JP2003344787A - Optical switch and method of manufacturing the same - Google Patents
Optical switch and method of manufacturing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信や光情報処
理などにおいて用いられる光スイッチ及びその製造方法
に関するものであり、特に4×4以上の規模でスイッチ
ングするマトリクス光スイッチ及びその製造方法に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical switch used in optical communication, optical information processing and the like and a method for manufacturing the same, and more particularly to a matrix optical switch for switching at a scale of 4 × 4 or more and a method for manufacturing the same. It is a thing.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の複雑な光通信技術の急速な普及に
伴なって、光信号を電気信号に変換することなしに光路
を切り替える技術の必要性が高まってきている。そして
現在、いわゆるプロテクションスイッチとして2×2
(2入力、2出力)の光スイッチなど複数の方式の光ス
イッチが提案されているなかで、消光比特性、PDL
(Polarization Dependent Loss)特性、消費電力など
の特性の有利性から、MEMS(Micro Electro-Mechan
ical Systems)技術を用いた光スイッチが有望である。2. Description of the Related Art With the rapid spread of complicated optical communication technology in recent years, there is an increasing need for a technology for switching an optical path without converting an optical signal into an electric signal. And now 2 x 2 as a so-called protection switch
Among various types of optical switches such as (2-input, 2-output) optical switches, extinction ratio characteristics, PDL
(Polarization Dependent Loss) characteristics, power consumption, etc.
Optical switches using ical systems) technology are promising.
【0003】図12は特開2000−121967号公
報で提供されているMEMS式2×2光スイッチの一例
を示すものであり、シリコン基板20に座ぐり孔21を
設けると共に座ぐり孔21の中央部上に配置した可動板
22がフレクチュア部23を介してシリコン基板20に
結合してある。この可動板22はフレクチュア部23が
変形することによって上下方向に変位するように、静電
駆動されるようになっている。そして可動板22にはミ
ラー24が設けてあり、またシリコン基板20の周辺に
は、出射側光ファイバ25と二本の入射側光ファイバ2
6,27が配置してある。FIG. 12 shows an example of a MEMS type 2 × 2 optical switch provided in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-121967. A counterbore hole 21 is provided in a silicon substrate 20, and the center of the counterbore hole 21 is shown. A movable plate 22 arranged on the above portion is coupled to the silicon substrate 20 via a flexure portion 23. The movable plate 22 is electrostatically driven so as to be displaced in the vertical direction by the deformation of the flexure portion 23. The movable plate 22 is provided with a mirror 24, and the exit side optical fiber 25 and the two entrance side optical fibers 2 are provided around the silicon substrate 20.
6, 27 are arranged.
【0004】このものにあって、出射側光ファイバ25
から出射された光はミラー24で反射され、方向を変換
されて一方の入射側光ファイバ26に入射して伝送され
る。また可動板22が下方へ変位するように駆動される
と、出射側光ファイバ25から出射された光はミラー2
4で反射されることなく直進し、他方の入射側光ファイ
バ27に入射して伝送される。このようにして、光路を
切り替えて光の伝送をすることができるものである。In this case, the output side optical fiber 25
The light emitted from is reflected by the mirror 24, the direction thereof is changed, and the light is incident on one of the incident side optical fibers 26 and transmitted. When the movable plate 22 is driven so as to be displaced downward, the light emitted from the emission side optical fiber 25 is reflected by the mirror 2
The light travels straight without being reflected at 4, and enters the other incident side optical fiber 27 to be transmitted. In this way, the optical path can be switched to transmit light.
【0005】しかしこのものでは、出射側光ファイバ2
5と入射側光ファイバ26,27はシリコン基板20を
介して離れた位置に配置されており、出射側光ファイバ
25と入射側光ファイバ26,27の光軸調整が難しい
という問題がある。特に4×4や8×8というように規
模を拡大した構成で作製した場合には、各光ファイバの
光軸調整は著しく困難になるものであった。However, in this structure, the optical fiber 2 on the output side is
5 and the incident side optical fibers 26 and 27 are arranged at positions separated by the silicon substrate 20, and there is a problem that it is difficult to adjust the optical axes of the emission side optical fiber 25 and the incident side optical fibers 26 and 27. In particular, in the case where the optical fiber is manufactured with a structure having an enlarged scale such as 4 × 4 or 8 × 8, it becomes extremely difficult to adjust the optical axis of each optical fiber.
【0006】また、コア層とクラッド層からなる光導波
路をマトリクス状に配置し、光導波路の交差部に光反射
面を有する可動板を移動可能に設けた光スイッチが特開
平4−52616号公報や「2001IEEE/LEOS Internatio
nal Conference on OpticalMEMS 2001」で提案されてい
るが、このものではコア層とクラッド層からなる光導波
路の形成が困難である等の問題を有するものであった。An optical switch in which optical waveguides composed of a core layer and a clad layer are arranged in a matrix and a movable plate having a light reflecting surface is movably provided at the intersection of the optical waveguides is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-52616. '2001 IEEE / LEOS Internatio
nal Conference on OpticalMEMS 2001 ”, but this had problems such as difficulty in forming an optical waveguide composed of a core layer and a clad layer.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の点に鑑
みてなされたものであり、光軸調整が容易であり、また
作製が容易な光スイッチを提供することを目的とするも
のである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an optical switch in which the optical axis can be easily adjusted and which can be easily manufactured. .
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
光スイッチは、両端部が光入射部1と光出射部2として
形成され、内面に光反射膜3が設けられた複数の光導波
管4と、光出射部2と光入射部1とを対向させて配置し
た隣合う光導波管4の間に設けられ、光出射部2から出
射した光を反射させる位置と反射させない位置との間で
移動可能なミラー5と、複数の光導波管4のうち端部に
位置する光導波管4の光入射部1あるいは光出射部2に
ミラー5を介して光出射部2あるいは光入射部1を対向
させて配置され、内面に光反射膜3が設けられた端部光
導波管6とを備えて成ることを特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided an optical switch having a plurality of optical waveguides, both ends of which are formed as a light incident portion 1 and a light emitting portion 2, and a light reflecting film 3 is provided on an inner surface thereof. It is provided between the wave tube 4 and the adjacent optical waveguides 4 arranged so that the light emitting portion 2 and the light incident portion 1 are opposed to each other, and a position for reflecting the light emitted from the light emitting portion 2 and a position for not reflecting the light. Between the mirror 5 and the light incident part 1 or the light emitting part 2 of the optical waveguide 4 positioned at the end of the plurality of optical waveguides 4 via the mirror 5. It is characterized in that it is provided with an end optical waveguide 6 in which the parts 1 are arranged to face each other and a light reflection film 3 is provided on the inner surface.
【0009】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、光導波管4及びミラー5がマトリクス状に配置して
設けられていることを特徴とするものである。The invention of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the optical waveguides 4 and the mirrors 5 are arranged and arranged in a matrix.
【0010】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、光導波管4と端部光導波管6の内径が、導波し
ようとする光の波長とほぼ同じ寸法であることを特徴と
するものである。The invention of claim 3 is characterized in that in claim 1 or 2, the inner diameters of the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are substantially the same as the wavelength of the light to be guided. It is what
【0011】また請求項4の発明は、請求項1乃至3の
いずれかにおいて、光反射膜3がAu、Al、AuSn
から選ばれた金属の膜で形成されていることを特徴とす
るものである。According to the invention of claim 4, in any one of claims 1 to 3, the light reflection film 3 is Au, Al, AuSn.
It is characterized by being formed of a metal film selected from the following.
【0012】また請求項5の発明は、請求項1乃至4の
いずれかにおいて、光導波管4の光を導波する方向に対
してミラーが45°の角度で傾斜していることを特徴と
するものである。The invention of claim 5 is characterized in that, in any one of claims 1 to 4, the mirror is inclined at an angle of 45 ° with respect to the light guiding direction of the optical waveguide 4. To do.
【0013】また請求項6の発明は、請求項1乃至5の
いずれかにおいて、ミラー5は表面が凹湾曲しているこ
とを特徴とするものである。A sixth aspect of the present invention is characterized in that, in any one of the first to fifth aspects, the surface of the mirror 5 is concavely curved.
【0014】また請求項7の発明は、請求項1乃至6の
いずれかにおいて、光導波管4が直線形状に形成されて
いることを特徴とするものである。The invention of claim 7 is characterized in that, in any one of claims 1 to 6, the optical waveguide 4 is formed in a linear shape.
