JP2003315549A - 光学フィルム、偏光板及び表示装置 - Google Patents
光学フィルム、偏光板及び表示装置Info
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- JP2003315549A JP2003315549A JP2002123821A JP2002123821A JP2003315549A JP 2003315549 A JP2003315549 A JP 2003315549A JP 2002123821 A JP2002123821 A JP 2002123821A JP 2002123821 A JP2002123821 A JP 2002123821A JP 2003315549 A JP2003315549 A JP 2003315549A
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Abstract
障がなく、生産性に優れた光学フィルム、該光学フィル
ムを用いる偏光板及び表示装置の提供。 【解決手段】 下記一般式(1)で示される紫外線吸収
剤を含有することを特徴とする光学フィルム。 【化1】 〔式中、R0、R1は水素原子、炭素数1〜25のアルキ
ル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基又は無置換、
炭素数1〜4のアルキル基置換のフェニル基、置換、無
置換のオキシカルボニル基、置換、無置換のアミノカル
ボニル基を表す。R2〜R5、R19〜R23は水素原子、炭
素数2〜20の置換、無置換のアルキル基を表す。〕
Description
れる光学フィルム(以下、単にフィルムともいう)、偏
光板及び表示装置に関するものであり、更に詳しくは、
液晶表示装置等に用いられる偏光板用保護フィルム、位
相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプ
レイに用いられる反射防止フィルム等の機能フィルム又
は有機ELディスプレイ等で使用される機能フィルム等
に利用することができる光学フィルム、偏光板及び表示
装置に関するものである。
アゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノア
クリレート系化合物、サリチル酸系化合物等の紫外線吸
収剤を混入させて製造され、紫外線をカットし、液晶、
偏光板の劣化を防止していた。
画面化、高精細化、薄型軽量化の開発が進んでおり、そ
れに伴い、液晶用偏光板の保護フィルムもよりいっそう
の薄膜化、紫外線による劣化防止の要求が高まってい
る。
フィルムに求められる紫外線吸収性能に関する要求も変
わらないため、薄膜化するほどフィルム中の固形分に対
して、紫外線吸収剤の添加量は増加する傾向にある。
固体の紫外線吸収剤は紫外線吸収性能を充分に発揮させ
るために、添加量を増加させると、フィルム表面に紫外
線吸収剤が析出し、これが搬送ロールに付着すること
で、フィルムの押され故障の原因となり、生産性が落
ち、フィルムの収率を悪化させる要因となっていた。
72782に液状の紫外線吸収剤を含有させた光学フィ
ルムが提案されており、これにより、押され故障は解決
出来たが、該液状の紫外線吸収剤は紫外線吸収性能が不
十分で前記要求を全て満足するものでは無かった。
は、上記問題を解決すべく鋭意研究の結果、フィルムの
押され故障がなく、紫外線吸収性能も満足する紫外線吸
収剤を見いだし、本発明に至ったものである。
フィルムの押され故障がなく、生産性に優れた光学フィ
ルム、該光学フィルムを用いる偏光板及び表示装置を提
供することにある。
の構成により達成される。
収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
ら選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特
徴とする前記1に記載の光学フィルム。
モノカルボン酸誘導体から得られる脂肪族多価アルコー
ルエステルを含有することを特徴とする前記1又は2に
記載の光学フィルム。
り、且つ、見かけ比重が70〜500g/リットルであ
る二酸化珪素微粒子を含有することを特徴とする前記1
〜3の何れか1項に記載の光学フィルム。
徴とする前記1〜4の何れか1項に記載の光学フィル
ム。
フィルムを有することを特徴とする偏光板。
フィルムを用いることを特徴とする表示装置。
本発明の光学フィルムは、前記一般式(1)で示される
紫外線吸収剤を含有していることを特徴としている。
剤について説明する。一般式(1)において、R0、R1
は、水素原子、炭素数1〜25のアルキル基、炭素数7
〜9のフェニルアルキル基、無置換、炭素数1〜4のア
ルキル基置換のフェニル基、置換、無置換のオキシカル
ボニル基又は置換、無置換のアミノカルボニル基を表
す。
子、炭素数1〜25のアルキル基、無置換又は炭素数1
〜4のアルキル基置換のフェニル基等が挙げられる。
数2〜20の置換、無置換のアルキル基を表す。
収剤(以下、本発明の紫外線吸収剤ともいう)の具体例
を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
吸収剤より、後述する溶剤の溶解性の点において優れて
おり、薄膜化する際有利である。
酸化、熱や光による分解から有機物を安定化するのに適
している。
収剤の例示化合物の合成例を示す (合成例) 合成例1(例示化合物UV−1の合成) 青酸ナトリウム0.98g(20.0mmol)を水2
mlに溶かした水溶液を、2,4−ジ−t−ブチル−6
−(N,N−ジメチルアミノ−フェニル−メチル)−フ
ェノール3.39g(10.0mmol){WO−A−
99/67232中の例2aに従って合成}をスルホラ
ン10ml中に溶かした溶液に加える。反応液を120
℃で1時間反応させた後、室温まで冷却し、反応液をt
−ブチル−メチルエーテル80ml中に注ぐ。3回水で
洗浄後、有機層を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥させ、
減圧ロータリーエバポレーターで濃縮し、目的の2−ア
ミノ−3−フェニル−5,7−ジ−t−ブチル−ベンゾ
フラン(UV−1)を得た。収量3.20g(収率99
%)。融点は176〜178℃であった。
例1で合成したUV−1、7.00g(21.8mmo
l)を溶かした溶液に、トリエチルアミン3.3ml
(21.8mmol)を加える。反応液は窒素下、室温
で20分間撹拌する。その後、ジメチルアミノピリジン
266mg(21.8mmol)とジ−t−ブチルジカ
ーボネート9.52g(43.6mmol)を加える。
赤色の反応液を90分間、加熱還流する。室温に冷却
後、水150mlに注ぎ、ジエチルエーテルで抽出す
る。有機層を水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、エバポレーターで濃縮し目的の化合物UV−3を得
た。収量11.2g(収率99%)。薄黄粘稠液体であ
った。
V−3、10.8g(20.6mmol)を溶かした溶
液に、過塩素酸マグネシウム920mg(4.12mm
ol)を加える。反応液を50℃で5時間撹拌する。そ
の後、反応液に1mol/Lの燐酸水溶液150mlを
加えてクエンチし、水層をジエチルエーテルで2回抽出
する。有機層を1mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液
でと飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
