JP2003337430A - Developer, colored image forming method, method for producing color filter and method for producing color filter affixed array substrate - Google Patents

Developer, colored image forming method, method for producing color filter and method for producing color filter affixed array substrate

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JP2003337430A
JP2003337430A JP2002146542A JP2002146542A JP2003337430A JP 2003337430 A JP2003337430 A JP 2003337430A JP 2002146542 A JP2002146542 A JP 2002146542A JP 2002146542 A JP2002146542 A JP 2002146542A JP 2003337430 A JP2003337430 A JP 2003337430A
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JP
Japan
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mass
colored image
color filter
developer
resin
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Application number
JP2002146542A
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Japanese (ja)
Inventor
Shohei Yoshida
昌平 吉田
Masanori Satake
正紀 佐武
Mitsutoshi Tanaka
光利 田中
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a developer excellent in residue removing property and capable of forming a colored image having good contact resistance. <P>SOLUTION: The developer contains a nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in one molecule, a compound having an aromatic ring and a carbonate. Preferably the nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in one molecule is at least one selected from triethylenetetramine, pentaethylenehexamine and di-tert-butylethylenediamine, the aromatic ring is at least one of naphthalene and benzene rings and the carbonate contains no metal ion. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、現像液、これを用
いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方
法、及び、カラーフィルター付アレイ基板の製法方法に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a developing solution, a method for forming a colored image using the same, a method for producing a color filter, and a method for producing an array substrate with a color filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示デバイス、センサー及び
色分解デバイス等において、カラーフィルターが多用さ
れている。このカラーフィルターの製造方法としては、
従来より、染色可能な樹脂、例えば天然のゼラチンやカ
ゼインをパターニングし、そこに主に染料を用いて染色
し、画素を得るという方法が採られていた。しかし、こ
の方法で得た画素は、材料からの制約で耐熱性及び耐光
性が低いという問題があった。
2. Description of the Related Art In recent years, color filters have been widely used in liquid crystal display devices, sensors, color separation devices and the like. As a method of manufacturing this color filter,
Conventionally, a method has been adopted in which a dyeable resin, for example, natural gelatin or casein is patterned and dyed there mainly with a dye to obtain pixels. However, the pixel obtained by this method has a problem that the heat resistance and the light resistance are low due to restrictions of the material.

【0003】そこで最近、耐熱性及び耐光性を改良する
目的で顔料を分散した感光材料を用いる方法が注目さ
れ、多くの検討が行われるようになった。この方法によ
れば製法も簡略化され、得られたカラーフィルターも安
定で寿命の長いものになることが知られている。このよ
うに顔料を分散させたフォトレジストを利用した着色画
像の作製が、得られる画像の安定性、寿命の長さから賞
揚されている。
Therefore, recently, a method of using a photosensitive material in which a pigment is dispersed for the purpose of improving heat resistance and light resistance has attracted attention, and many studies have been conducted. It is known that according to this method, the manufacturing method is simplified and the color filter obtained is stable and has a long life. The production of a colored image using a photoresist in which a pigment is dispersed in this manner has been praised for the stability of the obtained image and the long life.

【0004】しかし、前記方法においても、顔料を分散
させたフォトレジストの現像の技術が困難であり、特に
現像時間、解像性、現像残渣の問題を全て満足すること
が難しく問題があった。特にアレイ基板上にカラーフィ
ルターを形成する際に用いられる金属イオンフリーの現
像液を使用した場合には、残渣によりコンタクト抵抗が
低下してしまうという問題があった。
However, even in the above method, it is difficult to develop a photoresist in which a pigment is dispersed, and it is difficult to satisfy all the problems of developing time, resolution and development residue. In particular, when a metal ion-free developing solution used for forming a color filter on an array substrate is used, there is a problem that the contact resistance decreases due to the residue.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、金属イオンを含有しない場
合であっても、残渣除去性に優れ、コンタクト抵抗が良
好な着色画像を形成可能な現像液、該現像液を用いた着
色画像形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、
カラーフィルター付アレイ基板の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the various problems in the prior art and achieve the following objects. That is, the present invention provides a developer capable of forming a colored image having excellent residue removability and good contact resistance even when containing no metal ion, a colored image forming method using the developer, and a color filter. And a manufacturing method of
It is an object to provide a method for manufacturing an array substrate with a color filter.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。即ち、 <1> 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒素化合
物と、芳香環を有する化合物と、炭酸塩とを含むことを
特徴とする現像液である。 <2> 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒素化合
物が、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサ
ミン、及び、ジ−tert−ブチルエチレンジアミンの
少なくともいずれかである前記<1>に記載の現像液で
ある。 <3> 芳香環が、ナフタレン環及びベンゼン環の少な
くともいずれかである前記<1>又は<2>に記載の現
像液である。 <4> 炭酸塩が、金属イオンを含まない前記<1>か
ら<3>のいずれかに記載の現像液である。 <5> 芳香環を有する化合物の現像液における含有量
が、0.1〜50質量%である前記<1>から<4>の
いずれかに記載の現像液である。 <6> 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒素化合
物の現像液における含有量が、0.1〜50質量%であ
る前記<1>から<5>のいずれかに記載の現像液であ
る。 <7> 炭酸塩の現像液における含有量が、0.1〜5
0質量%である前記<1>から<6>のいずれかに記載
の現像液である。 <8> 少なくとも、アルカリ現像可能な感光性樹脂層
を基板上に形成し、露光し現像して着色画像を形成する
着色画像の形成方法において、現像が、前記<1>から
<7>のいずれかに記載の現像液を用いて行われること
を特徴とする着色画像の形成方法である。 <9> 感光性樹脂層が、酸価が20〜300の樹脂、
顔料、光重合性不飽和結合を分子内に1以上含有するモ
ノマー、及び、光重合開始剤を含有する着色画像形成材
料により形成される前記<8>に記載の着色画像の形成
方法である。 <10> 少なくとも、アルカリ現像可能な感光性樹脂
層を基板上に形成し、露光し現像して、同一基板上に複
数の着色画像を形成するカラーフィルターの製造方法で
あって、現像が、前記<1>から<7>のいずれかに記
載の現像液を用いて行われることを特徴とするカラーフ
ィルターの製造方法である。 <11> 少なくとも、アルカリ現像可能な感光性樹脂
層をTFTアレイ基板上に形成し、露光し現像して、同
一TFTアレイ基板上に複数の着色画像を形成するカラ
ーフィルター付アレイ基板の製造方法であって、現像
が、前記<1>から<7>のいずれかに記載の現像液を
用いて行われることを特徴とするカラーフィルター付ア
レイ基板の製造方法である。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows. That is, <1> A developing solution containing a nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in the molecule, a compound having an aromatic ring, and a carbonate. <2> The developer according to <1>, wherein the nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in the molecule is at least one of triethylenetetramine, pentaethylenehexamine, and di-tert-butylethylenediamine. is there. <3> The developer according to <1> or <2>, wherein the aromatic ring is at least one of a naphthalene ring and a benzene ring. <4> The carbonate is the developer according to any one of <1> to <3>, which does not contain a metal ion. <5> The developing solution according to any one of <1> to <4>, wherein the content of the compound having an aromatic ring in the developing solution is 0.1 to 50% by mass. <6> The developer according to any one of <1> to <5>, wherein the content of the nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in the molecule is 0.1 to 50% by mass. is there. <7> The content of carbonate in the developer is 0.1 to 5
The developing solution according to any one of <1> to <6>, which is 0% by mass. <8> At least in the method for forming a colored image in which a alkali-developable photosensitive resin layer is formed on a substrate, exposed and developed to form a colored image, the development is performed by any one of the above <1> to <7>. The method for forming a colored image is characterized in that it is carried out using the developing solution described in 1. <9> The photosensitive resin layer is a resin having an acid value of 20 to 300,
The method for forming a colored image according to <8> above, which is formed by a colored image forming material containing a pigment, a monomer containing at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule, and a photopolymerization initiator. <10> A method for producing a color filter, in which at least a photosensitive resin layer capable of alkali development is formed on a substrate, exposed and developed to form a plurality of colored images on the same substrate, wherein the development includes A method for producing a color filter, which is performed using the developer according to any one of <1> to <7>. <11> A method for producing an array substrate with a color filter in which at least a photosensitive resin layer capable of alkali development is formed on a TFT array substrate, exposed and developed to form a plurality of colored images on the same TFT array substrate. Therefore, in the method for producing an array substrate with a color filter, the development is performed using the developing solution according to any one of <1> to <7>.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 [現像液]本発明の現像液はアルカリ現像液であり、所
定の窒素化合物と、芳香環を有する化合物と、炭酸塩と
を含み、必要に応じてその他の成分を含む。本発明の前
記現像液において、前記窒素化合物は、感光層を現像す
る際に感光層を形成する樹脂における酸性基(カルボキ
シル基等)が塩基によって徐々に溶解するのを効果的に
ブロックする役割を有する。また、本発明の前記現像液
に含有される前記炭酸塩は、感光層現像時に感光層の中
に入り込み、感光層を効果的に膨潤させる役割を有す
る。さらに、本発明の前記現像液に含有される前記芳香
環を有する化合物は、膨潤した感光層を剥離させる役割
を有する。したがって、本発明の現像液によれば、感光
層の除去したい部分において、該感光層が徐々に溶解す
るのを抑制しつつ、前記炭酸塩による膨潤作用等によっ
て感光層を急激に微小片として剥離(以下、「微小片剥
離」と称することがある。)させることができる。その
結果、残渣除去性に優れ、コンタクト抵抗が良好な画像
を効率的に形成可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. [Developer] The developer of the present invention is an alkaline developer, which contains a predetermined nitrogen compound, a compound having an aromatic ring, and a carbonate, and optionally other components. In the developer of the present invention, the nitrogen compound has a role of effectively blocking the acidic group (carboxyl group etc.) in the resin forming the photosensitive layer from being gradually dissolved by the base when the photosensitive layer is developed. Have. Further, the carbonate contained in the developer of the present invention has a role of entering the photosensitive layer during development of the photosensitive layer and effectively swelling the photosensitive layer. Furthermore, the compound having an aromatic ring contained in the developer of the present invention has a role of peeling the swollen photosensitive layer. Therefore, according to the developer of the present invention, in the portion of the photosensitive layer to be removed, the photosensitive layer is abruptly peeled as minute pieces by the swelling action of the carbonate while suppressing the gradual dissolution of the photosensitive layer. (Hereinafter, it may be referred to as “fine piece peeling”.) As a result, it is possible to efficiently form an image with excellent residue removability and good contact resistance.

【0008】−窒素化合物− 前記窒素化合物における窒素原子数としては、分子内に
2以上である必要があり、3以上が好ましい。前記窒素
原子数が、分子内に2未満であると、感光層の樹脂が徐
々に溶解するのを効果的に抑制できない。したがって、
感光層を微小片剥離させることができず、感光層が現像
時に徐々に溶解してしまうため、現像後の残渣除去性が
悪い。
-Nitrogen Compound- The number of nitrogen atoms in the nitrogen compound must be 2 or more in the molecule, and is preferably 3 or more. When the number of nitrogen atoms is less than 2 in the molecule, it is not possible to effectively prevent the resin of the photosensitive layer from gradually dissolving. Therefore,
Since the photosensitive layer cannot be peeled off into minute pieces and the photosensitive layer is gradually dissolved during development, the residue removability after development is poor.

【0009】前記窒素化合物としては、分子内に2以上
の窒素原子を含有していれば特に制限はないが、例え
ば、ジ−tertブチルエチレンジアミン、トリエチレ
ンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミン、テトラメチ
ルジアミノヘキサン、テトラブチルジエチレントリアミ
ン、ヘキサメチレンテトラミン、ペンタキス(2−ヒド
ロキシプロピル)ジエチレントリアミン、ペンタメチル
ジエチレントリアミン、及び、2(2−(2−ジメチル
アミノ)エトキシ)エチル)メチルアミノ)エタノール
等が挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、特に
感光層の樹脂の溶解抑制効果が高い点で、テトラメチル
ジアミノヘキサン、ペンタメチルジエチレントリアミ
ン、ジ−tert−ブチルエチレンジアミン、トリエチ
レンテトラミン、及び、ペンタエチレンヘキサミンの少
なくともいずれかであるのが好ましく、トリエチレンテ
トラミン及びペンタエチレンヘキサミンの少なくともい
ずれかであるのが特に好ましい。
The nitrogen compound is not particularly limited as long as it contains two or more nitrogen atoms in the molecule, but for example, di-tertbutylethylenediamine, triethylenetetramine, pentaethylenehexamine, tetramethyldiaminohexane, Examples thereof include tetrabutyldiethylenetriamine, hexamethylenetetramine, pentakis (2-hydroxypropyl) diethylenetriamine, pentamethyldiethylenetriamine, and 2 (2- (2-dimethylamino) ethoxy) ethyl) methylamino) ethanol. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one of tetramethyldiaminohexane, pentamethyldiethylenetriamine, di-tert-butylethylenediamine, triethylenetetramine, and pentaethylenehexamine is particularly high in the effect of suppressing the dissolution of the resin of the photosensitive layer. Is preferred, and at least one of triethylenetetramine and pentaethylenehexamine is particularly preferred.