【0015】また請求項8の発明は、請求項1乃至7の
いずれかにおいて、光導波管4の光入射部1の内径が、
ミラー5を介して隣合う光導波管4の光出射部2の内径
より大きいことを特徴とするものである。According to the invention of claim 8, in any one of claims 1 to 7, the inner diameter of the light incident portion 1 of the optical waveguide 4 is:
It is characterized in that it is larger than the inner diameter of the light emitting portions 2 of the optical waveguides 4 adjacent to each other via the mirror 5.
【0016】また請求項9の発明は、請求項1乃至8の
いずれかにおいて、光導波管4は光入射部1の内径が光
出射部2の内径より大きいことを特徴とするものであ
る。The invention of claim 9 is characterized in that, in any one of claims 1 to 8, the optical waveguide 4 has an inner diameter of the light incident portion 1 larger than an inner diameter of the light emitting portion 2.
【0017】また請求項10の発明は、請求項1乃至9
のいずれかにおいて、端部光導波管6のミラー5側の端
部の内径が反対側の端部の内径より小さいことを特徴と
するものである。Further, the invention of claim 10 is based on claims 1 to 9.
In any of the above, the inner diameter of the end portion of the end optical waveguide 6 on the mirror 5 side is smaller than the inner diameter of the end portion on the opposite side.
【0018】また請求項11の発明は、請求項1乃至1
0のいずれかにおいて、ミラー5は光導波管4及び端部
光導波管6が配置されている面と平行な方向に移動可能
であることを特徴とするものである。The invention of claim 11 relates to claims 1 to 1.
0, the mirror 5 is movable in a direction parallel to the plane on which the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are arranged.
【0019】また請求項12の発明は、請求項1乃至1
1のいずれかにおいて、端部光導波管6は、光出射部2
が複数に分岐して形成されていることを特徴とするもの
である。The twelfth aspect of the invention is the first to the first aspects.
In any one of 1, the end optical waveguide 6 is connected to the light emitting portion 2
Is formed by branching into a plurality of parts.
【0020】また請求項13の発明は、請求項1乃至1
2のいずれかにおいて、光導波管4の内面に周期的な凹
凸7を設けたことを特徴とするものである。The invention of claim 13 relates to claims 1 to 1.
2 is characterized in that the inner surface of the optical waveguide 4 is provided with periodic irregularities 7.
【0021】本発明の請求項14に係る光スイッチの製
造方法は、請求項1乃至13のいずれかに記載の光スイ
ッチを製造するにあたって、表面に溝8を設けると共に
溝8の内面に光反射膜3を形成したシリコン基板9の表
面に、光反射膜3を表面に形成した他のシリコン基板1
0を光反射膜3の側で重ねて接合することによって、内
面に光反射膜3が設けられた光導波管4及び端部光導波
管6を形成することを特徴とするものである。According to a fourteenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an optical switch according to any one of the first to thirteenth aspects, a groove 8 is provided on the surface and light is reflected on the inner surface of the groove 8. Another silicon substrate 1 in which the light reflection film 3 is formed on the surface of the silicon substrate 9 on which the film 3 is formed
It is characterized in that the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 having the light reflection film 3 provided on the inner surface thereof are formed by overlapping and bonding 0 on the side of the light reflection film 3.
【0022】また請求項15の発明は、請求項14にお
いて、光反射膜3をAuで形成することを特徴とするも
のである。According to a fifteenth aspect of the present invention, in the fourteenth aspect, the light reflecting film 3 is formed of Au.
【0023】また請求項16の発明は、請求項14又は
15において、シリコン基板9,10の接合し合う面に
AuSnの膜を形成することを特徴とするものである。According to a sixteenth aspect of the invention, in the fourteenth or fifteenth aspect, an AuSn film is formed on the surfaces of the silicon substrates 9 and 10 to be joined.
【0024】また請求項17の発明は、請求項14乃至
16のいずれかにおいて、シリコン基板9,10同士を
接合するにあたって、一方と他方のシリコン基板9,1
0を嵌合させて結合することを特徴とするものである。The invention according to claim 17 is the method according to any one of claims 14 to 16, wherein when the silicon substrates 9 and 10 are bonded to each other, one silicon substrate 9 and the other silicon substrate 1 are bonded together.
It is characterized by fitting and coupling 0.
【0025】また請求項18の発明は、請求項14乃至
17のいずれかにおいて、一枚のシリコン基板9を加工
して溝8を加工すると共にミラー5を設けた後、このシ
リコン基板9の表面に他のシリコン基板10を接合する
ことを特徴とするものである。According to the eighteenth aspect of the present invention, in any one of the fourteenth to seventeenth aspects, one silicon substrate 9 is processed to form the groove 8 and the mirror 5 is provided, and then the surface of the silicon substrate 9 is processed. Another silicon substrate 10 is bonded to the above.
【0026】本発明の請求項19に係る光スイッチの製
造方法は、請求項1乃至13のいずれかに記載の光スイ
ッチを製造するにあたって、シリコン基板11の表面に
光反射膜3を形成し、この光反射膜3の上にSiO2層
12を堆積して設けた後に、SiO2層12のうち光導
波管4,6を形成しようとする部分を残しながらSiO
2層12をエッチング加工してパターンニングし、パタ
ーンニングしたSiO 2層12の表面に光反射膜3を形
成した後、上記堆積したSiO2層12をエッチングし
て除去することによって、内面に光反射膜3が設けられ
た光導波管4及び端部光導波管6を形成することを特徴
とするものである。Production of an optical switch according to claim 19 of the present invention
The manufacturing method is the optical switch according to any one of claims 1 to 13.
On the surface of the silicon substrate 11 when manufacturing the switch.
A light reflection film 3 is formed, and SiO is formed on the light reflection film 3.Twolayer
After depositing 12 and providingTwoLight out of layer 12
SiO while leaving the portions where the wave tubes 4 and 6 are to be formed
TwoThe layer 12 is etched, patterned and patterned.
Learned SiO TwoForm the light reflection film 3 on the surface of the layer 12
After formation, the deposited SiOTwoEtching layer 12
By removing it, the light reflection film 3 is provided on the inner surface.
The optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are formed.
It is what
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.
【0028】図1は本発明の実施の形態の一例を示すも
のであり、シリコンで形成される基板A内に光導波管4
とミラー5を設けて光スイッチを形成するようにしてあ
る。光導波管4は一方の端部が光入射部1、他方の端部
が光出射部2となった内部空洞の管状に形成してあり、
その内周に光反射膜3を設けることによって、光は光反
射膜3で反射しながら光導波管4内を伝播されるように
なっている。FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention. An optical waveguide 4 is provided in a substrate A made of silicon.
The mirror 5 is provided to form an optical switch. The optical waveguide 4 is formed in a tubular shape having an internal cavity in which one end is a light incident part 1 and the other end is a light emitting part 2.
By providing the light reflection film 3 on the inner periphery thereof, light is propagated through the optical waveguide 4 while being reflected by the light reflection film 3.
【0029】光導波管4は基板A内に光出射部2と光入
射部1を対向させて複数配置して設けられるものであ
り、図1(b)に示すように、光導波管4が横方向に並
ぶ行と光導波管4が縦方向に並ぶ列からなるマトリクス
状に配置してある。光導波管4が横方向に並ぶ行と光導
波管4が縦方向に並ぶ列は直交させてあり、光導波管4
は碁盤目の格子状に配置されるものである。また光導波
管4のうち、基板Aの端部に開口するように形成される
ものは端部光導波管6となるものであり、この端部光導
波管6のうち、基板Aの隣合う側面において、一方の側
面で開口する端部光導波管6で光入力端子部30が、他
方の側面開口する端部光導波管6で光出力端子部31が
形成されるものである。図1(b)にみられるように、
図1の実施の形態は、光入力端子部30の端部光導波路
6が4本、光出力端子部31の端部光導波路6が4本で
あるので、4入力、4出力の4×4光スイッチである。The optical waveguide 4 is provided in the substrate A by arranging a plurality of light emitting portions 2 and light incident portions 1 so as to face each other. As shown in FIG. The optical waveguides 4 are arranged in a matrix with rows arranged in the horizontal direction and columns arranged in the vertical direction. The rows in which the optical waveguides 4 are arranged in the horizontal direction are orthogonal to the rows in which the optical waveguides 4 are arranged in the vertical direction.
Are arranged in a grid pattern. Further, of the optical waveguides 4, the one formed so as to open at the end of the substrate A is the end optical waveguide 6, and the end optical waveguide 6 is adjacent to the substrate A. On the side surface, the optical input terminal portion 30 is formed by the end optical waveguide 6 opened on one side surface, and the optical output terminal portion 31 is formed by the end optical waveguide 6 opened on the other side surface. As can be seen in Figure 1 (b),
In the embodiment of FIG. 1, since there are four end optical waveguides 6 of the light input terminal section 30 and four end optical waveguides 6 of the light output terminal section 31, 4 × 4 of 4 inputs and 4 outputs. It is an optical switch.