エバポレーターで濃縮し、目的の化合物UV−4を得
た。収量7.63g(収率88%)。白色固体で、融点
は203〜205℃であった。
の紫外線吸収剤と併用することもでき、例えばオキシベ
ンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、
サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合
物、トリアジン系化合物、シアノアクリレート系化合
物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが挙げられ
る。
光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤が特に好ましい。
方法は直接添加してもよいが、生産性の優れるインライ
ン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶剤
(例えばメタノール、メチレンクロライドなど)に溶解
したものに、少量のセルロースエステルを添加、溶解し
た後、インラインのミキサーでドープ組成中に添加する
のがよい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤1
00質量部に対して1〜10質量部、より好ましくは、
3〜5質量部である。セルロースエステルを添加する
と、紫外線吸収剤含有液の粘度が高くなり、インライン
で多く添加することが容易になり、本発明の効果をより
奏する点で好ましい。
類、使用条件などにより一様ではないが、通常は光学フ
ィルム1m2当り0.2〜2.0gが好ましく、0.4
〜1.5gが更に好ましく、0.6〜1.0gが特に好
ましい。
できる紫外線吸収剤の波長は、紫外線による光学フィル
ム等の劣化防止の観点からは380nm以下であり、か
つ、良好な液晶表示性の観点からは400nm以上の可
視光吸収領域にないことが好ましい。本発明において
は、特にこれらの紫外線吸収剤の波長が波長380nm
での透過率が8%以下であることが好ましく、4%以下
がさらに好ましく、1%以下がもっとも好ましい。
調整するために例えば青色染料等を添加剤として用いて
もよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が
挙げられる。アンスラキノン系染料は、アンスラキノン
の1位〜8位迄の位置に任意の置換基を有することが出
来る。好ましい置換基としては、置換されても良いアニ
リノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、又は水
素原子が挙げられる。これらの染料のフィルムへの添加
量はフィルムの透明性を維持するため0.1〜1000
μg/m2、好ましくは10〜100μg/m2である。
調整するために蛍光増白剤を添加剤として使用すること
が好ましい。
は近紫外部に吸収をもち、青紫から青の蛍光を発する無
色ないし淡黄色の物質であるが、例えば、ジアミノスチ
ルベン誘導体、クマリン誘導体、アゾール系(トリアゾ
ール誘導体、オキサゾール誘導体、イミダゾール誘導
体、チアゾール誘導体等)、カルバゾール誘導体、ピリ
ジン誘導体、ナフタル酸誘導体及びイミダゾロン誘導体
等が挙げられ、ポリオレフィン樹脂層中に存在させるこ
とができるものであれば、親油性であっても親水性であ
っても良いが、該層中に添加しやすいことから親油性の
ものがより好ましい。
白剤は、通常市販されているものあるいはその他の物質
の中から耐光性を勘案し任意に選択することが出来る。
以下にそれらの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
としては、下記一般式(I)で表される化合物が好まし
い。
素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、R2お
よびR3はアルキル基を表す。Aは置換アリールまたは
エテニル基を表す 本発明の一般式(I)におけるR1、R2、R3、R4およ
びAについて以下更に詳しく説明する。
はアルコキシ基を表すが、詳しくは水素原子、炭素数1
〜8のアルキル基、または炭素数1〜8のアルコキシ基
を表す。
子、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−
オクチル、イソプロピル、イソブチル、2−エチルヘキ
シル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロ
ペンチルもしくはシクロヘキシル等のアルキル基、また
はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキ
シ、n−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキ
シ、2−エチルヘキシルオキシ、t−ブトキシもしくは
シクロヘキシルオキシ等の各アルコキシ基である。R1
およびR4は好ましくは水素原子またはアルキル基であ
り、特に好ましくは水素原子である。
くは炭素数1〜16のアルキル基であり、更に詳しく
は、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−
ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、n−ヘキサデ
カニル(セチル)、イソプロピル、イソブチル、2−エ
チルヘキシル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチ
ル、シクロペンチルもしくはシクロヘキシル等の各アル
キル基を表す。好ましくは、R2はメチル、イソプロピ
ル、t−ブチルまたはシクロヘキシル基であり、R3は
メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペン
チル、n−ヘキシル、n−オクチルまたは2−エチルヘ
キシル基である。特に好ましくは、R2はt−ブチルま
たはシクロヘキシル基であり、R3はメチル、n−ブチ
ル、n−オクチルまたは2−エチルヘキシル基である。
を表すが、詳しくは炭素数6〜40の置換アリール基ま
たは炭素数8〜40の置換エテニル基を表す。好ましく
は以下に示す置換アリールまたはエテニル基である。
びR4と同義の基である。R2’は前記R2と、R3’は前
記R3と同義の基である。mは1〜5の整数を表す。X
およびYは、アルキル、アリール、アルコキシ、アルキ
ルアミノ、アリールアミノ、アミノまたは水酸基を表
す。
ル、エチル、イソプロピル、t−ブチルまたはシクロヘ
キシル等の各アルキル基、フェニル、トリルまたはナフ
チル等の各アリール基、メトキシ、エトキシまたはイソ
プロポキシ等の各アルコキシ基、アミノ、アミノメチ
ル、エチルアミノ、オクチルアミノ、ジメチルアミノま
たはN−メチル−N−エチルアミノ等のアルキルアミノ
基、アニリノ、4−トリルアミノまたはN−メチルアニ
リノ等の各アリールアミノ基である。XおよびYは好ま
しくはアリール基、アルコキシ基またはアニリノ基であ
る。
表す。一般式(I)で表される化合物は、好ましくは下
記一般式(II)で表される化合物である。
記R2と同義の基であり、R6およびR8は前記R3と同義
の基である。nは1または2の整数を表す。これらの化
合物は特開平11−29556号公報記載の方法で合成
することが出来る。
はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限らず無機化合物蛍光体も用いる
