JP2003504479A5 - 架橋剤を含有しない三次元構造物 - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 沈殿剤を１,０００〜１００,０００ｍＰａｓの粘度を有するキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液に添加し、次いでキトサンを乾燥することにより得られた架橋剤を含有しない三次元構造物。
【請求項２】 沈殿剤を１,０００〜１００,０００ｍＰａｓの粘度を有するキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液に添加し、次いでキトサンを乾燥することを特徴とする、三次元構造物の製造方法。
【請求項３】 乾燥を、凍結乾燥により行うことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】 ０.１〜１５質量％のキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液を使用することを特徴とする請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】 キトサン水溶液および／または水性均一懸濁液が、ｐＨ１〜７.５の値を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】 キトサン水溶液および／または水性均一懸濁液の粘度が、１０,０００〜４０,０００ｍＰａｓの範囲であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】 カチオン誘導化キトサンを、キトサンとして使用することを特徴とする請求項２〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】 使用する沈殿剤を、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニアおよび有機窒素塩基の炭酸水素塩、炭酸塩、リン酸水素塩並びに水酸化物の水溶液からなる群から選択することを特徴とする請求項２〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】 炭酸水素ナトリウム水溶液を沈殿剤として使用することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】 沈殿キトサンのｐＨが、５.０〜１４の間であることを特徴とする請求項２〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】 助剤および添加剤を、沈殿剤の前または同時に水溶液および／または水性均一懸濁液に添加することを特徴とする請求項２〜１０のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】 架橋剤を含有しない三次元構造物に、乾燥後、助剤および添加剤を装填することを特徴とする請求項２〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】 使用する助剤および添加剤が、ポリオール、乳化剤、繊維、染料、香油、フレーバー、化粧品用活性成分、医薬用活性成分および食品添加物からなる群から選ばれる物質であることを特徴とする請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項１４】 化粧用調製物としての請求項１に記載の架橋剤を含有しない三次元構造物の使用。
【請求項１５】 食品としての請求項１に記載の架橋剤を含有しない三次元構造物の使用。
【請求項１６】 食品添加物としての請求項１に記載の架橋剤を含有しない三次元構造物の使用。
【請求項１】 沈殿剤を１,０００〜１００,０００ｍＰａｓの粘度を有するキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液に添加し、次いでキトサンを乾燥することにより得られた架橋剤を含有しない三次元構造物。
【請求項２】 沈殿剤を１,０００〜１００,０００ｍＰａｓの粘度を有するキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液に添加し、次いでキトサンを乾燥することを特徴とする、三次元構造物の製造方法。
【請求項３】 乾燥を、凍結乾燥により行うことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】 ０.１〜１５質量％のキトサン水溶液および／または水性均一懸濁液を使用することを特徴とする請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】 キトサン水溶液および／または水性均一懸濁液が、ｐＨ１〜７.５の値を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】 キトサン水溶液および／または水性均一懸濁液の粘度が、１０,０００〜４０,０００ｍＰａｓの範囲であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】 カチオン誘導化キトサンを、キトサンとして使用することを特徴とする請求項２〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】 使用する沈殿剤を、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニアおよび有機窒素塩基の炭酸水素塩、炭酸塩、リン酸水素塩並びに水酸化物の水溶液からなる群から選択することを特徴とする請求項２〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】 炭酸水素ナトリウム水溶液を沈殿剤として使用することを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】 沈殿キトサンのｐＨが、５.０〜１４の間であることを特徴とする請求項２〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】 助剤および添加剤を、沈殿剤の前または同時に水溶液および／または水性均一懸濁液に添加することを特徴とする請求項２〜１０のいずれかに記載の方法。
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【請求項１４】 化粧用調製物としての請求項１に記載の架橋剤を含有しない三次元構造物の使用。
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