【0030】上記の光導波管4(端部光導波管6を含
む、段落内で以下同じ)には16箇所に交差部があり、
各交差部では2本〜4本の光導波管4の端部が対向して
いる。そしてこの各交差部にミラー5が配置して設けて
あり、横方向に隣合う光導波管4の端部間、すなわち一
方の光導波管4の光出射部2と他方の光入射部1の間、
及び縦方向に隣合う光導波管4の端部間、すなわち一方
の光導波管4の光出射部2と他方の光入射部1の間が、
それぞれミラー5で分断されるようにしてある。ミラー
5はその表面が光導波管4の光を導波する方向(長手方
向)に対して45°の角度で傾斜するように配置してあ
り、光導波管4の光出射部2から出射した光の進行方向
を90°変更することができるようにしてある。またミ
ラー5は図2のように光導波管4の交差部に形成された
スリット32内にスライド自在に配置してあり、基板A
内に設けた静電コム駆動式アクチュエータなどのミラー
駆動部33によってミラー5を駆動することができるよ
うにしてある。ミラー5は隣合う光導波管4の交差部内
に差し込まれて、光出射部2から出射された光を反射す
る位置と、この交差部から抜け出して光を反射しない位
置との間で移動駆動されるものである。ミラー5も上記
の光導波管4と同様にマトリクス状に配置されており、
4×4や8×8などの規模の大きい光スイッチを容易に
作製することができるものである。The optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6; the same applies in the following paragraphs) has 16 intersections.
At each intersection, two to four ends of the optical waveguides 4 face each other. Mirrors 5 are arranged and provided at the respective intersections, and between the end portions of the optical waveguides 4 which are laterally adjacent to each other, that is, between the light emitting portion 2 of one optical waveguide 4 and the light incident portion 1 of the other. while,
And between the end portions of the optical waveguides 4 adjacent to each other in the vertical direction, that is, between the light emitting portion 2 of one optical waveguide 4 and the light incident portion 1 of the other.
Each is divided by the mirror 5. The mirror 5 is arranged so that its surface is inclined at an angle of 45 ° with respect to the direction (longitudinal direction) in which the light of the optical waveguide 4 is guided, and is emitted from the light emitting portion 2 of the optical waveguide 4. The light traveling direction can be changed by 90 °. The mirror 5 is slidably arranged in a slit 32 formed at the intersection of the optical waveguides 4 as shown in FIG.
The mirror 5 can be driven by a mirror drive unit 33 such as an electrostatic comb drive type actuator provided therein. The mirror 5 is inserted into the intersection of the adjacent optical waveguides 4 and is driven to move between a position where the light emitted from the light emitting unit 2 is reflected and a position where the light is emitted from the intersection and does not reflect the light. It is something. The mirrors 5 are also arranged in a matrix like the optical waveguide 4,
A large-scale optical switch such as 4 × 4 or 8 × 8 can be easily manufactured.
【0031】上記のように形成される光スイッチにあっ
て、光入力端子30を形成する端部光導波管6の光入射
部1や、光出力端子31を形成する端部光導波管6の光
出射部2には光ファイバーが接続してあり、そして、光
入力端子30を形成する端部光導波管6に入力された光
は、光導波管4の交差部にミラー5が差し込まれている
箇所では、ミラー5によって反射されて進行方向が変更
され、図3(a)の実線矢印のように横方向の光導波管
4から出射した光は縦方向の光導波管4に入射して伝送
され、あるいは破線矢印のように縦方向の光導波管4か
ら出射した光は横方向の光導波管4に入射して伝送され
る。また光導波管4の交差部からミラー5が抜け出てい
る箇所では、ミラー5によって反射されないので方向が
変更されることがなく、図3(b)の実線矢印のように
横方向の光導波管4から出射した光はそのまま横方向の
光導波管4に入射して伝送され、あるいは破線矢印のよ
うに縦方向の光導波管4から出射した光はそのまま縦方
向の光導波管4に入射して伝送される。このようにミラ
ー5をミラー駆動部33で移動させて、光導波管4の所
定箇所の交差部にミラー5を差し込むと共に、所定箇所
の交差部からミラー5を抜くようにミラー5の移動を制
御することによって、光入力端子30を形成する所定の
端部光導波管6から入力された光を、所定の光路の光導
波管4を経て、光出力端子31を形成する所定の端部光
導波管6から出力させることができるものである。In the optical switch formed as described above, in the light incident portion 1 of the end optical waveguide 6 forming the light input terminal 30 and the end optical waveguide 6 forming the light output terminal 31. An optical fiber is connected to the light emitting portion 2, and the light input to the end optical waveguide 6 forming the light input terminal 30 is inserted into the mirror 5 at the intersection of the optical waveguides 4. At the location, the light is reflected by the mirror 5 and the traveling direction is changed, and the light emitted from the horizontal optical waveguide 4 enters the vertical optical waveguide 4 and is transmitted, as indicated by the solid arrow in FIG. Alternatively, the light emitted from the vertical optical waveguide 4 as indicated by the broken line arrow is incident on the horizontal optical waveguide 4 and transmitted. Further, at the location where the mirror 5 is pulled out from the intersection of the optical waveguides 4, the direction is not changed because it is not reflected by the mirror 5, and the optical waveguides in the lateral direction as shown by the solid arrow in FIG. The light emitted from the optical waveguide 4 directly enters the horizontal optical waveguide 4 and is transmitted, or the light emitted from the vertical optical waveguide 4 enters the vertical optical waveguide 4 as indicated by the broken line arrow. Transmitted. In this way, the mirror 5 is moved by the mirror driving unit 33, the mirror 5 is inserted into the intersection of the optical waveguide 4 at a predetermined location, and the movement of the mirror 5 is controlled so that the mirror 5 is removed from the intersection of the predetermined location. By doing so, the light input from the predetermined end optical waveguide 6 forming the optical input terminal 30 is passed through the optical waveguide 4 having a predetermined optical path, and the predetermined end optical waveguide forming the optical output terminal 31 is formed. It can be output from the tube 6.
【0032】ここで、図1の実施の形態では各光導波管
4や端部光導波管6の断面形状は正方形であるが、これ
に限定されるものではなく、円形や他の多角形であって
もよい。光導波管4や端部光導波管6の内径は特に限定
されるものではないが、光通信に用いられる導波光の波
長とほぼ等しい寸法に形成するのが好ましく、例えば内
径1.5μmに形成することができる。このように光導
波管4や端部光導波管6の内径を導波光の波長とほぼ等
しくすることによって、単純なTEモードなど最もシン
プルな伝播方式で伝播することができ、導波モードが単
一になって入射した光波形が変形することなく、低光導
波損失で光路を切り替えることが可能になるものであ
る。Here, in the embodiment of FIG. 1, the cross-sectional shape of each optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 is square, but it is not limited to this, and it may be circular or another polygon. It may be. The inner diameters of the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are not particularly limited, but it is preferable to form the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 to have a dimension substantially equal to the wavelength of the guided light used for optical communication, for example, an inner diameter of 1.5 μm. can do. By making the inner diameters of the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 substantially equal to the wavelength of the guided light in this way, it is possible to propagate by the simplest propagation method such as a simple TE mode, and the waveguide mode is simple. It becomes possible to switch the optical path with a low optical waveguide loss without deforming the waveform of the incident light.
【0033】また、光導波管4や端部光導波管6の内周
に光反射膜3を設けることによって、光は光反射膜3で
反射しながら低い光導波損失で伝播されるようになって
いる。光反射膜3としては特に限定されるものではない
が、Au、Al、AuSnから選ばれた金属の膜で形成
するのが好ましい。これらの金属は光反射率が高く、光
導波損失をより低くすることができるものであり、これ
らのなかでもAuの光反射率が最も高いのでより好まし
い。光導波管4や端部光導波管6は直線形状に形成する
のが好ましい。光導波管4や端部光導波管6を直線形状
に形成することによって、余分な光導波時間や、光導波
損失が生じることなく、光を導波させることができるも
のである。Further, by providing the light reflecting film 3 on the inner circumference of the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6, light is propagated with low optical waveguide loss while being reflected by the light reflecting film 3. ing. Although the light reflection film 3 is not particularly limited, it is preferably formed of a metal film selected from Au, Al, and AuSn. These metals have a high light reflectance and can lower the optical waveguide loss. Among these, Au has the highest light reflectance and is therefore more preferable. The optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are preferably formed in a linear shape. By forming the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 in a linear shape, it is possible to guide light without generating extra optical waveguide time or optical waveguide loss.
