JP2003326135A - 排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置 - Google Patents

排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置

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JP2003326135A JP2002135194A JP2002135194A JP2003326135A JP 2003326135 A JP2003326135 A JP 2003326135A JP 2002135194 A JP2002135194 A JP 2002135194A JP 2002135194 A JP2002135194 A JP 2002135194A JP 2003326135 A JP2003326135 A JP 2003326135A
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Yasuyoshi Kato
泰良 加藤
Masatoshi Fujisawa
雅敏 藤澤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】NOxを含む排ガス中にNO2 とNH3 を共存
させて接触アンモニア還元脱硝を行う際に、その脱硝率
を一定に制御して排ガスの浄化を低温で効率よく行うこ
とができる排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置を提
供する。 【解決手段】(1) 窒素酸化物を含む排ガスの煙道にアン
モニアと二酸化窒素を供給した後、該排ガスを触媒に接
触させて前記窒素酸化物を還元除去する排ガスの浄化方
法であって、前記二酸化窒素を、前記煙道に供給するア
ンモニアの一部を酸化触媒に接触させて製造し、かつ、
該二酸化窒素の製造に使用するアンモニア量に対する前
記煙道に供給するアンモニア量の割合をモル比で2〜
2.5となるように制御する排ガスの浄化方法。(2) 前
記煙道に供給する二酸化窒素の量を、前記排ガス中に含
まれる窒素酸化物の量に対して当モル以下となるように
制御することを排ガスの浄化方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は排ガスの浄化方法お
よび排ガス浄化装置に係り、特に発電プラント用ボイ
ラ、ガスタービン、ゴミ焼却炉などの各種燃焼炉から排
出される排ガス中の窒素酸化物(NOx)をアンモニア
(NH3 )を還元剤として低温で効率よく還元除去する
ことができる排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、NOxを含む排ガスを浄化す
る方法としては、排ガスにアンモニア(NH3 )を注入
し、これを脱硝触媒に接触させて排ガス中のNOxを窒
素(N 2 )に還元して除去する接触アンモニア還元脱硝
法が知られている。また該脱硝法において、排ガス中に
酸化剤を注入し、該排ガスに含まれる一酸化窒素(N
O)の一部を二酸化窒素(NO2 )に変換し、NH3
の反応性を向上させて低温脱硝反応を行わせる方法が提
案されている(特開昭52−94863号公報、特公昭
56−50613号公報、特開昭54−23068号公
報など)。上記脱硝反応は、下記(1)および(2)の
反応により行われ、またNOの各酸化剤による酸化は
(3)〜(5)の反応により行われるが、(1)の反応
が(2)の反応に比べて極めて速いため、排ガス中にN
OとNO2 を共存させることにより、脱硝反応の温度を
100〜300℃に低減させることができる。
【0003】 〔脱硝反応〕 NO+NO2 +2NH3 →2N2 +3H2 O (1) NO+NH3 +1/4O2 →N2 +3/2H2 O (2) 〔NOの酸化反応〕 NO+O3 →NO2 +O2 (3) NO+H2 2 →NO2 +H2 O (4) NO+2HNO3 →3NO2 +H2 O (5) しかし、上記のようなオゾン、硝酸、過酸化水素などの
酸化剤を使用する方法では、高価な装置が必要となり、
また装置が腐食し易く、さらに爆発の危険性が大きいな
どの欠点があった。
【0004】また特開昭54−142172号公報に
は、下記(6)のようにNH3 を酸化してNO2 を生成
