JP2003318247A - Wafer transfer equipment - Google Patents

Wafer transfer equipment

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JP2003318247A
JP2003318247A JP2002118915A JP2002118915A JP2003318247A JP 2003318247 A JP2003318247 A JP 2003318247A JP 2002118915 A JP2002118915 A JP 2002118915A JP 2002118915 A JP2002118915 A JP 2002118915A JP 2003318247 A JP2003318247 A JP 2003318247A
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JP
Japan
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wafer
wafer container
guide
container
groove
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Pending
Application number
JP2002118915A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toyokazu Nakamura
豊和 中村
Kenji Murakami
賢二 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JP2003318247A publication Critical patent/JP2003318247A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer transfer equipment by which a wafer is easily transferred between a wafer case that has superior portability and a size in which a plurality of the cases can be carried at a time and a normally used transportation wafer case, and a semiconductor wafer is not damaged at transferring without occupying a large space during storage. <P>SOLUTION: This equipment is for transferring a semiconductor wafer 12 housed in one wafer vessel to the other wafer vessel, and provided with a guide 13 wherein a guide groove 31 for the semiconductor wafer 12 to be transferred and an inter-groove end surface 32 are alternately provided with pitches of 1/4 inches, a first mounting part 14 on one side of the guide part 13 on which a first wafer vessel 16 is positioned, and a second mounting part 15 on the other side of the guide part 13 on which a second wafer vessel 17 is positioned. The semiconductor wafer 12 housed in one wafer vessel is moved in a direction parallel to a principal surface through the guide groove of the guide 13, to transfer to the other wafer vessel. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、収納ピッチの異な
るウェハ容器間での、例えば円板状の半導体ウェハの移
載に用いられるウェハ移載装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer device used for transferring, for example, a disk-shaped semiconductor wafer between wafer containers having different storage pitches.

【0002】[0002]

【従来の技術】周知の通り、半導体ウェハはウェハ製造
工場等でシリコン単結晶インゴットから所定厚さにスラ
イスされ、べべリング、ラッピングなどの所定加工が施
された後、運搬用のウェハケースに所定ピッチで互いの
主面が対向するように配列して収納され、半導体工場等
に搬送される。そして、運搬用のウェハケースに収納さ
れた状態で保管され、さらに保管された半導体ウェハ
は、運搬用のウェハケースに入れられた状態のまま工場
内半導体装置工程に移送、投入される。
2. Description of the Related Art As is well known, a semiconductor wafer is sliced from a silicon single crystal ingot to a predetermined thickness in a wafer manufacturing factory, subjected to a predetermined process such as beveling and lapping, and then a predetermined wafer case for transportation. The chips are arranged and stored so that their principal surfaces face each other at a pitch, and are transported to a semiconductor factory or the like. Then, the semiconductor wafers stored in the wafer case for transportation are stored and further transferred, and the semiconductor wafers stored in the wafer case for transportation are transferred to the semiconductor device process in the factory.

【0003】また、従来用いられている運搬用のウェハ
ケースは、図24に概略の側面図及び図25にキャリア
の上面図を示す構成を有するもので、例えば直径200
mmの半導体ウェハ運搬用のウェハケース1は、一般に
25枚の半導体ウェハ2を1/4インチ(6.35m
m)の所定収納ピッチで互いの主面が対向するように配
列して収納するものが標準的に使用されている。
A conventionally used wafer case for transportation has a structure in which a schematic side view is shown in FIG. 24 and a top view of a carrier is shown in FIG.
A wafer case 1 for transporting a semiconductor wafer of 25 mm is generally used for transporting 25 semiconductor wafers 1/4 inch (6.35 m).
A standard type is used in which the main surfaces are arranged so as to face each other at a predetermined storage pitch of m).

【0004】そして、その構成は次のようなものとにな
っている。すなわち、運搬用のウェハケース1は、ケー
ス本体3の上部開口を蓋4で覆う箱形状をなすもので、
その横断面形状が正方形で、幅270mm、奥行270
mm、高さ250mmとなっている。また、その内部に
はキャリア5が着脱可能に設けられており、さらにキャ
リア5には支持溝6が6.35mmのピッチで刻設され
ていて、25枚の半導体ウェハ2を互いの主面が対向す
るようにして収納することができるようになっている。
The structure thereof is as follows. That is, the wafer case 1 for transportation has a box shape in which the upper opening of the case body 3 is covered with the lid 4.
Its cross-sectional shape is square, width 270 mm, depth 270
mm and height 250 mm. In addition, a carrier 5 is detachably provided inside the carrier 5, and support grooves 6 are engraved in the carrier 5 at a pitch of 6.35 mm. It can be stored facing each other.

【0005】しかし、上記の運搬用のウェハケース1で
は、ケース寸法が幅270mm×奥行270mm×高さ
250mmと大きなものとなっているため、運搬用のウ
ェハケース1は、保管時大きなスペースを占有し、半導
体ウェハ2を運搬用のウェハケース1に入れたまま保管
するには多くの収納スペースを要する。また人が携行移
送する場合には大きく重いために、半導体ウェハ2を収
納するピッチを小さくしてケース寸法を小さくし、収納
効率を高くしたり、携帯性がよく一度に運べる数が増す
ようにしたりすることが考えられている。
However, since the wafer case 1 for transportation has a large case size of 270 mm width × 270 mm depth × 250 mm height, the wafer case 1 for transportation occupies a large space during storage. However, a lot of storage space is required to store the semiconductor wafer 2 in the wafer case 1 for transportation. Since it is large and heavy when carried by a person, the pitch for accommodating the semiconductor wafers 2 is reduced to reduce the size of the case to enhance the accommodating efficiency and increase the number of items that can be carried at one time. It is considered that

【0006】こうした半導体ウェハ2の収納ピッチを小
さくしたウェハケースに、収納ピッチの大きい標準的に
用いられている運搬用のウェハケース1から半導体ウェ
ハ2を移載したり、逆に運搬用のウェハケース1に収納
ピッチが小さいウェハケースから半導体ウェハ2を移載
したりするには、半導体ウェハ2を1枚ずつバキューム
ピンセットや金属ピンセットで、疵付けたり落としたり
しないよう気を付けて取り上げて移載しなければなら
ず、注意を要し手間がかかるものとなっていた。
The semiconductor wafer 2 is transferred from the standard wafer case 1 for transportation, which has a large storage pitch, to the wafer case in which the storage pitch of the semiconductor wafer 2 is reduced, and vice versa. In order to transfer the semiconductor wafers 2 from the wafer case with a small storage pitch to the case 1, the semiconductor wafers 2 should be transferred one by one with vacuum tweezers or metal tweezers, taking care not to scratch or drop them. It had to be posted, and it was troublesome and time-consuming.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
みて本発明はなされたもので、その目的とするところは
保管時に大きなスペースを占有することがなく、また大
きさが一度に複数携行可能な大きさの携帯性が良好なウ
ェハケースと、標準的に使用されている運搬用のウェハ
ケースとの間でのウェハの移載が簡単に行なえ、移載に
際し半導体ウェハを疵付けたりすること等のないウェハ
移載装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation, and its object is not to occupy a large space during storage and to carry a plurality of carrying devices at a time. Easy transfer of wafers between possible-sized wafer cases with good portability and standard-used wafer cases for transportation, and semiconductor wafers may be flawed during transfer. An object of the present invention is to provide a wafer transfer device that does nothing.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のウェハ移載装置
は、第1のピッチでウェハを互いに主面を対向させて収
納可能な第1のウェハ容器と、前記第1のピッチの1/
m (mは整数)となる第2のピッチでウェハを互いに
主面を対向させて収納可能な第2のウェハ容器との間
で、一方のウェハ容器に収納するウェハを他方のウェハ
容器に移載する装置であって、移載する前記ウェハのガ
イド部分とストッパ部分とが交互に、かつそれぞれ第1
のピッチで設けられたガイド部材と、このガイド部材の
片側所定位置に前記第1のウェハ容器を位置させる第1
の取付部と、前記ガイド部材の他側所定位置に第2のウ
ェハ容器を位置させる第2の取付部とを備え、一方のウ
ェハ容器に収納するウェハを、前記ガイド部材のガイド
部分を介して主面に平行な方向に移動させて他方のウェ
ハ容器に移載するよう構成したことを特徴とするもので
あり、さらに、一方のウェハ容器からウェハを他方のウ
ェハ容器にm回に分けて移載する際、第2のウェハ容器
では(m−1)置きに前記ウェハが授受されることを特
徴とするものであり、また、第1のピッチでウェハを互
いに主面を対向させて収納可能な第1のウェハ容器と、
前記第1のピッチの1/2となる第2のピッチでウェハ
を互いに主面を対向させて収納可能な第2のウェハ容器
との間で、一方のウェハ容器に収納するウェハを他方の
ウェハ容器に移載する装置であって、移載する前記ウェ
ハのガイド部分とストッパ部分とが交互に、かつそれぞ
れ第1のピッチで設けられたガイド部材と、このガイド
部材の片側所定位置に前記第1のウェハ容器を位置させ
る第1の取付部と、前記ガイド部材の他側所定位置に第
2のウェハ容器を位置させる第2の取付部とを備え、一
方のウェハ容器に収納するウェハを、前記ガイド部材の
ガイド部分を介して主面に平行な方向に移動させて他方
のウェハ容器に移載するよう構成したことを特徴とする
ものであり、さらに、一方のウェハ容器からウェハを他
方のウェハ容器に2回に分けて移載する際に、第2のウ
ェハ容器では1つ置きにウェハが授受されることを特徴
とするものであり、さらに、ウェハを2回に分けて移載
する際、ウェハ数が奇数(2n+1)の場合は、
(n)、(n+1)に分け、ウェハ数が偶数(2n)の
場合は、(n)、(n)に分けて送り出す送出し機構を
備えていることを特徴とするものであり、さらに、ガイ
ド部材にガイド溝を刻設してガイド部分を形成し、前記
ガイド溝の刻設によって形成された前記ガイド部材の溝
間端面をストッパ部分としたことを特徴とするものであ
る。
A wafer transfer device according to the present invention comprises a first wafer container capable of accommodating wafers at a first pitch with their principal surfaces facing each other;
The wafers to be stored in one wafer container are transferred to the other wafer container between the second wafer container that can store the wafers with their main surfaces facing each other at a second pitch of m (m is an integer). A device for mounting, wherein the guide part and the stopper part of the wafer to be transferred are alternately and
Guide members provided at a pitch of 1 and a first wafer container that positions the first wafer container at a predetermined position on one side of the guide members.
And a second mounting portion for positioning the second wafer container at a predetermined position on the other side of the guide member, and a wafer accommodated in one of the wafer containers is inserted through the guide portion of the guide member. It is characterized in that the wafer is moved in a direction parallel to the main surface and transferred to the other wafer container. Further, the wafer is transferred from one wafer container to the other wafer container in m times. When mounted, the second wafer container is characterized in that the wafers are transferred and received every (m-1), and the wafers can be stored at a first pitch with their main surfaces facing each other. A first wafer container,
A wafer to be stored in one wafer container and a second wafer container capable of storing wafers with their main surfaces facing each other at a second pitch that is ½ of the first pitch A device for transferring to a container, wherein guide parts and stopper parts of the wafer to be transferred are alternately provided at a first pitch, and the guide member is provided at a predetermined position on one side of the guide member. A first mounting portion for positioning the first wafer container and a second mounting portion for positioning the second wafer container at a predetermined position on the other side of the guide member, and a wafer to be stored in one of the wafer containers; It is characterized in that it is configured to be moved in a direction parallel to the main surface via the guide portion of the guide member and transferred to the other wafer container, and further, the wafer is transferred from one wafer container to the other wafer container. In wafer container When the wafers are transferred in batches, every other wafer is transferred in the second wafer container, and when the wafers are transferred in batches, the number of wafers is transferred. Is an odd number (2n + 1),
(N), (n + 1), and when the number of wafers is an even number (2n), it is characterized in that it is provided with a delivery mechanism for delivering it separately to (n) and (n). A guide groove is engraved on the guide member to form a guide portion, and an inter-groove end surface of the guide member formed by engraving the guide groove is used as a stopper portion.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を、図面
を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】先ず第1の実施形態を図1乃至図16によ
り説明する。図1は縦断面図であり、図2は上面図であ
り、図3は側面図であり、図4はガイド部材のガイド溝
を示す断面図であり、図5は第1の容器の支持溝を示す
断面図であり、図6は第2のウェハケースの縦断面図で
あり、図7は第2の容器の上面図であり、図8はウェハ
支持部材の支持溝を示す断面図であり、図9乃至図12
は第1のウェハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウ
ェハの移し替え工程を、各部位を模式的に示して説明す
るための図で、図9は第1の工程を説明するための図で
あり、図10は第2の工程を説明するための図であり、
図11は第3の工程を説明するための図であり、図12
は第4の工程を説明するための図であり、図13乃至図
16は第2のウェハ容器から第1のウェハ容器への半導
体ウェハの移し替え工程を、各部位を模式的に示して説
明するための図で、図13は第1の工程を説明するため
の図であり、図14は第2の工程を説明するための図で
あり、図15は第3の工程を説明するための図であり、
図16は第4の工程を説明するための図である。
First, a first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 is a vertical sectional view, FIG. 2 is a top view, FIG. 3 is a side view, FIG. 4 is a sectional view showing a guide groove of a guide member, and FIG. 5 is a supporting groove of a first container. 6 is a vertical sectional view of the second wafer case, FIG. 7 is a top view of the second container, and FIG. 8 is a sectional view showing a supporting groove of the wafer supporting member. 9 to 12
FIG. 9 is a diagram for explaining a semiconductor wafer transfer process from the first wafer container to the second wafer container by schematically showing each part, and FIG. 9 is a diagram for explaining the first process. FIG. 10 is a diagram for explaining the second step,
FIG. 11 is a diagram for explaining the third step, and FIG.
FIG. 13 is a diagram for explaining the fourth step, and FIGS. 13 to 16 explain the step of transferring the semiconductor wafer from the second wafer container to the first wafer container, schematically showing each part. FIG. 13 is a diagram for explaining the first step, FIG. 14 is a diagram for explaining the second step, and FIG. 15 is a diagram for explaining the third step. Is a figure,
FIG. 16 is a diagram for explaining the fourth step.