【0010】前記窒素化合物の本発明の現像液における
含有量としては、0.1〜50質量%が好ましく、0.
2〜5質量%がより好ましい。前記含有量が、0.1質
量%未満であると、感光層の樹脂が徐々に溶解するのを
効果的に抑制できないことがある一方、50質量%を超
えると、感光層における樹脂の溶解が過度に抑制され、
効率的に感光層が除去されないことがある。
The content of the nitrogen compound in the developer of the present invention is preferably 0.1 to 50% by mass,
2-5 mass% is more preferable. If the content is less than 0.1% by mass, it may not be possible to effectively suppress the resin in the photosensitive layer from being gradually dissolved, while if it exceeds 50% by mass, the resin in the photosensitive layer may not be dissolved. Oversuppressed,
The photosensitive layer may not be removed efficiently.

【0011】−芳香環を有する化合物− 前記芳香環を有する化合物としては、特に制限はない
が、例えば、ナフタレン環及びベンゼン環の少なくとも
いずれかであるのが好ましく、界面活性機能を有する化
合物であるのがより好ましい。前記芳香環を有する化合
物としては、例えば、ジブチルナフタレンスルホン酸ア
ンモニウム、ジプロピルナフタレンスルホン酸アンモニ
ウム等が挙げられる。これらは、1種単独で使用しても
よく、2種以上を併用してもよい。
-Compound Having Aromatic Ring- The compound having an aromatic ring is not particularly limited, but is preferably, for example, at least one of a naphthalene ring and a benzene ring, which is a compound having a surface active function. Is more preferable. Examples of the compound having an aromatic ring include ammonium dibutylnaphthalenesulfonate and ammonium dipropylnaphthalenesulfonate. These may be used alone or in combination of two or more.

【0012】前記芳香環を有する化合物の、本発明の現
像液における含有量としては、0.1〜50質量%が好
ましく、0.1〜50質量%がより好ましい。前記含有
量が、0.1質量%未満であると、感光層の剥離がスム
ースに進まないことがある一方、50質量%を超える
と、感光層の剥離が過度となることがある。
The content of the compound having an aromatic ring in the developer of the present invention is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass. If the content is less than 0.1% by mass, the peeling of the photosensitive layer may not proceed smoothly, while if it exceeds 50% by mass, the peeling of the photosensitive layer may be excessive.

【0013】−炭酸塩− 前記炭酸塩としては、特に制限はないが、特にTFT半
導体基板上での現像に使用する際の残渣除去性に優れる
点で、ナトリウム等の金属イオンを含まない炭酸塩が好
ましい。具体的には、炭酸アンモニウム、炭酸テトラメ
チルアンモニウム等が挙げられる。これらは、1種単独
で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
-Carbonate- The carbonate is not particularly limited, but a carbonate containing no metal ion such as sodium is particularly preferable in that it is excellent in residue removability when used for development on a TFT semiconductor substrate. Is preferred. Specific examples thereof include ammonium carbonate and tetramethylammonium carbonate. These may be used alone or in combination of two or more.

【0014】前記炭酸塩の、本発明の現像液における含
有量としては、0.1〜50質量%が好ましく、0.2
〜5質量%がより好ましい。前記含有量が、0.1質量
%未満であると、該炭酸塩による膨潤作用が弱く、感光
層を微小片剥離させる効果が低いことがある一方、50
質量%を超えると、該炭酸塩の膨張作用が強く、感光層
の微小片剥離がスムースに進まないことがある。特に、
前記炭酸塩の濃度としては、前記窒素化合物が、トリエ
チレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミン、及び、
ジ−tert−ブチルエチレンジアミンの少なくともい
ずれかである場合には、0.05〜0.2mol/Lが
好ましい。
The content of the carbonate in the developer of the present invention is preferably 0.1 to 50% by mass, and 0.2
-5 mass% is more preferred. When the content is less than 0.1% by mass, the swelling action of the carbonate may be weak and the effect of peeling the photosensitive layer into minute pieces may be low.
When the content is more than mass%, the carbonate has a strong swelling effect, and the peeling of fine particles of the photosensitive layer may not proceed smoothly. In particular,
As the concentration of the carbonate, the nitrogen compound is triethylenetetramine, pentaethylenehexamine, and
When it is at least one of di-tert-butylethylenediamine, 0.05 to 0.2 mol / L is preferable.

【0015】−その他の成分− 本発明の前記現像液においては、フォトレジストの現像
用、特に顔料分散フォトレジストの現像液に配合される
各種その他の成分が配合されていてもよい。該その他の
成分としては、例えば、ポリカルボン酸型高分子界面活
性剤、ポリスルホン酸型高分子界面活性剤等のアニオン
系分散剤、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
ブロックポリマー等のノニオン系分散剤等の界面活性剤
などが挙げられる。
-Other Components- In the developer of the present invention, various other components for developing a photoresist, particularly a developer of a pigment-dispersed photoresist, may be incorporated. Examples of the other components include anionic dispersants such as polycarboxylic acid type polymer surfactants and polysulfonic acid type polymer surfactants, nonionic dispersants such as polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymers, and the like. And the like.

【0016】前記その他の成分の、前記現像液における
含有量としては、0.05〜20質量%が好ましく、
0.2〜5質量%がより好ましい。
The content of the other components in the developer is preferably 0.05 to 20% by mass,
0.2-5 mass% is more preferable.

【0017】[着色画像の形成方法]本発明の着色画像
の形成方法においては、所定の感光層を基板上に形成
し、露光し現像して着色画像を形成する。
[Method for forming colored image] In the method for forming a colored image of the present invention, a predetermined photosensitive layer is formed on a substrate, exposed and developed to form a colored image.

【0018】−感光層の形成− 前記感光層は、アルカリ現像可能であり、下記着色画像
形成材料により好適に形成される。
-Formation of Photosensitive Layer- The photosensitive layer is alkali-developable and is preferably formed of the following colored image forming material.

【0019】<着色画像形成材料>前記着色画像形成材
料は、アルカリ現像可能で感光性を有していれば特に制
限はないが、樹脂、顔料・染料等の着色剤、光重合性不
飽和結合を分子内に1以上有するモノマー、及び、光重
合開始剤を含有するのが好ましい。
<Colored Image Forming Material> The colored image forming material is not particularly limited as long as it can be developed with an alkali and has photosensitivity, but it may be a resin, a coloring agent such as a pigment or a dye, a photopolymerizable unsaturated bond. It is preferable to contain a monomer having one or more of the above in the molecule and a photopolymerization initiator.

【0020】−−樹脂−− 前記着色画像形成材料に用いられる樹脂としては、感光
層を形成した際に感光性を妨げず、顔料等の着色剤分散
性、成膜性、アルカリ現像性を有するものであれば特に
制限はない。このような樹脂としては、例えば、カルボ
キシメチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン等が挙げられ、特に、
(メタ)アクリル酸(アクリル酸及びメタクリル酸を意
味する。以下同様)、イタコン酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル等のカルボ
キシル基含有重合性モノマーとメチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、等の(メタ)アクリル酸エス
テル、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノ
マーとの共重合体等が好ましい。
--Resin-- The resin used in the colored image forming material does not impair the photosensitivity when the photosensitive layer is formed, and has dispersibility of a colorant such as a pigment, film formability, and alkali developability. There is no particular limitation as long as it is one. Examples of such resins include carboxymethyl hydroxyethyl cellulose, cellulosic resins such as hydroxyethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and the like.
(Meth) acrylic acid (meaning acrylic acid and methacrylic acid. The same applies hereinafter), itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid monoalkyl ester and other carboxyl group-containing polymerizable monomers and methyl methacrylate,
(Meth) acrylic acid esters such as ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, benzyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, styrene, styrene derivatives, copolymers with other polymerizable monomers, etc. preferable.

【0021】前記マレイン酸モノアルキルエステルとし
ては、アルキルの炭素数が1〜12のものが好ましく、
マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイ
ン酸モノn−プロピル、マレイン酸モノイソプロピル、
マレイン酸モノn−ブチル、マレイン酸モノn−ヘキシ
ル、マレイン酸モノn−オクチル、マレイン酸モノ2−
エチルヘキシル、マレイン酸モノn−ノニル、マレイン
酸モノn−ドデシル等が挙げられる。前記スチレン誘導
体としては、α−メチルスチレン、m−又はp−メトキ
シスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−メトキシ−
4−ヒドロキシスチレン、2−ヒドロキシ−4−メチル
スチレン等が挙げられる。
The maleic acid monoalkyl ester is preferably one having an alkyl carbon number of 1 to 12,
Monomethyl maleate, monoethyl maleate, mono-n-propyl maleate, monoisopropyl maleate,
Mono-n-butyl maleate, Mono-n-hexyl maleate, Mono-n-octyl maleate, Mono 2-maleate
Examples thereof include ethylhexyl, mono-n-nonyl maleate, mono-n-dodecyl maleate and the like. As the styrene derivative, α-methylstyrene, m- or p-methoxystyrene, p-hydroxystyrene, 2-methoxy-
4-hydroxystyrene, 2-hydroxy-4-methylstyrene and the like can be mentioned.

【0022】前記樹脂としては、光感度の向上等を目的
として光重合性不飽和結合を有するものを使用してもよ
い。このような樹脂の好ましい具体例としては、高酸価
のカルボキシル基含有樹脂にグリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテ
ル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグ
リシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルグリシジル
エーテル等のオキシラン環とエチレン性不飽和結合をそ
れぞれ1個有する化合物やアリルアルコール、2−ブテ
ン−4−オール、フルフリルアルコール、オレイルアル
コール、シンナミルアルコール、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
N−メチロールアクリルアミド等の水酸基とエチレン性
不飽和結合をそれぞれ1個有する化合物(不飽和アルコ
ール)を反応させた樹脂、水酸基を有するカルボキシル
基含有樹脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物を
反応させた樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との
付加反応物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジ
エン重合体や共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸
無水物との付加反応物に水酸基含有重合性モノマーを反
応させた樹脂等が挙げられる。
As the resin, a resin having a photopolymerizable unsaturated bond may be used for the purpose of improving photosensitivity. Preferable specific examples of such a resin include oxirane such as glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, α-ethyl glycidyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, and monoalkyl glycidyl ether itaconic acid in a high acid value carboxyl group-containing resin. Compounds each having one ring and one ethylenically unsaturated bond, allyl alcohol, 2-buten-4-ol, furfuryl alcohol, oleyl alcohol, cinnamyl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
A resin obtained by reacting a hydroxyl group such as N-methylolacrylamide with a compound having one ethylenically unsaturated bond (unsaturated alcohol), a resin obtained by reacting a carboxyl group-containing resin having a hydroxyl group with a free isocyanate group-containing unsaturated compound , A resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride with an addition reaction product of an epoxy resin and an unsaturated carboxylic acid, or a hydroxyl group-containing addition reaction product of a conjugated diene polymer or a conjugated diene copolymer with an unsaturated dicarboxylic acid anhydride Examples thereof include resins obtained by reacting a polymerizable monomer.

【0023】前記樹脂の不飽和当量としては、600〜
3000が好ましく、800〜2000がより好まし
い。前記不飽和当量が、600未満であると、感光材料
の調整時、特に顔料を樹脂に分散させる時に一部硬化す
ることがある一方、3000を超えると、不飽和基の導
入による光感度の向上効果が低下することがある。尚、
前記「不飽和当量」とは、不飽和結合一つ当たりの樹脂
の分子量を指す。
The unsaturated equivalent of the resin is 600 to
3000 is preferable and 800-2000 is more preferable. If the unsaturated equivalent is less than 600, it may be partially cured when the photosensitive material is prepared, particularly when the pigment is dispersed in the resin, while if it exceeds 3000, the photosensitivity is improved by the introduction of unsaturated groups. The effect may be reduced. still,
The "unsaturated equivalent weight" refers to the molecular weight of the resin per unsaturated bond.

【0024】前記樹脂は、着色画像形成材料が露光後に
アルカリ現像性を有する観点から、酸価が20〜300
であるのが好ましく、40〜200であるのが好まし
く、特に60〜150であるのが好ましい。前記酸価
が、20未満であると、アルカリ現像性が低下すること
がある一方、300を超えると、アルカリ現像後の画像
パターンの形状が不鮮明となることがある。
The above resin has an acid value of 20 to 300 from the viewpoint that the colored image forming material has an alkali developability after exposure.
Is preferable, 40 to 200 is preferable, and 60 to 150 is particularly preferable. If the acid value is less than 20, the alkali developability may decrease, while if it exceeds 300, the shape of the image pattern after alkali development may be unclear.

【0025】前記樹脂の重量平均分子量としては、1,
500〜200,000が好ましく、5,000〜10
0,000がより好ましく、10,000〜50,00
0が更に好ましい。前記重量平均分子量が、1,500
未満であると、顔料等の着色剤の分散安定性が低下する
ことがある一方、200,000を超えると、着色画像
形成材料を調製する際に粘度が高く、塗布性、特にスピ
ンコートする際の塗布性が低下することがある。尚、前
記「重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによって測定し、標準ポリスチレンの検量
線を用いて換算して得たである。
The weight average molecular weight of the resin is 1,
500 to 200,000 is preferable, 5,000 to 10
50,000 is more preferable, 10,000 to 50,000
0 is more preferable. The weight average molecular weight is 1,500.
If it is less than 200, the dispersion stability of the colorant such as a pigment may be lowered, while if it exceeds 200,000, the viscosity is high when the colored image-forming material is prepared, and the coatability, particularly when spin coating is performed. The coating property of may deteriorate. The "weight average molecular weight" is measured by gel permeation chromatography and converted by using a calibration curve of standard polystyrene.

