JP2003346693A - 試料台および試料観察方法 - Google Patents

試料台および試料観察方法

Info

Publication number
JP2003346693A
JP2003346693A JP2002147298A JP2002147298A JP2003346693A JP 2003346693 A JP2003346693 A JP 2003346693A JP 2002147298 A JP2002147298 A JP 2002147298A JP 2002147298 A JP2002147298 A JP 2002147298A JP 2003346693 A JP2003346693 A JP 2003346693A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
electron microscope
sample stage
observed
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002147298A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihide Nakao
吉秀 中尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2002147298A priority Critical patent/JP2003346693A/ja
Publication of JP2003346693A publication Critical patent/JP2003346693A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子顕微鏡用試料台において、試料の隣接す
る2面が1回の試料載置で観察できるような試料台と、
その観察方法を提供する。 【解決手段】 試料を固定し観察する電子顕微鏡用試料
台において、前記試料を載置する試料台の主表面に1箇
所以上の溝を設け、溝の底のなす角度が90度であるこ
とを特徴とし、電子顕微鏡を用いて試料を観察する際
に、電子顕微鏡用試料台の主表面に1箇所以上の溝を設
けて試料を載置し、該試料台を傾斜することにより、前
記試料を一度載置した状態で90度以上異なる角度から
観察する試料観察方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査型電子顕微鏡
の試料台および試料の観察方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、走査型電子顕微鏡で試料を観察す
る場合には、観察したい試料面の対面側を導電性ペ−ス
トや導電性テ−プ等によって試料台に接着固定した後、
試料台を走査型電子顕微鏡のステ−ジに設置し、真空中
において観察を行っていた。図3は、走査型電子顕微鏡
で従来の試料台4を用いて、試料5を観察した場合の概
略模式図である。従来の試料台4では、図3(a)に示
すように、観察したい面が試料5の一表面である時は、
問題を生じないが、試料5のほぼ90度程度異なる隣接
する他の面に関しても直上から観察しようとすると、図
3(b)に示すように、試料5もしくは試料台4が電子
光学系6に接触してしまい、観察ができないという問題
があった。
【0003】そのため、試料5の隣接する2つの面を観
察するには、試料台4を設置した走査型電子顕微鏡のス
テ−ジを傾斜させる機構を使ったとしても、観察したい
それぞれの面を走査型電子顕微鏡の光学系6に向けた試
料を2つ用意するか、もしくは、試料5の一面を観察し
た後、一度試料5を装置から出し、改めて再載置し直さ
ないと、観察をすることができないという問題があっ
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、試料によって
は、入手が難しいものや、1つの試料を正面および隣接
する側面の2面から観察したいものもあり、そのために
は正面から観察した後、一度試料を装置から出し、改め
て再載置し直してから観察しており、時間がかかると共
に、再載置の作業の際に試料に傷を付けたり、汚染して
しまうこともあって、電子顕微鏡による観察を行う上で
の課題となっていた。このため、特開平6−28155
1号公報のように、電子顕微鏡用試料の固定装置が開示
されているが、特開平6−281551号公報が示す固
定装置は特殊であって観察できる試料形態が限られ、汎
用性のある試料台とはいえなかった。
【0005】そこで、本発明はこのような問題点を解消
するためになされたものであり、その目的は、試料台作
製が安価で、観察する試料に対して汎用性があり、試料
の隣接する2面が1回の試料載置で観察できるような電
子顕微鏡用の試料台と、その観察方法を提供することで
