JP2003502445A - 減じられたスプレイ傾向を有するポリカーボネート組成物 - Google Patents
減じられたスプレイ傾向を有するポリカーボネート組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
良好な離型性質を有する透明な熱可塑性成形組成物が開示される。磁性成分を含有しないこの組成物はポリカーボネート樹脂および０.０１〜０.３重量％の離型剤を含有する。この剤は式（Ｉ）［式中、Ｒ1はＣ1-30−アルキル基を示す］により表される化合物と（ｉ）［式中、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ 1-30−アルキルまたはアリール基を示す］および（ii）［式中、ｎは１−７である］よりなる群から選択される少なくとも１員との反応の生成物である。
【化１】
Description
【０００１】
本発明は透明な熱可塑性成形組成物、そしてより特に良好な離型性質を有する
ポリカーボネート組成物に関する。
ポリカーボネート組成物に関する。
【０００２】
発明の要旨
良好な離型性質および改良された熱安定性を有する熱可塑性ポリカーボネート
成形組成物が開示される。光記憶装置の製造に特に適する磁性成分の不存在によ
り特徴づけられる組成物は、離型剤として
成形組成物が開示される。光記憶装置の製造に特に適する磁性成分の不存在によ
り特徴づけられる組成物は、離型剤として
【０００３】
【化９】
【０００４】
［式中、Ｒ1はＣ1-30−アルキル基を示す］
と
（ｉ）
【０００５】
【化１０】
【０００６】
［式中、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ1-30−アルキルまたはアリール基を示す］、
および （ii）
および （ii）
【０００７】
【化１１】
【０００８】
［式中、ｎは１−７である］
よりなる群から選択される少なくとも１員との間の反応の生成物を含有する。
【０００９】
発明の背景
モノステアリン酸グリセロール（ＧＭＳ）は熱可塑性ポリカーボネート成形組
成物用の離型剤としてその効果が知られている。しかしながら、ＧＭＳとのエス
テル交換の結果であるポリカーボネートの分子量低下がこの離型剤の使用上の欠
点であることが当業者により観察されていた。成形中に普遍的である熱条件下で
は、エステル交換の生成物である炭酸ＧＭＳが分解して二酸化炭素を生成し、そ
れがスプレイ(splay)として知られる成形欠陥を引き起こす。この欠陥は光記憶
装置、例えば光ディスク、の製造業者にとっては美的外観のためだけでなく内蔵
される情報の応答の観点からも大きな関心事である。本発明は上記の問題を扱う
。
成物用の離型剤としてその効果が知られている。しかしながら、ＧＭＳとのエス
テル交換の結果であるポリカーボネートの分子量低下がこの離型剤の使用上の欠
点であることが当業者により観察されていた。成形中に普遍的である熱条件下で
は、エステル交換の生成物である炭酸ＧＭＳが分解して二酸化炭素を生成し、そ
れがスプレイ(splay)として知られる成形欠陥を引き起こす。この欠陥は光記憶
装置、例えば光ディスク、の製造業者にとっては美的外観のためだけでなく内蔵
される情報の応答の観点からも大きな関心事である。本発明は上記の問題を扱う
。
【００１０】
本発明の離型剤に構造的に従う化合物は米国特許第５,１４５,７５１号に開示
されていた。'７５１文献は非−磁性基質および基質上にコーテイングされた磁
性記録層を包含する磁性記録媒体を開示した。この層は本離型剤を包含する化合
物を含んでなる。
されていた。'７５１文献は非−磁性基質および基質上にコーテイングされた磁
性記録層を包含する磁性記録媒体を開示した。この層は本離型剤を包含する化合
物を含んでなる。
【００１１】
発明の詳細な記述
本発明に従う熱可塑性組成物は磁性成分の不存在により特徴づけられておりそ
してポリカーボネート樹脂およびポリカーボネートの重量に関して約０.０１〜
０.３％の、好ましくは０.０３〜０.１％の、離型剤を含んでなる。
してポリカーボネート樹脂およびポリカーボネートの重量に関して約０.０１〜
０.３％の、好ましくは０.０３〜０.１％の、離型剤を含んでなる。
【００１２】
本発明の共重合体を製造するために適するポリカーボネート樹脂はホモポリカ
ーボネート類およびコポリカーボネート類並びにそれらの混合物である。
ーボネート類およびコポリカーボネート類並びにそれらの混合物である。
【００１３】
ポリカーボネート類は一般的に１０,０００〜２００,０００、好ましくは１５
,０００〜２２,０００、の重量平均分子量を有しそして３００℃におけるＡＳＴ
Ｍ Ｄ−１２３８によるそれらのメルトフローレートは約１〜約９５ｇ／１０分
、好ましくは約６０〜９０ｇ／１０分、である。それらは、例えば、ホスゲンの
如き炭酸誘導体およびジヒドロキシ化合物から重縮合により既知の二相界面方法
によって製造することができる（全てが引用することにより本発明の内容となる
ドイツ特許公開明細書２,０６３,０５０、２,０６３,０５２、１,５７０,７０３
、２,２１１,９５６、２,２１１,９５７および２,２４８,８１７、フランス特許
第１,５６１,５１８号、並びに H. Schnell による論文 "Chemistry and Physic
s of Polycarbonates", Interscience Publishers, New York, New York, 1964
を参照のこと）。
,０００〜２２,０００、の重量平均分子量を有しそして３００℃におけるＡＳＴ
Ｍ Ｄ−１２３８によるそれらのメルトフローレートは約１〜約９５ｇ／１０分
、好ましくは約６０〜９０ｇ／１０分、である。それらは、例えば、ホスゲンの
如き炭酸誘導体およびジヒドロキシ化合物から重縮合により既知の二相界面方法
によって製造することができる（全てが引用することにより本発明の内容となる
ドイツ特許公開明細書２,０６３,０５０、２,０６３,０５２、１,５７０,７０３
、２,２１１,９５６、２,２１１,９５７および２,２４８,８１７、フランス特許
第１,５６１,５１８号、並びに H. Schnell による論文 "Chemistry and Physic