【0011】図1乃至図16において、11は、例えば
直径200mmの半導体ウェハ12の移載に用いるウェ
ハ移載装置で、ガイド部13と、ガイド部13の片方側
に設けた第1の取付部14と、ガイド部13の他方側に
設けた第2の取付部15とを備えて構成され、第1の取
付部14には第1のウェハ容器16が取り付けられ、第
2の取付部15には第2のウェハ容器17が取り付けら
れる。
In FIGS. 1 to 16, reference numeral 11 denotes a wafer transfer device used for transferring a semiconductor wafer 12 having a diameter of 200 mm, for example, a guide portion 13 and a first mounting portion provided on one side of the guide portion 13. 14 and a second mounting portion 15 provided on the other side of the guide portion 13, a first wafer container 16 is mounted on the first mounting portion 14, and a second mounting portion 15 is mounted on the second mounting portion 15. Is attached with the second wafer container 17.

【0012】第1の取付部14に取り付けられる第1の
ウェハ容器16は、従来から半導体ウェハ運搬用として
標準的に用いられている図示しない第1のウェハケース
のキャリアで、その1/4インチ(6.35mm)ピッ
チで刻設された支持溝18に、25枚の半導体ウェハ1
2が1/4インチの所定収納ピッチで互いの主面が対向
するように配列して収納される。
The first wafer container 16 attached to the first attachment portion 14 is a carrier of a first wafer case (not shown) which has been conventionally used as a standard for transporting semiconductor wafers, and is a quarter inch thereof. Twenty-five semiconductor wafers 1 are placed in the support grooves 18 engraved at a pitch of (6.35 mm).
2 are arranged and housed at a predetermined housing pitch of 1/4 inch so that their main surfaces face each other.

【0013】また第2の取付部15に取り付けられる第
2のウェハ容器17は、同じく直径200mmの半導体
ウェハ12を携行移送、保管するよう1/8インチ
(3.175mm)の所定収納ピッチで互いの主面が対
向するように配列して25枚収納する第2のウェハケー
ス19を構成するもので、例えばポリカーボネート樹脂
を成形して形成した透明の略箱形状のケース本体20
に、一対のウェハ支持部材21を設けて構成されてい
る。なお、第2のウェハケース19は、ケース本体20
と全く同形状の、同じく例えばポリカーボネート樹脂を
成形して形成した透明の蓋22により、第2のウェハ容
器17の略長方形状をした上部開口を覆うようになって
いる。
The second wafer container 17 attached to the second attachment portion 15 has a predetermined storage pitch of 1/8 inch (3.175 mm) so that the semiconductor wafer 12 having a diameter of 200 mm can be carried and stored. The second wafer case 19 is arranged so that the main surfaces thereof face each other and accommodates 25 wafers. For example, a transparent substantially box-shaped case body 20 formed by molding polycarbonate resin.
In addition, a pair of wafer supporting members 21 are provided. The second wafer case 19 has a case body 20.
A substantially rectangular upper opening of the second wafer container 17 is covered with a transparent lid 22 having the same shape as that of the second wafer container 17, which is also formed by molding a polycarbonate resin, for example.

【0014】またウェハ支持部材21は、半導体ウェハ
12の円周に倣うように長手方向に湾曲した長方形の板
状のもので、湾曲した内面側には1/8インチピッチで
支持溝23が刻設されている。またケース本体20への
取り付けは、下端部分をケース本体20の内底部の堤状
係合部24に係合し、上部外面側に突設した係止片25
をケース本体20の内側壁部分の係止ピン26に係止す
ることによりおこなわれている。
Further, the wafer supporting member 21 is a rectangular plate-like member which is curved in the longitudinal direction so as to follow the circumference of the semiconductor wafer 12, and the curved inner surface is provided with supporting grooves 23 at a pitch of 1/8 inch. It is set up. The attachment to the case body 20 is performed by engaging the lower end portion with the bank-like engaging portion 24 at the inner bottom portion of the case body 20 and projecting the locking piece 25 on the outer surface side of the upper portion.
Is locked to the locking pin 26 on the inner wall of the case body 20.

【0015】また、ガイド部13は、基台27上に2本
立設された支柱28の一方の頂部に、基端部29aを軸
支することで矢印Aで示すように回動して起伏動可能と
なるようにし、伏動作した際に基台27の上面に対し平
行となるよう先端部29bが他方の支柱28の頂部に支
持され、支柱28間に横架されるアーム29を備え、そ
の下面側に上ガイド部材30が設けられている。なお、
基台27は、上面が水平面Hに対し一方側、例えばアー
ム29の横架方向基端部29a側に角度θの下り傾斜面
となるように設けられている。
Further, the guide portion 13 is pivoted up and down as shown by an arrow A by pivotally supporting a base end portion 29a on one apex of two columns 28 standing on the base 27. If possible, the tip 29b is supported on the top of the other column 28 so as to be parallel to the upper surface of the base 27 when it is turned down, and the arm 29 is provided across the column 28. The upper guide member 30 is provided on the lower surface side. In addition,
The base 27 is provided so that the upper surface thereof is one side with respect to the horizontal plane H, for example, the side of the arm 29 in the lateral direction of the base end 29a, which is a downward inclined surface having an angle θ.

【0016】また上ガイド部材30には、半導体ウェハ
12の上側ガイド部分となる下向きに開口する上側のガ
イド溝31が、アーム29の横架方向に1/4インチピ
ッチで25本刻設されている。そして、ガイド溝31を
刻設することにより上ガイド部材30の溝間端面32に
は、半導体ウェハ12のストッパ部分が形成される。ガ
イド溝31と溝間端面32とは、ガイド溝31が半導体
ウェハ12の通過を可能とする溝幅を有すると共に、逆
に溝間端面32が半導体ウェハ12の通過を確実に遮る
寸法形状を有するよう刻設されている。
Further, the upper guide member 30 is provided with 25 upper guide grooves 31 which are downwardly opened and serve as upper guide portions of the semiconductor wafer 12 in a transverse direction of the arm 29 at a pitch of 1/4 inch. There is. By engraving the guide groove 31, the stopper portion of the semiconductor wafer 12 is formed on the inter-groove end surface 32 of the upper guide member 30. The guide groove 31 and the inter-groove end surface 32 have a groove width that allows the guide groove 31 to pass the semiconductor wafer 12, and conversely, the inter-groove end surface 32 has a dimension and shape that reliably blocks the passage of the semiconductor wafer 12. It is engraved as.

【0017】さらに、ガイド部13は、矢印Bで示すよ
うに往復移動可能とすることで、取り付けた第2のウェ
ハ容器17を第1のポジションX1と第2のポジション
X2とにそれぞれ位置させることが可能な第2の取付部
15の可動台33に、下ガイド部材34が設けられてい
る。そして、下ガイド部材34には半導体ウェハ12の
下側ガイド部分となる上向きに開口する下側のガイド溝
31が、上側のガイド溝31に対向するよう1/4イン
チピッチで13本刻設されている。なお、上ガイド部材
30と同様に、ガイド溝31を刻設することにより下ガ
イド部材34の溝間端面32にも、半導体ウェハ12の
ストッパ部分が形成される。
Further, the guide portion 13 is reciprocally movable as shown by an arrow B, so that the attached second wafer container 17 is positioned at the first position X1 and the second position X2, respectively. A lower guide member 34 is provided on the movable base 33 of the second mounting portion 15 that is capable of moving. Then, the lower guide member 34 is provided with 13 lower guide grooves 31 that are upwardly opened and serve as a lower guide portion of the semiconductor wafer 12 at a 1/4 inch pitch so as to face the upper guide grooves 31. ing. Similar to the upper guide member 30, by engraving the guide groove 31, the stopper portion of the semiconductor wafer 12 is also formed on the inter-groove end surface 32 of the lower guide member 34.

【0018】そして、第1の取付部14に第1のウェハ
容器16を取り付け、また第2の取付部15の可動台3
3に第2のウェハ容器17を取り付けて、第1のポジシ
ョンX1、第2のポジションX2にそれぞれ位置させた
際には、上ガイド部材30と下ガイド部材34のガイド
溝31は、第1のウェハ容器16の支持溝18と、また
第2のウェハ容器17の支持溝21と連通した状態にな
る。なお、下ガイド部材34のガイド溝31と第1のウ
ェハ容器16の支持溝18とは同じ高さに、また第2の
ウェハ容器17の支持溝21は、下ガイド部材34より
若干低位置で半導体ウェハ12を支持するようになって
いる。なおまた、第2のウェハ容器17の支持溝21は
1/8インチピッチで刻設されているため、1つ置きに
ガイド溝31に連通した状態になる。
Then, the first wafer container 16 is attached to the first attaching portion 14, and the movable table 3 of the second attaching portion 15 is attached.
When the second wafer container 17 is attached to 3 and positioned at the first position X1 and the second position X2 respectively, the guide grooves 31 of the upper guide member 30 and the lower guide member 34 are The support groove 18 of the wafer container 16 and the support groove 21 of the second wafer container 17 are in communication with each other. The guide groove 31 of the lower guide member 34 and the support groove 18 of the first wafer container 16 are at the same height, and the support groove 21 of the second wafer container 17 is slightly lower than the lower guide member 34. The semiconductor wafer 12 is supported. In addition, since the support grooves 21 of the second wafer container 17 are engraved at a pitch of 1/8 inch, the support grooves 21 communicate with the guide grooves 31 every other one.

【0019】また、第1のウェハ容器16を取り付ける
第1の取付部14は、基台27上に固定された取付台3
5を備え、取付台35には、第1のウェハ容器16の上
端フランジ36及び底部37がそれぞれ当接して位置決
めを行なう段部38と、位置決め部材39が設けられて
いる。
Further, the first mounting portion 14 for mounting the first wafer container 16 has a mounting base 3 fixed on a base 27.
5, the mounting base 35 is provided with a step portion 38 for positioning with the upper end flange 36 and the bottom portion 37 of the first wafer container 16, respectively, and a positioning member 39.

【0020】一方、第2のウェハ容器17を取り付ける
第2の取付部15は、基台27上に、ヒンジ40を第1
の取付部14側に設けて矢印Cで示すように回動し起伏
動可能とした傾斜台41を備えており、この傾斜台41
上には、2本のガイドレール42を設けて矢印Bで示す
ように移動可能な可動台33が設けられている。
On the other hand, the second mounting portion 15 for mounting the second wafer container 17 has the hinge 40 on the base 27 and the first hinge 40.
The tilt table 41 is provided on the side of the mounting portion 14 of the tilt table 41, which can be rotated and oscillated as shown by an arrow C.
On the upper side, a movable base 33 is provided which is provided with two guide rails 42 and is movable as shown by an arrow B.

【0021】また可動台33には、第2のウェハ容器1
7を取り付ける際、その位置決めを底部に当接して行な
う位置決め部材43と、下ガイド部材34のガイド溝3
1等に対応する高さ位置に第2のウェハ容器17の支持
溝23の外端部分を保持する保持部材44が設けられて
おり、第2のウェハ容器17は、半導体ウェハ12が転
がり込むようにして収納されるよう可動台33に取り付
けられる。なお、可動台33を矢印Bで示すように移動
した際に、第2のウェハ容器17を第1のポジションX
1と第2のポジションX2とにそれぞれ位置させる横位
置決め部材45,46は、傾斜台41の上面に設けられ
ている。
On the movable table 33, the second wafer container 1 is attached.
7 is attached, the positioning member 43 is positioned by abutting the bottom portion, and the guide groove 3 of the lower guide member 34.
A holding member 44 that holds the outer end portion of the support groove 23 of the second wafer container 17 is provided at a height position corresponding to 1, etc., and the second wafer container 17 is configured so that the semiconductor wafer 12 rolls in. It is attached to the movable table 33 so that it can be stored. When the movable table 33 is moved as indicated by the arrow B, the second wafer container 17 is moved to the first position X.
The lateral positioning members 45 and 46, which are located at the first position and the second position X2, respectively, are provided on the upper surface of the tilt table 41.