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1の発明に係わる走査型電子顕微鏡用試料
台は、試料を固定し観察する電子顕微鏡用試料台におい
て、前記試料を載置する試料台の主表面に1箇所以上の
溝を設けたことを特徴とするものである。
【0007】請求項2の発明に係わる走査型電子顕微鏡
用試料台は、前記試料台の主表面に設けられた溝の底の
なす角度が90度であることを特徴とするものである。
【0008】請求項3の発明に係る試料観察方法は、電
子顕微鏡を用いて試料を観察する際に、電子顕微鏡用試
料台の主表面に1箇所以上の溝を設けて試料を載置し、
該試料台を傾斜することにより、前記試料を一度載置し
た状態で90度以上異なる角度から観察するものであ
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。図1は、走査型電子顕微鏡に
おいて、本発明の試料台1を用いて、試料2を観察して
いる状態を示す模式図であり、溝の状態が判るように側
面を透過して描いてある。試料台1の材質としては、
銅、真ちゅう、アルミニウム、アルミニウム合金、ステ
ンレス、カ−ボン等が用いられ、試料台1の形状として
は、使用する電子顕微鏡の構造により異なるが、通常に
用いられる円柱形状、立方体形状、直方体形状であり、
使用する電子顕微鏡に適合した形状と寸法で用いられ
る。本発明の試料台は走査型電子顕微鏡装置だけに限定
されている訳ではなく、電子顕微鏡としての形態観察機
能をあわせて備えていれば、X線光電子分光装置等の分
析装置、集束イオンビ−ム加工装置等の加工装置の試料
台としても適用が可能である。
【0010】上記の試料台1の試料を載置する主表面を
切削加工し、1箇所以上の鋸歯状の溝を形成する。切削
面はそのままでもよいが、鏡面研磨しておく方が好まし
い。溝の深さは、試料台1の使用時の機械強度が維持さ
れていれば、特に限定されず、試料台1の厚さおよび通
常観察する試料の大きさに応じて決めればよく、溝の幅
は、溝の両端が試料台1の端面にまで達していてもよい
し、一定の幅であってもよい。溝の数は一度に観察した
い試料数に応じて設ければよい。また、複数の溝を設け
る場合には、一定のピッチで規則的に設けてもよいし、
不規則に設けてもよい。図2は、本発明の試料台1の溝
を鋸歯状に一定のピッチで設けた例を示す説明図であ
り、図2(b)に示すように、複数の溝を設けた試料台
の表面の溝の間に平面があっても、また図2(a)に示
すように、複数の溝の間に平面が無くてもよい。ただ
し、ある溝に載置した試料2が大きい場合には、隣接す
る溝に載置した試料はその影になってしまい、観察でき
ないことがあるので、試料載置の場合には、試料間の位
置関係に注意が必要である。
【0011】溝の底がなす角度は、試料の端部断面と同
じ角度であることが好ましく、それよりも鋭角だと試料
2が十分に溝の奥まで入らず、また、それよりも鈍角だ
と試料2が滑って安定しない可能性があり、様々な試料
2を設置する汎用的な使い方をする上からは、溝の底が
なす角度は90度であることが好ましい。
【0012】本発明の電子顕微鏡試料台を用いて試料観
察を行えば、左右それぞれに45度傾けることによっ
て、隣接した2面を90度以上異なる方向から、それぞ
れの面の垂直線上の位置から観察が可能である。
【0013】
【実施例】真ちゅう製の直径30mm、厚さ5mmの円
柱形試料台の中央部に、切削加工により、深さ3mm、
長さ20mm、溝の底の角度が90度の溝を、ピッチ9
mmで3箇所形成した。次に一辺が5mmの立方体形状
の試料3点を用意し、導電性テ−プにより各々の試料を
1個づつ3箇所の溝内に接着し固定した。次に、走査型
電子顕微鏡の試料ステ−ジに試料台を設置し、1×10
-6Torrの真空下で試料の形態観察を行った。先ず最
初の試料の一面を直角方向から観察し、続いて試料台を
傾斜させながら45度の斜め方向から観察をし、次に最
初の一面に隣り合う90度異なる次の面を直上から観察
し、隣接する2面を連続して観察した。次に、他の2点
の試料についても同様に、2つの面を連続して観察し
た。本発明の試料台を用いることにより、試料台に一度
載置すれば、観察対象を90度以上異なる方向から観察
することができた。
【0014】
【発明の効果】本発明による試料台は、試料の隣接する
2面が1回の試料載置で観察でき、試料台に再度セット
し直してから観察する必要もないので、余分な時間を必
要とせず、試料に傷を付けたり、汚染してしまうことが
ないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 電子顕微鏡の本発明の試料台と試料の状態を
示す概略模式図
【図2】 本発明の試料台の溝の例を示す説明図
【図3】 電子顕微鏡の従来の試料台を示す概略模式図
【符号の説明】
1 溝を設けた試料台 2、5試料 3、6電子光学系 4 従来の試料台