【0034】ここで、上記の各光導波管4や端部光導波
管6は同一平面に形成されているが、ミラー5の移動方
向はこの光導波管4や端部光導波管6を形成した面と平
行な方向に設定してある。このようにミラー5の移動方
向を光導波管4や端部光導波管6を形成した面と平行な
方向に設定することによって、ミラー5を移動させるミ
ラー駆動部33を光導波管4や端部光導波管6で囲まれ
るスペース内に設けることができるものであり、基板A
内に光導波管4や端部光導波管6に干渉することなくミ
ラー駆動部33を配置するための特別なスペースを形成
するような必要がなくなって、光スイッチを小型化する
ことができるものである。Here, although the respective optical waveguides 4 and the end optical waveguides 6 are formed on the same plane, the moving direction of the mirror 5 forms the optical waveguides 4 and the end optical waveguides 6. It is set in the direction parallel to the plane. By thus setting the moving direction of the mirror 5 in a direction parallel to the surface on which the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6 are formed, the mirror driving unit 33 for moving the mirror 5 is moved to the optical waveguide 4 and the end. The substrate A can be provided in a space surrounded by the partial optical waveguide 6.
It is not necessary to form a special space for arranging the mirror driving section 33 without interfering with the optical waveguide 4 and the end optical waveguide 6, and the optical switch can be miniaturized. Is.
【0035】図4は本発明の他の実施の形態を示すもの
であり、隣合う光導波管4(端部光導波管6を含む、段
落内で以下同じ)において、光導波管4の光入射部1の
内径がミラー5を挟んで隣合う光導波管4の光出射部2
の内径より大きくなるように、光入射部1の内周を広げ
た構造に形成してある。このようにミラー5を挟んで隣
合う光導波管4の光入射部1の内径を光出射部2の内径
より大きく形成することによって、光出射部2から出射
した光を隣合う光導波管4に光入射部1から効率良く入
射させることができ、隣合う光導波管4の間の光伝播効
率を高く確保することができるものである。また光入力
端子30を形成する端部光導波管6の光入射部1の内径
を大きく形成することによって、光ファイバーから出力
された光を集光して効率良く入射させることができるも
のである。FIG. 4 shows another embodiment of the present invention. In the adjacent optical waveguides 4 (including the end optical waveguides 6, the same applies in the following paragraphs), the optical waveguides 4 The light emitting portions 2 of the optical waveguides 4 whose inner diameters are adjacent to each other with the mirror 5 interposed therebetween.
It is formed in a structure in which the inner circumference of the light incident portion 1 is widened so as to be larger than the inner diameter of the. In this way, by forming the inner diameter of the light incident portion 1 of the adjacent optical waveguides 4 with the mirror 5 interposed therebetween to be larger than the inner diameter of the light emitting portion 2, the light emitted from the light emitting portion 2 is adjacent to the optical waveguides 4. The light can be efficiently incident from the light incident portion 1 and high light propagation efficiency between the adjacent optical waveguides 4 can be ensured. Further, by forming the light incident portion 1 of the end optical waveguide 6 forming the light input terminal 30 to have a large inner diameter, the light output from the optical fiber can be condensed and efficiently incident.
【0036】また、各光導波管4において、光の入射効
率を高く得るために一方の端部の光入射部1の内径は大
きく形成してあるが、他方の端部の光出射部2は光入射
部1の内径より小さくしてある。従って、各光導波管4
において光出射部2の内径を等しく形成することによっ
て、光導波管4内を伝播する光のビームサイズを同一に
することができるものである。Further, in each optical waveguide 4, the inner diameter of the light incident portion 1 at one end is formed to be large in order to obtain high light incident efficiency, but the light emitting portion 2 at the other end is formed. It is smaller than the inner diameter of the light incident portion 1. Therefore, each optical waveguide 4
By forming the light emitting portions 2 to have the same inner diameter, the beam size of the light propagating in the optical waveguide 4 can be made the same.
【0037】さらに、端部光導波管6においても、光の
入射効率を高く得るためにミラー5側の端部の光入射部
1の内径は大きく形成してあるが、ミラー5と反対側の
端部の光出射部2は光入射部1の内径より小さくしてあ
る。そして、光入力端子部30を形成する端部光導波管
6の光入射部1の内径に応じて、光スイッチに入射させ
る光のビーム径を自由に設定することができると共に、
光出射端子部31を形成する端部光導波管6の光出射部
2の内径に応じて、光スイッチから出射させる光のビー
ム径を自由に設定することができるものである。Further, also in the end optical waveguide 6, the inner diameter of the light incident portion 1 at the end on the mirror 5 side is formed to be large in order to obtain high light incidence efficiency, but the inner side of the end opposite to the mirror 5 The light emitting portion 2 at the end is smaller than the inner diameter of the light incident portion 1. The beam diameter of the light incident on the optical switch can be freely set according to the inner diameter of the light incident portion 1 of the end optical waveguide 6 forming the light input terminal portion 30.
The beam diameter of the light emitted from the optical switch can be freely set according to the inner diameter of the light emitting portion 2 of the end optical waveguide 6 forming the light emitting terminal portion 31.
【0038】図5は本発明の他の実施の形態を示すもの
であり、ミラー5の反射面を凹湾曲した曲面に形成して
ある。ミラー5の反射面をこのように凹湾曲面に形成す
ることによって、隣合う一方の光導波管4(端部光導波
管6を含む、段落内で以下同じ)の光出射部2からの光
がミラー5で反射する際に、ミラー5は凹面鏡として作
用し、光を集光した状態で他方の光導波管4の光入射部
1に入射させることができるものであり、隣合う光導波
管4の間の光伝播効率を高く確保することができるもの
である。FIG. 5 shows another embodiment of the present invention, in which the reflecting surface of the mirror 5 is formed into a concave curved surface. By forming the reflecting surface of the mirror 5 in such a concave curved surface, the light from the light emitting section 2 of one adjacent optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6, the same applies in the following paragraphs). When the light is reflected by the mirror 5, the mirror 5 acts as a concave mirror, and the light can be made to enter the light incident part 1 of the other optical waveguide 4 in a condensed state. It is possible to secure a high light propagation efficiency during the period of time.
【0039】図6は本発明の他の実施の形態を示すもの
であり、光出力端子部31を形成する端部光導波管6
は、光出射部2を複数本に分岐してあり、基板Aの端面
において複数箇所に開口させてある。このように端部光
導波管6の光出射部2を複数に分岐することによって、
光出力端子部31を形成する端部光導波管6から出力す
る光信号を分離するいわゆるスプリッター機能を光スイ
ッチの基板A内で実現することが可能になるものであ
る。FIG. 6 shows another embodiment of the present invention, in which the end optical waveguide 6 forming the optical output terminal 31 is formed.
The light emitting portion 2 is branched into a plurality of portions, and the light emitting portion 2 is opened at a plurality of positions on the end surface of the substrate A. In this way, by branching the light emitting portion 2 of the end optical waveguide 6 into a plurality of pieces,
The so-called splitter function for separating the optical signal output from the end optical waveguide 6 forming the optical output terminal portion 31 can be realized in the substrate A of the optical switch.
【0040】図7は本発明の他の実施の形態を示すもの
であり、光導波管4(端部光導波管6を含む、段落内で
以下同じ)の内面に周期構造の凹凸7が設けてある。凹
凸7は光導波管4の底面に光導波管4の長手方向(光の
導波方向)に沿って格子状に凸部7aと凹部7bを、所
定の周期を有するように規則的に設けることによって形
成してある。このように光導波管4に凹凸7を一定ピッ
チで周期的に設けることによって、凹凸7の一ピッチの
周期をΔとすると、波長λ=2Δの光のみを選択的に凹
凸7で反射することができるものである。従って、例え
ばサーキュレータ的な機能を有する逆行する特定波長を
有する光を取り出す機構と組み合せると、特定波長の光
を凹凸7で反射させて取り出したうえで、光スイッチか
ら光を出力させることができるものである。FIG. 7 shows another embodiment of the present invention, in which irregularities 7 having a periodic structure are provided on the inner surface of the optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6, the same applies in the following paragraphs). There is. Concavities and convexities 7 are regularly provided on the bottom surface of the optical waveguide 4 along the longitudinal direction (light guiding direction) of the optical waveguide 4 in a grid pattern of convex portions 7a and concave portions 7b having a predetermined period. Is formed by. As described above, the unevenness 7 is periodically provided in the optical waveguide 4 at a constant pitch, and when the pitch of one unevenness 7 is Δ, only the light having the wavelength λ = 2Δ is selectively reflected by the unevenness 7. Is something that can be done. Therefore, for example, when combined with a mechanism for extracting light having a specific wavelength which has a function of a circulator and goes backward, the light having a specific wavelength can be reflected by the concavities and convexities 7 and extracted, and then output from the optical switch. It is a thing.