させ、これを排ガス中に注入してNO2 とNOの共存化
で脱硝温度の低温化を促進させる方法が提案されてい
る。この方法は還元剤としてのNH3 を酸化してNO2
を発生させることができるため、新たな酸化剤を必要と
しない点で、前記酸化剤を必要とする方法に比べて優れ
た方法である。しかし、上記(1)と(2)の反応は、
下記(7)と(8)の反応式に書き換えることができ、
これらの式から明らかなように、排ガス中のNOを一定
の割合で除去しようとしても、常時変化する排ガス中の
NO濃度、注入されるNO2 量および注入すべきNH3
量が複雑に影響し、NH3 の注入量を精度よく制御する
手段がなく、脱硝率を一定に保つことが難しいという問
題があった。
【0005】 NH3 +5/2O2 → NO2 +3/2H2 O (6) 排ガス中のNO+注入NO2 +2NH3 →2N2 +3H2 O (7) (7) の反応で残ったNO+NH3 +1/4 O2 →N2 +3/2 H2 O (8) このように、従来から各種焼却炉や廃熱回収ボイラ、ガ
スタービンなどの燃焼炉から排出される排ガスに、NH
3 とNO2 を注入して低温脱硝を行わせる試みがなされ
ているが、まだ広く実用化されるには至っていないとい
うのが現状であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図2は、NO単独、N
2 単独、NOとNO2 を当モルで含む各排ガスをチタ
ン(Ti)−タングステン(W)−バナジウム(V)系
触媒を用いて脱硝した場合の脱硝温度と脱硝率の関係を
示す図である。図2より、NOまたはNO2 単独の場合
には温度低下とともにNOx除去性能が著しく低下する
が、NOとNO2を当モルで含む場合には低温でも効率
よくNOxを除去できることがわかる。排ガス中のNO
xをNH3 を用いて接触還元する方法では、NOxとN
3 が1対1で反応する(2)の反応で進行するため、
排ガスに注入するNH3 量は、排ガス中のNOx濃度と
必要とされる脱硝率(NOxの反応率)を掛け合わせて
算出すればよく、脱硝率の制御が容易であった。しか
し、NH3 とNO2 を共存させて行う脱硝方法では、上
記(1)と(2)の反応が混在するため、(2)の反応
で脱硝反応を行わせようとすると、(2)の反応速度が
(1)の反応速度に比べ極めて遅いためにNH3 の注入
量を大きくして運転する必要があり、その結果、未反応
NH3 が増大するという問題が生じる。
【0007】本発明の課題は、上記従来技術の問題を解
決し、NOxを含む排ガス中にNO 2 とNH3 を共存さ
せて接触アンモニア還元脱硝を行う際に、その脱硝率を
一定に制御して排ガスの浄化を低温で効率よく行うこと
ができる排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置を提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
について鋭意検討した結果、脱硝率を従来のようにNH
3 注入量で制御するのではなく、還元剤として用いるN
3 の一部に空気を吹込んでNH3 酸化触媒により定量
的にNO2 を発生させ、脱硝率を該NO2 量、すなわち
NO2 生成用NH3 量で制御し、還元剤として注入する
NH3 量を該NO2 生成用NH3 量の2〜2.5倍モル
となるように注入することにより、脱硝率のコントロー
ルが飛躍的に容易になることを見いだし、本発明に到達
したものである。上記課題を達成するために本願で特許
請求される発明は以下の通りである。
【0009】(1)窒素酸化物を含む排ガスの煙道にア
ンモニアと二酸化窒素を供給した後、該排ガスを触媒に
接触させて前記窒素酸化物を還元除去する排ガスの浄化
方法であって、前記二酸化窒素を、前記煙道に供給する
アンモニアの一部を酸化触媒に接触させて製造し、か
つ、該二酸化窒素の製造に使用するアンモニア量に対す
る前記煙道に供給するアンモニア量の割合をモル比で2
〜2.5となるように制御することを特徴とする排ガス
の浄化方法。 (2)前記煙道に供給する二酸化窒素の量を、前記排ガ
ス中に含まれる窒素酸化物の量に対して当モル以下とな
るように制御することを特徴とする(1)に記載の排ガ
スの浄化方法。 (3)排ガス中の窒素酸化物をアンモニアと二酸化窒素
の存在下に脱硝触媒に接触させて選択的に還元する脱硝