ことができる。これらの蛍光増白剤は黄色味が少なく透
明度が高いことを示している。
ムで平面性のよいものであれば制限なく使用できる。透
明プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリ
エステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィ
ルム、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースア
セテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテー
トブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ
塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィル
ム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレン
フィルム、シンジオタクチックポリスチレン系フィル
ム、ノルボルネン樹脂フィルム、ポリカーボネートフィ
ルム、ポリアリレートフィルム、ポリメチルメタアクリ
レートフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリオレ
フィン系ノルボルネン樹脂フィルム、ポリメチルペンテ
ンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエー
テルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、
ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フ
ッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィル
ムを挙げることができるが、本発明においては特にセル
ローストリアセテートフィルムの他に、セルロースジア
セテート、セルロースアセテートブチレート、セルロー
スアセテートフタレート、セルロースプロピオネート、
セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセ
テートプロピオネートブチレート等のセルロースエステ
ルフィルムを用いることが特に好ましい。
ステルフィルムの製造方法について説明する。
られる製膜工程としては、下記に示す溶解工程、流延工
程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き取り工
程からなる。以下に、各々の工程について説明する。
エステル溶液のことをセルロースエステルドープ又は単
にドープという。溶解工程とは、セルロースエステルの
フレークに、後述の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜
中でフレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する
工程である。
質量%以上とすることが好ましく、特に18〜35質量
%のものが好ましく用いられる。
るとドープの粘度が高くなりすぎ、流延時にシャークス
キンなどが生じてフィルム平面性が劣化する場合がある
ので、35質量%以下であることが望ましい。
調整されることが好ましい。溶解には、常圧で行う方
法、好ましい有機溶媒(即ち、良溶媒)の沸点以下で行
う方法、上記の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、
冷却溶解法で行う方法、高圧で行う方法等種々の溶解方
法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰しな
い圧力をかけて溶解する方法としては、40.4〜12
0℃で0.11〜1.50MPaに加圧することで発泡
を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。
ステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルが好
ましく用いられる。
における低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸
を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロース
プロピオネート、セルロースブチレート等、特開平10
−45804号、同8−231761号、米国特許第
2,319,052号等に記載されているセルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート等の混合脂肪酸エステルなどがセルロースの低級脂
肪酸エステルの例として挙げられる。
5〜2.85のセルロースエステルが好ましく用いられ
る。
ト、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用
いられるが、本発明にセルロースエステルフィルムの場
合には、フィルム強度の観点から、特に重合度250〜
400のものが好ましく用いられる。
置換度が2.5〜3.0のセルロースエステルが好まし
く用いられるが、特にアシル基総置換度が2.55〜
2.85のセルロースエステルが好ましく用いられる。
アシル基総置換度が2.55以上になると本発明の一般
式(1)で示される化合物を含むフィルムの機械強度が
増加し、アシル基総置換度、2.85以下になるとセル
ロースエステルの溶解性が向上し、異物の発生が低減さ
れるため、より好ましい。
合、アセチル基置換度をX、プロピオニル基置換度をY
とすると 2.55≦X+Y≦2.85 1.5≦X≦2.4 の範囲にあるものが好ましく用いられる。
合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成さ
れたセルロースエステル、それ以外の原料から合成され
たセルロースエステルを単独或いは混合して用いること
ができる。
ては、セルロースエステルを溶解できる溶媒であれば特
に限定はされないが、又単独で溶解できない溶媒であっ
ても他の溶媒と混合することにより、溶解できるもので
あれば使用することができる。一般的には、良溶媒であ
るメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒か
らなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を4
〜30質量%含有するものが好ましく用いられる。
レンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミ
ル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソ
ラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エ
チル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,
3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−
ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパ
ノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プ
ロパノール、ニトロエタン等を挙げることができるが、
メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソ
ラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好
ましい有機溶媒(即ち、良溶媒)として挙げられる。酢
酸メチルを用いると、得られるフィルムのカールが少な
くなるため特に好ましい。
えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i
so−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノ
ール、tert−ブタノール等の炭素原子数1〜8のア
ルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸プロピル、モノクロルベンゼン、
ベンゼン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、メチ
ルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル
等を挙げることができ、これらの貧溶媒は単独もしくは
2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
て、セルロースエステルを溶解する際に冷却溶解法を用
いることも好ましい。冷却溶解方法としては、例えば、
特開平9−95538号、同9−95544号、同9−
95557号に記載の方法を使用することができる。
又、特開平11−21379号に記載の高圧溶解方法も
好ましく使用できる。
プ)を濾材で濾過した後、脱泡してポンプで次工程に送
ることが好ましく、又、その際、ドープ中に可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、染料、微粒子等が、適宜添加
されることが好ましい。
液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加
してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
することが好ましい。これら可塑剤は前記一般式(1)
で表される紫外線吸収剤と併用することが好ましい。
系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステ
ル系可塑剤などを用いることができるがこれらに限定さ
れるものではない。リン酸エステル系では、例えば、ト
リフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、
クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニル
ホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、ト
リオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が
あり、フタル酸エステル系としては、例えば、ジエチル
フタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジ
ルフタレート、ジベンジルフタレート、ブチルフタリル
ブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレー
ト、メチルフタリルエチルグリコレート等があり、クエ
ン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリエチルシ
トレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ
エチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレー
ト、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレ
ート等を好ましく用いることができる。
また必要に応じて2種類以上を併用して用いてもよい。
又、可塑剤の使用量は、セルロースエステルに対して1
〜30質量%含有させることができ、好ましくは2〜2
5質量%、特に好ましくは10〜20質量%である。
塑剤の他にも可塑剤と同様の作用を示す添加剤が含有さ
せることができる。これらの添加剤としては、例えば、
セルロースエステルフィルムを可塑化することのできる
低分子有機化合物であれば、可塑剤と同様の効果を得る
ことができる。これらの成分は可塑剤に比べ直接フィル
ムを可塑化する目的で添加されるものではないが、量に
応じて上記可塑剤と同様の作用を示す。
多価アルコールエステルについて説明する。
上の脂肪族多価アルコールと1種以上のモノカルボン酸
とのエステルである。
れる脂肪族多価アルコールは、2価以上のアルコールで
次の一般式(A)で表される。
整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール
性水酸基を表す。
基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、
テトラメチレン基等)、アルケニレン基(例えばエテニ
レン基等)、アルキニレン基(例えばエチニレン基
等)、シクロアルキレン基(例えば1,4−シクロヘキ
サンジイル基等)、アルカントリイル基(例えば1,
2,3−プロパントリイル基等)が挙げられる。n価の
脂肪族有機基は置換基(例えばヒドロキシ基、アルキル
基、ハロゲン原子等)を有するものを含む。
ルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビト
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオー
ル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコー
ル、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、
1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオー
ル、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタ
ン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトー
ル、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、
キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビト
ール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好まし
い。
られる多価アルコールエステルを合成するモノカルボン
酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン
酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を
用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モ
ノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点
で好ましい。
下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれ
に限定されるものではない。
〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用い
ることができる。炭素数は1〜20であることが更に好
ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含
有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ま
しく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いること
も好ましい。
酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナ
ント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−
エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン
酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パ
ルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカ
ン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチ
ン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラク
セル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、
ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等
の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に
置換基を有しても良い。
は、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボ
ン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導
体を挙げることができる。
は、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に
アルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナ
フタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼ
ン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそ
れらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好
ましい。
しく用いられる多価アルコールエステルの分子量は特に
制限はないが、300〜1500であることが好まし
く、350〜750であることが更に好ましい。保留性
の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエス
テルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価
アルコール中のOH基は全てエステル化してもよいし、
一部をOH基のままで残してもよい。好ましくは、分子
内に芳香環もしくはシクロアルキル環を3つ以上有する
ことが好ましい。
ルエステルの例を以下に示す。
ロースエステルに対して3〜30質量%が好ましく、5
〜25質量%が更に好ましく、特に好ましくは5〜20
質量%である。
剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用
される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸
化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコ
ニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、ク
レイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸
カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム
及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子
は、ケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、
請求項4の発明は、1次平均粒子径が1〜20nmであ
り、かつ、見かけ比重が70〜500g/リットルであ
る二酸化珪素微粒子を含有させることを特徴としてい
る。
素微粒子を用い、本発明の紫外線吸収剤及び二酸化珪素
微粒子を含むセルロースエステル溶液を用いて流延製膜
することによって、セルロースエステル溶液中の微粒子
の凝集に起因した異物故障が著しく低減されるため特に
好ましい。
〜16nmがより好ましく、5〜12nmがさらに好ま
しい。1次粒子平均径が小さい方がヘイズが低く好まし
い。また、見かけ比重は90〜200g/リットルがよ
り好ましく、100〜200g/リットルが更に好まし
い。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ること
が可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好まし
い。
〜1.0gが好ましく、0.03〜0.3gが更に好ま
しく、0.08〜0.16gが特に好ましい。
アエロジル(株)製のAEROSIL R972、R9
72V、R974、R812、200、200V、30
0、R202、OX50、TT600などが挙げられ、
これらの中でも、AEROSIL200V、R972V
が1次平均粒子径が20nm以下であり、かつ、見かけ
比重が70g/リットル以上である二酸化珪素微粒子で
あり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数
をさげる効果が大きいため特に好ましい。
は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日
本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使
用することができ、ポリマー微粒子の具体例としては、
シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げるこ
とができる。
三次元の網状構造を有するシリコーン樹脂が好ましく、
例えば、トスパール103、同105、同108、同1
20、同145、同3120及び同240(以上東芝シ
リコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用す
ることができる。
の分散液を調製する方法としては、例えば、以下に示す
3つの方法が挙げられる。
た後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製した
後、これをドープ液に加えて撹拌する方法。
た後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製し、こ
れとは別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹
