、ごく僅かにすぎない。これらの理由から、本発明の化合物は、農業的に有用
な植物または観賞植物の栽培において望ましくない植物の生長を選択的に抑制す
るのに極めて適している。
るが、例えばコムギ、オオムギ、ライムギ、イネ、トウモロコシ、サトウダイコ
ン、ワタおよびダイズのような経済的に重要な作物である植物の被害は全くない
か、ごく僅かにすぎない。これらの理由から、本発明の化合物は、農業的に有用
な植物または観賞植物の栽培において望ましくない植物の生長を選択的に抑制す
るのに極めて適している。
【0048】
それらの除草活性および植物の生長を調節する性質のため、活性物質はまた、
知られている遺伝的に変更した植物またはまだ発達していない遺伝的に変更した
植物の作物において有害植物を防除するために使用することができる。一般に、
トランスジェニック植物は特に有利な性質、例えば特定の農薬、とりわけ特定の
除草剤に対する耐性、植物の病気または植物の病気の病原体、例えば特定の害虫
、あるいは真菌、細菌またはウイルスのような微生物に対する耐性を特徴とする
。他の特定の特性は、例えば収穫物の量、品質、貯蔵性、組成および特殊な構成
成分に関する。すなわち、澱粉の含有量が増大した、または澱粉の質が変化した
トランスジェニック植物、あるいは収穫物の脂肪酸組成が異なるものが知られて
いる。
知られている遺伝的に変更した植物またはまだ発達していない遺伝的に変更した
植物の作物において有害植物を防除するために使用することができる。一般に、
トランスジェニック植物は特に有利な性質、例えば特定の農薬、とりわけ特定の
除草剤に対する耐性、植物の病気または植物の病気の病原体、例えば特定の害虫
、あるいは真菌、細菌またはウイルスのような微生物に対する耐性を特徴とする
。他の特定の特性は、例えば収穫物の量、品質、貯蔵性、組成および特殊な構成
成分に関する。すなわち、澱粉の含有量が増大した、または澱粉の質が変化した
トランスジェニック植物、あるいは収穫物の脂肪酸組成が異なるものが知られて
いる。
【0049】
本発明の式(I)の化合物またはそれらの塩は好ましくは経済的に重要なトラ
ンスジェニック作物の有用な植物および鑑賞植物、例えばコムギ、オオムギ、ラ
イムギ、オートムギ、モロコシ、キビ、イネ、キャッサバおよびトウモロコシの
ような穀物、または他の作物のサトウダイコン、ワタ、ダイズ、セイヨアブラナ
の脂肪種子、ジャガイモ、トマト、エンドウおよび他の野菜において使用される
。式(I)の化合物は、好ましくは除草剤の植物に有害な作用に対して耐性のあ
る、または組み換え法により耐性にした有用な植物の栽培において除草剤として
使用することができる。
ンスジェニック作物の有用な植物および鑑賞植物、例えばコムギ、オオムギ、ラ
イムギ、オートムギ、モロコシ、キビ、イネ、キャッサバおよびトウモロコシの
ような穀物、または他の作物のサトウダイコン、ワタ、ダイズ、セイヨアブラナ
の脂肪種子、ジャガイモ、トマト、エンドウおよび他の野菜において使用される
。式(I)の化合物は、好ましくは除草剤の植物に有害な作用に対して耐性のあ
る、または組み換え法により耐性にした有用な植物の栽培において除草剤として
使用することができる。
【0050】
現存する植物と比較して改良した特性を有する新規な植物を発生させる伝統的
な方法は、例えば伝統的な品種改良法および変異株の発生である。しかしながら
改良した特性を有する新規な植物は組み換え法を使用しても発生させることがで
きる(例えばEP−A−0221044、EP−A−0131624を参照)。
例えば、幾つかの事例が開示されている: - 植物中で合成される澱粉を改良するための作物の組み換え改良法(例えばWO
92/11376、WO 92/14827、WO 91/19806)、 - グルホシネート型(例えばEP−A−0242236、EP−A−24224
6を参照)、またはグリホセート型(WO 92/00377)、またはスルホ
ニル尿素型(EP−A−0257993、US−A−5013659)の特定の
除草剤に対して耐性があるトランスジェニック作物、 - 植物を特定の害虫に対して耐性があるようにするバシラススリンギエンシス(
Bacillus thuringiensis)毒素(Bt毒素)を生成することができるトランスジ
ェニック作物、例えばワタ(EP−A−0142924、EP−A−01932
59)、 - 改良した脂肪酸組成を有するトランスジェニック作物(WO 91/1397
2)。
な方法は、例えば伝統的な品種改良法および変異株の発生である。しかしながら
改良した特性を有する新規な植物は組み換え法を使用しても発生させることがで
きる(例えばEP−A−0221044、EP−A−0131624を参照)。
例えば、幾つかの事例が開示されている: - 植物中で合成される澱粉を改良するための作物の組み換え改良法(例えばWO
92/11376、WO 92/14827、WO 91/19806)、 - グルホシネート型(例えばEP−A−0242236、EP−A−24224
6を参照)、またはグリホセート型(WO 92/00377)、またはスルホ
ニル尿素型(EP−A−0257993、US−A−5013659)の特定の
除草剤に対して耐性があるトランスジェニック作物、 - 植物を特定の害虫に対して耐性があるようにするバシラススリンギエンシス(
Bacillus thuringiensis)毒素(Bt毒素)を生成することができるトランスジ
ェニック作物、例えばワタ(EP−A−0142924、EP−A−01932
59)、 - 改良した脂肪酸組成を有するトランスジェニック作物(WO 91/1397
2)。
【0051】
改良された特性を有する新しいトランスジェニック植物を作ることができる多
数の分子生物学技術が一般に知られている;例えばSambrookらの「分子クローニ
ング、実験手引」,第2版,Cold Spring Harbor Laboratory Press, Cold Spri
ng Harbor, NY; またはWinnackerの「遺伝子およびクローン」,VCH Weinheim,
第2版,(1996年);またはChristouの「植物科学の傾向」,1, 423〜431 (1996
年)を参照。
数の分子生物学技術が一般に知られている;例えばSambrookらの「分子クローニ
ング、実験手引」,第2版,Cold Spring Harbor Laboratory Press, Cold Spri
ng Harbor, NY; またはWinnackerの「遺伝子およびクローン」,VCH Weinheim,
第2版,(1996年);またはChristouの「植物科学の傾向」,1, 423〜431 (1996
年)を参照。
【0052】
このような組み換え操作を行なうために、核酸分子をプラスミドに導入して突
然変異誘発またはDNA配列の組み換えによる配列順序の変更を可能にすること
ができる。上記の標準法により、例えば塩基交換を行なったり、配列を除去した
り、天然または合成配列を加えたりすることができる。DNAフラグメントを互
いに結合させるために、アダプターまたはリンカーをフラグメントに結合させる
ことができる。
然変異誘発またはDNA配列の組み換えによる配列順序の変更を可能にすること
ができる。上記の標準法により、例えば塩基交換を行なったり、配列を除去した
り、天然または合成配列を加えたりすることができる。DNAフラグメントを互
いに結合させるために、アダプターまたはリンカーをフラグメントに結合させる
ことができる。
【0053】
例えば、減少した活性の遺伝子産物を有する植物細胞は、少なくとも1種の相
当するアンチセンスRNA、共同抑制効果を達成するセンスRNAの発現、また
は特に上記の遺伝子産物の転写物を分解する少なくとも1種の適当に構成された
リポザイムの発現により産生することができる。
当するアンチセンスRNA、共同抑制効果を達成するセンスRNAの発現、また
は特に上記の遺伝子産物の転写物を分解する少なくとも1種の適当に構成された
リポザイムの発現により産生することができる。
【0054】
このため、一方では存在しうる側面配列を含む遺伝子産物の全コード配列から
なるDNA分子、他方ではコード配列の一部だけからなり、これらの部分は細胞
中でアンチセンス効果を生じさせるために十分に長くなければならないDNA分
子を使用することができる。遺伝子産物のコード配列と高度に相同であるが、完
全には同一ではないDNA配列の使用もまた可能である。
なるDNA分子、他方ではコード配列の一部だけからなり、これらの部分は細胞
中でアンチセンス効果を生じさせるために十分に長くなければならないDNA分
子を使用することができる。遺伝子産物のコード配列と高度に相同であるが、完
全には同一ではないDNA配列の使用もまた可能である。
【0055】
核酸分子が植物中で発現する場合、合成されたタンパク質は植物細胞の所望の
区画に局在することができる。しかしながら、特定の区画に局在させるために、
例えばコード領域をDNA配列と結合させることができ、それにより特定の区画
での局在が保証される。このような配列は当業者に知られている(例えばBraun
らのEMBO J. 11, 3219〜3227(1992年); WolterらのProc. Natl. Acad. Sci. USA
85, 846〜850 (1988年); SonnewaldらのPlant J. 1, 95〜106 (1991年)を参照
)。
区画に局在することができる。しかしながら、特定の区画に局在させるために、
例えばコード領域をDNA配列と結合させることができ、それにより特定の区画
での局在が保証される。このような配列は当業者に知られている(例えばBraun
らのEMBO J. 11, 3219〜3227(1992年); WolterらのProc. Natl. Acad. Sci. USA
85, 846〜850 (1988年); SonnewaldらのPlant J. 1, 95〜106 (1991年)を参照
)。
【0056】
既知技術に従ってトランスジェニック植物細胞を再生させて完全な植物を得る
ことができる。一般に、トランスジェニック植物は所望の植物種の植物、すなわ
ち単子葉および双子葉植物の両方である。 改良された特性を有するトランスジェニック植物は同種(=天然)遺伝子また
は遺伝子配列の過剰発現、抑制または阻害、あるいは異種(=外来)遺伝子また
は遺伝子配列の発現の結果として得られる。
ことができる。一般に、トランスジェニック植物は所望の植物種の植物、すなわ
ち単子葉および双子葉植物の両方である。 改良された特性を有するトランスジェニック植物は同種(=天然)遺伝子また
は遺伝子配列の過剰発現、抑制または阻害、あるいは異種(=外来)遺伝子また
は遺伝子配列の発現の結果として得られる。
【0057】
本発明の化合物は、好ましくはスルホニル尿素、グルホシネートアンモニウム
またはグリホセートイソプロピルアンモニウムおよび類似の活性物質からなる群
より選択される除草剤に対して耐性があるトランスジェニック作物において使用
することができる。
またはグリホセートイソプロピルアンモニウムおよび類似の活性物質からなる群
より選択される除草剤に対して耐性があるトランスジェニック作物において使用
することができる。
【0058】
本発明の活性物質がトランスジェニック作物において使用される場合、他の作
物で観察される除草作用の他に、特定のトランスジェニック作物への施用におけ
る特異的な効果、例えば防除することができる雑草の範囲の改良または拡大、施
用に使用することができる施用量の変化、好ましくはトランスジェニック作物が
耐性を示す除草剤との良好な相溶性、さらにトランスジェニック作物の生長およ
び収率における効果がしばしば見られる。したがって、本発明はまた、トランス
ジェニック作物における有害植物を防除するための除草剤としての本発明の化合
物の使用に関する。
物で観察される除草作用の他に、特定のトランスジェニック作物への施用におけ
る特異的な効果、例えば防除することができる雑草の範囲の改良または拡大、施
用に使用することができる施用量の変化、好ましくはトランスジェニック作物が
耐性を示す除草剤との良好な相溶性、さらにトランスジェニック作物の生長およ
び収率における効果がしばしば見られる。したがって、本発明はまた、トランス
ジェニック作物における有害植物を防除するための除草剤としての本発明の化合
物の使用に関する。
【0059】
本発明の物質はさらに植物の生長を調節する性質を有する。これらは植物の代
謝の調整に関与するため、例えば乾燥させ、生長を妨げることにより、特に植物
の構成成分に影響を及ぼしたり、収穫を容易にするために使用することができる
。さらに、これらは同時に有用な植物を死滅させることなく望ましくない植物の
生長を一般的に制御および阻害するのにも適している。植物の生長の阻害はそれ
により倒伏を減らしたり、完全に防ぐことができるため多くの単子葉および双子
葉作物において重要な役割を果たす。
謝の調整に関与するため、例えば乾燥させ、生長を妨げることにより、特に植物
の構成成分に影響を及ぼしたり、収穫を容易にするために使用することができる
。さらに、これらは同時に有用な植物を死滅させることなく望ましくない植物の
生長を一般的に制御および阻害するのにも適している。植物の生長の阻害はそれ
により倒伏を減らしたり、完全に防ぐことができるため多くの単子葉および双子
葉作物において重要な役割を果たす。
【0060】
本発明の化合物は、湿潤性粉末、乳化性濃縮物、噴霧可能な液剤、粉剤または
顆粒剤の形態で慣用の製剤として使用することができる。したがって、本発明は
また、式(I)の化合物を含有する除草活性で植物の生長を調節する組成物に関
する。
顆粒剤の形態で慣用の製剤として使用することができる。したがって、本発明は
また、式(I)の化合物を含有する除草活性で植物の生長を調節する組成物に関
する。
【0061】
式(I)の化合物は一般的な生物学的および/または化学的−物理的パラメー
ターに応じて様々な方法で製剤化することができる。適当な製剤の例は、湿潤性
粉末(WP)、水溶性粉末(SP)、水溶性濃縮物、乳化性濃縮物(EC)、乳
剤(EW)、例えば水中油型および油中水型エマルジョン、噴霧可能な液剤、懸
濁濃縮物(SC)、油または水を基剤とする分散剤、油−混和性液剤、カプセル
懸濁剤(CS)、粉剤(DP)、種子粉衣剤;散布および土壌施用のための顆粒
剤;微小顆粒剤、噴霧顆粒剤、コーティング顆粒剤および吸着顆粒剤の形態の顆
粒剤(GP);水−分散性顆粒剤(WG)、水溶性顆粒剤(SG)、ULV製剤
、マイクロカプセル剤およびろう剤である。これらのタイプの製剤は、それぞれ
一般に知られており、例えばWinnacker-Kuechlerの「化学技術」,第7巻,C. H
auser Verlag Munich, 第4版 (1986年); Wade van Valkenburgの「農薬」,Mar
cel Dekker, N.Y. (1973年); K. Martensの「噴霧乾燥」,ハンドブック,第3
版 (1979年),G. Goodwin Ltd. London に記載されている。
ターに応じて様々な方法で製剤化することができる。適当な製剤の例は、湿潤性
粉末(WP)、水溶性粉末(SP)、水溶性濃縮物、乳化性濃縮物(EC)、乳
剤(EW)、例えば水中油型および油中水型エマルジョン、噴霧可能な液剤、懸
濁濃縮物(SC)、油または水を基剤とする分散剤、油−混和性液剤、カプセル
懸濁剤(CS)、粉剤(DP)、種子粉衣剤;散布および土壌施用のための顆粒
剤;微小顆粒剤、噴霧顆粒剤、コーティング顆粒剤および吸着顆粒剤の形態の顆
粒剤(GP);水−分散性顆粒剤(WG)、水溶性顆粒剤(SG)、ULV製剤
、マイクロカプセル剤およびろう剤である。これらのタイプの製剤は、それぞれ
一般に知られており、例えばWinnacker-Kuechlerの「化学技術」,第7巻,C. H
auser Verlag Munich, 第4版 (1986年); Wade van Valkenburgの「農薬」,Mar
cel Dekker, N.Y. (1973年); K. Martensの「噴霧乾燥」,ハンドブック,第3
版 (1979年),G. Goodwin Ltd. London に記載されている。
【0062】
不活性物質、界面活性剤、溶剤および他の添加剤のような必要な配合補助剤も
また知られており、例えばWatkinsの「殺虫剤の粉剤希釈剤および担体のハンド
ブック」,第2版,ダーランドブックス,Caldwell N.J.; H.v. Olphenの「クレ
ーコロイド化学入門」, 第2版,J. Wiley & Sons, N.Y.; C. Marsdenの「溶剤
便覧」,第2版,インターサイエンス,N.Y. (1963年); McCutcheonの「洗浄剤
および乳化剤の年報」,MC出版社,Ridgewood N.Y.; SisleyおよびWoodの「界
面活性剤事典」,Chem. Publ. Co. Inc., N.Y. (1964年); Schoenfeldtの「界面