【0041】次に、上記のような光スイッチを製造する
にあたって、光反射膜3を内面に設けた光導波管4(端
部光導波管6を含む)を形成する方法について説明す
る。Next, a method for forming the optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6) provided with the light reflection film 3 on the inner surface thereof in manufacturing the above optical switch will be described.
【0042】図8は実施の形態の一例を示すものであ
り、まず図8(a)に示すように、第一のシリコン基板
9の平坦な表面にフォトリソグラフィー技術とエッチン
グ技術により溝8を形成し、この溝8の内面に金属の堆
積により光反射膜3を設ける。光反射膜3は溝8を設け
たシリコン基板9の表面に設けられていてもよい。また
第二のシリコン基板9の平坦な表面にも金属の堆積によ
り光反射膜3を設ける。そして第一のシリコン基板9の
溝8及び光反射膜3を設けた表面に、第二のシリコン基
板10の光反射膜3を設けた表面を重ね、加熱加圧して
各シリコン基板9,10の光反射膜3同士を接着させる
ことによって、図8(b)に示すように、第一のシリコ
ン基板9と第二のシリコン基板10を接合させる。この
ようにして、シリコン基板9,10間の溝8によって、
内面に光反射膜3を設けた光導波管4(端部光導波管6
を含む、段落内で以下同じ)を形成することができるも
のである。このものにあって、溝8は半導体加工プロセ
スの技術をそのまま用いてシリコン基板9に微細寸法で
形成することができるものであり、微小な光導波管4を
容易に作製することができるものである。FIG. 8 shows an example of the embodiment. First, as shown in FIG. 8A, the groove 8 is formed on the flat surface of the first silicon substrate 9 by the photolithography technique and the etching technique. Then, the light reflection film 3 is provided on the inner surface of the groove 8 by depositing metal. The light reflecting film 3 may be provided on the surface of the silicon substrate 9 provided with the groove 8. Further, the light reflecting film 3 is provided on the flat surface of the second silicon substrate 9 by depositing metal. Then, the surface of the second silicon substrate 10 on which the light reflection film 3 is provided is superposed on the surface of the first silicon substrate 9 on which the groove 8 and the light reflection film 3 are provided, and heated and pressed to remove the silicon substrates 9 and 10 from each other. By adhering the light-reflecting films 3 to each other, the first silicon substrate 9 and the second silicon substrate 10 are bonded as shown in FIG. 8B. In this way, by the groove 8 between the silicon substrates 9 and 10,
An optical waveguide 4 (an end optical waveguide 6 provided with a light reflection film 3 on its inner surface)
The same shall apply hereinafter in paragraphs). In this case, the groove 8 can be formed on the silicon substrate 9 with a fine dimension by using the technique of the semiconductor processing process as it is, and the minute optical waveguide 4 can be easily manufactured. is there.
【0043】ここで、図8の実施の形態では、第一のシ
リコン基板9に溝8の内面を含む表面にAuの光反射膜
3aを設け、第二のシリコン基板10の表面にAuSn
の光反射膜3bを設け、Auの光反射膜3aとAuSn
の光反射膜3bを密着させて接合するようにしてある。
AuとAuSnとは加熱加圧によって容易に接着するの
で、第一のシリコン基板9と第二のシリコン基板10の
接合を容易に行なうことができるものである。また溝8
によって形成される光導波管4(端部光導波管6を含
む)の内面の四面のうち三面の光反射膜3をAuで形成
することができるので、光導波損失をより低くすること
ができるものである。Here, in the embodiment of FIG. 8, the light reflecting film 3a of Au is provided on the surface including the inner surface of the groove 8 on the first silicon substrate 9, and AuSn is formed on the surface of the second silicon substrate 10.
Of the Au light reflection film 3a and AuSn
The light-reflecting film 3b is adhered and bonded.
Since Au and AuSn are easily adhered by heating and pressing, the first silicon substrate 9 and the second silicon substrate 10 can be easily joined. Also groove 8
Since the light reflecting films 3 on three of the four inner surfaces of the optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6) formed by Au can be formed of Au, the optical waveguide loss can be further reduced. It is a thing.
【0044】図9の実施の形態では、第一のシリコン基
板9に溝8の内面にAuの光反射膜3aを設けると共に
溝8以外の表面にAuSnの金属膜39を設け、第二の
シリコン基板10の表面にAuの光反射膜3aを設け、
第一のシリコン基板9のAuSnの金属膜39と第二の
シリコン基板10のAuの光反射膜3aを密着させて接
合するようにしてある。このものでは、溝8によって形
成される光導波管4(端部光導波管6を含む)の内面の
全面をAuの光反射膜3aで形成することができ、光導
波損失をより低くすることができるものであり、また第
一のシリコン基板9と第二のシリコン基板10の接合は
AuSnの金属膜39とAuの光反射膜3aによって容
易に行なうことができるものである。In the embodiment shown in FIG. 9, the light reflecting film 3a of Au is provided on the inner surface of the groove 8 on the first silicon substrate 9 and the metal film 39 of AuSn is provided on the surface other than the groove 8, and the second silicon is used. The light reflecting film 3a of Au is provided on the surface of the substrate 10,
The AuSn metal film 39 of the first silicon substrate 9 and the Au light reflection film 3a of the second silicon substrate 10 are brought into close contact with each other to be joined. In this case, the entire inner surface of the optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6) formed by the groove 8 can be formed by the Au light reflecting film 3a, and the optical waveguide loss can be further reduced. Moreover, the first silicon substrate 9 and the second silicon substrate 10 can be easily joined by the AuSn metal film 39 and the Au light reflecting film 3a.
【0045】また上記の図8や図9の実施の形態のよう
に、一枚のシリコン基板9に溝8を加工して光導波管4
(端部光導波管6を含む、段落内で以下同じ)を形成す
る場合、このシリコン基板9にミラー5を設ける加工を
行なうことによって、光導波管4とミラー5を同じシリ
コン基板9に形成することができるものであり、光導波
管4とミラー5を精度高く位置合わせして形成すること
ができるものである。As in the embodiment shown in FIGS. 8 and 9, the optical waveguide 4 is formed by processing the groove 8 in one silicon substrate 9.
In the case of forming (including the end optical waveguide 6 and the same in the following paragraphs), the optical waveguide 4 and the mirror 5 are formed on the same silicon substrate 9 by performing a process of providing the mirror 5 on the silicon substrate 9. The optical waveguide 4 and the mirror 5 can be accurately aligned and formed.
【0046】図10は本発明の他の実施の形態を示すも
のであり、第一のシリコン基板9と第二のシリコン基板
10のそれぞれの表面に溝8を設け、第一のシリコン基
板9の溝8の内面にAuの光反射膜3aを形成すると共
に溝8以外の表面にAuSnの金属膜39を形成してあ
る。第二のシリコン基板10には溝8を含む表面にAu
の光反射膜3aが形成してある。また第一のシリコン基
板9の接合面には凹部36が、第二のシリコン基板10
の接合面には凸部37がそれぞれ設けてある。そして凹
部36と凸部37を嵌合することによって、両シリコン
基板9,10を図10(b)のように結合し、加熱加圧
して接合するようにしてある。このように凹部36と凸
部37を嵌合することによって、一対のシリコン基板
9,10を正確に位置合わせした状態で接合することが
できるものであり、精度高く光導波管4(端部光導波管
6を含む)の形成を行なうことができるものである。FIG. 10 shows another embodiment of the present invention. Grooves 8 are provided on the respective surfaces of the first silicon substrate 9 and the second silicon substrate 10, and the first silicon substrate 9 is formed. An Au light reflecting film 3a is formed on the inner surface of the groove 8 and an AuSn metal film 39 is formed on the surface other than the groove 8. Au is formed on the surface of the second silicon substrate 10 including the groove 8.