【0026】前記樹脂としては、酸価が20〜300で
あって、重量平均分子量が1,500〜200,000
のものが好ましく、例えば、下記一般式(I)及び一般
式(II)の少なくともいずれかで表される構造を繰り
返し単位として有する樹脂が好ましい。
The resin has an acid value of 20 to 300 and a weight average molecular weight of 1,500 to 200,000.
The resin having a structure represented by at least one of the following general formula (I) and general formula (II) as a repeating unit is preferable.

【0027】[0027]

【化1】 [Chemical 1]

【0028】但し、一般式(I)において、Rは水素
原子及びメチル基の少なくともいずれかを表し、R
水素原子、水酸基、炭素数1〜12のアルキル基、及
び、アルコキシ基の少なくともいずれかを表す。
However, in the general formula (I), R 2 represents at least one of a hydrogen atom and a methyl group, and R 3 represents at least a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and an alkoxy group. Represents either.

【0029】[0029]

【化2】 [Chemical 2]

【0030】但し、一般式(II)において、Rは炭
素数1〜12のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭
素数1〜12のアルキル基、及び、光反応性不飽和結合
を有する基の少なくともいずれかを表す。
However, in the general formula (II), R 4 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a photoreactive unsaturated bond. It represents at least one of the groups having.

【0031】前記一般式(I)、一般式(II)で表さ
れる構造の、前記樹脂における含有モル比(一般式
(I)で表される構造/一般式(II)で表される構
造)としては、顔料の分散安定性、光感度の点で、1/
1〜5/1(モル比)が好ましい。
The molar ratio of the structures represented by the general formulas (I) and (II) in the resin (structure represented by the general formula (I) / structure represented by the general formula (II)). ) Is 1 / in terms of pigment dispersion stability and photosensitivity.
It is preferably 1 to 5/1 (molar ratio).

【0032】前記一般式(I)で表される構造及び前記
一般式(II)で表される構造を繰り返し単位として有
する樹脂の製造法としては、例えば、一般式(I)で表
される構造を繰り返し単位として有する樹脂の前駆体
に、不飽和アルコール(アリルアルコール、2−ブテン
−4−オール、フルフリルアルコール、オレイルアルコ
ール、シンナミルアルコール、2−ヒドロキシアクリレ
ート、2−ヒドロキシメタクリレート、N−メチロール
アクリルアミド等)をエステル化反応させて製造する方
法、一般式(I)で表される構造を繰り返し単位として
有する樹脂の前駆体に、オキシラン環及びエチレン性不
飽和結合をそれぞれ1個有する化合物(グリシジルメタ
クリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、クロ
トニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノアルキルモ
ノグリシジルエステル等)を付加反応させて製造する方
法などが挙げられる。
The resin having the structure represented by the general formula (I) and the structure represented by the general formula (II) as a repeating unit can be produced, for example, by the structure represented by the general formula (I). A resin precursor having as a repeating unit, unsaturated alcohols (allyl alcohol, 2-buten-4-ol, furfuryl alcohol, oleyl alcohol, cinnamyl alcohol, 2-hydroxyacrylate, 2-hydroxymethacrylate, N-methylol Acrylamide) and the like, and a compound having one oxirane ring and one ethylenically unsaturated bond in the precursor of the resin having the structure represented by the general formula (I) as a repeating unit (glycidyl). Methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, α-E Glycidyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, and a method of producing by addition reaction of itaconic acid monoalkyl monoglycidyl ester).

【0033】一般式(I)又は一般式(II)で表され
る構造を繰り返し単位として有する樹脂の前駆体は、ス
チレン又はその誘導体と、マレイン酸モノアルキルエス
テル(マレイン酸のハーフエステル)とを共重合する方
法等により得ることができる。スチレン誘導体として
は、例えば、α−メチルスチレン、m又はp−メトキシ
スチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−メトキシ−4
−ヒドロキシスチレン、2−ヒドロキシ−4−メチルス
チレン等が挙げられる。マレイン酸モノアルキルエステ
ルとしては、例えば、マレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノ−n−プロピル、マレイ
ン酸モノ−イソプロピル、マレイン酸モノ−n−ブチ
ル、マレイン酸モノ−n−ヘキシル、マレイン酸モノ−
n−オクチル、マレイン酸モノ−2−エチルヘキシル、
マレイン酸モノ−n−ノニル、マレイン酸モノ−n−ド
デシル等が挙げられる。
The precursor of the resin having the structure represented by the general formula (I) or the general formula (II) as a repeating unit comprises styrene or a derivative thereof and a maleic acid monoalkyl ester (half ester of maleic acid). It can be obtained by a method such as copolymerization. Examples of the styrene derivative include α-methylstyrene, m- or p-methoxystyrene, p-hydroxystyrene and 2-methoxy-4.
-Hydroxystyrene, 2-hydroxy-4-methylstyrene and the like can be mentioned. Examples of maleic acid monoalkyl esters include monomethyl maleate, monoethyl maleate, mono-n-propyl maleate, mono-isopropyl maleate, mono-n-butyl maleate, mono-n-hexyl maleate, and maleic acid. Mono-
n-octyl, mono-2-ethylhexyl maleate,
Examples include mono-n-nonyl maleate and mono-n-dodecyl maleate.

【0034】前記樹脂としては、前記一般式(I)及び
一般式(II)の少なくともいずれかで表される構造を
繰り返し単位として有する樹脂に、更にその他の樹脂を
併用してもよい。該その他の樹脂としては、前述の一般
式(I)及び一般式(II)の少なくともいずれかで表
される構造を繰り返し単位として有する樹脂以外の樹脂
であれば特に制限はないが、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等が好ましい。該その
他の樹脂の、前記樹脂100質量部における含有量とし
ては、50質量部以下が好ましい。
As the resin, a resin having a structure represented by at least one of the general formula (I) and the general formula (II) as a repeating unit may be used in combination with other resins. The other resin is not particularly limited as long as it is a resin other than the resin having the structure represented by at least one of the general formula (I) and the general formula (II) as a repeating unit, but an acrylic resin, Epoxy resin, urethane resin, melamine resin and the like are preferable. The content of the other resin in 100 parts by mass of the resin is preferably 50 parts by mass or less.

【0035】前記樹脂の、着色画像形成材料における含
有量としては、10〜85質量%が好ましく、20〜6
0質量%がより好ましく、25〜50質量%が更に好ま
しい。前記含有量が、10質量%未満であると、顔料の
分散安定性が低下することがある一方、85質量%を超
えると、感光液を調製した際の粘度が高くなり、塗布
性、特にスピンコートする際の塗布性が低下することが
ある。
The content of the resin in the colored image-forming material is preferably 10 to 85% by mass, and 20 to 6 is preferable.
0 mass% is more preferable, and 25 to 50 mass% is still more preferable. If the content is less than 10% by mass, the dispersion stability of the pigment may decrease, while if it exceeds 85% by mass, the viscosity when the photosensitive solution is prepared becomes high, and the coating property, particularly spin. The coatability at the time of coating may decrease.

【0036】−−顔料・染料等の着色剤−− 前記着色剤としては、無機顔料、有機顔料等の顔料、染
料等が挙げられる。これらの中でも顔料が好ましく、特
に、色調の豊富さ等から黒色のカーボンブラック(無機
顔料)及び有機顔料が好ましい。前記有機顔料として
は、例えば、アゾ系、フタロシアニン系、インジゴ系、
アントラキノン系、ペリレン系、キナクリドン系、メチ
ン・アゾメチン系、イソインドリノン系等が挙げられ
る。後述するようにカラーフィルターを製造する場合に
は、赤、緑、青及び黒色等の着色画像に適した各顔料系
が用いられる。
--Coloring Agents such as Pigments and Dyes-- Examples of the coloring agents include pigments such as inorganic pigments and organic pigments and dyes. Among these, pigments are preferable, and black carbon black (inorganic pigment) and organic pigments are particularly preferable in terms of rich color tone. As the organic pigment, for example, azo-based, phthalocyanine-based, indigo-based,
Examples thereof include anthraquinone type, perylene type, quinacridone type, methine / azomethine type, isoindolinone type and the like. When a color filter is manufactured as described below, each pigment system suitable for colored images such as red, green, blue and black is used.

【0037】赤色の着色画像としては、単一の赤色顔料
系を用いてもよく、黄色顔料系を赤色顔料系に混合して
調色を行ってもよい。赤色顔料系としては、例えば、カ
ラーインデックス名で、C.I.ピグメントレッド9、
123、155、168、177、180、217、2
20、224等が挙げられる。黄色顔料系としては、例
えば、カラーインデックス名で、C.I.ピグメントイ
エロー20、24、83、93、109、110、11
7、125、139、147、154等が挙げられる。
これらの赤色顔料系及び黄色顔料系は、1種単独で使用
してもよく、2種類以上を併用してもよい。尚、赤色顔
料系及び黄色顔料系を混合して使用する場合には、黄色
顔料系を、赤色顔料系及び黄色顔料系の総量100質量
部に対して、50質量部以下で使用するのが好ましい。
As the red colored image, a single red pigment system may be used, or a yellow pigment system may be mixed with the red pigment system for toning. Examples of the red pigment type include C.I. I. Pigment Red 9,
123, 155, 168, 177, 180, 217, 2
20, 224 and the like. Examples of the yellow pigment type include C.I. I. Pigment Yellow 20, 24, 83, 93, 109, 110, 11
7, 125, 139, 147, 154 and the like.
These red pigment type and yellow pigment type may be used alone or in combination of two or more kinds. When the red pigment system and the yellow pigment system are mixed and used, it is preferable to use the yellow pigment system in 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total amount of the red pigment system and the yellow pigment system. .

【0038】緑色の着色画像としては、単一の緑色顔料
系を用いてもよく、上記の黄色顔料系を緑色顔料系に混
合して調色を行ってもよい。緑色顔料系としては、例え
ば、カラーインデックス名で、C.I.ピグメントグリ
ーン7、36、37等が挙げられる。これらの緑色顔料
系及び黄色顔料系は、1種単独で使用してもよく、2種
類以上を併用してもよい。尚、緑色顔料系及び黄色顔料
系を混合して使用する場合には、黄色顔料系を、緑色顔
料系及び黄色顔料系の総量100質量部に対して、50
質量部以下で使用するのが好ましい。
As the green colored image, a single green pigment system may be used, or the above yellow pigment system may be mixed with the green pigment system for toning. Examples of the green pigment type include C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and the like. These green pigment type and yellow pigment type may be used alone or in combination of two or more kinds. When the green pigment system and the yellow pigment system are mixed and used, the yellow pigment system is used in an amount of 50 parts by weight based on 100 parts by mass of the total amount of the green pigment system and the yellow pigment system.
It is preferably used in an amount of not more than parts by mass.

【0039】青色の着色画像としては、単一の青色顔料
系を用いてもよく、紫色顔料系を青色顔料系に混合して
調色を行ってもよい。青色顔料系としては、例えば、カ
ラーインデックス名で、C.I.ピグメントブルー1
5、15:3、15:4、15:6、22、60等が挙
げられる。紫色顔料系としては、例えば、カラーインデ
ックス名で、C.I.ピグメントバイオレツド19、2
3、29、37、50等が挙げられる。これらの青色顔
料系及び紫色顔料系は、1種単独で使用してもよく、2
種類以上を併用してもよい。尚、青色顔料系及び紫色顔
料系を混合して使用する場合には、紫色顔料系を、青色
顔料系及び紫色顔料系の総量100質量部に対して、5
0重量部以下で使用するのが好ましい。
As a blue colored image, a single blue pigment system may be used, or a violet pigment system may be mixed with a blue pigment system for toning. Examples of the blue pigment type include C.I. I. Pigment Blue 1
5, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 22, 60 and the like. Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 19, 2
3, 29, 37, 50 and the like. These blue pigment systems and purple pigment systems may be used alone or in combination.
You may use together more than one kind. When the blue pigment system and the purple pigment system are mixed and used, the purple pigment system is used in an amount of 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the blue pigment system and the purple pigment system.
It is preferably used in an amount of 0 parts by weight or less.

【0040】黒色の着色画像としては、例えば、カーボ
ンブラック、黒鉛、チタンカーボン、黒鉄、二酸化マン
ガン等の黒色顔料が挙げられる。
Examples of black colored images include black pigments such as carbon black, graphite, titanium carbon, black iron, and manganese dioxide.

【0041】前記顔料の、前記着色画像形成材料におけ
る含有量としては、5〜50質量%が好ましく、10〜
40質量%がより好ましく、15〜30質量%が更に好
ましい。前記顔料が、5質量%に満たないと、画像の色
濃度が低くなることがある一方、50質量%を超える
と、光感度が低下することがある。
The content of the pigment in the colored image forming material is preferably 5 to 50% by mass, and 10 to 10% by mass.
40 mass% is more preferable, and 15-30 mass% is still more preferable. If the content of the pigment is less than 5% by mass, the color density of the image may be low, whereas if it exceeds 50% by mass, the photosensitivity may be lowered.