【0022】また、ガイド部13の片方側で第1の取付
部14に取り付けた第1のウェハ容器16の後方側に
は、矢印Dで示すように往復動して第1のウェハ容器1
6内の所定枚数、例えば収納可能数の約半分にあたる1
3枚の半導体ウェハ12を送り出す送出し機構47が設
けられている。第1のウェハ容器16内からの半導体ウ
ェハ12の送出しは、送出し機構47を第1のウェハ容
器16の底部開口48から内部に進出させるようにして
行ない、送出し後は後退するようになっている。また送
出し機構47は、アーム29の横架方向に平行な方向に
移動可能となっており、第2のウェハ容器17が第1の
ポジションX1に位置する時はそれに対応した位置に、
また第2のポジションX2に位置する時はそれに対応し
た位置に、それぞれ移動可能となっている。
On the rear side of the first wafer container 16 attached to the first attaching portion 14 on one side of the guide portion 13, the first wafer container 1 is reciprocated as shown by an arrow D.
A predetermined number within 6 such as about half of the number that can be stored 1
A delivery mechanism 47 for delivering the three semiconductor wafers 12 is provided. The delivery of the semiconductor wafer 12 from the inside of the first wafer container 16 is performed by causing the delivery mechanism 47 to be advanced into the inside from the bottom opening 48 of the first wafer container 16 and then retracting after the delivery. Has become. Further, the delivery mechanism 47 is movable in a direction parallel to the lateral direction of the arm 29, and when the second wafer container 17 is located at the first position X1, it is at a position corresponding thereto.
When the vehicle is located at the second position X2, it can be moved to the corresponding position.

【0023】そして、上記のように構成されたウェハ移
載装置11を用いた1/4インチピッチで収納する第1
のウェハ容器16と、1/8インチピッチで収納する第
2のウェハ容器17との間の半導体ウェハ12の移し替
えは、次の通りとなる。先ず全25枚の半導体ウェハ1
2を収納する第1のウェハ容器16から、空の第2のウ
ェハ容器17への移し替えについて説明する。
Then, the wafer transfer device 11 configured as described above is used to store the wafer at a 1/4 inch pitch.
The transfer of the semiconductor wafer 12 between the wafer container 16 and the second wafer container 17 accommodated at the 1/8 inch pitch is as follows. First, all 25 semiconductor wafers 1
The transfer from the first wafer container 16 accommodating 2 to the empty second wafer container 17 will be described.

【0024】図9に示す第1の工程で、ウェハ移載装置
11のガイド部13の片方側に設けられた第1の取付部
14の取付台35に、25枚の半導体ウェハ12を支持
溝18に収納した第1のウェハ容器16を取り付け、ま
た他方側に設けられた第2の取付部15の可動台33上
に、空の第2のウェハ容器17を取り付ける。そして、
可動台33を第1のポジションX1に位置させる。これ
により、第1のウェハ容器16の25枚の半導体ウェハ
12は上ガイド部材30及び下ガイド部材34のガイド
溝31に臨むよう位置し、空の第2のウェハ容器17に
ついては支持溝23が1つ置きにガイド溝31に臨むよ
う位置する。なお、基台27が傾斜角θだけ傾いている
ので、第1のウェハ容器16の半導体ウェハ12は各支
持溝18の一方側に片寄って収納された状態となる。
In the first step shown in FIG. 9, 25 semiconductor wafers 12 are supported on the mounting base 35 of the first mounting portion 14 provided on one side of the guide portion 13 of the wafer transfer device 11. The first wafer container 16 stored in 18 is attached, and the empty second wafer container 17 is attached on the movable table 33 of the second attachment portion 15 provided on the other side. And
The movable table 33 is located at the first position X1. As a result, the 25 semiconductor wafers 12 of the first wafer container 16 are positioned so as to face the guide grooves 31 of the upper guide member 30 and the lower guide member 34, and the support groove 23 is provided for the empty second wafer container 17. It is positioned so as to face the guide groove 31 every other pair. Since the base 27 is tilted by the tilt angle θ, the semiconductor wafer 12 of the first wafer container 16 is accommodated in one side of each of the support grooves 18 while being offset.

【0025】次に、図10に示す第2の工程で、ウェハ
送出し機構47を作動させ、第1のウェハ容器16の半
導体ウェハ12の約半分である13枚を押し出し、ガイ
ド部13のガイド溝31を介してガイド溝31に臨む第
2のウェハ容器17の支持溝23に、1つ置きに収納す
る。この時、第2のウェハ容器17の収納位置が第1の
ウェハ容器16、ガイド部13よりも若干低位置である
ため、転動して半導体ウェハ12は第2のウェハ容器1
7の容器奥部に収納される。
Next, in a second step shown in FIG. 10, the wafer delivery mechanism 47 is operated to extrude 13 sheets, which is about half of the semiconductor wafers 12 in the first wafer container 16, to guide the guide portion 13. Every other one is stored in the support groove 23 of the second wafer container 17 which faces the guide groove 31 through the groove 31. At this time, since the storage position of the second wafer container 17 is slightly lower than the first wafer container 16 and the guide portion 13, the semiconductor wafer 12 rolls and the semiconductor wafer 12 becomes the second wafer container 1.
It is stored in the inner part of container 7.

【0026】次に、図11に示す第3の工程で、アーム
29を先端部29bが支柱28の頂部から所定距離だけ
離れるよう基端部29a側を中心にして回動させ、上ガ
イド部材30が第2のウェハ容器17よりも高い位置に
する。その後、可動台33を矢印Bで示すように移動さ
せ、第2のウェハ容器17を第2のポジションX2に位
置させ、アーム29を元の位置に戻す。
Next, in a third step shown in FIG. 11, the arm 29 is rotated about the base end 29a side so that the tip 29b is separated from the top of the column 28 by a predetermined distance, and the upper guide member 30 is rotated. Is higher than the second wafer container 17. After that, the movable table 33 is moved as shown by an arrow B, the second wafer container 17 is positioned at the second position X2, and the arm 29 is returned to the original position.

【0027】これにより、前の第2の工程で半導体ウェ
ハ12が収納されず空状態の第2のウェハ容器17の支
持溝23が、ガイド部13のガイド溝31に臨むようセ
ットされる。また、第2のウェハ容器17に収納された
半導体ウェハ12はガイド部13のストッパ部分である
溝間端面32に臨んだ状態になる。なお、前の第2の工
程で押し出されなかった第1のウェハ容器16の残り1
2枚の半導体ウェハ12は、ガイド溝31に臨むよう位
置したままの状態となっている。
As a result, the supporting groove 23 of the second wafer container 17 in the empty state where the semiconductor wafer 12 is not housed in the previous second step is set to face the guide groove 31 of the guide portion 13. The semiconductor wafer 12 housed in the second wafer container 17 faces the inter-groove end surface 32 which is the stopper portion of the guide portion 13. The remaining 1 of the first wafer container 16 that was not extruded in the previous second step
The two semiconductor wafers 12 are still positioned so as to face the guide groove 31.

【0028】次に、図12に示す第4の工程で、再びウ
ェハ送出し機構47を作動させ、第1のウェハ容器16
中の残り12枚の半導体ウェハ12を押し出し、ガイド
部13のガイド溝31を介してガイド溝31に臨む第2
のウェハ容器17の空状態の支持溝23に収納する。こ
の時、半導体ウェハ12は同様に転動して第2のウェハ
容器17の容器奥部に収納される。これによって、第1
のウェハ容器16に1/4インチピッチで収納されてい
た全25枚の半導体ウェハ12が、これと異なる1/2
のピッチとなっている1/8インチで収納する第2のウ
ェハ容器17に、2回に分けて簡単に移し替えられる。
Next, in the fourth step shown in FIG. 12, the wafer delivery mechanism 47 is operated again to operate the first wafer container 16
The second twelve semiconductor wafers 12 in the middle are extruded to face the guide groove 31 through the guide groove 31 of the guide portion 13.
The wafer container 17 is stored in the empty support groove 23. At this time, the semiconductor wafer 12 rolls in the same manner and is housed in the inner part of the second wafer container 17. By this, the first
The total of 25 semiconductor wafers 12 stored in the wafer container 16 of 1/4 inch pitch are different from this.
The wafer can be easily transferred to the second wafer container 17 which is stored at a pitch of 1/8 inch in two steps.

【0029】次に、逆に全25枚の半導体ウェハ12を
収納する第2のウェハ容器17から、空の第1のウェハ
容器16への移し替えについて説明する。
Next, conversely, transfer from the second wafer container 17 accommodating all 25 semiconductor wafers 12 to the empty first wafer container 16 will be described.

【0030】図13に示す第1の工程で、ウェハ移載装
置11のガイド部13の他方側に設けられた第2の取付
部15の可動台33上に、25枚の半導体ウェハ12を
支持溝23に収納した第2のウェハ容器17を取り付
け、また片方側に設けられた第1の取付部14の取付台
35に、空の第1のウェハ容器16を取り付ける。そし
て、可動台33を第1のポジションX1に位置させる。
In the first step shown in FIG. 13, 25 semiconductor wafers 12 are supported on the movable base 33 of the second mounting portion 15 provided on the other side of the guide portion 13 of the wafer transfer device 11. The second wafer container 17 accommodated in the groove 23 is attached, and the empty first wafer container 16 is attached to the attachment base 35 of the first attachment portion 14 provided on one side. Then, the movable table 33 is positioned at the first position X1.

【0031】これにより、空の第1のウェハ容器16の
支持溝18が上ガイド部材30及び下ガイド部材34の
ガイド溝31に臨むよう位置する。また第2のウェハ容
器17については、収納した25枚の半導体ウェハ12
のうち、1つ置きの13枚がガイド溝31に臨むよう位
置し、残り12枚がストッパ部分である溝間端面32に
臨むよう位置する。なお、基台27が傾斜角θだけ傾い
ているので、第2のウェハ容器17の半導体ウェハ12
は各支持溝23の一方側に片寄って収納された状態とな
る。
As a result, the supporting groove 18 of the empty first wafer container 16 is positioned so as to face the guide groove 31 of the upper guide member 30 and the lower guide member 34. For the second wafer container 17, the stored 25 semiconductor wafers 12
Of these, every other 13 are positioned so as to face the guide groove 31, and the remaining 12 are positioned so as to face the inter-groove end surface 32 that is the stopper portion. Since the base 27 is tilted by the tilt angle θ, the semiconductor wafer 12 of the second wafer container 17 is tilted.
Is in a state of being accommodated in one side of each of the support grooves 23.

【0032】次に、図14に示す第2の工程で、傾斜台
41をヒンジ40によって矢印Cで示すように回動さ
せ、第2のウェハ容器17を上方に持ち上げて第1のウ
ェハ容器16よりも高くする。これにより、第2のウェ
ハ容器17の支持溝23は外端部分が下側となるように
傾斜し、収納していた半導体ウェハ12が第1のウェハ
容器16方向に転動する。そして、第2のウェハ容器1
7中のガイド部13のガイド溝31に臨む13枚の半導
体ウェハ12が転動し、ガイド溝31を介して第1のウ
ェハ容器16の支持溝18のうちの第2のウェハ容器1
7が位置している第1のポジションX1の対応する支持
溝18に移動する。なお、第2のウェハ容器17の他の
12枚の半導体ウェハ12は、上下両ガイド部材30,
31の溝間端面32に遮られて転動せず、残ったままと
なる。
Next, in the second step shown in FIG. 14, the tilt base 41 is rotated by the hinge 40 as shown by the arrow C, and the second wafer container 17 is lifted upward to raise the first wafer container 16 in the second process. Higher than. As a result, the support groove 23 of the second wafer container 17 is tilted so that the outer end portion is on the lower side, and the semiconductor wafer 12 accommodated therein is rolled in the direction of the first wafer container 16. Then, the second wafer container 1
7 of the semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 of the guide portion 13 in 7 rolls, and the second wafer container 1 of the support grooves 18 of the first wafer container 16 rolls through the guide groove 31.
7 moves to the corresponding support groove 18 in the first position X1 in which it is located. The other twelve semiconductor wafers 12 in the second wafer container 17 are the upper and lower guide members 30,
It is blocked by the inter-groove end surface 32 of 31 and does not roll, but remains as it is.