拌溶解する。これに上記微粒子分散液を加えて撹拌して
微粒子添加液を調製した後、これをインラインミキサー
でドープ液と十分混合する方法。
ステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分
散機で分散を行い、微粒子添加液を調製した後、これを
インラインミキサーでドープ液と十分混合する方法。
優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点で優れているが、中でも、調製方法Bは二酸化珪素微
粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにく
い等、両方に優れている点で好ましい調製方法である。
と混合して分散する際、二酸化珪素の濃度は5〜30質
量%であることが好ましく、10〜25質量%が更に好
ましく、15〜20質量%が最も好ましい。分散濃度は
高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があ
り、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
類として、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコ
ール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、
ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外
の溶媒として、特に限定されないが、セルロースエステ
ルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
下に説明する流延工程を経てセルロースエステルフィル
ムを作製することができる。
を、加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、
流延位置において、無限に移送する無端の金属ベルト或
いは回転する金属ドラムの流延用支持体(以下、単に支
持体ともいう)上に、加圧ダイからドープを流延する工
程である。流延用支持体の表面は鏡面となっている。
流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクタ
ーブレード法、或いは逆回転するロールで膜厚を調節す
るリバースロールコーターによる方法等があるが、口金
部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加
圧ダイが好ましい。加圧ダイには、例えば、コートハン
ガーダイやTダイ等があるが、何れも好ましく用いられ
る。
支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して塗布して
もよい。或いは、ダイの内部をスリットで分割し、組成
の異なる複数のドープ液を同時に流延(共流延とも言
う)して、積層構造のセルロースエステルフィルムを得
ることもできる。
ドラム等の支持体上に流延し、製膜するが、本発明にお
いては、特に、ベルトを用いた溶液流延製膜法が、特に
有効である。これは、後述のように支持体上での乾燥条
件を細かく調整することが容易になる。
を流延し、形成されたドープ膜(以下、ウェブともい
う)を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程
である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ表面側から風を
吹かせる方法及び/又は支持体の裏面から液体により伝
熱させる方法、輻射熱により表裏面から伝熱する方法等
があるが、裏面液体伝熱の方法が、乾燥効率の点で好ま
しい。また、それらを組み合わせる方法も好ましい。流
延後、支持体上のウェブは、40〜100℃の雰囲気下
で、支持体上で乾燥させることが好ましい。40〜10
0℃の雰囲気に維持するには、この温度の温風をウェブ
上面に当てるか、あるいは赤外線等の手段により加熱す
ることが好ましい。
90秒以内でウェブを支持体から剥離することが好まし
い。30秒未満で剥離すると、フィルムの面品質が低下
するだけでなく、透湿性の点でも好ましくない。逆に、
90秒を越えて乾燥させると、剥離性の悪化などにより
面品質の低下や、フィルムに強いカールが発生するため
好ましくない。
ェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥
離されたウェブは次工程に送られる。剥離する時点での
ウェブの残留溶媒量(下記式)があまり大き過ぎると、
剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてか
ら剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
しくは10〜40℃であり、更に好ましくは11〜30
℃である。剥離位置におけるウェブの残留溶媒量は25
〜120質量%が好ましく、更に好ましくは40〜10
0質量%である。
る。 残留溶媒量=(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱
処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100% 尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理は、115℃で
1時間の加熱処理を行うことを表す。
るには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、ウ
ェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流
延用支持体上の剥離位置における温度を上記の温度範囲
に設定することが好ましい。支持体温度を制御するに
は、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例え
ば、液体による裏面伝熱方法が好ましい。
度のコントロールが難しく、好ましい方法とはいえない
が、ベルト(支持体)マシンにおいて、移送するベルト
が下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベルト温
度を調節することができる。
によって、部分的に支持体温度を変えることができ、流
延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度
とすることができる。
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
できる)として、残留溶媒が多くとも剥離できるゲル流
延法(ゲルキャスティング)がある。ゲル流延法には、
ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加え
て、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低
めてゲル化する方法等がある。又、ドープ中に金属塩を
加える方法もある。
よって、剥離を早め製膜速度を上げることもできる。
合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なった
り、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速
度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。