活性エチレンオキシド付加物」,Wiss. Verlagsgesell., Stuttgart (1976年);
Winnacker-Kuechlerの「化学技術」,第7巻,C. Hauser Verlag Munich, 第4
版(1986年)に記載されている。
また知られており、例えばWatkinsの「殺虫剤の粉剤希釈剤および担体のハンド
ブック」,第2版,ダーランドブックス,Caldwell N.J.; H.v. Olphenの「クレ
ーコロイド化学入門」, 第2版,J. Wiley & Sons, N.Y.; C. Marsdenの「溶剤
便覧」,第2版,インターサイエンス,N.Y. (1963年); McCutcheonの「洗浄剤
および乳化剤の年報」,MC出版社,Ridgewood N.Y.; SisleyおよびWoodの「界
面活性剤事典」,Chem. Publ. Co. Inc., N.Y. (1964年); Schoenfeldtの「界面
活性エチレンオキシド付加物」,Wiss. Verlagsgesell., Stuttgart (1976年);
Winnacker-Kuechlerの「化学技術」,第7巻,C. Hauser Verlag Munich, 第4
版(1986年)に記載されている。
【0063】
湿潤性粉末は、水中で均一に分散し、活性物質の他にイオン性および/または
非イオン性界面活性剤(湿潤剤、分散剤)、例えばポリオキシエチル化アルキル
フェノール、ポリオキシエチル化脂肪アルコール、ポリオキシエチル化脂肪アミ
ン、脂肪アルコールポリグリコールエーテルスルフェート、アルカンスルホネー
ト、アルキルベンゼンスルホネート、ナトリウム2,2′−ジナフチルメタン−
6,6′−ジスルホネート、ナトリウムリグノスルホネート、ナトリウムジブチ
ルナフタレン−スルホネートまたはナトリウムオレオイルメチルタウリネートを
希釈剤または不活性物質と共に含有する製剤である。湿潤性粉末の製造において
、除草活性物質は例えばハンマーミル、ブロアーミルおよびエアジェットのよう
な慣用の装置で微粉砕され、同時にまたは続いて配合補助剤と混合される。
非イオン性界面活性剤(湿潤剤、分散剤)、例えばポリオキシエチル化アルキル
フェノール、ポリオキシエチル化脂肪アルコール、ポリオキシエチル化脂肪アミ
ン、脂肪アルコールポリグリコールエーテルスルフェート、アルカンスルホネー
ト、アルキルベンゼンスルホネート、ナトリウム2,2′−ジナフチルメタン−
6,6′−ジスルホネート、ナトリウムリグノスルホネート、ナトリウムジブチ
ルナフタレン−スルホネートまたはナトリウムオレオイルメチルタウリネートを
希釈剤または不活性物質と共に含有する製剤である。湿潤性粉末の製造において
、除草活性物質は例えばハンマーミル、ブロアーミルおよびエアジェットのよう
な慣用の装置で微粉砕され、同時にまたは続いて配合補助剤と混合される。
【0064】
乳化性濃縮物は、1種以上のイオン性および/または非イオン性界面活性剤(
乳化剤)を加えた有機溶媒、例えばブタノール、シクロヘキサノン、ジメチルホ
ルムアミド、キシレン、あるいは比較的高い沸点の芳香族炭化水素または炭化水
素または有機溶媒の混合物に活性物質を溶解することにより製造される。使用す
ることができる乳化剤の例はドデシルベンゼンスルホン酸カルシウムのようなア
ルキルアリールスルホン酸カルシウム、または非イオン性乳化剤、例えば脂肪酸
ポリグリコールエステル、アルキルアリールポリグリコールエーテル、脂肪アル
コールポリグリコールエーテル、プロピレンオキシド/エチレンオキシド縮合物
、アルキルポリエーテル、ソルビタンエステル、例えばソルビタン脂肪酸エステ
ルまたはポリオキシエチレンソルビタンエステル、例えばポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステルである。
乳化剤)を加えた有機溶媒、例えばブタノール、シクロヘキサノン、ジメチルホ
ルムアミド、キシレン、あるいは比較的高い沸点の芳香族炭化水素または炭化水
素または有機溶媒の混合物に活性物質を溶解することにより製造される。使用す
ることができる乳化剤の例はドデシルベンゼンスルホン酸カルシウムのようなア
ルキルアリールスルホン酸カルシウム、または非イオン性乳化剤、例えば脂肪酸
ポリグリコールエステル、アルキルアリールポリグリコールエーテル、脂肪アル
コールポリグリコールエーテル、プロピレンオキシド/エチレンオキシド縮合物
、アルキルポリエーテル、ソルビタンエステル、例えばソルビタン脂肪酸エステ
ルまたはポリオキシエチレンソルビタンエステル、例えばポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステルである。
【0065】
粉剤は活性物質を微粉固体物質、例えばタルク;カオリン、ベントナイトおよ
びパイロフィライトのような天然クレー;またはケイ藻土と一緒に粉砕すること
により得られる。 懸濁濃縮物は、水または油を基剤とすることができる。これらは例えば商業的
に入手できるビードミルを用いて、適当ならば上記の他のタイプの製剤で挙げた
ような界面活性剤を加えて湿式粉砕することにより製造することができる。
びパイロフィライトのような天然クレー;またはケイ藻土と一緒に粉砕すること
により得られる。 懸濁濃縮物は、水または油を基剤とすることができる。これらは例えば商業的
に入手できるビードミルを用いて、適当ならば上記の他のタイプの製剤で挙げた
ような界面活性剤を加えて湿式粉砕することにより製造することができる。
【0066】
乳剤、例えば水中油型乳剤(EW)は例えば撹拌器、コロイドミルおよび/ま
たはスタティックミキサーにより、水性有機溶媒および、適当ならば、例えば上
記の他のタイプの製剤で挙げたような界面活性剤を使用して製造することができ
る。
たはスタティックミキサーにより、水性有機溶媒および、適当ならば、例えば上
記の他のタイプの製剤で挙げたような界面活性剤を使用して製造することができ
る。
【0067】
顆粒剤は、結合剤、例えばポリビニルアルコール、ナトリウムポリアクリレー
トまたは鉱油を用いて活性物質を吸着性の粒状不活性物質に噴霧することにより
、あるいは活性物質の濃縮物を砂、カオリナイトのような担体、または粒状不活
性物質の表面に塗布することにより製造することができる。適当な活性物質を粒
状肥料の製造において慣用的な方法で、所望ならば肥料との混合物として造粒す
ることもできる。
トまたは鉱油を用いて活性物質を吸着性の粒状不活性物質に噴霧することにより
、あるいは活性物質の濃縮物を砂、カオリナイトのような担体、または粒状不活
性物質の表面に塗布することにより製造することができる。適当な活性物質を粒
状肥料の製造において慣用的な方法で、所望ならば肥料との混合物として造粒す
ることもできる。
【0068】
一般に、水−分散性顆粒剤は、噴霧乾燥、流動層造粒、ディスク造粒、高速ミ
キサーを使用する混合、および押出しのような慣用の方法により固体の不活性物
質なしで製造される。 ディスク、流動層、押出機および噴霧顆粒剤の製造については、例えば、「噴
霧乾燥ハンドブック」,第3版 (1979年), G. Goodwin社, London; J.E. Browni
ngの「凝集」,化学と工学,第147頁以降 (1967年);「ペリーの化学工学ハンド
ブック」, 第5版, 第8〜57頁,McGraw-Hill, New York (1973年) に記載の方法
を参照。
キサーを使用する混合、および押出しのような慣用の方法により固体の不活性物
質なしで製造される。 ディスク、流動層、押出機および噴霧顆粒剤の製造については、例えば、「噴
霧乾燥ハンドブック」,第3版 (1979年), G. Goodwin社, London; J.E. Browni
ngの「凝集」,化学と工学,第147頁以降 (1967年);「ペリーの化学工学ハンド
ブック」, 第5版, 第8〜57頁,McGraw-Hill, New York (1973年) に記載の方法
を参照。
【0069】
作物保護剤の製造に関する詳細については、例えば G.C. Klingmanの「科学と
しての雑草防除」,John Wiley & Sons社, New York, 第81〜96頁 (1961年), お
よび J.D. Freyer, S.A. Evans の「雑草防除ハンドブック」, 第5版, Blackwe
ll 科学出版, Oxford, 第101〜103頁 (1968年) を参照。
しての雑草防除」,John Wiley & Sons社, New York, 第81〜96頁 (1961年), お
よび J.D. Freyer, S.A. Evans の「雑草防除ハンドブック」, 第5版, Blackwe
ll 科学出版, Oxford, 第101〜103頁 (1968年) を参照。
【0070】
一般に、農薬製剤は0.1〜99重量%、特に0.1〜95重量%の式(I)の
活性物質を含有する。湿潤性粉末において、活性物質の濃度は、例えば、約10
〜90重量%であり、その100重量%までの残りは慣用の配合成分からなる。
乳化性濃縮物の場合、活性物質の濃度は約1〜90、好ましくは5〜80重量%
である。粉剤の形態の製剤は、1〜30重量%の活性物質、好ましくは通常5〜
20重量%の活性物質を含有し、噴霧可能な液剤は約0.05〜80、好ましく
は2〜50重量%の活性物質を含有する。水−分散性顆粒剤の場合、活性物質の
含有量は、部分的に活性化合物が液体または固体であるかとうか、どの造粒補助
剤、充填剤などが使用されるかに依存する。水−分散性顆粒剤の場合、活性物質
の含有量は、例えば、1〜95重量%、好ましくは10〜80重量%である。
活性物質を含有する。湿潤性粉末において、活性物質の濃度は、例えば、約10
〜90重量%であり、その100重量%までの残りは慣用の配合成分からなる。
乳化性濃縮物の場合、活性物質の濃度は約1〜90、好ましくは5〜80重量%
である。粉剤の形態の製剤は、1〜30重量%の活性物質、好ましくは通常5〜
20重量%の活性物質を含有し、噴霧可能な液剤は約0.05〜80、好ましく
は2〜50重量%の活性物質を含有する。水−分散性顆粒剤の場合、活性物質の
含有量は、部分的に活性化合物が液体または固体であるかとうか、どの造粒補助
剤、充填剤などが使用されるかに依存する。水−分散性顆粒剤の場合、活性物質
の含有量は、例えば、1〜95重量%、好ましくは10〜80重量%である。
【0071】
さらに、上記の活性物質の製剤は、適当ならば慣用の接着剤、湿潤剤、分散剤
、乳化剤、浸透剤、保存剤、凍結防止剤、溶剤、充填剤、担体、着色剤、消泡剤
、蒸発阻害剤、pH調整剤および粘度調整剤を含有する。 これらの製剤に基いて、他の農薬的に活性な物質、例えば殺虫剤、ダニ駆除剤
、除草剤、殺菌剤、さらに毒性緩和剤、肥料および/または生長調節剤との組合
せもまた、例えばレディミックスまたはタンクミックスの形態で製造することが
できる。
、乳化剤、浸透剤、保存剤、凍結防止剤、溶剤、充填剤、担体、着色剤、消泡剤
、蒸発阻害剤、pH調整剤および粘度調整剤を含有する。 これらの製剤に基いて、他の農薬的に活性な物質、例えば殺虫剤、ダニ駆除剤
、除草剤、殺菌剤、さらに毒性緩和剤、肥料および/または生長調節剤との組合
せもまた、例えばレディミックスまたはタンクミックスの形態で製造することが
できる。
【0072】
混合製剤またはタンクミックス中において本発明の活性物質と組合せて使用さ
れる成分は、例えば「雑草リサーチ」26, 441〜445 (1986年) または「農薬の手
引」,第11版,英国作物保護協会および王立化学協会(1997年)とそこで引用さ
れた文献に記載されているような既知の活性物質である。式(I)の化合物と組
合せることができる既知の除草剤は例えば次の活性物質である(注:化合物は国
際標準化機構(ISO)に従って一般名により、または適当ならば慣用のコード
番号と共に化学名を使用して表される):
れる成分は、例えば「雑草リサーチ」26, 441〜445 (1986年) または「農薬の手
引」,第11版,英国作物保護協会および王立化学協会(1997年)とそこで引用さ
れた文献に記載されているような既知の活性物質である。式(I)の化合物と組
合せることができる既知の除草剤は例えば次の活性物質である(注:化合物は国
際標準化機構(ISO)に従って一般名により、または適当ならば慣用のコード
番号と共に化学名を使用して表される):
【0073】
アセトクロル;アシフルオルフェン;アクロニフェン;AKH 7088、す
なわち[[[1−[5−[2−クロロ−4−(トリフルオロメチル)−フェノキシ
]−2−ニトロフェニル]−2−メトキシエチリデン]アミノ]オキシ]酢酸お
よびそのメチルエステル;アラクロル;アロキシジム;アメトリン;アミドスル
フロン;アミトロール;AMS、すなわちアンモニウムスルファメート;アニロ
フォス;アスラム;アトラジン;アジムスルフロン(DPX−A8947);ア
ジプロトリン;バルバン;BAS 516 H、すなわち5−フルオロ−2−フェ
ニル−4H−3,1−ベンゾキサジン−4−オン;ベナゾリン;ベンフルラリン
;ベンフレセート;ベンスルフロン−メチル;ベンスリド;ベンタゾン;ベンゾ
フェナプ;ベンゾフルオル;ベンゾイルプロップ−エチル;ベンズチアズロン;
ビアラフォス;ビフェノクス;ブロマシル;ブロモブチド;ブロモフェノキシム
;ブロモキシニル;ブロムロン;ブミナフォス;ブソキシノン;ブタクロル;ブ
タミフォス;ブテナクロル;ブチダゾール;ブトラリン;ブチレート;カフェン
ストロール(CH−900);カルベタミド;カフェントラゾン(ICI−A0
051);CDAA、すなわち2−クロロ−N,N−ジ−2−プロペニルアセト
アミド;CDEC、すなわち2−クロロアリルジエチルジチオカルバメート;ク
ロメトキシフェン;クロラムベン;クロラジホップ−ブチル、クロルメスロン(
ICI−A0051);クロルブロムロン;クロルブファム;クロルフェナク;
クロルフルレコール−メチル;クロリダゾン;クロリムロンエチル;クロルニト
ロフェン;クロロトルロン;クロロクスロン;クロルプロファム;クロルスルフ
ロン;クロルタール−ジメチル;クロルチアミド;シンメチリン;シノスルフロ
ン;クレトジム;クロジナホップおよびそのエステル誘導体(例えばクロジナホ
ップ−プロパルギル);クロマゾン;クロメプロプ;クロプロキシジム;クロピ
ラリド;クミルロン(JC 940);シアナジン;シクロエート;シクロスル
ファムロン(AC 104);シクロキシジム;シクルロン;シハロホップおよ
びそのエステル誘導体(例えばブチルエステル、DEH−112);シペルクァ
ト;シプラジン;シプラゾール;ダイムロン;2,4−DB;ダラポン;デスメ
ジファム;デスメトリン;ジ−アレート;ジカンバ;ジクロベニル;ジクロルプ
ロプ;ジクロホップおよびそのエステル、例えばジクロホップ−メチル;ジエタ
チル;ジフェノクスロン;ジフェンゾクァト;ジフルフェニカン;ジメフロン;
ジメタクロル;ジメタメトリン;ジメテナミド(SAN−582H);ジメタゾ
ン、クロマゾン;ジメチピン;ジメトラスルフロン、ジニトラミン;ジノセブ;
ジノテルブ;ジフェナミド;ジプロペトリン;ジクァト;ジチオピル;ジウロン
;DNOC;エグリナジン−エチル;EL 77、すなわち5−シアノ−1−(
1,1−ジメチルエチル)−N−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミ
ド;エンドタール;EPTC;エスプロカルブ;エタルフルラリン;エタメツル
フロン−メチル;エチジムロン;エチオジン;エトフメセート;F5231、
なわち[[[1−[5−[2−クロロ−4−(トリフルオロメチル)−フェノキシ
]−2−ニトロフェニル]−2−メトキシエチリデン]アミノ]オキシ]酢酸お
よびそのメチルエステル;アラクロル;アロキシジム;アメトリン;アミドスル
フロン;アミトロール;AMS、すなわちアンモニウムスルファメート;アニロ
フォス;アスラム;アトラジン;アジムスルフロン(DPX−A8947);ア
ジプロトリン;バルバン;BAS 516 H、すなわち5−フルオロ−2−フェ
ニル−4H−3,1−ベンゾキサジン−4−オン;ベナゾリン;ベンフルラリン
;ベンフレセート;ベンスルフロン−メチル;ベンスリド;ベンタゾン;ベンゾ
フェナプ;ベンゾフルオル;ベンゾイルプロップ−エチル;ベンズチアズロン;
ビアラフォス;ビフェノクス;ブロマシル;ブロモブチド;ブロモフェノキシム
;ブロモキシニル;ブロムロン;ブミナフォス;ブソキシノン;ブタクロル;ブ
タミフォス;ブテナクロル;ブチダゾール;ブトラリン;ブチレート;カフェン
ストロール(CH−900);カルベタミド;カフェントラゾン(ICI−A0
051);CDAA、すなわち2−クロロ−N,N−ジ−2−プロペニルアセト
アミド;CDEC、すなわち2−クロロアリルジエチルジチオカルバメート;ク
ロメトキシフェン;クロラムベン;クロラジホップ−ブチル、クロルメスロン(