【0033】次に、図15に示す第3の工程で、傾斜台
41を元の位置に戻し、またアーム29を先端部29b
が支柱28の頂部から所定距離だけ離れるよう基端部2
9a側を中心にして回動させ、上ガイド部材30が第2
のウェハ容器17よりも高い位置にする。その後、可動
台33を矢印Bで示すように移動させ、第2のウェハ容
器17を第2のポジションX2に位置させ、アーム29
を元の位置に戻す。これにより、第2のウェハ容器17
の支持溝23に1つ置きに残った12枚の半導体ウェハ
12が、ガイド部13のガイド溝31に臨むようセット
される。
Next, in a third step shown in FIG. 15, the tilting base 41 is returned to its original position, and the arm 29 is attached to the tip portion 29b.
So that the base 2 is separated from the top of the column 28 by a predetermined distance.
The upper guide member 30 is moved to the second
To a position higher than the wafer container 17. After that, the movable table 33 is moved as shown by the arrow B, the second wafer container 17 is positioned at the second position X2, and the arm 29 is moved.
To the original position. Thereby, the second wafer container 17
The twelve semiconductor wafers 12, which are left in the supporting groove 23 every other one, are set so as to face the guide groove 31 of the guide portion 13.

【0034】次に、図16に示す第4の工程で、再び第
2の工程と同様に、傾斜台41をヒンジ40によって矢
印Cで示すように回動させ、第2のウェハ容器17を第
1のウェハ容器16よりも高い位置に保持する。これに
より、第2のウェハ容器17の支持溝23は外端部分が
下側となるように傾斜し、収納していた半導体ウェハ1
2が第1のウェハ容器16方向に転動する。そして、第
2のウェハ容器17中の残り12枚の半導体ウェハ12
が転動し、ガイド溝31を介して第1のウェハ容器16
の支持溝18の第2のウェハ容器17が位置している第
2のポジションX2の対応する側の支持溝18に移動し
収納される。これによって、第2のウェハ容器17に1
/8インチピッチで収納されていた全25枚の半導体ウ
ェハ12が、これと異なる1/4インチで収納する第1
のウェハ容器16に、2回に分けて簡単に移し替えられ
る。
Next, in the fourth step shown in FIG. 16, the tilting base 41 is rotated by the hinge 40 as shown by the arrow C in the same manner as in the second step, and the second wafer container 17 is moved to the first step. The wafer container 16 is held at a position higher than the wafer container 16. As a result, the support groove 23 of the second wafer container 17 is inclined so that the outer end portion thereof is on the lower side, and the semiconductor wafer 1 stored therein is held.
2 rolls toward the first wafer container 16. Then, the remaining 12 semiconductor wafers 12 in the second wafer container 17
Rolls and moves through the guide groove 31 to the first wafer container 16
The support groove 18 is moved and stored in the support groove 18 on the corresponding side of the second position X2 where the second wafer container 17 is located. As a result, the second wafer container 17
A total of 25 semiconductor wafers 12 stored at a / 8 inch pitch are stored at a different 1/4 inch
The wafer container 16 can be easily transferred in two batches.

【0035】以上の通り移載を行なうことで、標準的に
使用されている従来の1/4インチ(6.35mm)の
ピッチで半導体ウェハ12を収納する第1のウェハ容器
16から、ピッチが1/2で携行移送が簡単、容易に行
なえ、保管にスペースを要しない1/8インチ(3.1
75mm)のピッチで収納する第2のウェハ容器17へ
の半導体ウェハ12の移し替え、あるいは逆の第2のウ
ェハ容器17から第1のウェハ容器16への移し替えが
簡単に行なうことができ、移し替えに際して半導体ウェ
ハ12を落としたり、疵付けたり等する虞を著しく低減
することができる。
By carrying out the transfer as described above, the pitch from the first wafer container 16 for accommodating the semiconductor wafers 12 at the standard pitch of 1/4 inch (6.35 mm) in the related art is changed. It is easy to carry around with 1/2, easy to carry, and does not require space for storage 1/8 inch (3.1
The transfer of the semiconductor wafers 12 to the second wafer container 17 accommodated at a pitch of 75 mm) or the reverse transfer from the second wafer container 17 to the first wafer container 16 can be easily performed. It is possible to significantly reduce the risk that the semiconductor wafer 12 will be dropped or scratched during the transfer.

【0036】次に第2の実施形態を図17及び図18に
より説明する。図17及び図18は第1のウェハ容器か
ら第2のウェハ容器への半導体ウェハの移し替え工程
を、各部位を模式的に示して説明するための図で、図1
7は第1の工程を説明するための図であり、図18は第
2の工程を説明するための図である。なお、主部である
ガイド部材の構成を第1の実施形態と本実施形態は異に
するため、移し替えの過程を中心に説明し、また第1の
実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略す
る。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 17 and 18 are views for schematically explaining each part of the semiconductor wafer transfer process from the first wafer container to the second wafer container, and FIG.
7 is a diagram for explaining the first step, and FIG. 18 is a diagram for explaining the second step. In addition, since the configuration of the guide member as the main part is different from that of the first embodiment, this embodiment will be described focusing on the transfer process, and the same parts as those of the first embodiment will be designated by the same reference numerals. The description is omitted.

【0037】ウェハ移載装置51は、図示しない基台上
にガイド部52を設け、このガイド部52の片方側に第
1のウェハ容器16を取り付ける第1の取付部53、他
方側に第2のウェハ容器17を取り付ける第2の取付部
54を設けて構成されている。ガイド部52は下向きに
開口するガイド溝31と溝間端面32を有する上ガイド
部材55と、これと上下対称に上向きに開口するガイド
溝31と溝間端面32を有する図示しない下ガイド部材
を備えており、上ガイド部材55と下ガイド部材には、
それぞれ13本のガイド溝31が1/4インチのピッチ
で刻設されている。
The wafer transfer device 51 is provided with a guide portion 52 on a base (not shown), a first attachment portion 53 for attaching the first wafer container 16 on one side of the guide portion 52, and a second attachment portion on the other side. The second mounting portion 54 for mounting the wafer container 17 is provided. The guide portion 52 includes an upper guide member 55 having a guide groove 31 and a groove end surface 32 that open downward, and a lower guide member (not shown) that has a guide groove 31 and an inter groove end surface 32 that open upward symmetrically with the guide groove 31. The upper guide member 55 and the lower guide member are
Each of the 13 guide grooves 31 is engraved at a pitch of 1/4 inch.

【0038】また、第1の取付部53は、図示しないが
基台上にヒンジを第2の取付部54側に設けて回動し、
ガイド部52方向に下り傾斜となるよう起伏動可能とし
た傾斜台を備えている。さらに、同じく図示しないが傾
斜台上には、ガイドレールを設けてガイド部52のガイ
ド溝31の配列方向に往復動して、取り付けた第1のウ
ェハ容器16を第1のポジションY1、第2のポジショ
ンY2に位置させる可動台が設けられている。
Further, although not shown, the first mounting portion 53 is provided with a hinge on the base on the side of the second mounting portion 54 to rotate,
The tilting table is provided so that it can be raised and lowered so as to be tilted downward in the direction of the guide portion 52. Further, although not shown in the figure, a guide rail is provided on the inclined table and reciprocates in the arrangement direction of the guide grooves 31 of the guide portion 52 to move the attached first wafer container 16 to the first position Y1 and the second position. There is provided a movable table which is positioned at position Y2.

【0039】また同様に、第2の取付部54は、図示し
ないが基台上にヒンジを第1の取付部53側に設けて回
動し、ガイド部52方向に下り傾斜となるよう起伏動可
能とした傾斜台を備えている。さらに、図示しないが傾
斜台上には、ガイドレールを設けてガイド部52のガイ
ド溝31の配列方向に往復動して、取り付けた第2のウ
ェハ容器17を第1のポジションZ1、第2のポジショ
ンZ2に位置させる可動台が設けられている。
Similarly, although not shown, the second mounting portion 54 is provided with a hinge on the base on the side of the first mounting portion 53 and is rotated, so that the second mounting portion 54 oscillates so as to incline downward toward the guide portion 52. Equipped with a tilting table that makes it possible. Further, although not shown, a guide rail is provided on the inclined table and reciprocates in the arrangement direction of the guide grooves 31 of the guide portion 52 to move the attached second wafer container 17 to the first position Z1 and the second position. A movable base is provided to be positioned at the position Z2.

【0040】そして、上記のように構成されたウェハ移
載装置51を用いた1/4インチピッチで収納する第1
のウェハ容器16と、1/8インチピッチで収納する第
2のウェハ容器17との間の半導体ウェハ12の移し替
えは、次の通りとなる。先ず全25枚の半導体ウェハ1
2を収納する第1のウェハ容器16から、空の第2のウ
ェハ容器17への移し替えについて説明する。
Then, the wafer transfer device 51 configured as described above is used to store the wafer at a 1/4 inch pitch.
The transfer of the semiconductor wafer 12 between the wafer container 16 and the second wafer container 17 accommodated at the 1/8 inch pitch is as follows. First, all 25 semiconductor wafers 1
The transfer from the first wafer container 16 accommodating 2 to the empty second wafer container 17 will be described.

【0041】図17に示す第1の工程で、ウェハ移載装
置51のガイド部52の片方側に設けられた第1の取付
部53の可動台上に、25枚の半導体ウェハ12を支持
溝18に収納した第1のウェハ容器16を取り付け、ま
た他方側に設けられた第2の取付部54の可動台上に、
空の第2のウェハ容器17を取り付ける。そして、第1
のウェハ容器16を第1のポジションY1に位置させ、
第2のウェハ容器17を第1のポジションZ1に位置さ
せる。
In the first step shown in FIG. 17, 25 semiconductor wafers 12 are supported on the movable base of the first mounting portion 53 provided on one side of the guide portion 52 of the wafer transfer device 51. The first wafer container 16 housed in 18 is attached, and on the movable table of the second attachment portion 54 provided on the other side,
An empty second wafer container 17 is attached. And the first
The wafer container 16 of is located at the first position Y1;
The second wafer container 17 is located at the first position Z1.

【0042】これによって、第1のウェハ容器16に収
納されている25枚の半導体ウェハ12のうち、13枚
が上ガイド部材55及び下ガイド部材のガイド溝31に
臨むよう位置し、他の12枚は上下ガイド部材のガイド
溝31が刻設されていない端面に臨んだ状態になる。ま
た空の第2のウェハ容器17については、支持溝23が
1つ置きにガイド溝31に臨むよう位置する。
As a result, of the 25 semiconductor wafers 12 housed in the first wafer container 16, 13 are positioned so as to face the guide grooves 31 of the upper guide member 55 and the lower guide member, and the other 12 wafers. The sheet faces the end surface where the guide groove 31 of the upper and lower guide members is not engraved. Further, the empty second wafer container 17 is positioned so that every other supporting groove 23 faces the guide groove 31.

【0043】続いて、第1の取付部53の傾斜台をガイ
ド部52方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。この傾
斜台の動きによって、第1の取付部53に取り付けた第
1のウェハ容器16中のガイド溝31に臨む13枚の半
導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガイド溝
31に臨む第2のウェハ容器17の支持溝23に、1つ
置きに収納される。また第1のウェハ容器16中の他の
12枚は、上下ガイド部材のガイド溝31が刻設されて
いない端面によって遮られ、第1のウェハ容器16中に
残る。
Subsequently, the tilting base of the first mounting portion 53 is tilted downward in the direction of the guide portion 52. By the movement of the tilting table, the 13 semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the first wafer container 16 attached to the first attaching portion 53 roll in the guide groove 31 and move into the guide groove 31. Every other one is stored in the supporting groove 23 of the facing second wafer container 17. The other twelve wafers in the first wafer container 16 are blocked by the end surfaces of the upper and lower guide members where the guide grooves 31 are not formed, and remain in the first wafer container 16.

【0044】次に、図18に示す第2の工程で、第1の
取付部53の傾斜台を元の位置に戻すと共に可動台を移
動させ、第1のウェハ容器16を第2のポジションY2
に位置させ、また第2の取付部54の可動台を移動さ
せ、第2のウェハ容器17を第2のポジションZ2に位
置させる。これにより、第1のウェハ容器16に残った
12枚の半導体ウェハ12が、ガイド部52のガイド溝
31に臨み、また前の第1の工程で半導体ウェハ12が
収納されなかった空状態の第2のウェハ容器17の支持
溝23が、ガイド部52のガイド溝31に臨むようセッ
トされる。また、第2のウェハ容器17に収納された半
導体ウェハ12はガイド部52のストッパ部分である溝
間端面32に臨んだ状態になる。
Next, in a second step shown in FIG. 18, the tilt table of the first mounting portion 53 is returned to its original position and the movable table is moved to move the first wafer container 16 to the second position Y2.
And the movable table of the second mounting portion 54 is moved to position the second wafer container 17 at the second position Z2. As a result, the twelve semiconductor wafers 12 remaining in the first wafer container 16 face the guide groove 31 of the guide portion 52, and the semiconductor wafer 12 is not stored in the empty state where the semiconductor wafer 12 was not stored in the previous first step. The support groove 23 of the second wafer container 17 is set so as to face the guide groove 31 of the guide portion 52. Further, the semiconductor wafer 12 housed in the second wafer container 17 is in a state of facing the inter-groove end surface 32 which is the stopper portion of the guide portion 52.