支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常19
6〜245N/mで剥離が行われるが、剥離の際にシワ
が入り易い場合、190N/m以下で剥離することが好
ましく、更には、剥離できる最低張力〜167N/m、
次いで、最低張力〜137N/mで剥離することが好ま
しいが、特に好ましくは、最低張力〜100N/mで剥
離することである。剥離張力が低いほど、面内リターデ
ーションR0が低く保てるため好ましい。面内リターデ
ーションR0は20nm未満であることが好ましく、更
には、10nm未満、次いで、5nm未満であることが
好ましいが、最も好ましくは0〜1nmである。
0は、例えば、自動複屈折率計KOBRA−21ADH
(王子計測機器(株)製)を用いて、590nmの波長
において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率n
x、ny、nzから算出することができる。又、膜厚方
向のリターデーション値Rtは0〜300nmのものが
得られ、更に好ましくは0〜150nm、より好ましく
は0〜70nmのものが用途に応じて好ましく得られ
る。R0及びRtは、下式により求めることができる。
とのなす角度θ(ラジアン)と面内方向のレターデーシ
ョンR0が下記の関係にあり、偏光板用保護フィルム等
の光学フィルムとして好ましく用いられる。
率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzは
フィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜
厚(nm)である。θはフィルム面内の遅相軸方向と製
膜方向(フィルムの直尺方向)とのなす角度(°ラジア
ン)、λは上記nx、ny、nz、θを求める三次元屈
折率測定の際の光の波長590nm、πは円周率であ
る。
に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、あ
るいはクリップ又はピンでウェブの両端を保持して搬送
するテンター装置を用いて、巾保持しながらウェブを乾
燥する工程である。乾燥工程における搬送張力も、可能
な範囲で低めに維持することがR0が低く維持できるた
め好ましく、190N/m以下であることが好ましく、
更に好ましくは170N/m以下であり、更に好ましく
は140N/m以下であり、100〜130N/mであ
ることが特に好ましい。特に、フィルム中の残留溶媒量
が少なくとも5質量%以下となるまで上記搬送張力以下
に維持することが効果的である。
せるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェー
ブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は、
でき上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による
乾燥は、残留溶媒が8質量%以下から行うことが好まし
い。全体を通し、乾燥温度は、概ね40〜250℃で行
われる。特に40〜160℃で乾燥させることが好まし
い。
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。
ることが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする
上で好ましい。この観点から、例えば、特開昭62−4
6625号に示されているような、乾燥全工程或いは一
部の工程を巾方向にクリップ又はピンでウェブの巾両端
を巾保持しつつ乾燥させる方法(テンター方式と呼ばれ
る)、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを
用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
100%であることが好ましく、偏光板保護フィルムと
して用いる場合は、5%〜20%が更に好ましく、8%
〜15%が最も好ましく、位相差フィルムとして用いる
場合は、10%〜40%が更に好ましく、20%〜30
%が最も好ましい。延伸倍率によってR0をコントロー
ルすることが可能で、延伸倍率が高い方ができ上がった
フィルムの平面性に優れるため好ましい。
は、テンター開始時に20〜100質量%であるのが好
ましく、かつウェブの残留溶媒量が10質量%以下にな
るまでテンターをかけながら乾燥を行うことが好まし
く、更に好ましくは5質量%以下である。
150℃が好ましく、50〜120℃が更に好ましく、
70〜100℃が最も好ましい。乾燥温度の低い方が紫
外線吸収剤、可塑剤などの蒸散が少なく、工程汚染に優
れ、乾燥温度の高い方がフィルムの平面性に優れる。一
般式(1)で表される紫外線吸収剤は、乾燥温度が高い
場合でも、蒸散しにくいため、テンター乾燥温度が高
く、延伸倍率の高い製造条件のときに、その効果が顕著
発揮される。
体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を
0.5質量%以下にすることが好ましく、更に好ましく
は0.1質量%以下であり、更に好ましくは0〜0.0
1質量%以下とすることである。
式か、上記のようなピンテンター方式でフィルムを搬送
しながら乾燥する方式が採られる。フィルムを乾燥させ
る手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱
ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行う
のが好ましい。乾燥温度は40〜150℃の範囲で3〜
5段階の温度に分けて、段々高くしていくことが好まし
く、80〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良
くするため更に好ましい。
での工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気で行ってもよい。ただし、乾燥雰囲気中の蒸
発溶媒の爆発限界の危険性は、常に考慮されなければな
らないことは勿論のことである。
2質量%以下となってから、乾燥されたセルロースエス
テルフィルムとして巻き取る工程であり、残留溶媒量を
0.4質量%以下にすることにより、寸法安定性の良好
なフィルムを得ることができる。
のを用いればよく、例えば、定トルク法、定テンション
法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラム
テンションコントロール法等があり、それらを適宜選択
して使いわければよい。
に、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリッ
ト間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等を
コントロールするのがよい。又、膜厚を均一にする手段
として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィ
ードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調
節するのが好ましい。
によって異なるが、仕上がりフィルムとして、通常5〜
500μmの範囲にあり、更に10〜250μmの範囲
が好ましく、特に液晶画像表示装置用フィルムとしては
10〜120μmの範囲が用いられる。請求項5の発明