The light reflection film 3a is formed. Further, a concave portion 36 is formed on the bonding surface of the first silicon substrate 9 and the second silicon substrate 10
A convex portion 37 is provided on each of the joint surfaces. Then, by fitting the concave portion 36 and the convex portion 37, the two silicon substrates 9 and 10 are combined as shown in FIG. 10B, and they are joined by heating and pressing. By fitting the concave portion 36 and the convex portion 37 in this manner, the pair of silicon substrates 9 and 10 can be joined in a state where they are accurately aligned, and the optical waveguide 4 (the end portion optical waveguide is highly accurate). (Including the wave tube 6).
【0047】図11は光導波管4(端部光導波管6を含
む、段落内で以下同じ)を形成する方法の他の実施の形
態を示すものであり、まず図11(a)のように、シリ
コン基板11の表面にAu等の金属を堆積して光反射膜
3を形成する。次にこの光反射膜3の上に図11(b)
のようにSiO2を堆積してSiO2層12を形成す
る。次いで、フォトリソグラフィー技術とエッチング技
術により、SiO2層12の一部を残して他の部分を除
去する。そして残したSiO2層12の表面にAu等の
金属を堆積して図11(d)のように光反射膜3を形成
した後、さらにHF液等でこのSiO2層12を除去す
ることによって、図11(e)のように光反射層3で囲
まれた光導波管4を形成することができるものである。
このようにして、上記のように二枚のシリコン基板9,
10を接合して用いる必要なく、一枚のシリコン基板1
1で光スイッチを作製することができるものである。FIG. 11 shows another embodiment of the method of forming the optical waveguide 4 (including the end optical waveguide 6, the same applies in the following paragraphs). First, as shown in FIG. Then, a metal such as Au is deposited on the surface of the silicon substrate 11 to form the light reflection film 3. Next, as shown in FIG.
SiO 2 is deposited as described above to form the SiO 2 layer 12. Then, by photolithography and etching, a part of the SiO 2 layer 12 is left and the other part is removed. Then, a metal such as Au is deposited on the surface of the remaining SiO 2 layer 12 to form the light reflecting film 3 as shown in FIG. 11D, and then the SiO 2 layer 12 is removed with an HF solution or the like. The optical waveguide 4 surrounded by the light reflection layer 3 can be formed as shown in FIG.
In this way, as described above, the two silicon substrates 9,
One silicon substrate 1 without the need to bond and use 10.
The optical switch can be manufactured with 1.
【0048】[0048]
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る光
スイッチは、両端部が光入射部と光出射部として形成さ
れ、内面に光反射膜が設けられた複数の光導波管と、光
出射部と光入射部とを対向させて配置した隣合う光導波
管の間に設けられ、光出射部から出射した光を反射させ
る位置と反射させない位置との間で移動可能なミラー
と、複数の光導波管のうち端部に位置する光導波管の光
入射部あるいは光出射部にミラーを介して光出射部ある
いは光入射部を対向させて配置され、内面に光反射膜が
設けられた端部光導波管とを備えるので、ミラーを介し
て対向する光導波管の間隔や光導波管と端部光導波管の
間隔を微小に形成することができ、光導波管や端部光導
波管の光軸調整が容易になるものであり、また光導波管
や端部光導波管は光反射膜を設けることによって形成す
ることができ、コア層とクラッド層から形成する場合よ
りも作製が容易になるものである。As described above, the optical switch according to claim 1 of the present invention comprises a plurality of optical waveguides having both ends formed as a light incident part and a light emitting part, and a light reflecting film provided on the inner surface. A mirror provided between adjacent optical waveguides arranged so that the light emitting portion and the light incident portion face each other, and movable between a position for reflecting the light emitted from the light emitting portion and a position for not reflecting the light. , The light emitting portion or the light emitting portion of the optical waveguide located at the end of the plurality of optical waveguides is arranged to face the light emitting portion or the light incident portion via a mirror, and the light reflecting film is provided on the inner surface. Since the optical waveguide and the end optical waveguide are provided, the distance between the optical waveguides facing each other via the mirror and the distance between the optical waveguide and the end optical waveguide can be minutely formed. It is easy to adjust the optical axis of the optical waveguide, and the optical waveguide and the end optical waveguide are It can be formed by providing a reflection film, in which manufacturing is made easier than in the case of forming a core layer and a clad layer.
【0049】また請求項2の発明は、請求項1におい
て、光導波管及びミラーがマトリクス状に配置して設け
られているので、4×4や8×8などの規模の大きい光
スイッチを容易に作製することができるものである。Further, in the invention of claim 2, since the optical waveguides and the mirrors are arranged and arranged in a matrix in the invention of claim 1, a large-scale optical switch such as 4 × 4 or 8 × 8 can be easily realized. It can be produced in.
【0050】また請求項3の発明は、請求項1又は2に
おいて、光導波管と端部光導波管の内径が、導波しよう
とする光の波長とほぼ同じ寸法であるので、導波モード
が単一になって入射した光波形が変形することなく、低
光導波損失で光路を切り替えることが可能になるもので
ある。The invention according to claim 3 is the waveguide mode according to claim 1 or 2, wherein the inner diameters of the optical waveguide and the end optical waveguide are substantially the same as the wavelength of the light to be guided. It becomes possible to switch the optical path with a low optical waveguide loss without causing the incident optical waveform to be deformed due to the single optical path.
【0051】また請求項4の発明は、請求項1乃至3の
いずれかにおいて、光反射膜がAu、Al、AuSnか
ら選ばれた金属の膜で形成されているので、これらの金
属は光反射率が高く、光導波損失を低くすることができ
るものである。According to the invention of claim 4, in any one of claims 1 to 3, since the light reflecting film is formed of a metal film selected from Au, Al and AuSn, these metals reflect light. The optical waveguide loss is high and the optical waveguide loss can be reduced.
【0052】また請求項5の発明は、請求項1乃至4の
いずれかにおいて、光導波管の光を導波する方向に対し
てミラーが45°の角度で傾斜しているので、光導波管
の光出射部から出射した光の進行方向を90°変更する
ことができるものである。According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, since the mirror is inclined at an angle of 45 ° with respect to the light guiding direction of the optical waveguide, the optical waveguide is provided. The traveling direction of the light emitted from the light emitting portion can be changed by 90 °.
【0053】また請求項6の発明は、請求項1乃至5の
いずれかにおいて、ミラーは表面が凹湾曲しているの
で、光を集光した状態で次の光導波管の光入射部に入射
させることができ、光伝播効率を高く確保することがで
きるものである。According to the invention of claim 6, in any one of claims 1 to 5, the surface of the mirror is concavely curved, so that the light is incident on the light incident part of the next optical waveguide in a state where the light is condensed. Therefore, it is possible to ensure high light propagation efficiency.
【0054】また請求項7の発明は、請求項1乃至6の
いずれかにおいて、光導波管が直線形状に形成されてい
るので、余分な光導波時間や光導波損失が生じることな
く、光を導波することができるものである。According to the invention of claim 7, in any one of claims 1 to 6, since the optical waveguide is formed in a linear shape, the light is guided without extra optical waveguide time or optical waveguide loss. It can be guided.
【0055】また請求項8の発明は、請求項1乃至7の
いずれかにおいて、光導波管の光入射部の内径が、ミラ
ーを介して隣合う光導波管の光出射部の内径より大きい
ので、光出射部から出射した光を隣合う光導波管の光入
射部に効率良く入射させることができ、光伝播効率を高
く確保することができるものである。According to the invention of claim 8, in any one of claims 1 to 7, the inner diameter of the light incident portion of the optical waveguide is larger than the inner diameter of the light emitting portion of the adjacent optical waveguide via the mirror. The light emitted from the light emitting portion can be efficiently incident on the light incident portions of the adjacent optical waveguides, and high light propagation efficiency can be ensured.
【0056】また請求項9の発明は、請求項1乃至8の
いずれかにおいて、光導波管は光入射部の内径が光出射
部の内径より大きいので、各光導波管において光出射部
の内径を等しく形成することによって、光導波管内を伝
播する光のビームサイズを同一にすることができるもの
である。According to a ninth aspect of the present invention, in the optical waveguide according to any one of the first to eighth aspects, since the inner diameter of the light incident portion is larger than the inner diameter of the light emitting portion, the inner diameter of the light emitting portion is different in each optical waveguide. By making them equal, the beam size of the light propagating in the optical waveguide can be made the same.
【0057】また請求項10の発明は、請求項1乃至9
のいずれかにおいて、端部光導波管のミラー側の端部の
内径が反対側の端部の内径より小さいので、光入力端子
部を形成する端部光導波管の光入射部の内径に応じて、
光スイッチに入射させる光のビーム径を自由に設定する
ことができると共に、光出射端子部を形成する端部光導
波管の光出射部の内径に応じて、光スイッチから出射さ
せる光のビーム径を自由に設定することができるもので
ある。Further, the invention of claim 10 relates to claims 1 to 9.