【0045】続いて、再び第1の取付部53の傾斜台を
ガイド部52方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。こ
の傾斜台の動きによって、第1の取付部53に取り付け
た第1のウェハ容器16中のガイド溝31に臨む12枚
の半導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガイ
ド溝31に臨む第2のウェハ容器17の残った支持溝2
3に収納される。これによって、第1のウェハ容器16
に1/4インチピッチで収納されていた全25枚の半導
体ウェハ12が、これと異なる1/2のピッチとなって
いる1/8インチで収納する第2のウェハ容器17に、
2回に分けて簡単に移し替えられる。
Then, the tilting base of the first mounting portion 53 is tilted again toward the guide portion 52 so as to be tilted downward. By the movement of the tilting table, the twelve semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the first wafer container 16 mounted on the first mounting portion 53 roll in the guide groove 31 and are guided to the guide groove 31. The remaining support groove 2 of the facing second wafer container 17
It is stored in 3. Thereby, the first wafer container 16
All the 25 semiconductor wafers 12 stored in the 1/4 inch pitch in the second wafer container 17 in which the semiconductor wafers 12 are stored in the 1/8 inch, which has a different pitch of 1/2,
It can be easily transferred in two batches.

【0046】次に、逆に全25枚の半導体ウェハ12を
収納する第2のウェハ容器17から、空の第1のウェハ
容器16への移し替えについて説明する。なお、上記の
移し替えと半導体ウェハ12の移動方向が逆であること
に伴う違いのみで、略同様のものであるため、図示せず
に説明する。
Next, conversely, transfer from the second wafer container 17 accommodating all 25 semiconductor wafers 12 to the empty first wafer container 16 will be described. Note that the transfer is substantially the same as the above-mentioned transfer and the difference in the moving direction of the semiconductor wafer 12 is opposite, and therefore the description will be made without being shown.

【0047】先ず、第1の工程で、ウェハ移載装置51
のガイド部52の片方側に設けられた第1の取付部53
の可動台上に、空の第1のウェハ容器16を取り付け、
また他方側に設けられた第2の取付部54の可動台上
に、25枚の半導体ウェハ12を支持溝18に収納した
第2のウェハ容器17を取り付ける。そして、第1のウ
ェハ容器16を第1のポジションY1に位置させ、第2
のウェハ容器17を第1のポジションZ1に位置させ
る。
First, in the first step, the wafer transfer device 51
First mounting portion 53 provided on one side of the guide portion 52 of the
Mount an empty first wafer container 16 on the movable table of
Further, the second wafer container 17 in which 25 semiconductor wafers 12 are housed in the support groove 18 is mounted on the movable table of the second mounting portion 54 provided on the other side. Then, the first wafer container 16 is positioned at the first position Y1 and
The wafer container 17 of is positioned at the first position Z1.

【0048】これによって、空となっている第1のウェ
ハ容器16の片端側13本の支持溝18がガイド部52
のガイド溝31に臨むよう位置し、第2のウェハ容器1
7については収納されている25枚の半導体ウェハ12
のうち、1つ置きの13枚がガイド溝31に臨むよう位
置する。また、第2のウェハ容器17に収納された他の
12枚の半導体ウェハ12はガイド部52のストッパ部
分である溝間端面32に臨んだ状態になる。
As a result, the 13 support grooves 18 on one end side of the first wafer container 16 which is vacant become the guide portion 52.
Of the second wafer container 1 positioned so as to face the guide groove 31 of
25 semiconductor wafers 12 stored for 7
Of these, every other 13 sheets are positioned so as to face the guide groove 31. Further, the other twelve semiconductor wafers 12 housed in the second wafer container 17 face the inter-groove end surface 32 which is the stopper portion of the guide portion 52.

【0049】続いて、第2の取付部54の傾斜台をガイ
ド部52方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。この傾
斜台の動きによって、第2の取付部54に取り付けた第
2のウェハ容器17中のガイド溝31に臨む13枚の半
導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガイド溝
31に臨む第1のウェハ容器16の支持溝18に収納さ
れる。なお、第2のウェハ容器17の溝間端面32に臨
んでいる12枚の半導体ウェハ12は、溝間端面32に
遮られ、転動せずに残る。
Subsequently, the tilting base of the second mounting portion 54 is tilted downward in the direction of the guide portion 52. By the movement of the tilting table, the 13 semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the second wafer container 17 mounted on the second mounting portion 54 roll in the guide groove 31 and move to the guide groove 31. It is housed in the support groove 18 of the first wafer container 16 which faces. The twelve semiconductor wafers 12 facing the inter-groove end face 32 of the second wafer container 17 are blocked by the inter-groove end face 32 and remain without rolling.

【0050】次に、第2の工程で、第1の取付部53の
可動台を移動させて第1のウェハ容器16を第2のポジ
ションY2に位置させ、また第2の取付部54の傾斜台
を元の位置に戻すと共に可動台を移動させ、第2のウェ
ハ容器17を第2のポジションZ2に位置させる。これ
により、前の第1の工程で半導体ウェハ12が収納され
なかった空状態となっている第1のウェハ容器16の他
端側12本の支持溝18がガイド部52のガイド溝31
に臨むよう位置し、また第2のウェハ容器17に残った
12枚の半導体ウェハ12が、ガイド部52のガイド溝
31に臨むようセットされる。
Next, in the second step, the movable base of the first mounting portion 53 is moved to position the first wafer container 16 at the second position Y2, and the second mounting portion 54 is inclined. The table is returned to its original position and the movable table is moved to position the second wafer container 17 at the second position Z2. As a result, the twelve support grooves 18 on the other end side of the first wafer container 16 in the empty state where the semiconductor wafer 12 is not accommodated in the previous first step are the guide grooves 31 of the guide portion 52.
The 12 semiconductor wafers 12 which are positioned so as to face the second wafer container 17 and are left in the second wafer container 17 are set so as to face the guide groove 31 of the guide portion 52.

【0051】続いて、再び第2の取付部54の傾斜台を
ガイド部52方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。こ
の傾斜台の動きによって、第2の取付部54に取り付け
た第2のウェハ容器17中のガイド溝31に臨む残り1
2枚の半導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、
ガイド溝31に臨む第1のウェハ容器16の残った支持
溝18に収納される。これによって、第2のウェハ容器
17に1/8インチピッチで収納されていた全25枚の
半導体ウェハ12が、これと異なるピッチである1/4
インチで収納する第1のウェハ容器16に、2回に分け
て簡単に移し替えられる。
Then, the tilting base of the second mounting portion 54 is tilted again toward the guide portion 52 so as to be tilted downward. Due to the movement of the tilt table, the remaining portion 1 facing the guide groove 31 in the second wafer container 17 attached to the second attachment portion 54
Two semiconductor wafers 12 roll in the guide groove 31,
The first wafer container 16 facing the guide groove 31 is housed in the remaining support groove 18 of the first wafer container 16. As a result, all the 25 semiconductor wafers 12 stored in the second wafer container 17 at a 1/8 inch pitch have a pitch of 1/4 which is different from this.
It can be easily transferred to the first wafer container 16 which is stored in inches in two batches.

【0052】この結果、本実施形態においても、第1の
実施形態と同様の効果を得ることができる。
As a result, also in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0053】次に第3の実施形態を図19及び図20に
より説明する。図19及び図20は第1のウェハ容器か
ら第2のウェハ容器への半導体ウェハの移し替え工程
を、各部位を模式的に示して説明するための図で、図1
9は第1の工程を説明するための図であり、図20は第
2の工程を説明するための図である。なお、主部である
ガイド部材の構成を第1の実施形態と本実施形態は異に
するため、移し替えの過程を中心に説明し、また第1の
実施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略す
る。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 19 and FIG. 20 are diagrams for explaining the step of transferring a semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container by schematically showing each part, and FIG.
9 is a diagram for explaining the first step, and FIG. 20 is a diagram for explaining the second step. In addition, since the configuration of the guide member as the main part is different from that of the first embodiment, this embodiment will be described focusing on the transfer process, and the same parts as those of the first embodiment will be designated by the same reference numerals. The description is omitted.

【0054】ウェハ移載装置61は、図示しない基台上
にガイド部62を設け、このガイド部62の片方側に第
1のウェハ容器16を取り付ける第1の取付部63、他
方側に第2のウェハ容器17を取り付ける第2の取付部
64を設けて構成されている。ガイド部62は下向きに
開口するガイド溝31と溝間端面32を有する上ガイド
部材65と、これと上下対称に上向きに開口するガイド
溝31と溝間端面32を有する図示しない下ガイド部材
を備えており、上ガイド部材65と下ガイド部材には、
それぞれ中間部分に1/4インチの幅を有するストッパ
66を形成するようにして、溝配列方向片方側に1/4
インチのピッチで12本、溝配列方向他方側に13本、
計25本のガイド溝31が刻設されている。
The wafer transfer device 61 is provided with a guide portion 62 on a base (not shown), one side of the guide portion 62 for attaching the first wafer container 16 to the first attaching portion 63, and the other side for the second attaching portion 63. The second mounting portion 64 for mounting the wafer container 17 is provided. The guide portion 62 includes an upper guide member 65 having a guide groove 31 opening downward and an inter-groove end surface 32, and a lower guide member not shown having the guide groove 31 and inter-groove end surface 32 opening upward symmetrically with the guide groove 31. The upper guide member 65 and the lower guide member,
A stopper 66 having a width of 1/4 inch is formed in each of the intermediate portions, and 1/4 is formed on one side in the groove arrangement direction.
12 at inch pitch, 13 on the other side in the groove arrangement direction,
A total of 25 guide grooves 31 are engraved.

【0055】また、第1の取付部63は、図示しないが
基台上にヒンジを第2の取付部64側に設けて回動し、
ガイド部62方向に下り傾斜となるよう起伏動可能とし
た傾斜台を備えている。さらに、同じく図示しないが傾
斜台上には、ガイドレールを設けてガイド部62のガイ
ド溝31の配列方向に往復動して、取り付けた第1のウ
ェハ容器16を第1のポジションS1、第2のポジショ
ンS2に位置させる可動台が設けられている。
Further, although not shown, the first mounting portion 63 is provided with a hinge on the base on the side of the second mounting portion 64 to rotate,
The tilting table is provided so that it can be raised and lowered so as to be tilted downward in the direction of the guide portion 62. Further, although not shown in the figure, a guide rail is provided on the inclined table and reciprocates in the arrangement direction of the guide grooves 31 of the guide portion 62 to move the attached first wafer container 16 to the first position S1 and the second position. There is provided a movable table which is positioned at the position S2.

【0056】また同様に、第2の取付部64は、図示し
ないが基台上にヒンジを第1の取付部63側に設けて回
動し、ガイド部62方向に下り傾斜となるよう起伏動可
能とした傾斜台を備えている。さらに、図示しないが傾
斜台上には、ガイドレールを設けてガイド部62のガイ
ド溝31の配列方向に往復動して、取り付けた第2のウ
ェハ容器17を第1のポジションT1、第2のポジショ
ンT2に位置させる可動台が設けられている。
Similarly, although not shown, the second mounting portion 64 is provided with a hinge on the base on the side of the first mounting portion 63 and is rotated, so that the second mounting portion 64 oscillates so as to incline downward toward the guide portion 62. Equipped with a tilting table that makes it possible. Further, although not shown, a guide rail is provided on the inclined table and reciprocates in the arrangement direction of the guide grooves 31 of the guide portion 62 to move the attached second wafer container 17 to the first position T1 and the second position. A movable table is provided to be positioned at the position T2.

【0057】そして、上記のように構成されたウェハ移
載装置61を用いた1/4インチピッチで収納する第1
のウェハ容器16と、1/8インチピッチで収納する第
2のウェハ容器17との間の半導体ウェハ12の移し替
えは、次の通りとなる。先ず全25枚の半導体ウェハ1
2を収納する第1のウェハ容器16から、空の第2のウ
ェハ容器17への移し替えについて説明する。
Then, using the wafer transfer device 61 configured as described above, the first 1-inch accommodating unit is used.
The transfer of the semiconductor wafer 12 between the wafer container 16 and the second wafer container 17 accommodated at the 1/8 inch pitch is as follows. First, all 25 semiconductor wafers 1
The transfer from the first wafer container 16 accommodating 2 to the empty second wafer container 17 will be described.

【0058】図19に示す第1の工程で、ウェハ移載装
置61のガイド部62の片方側に設けられた第1の取付
部63の可動台上に、25枚の半導体ウェハ12を支持
溝18に収納した第1のウェハ容器16を取り付け、ま
た他方側に設けられた第2の取付部64の可動台上に、
空の第2のウェハ容器17を取り付ける。そして、第1
のウェハ容器16を第1のポジションS1に位置させ、
第2のウェハ容器17を第1のポジションT1に位置さ
せる。
In the first step shown in FIG. 19, 25 semiconductor wafers 12 are supported on the movable table of the first mounting portion 63 provided on one side of the guide portion 62 of the wafer transfer device 61. The first wafer container 16 housed in 18 is attached, and on the movable table of the second attachment portion 64 provided on the other side,
An empty second wafer container 17 is attached. And the first
The wafer container 16 of is positioned at the first position S1,
The second wafer container 17 is located at the first position T1.