【0042】−−光重合性不飽和結合を分子内に1以上
有するモノマー−− 前記光重合性不飽和結合を分子内に1以上有するモノマ
ーのうち、光重合性不飽和結合を分子内に1個有するモ
ノマーとしては、特に制限はないが、例えば、メチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート等のアルキルメタクリレート、メチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキ
シルアクリレート等のアルキルアクリレート、ベンジル
メタクリレート等のアラルキルメタクリレート、ベンジ
ルアクリレート等のアラルキルアクリレート、ブトキシ
エチルメタクリレート等のアルコキシアルキルメタクリ
レート、ブトキシエチルアクリレート等のアルコキシア
ルキルアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメ
タクリレート等のアミノアルキルメタクリレート、N,
N−ジメチルアミノエチルアクリレート等のアミノアル
キルアクリレート、(ジエチレングリコールエチルエー
テル)のメタクリル酸エステル、(トリエチレングリコ
ールブチルエーテル)のメタクリル酸エステル、(ジプ
ロピレングリコールメチルエーテル)のメタクリル酸エ
ステル等の(ポリアルキレングリコールアルキルエーテ
ル)のメタクリル酸エステル、(ジエチレングリコール
エチルエーテル)のアクリル酸エステル、(トリエチレ
ングリコールブチルエーテル)のアクリル酸エステル、
(ジプロピレングリコールメチルエーテル)のアクリル
酸エステル等の(ポリアルキレングリコールアルキルエ
ーテル)のアクリル酸エステル、(ヘキサエチレングリ
コールフェニルエーテル)のメタクリル酸エステル等の
(ポリアルキレングリコールアリールエーテル)のメタ
クリル酸エステル、(ヘキサエチレングリコールフェニ
ルエーテル)のアクリル酸エステル等の(ポリアルキレ
ングリコールアリールエーテル)のアクリル酸エステ
ル、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペン
タニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、メ
トキシ化シクロデカトリエンメタクリレート、イソボル
ニルアクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンアク
リレート、グリセロールメタクリレート、グリセロール
アクリレート、ヘプタデカフロロデシルメタクリレート
等のフッ素化アルキルメタクリレート、ヘプタデカフロ
ロデシルアクリレート等のフッ素化アルキルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート等が挙げられる。
--- Monomer having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule-- Among the monomers having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule, one photopolymerizable unsaturated bond is present in the molecule. There is no particular limitation on the monomer having each, for example, alkyl methacrylate such as methyl methacrylate, butyl methacrylate and 2-ethylhexyl methacrylate, alkyl acrylate such as methyl acrylate, butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate, and aralkyl methacrylate such as benzyl methacrylate. , Aralkyl acrylates such as benzyl acrylate, alkoxyalkyl methacrylates such as butoxyethyl methacrylate, alkoxyalkyl acrylates such as butoxyethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl Aminoalkyl methacrylate such as methacrylate, N,
Aminoalkyl acrylates such as N-dimethylaminoethyl acrylate, methacrylic acid esters of (diethylene glycol ethyl ether), methacrylic acid esters of (triethylene glycol butyl ether), and methacrylic acid esters of (dipropylene glycol methyl ether) (polyalkylene glycol Methacrylic acid ester of (alkyl ether), acrylic acid ester of (diethylene glycol ethyl ether), acrylic acid ester of (triethylene glycol butyl ether),
Acrylic ester of (polyalkylene glycol alkyl ether) such as acrylic acid ester of (dipropylene glycol methyl ether), Methacrylic acid ester of (polyalkylene glycol aryl ether) such as methacrylic acid ester of (hexaethylene glycol phenyl ether), Acrylic ester of (polyalkylene glycol aryl ether) such as acrylic ester of (hexaethylene glycol phenyl ether), dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentanyl acrylate, isobornyl methacrylate, methoxylated cyclodecatriene methacrylate, iso Bornyl acrylate, methoxylated cyclodecatriene acrylate, glycerol methacrylate, glycerol acrylate, hep Fluorinated alkyl methacrylates such as decafluoro decyl methacrylate, fluorinated alkyl acrylates such as hept decafluoro decyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like.

【0043】前記光重合性不飽和結合を分子内に1個以
上有するモノマーのうち、光重合性不飽和結合を分子内
に2個以上有するモノマーとしては、特に制限はない
が、例えば、ビスフェノールAジメタクリレート、1,
4−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブチレ
ングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリス
(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエ
チル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及
び、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙
げらる。
Of the monomers having at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule, the monomer having at least two photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule is not particularly limited, and examples thereof include bisphenol A. Dimethacrylate, 1,
4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane tri Methacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, bisphenol A diacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate,
Examples include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate.

【0044】前記光重合性不飽和結合を分子内に2個以
上有するモノマーとしては、更に、下記一般式(A)で
表されるビスフェノールAのアルキレンオキシド付加物
のジアクリレート、一般式(B)で表されるビスフェノ
ールAのエピクロルヒドリン変性物とアクリル酸の付加
エステル化物、ビスフェノールAジメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、一般式(C)で
表される示されるリン酸のアルキレンオキシド付加物の
ジアクリレート、一般式(D)で表されるフタル酸のエ
ピクロリン変性物とアクリル酸の付加エステル化物、ポ
リエチレングリコールのジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールのジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、一般式(E)で示される1,6
−ヘキサンジオールのエピクロリン変性物とアクリル酸
の付加エステル化物(アクイリル基を一分子中に2個有
するもの)、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、一般式
(f)で示されるリン酸のアルキンオキシド付加物のト
リアクリレート、一般式(g)で示されるトリメチロー
ルプロパンのアルキレンオキシド付加物のトリアクリレ
ート、トリス(タクリロキシエチル)イソシアヌレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレートなどが挙げられる。これらのモノマ
ーは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることが
できる。 一般式(A)
Examples of the monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule further include a diacrylate of an alkylene oxide adduct of bisphenol A represented by the following general formula (A) and a general formula (B). Bisphenol A epichlorohydrin modified product and acrylic acid addition esterified product, bisphenol A dimethacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, glycerol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, alkylene oxide adduct of phosphoric acid represented by the general formula (C) Diacrylate, an epichlorin modified product of phthalic acid represented by the general formula (D) and an addition ester of acrylic acid, a diacrylate of polyethylene glycol, a dimethacrylate of polypropylene glycol, a tetraethylene glycol diacrylate, a general formula (E) Indicated by 1,6
-Epichlorin modified product of hexanediol and addition esterified product of acrylic acid (having two akyryl groups in one molecule), trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and phosphoric acid of the general formula (f) Triacrylate of alkyne oxide adduct, triacrylate of alkylene oxide adduct of trimethylolpropane represented by general formula (g), tris (tacryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipenta Examples thereof include erythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate. These monomers can be used alone or in combination of two or more kinds. General formula (A)

【0045】[0045]

【化3】 [Chemical 3]

【0046】但し、一般式(A)において、Rはエチレ
ン基又はプロピレン基を表し、m及びnは各々独立に、
1〜20の整数を表す。 一般式(B)
However, in the general formula (A), R represents an ethylene group or a propylene group, m and n are each independently,
It represents an integer of 1 to 20. General formula (B)

【0047】[0047]

【化4】 [Chemical 4]

【0048】但し、一般式(B)において、m及びnは
各々独立に、1〜10の整数を表す。 一般式(C)
However, in the general formula (B), m and n each independently represent an integer of 1 to 10. General formula (C)

【0049】[0049]

【化5】 [Chemical 5]

【0050】但し、一般式(C)において、Rはエチレ
ン基又はプロピレン基を示し、m及びnはそれぞれ独立
に、1〜20の整数を表す。 一般式(D)
However, in the general formula (C), R represents an ethylene group or a propylene group, and m and n each independently represent an integer of 1 to 20. General formula (D)

【0051】[0051]

【化6】 [Chemical 6]

【0052】但し、一般式(D)において、m及びnは
それぞれ独立に、1〜10の整数を表す。 一般式(E)
However, in the general formula (D), m and n each independently represent an integer of 1 to 10. General formula (E)

【0053】[0053]

【化7】 [Chemical 7]

【0054】但し、一般式(E)において、m及びnは
各々独立に、1〜20の整数を表す。 一般式(F)
However, in the general formula (E), m and n each independently represent an integer of 1 to 20. General formula (F)

【0055】[0055]

【化8】 但し、一般式(F)において、Rは、エチレン基又はプ
ロピレン基を示し3個のmはそれぞれ独立に、1〜20
の整数を表す。 一般式(G)
[Chemical 8] However, in the general formula (F), R represents an ethylene group or a propylene group, and three m are each independently 1 to 20.
Represents the integer. General formula (G)

【0056】[0056]

【化9】 [Chemical 9]

【0057】但し、一般式(G)において、Rはエチレ
ン基又はプロピレン基を表し、m、m’及びm’’は各
々独立に、1〜20の整数を表す。
However, in the general formula (G), R represents an ethylene group or a propylene group, and m, m ′ and m ″ each independently represent an integer of 1 to 20.

【0058】前記光重合性不飽和結合を分子内に2個以
上有するモノマーの、前記着色画像形成材料における含
有量としては、2〜50質量%が好ましく、5〜40質
量%がより好ましく、10〜30質量%が更に好まし
い。前記含有量が、2質量%未満であると、光感度が低
くなることがある一方、50質量%を超えると、顔料の
分散安定性が低下することがある。
The content of the monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule in the colored image-forming material is preferably 2 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass. -30 mass% is more preferred. If the content is less than 2% by mass, the photosensitivity may decrease, while if it exceeds 50% by mass, the dispersion stability of the pigment may decrease.

【0059】−−光重合開始剤−− 前記着色画像形成材料に使用される光重合開始剤として
は、例えば、ベンゾフェノン、N,N′−テトラエチル
−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−
4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、2,
2−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフ
ェノン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
ホリノ−1−プロパン、t−ブチルアントラキノン、1
−クロロアントラキノン、2,3−ジクロロアントラキ
ノン、3−クロル−2−メチルアントラキノン、2−エ
チルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10
−フェナントラキノン、1,2−ベンゾアントラキノ
ン、1,4−ジメチルアントラキノン、2−フェニルア
ントラキノン、及び、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられ
る。これらの光重合開始剤は、1種単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。
--Photopolymerization Initiator-- Examples of the photopolymerization initiator used in the colored image forming material include benzophenone, N, N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, and 4-methoxy-.
4'-dimethylaminobenzophenone, benzyl, 2,
2-diethoxyacetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, α-hydroxyisobutylphenone, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone,
1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, t-butylanthraquinone, 1
-Chloroanthraquinone, 2,3-dichloroanthraquinone, 3-chloro-2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10
-Phenanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 1,4-dimethylanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, and 2- (o-chlorophenyl)-
Examples include 4,5-diphenylimidazole dimer. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

【0060】前記光重合開始剤の、前記着色画像形成材
料における含有量としては、0.01〜20質量%が好
ましく、2〜15質量%がより好ましく、5〜10質量
%が更に好ましい。前記光重合開始剤の含有量が、0.
01質量%未満であると、光感度が低下することがある
一方、20質量%を超えると、密着性が低下することが
ある。
The content of the photopolymerization initiator in the colored image forming material is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass, and further preferably 5 to 10% by mass. The content of the photopolymerization initiator is 0.
If it is less than 01% by mass, the photosensitivity may decrease, while if it exceeds 20% by mass, the adhesiveness may decrease.

【0061】−−その他の成分−− 前記着色画像形成材料には、暗反応を抑制するための熱
重合禁止剤(ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチ
ルエーテル、ピロガロール、t−ブチルカテコール
等)、基板との密着性を向上させるためのチタネートカ
ップリング剤(ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メル
カプト基等を有したシランカップリング剤やイソプロピ
ルトリメタクリロイルチタネート、ジイソプロピルイソ
ステアロイル−4−アミノベンゾイルチタネート等)、
膜の平滑性を向上させるための界面活性剤(フッ素系、
シリコン系、炭化水素系等)及びその他、紫外線吸収
剤、酸化防止剤などの各種添加剤を必要に応じて適宜使
用することができる。
—Other Components—— The colored image-forming material contains a thermal polymerization inhibitor (hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, t-butylcatechol, etc.) for suppressing dark reaction, and adhesion to the substrate. Titanate coupling agent for improving the (vinyl group, epoxy group, amino group, silane coupling agent having a mercapto group or isopropyl trimethacryloyl titanate, diisopropyl isostearoyl-4-aminobenzoyl titanate, etc.),
Surfactants for improving the smoothness of the film (fluorine-based,
If necessary, various additives such as ultraviolet absorbers and antioxidants can be appropriately used.

【0062】<感光層の形成方法>前記感光層を基板上
に形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、
着色画像形成材料の成分及び適当な有機溶剤を混合して
感光層用塗布液を調製し、これを基板上に直接塗布する
方法、該感光層用塗布液を、別途仮支持体上に塗布し成
膜した後、基板上に積層させて感光層を形成する方法等
が好ましい。
<Method for Forming Photosensitive Layer> The method for forming the photosensitive layer on the substrate is not particularly limited.
A method for preparing a photosensitive layer coating solution by mixing the components of a colored image forming material and an appropriate organic solvent, and directly coating the photosensitive layer coating solution on the substrate, and separately coating the photosensitive layer coating solution on a temporary support. A method of forming a photosensitive layer by laminating it on a substrate after forming the film is preferable.