ICI−A0051);クロルブロムロン;クロルブファム;クロルフェナク;
クロルフルレコール−メチル;クロリダゾン;クロリムロンエチル;クロルニト
ロフェン;クロロトルロン;クロロクスロン;クロルプロファム;クロルスルフ
ロン;クロルタール−ジメチル;クロルチアミド;シンメチリン;シノスルフロ
ン;クレトジム;クロジナホップおよびそのエステル誘導体(例えばクロジナホ
ップ−プロパルギル);クロマゾン;クロメプロプ;クロプロキシジム;クロピ
ラリド;クミルロン(JC 940);シアナジン;シクロエート;シクロスル
ファムロン(AC 104);シクロキシジム;シクルロン;シハロホップおよ
びそのエステル誘導体(例えばブチルエステル、DEH−112);シペルクァ
ト;シプラジン;シプラゾール;ダイムロン;2,4−DB;ダラポン;デスメ
ジファム;デスメトリン;ジ−アレート;ジカンバ;ジクロベニル;ジクロルプ
ロプ;ジクロホップおよびそのエステル、例えばジクロホップ−メチル;ジエタ
チル;ジフェノクスロン;ジフェンゾクァト;ジフルフェニカン;ジメフロン;
ジメタクロル;ジメタメトリン;ジメテナミド(SAN−582H);ジメタゾ
ン、クロマゾン;ジメチピン;ジメトラスルフロン、ジニトラミン;ジノセブ;
ジノテルブ;ジフェナミド;ジプロペトリン;ジクァト;ジチオピル;ジウロン
;DNOC;エグリナジン−エチル;EL 77、すなわち5−シアノ−1−(
1,1−ジメチルエチル)−N−メチル−1H−ピラゾール−4−カルボキサミ
ド;エンドタール;EPTC;エスプロカルブ;エタルフルラリン;エタメツル
フロン−メチル;エチジムロン;エチオジン;エトフメセート;F5231、
【0074】
すなわちN−[2−クロロ−4−フルオロ−5−[4−(3−フルオロプロピル
)−4,5−ジヒドロ−5−オキソ−1H−テトラゾール−1−イル]フェニル
]エタンスルホンアミド;エトキシフェンおよびそのエステル(例えばエチルエ
ステル、HN−252);エトベンザニド(HW 52);フェノプロップ;フ
ェノキサン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ−Pおよびそれらのエス
テル、例えばフェノキサプロップ−P−エチルおよびフェノキサプロップ−エチ
ル;フェノキシジム;フェヌロン;フラムプロップ−メチル;フラザスルフロン
;フルアジホップ、フルアジホップ−Pおよびそれらのエステル、例えばフルア
ジホップ−ブチルおよびフルアジホップ−P−ブチル;フルクロラリン;フルメ
ツラム;フルメツロン;フルミクロラクおよびそのエステル(例えばペンチルエ
ステル、S−23031);フルミオキサジン(S−482);フルミプロピン
;フルポキサム(KNW−739);フルオロジフェン;フルオログリコフェン
−エチル;フルプロパシル(UBIC−4243);フルリドン;フルロクロリ
ドン;フルロキシピル;フルルタモン;ホメサフェン;ホサミン;フリルオキシ
フェン;グルホシネート;グリホセート;ハロサフェン;ハロスルフロンおよび
そのエステル(例えばメチルエステル、NC−319);ハロキシホップおよび
そのエステル;ハロキシホップ−P(=R−ハロキシホップ)およびそのエステ
ル;ヘキサジノン;イマザピル;イマザメタベンズ−メチル;イマザキンおよび
その塩、例えばアンモニウム塩;イオキシニル;イマゼタメタピル;イマゼタピ
ル;イマゾスルフロン;イソカルバミド;イソプロパリン;イソプロツロン;イ
ソウロン;イソキサベン;イソキサピリホップ;カルブチレート;ラクトフェン
;レナシル;リヌロン;MCPA;MCPB;メコプロップ;メフェナセト;メ
フルイジド;メタミトロン;メタザクロル;メタム;メタベンズチアズロン;メ
タゾール;メトキシフェノン;メチルジムロン;メタベンズロン、メトベンズロ
ン;メトブロムロン;メトラクロル;メトスラム(XRD 511);メトクス
ロン;メトリブジン;メトスルフロン−メチル;MH;モリネート;モナリド;
モノリヌロン;モヌロン;モノカルバミド二水素硫酸塩;MT 128、すなわ
ち6−クロロ−N−(3−クロロ−2−プロペニル)−5−メチル−N−フェニ
ル−3−ピリダジンアミン;MT 5950、すなわちN−[3−クロロ−4−
(1−メチルエチル)フェニル]−2−メチルペンタンアミド;ナプロアニリド
;ナプロパミド;ナプタラム;NC 310、すなわち4−(2,4−ジクロロベ
ンゾイル)−1−メチル−5−ベンジルオキシピラゾール;ネブロン;ニコスル
フロン;ニピラクロフェン;ニトラリン;ニトロフェン;ニトロフルオルフェン
;ノルフルラゾン;オルベンカルブ;オリザリン;オキサジアルギル(RP−0
20630);オキサジアゾン;オキシフルオルフェン;パラクァト;ペブレー
ト;ペンジメタリン;ペルフルイドン;フェニソファム;フェンメジファム;ピ
クロラム;ピペロホス;ピリブチカルブ;ピリフェノップ−ブチル;プレチラク
ロル;プリミスルフロン−メチル;プロシアジン;プロジアミン;プロフルラリ
ン;プログリナジン−エチル;プロメトン;プロメトリン;プロパクロル;プロ
パニル;プロパキザホップおよびそのエステル;プロパジン;プロファム;プロ
プイソクロル;プロピザミド;プロスルファリン;プロスルホカルブ;プロスル
フロン(CGA−152005);プリナクロル;ピラゾリネート;ピラゾン;
)−4,5−ジヒドロ−5−オキソ−1H−テトラゾール−1−イル]フェニル
]エタンスルホンアミド;エトキシフェンおよびそのエステル(例えばエチルエ
ステル、HN−252);エトベンザニド(HW 52);フェノプロップ;フ
ェノキサン、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ−Pおよびそれらのエス
テル、例えばフェノキサプロップ−P−エチルおよびフェノキサプロップ−エチ
ル;フェノキシジム;フェヌロン;フラムプロップ−メチル;フラザスルフロン
;フルアジホップ、フルアジホップ−Pおよびそれらのエステル、例えばフルア
ジホップ−ブチルおよびフルアジホップ−P−ブチル;フルクロラリン;フルメ
ツラム;フルメツロン;フルミクロラクおよびそのエステル(例えばペンチルエ
ステル、S−23031);フルミオキサジン(S−482);フルミプロピン
;フルポキサム(KNW−739);フルオロジフェン;フルオログリコフェン
−エチル;フルプロパシル(UBIC−4243);フルリドン;フルロクロリ
ドン;フルロキシピル;フルルタモン;ホメサフェン;ホサミン;フリルオキシ
フェン;グルホシネート;グリホセート;ハロサフェン;ハロスルフロンおよび
そのエステル(例えばメチルエステル、NC−319);ハロキシホップおよび
そのエステル;ハロキシホップ−P(=R−ハロキシホップ)およびそのエステ
ル;ヘキサジノン;イマザピル;イマザメタベンズ−メチル;イマザキンおよび
その塩、例えばアンモニウム塩;イオキシニル;イマゼタメタピル;イマゼタピ
ル;イマゾスルフロン;イソカルバミド;イソプロパリン;イソプロツロン;イ
ソウロン;イソキサベン;イソキサピリホップ;カルブチレート;ラクトフェン
;レナシル;リヌロン;MCPA;MCPB;メコプロップ;メフェナセト;メ
フルイジド;メタミトロン;メタザクロル;メタム;メタベンズチアズロン;メ
タゾール;メトキシフェノン;メチルジムロン;メタベンズロン、メトベンズロ
ン;メトブロムロン;メトラクロル;メトスラム(XRD 511);メトクス
ロン;メトリブジン;メトスルフロン−メチル;MH;モリネート;モナリド;
モノリヌロン;モヌロン;モノカルバミド二水素硫酸塩;MT 128、すなわ
ち6−クロロ−N−(3−クロロ−2−プロペニル)−5−メチル−N−フェニ
ル−3−ピリダジンアミン;MT 5950、すなわちN−[3−クロロ−4−
(1−メチルエチル)フェニル]−2−メチルペンタンアミド;ナプロアニリド
;ナプロパミド;ナプタラム;NC 310、すなわち4−(2,4−ジクロロベ
ンゾイル)−1−メチル−5−ベンジルオキシピラゾール;ネブロン;ニコスル
フロン;ニピラクロフェン;ニトラリン;ニトロフェン;ニトロフルオルフェン
;ノルフルラゾン;オルベンカルブ;オリザリン;オキサジアルギル(RP−0
20630);オキサジアゾン;オキシフルオルフェン;パラクァト;ペブレー
ト;ペンジメタリン;ペルフルイドン;フェニソファム;フェンメジファム;ピ
クロラム;ピペロホス;ピリブチカルブ;ピリフェノップ−ブチル;プレチラク
ロル;プリミスルフロン−メチル;プロシアジン;プロジアミン;プロフルラリ
ン;プログリナジン−エチル;プロメトン;プロメトリン;プロパクロル;プロ
パニル;プロパキザホップおよびそのエステル;プロパジン;プロファム;プロ
プイソクロル;プロピザミド;プロスルファリン;プロスルホカルブ;プロスル
フロン(CGA−152005);プリナクロル;ピラゾリネート;ピラゾン;
【0075】
ピラゾスルフロン−エチル;ピラゾキシフェン;ピリデート;ピリチオバク(K
IH−2031);ピロキソホップおよびそのエステル(例えばプロパルギルエ
ステル);キンクロラク;キンメラク;キノホップおよびそのエステル誘導体;
キザロホップ、キザロホップ−Pおよびそれらのエステル誘導体、例えばキザロ
ホップ−エチル、キザロホップ−P−テフリルおよび−エチル;レンリヅロン;
リムスルフロン(DPX−E 9636);S 275、すなわち2−[4−クロ
ロ−2−フルオロ−5−(2−プロピニルオキシ)フェニル]−4,5,6,7−
テトラヒドロ−2H−インダゾール;セクブメトン;セトキシジム;シヅロン;
シマジン;シメトリン;SN 106279、すなわち2−[[7−[2−クロ
ロ−4−(トリフルオロメチル)−フェノキシ]−2−ナフタレニル]オキシ]
プロパン酸およびそのメチルエステル;スルフェントラゾン(FMC−9728
5、F−6285);スルファズロン;スルホメツロン−メチル;スルホセート
(ICI−A0224);TCA;テブタム(GCP−5544);テブチウロ
ン;テルバシル;テルブカルブ;テルブクロル;テルブメトン;テルブチラジン
;テルブトリン;TFH 450、すなわちN,N−ジエチル−3−[(2−エチ
ル−6−メチルフェニル)スルホニル]−1H−1,2,4−トリアゾール−1−
カルボキサミド;テニルクロル(NSK−850);チアザフルロン;チアゾピ
ル(Mon−13200);チジアジミン(SN−24085);チオベンカル
ブ;チフェンスルフロン−メチル;チオカルバジル;トラルコキシジム;トリ−
アレート;トリアスルフロン;トリアゾフェナミド;トリベヌロン−メチル;ト
リクロピル;トリジファン;トリエタジン;トリフルラリン;トリフルスルフロ
ンおよびそのエステル(例えばメチルエステル、DPX−66037);トリメ
ツロン;チトデフ;ベルノレート;WL 110547、すなわち5−フェノキ
シ−1−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−テトラゾール;UB
H−509;D−489;LS 82−556;KPP−300;NC−324
;NC−330;KH−218;DPX−N8189;SC−0774;DOW
CO−535;DK−8910;V−53482;PP−600;MBH−00
1;KIH−9201;ET−751;KIH−6127およびKIH−202
3。
IH−2031);ピロキソホップおよびそのエステル(例えばプロパルギルエ
ステル);キンクロラク;キンメラク;キノホップおよびそのエステル誘導体;
キザロホップ、キザロホップ−Pおよびそれらのエステル誘導体、例えばキザロ
ホップ−エチル、キザロホップ−P−テフリルおよび−エチル;レンリヅロン;
リムスルフロン(DPX−E 9636);S 275、すなわち2−[4−クロ
ロ−2−フルオロ−5−(2−プロピニルオキシ)フェニル]−4,5,6,7−
テトラヒドロ−2H−インダゾール;セクブメトン;セトキシジム;シヅロン;
シマジン;シメトリン;SN 106279、すなわち2−[[7−[2−クロ
ロ−4−(トリフルオロメチル)−フェノキシ]−2−ナフタレニル]オキシ]
プロパン酸およびそのメチルエステル;スルフェントラゾン(FMC−9728
5、F−6285);スルファズロン;スルホメツロン−メチル;スルホセート
(ICI−A0224);TCA;テブタム(GCP−5544);テブチウロ
ン;テルバシル;テルブカルブ;テルブクロル;テルブメトン;テルブチラジン
;テルブトリン;TFH 450、すなわちN,N−ジエチル−3−[(2−エチ
ル−6−メチルフェニル)スルホニル]−1H−1,2,4−トリアゾール−1−
カルボキサミド;テニルクロル(NSK−850);チアザフルロン;チアゾピ
ル(Mon−13200);チジアジミン(SN−24085);チオベンカル
ブ;チフェンスルフロン−メチル;チオカルバジル;トラルコキシジム;トリ−
アレート;トリアスルフロン;トリアゾフェナミド;トリベヌロン−メチル;ト
リクロピル;トリジファン;トリエタジン;トリフルラリン;トリフルスルフロ
ンおよびそのエステル(例えばメチルエステル、DPX−66037);トリメ
ツロン;チトデフ;ベルノレート;WL 110547、すなわち5−フェノキ
シ−1−[3−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−テトラゾール;UB
H−509;D−489;LS 82−556;KPP−300;NC−324
;NC−330;KH−218;DPX−N8189;SC−0774;DOW
CO−535;DK−8910;V−53482;PP−600;MBH−00
1;KIH−9201;ET−751;KIH−6127およびKIH−202
3。
【0076】
使用時に、商業的に入手可能な形態で存在する製剤は、適当ならば、慣用の方
法で、例えば湿潤性粉末、乳化性濃縮物、分散剤および水−分散性顆粒剤の場合
は水で希釈される。粉剤、土壌粒剤、散布顆粒剤、および噴霧可能な液剤の形態
の製剤は通常、使用前に他の不活性物質で希釈されない。 式(I)の化合物の必要な施用量は外部条件、例えばとりわけ温度、湿度およ
び使用する除草剤の性質に応じて変わる。それは幅広い範囲内で変わり、例えば
0.001〜10.0kg/ha以上の活性物質であるが、好ましくは0.005〜5k
g/haである。
法で、例えば湿潤性粉末、乳化性濃縮物、分散剤および水−分散性顆粒剤の場合
は水で希釈される。粉剤、土壌粒剤、散布顆粒剤、および噴霧可能な液剤の形態
の製剤は通常、使用前に他の不活性物質で希釈されない。 式(I)の化合物の必要な施用量は外部条件、例えばとりわけ温度、湿度およ
び使用する除草剤の性質に応じて変わる。それは幅広い範囲内で変わり、例えば
0.001〜10.0kg/ha以上の活性物質であるが、好ましくは0.005〜5k
g/haである。
【0077】
次の実施例により本発明を詳しく説明する。
A.製造例
出発化合物のエチル2,4−ジブロモ−3−ヒドロキシベンゾエートはUS 5
026896に従って製造し、また2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチルス
ルホニル安息香酸はEP 0 195 247に従って製造した。 1.2−(2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオンの製造
工程1:メチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチルスルホニルベンゾエー
ト 22.94g(91.5ミリモル)の2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチル
スルホニル安息香酸を1000mlのメタノールに溶解した。82.3ml(154
5ミリモル)の濃H2SO4を滴加し、混合物を4時間還流した。反応混合物を回
転エバポレーターで濃縮し、残留物を塩化メチレンに取った。混合物を水で洗浄
し、Na2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた。これによ
り124〜126℃の融点を有するメチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メ
チルスルホニルベンゾエートを白色の固体として得た。 収量:16.02g(理論値の66%);Rf(酢酸エチル):0.25 IH NMR: δ[CDCl3] 3.18(s, 3H), 3.96(s, 3H), 7.44(d, 1H), 7.75(d, 1H)
026896に従って製造し、また2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチルス
ルホニル安息香酸はEP 0 195 247に従って製造した。 1.2−(2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオンの製造
工程1:メチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチルスルホニルベンゾエー
ト 22.94g(91.5ミリモル)の2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチル
スルホニル安息香酸を1000mlのメタノールに溶解した。82.3ml(154
5ミリモル)の濃H2SO4を滴加し、混合物を4時間還流した。反応混合物を回
転エバポレーターで濃縮し、残留物を塩化メチレンに取った。混合物を水で洗浄
し、Na2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた。これによ
り124〜126℃の融点を有するメチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メ
チルスルホニルベンゾエートを白色の固体として得た。 収量:16.02g(理論値の66%);Rf(酢酸エチル):0.25 IH NMR: δ[CDCl3] 3.18(s, 3H), 3.96(s, 3H), 7.44(d, 1H), 7.75(d, 1H)
【0078】
工程2:メチル2−クロロ−3−(プロパルギル−3−オキシ)−4−メチルス
ルホニルベンゾエート 4.18g(30.2ミリモル)の炭酸カリウムおよび3.56g(30.2ミリ
モル)の3−ブロモプロピンを50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し
た。4.00g(15.1モル)のメチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチ
ルスルホニルベンゾエートを室温で加え、混合物を70℃で5時間加熱した。次
に、それを水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。合一した有機相を水で洗浄
し、Na2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させてメチル2−
クロロ−3−(プロパルギル−3−オキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエー
トを褐色の油状物として得た。 収量:4.39g(理論値の96%);Rf(酢酸エチル)0.88 IH NMR: δ[CDCl3] 2.67(m, 1H), 3.30(s, 3H), 3.98(s, 3H), 4.90(d, 2H),
7.69(d, 1H), 7.93(d, 1H)
ルホニルベンゾエート 4.18g(30.2ミリモル)の炭酸カリウムおよび3.56g(30.2ミリ
モル)の3−ブロモプロピンを50mlのN,N−ジメチルホルムアミドに溶解し
た。4.00g(15.1モル)のメチル2−クロロ−3−ヒドロキシ−4−メチ
ルスルホニルベンゾエートを室温で加え、混合物を70℃で5時間加熱した。次
に、それを水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。合一した有機相を水で洗浄
し、Na2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させてメチル2−
クロロ−3−(プロパルギル−3−オキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエー
トを褐色の油状物として得た。 収量:4.39g(理論値の96%);Rf(酢酸エチル)0.88 IH NMR: δ[CDCl3] 2.67(m, 1H), 3.30(s, 3H), 3.98(s, 3H), 4.90(d, 2H),
7.69(d, 1H), 7.93(d, 1H)
【0079】
工程3:メチル2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メ
トキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエート 4.39g(14.5ミリモル)のメチル2−クロロ−3−(プロパルギル−3
−オキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートおよび4.22g(34.8ミリ
モル)のベンズアルデヒドオキシムを45mlの塩化メチレンに入れた。20.4
3g(35.7ミリモル)の次亜塩素酸ナトリウム溶液(13%濃度)をゆっく
りと滴加した。反応混合物を室温で5時間攪拌した。次に、それをCH2Cl2/
H2Oで抽出した。合一した有機相をH2Oで洗浄し、Na2SO4上で乾燥し、回
転エバポレーターで完全に蒸発させた。粗生成物をヘプタン/酢酸エチル(6:
4)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して融点134〜140℃
のメチル2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキシ
)−4−メチルスルホニルベンゾエートを黄色の固体として得た。 収量:2.76g(理論値の45%);Rf(酢酸エチル):0.86 IH NMR: δ[CDCl3] 3.26(s, 3H), 4.00(s, 3H), 5.40(s, 2H), 6.85(s, 1H),
7.48(m, 3H), 7.74(d, 1H), 7.85(m, 2H), 7.98(d, 1H)
トキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエート 4.39g(14.5ミリモル)のメチル2−クロロ−3−(プロパルギル−3
−オキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートおよび4.22g(34.8ミリ
モル)のベンズアルデヒドオキシムを45mlの塩化メチレンに入れた。20.4
3g(35.7ミリモル)の次亜塩素酸ナトリウム溶液(13%濃度)をゆっく
りと滴加した。反応混合物を室温で5時間攪拌した。次に、それをCH2Cl2/
H2Oで抽出した。合一した有機相をH2Oで洗浄し、Na2SO4上で乾燥し、回
転エバポレーターで完全に蒸発させた。粗生成物をヘプタン/酢酸エチル(6:
4)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して融点134〜140℃
のメチル2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキシ
)−4−メチルスルホニルベンゾエートを黄色の固体として得た。 収量:2.76g(理論値の45%);Rf(酢酸エチル):0.86 IH NMR: δ[CDCl3] 3.26(s, 3H), 4.00(s, 3H), 5.40(s, 2H), 6.85(s, 1H),
7.48(m, 3H), 7.74(d, 1H), 7.85(m, 2H), 7.98(d, 1H)
【0080】
工程4:2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イルメトキシ)
−4−メチルスルホニル安息香酸 2.71g(6.4ミリモル)のメチル2−クロロ−3−(3−フェニルイソキ
サゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートを20ml
のテトラヒドロフランおよび20mlの水の混合物に溶解し、0.28g(7.10
ミリモル)の水酸化ナトリウムを加えた。混合物を室温で12時間攪拌し、回転
エバポレーターで完全に蒸発させた。残留物を水に取り、混合物を6N HCl
で処理し、その間に沈殿した2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−
5−イルメトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸を吸引ろ過し、乾燥して1
88〜193℃の融点を有する無色の固体として得た。 収量:2.51g(理論値の96%);Rf(酢酸エチル):0.03 IH NMR: δ[d6-DMSO] 3.36(s, 3H), 5.33(s, 2H), 7.29(s, 1H), 7.16(d, 1H)
, 7.53(m, 3H), 7.74(d, 1H), 7.90(m, 4H)
−4−メチルスルホニル安息香酸 2.71g(6.4ミリモル)のメチル2−クロロ−3−(3−フェニルイソキ
サゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートを20ml
のテトラヒドロフランおよび20mlの水の混合物に溶解し、0.28g(7.10
ミリモル)の水酸化ナトリウムを加えた。混合物を室温で12時間攪拌し、回転
エバポレーターで完全に蒸発させた。残留物を水に取り、混合物を6N HCl
で処理し、その間に沈殿した2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−
5−イルメトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸を吸引ろ過し、乾燥して1
88〜193℃の融点を有する無色の固体として得た。 収量:2.51g(理論値の96%);Rf(酢酸エチル):0.03 IH NMR: δ[d6-DMSO] 3.36(s, 3H), 5.33(s, 2H), 7.29(s, 1H), 7.16(d, 1H)
, 7.53(m, 3H), 7.74(d, 1H), 7.90(m, 4H)
【0081】
工程5:3−オキソ−1−シクロヘキセニル2−クロロ−3−((3−フェニル
イソキサゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエート 0.80g(2.00ミリモル)の2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾ
ール−5−イルメトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸、0.24g(2.2
0ミリモル)のシクロヘキサン−1,3−ジオン、0.42g(2.20ミリモル
)のN′−(3−ジメチルアミノプロピル)−N−エチルカルボジイミド塩酸塩
および0.002gのジメチルアミノピリジンを10mlのCH2Cl2中、室温で
10時間攪拌した。次に、混合物をCH2Cl2で希釈し、0.5N HCl、水、
飽和NaHCO3溶液、そして再び水で洗浄した。合一した有機相をNa2SO4
上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた後、3−オキソ−1−シク
ロヘキセニル2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メ
トキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートを褐色の樹脂として得た。 収量:0.86g(理論値の60%);Rf(酢酸エチル):0.87 IH NMR: δ[CDCl3] 2.17(m, 2H), 2.49(m, 2H), 2.69(m, 2H), 3.28(s, 3H),
5.43(s, 2H), 6.08(m, 1H), 6.84(s, 1H), 7.16(d, 1H), 7.47(m, 3H), 7.82(m,
5H), 8.05(d, 1H)
イソキサゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエート 0.80g(2.00ミリモル)の2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾ
ール−5−イルメトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸、0.24g(2.2
0ミリモル)のシクロヘキサン−1,3−ジオン、0.42g(2.20ミリモル
)のN′−(3−ジメチルアミノプロピル)−N−エチルカルボジイミド塩酸塩
および0.002gのジメチルアミノピリジンを10mlのCH2Cl2中、室温で
10時間攪拌した。次に、混合物をCH2Cl2で希釈し、0.5N HCl、水、
飽和NaHCO3溶液、そして再び水で洗浄した。合一した有機相をNa2SO4
上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた後、3−オキソ−1−シク
ロヘキセニル2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メ
トキシ)−4−メチルスルホニルベンゾエートを褐色の樹脂として得た。 収量:0.86g(理論値の60%);Rf(酢酸エチル):0.87 IH NMR: δ[CDCl3] 2.17(m, 2H), 2.49(m, 2H), 2.69(m, 2H), 3.28(s, 3H),
5.43(s, 2H), 6.08(m, 1H), 6.84(s, 1H), 7.16(d, 1H), 7.47(m, 3H), 7.82(m,
5H), 8.05(d, 1H)
【0082】
工程6:2−(2−クロロ−3−(3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メ
トキシ−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオン 0.50g(1.00ミリモル)の3−オキソ−1−シクロヘキセニル2−クロ
ロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチル
スルホニルベンゾエートを10mlのアセトニトリルに溶解した。3滴のアセトン
シアノヒドリンおよび0.18g(1.70ミリモル)のトリエチルアミンを加え
た。混合物を室温で2時間攪拌し、0.027g(0.4ミリモル)のシアン化カ
リウムを加えた。さらに室温で10時間後、混合物を完全に蒸発させ、残留物を
水に取り、6N塩酸で処理した。次に、混合物を塩化メチレンで抽出した。合一
した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させて融
点72〜78℃の(2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イ
ル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−
ジオンを褐色の固体として得た。 収量:0.39g(理論値の55%);Rf(酢酸エチル):0.24 IH NMR: δ[CDCl3] 2.08(m, 2H), 2.58(m, 2H), 2.83(m, 2H), 3.26(s, 3H),
5.38(s, 2H), 6.83(s, 1H), 7.16(d, 1H), 7.46(m, 3H), 7.82(m, 2H), 7.97(d,
1H)
トキシ−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオン 0.50g(1.00ミリモル)の3−オキソ−1−シクロヘキセニル2−クロ
ロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチル
スルホニルベンゾエートを10mlのアセトニトリルに溶解した。3滴のアセトン
シアノヒドリンおよび0.18g(1.70ミリモル)のトリエチルアミンを加え
た。混合物を室温で2時間攪拌し、0.027g(0.4ミリモル)のシアン化カ
リウムを加えた。さらに室温で10時間後、混合物を完全に蒸発させ、残留物を
水に取り、6N塩酸で処理した。次に、混合物を塩化メチレンで抽出した。合一
した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させて融
点72〜78℃の(2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イ
ル)メトキシ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−
ジオンを褐色の固体として得た。 収量:0.39g(理論値の55%);Rf(酢酸エチル):0.24 IH NMR: δ[CDCl3] 2.08(m, 2H), 2.58(m, 2H), 2.83(m, 2H), 3.26(s, 3H),
5.38(s, 2H), 6.83(s, 1H), 7.16(d, 1H), 7.46(m, 3H), 7.82(m, 2H), 7.97(d,
1H)
【0083】
2.2−(2,4−ジブロモ−3−(3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)
メトキシ)−シクロヘキサン−1,3−ジオンの製造 工程1:メチル2,4−ジブロモ−3−(プロパルギル−3−オキシ)ベンゾエ
ート 14.72g(10.65ミリモル)の炭酸カリウムおよび12.95g(10.