s of Polycarbonates", Interscience Publishers, New York, New York, 1964
を参照のこと）。
【００１４】
この関係では、本発明のポリカーボネート類の製造に適するジヒドロキシ化合
物は構造式（１）または（２）に従う。
物は構造式（１）または（２）に従う。
【００１５】
【化１２】
【００１６】
［式中、
Ａは炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜
１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、カルボニ
ル基、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−もしくは−ＳＯ2または
１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、カルボニ
ル基、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−もしくは−ＳＯ2または
【００１７】
【化１３】
【００１８】
に従う基を示し、
ｅおよびｇは両者とも数０〜１を示し、
ＺはＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣ1−Ｃ4−アルキルを示しそして数個のＺ基が１つの
アリール基の中にある場合にはそれらは互いに同一もしくは相異なることができ
、 ｄは０〜４の整数を示し、そして ｆは０〜３の整数を示す］。
アリール基の中にある場合にはそれらは互いに同一もしくは相異なることができ
、 ｄは０〜４の整数を示し、そして ｆは０〜３の整数を示す］。
【００１９】
本発明の実施において有用なジヒドロキシ化合物の中にはヒドロキノン、レソ
ルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン類、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−エーテル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン類、ビス−（
ヒドロキシフェニル）−スルホキシド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スル
フィド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン類、ジヒドロキシジフェニ
ルシクロアルカン類、およびα,α−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプ
ロピル−ベンゼン類、並びにそれらの核−アルキル化された化合物がある。これ
らのおよび他の適当な芳香族ジヒドロキシ化合物は、例えば、全てが引用するこ
とにより本発明の内容となる米国特許第５,２２７,４５８号、第５,１０５,００
４号、５,１２６,４２８号、第５,１０９,０７６号、第５,１０４,７２３号、第
５,０８６,１５７号、第３,０２８,３５６号、第２,９９９,８３５号、第３,１
４８,１７２号、第２,９９１,２７３号、第３,２７１,３６７号、および第２,９
９９,８４６号に記載されている。
ルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン類、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−エーテル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン類、ビス−（
ヒドロキシフェニル）−スルホキシド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スル
フィド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン類、ジヒドロキシジフェニ
ルシクロアルカン類、およびα,α−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプ
ロピル−ベンゼン類、並びにそれらの核−アルキル化された化合物がある。これ
らのおよび他の適当な芳香族ジヒドロキシ化合物は、例えば、全てが引用するこ
とにより本発明の内容となる米国特許第５,２２７,４５８号、第５,１０５,００
４号、５,１２６,４２８号、第５,１０９,０７６号、第５,１０４,７２３号、第
５,０８６,１５７号、第３,０２８,３５６号、第２,９９９,８３５号、第３,１
４８,１７２号、第２,９９１,２７３号、第３,２７１,３６７号、および第２,９
９９,８４６号に記載されている。
【００２０】
適当なビスフェノール類の別の例は２,２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル
）−プロパン（ビスフェノールＡ）、２,４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチル−ブタン、１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロ
ヘキサン、α,α′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピル
ベンゼン、２,２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
、２,２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−
（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２,２−ビス−（３,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３,５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（３,５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、ビス−（３,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−スルホン、ジヒドロキシベンゾフェノン、２,４−ビス−（３,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、α,α′−ビス−