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料を固定し観察する電子顕微鏡用試料
    台において、前記試料を載置する試料台の主表面に1箇
    所以上の溝を設けたことを特徴とする電子顕微鏡用試料
    台。
  2. 【請求項2】 前記試料台の主表面に設けられた溝の底
    のなす角度が90度であることを特徴とする請求項1に
    記載の電子顕微鏡用試料台。
  3. 【請求項3】 電子顕微鏡を用いて試料を観察する際
    に、電子顕微鏡用試料台の主表面に1箇所以上の溝を設
    けて試料を載置し、該試料台を傾斜することにより、前
    記試料を一度載置した状態で90度以上異なる角度から
    観察する試料観察方法。
JP2002147298A 2002-05-22 2002-05-22 試料台および試料観察方法 Pending JP2003346693A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002147298A JP2003346693A (ja) 2002-05-22 2002-05-22 試料台および試料観察方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002147298A JP2003346693A (ja) 2002-05-22 2002-05-22 試料台および試料観察方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003346693A true JP2003346693A (ja) 2003-12-05

Family

ID=29766496

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002147298A Pending JP2003346693A (ja) 2002-05-22 2002-05-22 試料台および試料観察方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003346693A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276559A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Canon Inc 試料観察システム及び試料観察方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02145762U (ja) * 1989-05-12 1990-12-11
JPH0765767A (ja) * 1993-08-23 1995-03-10 Canon Inc 走査電子顕微鏡用試料台
JP2001338599A (ja) * 2000-05-29 2001-12-07 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02145762U (ja) * 1989-05-12 1990-12-11
JPH0765767A (ja) * 1993-08-23 1995-03-10 Canon Inc 走査電子顕微鏡用試料台
JP2001338599A (ja) * 2000-05-29 2001-12-07 Hitachi Ltd 荷電粒子線装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276559A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Canon Inc 試料観察システム及び試料観察方法
US8243266B2 (en) 2009-05-29 2012-08-14 Canon Kabushiki Kaisha Sample observation system and sample observation process

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5208449B2 (ja) 試料キャリア及び試料ホルダ
US6188068B1 (en) Methods of examining a specimen and of preparing a specimen for transmission microscopic examination
TWI687671B (zh) 製備微結構診斷用的樣品的方法以及微結構診斷用的樣品
US6300631B1 (en) Method of thinning an electron transparent thin film membrane on a TEM grid using a focused ion beam
US6838685B1 (en) Ion beam apparatus, ion beam processing method and sample holder member
US7112790B1 (en) Method to prepare TEM samples
JPH11108813A (ja) 試料作製方法および装置
BE1007675A3 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van preparaten voor een elektronenmicroscoop.
JP2003346693A (ja) 試料台および試料観察方法
JPH08304243A (ja) 断面薄膜試料及びその作製方法及び断面薄膜試料用ホルダ
JP2009259556A (ja) 電子顕微鏡観察用試料支持部材
US20070029503A1 (en) Grid structure for holding specimen of electron microscopy
Tuggle et al. Electron backscatter diffraction of Nb3Sn coated niobium: Revealing structure as a function of depth
JP2001084939A (ja) 走査電子顕微鏡の試料ホルダ
JP2010097844A (ja) 走査型電子顕微鏡およびその使用方法
JP2008014820A (ja) 試料台
JPH097536A (ja) 試料固定具
JP2001021467A (ja) 集束イオンビームを用いた試料加工方法、及び集束イオンビーム加工装置
JP2008159294A (ja) オージェ分光分析用試料台
JP5255531B2 (ja) 荷電粒子線装置用の試料ホルダ
JP2005293865A (ja) 試料ホルダおよび試料傾斜ホルダ
JP7396192B2 (ja) 電子顕微鏡用試料台の台座、および試料断面の観察方法
JP2776415B2 (ja) 試料ホルダ及びホルダ固定具
Iida et al. Wider vision capability provided by a curved surface sample holder for TOF-SIMS imaging
CN214844915U (zh) 一种能够搭载微纳尺度样品的样品台

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040830

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060612

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060704

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061108