70ミリモル)の3−ブロモプロペンを300mlのN,N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解した。17.00g(5.25モル)のエチル2,4−ジブロモ−3−ヒ
ドロキシベンゾエートを室温で加え、混合物を70℃で5時間加熱した。次に、
それを水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。合一した有機相を水で洗浄し、
Na2SO4上で乾燥し、完全に蒸発させてメチル2,4−ジブロモ−3−(プロ
パルギル−3−オキシ)ベンゾエートを黄色の油状物として得た。 収量:16.58g(理論値の86%);Rf(酢酸エチル):0.93 IH NMR: δ[CDCl3] 1.20(t, 3H), 4.41(q, 2H), 4.53(dd, 2H), 5.38(dd, 1H)
, 5.46(dd, 1H), 6.19(m, 1H), 7.34(d, 1H), 7.53(d, 1H)
メトキシ)−シクロヘキサン−1,3−ジオンの製造 工程1:メチル2,4−ジブロモ−3−(プロパルギル−3−オキシ)ベンゾエ
ート 14.72g(10.65ミリモル)の炭酸カリウムおよび12.95g(10.
70ミリモル)の3−ブロモプロペンを300mlのN,N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解した。17.00g(5.25モル)のエチル2,4−ジブロモ−3−ヒ
ドロキシベンゾエートを室温で加え、混合物を70℃で5時間加熱した。次に、
それを水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。合一した有機相を水で洗浄し、
Na2SO4上で乾燥し、完全に蒸発させてメチル2,4−ジブロモ−3−(プロ
パルギル−3−オキシ)ベンゾエートを黄色の油状物として得た。 収量:16.58g(理論値の86%);Rf(酢酸エチル):0.93 IH NMR: δ[CDCl3] 1.20(t, 3H), 4.41(q, 2H), 4.53(dd, 2H), 5.38(dd, 1H)
, 5.46(dd, 1H), 6.19(m, 1H), 7.34(d, 1H), 7.53(d, 1H)
【0084】
工程2:エチル2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル
)メトキシ)−4−ベンゾエート 4.00g(11.00ミリモル)のメチル2,4−ジブロモ−3−(プロパル
ギル−3−オキシ)ベンゾエートおよび1.60g(13.2ミリモル)のベンズ
アルデヒドオキシムを40mlの塩化メチレンに入れた。7.78g(13.50ミ
リモル)の次亜塩素酸ナトリウム溶液(13%濃度)をゆっくりと滴加した。混
合物を室温で10時間攪拌した。次に、混合物を塩化メチレン/水で抽出した。
合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、完全に蒸発させた。粗生成物をヘプタ
ン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して
エチル2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキ
シ)−4−ベンゾエートを無色の油状物として得た。 収量:4.21g(理論値の79%);Rf(酢酸エチル):0.91 IH NMR: δ[CDCl3] 1.20(t, 3H), 3.56(m, 2H), 3.67(m, 2H), 4.18(m, 2H),
4.38(q, 2H), 5.21(m, 1H), 7.20(d, 1H), 7.42(m, 3H), 7.56(d, 1H), 7.72(m,
2H)
)メトキシ)−4−ベンゾエート 4.00g(11.00ミリモル)のメチル2,4−ジブロモ−3−(プロパル
ギル−3−オキシ)ベンゾエートおよび1.60g(13.2ミリモル)のベンズ
アルデヒドオキシムを40mlの塩化メチレンに入れた。7.78g(13.50ミ
リモル)の次亜塩素酸ナトリウム溶液(13%濃度)をゆっくりと滴加した。混
合物を室温で10時間攪拌した。次に、混合物を塩化メチレン/水で抽出した。
合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、完全に蒸発させた。粗生成物をヘプタ
ン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して
エチル2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキ
シ)−4−ベンゾエートを無色の油状物として得た。 収量:4.21g(理論値の79%);Rf(酢酸エチル):0.91 IH NMR: δ[CDCl3] 1.20(t, 3H), 3.56(m, 2H), 3.67(m, 2H), 4.18(m, 2H),
4.38(q, 2H), 5.21(m, 1H), 7.20(d, 1H), 7.42(m, 3H), 7.56(d, 1H), 7.72(m,
2H)
【0085】
工程3:2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メト
キシ)−4−ベンゾエート 3.70g(7.70ミリモル)のエチル2,4−ジブロモ−((3−フェニル
イソキサゾリン−5−イル)メトキシ)−4−安息香酸を20mlのテトラヒドロ
フランおよび20mlの水の混合物に溶解し、0.34g(8.40ミリモル)の水
酸化ナトリウムで処理した。混合物を室温で12時間攪拌し、回転エバポレータ
ーで完全に蒸発させた。残留物を水に取り、6N HClで処理した。次に、混
合物を塩化メチレンで抽出した。合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転
エバポレーターで完全に蒸発させた。これにより融点162〜165℃の2,4
−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)−4−ベ
ンゾエートを得た。 収量:3.10g(理論値の88%);Rf(酢酸エチル):0.04 IH NMR: δ[d6-DMSO] 4.17(m, 2H), 5.13(m, 1H), 7.40(d, 1H), 7.43(m, 3H)
, 7.66(m, 2H), 7.73(d, 1H)
キシ)−4−ベンゾエート 3.70g(7.70ミリモル)のエチル2,4−ジブロモ−((3−フェニル
イソキサゾリン−5−イル)メトキシ)−4−安息香酸を20mlのテトラヒドロ
フランおよび20mlの水の混合物に溶解し、0.34g(8.40ミリモル)の水
酸化ナトリウムで処理した。混合物を室温で12時間攪拌し、回転エバポレータ
ーで完全に蒸発させた。残留物を水に取り、6N HClで処理した。次に、混
合物を塩化メチレンで抽出した。合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転
エバポレーターで完全に蒸発させた。これにより融点162〜165℃の2,4
−ジブロモ−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)−4−ベ
ンゾエートを得た。 収量:3.10g(理論値の88%);Rf(酢酸エチル):0.04 IH NMR: δ[d6-DMSO] 4.17(m, 2H), 5.13(m, 1H), 7.40(d, 1H), 7.43(m, 3H)
, 7.66(m, 2H), 7.73(d, 1H)
【0086】
工程4:3−オキソ−1−シクロヘキセニル2,4−ジブロモ−3−((3−フ
ェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)ベンゾエート 2.60g(5.70ミリモル)の2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキ
サゾリン−5−イル)メトキシ)−4−安息香酸、0.77g(6.90ミリモル
)のシクロヘキサン−1,3−ジオンおよび1.56g(15.40ミリモル)の
トリエチルアミンを50mlの塩化メチレン中、室温で15分間攪拌した。次に、
1.81g(6.90ミリモル)のヨウ化2−クロロ−N−メチルピリジニウムを
加え、混合物を室温で10時間攪拌した。反応混合物を水で洗浄し、Na2SO4 上で乾燥し、回転エバポレーターで濃縮した。粗生成物をヘプタン/酢酸エチル
でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して3−オキソ−1−シクロヘ
キセニル2,4−ジブロモ−3−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)
メトキシ)ベンゾエートを白色の固体として得た。 収量:1.15g(理論値の36%);Rf(酢酸エチル):0.82 IH NMR: δ[CDCl3] 2.13(m, 2H), 2.45(m, 2H), 2.68(m, 2H), 3.56(m, 2H),
3.69(m, 2H), 3.28(s, 3H), 4.20(m, 2H), 5.23(m, 1H), 6.05(s, 1H), 7.43(m,
3H), 7.49(d, 1H), 7.63(d, 1H), 7.72(m, 2H)
ェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)ベンゾエート 2.60g(5.70ミリモル)の2,4−ジブロモ−((3−フェニルイソキ
サゾリン−5−イル)メトキシ)−4−安息香酸、0.77g(6.90ミリモル
)のシクロヘキサン−1,3−ジオンおよび1.56g(15.40ミリモル)の
トリエチルアミンを50mlの塩化メチレン中、室温で15分間攪拌した。次に、
1.81g(6.90ミリモル)のヨウ化2−クロロ−N−メチルピリジニウムを
加え、混合物を室温で10時間攪拌した。反応混合物を水で洗浄し、Na2SO4 上で乾燥し、回転エバポレーターで濃縮した。粗生成物をヘプタン/酢酸エチル
でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理して3−オキソ−1−シクロヘ
キセニル2,4−ジブロモ−3−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)
メトキシ)ベンゾエートを白色の固体として得た。 収量:1.15g(理論値の36%);Rf(酢酸エチル):0.82 IH NMR: δ[CDCl3] 2.13(m, 2H), 2.45(m, 2H), 2.68(m, 2H), 3.56(m, 2H),
3.69(m, 2H), 3.28(s, 3H), 4.20(m, 2H), 5.23(m, 1H), 6.05(s, 1H), 7.43(m,
3H), 7.49(d, 1H), 7.63(d, 1H), 7.72(m, 2H)
【0087】
工程5:2−((2,4−ジブロモ−3−(3−フェニルイソキサゾリン−5−
イル)メトキシ)ベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオン 0.73g(1.30ミリモル)の3−オキソ−1−シクロヘキセニル2,4−
ジブロモ−3−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)ベンゾ
エートを20mlのアセトニトリルに溶解した。3滴のアセトンシアノヒドリンお
よび0.24g(2.30ミリモル)のトリエチルアミンを加えた。混合物を室温
で2時間攪拌し、0.036g(0.6ミリモル)のシアン化カリウムを加えた。
さらに室温で10時間後、混合物を完全に蒸発させ、残留物を水に取り、6N塩
酸で処理した。次に、混合物を塩化エチレンで抽出した。合一した有機相をNa 2 SO4上で乾燥し、完全に蒸発させた後、融点59〜65℃の2,4−ジブロモ
−3−(3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)シクロヘキサン−
1,3−ジオンを黄色の固体として得た。 収量:0.57g(理論値の71%);Rf(酢酸エチル):0.43 IH NMR: δ[CDCl3] 2.03(m, 2H), 2.42(m, 2H), 2.76(m, 2H), 3.58(m, 2H),
4.20(m, 2H), 5.19(m, 1H), 6.80(d, 1H), 7.42(m, 3H), 7.54(d, 1H), 7.69(m,
2H)
イル)メトキシ)ベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオン 0.73g(1.30ミリモル)の3−オキソ−1−シクロヘキセニル2,4−
ジブロモ−3−((3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)ベンゾ
エートを20mlのアセトニトリルに溶解した。3滴のアセトンシアノヒドリンお
よび0.24g(2.30ミリモル)のトリエチルアミンを加えた。混合物を室温
で2時間攪拌し、0.036g(0.6ミリモル)のシアン化カリウムを加えた。
さらに室温で10時間後、混合物を完全に蒸発させ、残留物を水に取り、6N塩
酸で処理した。次に、混合物を塩化エチレンで抽出した。合一した有機相をNa 2 SO4上で乾燥し、完全に蒸発させた後、融点59〜65℃の2,4−ジブロモ
−3−(3−フェニルイソキサゾリン−5−イル)メトキシ)シクロヘキサン−
1,3−ジオンを黄色の固体として得た。 収量:0.57g(理論値の71%);Rf(酢酸エチル):0.43 IH NMR: δ[CDCl3] 2.03(m, 2H), 2.42(m, 2H), 2.76(m, 2H), 3.58(m, 2H),
4.20(m, 2H), 5.19(m, 1H), 6.80(d, 1H), 7.42(m, 3H), 7.54(d, 1H), 7.69(m,
2H)
【0088】
3.4−(2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メト
キシ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロンの製
造 工程1:2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチルピラゾール−5−オンエ
ノールエステル 0.50g(1.20ミリモル)の2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサ
ゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸、0.15g(
1.30ミリモル)の1,3−ジメチルピラゾール−5−オン、0.26g(1.3
0ミリモル)のN′−(3−ジメチルアミノプロピル)−N−エチルカルボジイ
ミド塩酸塩および0.001gのジメチルアミノピリジンを10mlの塩化メチレ
ン中、室温で5時間攪拌した。次に、混合物を塩化メチレンで希釈し、0.5N
HCl、水、飽和NaHCO3溶液、そして再び水で洗浄した。合一した有機相
をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた後、粗生成物
をヘプタン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより
処理した。これにより2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−
イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチルピラゾール
−5−オンエノールエステルを褐色の樹脂として得た。 収量:0.12g(理論値の20%) IH NMR: δ[CDCl3] 2.27(s, 3H), 3.32(s, 3H), 3.74(s, 3H), 5.45(s, 2H),
6.15(s, 1H), 6.88(s, 1H), 7.28(m, 3H), 7.85(m, 2H), 7.93(d, 1H), 8.09(d,
1H) Rf(トルエン/THF=7:3):0.25
キシ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロンの製
造 工程1:2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチルピラゾール−5−オンエ
ノールエステル 0.50g(1.20ミリモル)の2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサ
ゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸、0.15g(
1.30ミリモル)の1,3−ジメチルピラゾール−5−オン、0.26g(1.3
0ミリモル)のN′−(3−ジメチルアミノプロピル)−N−エチルカルボジイ
ミド塩酸塩および0.001gのジメチルアミノピリジンを10mlの塩化メチレ
ン中、室温で5時間攪拌した。次に、混合物を塩化メチレンで希釈し、0.5N
HCl、水、飽和NaHCO3溶液、そして再び水で洗浄した。合一した有機相
をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで完全に蒸発させた後、粗生成物
をヘプタン/酢酸エチル(8:2)でシリカゲル上のクロマトグラフィーにより
処理した。これにより2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−
イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチルピラゾール
−5−オンエノールエステルを褐色の樹脂として得た。 収量:0.12g(理論値の20%) IH NMR: δ[CDCl3] 2.27(s, 3H), 3.32(s, 3H), 3.74(s, 3H), 5.45(s, 2H),
6.15(s, 1H), 6.88(s, 1H), 7.28(m, 3H), 7.85(m, 2H), 7.93(d, 1H), 8.09(d,
1H) Rf(トルエン/THF=7:3):0.25
【0089】
工程2:4−(2−クロロ−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メト
キシ)−4−メチル−スルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロン 0.12g(0.20ミリモル)の2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサ
ゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチ
ルピラゾール−5−オン エノールエステルを5mlのアセトニトリルに溶解した
。2滴のアセトンシアノヒドリンおよび0.04g(0.40ミリモル)のトリエ
チルアミンを加えた。混合物を室温で2時間攪拌し、0.007g(0.10ミリ
モル)のシアン化カリウムを加えた。さらに室温で10時間後、混合物を完全に
蒸発させ、残留物を水に取り、6N塩酸で処理した。次に、混合物を塩化メチレ
ンで抽出した。合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで
完全に蒸発させた後、生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理し
て4−(2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロンを淡褐
色の樹脂として得た。 収量:0.108g(理論値の90%) IH NMR: δ[CDCl3] 1.41(s, 3H), 3.28(s, 3H), 3.64(s, 3H), 5.43(s, 2H),
6.83(s, 1H), 7.35(s, 1H), 7.48(m, 3H), 7.85(m, 2H), 8.05(d, 1H) Rf(酢酸エチル):0.03
キシ)−4−メチル−スルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロン 0.12g(0.20ミリモル)の2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサ
ゾール−5−イル)メトキシ)−4−メチルスルホニル安息香酸1,3−ジメチ
ルピラゾール−5−オン エノールエステルを5mlのアセトニトリルに溶解した
。2滴のアセトンシアノヒドリンおよび0.04g(0.40ミリモル)のトリエ
チルアミンを加えた。混合物を室温で2時間攪拌し、0.007g(0.10ミリ
モル)のシアン化カリウムを加えた。さらに室温で10時間後、混合物を完全に
蒸発させ、残留物を水に取り、6N塩酸で処理した。次に、混合物を塩化メチレ
ンで抽出した。合一した有機相をNa2SO4上で乾燥し、回転エバポレーターで
完全に蒸発させた後、生成物をシリカゲル上のクロマトグラフィーにより処理し
て4−(2−クロロ−3−((3−フェニルイソキサゾール−5−イル)メトキ
シ)−4−メチルスルホニルベンゾイル)−1,3−ジメチルピラゾロンを淡褐
色の樹脂として得た。 収量:0.108g(理論値の90%) IH NMR: δ[CDCl3] 1.41(s, 3H), 3.28(s, 3H), 3.64(s, 3H), 5.43(s, 2H),
6.83(s, 1H), 7.35(s, 1H), 7.48(m, 3H), 7.85(m, 2H), 8.05(d, 1H) Rf(酢酸エチル):0.03
【0090】
次の表に示した化合物は上記の方法と同様にして製造され、または上記の方法
と同様にして得られる。 使用した略語は次の意味を有する: Et=エチル Me=メチル Ph=フェニル Pr=プロピル Py=ピリジル c=シクロ m.p.=融点 RT=室温
と同様にして得られる。 使用した略語は次の意味を有する: Et=エチル Me=メチル Ph=フェニル Pr=プロピル Py=ピリジル c=シクロ m.p.=融点 RT=室温
【0091】
【表1】
【0092】
【表2】
【0093】
【表3】
【0094】
【表4】
【0095】
【表5】
【0096】
【表6】
【0097】
【表7】
【0098】
【表8】
【0099】
【表9】
【0100】
【表10】
【0101】
【表11】
【0102】
【表12】
【0103】
【表13】
【0104】
【表14】
【0105】
【表15】
【0106】
【表16】
【0107】
【表17】
【0108】
【表18】
【0109】
【表19】
【0110】
【表20】
【0111】
【表21】
【0112】
【表22】
【0113】
【表23】
【0114】
【表24】
【0115】
【表25】
【0116】
【表26】
【0117】
【表27】
【0118】
【表28】
【0119】
【表29】
【0120】
【表30】
【0121】
【表31】
【0122】
【表32】
【0123】
【表33】
【0124】
【表34】
【0125】
【表35】
【0126】
【表36】
【0127】
【表37】
【0128】
【表38】
【0129】
【表39】
【0130】
【表40】
【0131】
【表41】
【0132】
【表42】
【0133】
【表43】
【0134】
【表44】
【0135】
【表45】
【0136】
B.製剤例
1.粉剤
粉剤は10重量部の式(I)の化合物および90重量部の不活性物質としての
タルクを混合し、その混合物をハンマーミルで微粉砕することにより得られる。 2.分散性粉末 水に容易に分散しうる湿潤性粉末は25重量部の式(I)の化合物、64重量
部の不活性物質としてのカオリン含有石英、10重量部のカリウムリグノスルホ
ネートおよび1重量部の湿潤剤および分散剤としてのナトリウムオレオイルメチ
ルタウリネートを混合し、その混合物をピン付きディスクミルで粉砕することに
より得られる。
タルクを混合し、その混合物をハンマーミルで微粉砕することにより得られる。 2.分散性粉末 水に容易に分散しうる湿潤性粉末は25重量部の式(I)の化合物、64重量