装置と、該脱硝装置前流の排ガスにアンモニアおよび二
酸化窒素をそれぞれ供給する手段と、該アンモニアの一
部を酸化触媒に接触させて前記二酸化窒素を製造する酸
化反応器と、該酸化反応器に供給するアンモニア量に対
する前記排ガスに供給するアンモニア量の割合がモル比
で2〜2.5となるように制御する手段とを備えたこと
を特徴とする排ガス浄化装置。 (4)前記排ガスに供給する二酸化窒素の量を前記排ガ
スに含まれる窒素酸化物の量に対して当モル以下となる
ように制御する手段を設けたことを特徴とする(3)に
記載の排ガス浄化装置。
【0010】
【作用】本発明では、脱硝率を従来のようにNH3 注入
量で制御するのではなく、還元剤として用いるNH3
一部に空気を吹込み、NH3 酸化触媒の存在下に(6)
の反応により定量的にNO2 を発生させ、脱硝率をNO
2 量、すなわちNO2 生成用NH3 量により制御し、還
元剤として注入するNH3 量は(1)の反応で消費され
る過不足ない量、すなわちNO2 生成用NH3 量の2〜
2.5倍モルとなる量で注入するため、(1)および
(2)の脱硝反応のうち、反応速度の速い(1)の反応
だけを優先的に進行させることができ、さらに排ガス中
のNOx濃度の変動や排ガス流量の急変に容易に追従す
ることができ、従って、脱硝率を一定に制御することが
可能になる。 NO+NO2 +2NH3 →2N2 +3H2 O (1) NO+NH3 +1/4O2 →N2 +3/2H2 O (2) NH3 +5/2O2 → NO2 +3/2H2 O (6)
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面により詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。図1は、本発明の一実施例を示す排ガス浄化装置の
説明図である。図1において、排ガス浄化装置は、焼却
炉や燃焼炉などの排ガス源1と、排ガス源1で発生した
排ガス中のNOxを還元除去する脱硝装置3と、前記排
ガスを脱硝装置3に導く煙道2と、前記脱硝装置3で処
理された処理ガスを系外に排出する煙突6と、煙道2に
NH3 を供給するNH3 注入ノズル18と、該NH3
入ノズル18から煙道2に供給されるNH3 量を制御す
る流量制御器16と、煙道2にNO2 を供給するNO2
注入ノズル15と、該NO2 注入ノズル15に供給する
NO2 を生成するNH3 酸化反応器12と、該NH3
化反応器12に供給するNO2 生成用NH3 の量を制御
する流量制御器10と、前記流量制御器16および流量
制御器10のそれぞれにNH3 を供給するNH3 タンク
7と、前記流量制御器16および流量制御器10に指示
するそれぞれのNH3 量を算出し、その信号を発生させ
る信号発生器23とから主として構成される。
【0012】このような構成において、排ガス源1で発
生した排ガスは、煙道2を経て脱硝装置3に導かれる。
該排ガスは、煙道2でNH3 注入ノズル18から供給さ
れる還元剤としてのNH3 と、NO2 注入ノズル15か
ら供給されるNO2 と混合され、脱硝装置3に設けられ
た脱硝触媒4と接触して排ガス中のNOxが選択的に無
害なN2 に還元される。脱硝装置3でNOxが除去され
た処理ガスは、煙道5を経て煙突6から系外に排出され
る。還元剤としてのNH3 は、NH3 タンク7から配管
8、流量制御器16および配管17を経てNH3 注入ノ
ズル18から煙道2に供給され、その供給量は前記流量
制御器16により制御される。
【0013】またNO2 は、NO2 生成用NH3 を、N
3 タンク7から配管9、流量制御器10および配管1
1を経てNH3 酸化反応器12に供給し、該NH3 酸化
反応器12に設けられた酸化触媒13と接触させて製造
し、配管14を経て煙道2に供給される。NO2 生成用
NH3 のNH3 酸化反応器12への供給量は、前記流量
制御器10により制御される。また空気または酸素含有
ガスが空気送入器26から配管11を介してNH3 酸化
反応器12に供給される。一方、煙道2内の排ガスの一
部がサンプリング配管19を経てNOx計測器20に送
られ、ここで排ガス中のNOx濃度が測定され、NOx
濃度信号21として信号発生器23に入力される。また
排ガス源1で発生する排ガスの流量信号22が信号発生
器23に入力される。信号発生器23では、NOx濃度