【0059】これによって、第1のウェハ容器16に収
納されている25枚の半導体ウェハ12のうち、中央の
支持溝18に収納された1枚がストッパ66に臨み、他
の24枚は両ガイド部材の溝配列方向片方側及び他方側
の対応するガイド溝31に臨むよう位置する。また空の
第2のウェハ容器17については、支持溝23が溝配列
方向片方側のガイド溝31に1つ置きに臨むよう位置す
る。
As a result, of the 25 semiconductor wafers 12 stored in the first wafer container 16, one stored in the central support groove 18 faces the stopper 66, and the other 24 are both guides. The members are located so as to face the corresponding guide grooves 31 on one side and the other side in the groove arrangement direction of the member. Further, with respect to the empty second wafer container 17, the support grooves 23 are positioned so as to face every other one of the guide grooves 31 on one side in the groove arrangement direction.

【0060】続いて、第1の取付部63の傾斜台をガイ
ド部62方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。この傾
斜台の動きによって、第1の取付部63に取り付けた第
1のウェハ容器16中の溝配列方向片方側12本のガイ
ド溝31に臨む12枚の半導体ウェハ12が、ガイド溝
31内を転動し、ガイド溝31に臨む第2のウェハ容器
17の支持溝23に、1つ置きに収納される。また第1
のウェハ容器16中の他の13枚は、上下ガイド部材の
溝間端面32によって遮られ、第1のウェハ容器16中
に残る。
Subsequently, the tilting base of the first mounting portion 63 is tilted downward in the direction of the guide portion 62. By the movement of the tilting table, the twelve semiconductor wafers 12 facing the twelve guide grooves 31 on one side in the groove arrangement direction in the first wafer container 16 attached to the first attaching portion 63 are moved inside the guide groove 31. Every other roll is stored in the support groove 23 of the second wafer container 17 facing the guide groove 31. Also the first
The other thirteen wafers in the wafer container 16 are blocked by the inter-groove end faces 32 of the upper and lower guide members, and remain in the first wafer container 16.

【0061】次に、図20に示す第2の工程で、第1の
取付部63の傾斜台を元の位置に戻すと共に可動台を移
動させ、第1のウェハ容器16を第2のポジションS2
に位置させ、また第2の取付部64の可動台を移動さ
せ、第2のウェハ容器17を第2のポジションT2に位
置させる。これにより、第1のウェハ容器16に残った
13枚の半導体ウェハ12が、ガイド部62の溝配列方
向他方側13本のガイド溝31に臨み、また前の第1の
工程で半導体ウェハ12が収納されなかった空状態の第
2のウェハ容器17の支持溝23が、同じくガイド部6
2の溝配列方向他方側13本のガイド溝31に臨むよう
セットされる。また、第2のウェハ容器17に収納され
た半導体ウェハ12はガイド部62のストッパ部分であ
る溝間端面32に臨んだ状態になる。
Next, in a second step shown in FIG. 20, the tilt table of the first mounting portion 63 is returned to its original position and the movable table is moved to move the first wafer container 16 to the second position S2.
And the movable table of the second mounting portion 64 is moved to position the second wafer container 17 at the second position T2. As a result, the 13 semiconductor wafers 12 remaining in the first wafer container 16 face the 13 guide grooves 31 on the other side of the guide portion 62 in the groove arrangement direction, and the semiconductor wafers 12 are formed in the previous first step. The support groove 23 of the second wafer container 17 in an empty state which has not been housed is likewise guided by the guide portion 6.
It is set so as to face the 13 guide grooves 31 on the other side of the groove arrangement direction 2. The semiconductor wafer 12 housed in the second wafer container 17 faces the inter-groove end surface 32 which is the stopper portion of the guide portion 62.

【0062】続いて、再び第1の取付部63の傾斜台を
ガイド部62方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。こ
の傾斜台の動きによって、第1の取付部63に取り付け
た第1のウェハ容器16中のガイド溝31に臨む13枚
の半導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガイ
ド溝31に臨む第2のウェハ容器17の残った支持溝2
3に収納される。これによって、第1のウェハ容器16
に1/4インチピッチで収納されていた全25枚の半導
体ウェハ12が、これと異なる1/2のピッチとなって
いる1/8インチで収納する第2のウェハ容器17に、
2回に分けて簡単に移し替えられる。
Next, the tilting base of the first mounting portion 63 is tilted again toward the guide portion 62 so as to be tilted downward. By the movement of the tilting table, the 13 semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the first wafer container 16 attached to the first attaching portion 63 roll in the guide groove 31 to be guided to the guide groove 31. The remaining support groove 2 of the facing second wafer container 17
It is stored in 3. Thereby, the first wafer container 16
All the 25 semiconductor wafers 12 stored in the 1/4 inch pitch in the second wafer container 17 in which the semiconductor wafers 12 are stored in the 1/8 inch, which has a different pitch of 1/2,
It can be easily transferred in two batches.

【0063】次に、逆に全25枚の半導体ウェハ12を
収納する第2のウェハ容器17から、空の第1のウェハ
容器16への移し替えについて説明する。なお、上記の
移し替えと半導体ウェハ12の移動方向が逆であること
に伴う違いのみで、略同様のものであるため、図示せず
に説明する。
On the contrary, transfer of the second wafer container 17 accommodating all 25 semiconductor wafers 12 to the empty first wafer container 16 will be described. Note that the transfer is substantially the same as the above-mentioned transfer and the difference in the moving direction of the semiconductor wafer 12 is opposite, and therefore the description will be made without being shown.

【0064】先ず、第1の工程で、ウェハ移載装置61
のガイド部62の片方側に設けられた第1の取付部63
の可動台上に、空の第1のウェハ容器16を取り付け、
また他方側に設けられた第2の取付部64の可動台上
に、25枚の半導体ウェハ12を支持溝18に収納した
第2のウェハ容器17を取り付ける。そして、第1のウ
ェハ容器16を第1のポジションS1に位置させ、第2
のウェハ容器17を第1のポジションT1に位置させ
る。
First, in the first step, the wafer transfer device 61
First mounting portion 63 provided on one side of the guide portion 62 of
Mount an empty first wafer container 16 on the movable table of
Further, the second wafer container 17 in which 25 semiconductor wafers 12 are housed in the support groove 18 is attached on the movable table of the second attachment portion 64 provided on the other side. Then, the first wafer container 16 is positioned at the first position S1, and the second wafer container 16
The wafer container 17 of is positioned at the first position T1.

【0065】これによって、空となっている第1のウェ
ハ容器16の片方側12本の支持溝18がガイド部62
の溝配列方向片方側12本のガイド溝31に臨むよう位
置し、第2のウェハ容器17については収納されている
25枚の半導体ウェハ12のうち、1つ置きの12枚が
溝配列方向片方側12本のガイド溝31に臨むよう位置
する。また、第2のウェハ容器17に収納された他の1
2枚の半導体ウェハ12はガイド部62のストッパ部分
である溝間端面32に臨んだ状態になる。
As a result, the twelve support grooves 18 on one side of the empty first wafer container 16 are connected to the guide portion 62.
Of the 25 semiconductor wafers 12 that are positioned so as to face the 12 guide grooves 31 on one side in the groove arrangement direction, and every other 12 of the 25 semiconductor wafers 12 stored in the second wafer container 17 are arranged on one side in the groove arrangement direction. It is located so as to face the twelve guide grooves 31 on the side. In addition, the other 1 stored in the second wafer container 17
The two semiconductor wafers 12 face the inter-groove end surface 32 which is the stopper portion of the guide portion 62.

【0066】続いて、第2の取付部64の傾斜台をガイ
ド部62方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。この傾
斜台の動きによって、第2の取付部64に取り付けた第
2のウェハ容器17中のガイド溝31に臨む13枚の半
導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガイド溝
31に臨む第1のウェハ容器16の支持溝18に収納さ
れる。なお、第2のウェハ容器17の溝間端面32に臨
んでいる12枚の半導体ウェハ12は、溝間端面32に
遮られ、転動せずに残る。
Then, the tilting base of the second mounting portion 64 is tilted downward in the direction of the guide portion 62. By the movement of the tilting table, the 13 semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the second wafer container 17 attached to the second attachment portion 64 roll in the guide groove 31 and are guided to the guide groove 31. It is housed in the support groove 18 of the first wafer container 16 which faces. The twelve semiconductor wafers 12 facing the inter-groove end face 32 of the second wafer container 17 are blocked by the inter-groove end face 32 and remain without rolling.

【0067】次に、第2の工程で、第1の取付部63の
可動台を移動させて第1のウェハ容器16を第2のポジ
ションS2に位置させ、また第2の取付部54の傾斜台
を元の位置に戻すと共に可動台を移動させ、第2のウェ
ハ容器17を第2のポジションT2に位置させる。これ
により、前の第1の工程で半導体ウェハ12が収納され
なかった空状態となっている第1のウェハ容器16の他
端側13本の支持溝18が、ガイド部62の溝配列方向
他方側13本のガイド溝31に臨むよう位置し、また第
2のウェハ容器17に残った12枚の半導体ウェハ12
が、ガイド部62のガイド溝31に臨むようセットされ
る。
Next, in the second step, the movable table of the first mounting portion 63 is moved to position the first wafer container 16 at the second position S2, and the second mounting portion 54 is tilted. The table is returned to its original position and the movable table is moved to position the second wafer container 17 at the second position T2. As a result, the thirteen support grooves 18 on the other end side of the empty first wafer container 16 in which the semiconductor wafer 12 is not stored in the previous first step are formed on the other side in the groove arrangement direction of the guide portion 62. The twelve semiconductor wafers 12 which are positioned so as to face the guide grooves 31 on the side 13 and remain in the second wafer container 17
Are set so as to face the guide groove 31 of the guide portion 62.

【0068】続いて、再び第2の取付部64の傾斜台を
ガイド部62方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。こ
の傾斜台の動きによって、第2の取付部64に取り付け
た第2のウェハ容器17中のガイド溝31に臨む残り1
3枚の半導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、
溝配列方向他方側13本のガイド溝31に臨む第1のウ
ェハ容器16の残った支持溝18に収納される。これに
よって、第2のウェハ容器17に1/8インチピッチで
収納されていた全25枚の半導体ウェハ12が、これと
異なるピッチである1/4インチで収納する第1のウェ
ハ容器16に、2回に分けて簡単に移し替えられる。
Then, the tilt base of the second mounting portion 64 is tilted again toward the guide portion 62 so as to be tilted downward. Due to the movement of the tilt table, the remaining portion 1 facing the guide groove 31 in the second wafer container 17 attached to the second attachment portion 64
The three semiconductor wafers 12 roll in the guide groove 31,
It is housed in the remaining support groove 18 of the first wafer container 16 which faces the 13 guide grooves 31 on the other side in the groove arrangement direction. As a result, all the 25 semiconductor wafers 12 stored in the second wafer container 17 at the 1/8 inch pitch are stored in the first wafer container 16 which is stored at the different pitch of 1/4 inch, It can be easily transferred in two batches.

【0069】この結果、本実施形態においても、第1の
実施形態と同様の効果を得ることができる。
As a result, also in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0070】なお、上記の各実施形態においては、25
枚の奇数枚の半導体ウェハ12を第1のウェハ容器1
6、第2のウェハ容器17に収納し、両ウェハ容器の間
で移し替える場合について説明したが、偶数枚の場合に
ついても同様の効果を得ることができる。
In each of the above embodiments, 25
The odd number of semiconductor wafers 12 is used as the first wafer container 1
6. The case where the wafers are housed in the second wafer container 17 and transferred between the two wafer containers has been described, but the same effect can be obtained in the case of an even number of wafers.

【0071】また、上記の各実施形態においては、第1
のウェハ容器16に対し、第2のウェハ容器17を1/
2のピッチで半導体ウェハ12を収納するよう構成した
が、1/m (但し、mは整数)のピッチで構成した場
合でも略同様の効果を得ることができ、半導体ウェハ1
2を1枚ずつ移し替えることなく、m回の操作で移し替
えることができる。すなわち、半導体ウェハ12を例え
ば1/4インチのピッチで12枚収納する第1のウェハ
容器と、その1/3のピッチである1/12インチのピ
ッチで同じく12枚の半導体ウェハ12を収納する第2
のウェハ容器との間で移し替える場合を取り上げて説明
する。
In each of the above embodiments, the first
1 of the second wafer container 17 to the wafer container 16 of
Although the semiconductor wafers 12 are housed at the pitch of 2, the substantially same effect can be obtained even when the semiconductor wafers 12 are arranged at the pitch of 1 / m (where m is an integer).
2 can be transferred by m operations without transferring them one by one. That is, for example, the first wafer container that stores 12 semiconductor wafers 12 at a pitch of 1/4 inch and the same 12 semiconductor wafers 12 at a pitch of 1/12 inch that is 1/3 of the pitch. Second
The case where the wafer is transferred to another wafer container will be described.