部の不活性物質としてのカオリン含有石英、10重量部のカリウムリグノスルホ
ネートおよび1重量部の湿潤剤および分散剤としてのナトリウムオレオイルメチ
ルタウリネートを混合し、その混合物をピン付きディスクミルで粉砕することに
より得られる。
【0137】
3.分散性濃縮物
水に容易に分散しうる分散性濃縮物は20重量部の式(I)の化合物、6重量
部のアルキルフェノールポリグリコールエーテル(トリトンX 207(登録商
標))、3重量部のイソトリデカノールポリグリコールエーテル(8 EO)お
よび71重量部のパラフィン系鉱油(沸点範囲:例えば約255〜277℃以上
)を混合し、その混合物をボールミルで5ミクロン未満の粉末度まで粉砕するこ
とにより得られる。
部のアルキルフェノールポリグリコールエーテル(トリトンX 207(登録商
標))、3重量部のイソトリデカノールポリグリコールエーテル(8 EO)お
よび71重量部のパラフィン系鉱油(沸点範囲:例えば約255〜277℃以上
)を混合し、その混合物をボールミルで5ミクロン未満の粉末度まで粉砕するこ
とにより得られる。
【0138】
4.乳化性濃縮物
乳化性濃縮物は15重量部の式(I)の化合物、75重量部の溶剤としてのシ
クロヘキサノンおよび10重量部の乳化剤としてのオキシエチル化ノニルフェノ
ールから得られる。 5.水−分散性顆粒剤 水−分散性顆粒剤は75重量部の式(I)の化合物、10重量部のカルシウム
リグノスルホネート、5重量部のラウリル硫酸ナトリウム、3重量部のポリビニ
ルアルコールおよび7重量部のカオリンを混合し、その混合物をピン付きディス
クミルで粉砕し、その粉末を流動層で造粒液としての水を噴霧して造粒すること
により得られる。
クロヘキサノンおよび10重量部の乳化剤としてのオキシエチル化ノニルフェノ
ールから得られる。 5.水−分散性顆粒剤 水−分散性顆粒剤は75重量部の式(I)の化合物、10重量部のカルシウム
リグノスルホネート、5重量部のラウリル硫酸ナトリウム、3重量部のポリビニ
ルアルコールおよび7重量部のカオリンを混合し、その混合物をピン付きディス
クミルで粉砕し、その粉末を流動層で造粒液としての水を噴霧して造粒すること
により得られる。
【0139】
水−分散性顆粒剤はまた、25重量部の式(I)の化合物、5重量部のナトリ
ウム2,2′−ジナフチルメタン−6,6′ジスルホネート、2重量部のナトリウ
ムオレオイルメチルタウリネート、1重量部のポリビニルアルコール、17重量
部の炭酸カルシウムおよび50重量部の水をコロイドミルで均質化および予備粉
砕し、次にその混合物をビードミルで粉砕し、得られた懸濁液を噴霧タワーで単
一物質ノズルにより微粒化および乾燥することにより得られる。
ウム2,2′−ジナフチルメタン−6,6′ジスルホネート、2重量部のナトリウ
ムオレオイルメチルタウリネート、1重量部のポリビニルアルコール、17重量
部の炭酸カルシウムおよび50重量部の水をコロイドミルで均質化および予備粉
砕し、次にその混合物をビードミルで粉砕し、得られた懸濁液を噴霧タワーで単
一物質ノズルにより微粒化および乾燥することにより得られる。
【0140】
C.生物学的試験
1.発芽前の雑草に対する効果
単子葉および双子葉の雑草植物の種子を厚紙のポットにおいて砂ローム土にま
き、土をかぶせた。次に、湿潤性粉末または乳濁濃縮物の形態で配合した本発明
の化合物を、水施用量が600〜800L/ha(換算)の水性懸濁液または乳濁
液として1ヘクタールあたり1kg以下(換算)の活性物質施用量で覆土の表面に
施用した。処理後、ポットを温室に入れ、雑草にとって良好な生長条件下に置い
た。3〜4週間の試験期間後、試験植物が発芽してから植物または発芽に関する
被害の目視評価を未処理の対照と比較して行なった。例えば実施例番号4.5お
よび4.44の化合物はアオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)に対して少な
くとも70%、またコハコベ(Stellaria media)に対して少なくとも60%の
作用を示した。
き、土をかぶせた。次に、湿潤性粉末または乳濁濃縮物の形態で配合した本発明
の化合物を、水施用量が600〜800L/ha(換算)の水性懸濁液または乳濁
液として1ヘクタールあたり1kg以下(換算)の活性物質施用量で覆土の表面に
施用した。処理後、ポットを温室に入れ、雑草にとって良好な生長条件下に置い
た。3〜4週間の試験期間後、試験植物が発芽してから植物または発芽に関する
被害の目視評価を未処理の対照と比較して行なった。例えば実施例番号4.5お
よび4.44の化合物はアオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)に対して少な
くとも70%、またコハコベ(Stellaria media)に対して少なくとも60%の
作用を示した。
【0141】
2.発芽後の雑草に対する効果
単子葉および双子葉の雑草植物の種子を厚紙のポットにおいて砂ローム土にま
き、土をかぶせ、温室に入れて良好な生長条件下で育てた。種をまいてから2〜
3週間後、試験植物を三つ葉の段階で処理した。湿潤性粉末または乳濁濃縮物と
して配合した本発明の化合物を600〜800L/ha(換算)の水施用量、1ヘ
クタールあたり1kg以下(換算)の活性物質施用量で植物の緑の部分に噴霧した
。試験植物を温室で最適な生長条件下に約3〜4週間置いてから、製剤の効果を
未処理の対照と比較して評価した。発芽後に使用した場合もまた、本発明の組成
物は広域スペクトルの経済的に重要な緑草および広葉雑草に対して良好な除草活
性を示した。例えば、実施例番号4.2および4.26の化合物はアオゲイトウに
対して少なくとも70%の活性を示した。実施例番号4.5、4.26および4.
44の化合物は、シロカラシ(Sinapis alba)およびコハコベ(Stellaria medi
a)に対して少なくとも80%の活性を示した。
き、土をかぶせ、温室に入れて良好な生長条件下で育てた。種をまいてから2〜
3週間後、試験植物を三つ葉の段階で処理した。湿潤性粉末または乳濁濃縮物と
して配合した本発明の化合物を600〜800L/ha(換算)の水施用量、1ヘ
クタールあたり1kg以下(換算)の活性物質施用量で植物の緑の部分に噴霧した
。試験植物を温室で最適な生長条件下に約3〜4週間置いてから、製剤の効果を
未処理の対照と比較して評価した。発芽後に使用した場合もまた、本発明の組成
物は広域スペクトルの経済的に重要な緑草および広葉雑草に対して良好な除草活
性を示した。例えば、実施例番号4.2および4.26の化合物はアオゲイトウに
対して少なくとも70%の活性を示した。実施例番号4.5、4.26および4.
44の化合物は、シロカラシ(Sinapis alba)およびコハコベ(Stellaria medi
a)に対して少なくとも80%の活性を示した。
【0142】
3.イネの有害植物に対する効果
イネの典型的な有害植物を温室に入れて水稲条件(水深:2〜3cm)下で育て
た。配合した本発明の化合物を用いて1ヘクタールあたり1kg以下(換算)の活
性物質施用量で処理した後、試験植物を温室で最適な生長条件下に置き、それを
全試験期間中ずっと維持した。施用してから約3週間後、これらを植物被害の目
視検査により未処理の対照と比較して評価した。本発明の化合物は有害植物に対
して非常に良好な除草作用を示した。例えば、実施例番号4.5、4.26および
4.44の化合物はヒメイヌビエ(Echinocloa crus-galli)に対して少なくとも
70%の活性を示した。
た。配合した本発明の化合物を用いて1ヘクタールあたり1kg以下(換算)の活
性物質施用量で処理した後、試験植物を温室で最適な生長条件下に置き、それを
全試験期間中ずっと維持した。施用してから約3週間後、これらを植物被害の目
視検査により未処理の対照と比較して評価した。本発明の化合物は有害植物に対
して非常に良好な除草作用を示した。例えば、実施例番号4.5、4.26および
4.44の化合物はヒメイヌビエ(Echinocloa crus-galli)に対して少なくとも
70%の活性を示した。
【0143】
4.作物の耐性
別の温室試験において、多数の作物および雑草の種子を砂ローム土にまき、土
をかぶせた。幾つかのポットは項目1で記載したように直ちに処理し、他のポッ
トは項目2で記載したように温室に入れて植物の本葉が2〜3枚出てから本発明
の式(I)の物質を様々な施用量で噴霧した。施用した植物を温室に入れたまま
で4〜5週間後、目視検査により本発明の化合物は一般に高い活性物質施用量で
使用しても、例えば発芽前および発芽後にダイズおよびサトウダイコンのような
双子葉作物に施用した場合、殆んどダメージを与えないことがわかった。さらに
、例えばオオムギ、コムギおよびイネのようなイネ科の作物に対して害を与えな
い物質もある。幾つかの式(I)の化合物は高い選択性を示すため、農作物にと
って望ましくない植物の生長を抑制するのに適している。
をかぶせた。幾つかのポットは項目1で記載したように直ちに処理し、他のポッ
トは項目2で記載したように温室に入れて植物の本葉が2〜3枚出てから本発明
の式(I)の物質を様々な施用量で噴霧した。施用した植物を温室に入れたまま
で4〜5週間後、目視検査により本発明の化合物は一般に高い活性物質施用量で
使用しても、例えば発芽前および発芽後にダイズおよびサトウダイコンのような
双子葉作物に施用した場合、殆んどダメージを与えないことがわかった。さらに
、例えばオオムギ、コムギおよびイネのようなイネ科の作物に対して害を与えな
い物質もある。幾つかの式(I)の化合物は高い選択性を示すため、農作物にと
って望ましくない植物の生長を抑制するのに適している。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年12月6日(2001.12.6)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【化1】
[式中、Qは2−位で結合する式(Q1)の基または4−位で結合する式(Q2
)の基
)の基
【化2】
であり、
XはOR3a、OCOR3a、(C1〜C6)アルキル、(C2〜C6)アルケニル(C2〜
C6)アルキニル、フェニルおよびフェニル−(C1〜C6)−アルキルからなる群よ
り選択されるw基により置換され、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘ
テロ原子により中断され、またはこのヘテロ原子が炭素鎖の末端の1つに接続し
、上記のアルキル、アルケニル、アルキニルおよびフェニル基は場合によりハロ
ゲン、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜
C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキ
シカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C 4 )−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシ
、ハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以上の基により
置換される直鎖状または分枝状の(C1〜C6)−アルキレン、(C2〜C6)−アルケ
ニレンまたは(C2〜C6)−アルキニレン鎖であり; Hetは環原子として少なくとも1個の窒素原子および場合により窒素、酸素
および硫黄からなる群より選択される1、2または3個のヘテロ原子をさらに含
有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり; R1およびR2は互いに独立して水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シアノ
、チオシアナト、(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜C6)
−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C 6 )−アルキニル、OS(O)nR10、(C1〜C6)−アルキル−A、(C2〜C6)−ア
ルケニル−A、(C2〜C6)−アルキニル−A、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜
C6)−アルキル−Aであり、あるいはそれぞれシアノおよびニトロからなる群よ
り選択されるm基およびハロゲン基より選択されるw基により置換される(C2〜
C6)−アルケニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキ
ニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルキル−(A
)p、(C3〜C9)−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9 )−シクロアルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルキ
ル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シク
ロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルケニル
−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シク
ロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロア
ルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルケニル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロア
ルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(C1
〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3−C6)−シクロアルケニル−(C 1 〜C6)−アルキル−(A)p、OR10、OCOR10、S(O)nR10、SO2N(R10) 2 、NR10SO2R10またはNR10COR10であり; R3は水素、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ
、ホルミルであり、あるいはそれぞれシアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−
アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオ
キシ、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−ハロアルケニル、(C2〜C4)−
ハロアルキニル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ
、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より
選択されるm基により置換される(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジ
アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハ
ロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシまたはハロ−(C1〜C4)−アルコキシであ
り; R3aは水素、(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−
アルキニル、フェニル、フェニル−(C1〜C6)−アルキルであり、最後に挙げた
5個の基は非芳香族部分がヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シア
ノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキル
アミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)
−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシ
からなる群より選択されるw基により置換可能であり; R4は直鎖状または分枝状の[C(R11)2]m−(A)p−[C(R11)2]m−R12であり
; Aは酸素または硫黄であり; R5はOR16、(C1〜C6)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C6)−アルキルチオ
、(C2〜C6)−アルケニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルチオ、(C2〜C 6 )−アルキニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルチオ、(C1〜C6)−アルキ
ルスルフィニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルフィニル、(C2〜C6)−アル
ケニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルフィニル、(C2〜C6)
−アルキニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルフィニル、(C1 〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、(C2〜
C6)−アルケニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルホニル、(C2 〜C6)−アルキニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルホニル、シ
アノ、シアナト、チオシアナトまたはハロゲンであり; R6は水素、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン−4−イル
、テトラヒドロチオピラン−3−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1 〜C6)−アルキルチオおよび(C1〜C6)−アルコキシからなる群より選択される
w基により置換される(C1〜C6)−アルキル、(C3〜C6)−シクロアルキル、(
C1〜C6)−アルコキシ、(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)−アル
コキシ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C 6 )−アルキルチオまたはフェニルであり、あるいは共有の炭素原子に結合した2
個のR6基は場合により1〜4個のメチル基により置換されるOCH2CH2O、
OCH2CH2CH2O、SCH2CH2SおよびSCH2CH2CH2Sからなる群よ
り選択される炭素鎖を形成し; R7は水素、(C1〜C6)−アルキルまたは(C1〜C6)−ハロアルキルであり; R8は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルであり、または場
合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)
−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシから
なる群より選択される1個以上の基により置換されるフェニルであり; R9は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6 )−アルキルカルボニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)
−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)
−アルキルスルホニルであり、あるいはそれぞれ場合によりハロゲン、ニトロ、
シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−ア
ルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以
上の基により置換されるベンゾイル、ベンゾイルメチル、フェノキシカルボニル
またはフェニルスルホニルであり; R10は水素であり、あるいはそれぞれヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、
アミノ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)
−アルキルチオ、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシイ
ミノ、(C1〜C4)−アルコキシチオカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニ
ル−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C4)−アルキルチオカルボニル、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノカルボニル、
(C1〜C4)−アルキルイミノオキシ、(C1〜C4)−アルコキシアミノ、(C1〜C 4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシ−(C2〜C6)−アルコキシカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル
オキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシお
よびヘテロアリールオキシからなる群より選択されるw基により置換される(C1 〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、(
C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、フェニルまたはフェニル−(
C1〜C6)−アルキルであり; R11は水素、(C1〜C4)−アルキルまたはハロゲンであり; R12はそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−アルキル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)−
アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオおよ
びR13からなる群より選択されるw基により置換されるシクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、または酸素、窒素および硫黄からなる群より選択され
る1〜4個のヘテロ原子を含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり
、あるいは式(Va)〜(Vt):
C6)アルキニル、フェニルおよびフェニル−(C1〜C6)−アルキルからなる群よ
り選択されるw基により置換され、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘ
テロ原子により中断され、またはこのヘテロ原子が炭素鎖の末端の1つに接続し
、上記のアルキル、アルケニル、アルキニルおよびフェニル基は場合によりハロ
ゲン、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜
C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキ
シカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C 4 )−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシ
、ハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以上の基により
置換される直鎖状または分枝状の(C1〜C6)−アルキレン、(C2〜C6)−アルケ
ニレンまたは(C2〜C6)−アルキニレン鎖であり; Hetは環原子として少なくとも1個の窒素原子および場合により窒素、酸素
および硫黄からなる群より選択される1、2または3個のヘテロ原子をさらに含
有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり; R1およびR2は互いに独立して水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シアノ
、チオシアナト、(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜C6)
−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C 6 )−アルキニル、OS(O)nR10、(C1〜C6)−アルキル−A、(C2〜C6)−ア
ルケニル−A、(C2〜C6)−アルキニル−A、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜
C6)−アルキル−Aであり、あるいはそれぞれシアノおよびニトロからなる群よ
り選択されるm基およびハロゲン基より選択されるw基により置換される(C2〜
C6)−アルケニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキ
ニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルキル−(A
)p、(C3〜C9)−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9 )−シクロアルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルキ
ル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シク
ロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルケニル
−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シク
ロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロア
ルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルケニル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロア
ルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(C1
〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3−C6)−シクロアルケニル−(C 1 〜C6)−アルキル−(A)p、OR10、OCOR10、S(O)nR10、SO2N(R10) 2 、NR10SO2R10またはNR10COR10であり; R3は水素、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ
、ホルミルであり、あるいはそれぞれシアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−
アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオ
キシ、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−ハロアルケニル、(C2〜C4)−
ハロアルキニル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ
、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より
選択されるm基により置換される(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジ
アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハ
ロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシまたはハロ−(C1〜C4)−アルコキシであ
り; R3aは水素、(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−
アルキニル、フェニル、フェニル−(C1〜C6)−アルキルであり、最後に挙げた
5個の基は非芳香族部分がヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シア
ノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキル
アミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)
−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシ
からなる群より選択されるw基により置換可能であり; R4は直鎖状または分枝状の[C(R11)2]m−(A)p−[C(R11)2]m−R12であり
; Aは酸素または硫黄であり; R5はOR16、(C1〜C6)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C6)−アルキルチオ
、(C2〜C6)−アルケニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルチオ、(C2〜C 6 )−アルキニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルチオ、(C1〜C6)−アルキ
ルスルフィニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルフィニル、(C2〜C6)−アル
ケニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルフィニル、(C2〜C6)
−アルキニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルフィニル、(C1 〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、(C2〜
C6)−アルケニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルホニル、(C2 〜C6)−アルキニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルホニル、シ
アノ、シアナト、チオシアナトまたはハロゲンであり; R6は水素、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン−4−イル
、テトラヒドロチオピラン−3−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1 〜C6)−アルキルチオおよび(C1〜C6)−アルコキシからなる群より選択される
w基により置換される(C1〜C6)−アルキル、(C3〜C6)−シクロアルキル、(
C1〜C6)−アルコキシ、(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)−アル
コキシ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C 6 )−アルキルチオまたはフェニルであり、あるいは共有の炭素原子に結合した2
個のR6基は場合により1〜4個のメチル基により置換されるOCH2CH2O、
OCH2CH2CH2O、SCH2CH2SおよびSCH2CH2CH2Sからなる群よ
り選択される炭素鎖を形成し; R7は水素、(C1〜C6)−アルキルまたは(C1〜C6)−ハロアルキルであり; R8は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルであり、または場
合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)
−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシから
なる群より選択される1個以上の基により置換されるフェニルであり; R9は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6 )−アルキルカルボニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)
−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)
−アルキルスルホニルであり、あるいはそれぞれ場合によりハロゲン、ニトロ、
シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−ア
ルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以
上の基により置換されるベンゾイル、ベンゾイルメチル、フェノキシカルボニル
またはフェニルスルホニルであり; R10は水素であり、あるいはそれぞれヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、
アミノ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)
−アルキルチオ、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシイ
ミノ、(C1〜C4)−アルコキシチオカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニ
ル−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C4)−アルキルチオカルボニル、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノカルボニル、
(C1〜C4)−アルキルイミノオキシ、(C1〜C4)−アルコキシアミノ、(C1〜C 4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシ−(C2〜C6)−アルコキシカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル
オキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシお
よびヘテロアリールオキシからなる群より選択されるw基により置換される(C1 〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、(
C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、フェニルまたはフェニル−(
C1〜C6)−アルキルであり; R11は水素、(C1〜C4)−アルキルまたはハロゲンであり; R12はそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−アルキル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)−
アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオおよ
びR13からなる群より選択されるw基により置換されるシクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、または酸素、窒素および硫黄からなる群より選択され
る1〜4個のヘテロ原子を含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり
、あるいは式(Va)〜(Vt):
【化3】
の基であり;
R13は[(C1〜C4)−アルキレン−O−(C1〜C4)−アルキレン]O−O−(C1
〜C4)−アルキルであり、あるいはそれぞれハロゲン原子wにより置換される(
C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニルまたは(C2〜C4)−アルキニル
であり; R14は水素、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C2〜C4)−
アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、アリール
、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロ−
(C1〜C4)−アルキルであり; R15は水素、テトラヒドロフラン−2−イル、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜
C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、ア
リール、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、
ハロ−(C1〜C4)−アルキルであり、あるいはR14およびR15は1個の原子また
は2個の隣接する原子に結合する場合、それらと結合する原子と一緒になって場
合により酸素、窒素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子をさらに含
有する飽和の、または部分的または完全に不飽和の5〜6員環を形成し; R16は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C 6 )−アルコキシ(C1〜C6)−アルキル、ホルミル、(C1〜C6)−アルキルカルボ
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル化合物(但し、Hetが4−イソキサゾリルである場合、R4はシ
クロプロピルおよびフェニルからなる群より選択される化合物を除く)またはそ
の農業的に有用な塩。
C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニルまたは(C2〜C4)−アルキニル
であり; R14は水素、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C2〜C4)−
アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、アリール
、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロ−
(C1〜C4)−アルキルであり; R15は水素、テトラヒドロフラン−2−イル、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜
C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、ア
リール、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、
ハロ−(C1〜C4)−アルキルであり、あるいはR14およびR15は1個の原子また
は2個の隣接する原子に結合する場合、それらと結合する原子と一緒になって場
合により酸素、窒素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子をさらに含
有する飽和の、または部分的または完全に不飽和の5〜6員環を形成し; R16は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C 6 )−アルコキシ(C1〜C6)−アルキル、ホルミル、(C1〜C6)−アルキルカルボ
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル化合物(但し、Hetが4−イソキサゾリルである場合、R4はシ
クロプロピルおよびフェニルからなる群より選択される化合物を除く)またはそ
の農業的に有用な塩。
【化4】
のシクロヘキサン−1,3−ジオン環であり;
R17、R18、R20およびR22は互いに独立して水素または(C1〜C4)−アル
キルであり; R19は水素、場合により1〜3個の(C1〜C4)−アルキル基により置換される
テトラヒドロピラン−2−イル、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロ
ピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、テトラヒドロチオピラ
ン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イル、1,3−ジオキソラン−2
−イル、1,3−ジオキサン−2−イル、1,3−オキサチオラン−2−イル、1
,3−オキサチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2−イルまたは1,3−ジ
チアン−2−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1〜C4)−アルキルチ
オおよび(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択されるw基により置換され
る(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C3)−シクロアルキルであり; R21は水素、(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C6)−アルコキシカルボニル
であり、あるいは R19およびR22は結合または3〜6員環を形成し、あるいは R19およびR20はそれらと結合する炭素原子と一緒になってカルボニル基を形
成する請求項8記載のベンゾイル化合物。
キルであり; R19は水素、場合により1〜3個の(C1〜C4)−アルキル基により置換される
テトラヒドロピラン−2−イル、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロ
ピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、テトラヒドロチオピラ
ン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イル、1,3−ジオキソラン−2
−イル、1,3−ジオキサン−2−イル、1,3−オキサチオラン−2−イル、1
,3−オキサチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2−イルまたは1,3−ジ
チアン−2−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1〜C4)−アルキルチ
オおよび(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択されるw基により置換され
る(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C3)−シクロアルキルであり; R21は水素、(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C6)−アルコキシカルボニル
であり、あるいは R19およびR22は結合または3〜6員環を形成し、あるいは R19およびR20はそれらと結合する炭素原子と一緒になってカルボニル基を形
成する請求項8記載のベンゾイル化合物。
【化5】
請求項1〜9の何れかの項記載の式(I)(式中、QはQ1であり、R5はヒド
ロキシルである)のベンゾイル化合物の製造法。
ロキシルである)のベンゾイル化合物の製造法。
【化6】
請求項1〜7の何れかの項記載の式(I)(式中、QはQ2であり、R9は水素
である)のベンゾイル化合物の製造法。
である)のベンゾイル化合物の製造法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0010】
R16は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C 6
)−アルコキシ(C1〜C6)−アルキル、ホルミル、(C1〜C6)−アルキルカルボ
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル誘導体(但し、Hetが4−イソキサゾリルである場合、R4はシ
クロプロピルおよびフェニルからなる群より選択される化合物を除く)およびそ
れらの農業的に有用な塩に関する。
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル誘導体(但し、Hetが4−イソキサゾリルである場合、R4はシ
クロプロピルおよびフェニルからなる群より選択される化合物を除く)およびそ
れらの農業的に有用な塩に関する。
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(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
A01N 43/80 101 A01N 43/80 101
43/824 43/84 101
43/836 C07D 261/04
43/84 101 261/08
C07D 261/04 263/32
261/08 263/56
263/32 271/06
263/56 271/10
271/06 277/24
271/10 277/64
277/24 401/12
277/64 413/04
401/12 413/06
413/04 413/12
413/06 417/12
413/12 A01N 43/82 101A
417/12 104
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ
,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML,
MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K
E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG
,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,
RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AU,
AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,CA,C
N,CR,CU,CZ,DM,DZ,EE,GD,GE
,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KG,
KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LT,LV,M
A,MD,MG,MK,MN,MX,NO,NZ,PL
,RO,RU,SG,SI,SK,TJ,TM,TR,
TT,UA,UZ,VN,YU,ZA
(72)発明者 トーマス・アウラー
ドイツ連邦共和国65812バートゾーデン.
ボナーシュトラーセ15
(72)発明者 ヘルマン・ビーリンガー
ドイツ連邦共和国65817エプシュタイン.
アイヒェンヴェーク26
(72)発明者 フェリックス・チューアヴェヒター
ドイツ連邦共和国61348バートホムブルク.