信号21と必要とされる脱硝率を掛け合わせてNO2
成用NH3 量が算出され、さらに該NO2 生成用NH3
量に対して2〜2.5倍モルとなるように還元剤用NH
3 量が算出され、それぞれの信号がNO2 発生用NH3
制御信号25および還元剤用NH3 制御信号24として
それぞれの流量制御器10および流量制御器16に送ら
れる。
【0014】本発明において、還元剤用NH3 量は、N
2 生成用NH3 量に対して2〜2.5倍モル、好まし
くは2.1〜2.4倍モルとなるように設定される。こ
の還元剤用NH3 量がNO2 生成用NH3 量の2倍モル
未満では上記(1)の反応が完結して反応速度の遅い
(2)の反応が生ずるようになり、未反応NH3 の流出
量が増大するようになる。また2.5倍モルを超えると
未反応のNO2 が流出するようになる。排ガス中に含ま
れるNOxは、通常、大半がNOである場合が多いが、
NOの10%程度のNO2 が含まれる場合があるため、
高脱硝性能を得る点から、前記還元剤用NH3 量を2倍
モルより大きく選定することが好ましい。また排ガスに
注入するNO2 量、すなわちNO2 生成用NH3 量は、
必要な脱硝性能に応じて適宜設定されるが、排ガス中に
含まれる窒素酸化物の量に対して当モル以下になるよう
に制御するのが好ましい。
【0015】脱硝装置3に用いる脱硝触媒4には特に制
限はなく、板状、粒状、ハニカム状などの公知の脱硝触
媒を用いることができるが、100〜250℃の低温で
高い活性が得られる、Tiの酸化物にV、W、Mo(モ
リブデン)などの酸化物を添加した触媒が特に好まし
い。またNH3 酸化反応器12に用いる酸化触媒13に
も特に限定はなく、公知のNH3 酸化用触媒、例えば、
Pt(白金)などの貴金属網や貴金属を担持したアルミ
ナ触媒、Co(コバルト)やCu(銅)などの酸化物を
担持した触媒などが用いられる。特に反応開始温度が低
く、定量的なNO2 変換が可能なPt担持触媒が好まし
い。NH3 の酸化反応条件には特に制限はないが、NO
2 への添加率が高い条件を選定するのが好ましい。特に
空気を混合された後のNH3 濃度を5%以下とし、反応
温度を250℃以上であるのが好ましい。反応温度が低
いとN 2 Oを副生しやすくなり、またNH3 濃度が高す
ぎると触媒の種類によっては反応熱劣化する場合があ
る。またNH3 酸化反応器12に供給されたNH3 の全
てがNO2 に変換される必要はなく、NO2 とNOの混
合物であってもよい。これは濃度の高いNOは配管14
や排ガス中に吹き込まれる過程で容易に酸素と反応して
NO2 に変化するためである。従って、酸化反応器12
に供給するガス中のNH3 濃度は許容される範囲で高い
ことが好ましい。次に本発明の排ガス浄化方法の効果を
小型実験装置を用いた実施例により説明する。
【0016】実施例1 まず、酸化チタンを主成分とする20mm×100mm
の板状脱硝触媒(Ti/Mo/V=88/5/7原子
比)を3枚充填した小型反応器を150℃に加熱し、模
擬排ガス(NO:200ppm、O2 :10%、C
2 :5%、H2 O:5%、残りN2 )を3L/min
で流した。次に濃度2%のNH3 (N2 バランス)27
ml/minと、O2 30ml/minの混合ガスを、
Ptを1%担持したアルミナ触媒が1ml充填され、3
50℃に加熱された超小型酸化反応器に通過させてNO
2 を生成させ、このNO2 を含むガスを前記模擬排ガス
に注入し、さらに該模擬排ガス中に濃度2%のNH
3 (N2 バランス)を54ml/minで添加して脱硝
試験を行った。このときの脱硝率を測定し、その結果を
表1に示した。
【0017】この場合に期待される脱硝率は90%であ
り、排ガス中に注入するNO2 のモル量は、模擬排ガス
中のNOモル量の0.9倍、還元剤用NH3 の注入量
は、NO2 量の2倍モルであった。次いで、上記模擬排
ガス中のNO濃度を400ppmに増加するとともに、
注入されるNO2 量が模擬排ガス中のNO量の0.9倍
モルおよび還元剤用NH3の注入量がNO2 量の2倍モ
ルである条件を維持するため、NO2 生成用NH3量を
54ml/minとし、さらに還元剤用NH3 の注入量
を108ml/minに増大させて上記と同様に脱硝試
験を行い、そのときの脱硝率を測定し、結果を表1に示
した。
【0018】比較例1 実施例1において、模擬排ガスに、NH3 を酸化してN