【0063】<<感光層用塗布液の調製法>>前記感光
層用塗布液の調整法の一例を以下に説明する。例えば、
顔料、樹脂、などの着色画像形成材料を、有機溶剤、必
要に応じて分散剤等と混合し分散させる。このとき、混
合は、超音波分散機、三本ロール、ボールミル、サンド
ミル、ビーズミル、ホモジナイザー、ニーダー等の分散
・混練装置を用いて混練することにより分散処理して行
うのが好ましい。また、前記顔料100質量部に対し、
前記樹脂を、少なくとも20質量部配合するのが好まし
い。樹脂量が少なすぎると顔料の分散安定性が低下する
傾向がある。同様に有機溶剤も顔料の分散時に全量用い
てもよく、また有機溶剤の一部を分散後に加えてもよ
い。但し、有機溶剤は、分散時の顔料及ぴ樹脂の全量1
00質量部に対して、分散時に少なくとも100質量部
用いるのが好ましい。100質量部未満では、分散時の
粘度が高すぎて、特にボールミル、サンドミル、ピーズ
ミル等で分散する場合には分散が困難になる可能性があ
る。
<< Preparation Method of Coating Liquid for Photosensitive Layer >> An example of the method for preparing the coating liquid for the photosensitive layer will be described below. For example,
A colored image forming material such as a pigment or a resin is mixed with an organic solvent and, if necessary, a dispersant or the like and dispersed. At this time, the mixing is preferably carried out by a dispersion treatment by kneading using a dispersing / kneading device such as an ultrasonic disperser, a triple roll, a ball mill, a sand mill, a bead mill, a homogenizer, and a kneader. Further, with respect to 100 parts by mass of the pigment,
It is preferable to mix at least 20 parts by mass of the resin. If the amount of resin is too small, the dispersion stability of the pigment tends to decrease. Similarly, the total amount of the organic solvent may be used when the pigment is dispersed, or a part of the organic solvent may be added after the dispersion. However, the organic solvent is 1% of the total amount of pigment and resin when dispersed.
It is preferable to use at least 100 parts by mass at the time of dispersion with respect to 00 parts by mass. If the amount is less than 100 parts by mass, the viscosity at the time of dispersion is too high, and the dispersion may be difficult especially when the dispersion is performed by a ball mill, a sand mill, a peas mill or the like.

【0064】前記感光層用感光液を調製するには、更
に、光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有するモノ
マー及び光重合開始剤を混合するが、これらは、この分
散処理の前に混合してもよく、分散処理後に混合しても
よい。前記樹脂及び有機溶剤は前記分散時に全量使用せ
ず、残りを後で混合してもよく、特に感光層用感光液の
製造時に混合するのが好ましい。
To prepare the photosensitive solution for the photosensitive layer, a monomer having two or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule and a photopolymerization initiator are further mixed, which are added before the dispersion treatment. Or may be mixed after the dispersion treatment. The resin and the organic solvent may not be entirely used at the time of the dispersion, and the rest may be mixed later, and it is particularly preferable to mix them at the time of producing the photosensitive liquid for the photosensitive layer.

【0065】前記有機溶剤としては、例えば、ケトン化
合物、アルキレングリコールエーテル化合物、アルコー
ル化合物、芳香族化合物などが挙げられる。具体的に
は、ケトン化合物として、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、ジオキサン等が挙げられ、アル
キレングリコールエーテル化合物として、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、ブチゾレセロソルブ、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、
プチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノ
プロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエ
ーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテートエ等が挙げられ、ポリエ
チレングリコールアルキルエーテルアセテート化合物と
しては、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジ
エチレングリコールiso−プロピルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールtert−ブチルエーテルアセテ
ート、トリエチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、トリエチレングリコールエチルエーテルアセテー
ト、トリエチレングリコールプロピルエーテルアセテー
ト、トリエチレングリコールiso−プロピルエーテル
アセテート、トリエチレングリコールブチルエーテルア
セテート、トリエチレングリコールtert−ブチルエ
ーテルアセテート等が挙げられ、アルコール化合物とし
て、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、3−メチル−3
−メトキシブタノール、テトラヒドロフラン等が挙げら
れ、芳香族化合物として、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、N−メチル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシメチ
ル−2−ピロリドン等が挙げられる。その他として、3
−メチル−3−メトキシブチルアセテート、酢酸エチル
等の有機溶剤が挙げられる。これらは1種単独で使用し
てもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic solvent include ketone compounds, alkylene glycol ether compounds, alcohol compounds and aromatic compounds. Specific examples of the ketone compound include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, dioxane, and the like, and as the alkylene glycol ether compound, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyzocellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate,
Butyl cellosolve acetate, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monomethyl ether acetate D and the like, polyethylene glycol alkyl ether acetate compound, diethylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate,
Diethylene glycol propyl ether acetate, diethylene glycol iso-propyl ether acetate, diethylene glycol butyl ether acetate,
Diethylene glycol tert-butyl ether acetate, triethylene glycol methyl ether acetate, triethylene glycol ethyl ether acetate, triethylene glycol propyl ether acetate, triethylene glycol iso-propyl ether acetate, triethylene glycol butyl ether acetate, triethylene glycol tert-butyl ether acetate, etc. Examples of alcohol compounds include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, and 3-methyl-3.
Examples of the aromatic compound include benzene, toluene, xylene, N-methyl-2-pyrrolidone, and N-hydroxymethyl-2-pyrrolidone. Other, 3
Examples include organic solvents such as -methyl-3-methoxybutyl acetate and ethyl acetate. These may be used alone or in combination of two or more.

【0066】前記有機溶剤は、感光層用塗布液中の樹
脂、顔料、光重合性不飽和結合を分子内に1個以上含有
するモノマー及び光重合開始剤を含む全固形分が5〜4
0質量%の範囲になるように用いられるのが好ましい。
該全固形分が40質量%を超えると、粘度が高くなり、
塗布性が悪くなることがある一方、全固形分が5質量%
未満であると、粘度が低くなり、塗布性が悪くなること
がある。
The organic solvent has a total solid content of 5 to 4 including the resin, the pigment, the monomer containing at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule and the photopolymerization initiator in the photosensitive layer coating solution.
It is preferably used so as to be in the range of 0% by mass.
When the total solid content exceeds 40% by mass, the viscosity becomes high,
Applicability may deteriorate, while total solid content is 5% by mass
If it is less than the above range, the viscosity may be low and the coatability may be poor.

【0067】前記分散剤としては、例えば、ポリカルボ
ン酸型高分子界面活性剤、ポリスルホン酸型高分子界面
活性剤等のアニオン系分散剤、ポリオキシエチレン・ポ
リオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系分
散剤、アントラキノン系、ペリレン系、フタロシアニン
系、キナクドリン系等の有機色素にカルボキシル基、ス
ルホン酸塩基、カルボン酸アミド基、水酸基等の置換基
を導入した有機色素の誘導体等が挙げられ、該分散剤を
配合させることにより、顔料の分散性や分散安定性が向
上するため好ましい。これら顔料分散剤や有機色素の誘
導体は、顔料100質量部に対して50質量部以下で用
いるのが好ましい。50質量部を超えると色度がずれる
ことがある。
Examples of the dispersant include anionic dispersants such as polycarboxylic acid type polymer surfactants and polysulfonic acid type polymer surfactants, and nonionic dispersions such as polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymers. Agents, anthraquinone-based, perylene-based, phthalocyanine-based, quinacdrine-based organic dyes, and the like, derivatives of organic dyes in which a carboxyl group, a sulfonate group, a carboxylic acid amide group, a substituent such as a hydroxyl group is introduced, and the like, and the dispersant Is preferable because the dispersibility and dispersion stability of the pigment are improved. These pigment dispersants and organic dye derivatives are preferably used in an amount of 50 parts by mass or less relative to 100 parts by mass of the pigment. If it exceeds 50 parts by mass, the chromaticity may shift.

【0068】前記感光層用塗布液の塗布の方法として
は、特に制限はないが、例えば、ロールコーター塗布、
スピンコーター塗布、スプレー塗布、ホエラー塗布、デ
ィップコーター塗布、カーテンフローコーター塗布、ワ
イヤーバーコーター塗布、グラビアコーター塗布、及
び、エアナイフコーター塗布等が挙げられる。塗布後、
50〜130℃の温度で1〜30分乾燥するのが好まし
い。
The method of applying the photosensitive layer coating solution is not particularly limited, but for example, roll coater coating,
Examples thereof include spin coater coating, spray coating, whaler coating, dip coater coating, curtain flow coater coating, wire bar coater coating, gravure coater coating, and air knife coater coating. After application
It is preferable to dry at a temperature of 50 to 130 ° C. for 1 to 30 minutes.

【0069】前記感光層の厚みとしては、用途によって
異なるため一概には言えないが、0.1〜300μmが
好ましい。また、カラーフィルター用途の場合には、
0.2〜5μmが好ましい。
The thickness of the photosensitive layer varies depending on the application and cannot be generally stated, but is preferably 0.1 to 300 μm. For color filter applications,
0.2-5 micrometers is preferable.

【0070】前記基板の材質としては、用途により選択
されるが、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコ
ート青板ガラス等の透明ガラス板、ポリエステル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂
等の合成樹脂製シート、フィルム又は板、アルミニウム
板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属板、その
他セラミック板、及び、光電変換素子を有する半導体基
板等が挙げられる。これらの基板には、予めクロム蒸着
等によりブラックマトリックスが形成されていてもよ
い。
The material of the substrate is selected depending on the application, but for example, transparent glass plate such as white plate glass, blue plate glass, silica-coated blue plate glass, polyester resin,
Sheets made of synthetic resin such as polycarbonate resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, films or plates, aluminum plates, copper plates, nickel plates, metal plates such as stainless plates, other ceramic plates, and semiconductor substrates having photoelectric conversion elements Can be mentioned. A black matrix may be previously formed on these substrates by vapor deposition of chromium or the like.

【0071】前記感光層を、仮支持体上に成膜後、基板
上に積層させて形成する場合、基板上に成膜した仮支持
体を重ね、ローラを通して圧着することにより、基板上
に感光層を積層するのが好ましい。このとき、前記ロー
ラを多少加熱するのが好ましい。また圧着を減圧下に行
うのが好ましい。前記仮支持体は、基板上に感光層を積
層してから剥離するのが好ましい。該仮支持体の材質と
しては、例えば、ポリエチレンフィルム、アクリル樹脂
フィルム、ポリエステルフィルム等が挙げられる。
When the photosensitive layer is formed on a temporary support by laminating it on a substrate after forming the film on the temporary support, the temporary support is superposed on the substrate and pressure-bonded through a roller to expose the photosensitive layer on the substrate. It is preferred to stack the layers. At this time, it is preferable to heat the roller to some extent. Moreover, it is preferable to perform the pressure bonding under reduced pressure. The temporary support is preferably peeled off after the photosensitive layer is laminated on the substrate. Examples of the material of the temporary support include polyethylene film, acrylic resin film, polyester film and the like.

【0072】−その他の層の形成− 本発明においては、前記感光層のほか、熱可塑性樹脂
層、酸素遮断層等を必要に応じて形成することができ
る。
-Formation of Other Layers- In the present invention, in addition to the above-mentioned photosensitive layer, a thermoplastic resin layer, an oxygen blocking layer and the like can be formed as required.

【0073】−−熱可塑性樹脂層−− 前記熱可塑性樹脂層は、前記仮支持体上の第一層目とし
て設けられ、熱可塑性樹脂を含み、必要に応じてその他
の成分を含む。前記熱可塑性樹脂としては、アルカリ可
溶性であって、実質的な軟化点が80℃以下の樹脂が好
ましい。前記軟化点が80℃以下の熱可塑性樹脂として
は、例えば、エチレンとアクリル酸エステル共重合体と
のケン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル共
重合体とのケン化物、ビニルトルエンと(メタ)アクリ
ル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ(メタ)アク
リル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニ
ル等との(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のケン
化物等が挙げられ。これらは、1種単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。更に、「プラスチック
性能便覧」(日本プラスチック工業連盟、全日本プラス
チック成形工業連合会編著、工業調査会発行、1968
年10月25日発行)に記載の、軟化点が約80℃以下
の有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶な樹脂も好
ましい。
--Thermoplastic Resin Layer-- The thermoplastic resin layer is provided as the first layer on the temporary support, contains the thermoplastic resin, and optionally other components. The thermoplastic resin is preferably an alkali-soluble resin having a substantial softening point of 80 ° C. or lower. Examples of the thermoplastic resin having a softening point of 80 ° C. or lower include saponified products of ethylene and an acrylic acid ester copolymer, saponified products of styrene and a (meth) acrylic acid ester copolymer, and vinyltoluene (meth). ) Saponified products of acrylic acid ester copolymers, poly (meth) acrylic acid esters, and saponified products of (meth) acrylic acid ester copolymers of butyl (meth) acrylate and vinyl acetate and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, "Plastic Performance Handbook" (edited by Japan Plastics Industry Federation, All Japan Plastics Molding Federation, published by Industrial Research Board, 1968)
Among the organic polymers having a softening point of about 80 ° C. or less, which are described in October 25, 2004, resins soluble in an alkaline aqueous solution are also preferable.

【0074】また、軟化点80℃以上の有機高分子物質
であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質
と相溶性のある各種可塑剤を添加することにより、実質
的な軟化点を80℃以下に下げて使用することもでき
る。該可塑剤としては、既述の光硬化性組成物に使用可
能な可塑剤と同様のものが挙げられる。
Further, even if an organic polymer substance having a softening point of 80 ° C. or higher is added to the organic polymer substance, various plasticizers compatible with the organic polymer substance are added to substantially soften it. The point can be lowered to 80 ° C. or lower for use. Examples of the plasticizer include the same plasticizers as those usable in the photocurable composition described above.

