JP2003322798A - 偏光光学的干渉コントラスト形成のための構成および方法 - Google Patents
偏光光学的干渉コントラスト形成のための構成および方法Info
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Abstract
についても、それらの異方性が問題とならない被検体の
顕微鏡結像のための偏光光学的な干渉コントラストを形
成する方法。 【解決手段】担体上に設置された被検体が、自然光で照
明され、対物レンズ通過後に直線偏光の常光線および異
常光線への分離、干渉、同方位に振動するコヒーレント
光成分のフィルタ分離、および上記手順でのインタフェ
ログラムの描画が行われるレア干渉による微分干渉コン
トラスト法、および光源、被検体通過光を対物レンズ射
出ひとみに結像させる対物レンズ、対物レンズからの光
を直線偏光に変える第1偏光子、さらに第1偏光子の後
方、対物レンズ射出ひとみの近くにシアリング干渉計、
その後方に第2偏光子とからなる光をコンデンサにより
被検体上に結像させるため、偏光光学的な干渉コントラ
スト形成のための顕微鏡内構成。
Description
学的に等方性または異方性の)担体に設置された、例え
ば培養細胞などの位相被検体を微分干渉コントラスト法
(DIC)によりコントラストに富んだ像として鏡検描
画するのに適用する偏光光学的干渉コントラスト形成の
ための構成および方法に関するものである。
検体と位相被検体に区別できる。振幅生成被検体は、描
画光の明度または色を変化させるので直接目で見ること
が可能になるが、一方位相被検体は、例えばその屈折率
または厚さが周辺と異なることで、光の位相位置を変更
させるだけである。人間の目では、また電子画像変換器
でも位相位置の変化は感知できないので、位相被検体の
描画には、位相変化を振幅変化に変換させる追加的対策
が必要となる。その目的のために、位相コントラスト法
と干渉コントラスト法に分類される様々な方法が開発さ
れた。
47年にフランシス・スミス(Francis-Smith)がで提
案したものである(技術文献1参照)。それによれば、
顕微鏡光路内のコンデンサ焦点面と対物レンズ焦点面に
それぞれ1つずつウォラストンプリズムが設置されてい
る。光路内の第1ウォラストンプリズムの前には直線偏
光生成のための偏光子が配置されている。光は、第2ウ
ォラストンプリズムの通過後に第2偏光子(検光子)に
よって分析される。その場合、照明側ウォラストンプリ
ズムは、全幅の照明口径で作業できるように、結像側ウ
ォラストンプリズムから発生するひとみ通過偏差を補正
する役割を担っている。
年ジョージ・ノマルスキー(Georges-Nomarski)が提案
している(技術文献2参照)。そこでは、常光線および
異常光線の分離および再結合を、プリズム外の平面に移
動させ、それによって光学素子の構成に改善の可能性が
生れるように、ウォラストンプリズムの空間配置に変更
が加えられている。
(Maximilian-Pluta)が、結像側ウォラストンプリズム
を前後に接続されたツインタイプに取り換えることを提
案し、それにより画像分割の大きさを不連続的に3段階
で変更しようと試みた(技術文献3参照)。つい最近、
ケンイチ・クサカが取り上げているDIC顕微鏡も類似
構成を持っている(技術文献4参照)。
書
5号明細書
に共通することだが、被検体の照明には偏光を用いなけ
ればならない。そのため、対物レンズも照明光路内のす
べての光学素子も等方性を有していなければならない。
これらの素子が光学的に異方性であれば、中間像の像特
性がかなり損なわれることになる。特にプラスチック製
の被検体用担体は複屈折を起こすので使用できない。従
って、細胞培養に使用されるプラスチック製ペトリシャ
ーレは被検体用担体の対象から外される。調査分析には
培養細胞を従来型カバーグラスに載せねばならないが、
それに余分な準備時間、準備コストを要し、生きた培養
体の研究を妨げることになる。
性を持つ特殊ペトリシャーレの使用が提案されている
(技術文献5参照)。しかし、これは製造および使用素
材の選択に多大な労力を必要とする。
を克服すること、および鏡検被検体に対して、光学的異
方性である担体の使用や残留応力の存在する対物レンズ
またはコンデンサの使用が可能である偏光光学的コント
ラスト法を提供することを課題としている。
うことにより、即ちその特徴が請求項1に記載されてい
る偏光光学的干渉コントラスト法により解消される。偏
光光学的干渉コントラスト形成のための本発明に基づく
構成の特徴については請求項2に記載されている。
基づく方法では、担体上に設置された被検体への照明
は、偏光によるのではなく偏光のない自然光によって行
われる。従って、被検体用担体あるいは対物レンズやコ
ンデンサについても、それらの異方性(例えば、残留応
力を原因とする複屈折)は問題にならない。光は、対物
レンズ通過後に初めて直線偏光に変えられ、シア(Shea
ring)干渉計に導かれる。検光子として用いられる第2
偏光子は、目に見えるインタフェログラムを得るため
に、同方位に振動するコヒーレント光成分をフィルタ分
離する。その場合スリット幅が調整できれば有利であ
る。
被検体平面に対するズレの量、fはコンデンサの焦点距
離、およびλは光の波長である。この条件に合致しなけ
ればコントラストの品質が低下することになる。
リットを、その間隔dが、 条件式(2) (dB)/f=λ を満たす平行な複数の照明用スリットに置き換えること
も可能である。照明用スリットにおけるこの構成は、格
子定数dの格子として実現させることもできる。
式またはノルマルスキー(Nomarski)式のウォラストン