カイザー−フリードリヒ−プロメナーデ21
Fターム(参考) 4C031 BA05
4C033 AD03 AD16 AD17
4C056 AA01 AB01 AB02 AC01 AC05
AC07 AD01 AE02 AE03 FA07
FA08 FA14 FB01 FC01
4C063 AA01 AA03 BB02 BB03 BB09
CC51 CC52 CC58 CC62 CC73
CC75 DD04 DD12 DD14 DD22
DD25 DD31 DD92 EE03
4H011 AB01 AB02 BA01 BB10 BC07
BC18 BC19 BC20 DA02 DA15
DA16 DD01 DD04 DH02 DH03
DH10
Claims (18)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 [式中、Qは2−位で結合する式(Q1)の基または4−位で結合する式(Q2
)の基 【化2】 であり、 XはOR3a、OCOR3a、(C1〜C6)アルキル、(C2〜C6)アルケニル(C2〜
C6)アルキニル、フェニルおよびフェニル−(C1〜C6)−アルキルからなる群よ
り選択されるw基により置換され、酸素および硫黄からなる群より選択されるヘ
テロ原子により中断され、またはこのヘテロ原子が炭素鎖の末端の1つに接続し
、上記のアルキル、アルケニル、アルキニルおよびフェニル基は場合によりハロ
ゲン、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜
C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキ
シカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C 4 )−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシ
、ハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以上の基により
置換される直鎖状または分枝状の(C1〜C6)−アルキレン、(C2〜C6)−アルケ
ニレンまたは(C2〜C6)−アルキニレン鎖であり; Hetは環原子として少なくとも1個の窒素原子および場合により窒素、酸素
および硫黄からなる群より選択される1、2または3個のヘテロ原子をさらに含
有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり; R1およびR2は互いに独立して水素、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、シアノ
、チオシアナト、(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜C6)
−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C 6 )−アルキニル、OS(O)nR10、(C1〜C6)−アルキル−A、(C2〜C6)−ア
ルケニル−A、(C2〜C6)−アルキニル−A、(C1〜C6)−アルコキシ−(C1〜
C6)−アルキル−Aであり、あるいはそれぞれシアノおよびニトロからなる群よ
り選択されるm基およびハロゲン基より選択されるw基により置換される(C2〜
C6)−アルケニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキ
ニルオキシ−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C3〜C9)−シクロアルキル−(A
)p、(C3〜C9)−シクロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9 )−シクロアルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルキ
ル−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シク
ロアルケニル−(A)p、(C1〜C6)−アルキル−(C3〜C9)−シクロアルケニル
−(C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シク
ロアルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロア
ルケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルケニル−(C3〜C9)−シクロアルケニル−(
C1〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロア
ルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアルキル−(C1
〜C6)−アルキル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3〜C9)−シクロアル
ケニル−(A)p、(C2〜C6)−アルキニル−(C3−C6)−シクロアルケニル−(C 1 〜C6)−アルキル−(A)p、OR10、OCOR10、S(O)nR10、SO2N(R10) 2 、NR10SO2R10またはNR10COR10であり; R3は水素、ヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シアノ、ニトロ
、ホルミルであり、あるいはそれぞれシアノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−
アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカル
ボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオ
キシ、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニ
ル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−ハロアルケニル、(C2〜C4)−
ハロアルキニル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオ
、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より
選択されるm基により置換される(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジ
アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニルオキシ、(C1〜C4)−アルキル、ハ
ロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシまたはハロ−(C1〜C4)−アルコキシであ
り; R3aは水素、(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−
アルキニル、フェニル、フェニル−(C1〜C6)−アルキルであり、最後に挙げた
5個の基は非芳香族部分がヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、アミノ、シア
ノ、ニトロ、ホルミル、(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−ジアルキル
アミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)
−アルキルチオ、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシ
からなる群より選択されるw基により置換可能であり; R4は直鎖状または分枝状の[C(R11)2]m−(A)p−[C(R11)2]m−R12であり
; Aは酸素または硫黄であり; R5はOR16、(C1〜C6)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C6)−アルキルチオ
、(C2〜C6)−アルケニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルチオ、(C2〜C 6 )−アルキニルチオ、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルチオ、(C1〜C6)−アルキ
ルスルフィニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルフィニル、(C2〜C6)−アル
ケニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルフィニル、(C2〜C6)
−アルキニルスルフィニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルフィニル、(C1 〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、(C2〜
C6)−アルケニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルケニルスルホニル、(C2 〜C6)−アルキニルスルホニル、ハロ−(C2〜C6)−アルキニルスルホニル、シ
アノ、シアナト、チオシアナトまたはハロゲンであり; R6は水素、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロピラン−4−イル
、テトラヒドロチオピラン−3−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1 〜C6)−アルキルチオおよび(C1〜C6)−アルコキシからなる群より選択される
w基により置換される(C1〜C6)−アルキル、(C3〜C6)−シクロアルキル、(
C1〜C6)−アルコキシ、(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)−アル
コキシ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C 6 )−アルキルチオまたはフェニルであり、あるいは共有の炭素原子に結合した2
個のR6基は場合により1〜4個のメチル基により置換されるOCH2CH2O、
OCH2CH2CH2O、SCH2CH2SおよびSCH2CH2CH2Sからなる群よ
り選択される炭素鎖を形成し; R7は水素、(C1〜C6)−アルキルまたは(C1〜C6)−ハロアルキルであり; R8は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルであり、または場
合によりハロゲン、ニトロ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)
−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシから
なる群より選択される1個以上の基により置換されるフェニルであり; R9は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6 )−アルキルカルボニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルカルボニル、(C1〜C6)
−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ハロ−(C1〜C6)
−アルキルスルホニルであり、あるいはそれぞれ場合によりハロゲン、ニトロ、
シアノ、(C1〜C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−ア
ルコキシおよびハロ−(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択される1個以
上の基により置換されるベンゾイル、ベンゾイルメチル、フェノキシカルボニル
またはフェニルスルホニルであり; R10は水素であり、あるいはそれぞれヒドロキシル、ハロゲン、メルカプト、
アミノ、シアノ、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)
−アルキルチオ、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシイ
ミノ、(C1〜C4)−アルコキシチオカルボニル、(C1〜C4)−アルキルカルボニ
ル−(C1〜C4)−アルキルアミノ、(C1〜C4)−アルコキシカルボニル、(C1〜
C4)−アルキルチオカルボニル、ジ−(C1〜C4)−アルキルアミノカルボニル、
(C1〜C4)−アルキルイミノオキシ、(C1〜C4)−アルコキシアミノ、(C1〜C 4 )−アルキルカルボニル、(C1〜C4)−アルコキシ−(C2〜C6)−アルコキシカ
ルボニル、(C1〜C4)−アルキルスルホニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリル
オキシ、フェニル、ベンジル、ヘテロアリール、フェノキシ、ベンジルオキシお
よびヘテロアリールオキシからなる群より選択されるw基により置換される(C1 〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、(
C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、フェニルまたはフェニル−(
C1〜C6)−アルキルであり; R11は水素、(C1〜C4)−アルキルまたはハロゲンであり; R12はそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜C4)−アルキル
、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C4)−
アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−アルキルチオおよ
びR13からなる群より選択されるw基により置換されるシクロアルキル、シクロ
アルケニル、アリール、または酸素、窒素および硫黄からなる群より選択される
1〜4個のヘテロ原子を含有するヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり、
あるいは式(Va)〜(Vt): 【化3】 の基であり; R13は[(C1〜C4)−アルキレン−O−(C1〜C4)−アルキレン]O−O−(C1 〜C4)−アルキルであり、あるいはそれぞれハロゲン原子wにより置換される(
C1〜C4)−アルキル、(C2〜C4)−アルケニルまたは(C2〜C4)−アルキニル
であり; R14は水素、(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、(C2〜C4)−
アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、アリール
、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロ−
(C1〜C4)−アルキルであり; R15は水素、テトラヒドロフラン−2−イル、(C1〜C4)−アルキル、(C2〜
C4)−アルケニル、(C2〜C4)−アルキニル、(C3〜C9)−シクロアルキル、ア
リール、アリール−(C1〜C6)−アルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、
ハロ−(C1〜C4)−アルキルであり、あるいはR14およびR15は1個の原子また
は2個の直接隣接する原子に結合する場合、それらと結合する原子と一緒になっ
て場合により酸素、窒素および硫黄からなる群より選択されるヘテロ原子をさら
に含有する飽和の、または部分的または完全に不飽和の5〜6員環を形成し; R16は水素、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C1〜C 6 )−アルコキシ(C1〜C6)−アルキル、ホルミル、(C1〜C6)−アルキルカルボ
ニル、(C1〜C6)−アルコキシカルボニル、(C1〜C6)−アルキルアミノカルボ
ニル、ジ−(C1〜C6)−アルキルアミノカルボニル、(C1〜C6)−アルキルスル
ホニル、ハロ−(C1〜C6)−アルキルスルホニル、ベンゾイルまたはフェニルス
ルホニルであり、最後に挙げた2個の基は(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1〜
C6)−アルキル、(C1〜C6)−アルコキシ、ハロ−(C1〜C6)−アルコキシ、ハ
ロゲン、シアノおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基wに
より置換され; YはO、S、N−H、N−(C1〜C6)−アルキル、CHR6およびC(R6)2か
らなる群より選択される2価の基であり; Zは直接結合、またはO、S、SO、SO2、N−H、N−(C1〜C6)−アル
キル、CHR7およびC(R7)2からなる群より選択される2価の基であり; kはHetが二環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、0、1または
2であり、Hetが単環式のヘテロ芳香族環または複素環である場合、1または
2であり; mは0、1または2であり; nは0、1または2であり; oは1、2、3または4であり; pは0または1であり; vは1または2であり; wは0、1、2、3または4である] のベンゾイル化合物またはその農業的に有用な塩。 - 【請求項2】 R1はニトロ、ハロゲン、シアノ、(C1〜C6)−アルキル、
ハロ−(C1〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニ
ル、OR10またはS(O)nR10であり; R2は水素、ニトロ、ハロゲン、シアノ、(C1〜C6)−アルキル、ハロ−(C1
〜C6)−アルキル、(C2〜C6)−アルケニル、(C2〜C6)−アルキニル、OR10 またはS(O)nR10であり;そして R12は(C3〜C6)−シクロアルキル、置換された(C3〜C6)−シクロアルケニ
ル、フェニル、あるいはそれぞれハロゲン、シアノ、ホルミル、ニトロ、(C1〜
C4)−アルキル、ハロ−(C1〜C4)−アルキル、(C1〜C4)−アルコキシ、ハロ
−(C1〜C4)−アルコキシ、(C1〜C4)−アルキルチオ、ハロ−(C1〜C4)−ア
ルキルチオおよびR13からなる群より選択されるw基により置換され、酸素、窒
素および硫黄からなる群より選択される1〜4個のヘテロ原子を含有する5〜6
員のヘテロシクリルまたはヘテロアリールであり、あるいは式(Va)〜(Vh
)の基である請求項1記載の式(I)のベンゾイル化合物。 - 【請求項3】 Xは酸素原子により中断される、または炭素鎖の末端の1つ
に結合する酸素原子を有する(C1〜C3)−アルキレン、(C2〜C4)−アルケニレ
ンまたは(C2〜C4)−アルキニレン鎖であり、そしてR1はベンゾイル環の2−
位にあり、R2は4−位にある請求項1または2記載の式(I)のベンゾイル化
合物。 - 【請求項4】 R1は塩素、臭素、ヨウ素、ニトロまたはメチルであり; R2は塩素、臭素、トリフルオロメチルまたは(C1〜C4)−アルキルスルホニ
ルであり; R3は水素であり、そして XはOCH2、CH2O、OCH2CH2、CH2OCH2、CH2OCH2CH=C
H、CH=CHCH2OおよびC≡C−CH2Oからなる群より選択される炭素鎖
である請求項1〜3の何れかの項記載の式(I)のベンゾイル化合物。 - 【請求項5】 kは1であり; Hetはイソキサゾリジニル、イソキサゾリニルおよびイソキサゾリルからな
る群より選択される基であり、そして Aは酸素である請求項1〜4の何れかの項記載の式(I)のベンゾイル化合物
。 - 【請求項6】 Hetは1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジ
アゾリル、オキサゾリルおよびチアゾリルからなる群より選択される基であり、
そしてkは1である請求項1〜4の何れかの項記載の式(I)のベンゾイル化合
物。 - 【請求項7】 Hetはキノリニル、5,6,7,8−テトラヒドロキノリニ
ル、ベンゾキサゾリルおよびベンゾチアゾリルからなる群より選択される基であ
り、そしてkは0である請求項1〜4の何れかの項記載の式(I)のベンゾイル
化合物。 - 【請求項8】 Qは式(Q1)の基である請求項1〜7の何れかの項記載の
ベンゾイル化合物。 - 【請求項9】 Q1は2−位で結合する式(Q1a) 【化4】 のシクロヘキサン−1,3−ジオン環であり; R17、R18、R20およびR22は互いに独立して水素または(C1〜C4)−アル
キルであり; R19は水素、場合により1〜3個の(C1〜C4)−アルキル基により置換される
テトラヒドロピラン−2−イル、テトラヒドロピラン−3−イル、テトラヒドロ
ピラン−4−イル、テトラヒドロチオピラン−2−イル、テトラヒドロチオピラ
ン−3−イル、テトラヒドロチオピラン−4−イル、1,3−ジオキソラン−2
−イル、1,3−ジオキサン−2−イル、1,3−オキサチオラン−2−イル、1
,3−オキサチアン−2−イル、1,3−ジチオラン−2−イルまたは1,3−ジ
チアン−2−イルであり、あるいはそれぞれハロゲン、(C1〜C4)−アルキルチ
オおよび(C1〜C4)−アルコキシからなる群より選択されるw基により置換され
る(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C3)−シクロアルキルであり; R21は水素、(C1〜C4)−アルキルまたは(C1〜C6)−アルコキシカルボニル
であり、あるいは R19およびR22は結合または3〜6員環を形成し、あるいは R19およびR20はそれらと結合する炭素原子と一緒になってカルボニル基を形
成する請求項8記載のベンゾイル化合物。 - 【請求項10】 式(Q1b)の化合物を塩基触媒と共に脱水剤の存在下で
、またシアン化物源の存在下でまたは塩基触媒と共に直接式(IVa)(式中、R
は求核的に置換可能な脱離基、アルコキシ基またはヒドロキシルである)の安息
香酸誘導体と反応させることからなる 【化5】 請求項1〜9の何れかの項記載の式(I)(式中、QはQ1であり、R5はヒド
ロキシルである)のベンゾイル化合物の製造法。 - 【請求項11】 式(Q2a)の化合物を塩基触媒と共に脱水剤の存在下で
、またシアン化物源の存在下でまたは塩基触媒と共に直接式(IVb)の安息香酸
誘導体と反応させることからなる 【化6】 請求項1〜7の何れかの項記載の式(I)(式中、QはQ2であり、R9は水素
である)のベンゾイル化合物の製造法。 - 【請求項12】 請求項1〜9の何れかの項記載の式(I)の化合物を製造
するための請求項10記載の式(IVa)の安息香酸誘導体。 - 【請求項13】 除草有効量の少なくとも1種の請求項1〜9の何れかの項
記載の式(I)の化合物を有する除草剤組成物。 - 【請求項14】 配合補助剤との混合物としての請求項13記載の除草剤組
成物。 - 【請求項15】 有効量の少なくとも1種の請求項1〜9の何れかの項記載
の式(I)の化合物、あるいは請求項13または14記載の除草剤組成物を植物
にまたは望ましくない植物の生長を維持する部分に施用することからなる望まし
くない植物を防除する方法。 - 【請求項16】 望ましくない植物の防除における請求項1〜9の何れかの
項記載の式(I)の化合物、あるいは請求項13または14記載の除草剤組成物
の使用。 - 【請求項17】 式(I)の化合物は有用な植物の群の望ましくない植物を
防除するために使用される請求項16記載の使用。 - 【請求項18】 作物は有用なトランスジェニック植物である請求項17記
載の使用。
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Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
JP2006016389A (ja) * | 2004-06-03 | 2006-01-19 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | トリケトン系化合物、それらの製造方法及びそれらを含有する除草剤 |
JP2008094771A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Bayer Cropscience Ag | ベンゾイルピラゾール類及び除草剤 |
JP2019503336A (ja) * | 2015-12-31 | 2019-02-07 | チンタオ、キングアグルート、ケミカル、コンパウンズ、カンパニー、リミテッドQingdao Kingagroot Chemical Compounds Co.,Ltd | ピラゾール化合物またはその塩、それらの製造方法、除草組成物およびその使用 |
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