【0072】以下、第4の実施形態を図21乃至図23
により説明する。図21乃至図23は第1のウェハ容器
から第2のウェハ容器への半導体ウェハの移し替え工程
を、各部位を模式的に示して説明するための図で、図2
1は第1の工程を説明するための図であり、図22は第
2の工程を説明するための図であり、図23は第3の工
程を説明するための図である。なお、第1のウェハ容
器、第2のウェハ容器の半導体ウェハ12の収納枚数、
収納ピッチ等が上記第1の実施形態と異なり、またこれ
に伴い主部であるガイド部材の構成と異なるものの、構
成が第1の実施形態に類似するものであるため、上記第
1の実施形態と同一部位には同符号を付し、対応する部
位については同符号にxを付して説明を省略し、移し替
えの過程を中心に説明する。
The fourth embodiment will be described below with reference to FIGS.
Will be described. 21 to 23 are diagrams for explaining the step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container, schematically showing each part, and FIG.
1 is a diagram for explaining the first step, FIG. 22 is a diagram for explaining the second step, and FIG. 23 is a diagram for explaining the third step. The number of semiconductor wafers 12 stored in the first wafer container and the second wafer container,
Although the storage pitch and the like are different from those of the first embodiment and the configuration of the guide member, which is the main part, is different from that of the first embodiment, the configuration is similar to that of the first embodiment. Parts that are the same as those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and corresponding parts are given the same reference numerals and x is not described, and the transfer process will be mainly described.

【0073】ウェハ移載装置11xは、図示しない基台
上にガイド部13xを設け、このガイド部13xの片方
側に1/4インチのピッチで半導体ウェハ12を12枚
収納する第1のウェハ容器16xを取り付ける第1の取
付部14x、他方側に1/12インチのピッチで半導体
ウェハ12を12枚収納する第2のウェハ容器17xを
取り付ける第2の取付部15xを設けて構成されてい
る。ガイド部13xは下向きに開口するガイド溝31と
溝間端面32xを有する上ガイド部材30xと、上向き
に開口するガイド溝31と溝間端面32xを有する図示
しない下ガイド部材を備えており、上ガイド部材30x
と下ガイド部材には、それぞれ1/4インチのピッチで
12本のガイド溝31が刻設されている。
The wafer transfer device 11x is provided with a guide portion 13x on a base (not shown), and a first wafer container for accommodating twelve semiconductor wafers 12 at a pitch of 1/4 inch on one side of the guide portion 13x. A first mounting portion 14x for mounting 16x and a second mounting portion 15x for mounting a second wafer container 17x for storing 12 semiconductor wafers 12 at a pitch of 1/12 inch are provided on the other side. The guide portion 13x includes an upper guide member 30x having a guide groove 31 opening downward and an inter-groove end surface 32x, and a lower guide member not shown having the guide groove 31 opening upward and an inter-groove end surface 32x. Member 30x
Twelve guide grooves 31 are formed on the lower guide member and the lower guide member at a pitch of 1/4 inch.

【0074】また、第1の取付部14xは、図示しない
基台上に取付台を備え、第2の取付部15xは、図示し
ないが基台上にヒンジを第1の取付部14x側に設けて
回動し、ガイド部13x方向に下り傾斜となるよう起伏
動可能とした傾斜台を備えている。さらに、図示しない
が傾斜台上には、ガイドレールを設けてガイド部13x
のガイド溝31の配列方向に往復動して、取り付けた第
2のウェハ容器17xを第1のポジションW1、第2の
ポジションW2、第3のポジションW3に位置させる可
動台が設けられている。
The first mounting portion 14x is provided with a mounting base on a base (not shown), and the second mounting portion 15x is provided with a hinge (not shown) on the base on the side of the first mounting portion 14x. It is provided with an inclining base which is pivotable and can be raised and lowered so as to be inclined downward in the guide portion 13x direction. Further, although not shown, a guide rail is provided on the slanted base to guide the guide portion 13x.
There is provided a movable table that reciprocates in the arrangement direction of the guide grooves 31 to position the attached second wafer container 17x at the first position W1, the second position W2, and the third position W3.

【0075】そして、上記のように構成されたウェハ移
載装置11xを用いた1/4インチピッチで収納する第
1のウェハ容器16xと、1/12インチピッチで収納
する第2のウェハ容器17xとの間の半導体ウェハ12
の移し替えは、次の通りとなる。先ず全12枚の半導体
ウェハ12を収納する第1のウェハ容器16xから、空
の第2のウェハ容器17xへの移し替えについて説明す
る。
Then, using the wafer transfer device 11x configured as described above, a first wafer container 16x which is housed at a 1/4 inch pitch and a second wafer container 17x which is housed at a 1/12 inch pitch are used. Semiconductor wafer 12 between
The transfer is as follows. First, the transfer from the first wafer container 16x, which stores all 12 semiconductor wafers 12, to the empty second wafer container 17x will be described.

【0076】図21に示す第1の工程で、ウェハ移載装
置11xのガイド部13xの片方側に設けた第1の取付
部14xの取付台に、半導体ウェハ12を12枚収納し
た第1のウェハ容器16xを取り付け、他方側の第2の
取付部15xに設けた可動台に空の第2のウェハ容器1
7xを取り付ける。そして、可動台に取り付けた第2の
ウェハ容器17xを第1のポジションW1に位置させ
る。これにより、第1のウェハ容器16xの12枚の半
導体ウェハ12は上ガイド部材30x及び下ガイド部材
のガイド溝31に臨むよう位置し、空の第2のウェハ容
器17xについては支持溝が2つ置きにガイド溝31に
臨むよう位置する。
In the first step shown in FIG. 21, 12 semiconductor wafers 12 are stored on the mounting base of the first mounting portion 14x provided on one side of the guide portion 13x of the wafer transfer device 11x. The wafer container 16x is attached, and the empty second wafer container 1 is attached to the movable table provided on the second attachment portion 15x on the other side.
Attach 7x. Then, the second wafer container 17x attached to the movable table is positioned at the first position W1. As a result, the twelve semiconductor wafers 12 of the first wafer container 16x are positioned so as to face the guide grooves 31 of the upper guide member 30x and the lower guide member, and two support grooves are provided for the empty second wafer container 17x. It is positioned so as to face the guide groove 31.

【0077】続いて、図示しないウェハ送出し機構を作
動させ、第1のウェハ容器16xの半導体ウェハ12の
1/3である4枚を押し出し、ガイド溝31を介しガイ
ド溝31に臨む第2のウェハ容器17xの支持溝に、2
つ置きに収納する。
Subsequently, a wafer delivery mechanism (not shown) is operated to extrude four sheets, which is 1/3 of the semiconductor wafer 12 in the first wafer container 16x, and the second wafer facing the guide groove 31 via the guide groove 31. 2 in the support groove of the wafer container 17x
Store every other piece.

【0078】次に、図22に示す第2の工程で、第2の
ウェハ容器17xをガイド溝31の他方側第2のポジシ
ョンW2に移動し、半導体ウェハ12が収納されていな
い空状態の支持溝の一部が、ガイド溝31に臨むよう位
置させる。続いて、再びウェハ送出し機構を作動させ、
第1のウェハ容器16xの残り8枚のうち4枚の半導体
ウェハ12を押し出し、ガイド溝31を介して第2のウ
ェハ容器17xの残り8本の空状態の支持溝のうち、ガ
イド溝31に臨む4本に収納する。
Next, in a second step shown in FIG. 22, the second wafer container 17x is moved to the second position W2 on the other side of the guide groove 31, and is supported in an empty state in which the semiconductor wafer 12 is not housed. A part of the groove is positioned so as to face the guide groove 31. Then, the wafer delivery mechanism is activated again,
Four semiconductor wafers 12 out of the remaining eight wafers in the first wafer container 16x are extruded, and are inserted into the guide grooves 31 among the remaining eight empty support grooves in the second wafer container 17x through the guide grooves 31. It is stored in four facing each other.

【0079】次に、図23に示す第3の工程で、第2の
ウェハ容器17xをガイド溝31の他方側第3のポジシ
ョンW3に移動し、半導体ウェハ12が収納されていな
い空状態の4本の支持溝が、ガイド溝31に臨むよう位
置させる。続いて、再びウェハ送出し機構を作動させ、
第1のウェハ容器16xの残り4枚の半導体ウェハ12
を押し出し、ガイド溝31を介し第2のウェハ容器17
xの空状態の支持溝に収納し、全12枚の半導体ウェハ
12の第1のウェハ容器16xから、その1/3の収納
ピッチの第2のウェハ容器17xへの移し替えを、3回
の操作によって完了する。
Next, in the third step shown in FIG. 23, the second wafer container 17x is moved to the third position W3 on the other side of the guide groove 31, and the semiconductor wafer 12 is not stored in the empty position 4. The book support groove is positioned so as to face the guide groove 31. Then, the wafer delivery mechanism is activated again,
The remaining four semiconductor wafers 12 in the first wafer container 16x
Of the second wafer container 17 through the guide groove 31.
Stored in the empty support groove of x, the transfer of all 12 semiconductor wafers 12 from the first wafer container 16x to the second wafer container 17x with a storage pitch of 1/3 thereof is performed three times. Completed by operation.

【0080】また、逆に第2のウェハ容器17xから第
1のウェハ容器16xへの半導体ウェハ12の移し替え
は、図示しないが同様に次のようになる。
On the contrary, the transfer of the semiconductor wafer 12 from the second wafer container 17x to the first wafer container 16x is similarly performed as follows although not shown.

【0081】すなわち、第1の工程で、半導体ウェハ1
2を12枚収納した第2のウェハ容器17xを、ウェハ
移載装置11xのガイド部13xのガイド溝31の他方
側第1のポジションW1に位置させ、空の第1のウェハ
容器16xをガイド部13xのガイド溝31の片方側に
位置させる。これにより、第2のウェハ容器17xの1
2枚の半導体ウェハ12のうち2つ置きに4枚がガイド
溝31に臨み、残り8枚が溝間端面32xに臨むよう位
置し、空の第1のウェハ容器16xの支持溝(図示せ
ず)がガイド溝31に臨むよう位置させる。
That is, in the first step, the semiconductor wafer 1
The second wafer container 17x accommodating twelve 2 is positioned at the first position W1 on the other side of the guide groove 31 of the guide portion 13x of the wafer transfer device 11x, and the empty first wafer container 16x is moved to the guide portion. It is located on one side of the guide groove 31 of 13x. As a result, the second wafer container 17x
Four of every two semiconductor wafers 12 face the guide groove 31, and the remaining eight wafers are positioned so as to face the inter-groove end face 32x, and support grooves (not shown) for the empty first wafer container 16x are formed. ) Faces the guide groove 31.

【0082】続いて、第2の取付部15xの傾斜台をガ
イド部13x方向に下り傾斜となるよう傾斜させる。こ
の傾斜台の動きによって、第2の取付部15xに取り付
けた第2のウェハ容器17x中のガイド溝31に臨む4
枚の半導体ウェハ12が、ガイド溝31内を転動し、ガ
イド溝31に臨む第1のウェハ容器16xの支持溝に収
納される。なお、第2のウェハ容器17xの溝間端面3
2xに臨んでいる8枚の半導体ウェハ12は、溝間端面
32xに遮られ、転動せずに残る。
Then, the tilting base of the second mounting portion 15x is tilted downward in the guide portion 13x direction. By the movement of the tilting table, the guide groove 31 in the second wafer container 17x mounted on the second mounting portion 15x is exposed 4
A single semiconductor wafer 12 rolls in the guide groove 31 and is housed in the support groove of the first wafer container 16x facing the guide groove 31. The inter-groove end surface 3 of the second wafer container 17x
The eight semiconductor wafers 12 facing 2x are shielded by the inter-groove end faces 32x and remain without rolling.