（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン
および４,４′−スルホニルジフェノールである。
）−プロパン（ビスフェノールＡ）、２,４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル
）−２−メチル−ブタン、１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロ
ヘキサン、α,α′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピル
ベンゼン、２,２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
、２,２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−
（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２,２−ビス−（３,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３,５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（３,５−ジメチル−４−
ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、ビス−（３,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−スルホン、ジヒドロキシベンゾフェノン、２,４−ビス−（３,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、α,α′−ビス−
（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン
および４,４′−スルホニルジフェノールである。
【００２１】
特に好ましい芳香族ビスフェノール類の例は２,２−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、ビス−（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンおよ
び１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３,３,５−トリメチルシクロヘ
キサンである。
フェニル）−プロパン、ビス−（３,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサンおよ
び１,１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３,３,５−トリメチルシクロヘ
キサンである。
【００２２】
最も好ましいビスフェノールは２,２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
プロパン（ビスフェノールＡ）である。
プロパン（ビスフェノールＡ）である。
【００２３】
本発明のポリカーボネート類は１種もしくはそれ以上の適当なビスフェノール
類のから誘導されるそれらの構造単位を伴う。
類のから誘導されるそれらの構造単位を伴う。
【００２４】
本発明の実施において適する樹脂の中にはフェノールフタレインをベースとし
たポリカーボネート、コポリカーボネート類およびターポリカーボネート類、例
えば両者とも引用することにより本発明の内容となる米国特許第３,０３６,０３
６号および第４,２１０,７４１号に記載されたもの、がある。
たポリカーボネート、コポリカーボネート類およびターポリカーボネート類、例
えば両者とも引用することにより本発明の内容となる米国特許第３,０３６,０３
６号および第４,２１０,７４１号に記載されたもの、がある。
【００２５】
本発明のポリカーボネート類はその中に少量の、例えば０.０５〜２.０モル％
（ビスフェノール類に関して）の、ポリヒドロキシ化合物を縮合させることによ
り分枝鎖状にすることもできる。
（ビスフェノール類に関して）の、ポリヒドロキシ化合物を縮合させることによ
り分枝鎖状にすることもできる。
【００２６】
このタイプのポリカーボネート類は、例えば、ドイツ特許公開明細書１,５７
０,５３３、２,１１６,９７４および２,１１３,３７４、英国特許第８８５,４４
２号および第１,０７９,８２１号並びに米国特許第３,５４４,５１４号に記載さ
れていた。下記のものがこの目的のために使用できるポリヒドロキシ化合物の数
例である：フロログリシノール、４,６−ジメチル−２,４,６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプタン、１,３,５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１,１,１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（
４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２,２−ビス−[４,４−（４,４′
−ジヒドロキシジフェニル）]−シクロヘキシル−プロパン、２,４−ビス−（４
−ヒドロキシ−１−イソプロピリデン）−フェノール、２,６−ビス−（２′−
ジヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２,４−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２,４−ジヒドロ
キシフェニル）−プロパンおよび１,４−ビス−（４,４′−ジヒドロキシトリフ
ェニルメチル）−ベンゼン。他の多官能性化合物の数例は２,４−ジヒドロキシ