In either case, the inner diameter of the mirror-side end of the end optical waveguide is smaller than the inner diameter of the opposite end, so that the inner diameter of the light incident part of the end optical waveguide forming the optical input terminal is hand,
The beam diameter of the light entering the optical switch can be set freely, and the beam diameter of the light emitted from the optical switch can be set according to the inner diameter of the light emitting portion of the end optical waveguide forming the light emitting terminal. Can be set freely.
【0058】また請求項11の発明は、請求項1乃至1
0のいずれかにおいて、ミラーは光導波管及び端部光導
波管が配置されている面と平行な方向に移動可能である
ので、ミラーを移動させるミラー駆動部を光導波管や端
部光導波管で囲まれるスペースを利用して設けることが
できるものであり、光スイッチを小型化することができ
るものである。Further, the invention of claim 11 relates to claims 1 to 1.
0, the mirror is movable in a direction parallel to the surface on which the optical waveguide and the end optical waveguide are arranged. The optical switch can be provided by utilizing the space surrounded by the tube, and the optical switch can be miniaturized.
【0059】また請求項12の発明は、請求項1乃至1
1のいずれかにおいて、端部光導波管は、光出射部が複
数に分岐して形成されているので、端部光導波管から出
力する光信号を分離することができるものである。The twelfth aspect of the present invention provides the first aspect.
In any one of the first to third aspects, the end optical waveguide is formed by branching the light emitting portion into a plurality of parts, so that the optical signal output from the end optical waveguide can be separated.
【0060】また請求項13の発明は、請求項1乃至1
2のいずれかにおいて、光導波管の内面に周期的な凹凸
を設けたので、特定波長の光を凹凸で反射させて取り出
したうえで、光スイッチから光を出力させることができ
るものである。The thirteenth aspect of the present invention provides the first aspect.
In any one of 2), since the inner surface of the optical waveguide is provided with periodic unevenness, it is possible to output the light from the optical switch after the light of the specific wavelength is reflected by the unevenness to be extracted.
【0061】本発明の請求項14に係る光スイッチの製
造方法は、請求項1乃至13のいずれかに記載の光スイ
ッチを製造するにあたって、表面に溝を設けると共に溝
の内面に光反射膜を形成したシリコン基板の表面に、光
反射膜を表面に形成した他のシリコン基板を光反射膜の
側で重ねて接合することによって、内面に光反射膜が設
けられた光導波管及び端部光導波管を形成するようにし
たので、溝は半導体加工プロセスの技術をそのまま用い
てシリコン基板に微細寸法で形成することができるもの
であり、微小な光導波管や端部光導波管を容易に作製す
ることができるものである。According to a fourteenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an optical switch according to any one of the first to thirteenth aspects, a groove is provided on the surface and a light reflecting film is formed on the inner surface of the groove. By joining another silicon substrate having a light-reflecting film formed on the surface thereof to the surface of the formed silicon substrate, the light-reflecting film is provided on the inner surface of the optical waveguide and the end waveguide. Since the waveguide is formed, the groove can be formed in a fine dimension on the silicon substrate by using the technique of the semiconductor processing process as it is, and a minute optical waveguide or an end optical waveguide can be easily formed. It can be produced.
【0062】また請求項15の発明は、請求項14にお
いて、光反射膜をAuで形成するようにしたので、Au
は光反射率が高く、光導波損失を低くすることができる
ものである。According to the fifteenth aspect of the invention, in the fourteenth aspect, the light reflecting film is formed of Au.
Has a high light reflectance and can reduce optical waveguide loss.
【0063】また請求項16の発明は、請求項14又は
15において、シリコン基板の接合し合う面にAuSn
の膜を形成するようにしたので、AuSnは加熱加圧に
よって容易に接着し、シリコン基板の接合を容易に行な
うことができるものである。According to a sixteenth aspect of the invention, in the fourteenth or fifteenth aspect, AuSn is formed on the surfaces of the silicon substrates to be joined.
Since the above film is formed, AuSn can be easily adhered by heating and pressurization, and the silicon substrates can be easily joined.
【0064】また請求項17の発明は、請求項14乃至
16のいずれかにおいて、シリコン基板同士を接合する
にあたって、一方と他方のシリコン基板を嵌合させて結
合するようにしたので、シリコン基板を正確に位置合わ
せした状態で接合することができるものであり、精度高
く光導波管や端部光導波管の形成を行なうことができる
ものである。According to the seventeenth aspect of the present invention, in joining the silicon substrates according to any one of the fourteenth to sixteenth aspects, one silicon substrate and the other silicon substrate are fitted and joined together. The optical waveguide and the end optical waveguide can be formed with high accuracy because they can be joined in a state where they are accurately aligned.
【0065】また請求項18の発明は、請求項14乃至
17のいずれかにおいて、一枚のシリコン基板を加工し
て溝を加工すると共にミラーを設けた後、このシリコン
基板の表面に他のシリコン基板を接合するようにしたの
で、光導波管とミラーを同じシリコン基板に形成するこ
とができるものであり、光導波管とミラーを精度高く位
置合わせして形成することができるものである。According to the eighteenth aspect of the present invention, in any one of the fourteenth to seventeenth aspects, one silicon substrate is processed to form a groove and a mirror is provided, and then another silicon is formed on the surface of the silicon substrate. Since the substrates are bonded to each other, the optical waveguide and the mirror can be formed on the same silicon substrate, and the optical waveguide and the mirror can be accurately aligned and formed.
【0066】また本発明の請求項19に係る光スイッチ
の製造方法は、請求項1乃至13のいずれかに記載の光
スイッチを製造するにあたって、シリコン基板の表面に
光反射膜を形成し、この光反射膜の上にSiO2層を堆
積して設けた後に、SiO2層のうち光導波管を形成し
ようとする部分を残しながらSiO2層をエッチング加
工してパターンニングし、パターンニングしたSiO2
層の表面に光反射膜を形成した後、上記堆積したSiO
2層をエッチングして除去することによって、内面に光
反射膜が設けられた光導波管及び端部光導波管を形成す
るようにしたので、二枚のシリコン基板を接合して用い
る必要なく、一枚のシリコン基板で光スイッチを作製す
ることができるものである。According to a nineteenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an optical switch according to any one of the first to thirteenth aspects, a light reflection film is formed on a surface of a silicon substrate, After the SiO 2 layer is deposited and provided on the light reflection film, the SiO 2 layer is etched and patterned while leaving a portion of the SiO 2 layer where the optical waveguide is to be formed, and the patterned SiO 2 is formed. Two
After forming a light reflecting film on the surface of the layer, the deposited SiO
By removing the two layers by etching, the optical waveguide having the light reflection film provided on the inner surface and the end optical waveguide are formed. Therefore, it is not necessary to use two silicon substrates by bonding them. An optical switch can be manufactured with a single silicon substrate.
【図1】本発明の実施の形態の一例を示すものであり、
(a)は斜視図、(b)は(a)の厚み方向中央部での
水平断面図である。FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention,
(A) is a perspective view, (b) is a horizontal sectional view in the thickness direction central part of (a).
【図2】同上の一部の拡大した斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of a part of the above.
【図3】同上の一部を拡大して示すものであり、
(a),(b)はそれぞれ水平断面図である。FIG. 3 is an enlarged view of a part of the above.
(A), (b) is a horizontal sectional view, respectively.
【図4】本発明の他の実施の形態の一例を示す、一部の
拡大した水平断面図である。FIG. 4 is a partially enlarged horizontal sectional view showing an example of another embodiment of the present invention.
【図5】本発明の他の実施の形態の一例を示す、一部の
拡大した水平断面図である。FIG. 5 is a partially enlarged horizontal sectional view showing an example of another embodiment of the present invention.
【図6】本発明の他の実施の形態の一例を示すものであ
り、(a)は一部の斜視図、(b)は一部の平面図であ
る。6A and 6B show an example of another embodiment of the present invention, in which FIG. 6A is a partial perspective view and FIG. 6B is a partial plan view.
【図7】本発明の他の実施の形態の一例を示すものであ
り、(a)は一部の縦断面図、(b)は一部の平面図で
ある。7A and 7B show an example of another embodiment of the present invention, in which FIG. 7A is a partial vertical sectional view and FIG. 7B is a partial plan view.
【図8】本発明の他の実施の形態の一例を示すものであ
り、(a),(b)はそれぞれ一部の縦断面である。FIG. 8 shows an example of another embodiment of the present invention, in which (a) and (b) are partial vertical cross sections.