2 を注入する操作を行わなかった以外は実施例1と同
様の方法で脱硝試験を行い、その脱硝率を測定し、結果
を表1に示した。 比較例2 実施例1において、模擬排ガスのNO濃度を200pp
mから400ppmに変化させた場合のNO2 生成用N
3 の量を一定にした以外は実施例1と同様にして脱硝
試験を行い、そのときの脱硝率を測定し、結果を表1に
示した。
【0019】表1から明らかなように、実施例1では、
模擬排ガス中のNO濃度が200ppmから400pp
mに急変しても脱硝性能を高い値に維持することが可能
である。一方、比較例1では、模擬排ガス中にNO2
添加していないため、低い脱硝率であった。また比較例
2では、NH3 を酸化して添加するNO2 量を、模擬排
ガス中のNOの量に比例して添加されていないため、N
O濃度が200ppmから400ppmへと変化するN
O濃度の変化に対応できず、低い脱硝率しかえられなか
った。以上から本発明の排ガスの浄化方法は、高い脱硝
性能を得るのに好適であることが確認された。
【0020】
【表1】
【0021】
【発明の効果】請求項1から請求項4に係る発明によれ
ば、簡単な設備と簡単な制御方法により、100〜25
0℃という低温での脱硝が可能になり、コージェネレー
ション発電設備やゴミ焼却炉などから排出される排ガス
温度の低い排ガスの浄化が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すガス浄化装置の説明
図。
【図2】脱硝率と脱硝温度の関係図。
【符号の説明】 1…排ガス源、2…煙道、3…脱硝装置、4…脱硝触
媒、5、6…煙道、7…NH3 タンク、8、9…配管、
10…流量制御器、11…配管、12…NH3 酸化反応
器、13…酸化触媒、14…配管、15…NO2 注入ノ
ズル、16…流量制御器、17…配管、18…NH3
入ノズル、19…サンプリング配管、20…NOx計測
器、21…NOx濃度信号、22…排ガス流量信号、2
3…信号発生器、24…還元剤用NH3 制御信号、25
…NO2 発生用NH3 制御信号、26…空気送入器、2
7…空気配管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D002 AA12 AC01 AC04 BA06 CA01 CA07 DA07 GA01 GA03 GB02 GB06 4D048 AA06 AB02 AC03 AC04 BA07X BA23X BA26X BB03

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒素酸化物を含む排ガスの煙道にアンモ
    ニアと二酸化窒素を供給した後、該排ガスを触媒に接触
    させて前記窒素酸化物を還元除去する排ガスの浄化方法
    であって、前記二酸化窒素を、前記煙道に供給するアン
    モニアの一部を酸化触媒に接触させて製造し、かつ、該
    二酸化窒素の製造に使用するアンモニア量に対する前記
    煙道に供給するアンモニア量の割合をモル比で2〜2.
    5となるように制御することを特徴とする排ガスの浄化
    方法。
  2. 【請求項2】 前記煙道に供給する二酸化窒素の量を、
    前記排ガス中に含まれる窒素酸化物の量に対して当モル
    以下となるように制御することを特徴とする請求項1に
    記載の排ガスの浄化方法。
  3. 【請求項3】 排ガス中の窒素酸化物をアンモニアと二
    酸化窒素の存在下に脱硝触媒に接触させて還元除去する
    脱硝装置と、該脱硝装置前流の排ガスにアンモニアおよ
    び二酸化窒素をそれぞれ供給する手段と、該アンモニア
    の一部を酸化触媒に接触させて前記二酸化窒素を製造す
    る酸化反応器と、該酸化反応器に供給するアンモニア量
    に対する前記排ガスに供給するアンモニア量の割合がモ
    ル比で2〜2.5となるように制御する手段とを備えた
    ことを特徴とする排ガス浄化装置。
  4. 【請求項4】 前記排ガスに供給する二酸化窒素の量を
    前記排ガスに含まれる窒素酸化物の量に対して当モル以
    下となるように制御する手段を設けたことを特徴とする
    請求項3に記載の排ガス浄化装置。
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