−安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌルおよび３,３−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−オキソ−２,３−ジヒドロインドールである。
０,５３３、２,１１６,９７４および２,１１３,３７４、英国特許第８８５,４４
２号および第１,０７９,８２１号並びに米国特許第３,５４４,５１４号に記載さ
れていた。下記のものがこの目的のために使用できるポリヒドロキシ化合物の数
例である：フロログリシノール、４,６−ジメチル−２,４,６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプタン、１,３,５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１,１,１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（
４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２,２−ビス−[４,４−（４,４′
−ジヒドロキシジフェニル）]−シクロヘキシル−プロパン、２,４−ビス−（４
−ヒドロキシ−１−イソプロピリデン）−フェノール、２,６−ビス−（２′−
ジヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２,４−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２,４−ジヒドロ
キシフェニル）−プロパンおよび１,４−ビス−（４,４′−ジヒドロキシトリフ
ェニルメチル）−ベンゼン。他の多官能性化合物の数例は２,４−ジヒドロキシ
−安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌルおよび３,３−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−オキソ−２,３−ジヒドロインドールである。
【００２７】
上記の重縮合方法の他に、本発明のポリカーボネート類の別の製造方法は均質
相での重縮合およびエステル交換である。適当な方法は引用することにより本発
明の内容となる米国特許第３,０２８,３６５号、第２,９９９,８４６号、第３,
１５３,００８号および第２,９９１,２７３号に開示されている。
相での重縮合およびエステル交換である。適当な方法は引用することにより本発
明の内容となる米国特許第３,０２８,３６５号、第２,９９９,８４６号、第３,
１５３,００８号および第２,９９１,２７３号に開示されている。
【００２８】
ポリカーボネート類の好ましい製造方法は界面重縮合方法である。
【００２９】
引用することにより本発明の内容となる米国特許第３,９１２,６８８号に開示
されているような別の合成方法を本発明のポリカーボネート類の製造において使
用することができる。
されているような別の合成方法を本発明のポリカーボネート類の製造において使
用することができる。
【００３０】
適当なポリカーボネート樹脂、例えば、マクロロン(Makrolon)ＦＣＲ、マクロ
ロン２６００、マクロロン２８００およびマクロロン３１００、は市販されてお
り、それらの全てはそれらの各々の分子量が異なるビスフェノールをベースとし
たホモポリカーボネート類でありそしてＡＳＴＭ Ｄ−１２３８によるそれらの
メルトフローインデックス（ＭＦＲ）がそれぞれ約１６.５〜２４、１３〜１６
、７.５〜１３.０および３.５〜６.５ｇ／１０分であることにより特徴づけられ
る。それぞれ６０〜７０および７０〜９０ｇ／１０分のＭＦＲ値を有するマクロ
ロンＣＤ２００５およびマクロロンＤＰ１−１２６５が特に適する。これらはペ
ンシルバニア州、ピッツバーグのバイエル・コーポレーション(Bayer Corporati
on)の製品である。
ロン２６００、マクロロン２８００およびマクロロン３１００、は市販されてお
り、それらの全てはそれらの各々の分子量が異なるビスフェノールをベースとし
たホモポリカーボネート類でありそしてＡＳＴＭ Ｄ−１２３８によるそれらの
メルトフローインデックス（ＭＦＲ）がそれぞれ約１６.５〜２４、１３〜１６
、７.５〜１３.０および３.５〜６.５ｇ／１０分であることにより特徴づけられ
る。それぞれ６０〜７０および７０〜９０ｇ／１０分のＭＦＲ値を有するマクロ
ロンＣＤ２００５およびマクロロンＤＰ１−１２６５が特に適する。これらはペ
ンシルバニア州、ピッツバーグのバイエル・コーポレーション(Bayer Corporati
on)の製品である。
【００３１】
本発明の実施において適するポリカーボネート樹脂は既知でありそしてその構
造および製造方法は、例えば、引用することにより本発明の内容となる米国特許
第３,０３０,３３１号、第３,１６９,１２１号、第３,３９５,１１９号、第３,
７２９,４４７号、第４,２５５,５５６号、第４,２６０,７３１号、第４,３６９
,３０３号および第４,７１４,７４６号に開示されている。
造および製造方法は、例えば、引用することにより本発明の内容となる米国特許
第３,０３０,３３１号、第３,１６９,１２１号、第３,３９５,１１９号、第３,
７２９,４４７号、第４,２５５,５５６号、第４,２６０,７３１号、第４,３６９
,３０３号および第４,７１４,７４６号に開示されている。
【００３２】
本発明の関係する離型剤は、式（Ｉ）
【００３３】
【化１４】
【００３４】
［式中、Ｒ1はＣ1-30−アルキル基、好ましくはＣ4-25−アルキル基、より好ま
しくはＣ14-20−アルキル基、を示す］ により表される化合物と （ｉ）
しくはＣ14-20−アルキル基、を示す］ により表される化合物と （ｉ）
【００３５】
【化１５】
【００３６】
［式中、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ1-30−アルキル、好ましくはＣ4-25−アルキ
ル基、より好ましくはＣ14-20−アルキル基、またはアリール基を示す］、 および （ii）
ル基、より好ましくはＣ14-20−アルキル基、またはアリール基を示す］、 および （ii）
【００３７】
【化１６】
【００３８】
［式中、ｎは１−７、好ましくは２−５、である］