プリズムや、あるいはジャマイン・レベデッフ(Jamin-
Lebedeff)式干渉計が使用できる。本発明を首尾よく実
行するためには、偏光子の少なくとも1つについて、そ
の偏光方向が調整できることが前提条件である。両偏光
子の偏光方向が90°の角度を形成していれば、とりわ
け良好な結果が達成される。
偏光子/シア干渉計/検光子の組み合せが、単独照明ス
リットまたは格子の複数照明スリットと方位性に関して
同期回転できるようになっていることから、異なった方
位にあって、通常ならばその方位効果のために消失して
しまうプレパラート内の全構造を、順次コントラスト化
できるものもある。それにより、通常なら必要なテーブ
ルの回転が要らなくなる。
り詳しく説明する。図1では、ランプ1の光が、スリッ
ト2およびコンデンサ3を通ってペトリシャーレ4内の
被検体、例えば培養細胞に結像する。被検体平面5は対
物レンズ6によって中間像平面7に結像する。この中間
像平面7の然るべき位置に、両偏極9および10間に埋
め込まれた状態でウォラストンプリズム8が配置されて
いる。
々な位置13、14を通過する。位置13と14間の距
離がいわゆる分岐幅(ズレ)であるが、図1では分り易
くするために誇張して大きく描いてある。
5、16、17のスリット2平面への逆投影が図示され
ている。
は、ひとみ通過時のスリット幅方向における有効差幅
が、4分の1波長に比べて小さいか同じになるように、
つまりひとみ内干渉縞間距離の4分の1より小さいかそ
れと同じになるように選択しなければならない。その場
合、基点は干渉ゼロ位にするのが好ましい。この条件下
では、シンク関数に従うミケルソン(MICHELSON)のフ
ィールド・コントラストは0.64を下回ることがな
い。その条件は式(1)で表わされる。
照明用スリットは、それぞれが4分の1波長条件を満た
した多数の照明用スリットに置き換えることができる。
その条件は式(2)によって表わされる。
に限定されるものではない。専門家によってなされる改
良も本発明の領域を越えることにはならない。光源とコ
ンデンサ間のスリットあるいは格子についても、例えば
リング状など別形式の絞りに置き換えることもできる
が、但しその場合はコントラストの品質が低下する。
Claims (13)
- 【請求項1】被検体の顕微鏡結像のために偏光光学的な
干渉コントラストを形成する方法において、 自然光による被検体の照明、 被検体通過光の直線偏光への変換、 直線偏光の常光線および異常光線への分離、 常光線および異常光線の干渉、 同種偏光のフィルタ分離および、 上記手順でのインタフェログラムの描画のステップを含
む方法。 - 【請求項2】光をコンデンサにより被検体上に結像させ
るため、光源の設置された偏光光学的な干渉コントラス
ト形成のための顕微鏡内構成において、 そのほかに被検体通過光を対物レンズ射出ひとみに結像
させる対物レンズ、 対物レンズの後方で対物レンズからの光を直線偏光に変
える第1偏光子、 さらに第1偏光子の後方、対物レンズ射出ひとみの近く
にシアリング干渉計、 該干渉計の後方に第2偏光子からなる構成。 - 【請求項3】スリットが、光源とコンデンサの間に配置
されていることを特徴とする請求項2に記載の偏光光学
的干渉コントラスト形成のための構成。 - 【請求項4】スリット幅が、調整可能であることを特徴
とする請求項3に記載の偏光光学的干渉コントラスト形
成のための構成。 - 【請求項5】Bを被検体平面に対するズレの量、fをコ
ンデンサの焦点距離、λを光の波長であるとして、スリ
ット幅bが、 式 (bB)/f<λ/4 を満たしていることを特徴とする請求項3に記載の偏光
光学的干渉コントラスト形成のための構成。 - 【請求項6】格子が、光源とコンデンサの間に配置され
ていることを特徴とする請求項2に記載の偏光光学的干
渉コントラスト形成のための構成。 - 【請求項7】Bを被検体平面に対するズレの量、fをコ
ンデンサの焦点距離、λを光の波長でとして、格子の格
子定数dが、 式 (dB)/f=λ を満たしていることを特徴とする請求項6に記載の偏光
光学的干渉コントラスト形成のための構成。 - 【請求項8】シアリング干渉計としてジャマン・レベデ
ッフ(Jamin-Lebedeff)式干渉計やスミス式またはノマ
ルスキー(Nomarski)式のウォラストンプリズムが配備
されていることを特徴とする請求項2、3、4、5、6
または7に記載の偏光光学的干渉コントラスト形成のた
めの構成。 - 【請求項9】偏光方向が、偏光子の少なくとも1つにつ
いて調整できることを特徴とする請求項2、3、4、
5、6、7または8に記載の偏光光学的干渉コントラス
ト形成のための構成。 - 【請求項10】第1偏光子と第2偏光子とが、互いに9
0°の傾斜角を形成していることを特徴とする請求項
2、3、4、5、6、7、8または9に記載の偏光光学
的干渉コントラスト形成のための構成。 - 【請求項11】スリットが、コンデンサの光軸周囲を回
転できることを特徴とする請求項3、4、5、8、9ま
たは10に記載の偏光光学的干渉コントラスト形成のた
めの構成。 - 【請求項12】格子が、コンデンサの光軸周囲を回転で
きることを特徴とする請求項3、6、7、8、9または
10に記載の偏光光学的干渉コントラスト形成のための
構成。 - 【請求項13】偏光子/シアリング干渉計/検光子の組
み合せと照明スリットまたは格子とを方位性に関して同
期回転させ得る装置が配置されていることを特徴とする
請求項11または12に記載の偏光光学的干渉コントラ
スト形成のための構成。
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