【0075】前記有機高分子物質を用いる場合、後述の
仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点
が80℃を超えない範囲で、各種ポリマー、過冷却物
質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることも
できる。前記熱可塑性樹脂層は、前記熱可塑性樹脂と必
要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液(熱可
塑性樹脂層用塗布液)を調製し、例えば、スピンコート
法等の公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形
成することができる。
When the organic polymer material is used, various polymers, supercooling substances, and adhesion improving agents are used in order to adjust the adhesive force with a temporary support described later, within the range where the substantial softening point does not exceed 80 ° C. Agents, surfactants, release agents and the like can also be added. The thermoplastic resin layer is prepared by dissolving the thermoplastic resin and optionally other components in an organic solvent to prepare a coating liquid (thermoplastic resin layer coating liquid). It can be formed by coating on a temporary support by a coating method.

【0076】前記有機溶剤としては、例えば、メタノー
ル、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン
等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等の
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレング
リコール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテー
ト等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−
4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;2−ヒドロ
キシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、
3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキンプロピ
オン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−
エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル類;等が挙げられる。これらの有機溶剤
は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用しても
よい。
Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether. Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether; Glycol methyl ether acetate, propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol ethyl ether acetate: toluene, xylene and the like aromatic hydrocarbons; methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy -
Ketones such as 4-methyl-2-pentanone; ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 -Methyl hydroxy-2-methylbutanoate,
Methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoquinopropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-
Esters such as ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate and butyl acetate; and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0077】これらの中でも、各成分の溶解性、及び膜
形成性の点で、エチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエステル類、エチルセロソルブアセテート
等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシ
プロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル
等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル等のジエチレングリコール類が特に好ましい。
Among these, in view of solubility of each component and film forming property, glycol esters such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate, ethyl 2-hydroxypropionate, and 3 Particularly preferred are esters such as methyl methoxypropionate and ethyl 3-ethoxypropionate, and diethylene glycols such as diethylene glycol dimethyl ether.

【0078】更に、N−メチルホルムアミド、N,N−
ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N
−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1
−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。
Furthermore, N-methylformamide, N, N-
Dimethylformamide, N-methylformanilide, N
-Methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1
It is also possible to add a high boiling point solvent such as -octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate.

【0079】前記熱可塑性樹脂層の厚みとしては、6〜
100μmが好ましく、6〜50μmがより好ましい。
The thickness of the thermoplastic resin layer is 6 to
100 μm is preferable, and 6 to 50 μm is more preferable.

【0080】−−酸素遮断層−− 前記酸素遮断層は、水又はアルカリ水溶液に分散、溶解
可能な樹脂成分を含み、必要に応じて、界面活性剤等の
他の成分を含んでいてもよい。前記酸素遮断層に含有さ
れる樹脂成分としては、公知の樹脂が挙げられ、例え
ば、特開昭46−2121号公報及び特公昭56−40
824号公報に記載のポリビニルエーテル/無水マレイ
ン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性
塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル
澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、
ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサ
イド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶
性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、マレイネート
樹脂、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用し
てもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも
親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子
の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用する
のが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロ
リドンとの併用が特に好ましい。
--Oxygen Barrier Layer-- The oxygen barrier layer contains a resin component that can be dispersed and dissolved in water or an aqueous alkali solution, and may further contain other components such as a surfactant, if necessary. . Examples of the resin component contained in the oxygen barrier layer include known resins, for example, JP-A-46-2121 and JP-B-56-40.
No. 824, polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose, water-soluble cellulose ethers, water-soluble salt of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamides, water-soluble polyamide ,
Examples thereof include water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, water-soluble salts of the group consisting of various starches and the like, styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use a hydrophilic polymer, and it is preferable to use at least polyvinyl alcohol among the hydrophilic polymers, and it is particularly preferable to use polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone in combination.

【0081】前記ポリビニルアルコールとしては、特に
制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる
が、その鹸化率が80%以上であるのが好ましい。前記
ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量とし
ては、該酸素遮断層の固形分に対し、1〜75体積%が
好ましく、1〜60体積%がより好ましく、10〜50
体積%が更に好ましい。前記含有量が、1体積%未満で
あると、前記感光性樹脂層との充分な密着性が得られな
いことがある一方、75体積%を超えると、酸素遮断能
が低下することがある。
The polyvinyl alcohol is appropriately selected depending on the intended purpose without any limitation, but the saponification rate is preferably 80% or more. When the polyvinylpyrrolidone is used, its content is preferably 1 to 75% by volume, more preferably 1 to 60% by volume, and 10 to 50% based on the solid content of the oxygen barrier layer.
Volume% is more preferred. If the content is less than 1% by volume, sufficient adhesiveness to the photosensitive resin layer may not be obtained, while if it exceeds 75% by volume, the oxygen barrier ability may decrease.

【0082】前記酸素遮断層は、前記樹脂成分等を水系
溶媒に溶解、分散して塗布液(酸素遮断層用塗布液)を
調製し、例えば、スピンコート法等の公知の塗布方法に
より前記熱可塑性樹脂層上に塗布等して形成するのが好
ましい。前記水系溶媒としては、蒸留水等の水を主成分
とし、所望により本発明の効果を損なわない範囲でアル
コール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添加した溶媒
が挙げられる。
The oxygen barrier layer is prepared by dissolving and dispersing the resin components and the like in an aqueous solvent to prepare a coating liquid (oxygen barrier layer coating liquid), and applying the above-mentioned heat treatment by a known coating method such as spin coating. It is preferably formed by coating on the plastic resin layer. Examples of the water-based solvent include a solvent containing water such as distilled water as a main component, and if desired, a solvent having a compatibility with water such as alcohol or a salt added thereto within a range not impairing the effects of the present invention.

【0083】前記酸素遮断層の厚みとしては、0.1〜
5μmが好ましく、0.5〜2μmがより好ましい。前
記層厚が、0.1μm未満であると、酸素透過性が高過
ぎ、感光性樹脂層の重合感度が低下することがある一
方、5μmを超えると、現像や酸素遮断層除去時に長時
間を要することがある。
The thickness of the oxygen barrier layer is 0.1 to 0.1
5 μm is preferable, and 0.5 to 2 μm is more preferable. If the layer thickness is less than 0.1 μm, the oxygen permeability is too high, and the polymerization sensitivity of the photosensitive resin layer may decrease, while if it exceeds 5 μm, it takes a long time during development and removal of the oxygen barrier layer. It may cost.

【0084】−露光− 前記基板上に形成された感光層への露光は、該感光層に
活性光線を画像状に照射する方法等により好適に行うこ
とができ、これにより露光部の膜を硬化させることがで
きる。露光に際し、その膜の表面にポリビニルアルコー
ル等の酸素遮断膜を0.5〜30μmの厚みで形成し、
その上から露光してもよい。前記活性光線の光源として
は、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水
銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ラ
ンプ、ラングステンランプ、可視光レーザー等が好まし
い。これらの光源を用いてフォトマスクを介したパター
ン露光や走査による直接描写等により画像状に活性光線
が照射される。
-Exposure-The exposure of the photosensitive layer formed on the substrate can be suitably carried out by a method of irradiating the photosensitive layer with an actinic ray in an image form, whereby the film in the exposed portion is cured. Can be made. During exposure, an oxygen barrier film such as polyvinyl alcohol is formed on the surface of the film to a thickness of 0.5 to 30 μm,
You may expose from it. As the light source of the actinic ray, for example, a carbon arc lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a Langsten lamp, a visible light laser and the like are preferable. Actinic rays are radiated imagewise by pattern exposure through a photomask using these light sources or direct drawing by scanning.

【0085】−現像− 前記露光に続いて現像を行う。本発明においては、該現
像が、本発明の現像液を用いて行われる。従って、現像
液に含有される前記窒素化合物が、感光層を形成する樹
脂における酸性基(カルボキシル基等)が塩基によって
徐々に溶解するのを効果的にブロックする役割を有す
る。また、現像液に含有される前記炭酸塩が感光層の中
に入り込み、感光層を効果的に膨潤させる役割を有す
る。さらに、現像液に含有される前記芳香環を有する化
合物が、膨潤した感光層を剥離させる役割を有する。し
たがって、感光層の除去したい部分において、感光層が
徐々に溶解するのを抑制しつつ、前記炭酸塩による膨潤
作用によって感光層を急激に微小片剥離させることがで
きる。その結果、残渣除去性に優れ、コンタクト抵抗が
良好な画像を効率的に形成可能である。
-Development-Development is performed following the exposure. In the present invention, the development is carried out using the developing solution of the present invention. Therefore, the nitrogen compound contained in the developing solution has a role of effectively blocking the acidic group (carboxyl group or the like) in the resin forming the photosensitive layer from being gradually dissolved by the base. Further, the carbonate contained in the developer has a role of entering the photosensitive layer and effectively swelling the photosensitive layer. Further, the compound having an aromatic ring contained in the developer has a role of peeling the swollen photosensitive layer. Therefore, in the portion where the photosensitive layer is desired to be removed, the photosensitive layer can be rapidly peeled by the swelling action of the carbonate while suppressing the gradual dissolution of the photosensitive layer. As a result, it is possible to efficiently form an image with excellent residue removability and good contact resistance.

【0086】前記現像においては、現像液を吹き付けた
り、現像液に浸漬する方法等により、未露光部を除去
し、画像に対応した硬化膜の着色画像パターンを得るこ
とができる。現像後、着色画像パターンをより強固に硬
化させるため、更にポストベークを行うのが好ましい。
該ポストベーク温度としては、60〜280℃の温度が
好ましく、加熱時間は1〜60分間程度がより好まし
い。
In the development, the unexposed portion can be removed by a method of spraying a developing solution or immersing in a developing solution to obtain a colored image pattern of a cured film corresponding to an image. After development, post-baking is preferably performed in order to more firmly cure the colored image pattern.
The post-baking temperature is preferably 60 to 280 ° C., and the heating time is more preferably 1 to 60 minutes.

【0087】[カラーフィルターの製造方法]本発明の
カラーフィルターの製造方法においては、所定の感光層
を基板上に形成し、露光し現像して同一基板上に複数の
着色画像を形成する。該感光層の形成、露光、現像は、
本発明の前記着色画像の形成方法と同様である。本発明
のカラーフィルターの製造方法においては、特に、前記
着色画像の形成を、異なる3〜4色の着色画像について
繰り返し行うのが好ましい。
[Method for producing color filter] In the method for producing a color filter of the present invention, a predetermined photosensitive layer is formed on a substrate, exposed and developed to form a plurality of colored images on the same substrate. The formation, exposure, and development of the photosensitive layer are
This is the same as the method for forming the colored image of the present invention. In the method for producing a color filter of the present invention, it is particularly preferable that the formation of the colored image is repeated for colored images of different 3 to 4 colors.

【0088】例えば、クロム蒸着等により形成したブラ
ックマトリックス上に、赤、緑、青の着色画像を、本発
明の前記着色画像の形成方法と同様にして形成する方
法、黒色の着色画像形成材料を用いてブラックマトリッ
クスを形成した後、赤、緑、青の着色画像を、本発明の
前記着色画像の形成方法と同様にして形成する方法、本
発明の前記着色画像の形成方法と同様にして赤、緑、青
の着色画像を形成した後、これらの着色画像の間隙に黒
色の画像形成材料を用いてブラックマトリックスを形成
する方法、等が挙げられる。赤、緑、青の着色画像の形
成順序は特に制限はなく、任意である。
For example, a method of forming red, green, and blue colored images on the black matrix formed by chromium vapor deposition or the like in the same manner as the above-described colored image forming method of the present invention, and a black colored image forming material. After forming a black matrix using the method, a red, green and blue colored image is formed in the same manner as in the colored image forming method of the present invention, and a red color is formed in the same manner as in the colored image forming method of the present invention. After forming colored images of green, blue, and the like, a method of forming a black matrix by using a black image forming material in a gap between these colored images, and the like. The order of forming the red, green and blue colored images is not particularly limited and is arbitrary.

【0089】[カラーフィルター付アレイ基板の製造方
法]本発明のカラーフィルター付アレイ基板の製造方法
においては、所定の感光層を、TFT(薄膜トランジス
ター)アクティブマトリクス基板(TFTアレイ基板)
上に形成し、露光し現像して同一のTFTアレイ基板上
に複数の着色画像を形成する。該感光層の形成、露光、
現像は、本発明の前記着色画像の形成方法と同様であ
る。該TFTアクティブマトリックス基板としては、特
に制限はなく、常用のものを制限なく使用することがで
きる。例えば、アクティブマトリクス基板(アレイ基
板)に、ゲート信号線及び付加容量電極を形成し、この
上にゲート絶縁膜を形成した後、半導体層及びチャネル
保護層を形成し、更にTFTのソース及びドレインとな
るn+Si層を形成し、次に金属層及びITO膜をスパ
ッタリング法によって形成し、これらをパターニングす
ることにより、ドレイン信号線及びソース信号線を形成
する等によって作製することができる。本発明のカラー
フィルター付アレイ基板の製造方法においては、例え
ば、特開平10−206,888号公報等の記載に従
い、好適に実施することができる。
[Manufacturing Method of Array Substrate with Color Filter] In the manufacturing method of the array substrate with a color filter of the present invention, a predetermined photosensitive layer is provided as a TFT (thin film transistor) active matrix substrate (TFT array substrate).
A plurality of colored images are formed on the same TFT array substrate by forming the above, exposing and developing. Formation of the photosensitive layer, exposure,
The development is the same as the method for forming the colored image of the present invention. The TFT active matrix substrate is not particularly limited, and a commonly used one can be used without limitation. For example, a gate signal line and an additional capacitance electrode are formed on an active matrix substrate (array substrate), a gate insulating film is formed on the gate signal line, and a semiconductor layer and a channel protective layer are formed on the active matrix substrate (array substrate). Then, a metal layer and an ITO film are formed by a sputtering method, and these are patterned to form a drain signal line and a source signal line. The method for producing an array substrate with a color filter of the present invention can be suitably carried out, for example, according to the description in JP-A-10-206,888.