よりなる群から選択される少なくとも１員との反応の生成物である。
【００３９】
好ましくは、離型剤は式（III）または（IV）
【００４０】
【化１７】
【００４１】
［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ4-25−アルキル基でありそしてｎは２
−５である］ に従う。
−５である］ に従う。
【００４２】
反応およびそのために適する触媒は Org. Synth. III, 502 (1955) に記載さ
れており、この文献は引用することにより本発明の内容となる。
れており、この文献は引用することにより本発明の内容となる。
【００４３】
本発明の組成物は当該技術で認識された機能に関して知られている従来の添加
剤を含有することができる。それらは染料、難燃剤、並びに加水分解および紫外
線安定剤、可塑剤および離型剤を包含する。一つの好ましい態様では、組成物は
高度に透明な光記憶装置の製造に適する。これらの装置のための成形品は１００
ミル厚さの試料に対してＡＳＴＭ Ｄ １００３に従い測定されるそれらの透明度
が少なくとも８８％であることにより特徴づけられる。
剤を含有することができる。それらは染料、難燃剤、並びに加水分解および紫外
線安定剤、可塑剤および離型剤を包含する。一つの好ましい態様では、組成物は
高度に透明な光記憶装置の製造に適する。これらの装置のための成形品は１００
ミル厚さの試料に対してＡＳＴＭ Ｄ １００３に従い測定されるそれらの透明度
が少なくとも８８％であることにより特徴づけられる。
【００４４】
本発明の安定化された組成物の製造は従来法による。
【００４５】
実験
本発明に従う離型剤を製造しそしてその効果を測定した。
【００４６】
Ｒ1がＣ17−アルキルでありそしてｎ＝３である上記の式（IV）に構造的に従
う離型剤の製造を以下に記載する： ディーンスタークトラップおよびコンデンサーを備えた２５０ｍＬの丸底フラ
スコに、１０.２２ｇのモノステアリン酸グリセリン、７５ｍＬの乾燥トルエン
、０.０９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、および４.０ｍＬのシクロヘキ
サノンを加えた。理論的量の水（約０.５ｍＬ）がディーンスタークトラップを
介して集められるまで反応物を撹拌しながら還流させた。反応が完了したら、２
.０ｍＬのトリエチルアミンを加えそしてトルエンを蒸留により除去した。残存
する溶融物質を２８０ｍＬのメタノールに加えそしてゆっくり室温まで放冷して
反応生成物を沈澱させた。全ての物質を確実に沈澱させるために、７０ｍＬの脱
イオン水をゆっくり加えた。沈澱を真空濾過により集めそして減圧下で乾燥して
１０.９９４ｇの白色粉末を生成した。
う離型剤の製造を以下に記載する： ディーンスタークトラップおよびコンデンサーを備えた２５０ｍＬの丸底フラ
スコに、１０.２２ｇのモノステアリン酸グリセリン、７５ｍＬの乾燥トルエン
、０.０９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、および４.０ｍＬのシクロヘキ
サノンを加えた。理論的量の水（約０.５ｍＬ）がディーンスタークトラップを
介して集められるまで反応物を撹拌しながら還流させた。反応が完了したら、２
.０ｍＬのトリエチルアミンを加えそしてトルエンを蒸留により除去した。残存
する溶融物質を２８０ｍＬのメタノールに加えそしてゆっくり室温まで放冷して
反応生成物を沈澱させた。全ての物質を確実に沈澱させるために、７０ｍＬの脱
イオン水をゆっくり加えた。沈澱を真空濾過により集めそして減圧下で乾燥して
１０.９９４ｇの白色粉末を生成した。
【００４７】
本発明の組成物の製造：
上記の工程に従い製造されたこの剤を約１８,０００の重量平均分子量を有す
るビスフェノール−Ａをベースとしたホモポリカーボネート樹脂の中に３００ｐ
ｐｍの量で加えそして製品を従来法で成形した。この剤がＧＭＳのものに相当す
る離型性質を有することが注目された。本発明の組成物から製造された光ディス
クに関するスプレイ数は同量のＧＭＳを用いるディスクよりかなり低かった。
るビスフェノール−Ａをベースとしたホモポリカーボネート樹脂の中に３００ｐ
ｐｍの量で加えそして製品を従来法で成形した。この剤がＧＭＳのものに相当す
る離型性質を有することが注目された。本発明の組成物から製造された光ディス
クに関するスプレイ数は同量のＧＭＳを用いるディスクよりかなり低かった。
【００４８】
本発明を以上で説明目的のために詳細に記載してきたが、そのような詳細事項
はその目的のためだけであること並びに請求項により限定されることを除いて本
発明の精神および範囲から逸脱せずに当業者により変更を行えることは理解すべ
きである。
はその目的のためだけであること並びに請求項により限定されることを除いて本
発明の精神および範囲から逸脱せずに当業者により変更を行えることは理解すべ
きである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ
，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，
ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ
Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ
)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，
ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，
ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ
Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ
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ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ
Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ
，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，
ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ
Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ
，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 クリシユナン，シバラム
アメリカ合衆国ミシガン州48105アンハー
バー・バークレイウエイ2796
(72)発明者 ニユーカム，ジヨナサン・エム
アメリカ合衆国ペンシルベニア州15001ア
リキツパ・ウイルソンアベニユー3204
(72)発明者 テナント，ジエフリー・エム
アメリカ合衆国ウエストバージニア州
26047ニユーカンバーランド・ウイリーリ
ツジロード・ボツクス284・アールデイナ
ンバー１
(72)発明者 デリカート，デイビツド・エム
アメリカ合衆国ペンシルベニア州15084タ
レンタム・ヨーストドライブ101
(72)発明者 ピシパテイ，ラメシユ・エム
アメリカ合衆国ペンシルベニア州15090ウ
エクスフオード・ラベンウツドコート2663
(72)発明者 エベルト，ボルフガング
ドイツ・デー−47800クレーフエルト・デ
ルパーホフシユトラーセ31
Ｆターム(参考） 4J002 CG011 CG021 EE037 EE038
EH056 EL106 FD166 FD167
FD168
Claims (10)
- 【請求項１】 ポリカーボネート樹脂、およびポリカーボネートの重量に関
して約０.０１〜０.３％の、式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1はＣ1-30−アルキル基を示す］ により表される化合物と （ｉ） 【化２】 ［式中、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ1-30−アルキルまたはアリール基を示す］、
および （ii） 【化３】 ［式中、ｎは１−７である］ よりなる群から選択される少なくとも１員との反応の生成物を含んでなる離型剤
を含んでなる、磁性成分を含有しない透明な熱可塑性成形組成物。 - 【請求項２】 該離型剤がポリカーボネートの重量に関して０.０３〜０.１
％の量で存在する請求項１の組成物。 - 【請求項３】 該員が（ｉ）でありそしてＲ1がＣ4-25−アルキル基である
請求項１の成形組成物。 - 【請求項４】 該員が（ｉ）でありそしてＲ2およびＲ3が独立してＣ4-25−
アルキル基である請求項１の成形組成物。 - 【請求項５】 該員が（ｉ）でありそしてＲ1、Ｒ2およびＲ3が独立してＣ1 4-20 −アルキル基である請求項１の成形組成物。
- 【請求項６】 該員が 【化４】 ［式中、ｎは２−５である］ である請求項１の成形組成物。
- 【請求項７】 該剤が 【化５】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ4-25−アルキル基である］ に従う請求項１の成形組成物。
- 【請求項８】 該剤が 【化６】 ［式中、Ｒ1はＣ4-25−アルキル基を示しそしてｎは２−５である］ に従う請求項１の成形組成物。
- 【請求項９】 該剤が 【化７】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は独立してＣ4-25−アルキル基である］ に従う請求項２の成形組成物。
- 【請求項１０】 該剤が 【化８】 ［式中、Ｒ1はＣ4-25−アルキル基を示しそしてｎは２−５である］ に従う請求項２の成形組成物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/290,906 | 1999-04-12 | ||
| US09/290,906 US6046301A (en) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | Polycarbonate compositions having reduced tendency to splay |
| PCT/US2000/009572 WO2000061671A1 (en) | 1999-04-12 | 2000-04-10 | Polycarbonate composition having reduced tendency to splay |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003502445A true JP2003502445A (ja) | 2003-01-21 |
Family
ID=23117995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000611606A Pending JP2003502445A (ja) | 1999-04-12 | 2000-04-10 | 減じられたスプレイ傾向を有するポリカーボネート組成物 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6046301A (ja) |
| EP (1) | EP1173509B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003502445A (ja) |
| KR (1) | KR20010112419A (ja) |
| CN (1) | CN1142970C (ja) |
| AU (1) | AU4225900A (ja) |
| BR (1) | BR0009689A (ja) |
| CA (1) | CA2370029A1 (ja) |
| DE (1) | DE60005169T2 (ja) |
| ES (1) | ES2206223T3 (ja) |
| HK (1) | HK1045853B (ja) |
| TW (1) | TWI230177B (ja) |