【図9】本発明の他の実施の形態の一例を示すものであ
り、(a),(b)はそれぞれ一部の縦断面である。FIG. 9 shows an example of another embodiment of the present invention, in which (a) and (b) are partial vertical cross sections.
【図10】本発明の他の実施の形態の一例を示すもので
あり、(a),(b)はそれぞれ一部の縦断面である。FIG. 10 shows an example of another embodiment of the present invention, in which (a) and (b) are partial vertical cross sections.
【図11】本発明の他の実施の形態の一例を示すもので
あり、(a)乃至(e)はそれぞれ一部の縦断面であ
る。FIG. 11 shows an example of another embodiment of the present invention, in which (a) to (e) are partial vertical cross sections.
【図12】従来例を示すものであり、(a)は平面図、
(b)は縦断面図である。FIG. 12 shows a conventional example, (a) is a plan view,
(B) is a longitudinal sectional view.
1 光入射部 2 光射出部 3 光反射膜 4 光導波管 5 ミラー 6 端部光導波管 7 凹凸 8 溝 9 シリコン基板 10 シリコン基板 11 シリコン基板 12 SiO2層1 Light Incident Part 2 Light Emitting Part 3 Light Reflecting Film 4 Optical Waveguide 5 Mirror 6 Edge Optical Waveguide 7 Concavo-convex 8 Groove 9 Silicon Substrate 10 Silicon Substrate 11 Silicon Substrate 12 SiO 2 Layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮島 久和 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 (72)発明者 荻原 淳 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 2H041 AA16 AB14 AB15 AC06 AZ02 AZ08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Kazukazu Miyajima 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company (72) Inventor Atsushi Ogihara 1048, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric Works Co., Ltd. Inside the company F-term (reference) 2H041 AA16 AB14 AB15 AC06 AZ02 AZ08
Claims (19)
され、内面に光反射膜が設けられた複数の光導波管と、
光出射部と光入射部とを対向させて配置した隣合う光導
波管の間に設けられ、光出射部から出射した光を反射さ
せる位置と反射させない位置との間で移動可能なミラー
と、複数の光導波管のうち端部に位置する光導波管の光
入射部あるいは光出射部にミラーを介して光出射部ある
いは光入射部を対向させて配置され、内面に光反射膜が
設けられた端部光導波管とを備えて成ることを特徴とす
る光スイッチ。1. A plurality of optical waveguides, both ends of which are formed as a light incident portion and a light emitting portion, and a light reflecting film is provided on an inner surface,
A mirror that is provided between adjacent optical waveguides that are arranged so that the light emitting portion and the light incident portion face each other, and is movable between a position that reflects the light emitted from the light emitting portion and a position that does not reflect the light, The light incident portion or the light emitting portion of the optical waveguide located at the end of the plurality of optical waveguides is arranged to face the light emitting portion or the light incident portion via a mirror, and the light reflecting film is provided on the inner surface. And an end optical waveguide.
置して設けられていることを特徴とする請求項1に記載
の光スイッチ。2. The optical switch according to claim 1, wherein the optical waveguides and the mirrors are arranged and provided in a matrix.
しようとする光の波長とほぼ同じ寸法であることを特徴
とする請求項1又は2に記載の光スイッチ。3. The optical switch according to claim 1, wherein the inner diameters of the optical waveguide and the end optical waveguide are substantially the same as the wavelength of the light to be guided.
ばれた金属の膜で形成されていることを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載の光スイッチ。4. The optical switch according to claim 1, wherein the light reflecting film is formed of a metal film selected from Au, Al, and AuSn.
ラーが45°の角度で傾斜していることを特徴とする請
求項1乃至4のいずれかに記載の光スイッチ。5. The optical switch according to claim 1, wherein the mirror is inclined at an angle of 45 ° with respect to the light guiding direction of the optical waveguide.
徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光スイッ
チ。6. The optical switch according to claim 1, wherein the mirror has a concavely curved surface.
とを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光ス
イッチ。7. The optical switch according to claim 1, wherein the optical waveguide is formed in a linear shape.
介して隣合う光導波管の光出射部の内径より大きいこと
を特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の光スイ
ッチ。8. The light according to claim 1, wherein an inner diameter of a light incident portion of the optical waveguide is larger than an inner diameter of a light emitting portion of an adjacent optical waveguide via a mirror. switch.
内径より大きいことを特徴とする請求項1乃至8のいず
れかに記載の光スイッチ。9. The optical switch according to claim 1, wherein the optical waveguide has an inner diameter of a light incident portion larger than an inner diameter of a light emitting portion.
が反対側の端部の内径より小さいことを特徴とする請求
項1乃至9のいずれかに記載の光スイッチ。10. The optical switch according to claim 1, wherein the mirror-side end of the end optical waveguide has an inner diameter smaller than that of the opposite end.
配置されている面と平行な方向に移動可能であることを
特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の光スイ
ッチ。11. The optical switch according to claim 1, wherein the mirror is movable in a direction parallel to a surface on which the optical waveguide and the end optical waveguide are arranged.
岐して形成されていることを特徴とする請求項1乃至1
1のいずれかに記載の光スイッチ。12. The end optical waveguide is characterized in that a light emitting portion is formed by branching into a plurality of portions.
1. The optical switch according to any one of 1.
たことを特徴とする請求項1乃至12のいずれかに記載
の光スイッチ。13. The optical switch according to claim 1, wherein the inner surface of the optical waveguide is provided with periodic irregularities.
光スイッチを製造するにあたって、表面に溝を設けると
共に溝の内面に光反射膜を形成したシリコン基板の表面
に、光反射膜を表面に形成した他のシリコン基板を光反
射膜の側で重ねて接合することによって、内面に光反射
膜が設けられた光導波管及び端部光導波管を形成するこ
とを特徴とする光スイッチの製造方法。14. The method for manufacturing the optical switch according to claim 1, wherein a groove is provided on the surface and a light reflecting film is formed on the surface of the silicon substrate having the light reflecting film formed on the inner surface of the groove. Of another optical substrate characterized by forming an optical waveguide and an end optical waveguide provided with a light reflecting film on the inner surface by overlapping and bonding another silicon substrate formed on the side of the light reflecting film. Production method.
とする請求項14に記載の光スイッチの製造方法。15. The method of manufacturing an optical switch according to claim 14, wherein the light reflecting film is formed of Au.
nの膜を形成することを特徴とする請求項14又は15
に記載の光スイッチの製造方法。16. AuS is formed on the surfaces of the silicon substrates which are joined to each other.
A film of n is formed.
A method for manufacturing the optical switch described in.
て、一方と他方のシリコン基板を嵌合させて結合するこ
とを特徴とする請求項14乃至16のいずれかに記載の
光スイッチの製造方法。17. The method of manufacturing an optical switch according to claim 14, wherein, when the silicon substrates are bonded to each other, one silicon substrate and the other silicon substrate are fitted and bonded to each other.
工すると共にミラーを設けた後、このシリコン基板の表
面に他のシリコン基板を接合することを特徴とする請求
項14乃至17のいずれかに記載の光スイッチの製造方
法。18. A silicon substrate is processed to form a groove and a mirror is provided, and then another silicon substrate is bonded to the surface of the silicon substrate. A method for manufacturing an optical switch according to claim 1.
光スイッチを製造するにあたって、シリコン基板の表面
に光反射膜を形成し、この光反射膜の上にSiO2層を
堆積して設けた後に、SiO2層のうち光導波管を形成
しようとする部分を残しながらSiO2層をエッチング
加工してパターンニングし、パターンニングしたSiO
2層の表面に光反射膜を形成した後、上記堆積したSi
O2層をエッチングして除去することによって、内面に
光反射膜が設けられた光導波管及び端部光導波管を形成
することを特徴とする光スイッチの製造方法。19. In manufacturing the optical switch according to claim 1, a light reflecting film is formed on a surface of a silicon substrate, and a SiO 2 layer is deposited on the light reflecting film. After that, the SiO 2 layer is etched and patterned while leaving a portion of the SiO 2 layer where the optical waveguide is to be formed, and the patterned SiO 2 layer is formed.
After forming a light reflecting film on the surface of the two layers, the deposited Si
A method for manufacturing an optical switch, characterized by forming an optical waveguide having an optical reflection film on its inner surface and an end optical waveguide by etching and removing the O 2 layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002154811A JP2003344787A (en) | 2002-05-28 | 2002-05-28 | Optical switch and method of manufacturing the same |
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- 2002-05-28 JP JP2002154811A patent/JP2003344787A/en not_active Withdrawn
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