【0090】本発明の前記カラーフィルター付アレイ基
板の製造方法においては、前記TFTアクティブマトリ
ックス基板が、アモルファスシリコン又は低温ポリシリ
コン基材、コンティニュアスグレインシリコン基材で形
成されているものが好ましい。
In the method of manufacturing the array substrate with a color filter of the present invention, it is preferable that the TFT active matrix substrate is formed of amorphous silicon, a low temperature polysilicon base material, or a continuous grain silicon base material.

【0091】本発明のカラーフィルター付アレイ基板の
製造方法によれば、特に金属イオンを含有する必要のな
い炭酸塩を配合した、本発明の前記現像液を用いて現像
することから、TFTアレイ基板上での現像であって
も、形成される画像の残渣除去性に優れ、コンタクト抵
抗が良好となる。
According to the method for producing an array substrate with a color filter of the present invention, the development is carried out using the above-mentioned developing solution of the present invention containing a carbonate which does not particularly need to contain metal ions. Even with the above development, the residue removal property of the formed image is excellent, and the contact resistance is good.

【0092】[0092]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0093】―一体型フィルムの作製− ポリエチレンテレフタレートフイルム(厚み=75μ
m)仮支持体に、下記組成の熱可塑性樹脂層用塗布液、
下記組成の酸素遮断層用塗布液、及び、感光層用塗布液
(感光層用塗布液K〜Sから選択した1種(表1で記
載))を塗布し各層を積層して、熱可塑性樹脂層、酸素
遮断層、及び、感光層を順次設け、更に保護フィルムで
カバーすることにより、仮支持体、熱可塑性樹脂層(乾
燥厚み:14.6μm)、酸素遮断層(乾燥厚み:1.
6μm)、及び、感光層が一体となったフィルム(フィ
ルムK〜S)を作製した。得られた一体型フィルム、使
用した感光層用塗布液、及び、形成した感光層の厚みを
下記表1に示す。
-Production of integrated film- Polyethylene terephthalate film (thickness = 75 μm
m) A coating liquid for a thermoplastic resin layer having the following composition on a temporary support,
A coating solution for oxygen barrier layer having the following composition, and a coating solution for photosensitive layer (one type selected from coating solutions K to S for photosensitive layer (shown in Table 1)) are applied and each layer is laminated to form a thermoplastic resin. A layer, an oxygen barrier layer, and a photosensitive layer are sequentially provided and further covered with a protective film to provide a temporary support, a thermoplastic resin layer (dry thickness: 14.6 μm), an oxygen barrier layer (dry thickness: 1.
6 μm) and a film (films K to S) in which the photosensitive layer was integrated. Table 1 below shows the obtained integral film, the coating solution for the photosensitive layer used, and the thickness of the formed photosensitive layer.

【0094】[0094]

【表1】 [Table 1]

【0095】 <熱可塑性樹脂層用塗布液の組成> ・塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体・・・・・・・・・300質量部 ・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体・・・80質量部 ・フタル酸ジブチル・・・・・・・・・・・・・・・・80質量部 (メチルエチルケトンを適宜添加)[0095] <Composition of coating liquid for thermoplastic resin layer> ・ Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 300 parts by mass -Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymer ... 80 parts by mass ・ Dibutyl phthalate: 80 parts by mass (Methyl ethyl ketone is added appropriately)

【0096】 <酸素遮断層用塗布液の組成> ・ポリビニルアルコール・・・・・・・・・・・・・・200質量部 (水を適宜添加)[0096] <Composition of coating liquid for oxygen barrier layer> ・ Polyvinyl alcohol ・ ・ ・ ・ ・ ・ 200 parts by mass (Add water appropriately)

【0097】 <感光層用塗布液Kの組成> ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体・・60質量部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート・・40質量部 ・ミヒラーズケトン・・3質量部 ・2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルアミダジール二量体 ・・・・・・・3質量部 ・カーボンブラック・・・・・・・・・・・・・・・・・6質量部 (メチルエチルケトンを適宜添加)[0097] <Composition of coating liquid K for photosensitive layer> -Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer--60 parts by mass ・ Pentaerythritol tetraacrylate ・ ・ 40 parts by mass ・ Michler's ketone ・ ・ 3 parts by mass -2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylamidazyl dimer                                       ..... 3 parts by mass ・ Carbon black ・ ・ ・ ・ 6 parts by mass   (Methyl ethyl ketone is added appropriately)

【0098】 <感光層用塗布液Rの組成> ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体・・・32質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・・・・31質量部 ・光重合開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・2.5質量部 (2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)1,3,4−オキサジ アゾール) ・UV吸収剤・・・・・・・・・・・・・・・12質量部 (7−(2−(4−(3−ヒドロキシメチルピペリジノ)−6−ジエチルアミ ノ)トリアジニルアミノ)−3−フェニルクマリン ・フェノチアジン・・・・・・・・・・・・・0.1質量部 ・PR254・・・・・・・・・・・・・・・9.6質量部 (メチルエチルケトンを適宜添加)[0098] <Composition of coating liquid R for photosensitive layer> ・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer: 32 parts by mass ・ Pentaerythritol hexaacrylate ・ ・ ・ ・ 31 parts by mass ・ Photopolymerization initiator ・ ・ ・ ・ ・ ・ 2.5 parts by mass (2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) 1,3,4-oxadi Azole) ・ UV absorber ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 12 parts by mass   (7- (2- (4- (3-hydroxymethylpiperidino) -6-diethylamido No) Triazinylamino) -3-phenylcoumarin ・ Phenothiazine ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 0.1 parts by mass ・ PR254 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 9.6 parts by mass   (Methyl ethyl ketone is added appropriately)

【0099】 <感光層用塗布液Gの組成> ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体・・・30質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・・・・29質量部 ・光重合開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1.5質量部 (2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)1,3,4−オキサジ アゾール) ・UV吸収剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・9.8質量部 (7−(2−(4−(3−ヒドロキシメチルピペリジノ)−6−ジエチルアミノ )トリアジニルアミノ)−3−フェニルクマリン) ・PY138・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・10.1質量部 PG36・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・20質量部 (メチルエチルケトンを適宜追加)[0099] <Composition of coating liquid G for photosensitive layer> ・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer ... 30 parts by mass ・ Pentaerythritol hexaacrylate ・ ・ ・ ・ 29 parts by mass ・ Photopolymerization initiator ・ ・ ・ 1.5 parts by mass (2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) 1,3,4-oxadi Azole) ・ UV absorber ・ ・ ・ ・ ・ ・ 9.8 parts by mass (7- (2- (4- (3-hydroxymethylpiperidino) -6-diethylamino ) Triazinylamino) -3-phenylcoumarin) ・ PY138 ・ ・ ・ ・ ・ ・ 10.1 parts by mass PG36 ... 20 parts by mass     (Add methyl ethyl ketone as appropriate)

【0100】 <感光層用塗布液Bの組成> ・ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体・・・42質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・・・・32質量部 ・光重合開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1.6質量部 (2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)1,3,4−オキサジ アゾール) ・フェノチアジン・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.2質量部 ・PB15:6・・・・・・・・・・・・・・・・・・・24質量部 (メチルエチルケトンを適宜添加)[0100] <Composition of coating liquid B for photosensitive layer> ・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer: 42 parts by mass ・ Pentaerythritol hexaacrylate ・ ・ ・ ・ 32 parts by mass ・ Photopolymerization initiator ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1.6 parts by mass (2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) 1,3,4-oxadi Azole) ・ Phenothiazine ・ ・ ・ ・ 0.2 parts by mass ・ PB15: 6 ・ ・ ・ ・ ・ ・ 24 parts by mass (Add methyl methyl ketone as appropriate)

【0101】 <感光層用塗布液Sの組成> ポリマー・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・24質量部 スチレン/マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物(共重合比68/32) ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート・・・・・・20質量部 ・光重合開始剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・1質量部 (IRG184(CAS947−19−3) ・UV吸収剤・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・12質量部 (7−(2−(4−(3−ヒドロキシメチルピペリジノ)−6−ジエチルアミノ )トリアジニルアミノ)−3−フェニルクマリン (メチルエチルケトンを適宜添加)[0101] <Composition of coating liquid S for photosensitive layer> Polymer: 24 parts by mass Styrene / maleic acid copolymer benzylamine modified product (copolymerization ratio 68/32) ・ Dipentaerythritol hexaacrylate ・ ・ ・ ・ 20 parts by mass ・ Photopolymerization initiator ・ ・ ・ ・ ・ ・ 1 part by mass (IRG184 (CAS947-19-3) ・ UV absorber ・ ・ ・ ・ 12 parts by mass (7- (2- (4- (3-hydroxymethylpiperidino) -6-diethylamino ) Triazinylamino) -3-phenylcoumarin (Methyl ethyl ketone is added appropriately)

【0102】以下、特開平10−206,888号公報
の記述に準じ、実施例1〜実施例10及び比較例1にお
けるアクティブマトリクス基板を作製した。
The active matrix substrates of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1 were manufactured in accordance with the description of JP-A-10-206,888.

【0103】(実施例1) −TFTアレイ基板の洗浄− 縦320mm横400mmのTFTアレイ基板を、室温
の超純粋中で超音波洗浄1分間後、エアーブローで水切
りし、乾燥させて洗浄した。
(Example 1) -Washing of TFT array substrate-A TFT array substrate having a length of 320 mm and a width of 400 mm was ultrasonically cleaned for 1 minute in ultrapure at room temperature, then drained by air blow and dried for cleaning.

【0104】−樹脂層の形成− フィルムR(感光性樹脂層の波長365nmでのODは
1.5)における保護フィルムを剥離し、温度130
℃、線圧100N/cm、搬送速度1.0m/分で、前
記TFTアレイ基板上にラミネートした。その後、超高
圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機で、露光マ
スク下面及びフィルムRの間の距離(本実施例におい
て、この距離を「プロキシ量」と称することがある。)
を60μmに設定し、露光量30mJ/cmでパター
ン露光後、下記組成の現像液P1により、38℃で35
秒間シャワー現像して、熱可塑性樹脂層及び酸素遮断層
を除去した。
-Formation of Resin Layer- The protective film on the film R (OD of the photosensitive resin layer at a wavelength of 365 nm of 1.5) was peeled off, and the temperature was set to 130.
It was laminated on the TFT array substrate at a temperature of 100 ° C., a linear pressure of 100 N / cm and a conveying speed of 1.0 m / min. After that, the distance between the lower surface of the exposure mask and the film R is measured with a proximity type exposure machine having an ultra-high pressure mercury lamp (this distance may be referred to as a “proxy amount” in this embodiment).
Was set to 60 μm, and after pattern exposure with an exposure dose of 30 mJ / cm 2 , the solution was exposed to 35 ° C. at 38 ° C. with a developer P1 having the following composition.
After shower development for 2 seconds, the thermoplastic resin layer and the oxygen barrier layer were removed.

【0105】<現像液P1の組成> ・超純水・・・97質量部 ・トリエタノールアミン・・・3質量部 (Na濃度:12ppb)<Composition of developer P1> ・ Ultrapure water: 97 parts by mass ・ Triethanolamine: 3 parts by mass (Na concentration: 12 ppb)

【0106】引き続き、下記組成の現像液C1により、
33℃で40秒間シャワー現像することにより、感光層
を現像し、パターン画像を得た。
Subsequently, with a developer C1 having the following composition,
The photosensitive layer was developed by shower development at 33 ° C. for 40 seconds to obtain a pattern image.

【0107】 <現像液C1の組成> ・ポリオキシエチレン(N=13)ナフチルエーテル・・・5g/L ・炭酸アンモニウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・6.5g/L ・ジブチルナフタレンスルホン酸アンモニウム・・・・・・9.2g/L ・テトラメチルジアミノヘキサン・・・・・・・・・・・・5.4g/L 残部(水)[0107] <Composition of developer C1> ・ Polyoxyethylene (N = 13) naphthyl ether: 5 g / L ・ Ammonium carbonate ・ ・ ・ ・ 6.5g / L ・ Ammonium dibutylnaphthalene sulfonate ・ ・ ・ ・ ・ ・ 9.2g / L ・ Tetramethyldiaminohexane ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ 5.4g / L The rest (water)

【0108】引き続き、下記組成の処理液C2により、
33℃で20秒間シャワー処理及びブラシ処理をした。
Subsequently, a treatment liquid C2 having the following composition was added.
Shower treatment and brush treatment were performed at 33 ° C. for 20 seconds.

【0109】 <処理液C2の組成> ・トリエタノールアミン・・・・・・・・・・・・・・・・8g/L ポリオキシエチレン(N=15)セチルエーテル・・・・6g/L 残部:水[0109] <Composition of treatment liquid C2> ・ Triethanolamine: 8 g / L Polyoxyethylene (N = 15) cetyl ether ... 6g / L The rest: water

【0110】更に引き続き、TFT基板に対して前記樹
脂層の側から、超高圧水銀灯で500mJ/cmの光
でポスト露光後、温風循環型クリーンオープンにより、
220℃で130分間熱処理して着色画像を製造した。
得られた着色画像のコンタクトホール部における残渣を
走査型電子顕微鏡にて観察し、下記評価基準により評価
した。また、コンタクト抵抗を測定した。結果を表2に
示す。
Further, subsequently, from the resin layer side to the TFT substrate, after post-exposure with light of 500 mJ / cm 2 with an ultra-high pressure mercury lamp, a warm air circulation type clean open was performed.
A heat treatment was performed at 220 ° C. for 130 minutes to produce a colored image.
The residue in the contact hole portion of the obtained colored image was observed with a scanning electron microscope and evaluated according to the following evaluation criteria. Moreover, the contact resistance was measured. The results are shown in Table 2.