| WO (1) | WO2000061671A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8691915B2 (en) | 2012-04-23 | 2014-04-08 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Copolymers and polymer blends having improved refractive indices |
| KR20240035625A (ko) | 2016-09-21 | 2024-03-15 | 넥스트큐어 인코포레이티드 | Siglec-15를 위한 항체 및 이의 사용 방법 |
| US10053533B1 (en) | 2017-04-13 | 2018-08-21 | Presidium Usa, Inc. | Oligomeric polyol compositions |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1669800A1 (de) * | 1966-08-20 | 1971-08-26 | Huels Chemische Werke Ag | Verarbeitungshilfsmittel fuer Styrolpolymerisate |
| JP2690561B2 (ja) * | 1989-06-26 | 1997-12-10 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体 |
| EP0753540B1 (en) * | 1995-07-12 | 2003-06-11 | Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation | Polycarbonate resin composition |
| JPH1171511A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Mitsubishi Eng Plast Kk | 光ディスク基板用ポリカーボネート成形材料 |
-
1999
- 1999-04-12 US US09/290,906 patent/US6046301A/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-06 TW TW089106262A patent/TWI230177B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-04-10 JP JP2000611606A patent/JP2003502445A/ja active Pending
- 2000-04-10 EP EP00922013A patent/EP1173509B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-10 ES ES00922013T patent/ES2206223T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-10 DE DE60005169T patent/DE60005169T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-10 CN CNB008061122A patent/CN1142970C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-10 AU AU42259/00A patent/AU4225900A/en not_active Abandoned
- 2000-04-10 CA CA002370029A patent/CA2370029A1/en not_active Abandoned
- 2000-04-10 KR KR1020017012953A patent/KR20010112419A/ko active IP Right Grant
- 2000-04-10 BR BR0009689-0A patent/BR0009689A/pt not_active IP Right Cessation
- 2000-04-10 WO PCT/US2000/009572 patent/WO2000061671A1/en active Search and Examination
-
2002
- 2002-10-11 HK HK02107433.8A patent/HK1045853B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1142970C (zh) | 2004-03-24 |
| DE60005169D1 (de) | 2003-10-16 |
| BR0009689A (pt) | 2002-01-08 |
| CA2370029A1 (en) | 2000-10-19 |
| KR20010112419A (ko) | 2001-12-20 |
| ES2206223T3 (es) | 2004-05-16 |
| HK1045853B (zh) | 2005-01-14 |
| TWI230177B (en) | 2005-04-01 |
| AU4225900A (en) | 2000-11-14 |
| EP1173509B1 (en) | 2003-09-10 |
| EP1173509A1 (en) | 2002-01-23 |
| US6046301A (en) | 2000-04-04 |
| DE60005169T2 (de) | 2004-07-01 |
| HK1045853A1 (en) | 2002-12-13 |
| WO2000061671A1 (en) | 2000-10-19 |
| CN1346383A (zh) | 2002-04-24 |
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|
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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