【0083】次に、第2の工程で、第2の取付部15x
の傾斜台を元の位置に戻すと共に可動台を移動させ、第
2のウェハ容器17xを第2のポジションW2に位置さ
せる。これにより、第2のウェハ容器17xに残った8
枚の半導体ウェハ12のうち4枚が、ガイド部13xの
ガイド溝31に臨むようセットされ、さらに残り4枚が
溝間端面32xに臨むよう位置する。続いて、再び第2
の取付部15xの傾斜台をガイド部13x方向に下り傾
斜となるよう傾斜させる。この傾斜台の動きによって、
第2の取付部15xに取り付けた第2のウェハ容器17
x中のガイド溝31に臨む4枚の半導体ウェハ12が、
ガイド溝31内を転動し、ガイド溝31に臨む第1のウ
ェハ容器16xの支持溝に収納される。なお、第2のウ
ェハ容器17xの溝間端面32xに臨んでいる4枚の半
導体ウェハ12は、溝間端面32xに遮られ、そのまま
転動せずに残る。
Next, in the second step, the second mounting portion 15x
Then, the tilt table is returned to its original position and the movable table is moved to position the second wafer container 17x at the second position W2. As a result, the remaining 8 wafers remained in the second wafer container 17x.
Four of the semiconductor wafers 12 are set so as to face the guide groove 31 of the guide portion 13x, and the remaining four wafers are positioned so as to face the inter-groove end surface 32x. Then again the second
The tilting base of the mounting portion 15x is tilted downward in the guide portion 13x direction. By the movement of this tilt table,
The second wafer container 17 attached to the second attachment portion 15x
The four semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in x are
It rolls in the guide groove 31 and is housed in the support groove of the first wafer container 16 x facing the guide groove 31. The four semiconductor wafers 12 facing the inter-groove end surface 32x of the second wafer container 17x are blocked by the inter-groove end surface 32x and remain as they are without rolling.

【0084】次に、第3の工程で、第2の取付部15x
の傾斜台を元の位置に戻すと共に可動台を移動させ、第
2のウェハ容器17xを第3のポジションW3に位置さ
せる。これにより、第2のウェハ容器17xに残った4
枚の半導体ウェハ12が、ガイド部13xのガイド溝3
1に臨むようセットされる。続いて、再び第2の取付部
15xの傾斜台をガイド部13x方向に下り傾斜となる
よう傾斜させる。この傾斜台の動きによって、第2の取
付部15xに取り付けた第2のウェハ容器17x中のガ
イド溝31に臨む残り4枚の半導体ウェハ12が、ガイ
ド溝31内を転動し、ガイド溝31に臨む第1のウェハ
容器16xの支持溝に収納される。これにより、第2の
ウェハ容器17xに収納された全12枚の半導体ウェハ
12が、3回の操作によって第1のウェハ容器16xに
簡単に移し替えられる。
Next, in the third step, the second mounting portion 15x
Then, the tilt table is returned to the original position and the movable table is moved to position the second wafer container 17x at the third position W3. As a result, the remaining 4 in the second wafer container 17x
The semiconductor wafer 12 is the guide groove 3 of the guide portion 13x.
Set to face 1. Then, the tilting base of the second mounting portion 15x is again tilted so as to be tilted downward in the guide portion 13x direction. Due to the movement of the tilting table, the remaining four semiconductor wafers 12 facing the guide groove 31 in the second wafer container 17x attached to the second attaching portion 15x roll in the guide groove 31 and the guide groove 31. The first wafer container 16x facing the above. As a result, all twelve semiconductor wafers 12 housed in the second wafer container 17x can be easily transferred to the first wafer container 16x by three operations.

【0085】この結果、本実施形態においても、第1の
実施形態と同様の効果を得ることができる。
As a result, also in this embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0086】なお、上記の第4の実施形態においては、
12枚の偶数枚の半導体ウェハ12を収納する第1のウ
ェハ容器16xと第2のウェハ容器17xの間で移し替
える場合について説明したが、奇数枚の場合についても
同様の効果を得ることができる。
In the fourth embodiment described above,
The case of transferring between the first wafer container 16x and the second wafer container 17x that accommodates the 12 even numbered semiconductor wafers 12 has been described, but the same effect can be obtained even when the number is odd. .

【0087】[0087]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、保管時に大きなスペースを占有することがな
く、また大きさが一度に複数携行可能な大きさの携帯性
が良好なウェハケースと、標準的に使用されている運搬
用のウェハケースとの間でのウェハの移載が簡単に行な
えることになり、移載に際して半導体ウェハを疵付けた
りすることがない等の効果を奏する。
As is clear from the above description, according to the present invention, a wafer which does not occupy a large space during storage and which can be carried in a plurality at a time and has a good portability. Wafers can be easily transferred between the case and a standard wafer case for transportation, and it is possible to prevent the semiconductor wafer from being damaged during transfer. Play.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a vertical sectional view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態を示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態を示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態におけるガイド部材の
ガイド溝を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a guide groove of the guide member according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施形態に係る第1の容器の支
持溝を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a support groove of the first container according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施形態に係る第2のウェハケ
ースの縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of a second wafer case according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1の実施形態に係る第2の容器の上
面図である。
FIG. 7 is a top view of the second container according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第1の実施形態に係るウェハ支持部材
の支持溝の断面図である。
FIG. 8 is a sectional view of a supporting groove of the wafer supporting member according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1の実施形態における第1のウェハ
容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替えの
第1の工程を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a first step of transferring a semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第1の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第2の工程を説明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining a second step of transferring a semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第1の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第3の工程を説明するための図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining a third step of transferring semiconductor wafers from the first wafer container to the second wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第1の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第4の工程を説明するための図である。
FIG. 12 is a diagram for explaining a fourth step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第1の実施形態における第2のウェ
ハ容器から第1のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第1の工程を説明するための図である。
FIG. 13 is a diagram for explaining a first step of transferring a semiconductor wafer from the second wafer container to the first wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第1の実施形態における第2のウェ
ハ容器から第1のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第2の工程を説明するための図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining the second step of transferring the semiconductor wafer from the second wafer container to the first wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第1の実施形態における第2のウェ
ハ容器から第1のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第3の工程を説明するための図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining a third step of transferring the semiconductor wafer from the second wafer container to the first wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第1の実施形態における第2のウェ
ハ容器から第1のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第4の工程を説明するための図である。
FIG. 16 is a diagram for explaining a fourth step of transferring the semiconductor wafer from the second wafer container to the first wafer container in the first embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第2の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第1の工程を説明するための図である。
FIG. 17 is a diagram for explaining a first step of transferring a semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the second embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第2の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第2の工程を説明するための図である。
FIG. 18 is a diagram for explaining a second step of transferring a semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the second embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第3の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第1の工程を説明するための図である。
FIG. 19 is a view for explaining the first step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the third embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第3の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第2の工程を説明するための図である。
FIG. 20 is a view for explaining the second step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the third embodiment of the present invention.

【図21】本発明の第4の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第1の工程を説明するための図である。
FIG. 21 is a view for explaining the first step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the fourth embodiment of the present invention.

【図22】本発明の第4の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第2の工程を説明するための図である。
FIG. 22 is a view for explaining the second step of transferring the semiconductor wafer from the first wafer container to the second wafer container in the fourth embodiment of the present invention.

【図23】本発明の第4の実施形態における第1のウェ
ハ容器から第2のウェハ容器への半導体ウェハ移し替え
の第3の工程を説明するための図である。
FIG. 23 is a diagram for explaining a third step of transferring semiconductor wafers from the first wafer container to the second wafer container in the fourth embodiment of the present invention.

【図24】従来技術における運搬用ウェハケースの概略
の側面図である。
FIG. 24 is a schematic side view of a transportation wafer case according to the related art.

【図25】従来技術の運搬用ウェハケースにおけるキャ
リアの上面図である。
FIG. 25 is a top view of a carrier in a conventional transportation wafer case.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12…半導体ウェハ 13…ガイド部 14…第1の取付部 15…第2の取付部 16…第1のウェハ容器 17…第2のウェハ容器 31…ガイド溝 32…溝間端面 12 ... Semiconductor wafer 13 ... Guide section 14 ... First mounting portion 15 ... Second mounting portion 16 ... First wafer container 17 ... Second wafer container 31 ... Guide groove 32 ... End face between grooves

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のピッチでウェハを互いに主面を対
向させて収納可能な第1のウェハ容器と、前記第1のピ
ッチの1/m (mは整数)となる第2のピッチでウェ
ハを互いに主面を対向させて収納可能な第2のウェハ容
器との間で、一方のウェハ容器に収納するウェハを他方
のウェハ容器に移載する装置であって、移載する前記ウ
ェハのガイド部分とストッパ部分とが交互に、かつそれ
ぞれ第1のピッチで設けられたガイド部材と、このガイ
ド部材の片側所定位置に前記第1のウェハ容器を位置さ
せる第1の取付部と、前記ガイド部材の他側所定位置に
第2のウェハ容器を位置させる第2の取付部とを備え、
一方のウェハ容器に収納するウェハを、前記ガイド部材
のガイド部分を介して主面に平行な方向に移動させて他
方のウェハ容器に移載するよう構成したことを特徴とす
るウェハ移載装置。
1. A first wafer container capable of storing wafers at a first pitch with their principal surfaces facing each other, and a second pitch which is 1 / m (m is an integer) of the first pitch. A device for transferring a wafer to be accommodated in one wafer container to another wafer container between a second wafer container capable of accommodating wafers with their main surfaces facing each other, and to transfer the wafers to the other wafer container. Guide members in which guide portions and stopper portions are alternately provided at a first pitch, a first mounting portion for positioning the first wafer container at a predetermined position on one side of the guide member, and the guide A second mounting portion for positioning the second wafer container at a predetermined position on the other side of the member,
A wafer transfer device, characterized in that a wafer accommodated in one wafer container is moved in a direction parallel to a main surface via a guide portion of the guide member and transferred to the other wafer container.
【請求項2】 一方のウェハ容器からウェハを他方のウ
ェハ容器にm回に分けて移載する際、第2のウェハ容器
では(m−1)置きに前記ウェハが授受されることを特
徴とする請求項1記載のウェハ移載装置。
2. When transferring a wafer from one wafer container to the other wafer container in m times, the second wafer container transfers and receives the wafer every (m-1). The wafer transfer device according to claim 1.
【請求項3】 第1のピッチでウェハを互いに主面を対
向させて収納可能な第1のウェハ容器と、前記第1のピ
ッチの1/2となる第2のピッチでウェハを互いに主面
を対向させて収納可能な第2のウェハ容器との間で、一
方のウェハ容器に収納するウェハを他方のウェハ容器に
移載する装置であって、移載する前記ウェハのガイド部
分とストッパ部分とが交互に、かつそれぞれ第1のピッ
チで設けられたガイド部材と、このガイド部材の片側所
定位置に前記第1のウェハ容器を位置させる第1の取付
部と、前記ガイド部材の他側所定位置に第2のウェハ容
器を位置させる第2の取付部とを備え、一方のウェハ容
器に収納するウェハを、前記ガイド部材のガイド部分を
介して主面に平行な方向に移動させて他方のウェハ容器
に移載するよう構成したことを特徴とするウェハ移載装
置。
3. A first wafer container capable of accommodating wafers at a first pitch with their principal surfaces facing each other, and a wafer at a second pitch that is ½ of the first pitch. Is a device for transferring a wafer to be stored in one wafer container to the other wafer container between a second wafer container that can be accommodated by facing each other, and a guide portion and a stopper portion of the wafer to be transferred. Alternating with each other and at a first pitch, a first mounting portion for positioning the first wafer container at a predetermined position on one side of the guide member, and a predetermined side for the other side of the guide member. A second mounting portion that positions the second wafer container at a position, and moves the wafer to be stored in one of the wafer containers in a direction parallel to the main surface via the guide portion of the guide member. Configured to transfer to wafer container A wafer transfer device characterized in that
【請求項4】 一方のウェハ容器からウェハを他方のウ
ェハ容器に2回に分けて移載する際に、第2のウェハ容
器では1つ置きにウェハが授受されることを特徴とする
請求項3記載のウェハ移載装置。
4. When transferring a wafer from one wafer container to the other wafer container in two steps, every other wafer is transferred in the second wafer container. 3. The wafer transfer device described in 3.
【請求項5】 ウェハを2回に分けて移載する際、ウェ
ハ数が奇数(2n+1)の場合は、(n)、(n+1)
に分け、ウェハ数が偶数(2n)の場合は、(n)、
(n)に分けて送り出す送出し機構を備えていることを
特徴とする請求項3記載のウェハ移載装置。
5. When transferring wafers in two steps, if the number of wafers is an odd number (2n + 1), (n), (n + 1)
If the number of wafers is even (2n), (n),
4. The wafer transfer device according to claim 3, further comprising a delivery mechanism for delivering the wafer in a divided manner into (n).
【請求項6】 ガイド部材にガイド溝を刻設してガイド
部分を形成し、前記ガイド溝の刻設によって形成された
前記ガイド部材の溝間端面をストッパ部分としたことを
特徴とする請求項3記載のウェハ移載装置。
6. The guide member is formed with a guide groove to form a guide portion, and the inter-groove end surface of the guide member formed by the formation of the guide groove is used as a stopper portion. 3. The wafer transfer device described in 3.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8408859B2 (en) 2008-02-08 2013-04-02 Oki Semiconductor Co., Ltd. Wafer transfer device and wafer transfer method
JP2014222700A (en) * 2013-05-13 2014-11-27 三菱電機株式会社 Wafer replacement jig and wafer replacement method
FR3075771A1 (en) * 2017-12-21 2019-06-28 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives SYSTEM FOR TRANSFERRING MULTIPLE PLATES BETWEEN TWO BASKETS

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