【0111】−評価基準− ・未露光部に現像残渣が認められなかった・・・・◎ ・未露光部に僅かに現像残渣が認められた・・・・○ ・未露光部に幾分現像残渣が認められた・・・・・△ ・未露光部に現像残渣が多く認められた・・・・・×-Evaluation criteria- ・ No development residue was found in the unexposed area ... ・ Slight development residue was observed in the unexposed area .... ○ ・ Some development residue was found in the unexposed area ・ ・ ・ △ ・ A large amount of development residue was observed in the unexposed area.

【0112】(実施例2)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ジ−tert−ブ
チルエチレンジアミンに代えたほかは、実施例1と同様
にして着色画像を製造し、実施例1と同様にして観察・
測定を行った。結果を表2に示す。
(Example 2) <Formation of resin layer> of Example 1
In the same manner as in Example 1, except that the tetramethyldiaminohexane in the “Developer C1 composition” used for development was replaced with di-tert-butylethylenediamine, a colored image was produced in the same manner as in Example 1. And observe
The measurement was performed. The results are shown in Table 2.

【0113】(実施例3)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、テトラブチルジエ
チレントリアミンに代えたほかは、実施例1と同様にし
て着色画像を製造し、実施例1と同様にして観察・測定
を行った。結果を表2に示す。
(Example 3) <Formation of resin layer> of Example 1
A colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that tetrabutyldiethylenetriamine was used in place of tetramethyldiaminohexane in the “composition of developer C1” used for development, and observation was performed in the same manner as in Example 1.・ Measured. The results are shown in Table 2.

【0114】(実施例4)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、トリエチレンテト
ラミンに代えたほかは、実施例1と同様にして着色画像
を製造し、実施例1と同様にして観察・測定を行った。
結果を表2に示す。
(Example 4) <Formation of resin layer> of Example 1
In the above, a colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that tetramethyldiaminohexane in "Composition of developer C1" used for development was replaced with triethylenetetramine, and observed in the same manner as in Example 1.・ Measured.
The results are shown in Table 2.

【0115】(実施例5)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ペンタエチレンヘ
キサミンに代えたほかは、実施例1と同様にして着色画
像を製造し、実施例1と同様にして観察・評価を行っ
た。結果を表2に示す。
(Example 5) <Formation of resin layer> of Example 1
A colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that pentaethylenehexamine was used in place of tetramethyldiaminohexane in "Composition of developer C1" used for development, and observation was performed in the same manner as in Example 1.・ Evaluated. The results are shown in Table 2.

【0116】(実施例6)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ペンタキス(2−
ヒドロキシプロピル)ジエチレントリアミンに代えたほ
かは、実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例
1と同様にして観察・評価を行った。結果を表2に示
す。
(Example 6) <Formation of resin layer> of Example 1
In the above, tetramethyldiaminohexane in the "composition of developer C1" used for the development was replaced with pentakis (2-
A colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that hydroxypropyl) diethylenetriamine was used, and observation and evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0117】(実施例7)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ペンタメチルジエ
チレントリアミンに代えたほかは、実施例1と同様にし
て着色画像を製造し、実施例1と同様にして観察・評価
を行った。結果を表2に示す。
Example 7 <Formation of Resin Layer> of Example 1
In the above, a colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that tetramethyldiaminohexane in "composition of developer C1" used for development was replaced with pentamethyldiethylenetriamine, and observed in the same manner as in Example 1.・ Evaluated. The results are shown in Table 2.

【0118】(実施例8)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、2−(2−(2−
ジメチルアミノ)エトキシ)エチル)メチルアミノ)エ
タノールに代えたほかは、実施例1と同様にして着色画
像を製造し、実施例1と同様にして観察・評価を行っ
た。結果を表2に示す。
Example 8 <Formation of Resin Layer> of Example 1
In, in the "composition of the developer C1" used for the development, tetramethyldiaminohexane was added to 2- (2- (2-
A colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that dimethylamino) ethoxy) ethyl) methylamino) ethanol was used, and observation and evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0119】(実施例9)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ヘキサメチレンテ
トラミンに代えたほかは、実施例1と同様にして着色画
像を製造し、実施例1と同様にして観察・評価を行っ
た。結果を表2に示す。
Example 9 <Formation of Resin Layer> of Example 1
A colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that the tetramethyldiaminohexane in the "composition of the developing solution C1" used for development was replaced with hexamethylenetetramine, and the observation was performed in the same manner as in Example 1.・ Evaluated. The results are shown in Table 2.

【0120】(実施例10)実施例1の<樹脂層の形成
>において、現像に使用した「現像液C1の組成」にお
ける炭酸アンモニウムを、炭酸ナトリウムに代えたほか
は、実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例1
と同様にして観察・評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 10) In the same manner as in Example 1 except that the ammonium carbonate in the "composition of the developing solution C1" used for the development in "Formation of the resin layer" in Example 1 was changed to sodium carbonate. Example 1 to produce a colored image by
Observation and evaluation were performed in the same manner as in. The results are shown in Table 2.

【0121】(実施例11)実施例1において、フィル
ムRをフィルムKに代え、現像に使用した「現像液C1
の組成」におけるテトラメチルジアミノヘキサンを、ジ
−tert−ブチルエチレンジアミンに代えたほかは、
実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例1と同
様にして観察・評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 11) In Example 1, the film R was replaced with the film K, and "Developer C1" was used for development.
Except that the tetramethyldiaminohexane in "composition of" was replaced with di-tert-butylethylenediamine,
A colored image was produced in the same manner as in Example 1, and observed and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0122】(実施例12)実施例1において、フィル
ムRをフィルムGに代え、現像に使用した「現像液C1
の組成」におけるテトラメチルジアミノヘキサンを、ジ
−tert−ブチルエチレンジアミンに代えたほかは、
実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例1と同
様にして観察・評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 12) In Example 1, the film R was replaced with the film G, and "Developer C1" was used for development.
Except that the tetramethyldiaminohexane in "composition of" was replaced with di-tert-butylethylenediamine,
A colored image was produced in the same manner as in Example 1, and observed and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0123】(実施例13)実施例1において、フィル
ムRをフィルムBに代え、現像に使用した「現像液C1
の組成」におけるテトラメチルジアミノヘキサンを、ジ
−tert−ブチルエチレンジアミンに代えたほかは、
実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例1と同
様にして観察・評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 13) In Example 1, the film R was replaced with the film B, and the "Developer C1" used in the development was used.
Except that the tetramethyldiaminohexane in "composition of" was replaced with di-tert-butylethylenediamine,
A colored image was produced in the same manner as in Example 1, and observed and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0124】(実施例14)実施例1において、フィル
ムRをフィルムSに代え、現像に使用した「現像液C1
の組成」におけるテトラメチルジアミノヘキサンを、ジ
−tert−ブチルエチレンジアミンに代えたほかは、
実施例1と同様にして着色画像を製造し、実施例1と同
様にして観察・評価を行った。結果を表2に示す。
(Example 14) In Example 1, the film R was replaced with the film S, and the "developing solution C1" used in the development was used.
Except that the tetramethyldiaminohexane in "composition of" was replaced with di-tert-butylethylenediamine,
A colored image was produced in the same manner as in Example 1, and observed and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0125】(比較例1)実施例1の<樹脂層の形成>
において、現像に使用した「現像液C1の組成」におけ
るテトラメチルジアミノヘキサンを、ジエタノールアミ
ンに代えたほかは、実施例1と同様にして着色画像を製
造し、実施例1と同様にして観察・評価を行った。結果
を表2に示す。
Comparative Example 1 <Formation of Resin Layer> of Example 1
In the above, a colored image was produced in the same manner as in Example 1 except that tetramethyldiaminohexane in the “composition of the developing solution C1” used for development was replaced with diethanolamine, and observation and evaluation were performed in the same manner as in Example 1. I went. The results are shown in Table 2.

【0126】[0126]

【表2】 [Table 2]

【0127】[0127]

【発明の効果】本発明によれば、金属イオンを含有しな
い場合であっても、残渣除去性に優れ、コンタクト抵抗
が良好な着色画像を形成可能な現像液、該現像液を用い
た着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、
及び、カラーフィルター付アレイ基板の製造方法を提供
することができる。
According to the present invention, a developer capable of forming a colored image having excellent residue removability and good contact resistance even when it does not contain a metal ion, and a colored image using the developer. Forming method, color filter manufacturing method,
And the manufacturing method of the array substrate with the color filter can be provided.

フロントページの続き (72)発明者 田中 光利 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA02 BA45 BA47 BA48 BB02 BB42 2H096 AA28 AA30 BA05 GA08 GA17 HA30 Continued front page    (72) Inventor Mitsutoshi Tanaka             200, Onakazato, Fujinomiya City, Shizuoka Prefecture Fuji Photo             Within Film Co., Ltd. F term (reference) 2H048 BA02 BA45 BA47 BA48 BB02                       BB42                 2H096 AA28 AA30 BA05 GA08 GA17                       HA30

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒
素化合物と、芳香環を有する化合物と、炭酸塩とを含む
ことを特徴とする現像液。
1. A developing solution containing a nitrogen compound having two or more nitrogen atoms in the molecule, a compound having an aromatic ring, and a carbonate.
【請求項2】 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒
素化合物が、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレン
ヘキサミン、及び、ジ−tert−ブチルエチレンジア
ミンの少なくともいずれかである請求項1に記載の現像
液。
2. The developer according to claim 1, wherein the nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in the molecule is at least one of triethylenetetramine, pentaethylenehexamine, and di-tert-butylethylenediamine. .
【請求項3】 芳香環が、ナフタレン環及びベンゼン環
の少なくともいずれかである請求項1又は2に記載の現
像液。
3. The developer according to claim 1, wherein the aromatic ring is at least one of a naphthalene ring and a benzene ring.
【請求項4】 炭酸塩が、金属イオンを含まない請求項
1から3のいずれかに記載の現像液。
4. The developer according to claim 1, wherein the carbonate does not contain a metal ion.
【請求項5】 芳香環を有する化合物の現像液における
含有量が、0.1〜50質量%である請求項1から4の
いずれかに記載の現像液。
5. The developing solution according to claim 1, wherein the content of the compound having an aromatic ring in the developing solution is 0.1 to 50 mass%.
【請求項6】 分子内に2以上の窒素原子を含有する窒
素化合物の現像液における含有量が、0.1〜50質量
%である請求項1から5のいずれかに記載の現像液。
6. The developing solution according to claim 1, wherein the content of the nitrogen compound containing two or more nitrogen atoms in the molecule in the developing solution is 0.1 to 50 mass%.
【請求項7】 炭酸塩の現像液における含有量が、0.
1〜50質量%である請求項1から6のいずれかに記載
の現像液。
7. The content of carbonate in the developing solution is 0.
The developing solution according to claim 1, which is 1 to 50% by mass.
【請求項8】 少なくとも、アルカリ現像可能な感光性
樹脂層を基板上に形成し、露光し現像して着色画像を形
成する着色画像の形成方法において、現像が、請求項1
から7のいずれかに記載の現像液を用いて行われること
を特徴とする着色画像の形成方法。
8. A method for forming a colored image, wherein at least a photosensitive resin layer capable of alkali development is formed on a substrate, exposed and developed to form a colored image.
7. A method for forming a colored image, which is performed using the developer according to any one of 1 to 7.
【請求項9】 感光性樹脂層が、酸価が20〜300の
樹脂、顔料、光重合性不飽和結合を分子内に1以上含有
するモノマー、及び、光重合開始剤を含有する着色画像
形成材料により形成される請求項8に記載の着色画像の
形成方法。
9. A colored image formation in which the photosensitive resin layer contains a resin having an acid value of 20 to 300, a pigment, a monomer containing at least one photopolymerizable unsaturated bond in the molecule, and a photopolymerization initiator. The method for forming a colored image according to claim 8, which is formed of a material.
【請求項10】 少なくとも、アルカリ現像可能な感光
性樹脂層を基板上に形成し、露光し現像して、同一基板
上に複数の着色画像を形成するカラーフィルターの製造
方法であって、現像が、請求項1から7のいずれかに記
載の現像液を用いて行われることを特徴とするカラーフ
ィルターの製造方法。
10. A method for producing a color filter, wherein at least a photosensitive resin layer capable of alkali development is formed on a substrate, exposed and developed to form a plurality of colored images on the same substrate. A method for producing a color filter, which is performed using the developer according to any one of claims 1 to 7.
【請求項11】 少なくとも、アルカリ現像可能な感光
性樹脂層をTFTアレイ基板上に形成し、露光し現像し
て、同一TFTアレイ基板上に複数の着色画像を形成す
るカラーフィルター付アレイ基板の製造方法であって、
現像が、請求項1から7のいずれかに記載の現像液を用
いて行われることを特徴とするカラーフィルター付アレ
イ基板の製造方法。
11. A method of manufacturing an array substrate with a color filter, wherein at least a photosensitive resin layer capable of alkali development is formed on a TFT array substrate, exposed and developed to form a plurality of colored images on the same TFT array substrate. Method,
Development is performed using the developing solution in any one of Claim 1 to 7, The manufacturing method of the array substrate with a color filter characterized by the above-mentioned.
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