は、光学フィルムの膜厚が20〜65μmの薄いフィル
ムであることが特徴であり、この膜厚の範囲とすること
により、透湿度とともに寸法安定にも優れる。
が20〜65μmであることを特徴としている。この膜
厚の範囲とすることにより、透湿度とともに寸法安定に
も優れ好ましい。
方法で測定された値で定義する。透湿度は20〜250
g/m2・24時間であることが好ましいが、特に20
〜200g/m2・24時間であることが好ましい。透
湿度が、250g/m2・24時間を超えた場合では偏
光板の耐久性が著しく低下し、逆に20g/m2・24
時間未満では、偏光板製造時の接着剤に使われている水
等の溶媒が乾燥しにくくなり、乾燥時間が長くなるため
好ましくない。より好ましくは25〜200g/m2・
24時間である。
90%RHにおける質量変化を少なくすることで、寸法
安定性を更に改善することができる。
%RHで48時間加熱処理した前後での質量変化率が、
±2%以内とすることがより好ましく、これによって、
例えば、セルロースエステルフィルムの場合、透湿度が
改善された薄膜フィルムでありながら、寸法変化率も優
れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
RH雰囲気下で48時間加熱処理した際の寸法変化率
は、MD方向(フィルムの製膜方向)、TD方向(フィ
ルムの幅手方向)共に±0.5%以内であることが好ま
しく、更に±0.3%以内であることが好ましく、更に
±0.1%以内であることが好ましく、更に±0.05
%以内であることが好ましい。本発明でいう寸法変化率
とは、温度や湿度の条件が過酷な状況でのフィルム縦方
向及び横方向の寸法変化を表す特性値である。具体的に
は加熱条件、加湿条件、熱湿条件にフィルムを置いて強
制劣化としての、縦、横の寸法変化を測定する。例え
ば、測定しようとするフィルム試料について、幅手方向
150mm×長手方向120mmサイズに断裁し、該フ
ィルム表面に、幅手方向及び長手方向それぞれに100
mm間隔で2カ所、カミソリ等の鋭利な刃物で十文字型
の印を付ける。該フィルムを23℃、55%RHの環境
下で24時間以上調湿し、工場顕微鏡で処理前の幅手方
向及び長手方向のそれぞれの印間距離L1を測定する。
次に、該試料を電気恒温槽中で、高温高湿処理(条件;
80℃、90%RHの環境下で48時間放置をする)す
る。再び、該試料を23℃、55%RHの環境下で24
時間調湿し、工場顕微鏡で処理後の幅手方向及び長手方
向のそれぞれの印間距離L2を測定する。この処理前後
の変化率を次式によって求める。
を表す。
法変化率は、MD方向、TD方向共に±0.5%以内で
あることが好ましく、更に±0.3%以内であることが
好ましく、更に±0.1%以内であることが好ましく、
更に±0.05%以内であることが好ましい。
向、TD方向共に90〜170N/mm2であることが
好ましく、特に120〜160N/mm2であることが
好ましい。
0.3〜4%がより好ましく、0.5〜2%であること
が更に好ましい。
以上であることが望ましく、更に好ましくは92%以上
であり、更に好ましくは93%以上である。又、ヘイズ
は0.5%以下であることが好ましく、特に0.1%以
下であることが好ましく、0%であることが更に好まし
い。
ィルムのカール値は絶対値が小さい方が好ましく、変形
方向は、+方向でも、−方向でもよい。該カール値の絶
対値は30以下であることが好ましく、更に好ましくは
20以下であり、10以下であることが特に好ましい。
尚、カール値は、曲率半径(1/m)で表される。
膜法による製造方法について、図1を用いて更に詳細に
説明する。
い一例を示す模式図である。図1(a)は流延後、ロー
ル搬送・乾燥工程で乾燥する場合の模式図である。図1
(b)は流延後、ロール搬送・乾燥工程で乾燥し、その
後テンター搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模式図で
ある。図1(c)は流延後、テンター搬送・乾燥工程で
乾燥し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合
の模式図である。図1(d)は流延後、ロール搬送・乾
燥工程で乾燥し、その後テンター搬送・乾燥工程で乾燥
し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模
式図である。
工程及びロール搬送・乾燥工程を含む工程とは、支持体
から剥離されたフィルムを乾燥して巻き取る迄の工程の
どこかに、フィルムの乾燥伸縮率を調整するテンター搬
送・乾燥工程及びロール搬送・乾燥工程を有する工程を
いう。テンター搬送・乾燥工程とはテンター搬送装置で
搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整する
工程を言い、ロール搬送・乾燥工程とはロール搬送装置
で搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整す
る工程をいう。
支持体を示す。支持体としては鏡面帯状金属が使用され
ている。2はセルロースエステル樹脂を溶媒に溶解した
ドープを、支持体1に流延するダイスを示す。3は支持
体1に流延されたドープが固化したフィルムを剥離する
剥離点を示し、4は剥離されたフィルムを示す。5はテ
ンター搬送・乾燥工程を示し、51は排気口を示し、5
2は乾燥風取り入れ口を示す。尚、排気口51と乾燥風
取り入れ口52は逆であっても良い。6は張力カット手
段を示す。張力カット手段としてはニップロール、サク
ションロール等が挙げられる。尚、張力カット手段は各
工程間に設けてもかまわない。
乾燥箱を示し、82は排気口を示し、83は乾燥風取り
入れ口を示す。尚、排気口82と乾燥風取り入れ口83
は逆であっても良い。84は上部搬送用ロールを示し、
85は下部搬送用ロールを示す。該搬送用ロール84、
85は上下で一組で、複数組から構成されている。7は
巻き取られたロール状のフィルムを示す。
ター搬送・乾燥工程5の前のロール搬送・乾燥工程を第
1ロール搬送・乾燥工程と呼び、テンター搬送・乾燥工
程5の後のロール搬送・乾燥工程を第2ロール搬送・乾
燥工程と呼ぶ。尚、図1(a)〜(d)では示されてい
ない冷却工程を、巻き取る前に必要に応じて設けても良
い。
延製膜法による形態で、例えばセルロースエステルフィ
ルムを製造しても構わない。
寸法安定性等から液晶表示用部材、詳しくは偏光板用保
護フィルムに用いられるのが好ましい。特に、透湿度と
寸法安定性に対してともに厳しい要求のある偏光板用保
護フィルムにおいては、セルロースエステルフィルムが
好ましく用いられる。
ることができる。例えば、光学フィルム(例えば、セル
ロースエステルフィルム)をアルカリ鹸化処理し、ポリ
ビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬、延伸
して作製した偏光膜の両面に、完全鹸化型ポリビニルア
ルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。
を良くし、接着性を向上させるために、セルロースエス
テルフィルムを高温の強アルカリ液中に漬ける処理のこ
とをいう。
層、防眩層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、導電
層、光学異方層、液晶層、配向層、粘着層、接着層、下
引き層等の各種機能層を付与することができる。これら
の機能層は塗布或いは蒸着、スパッタ、プラズマCV
D、大気圧プラズマ処理等の方法で設けることができ
る。
ルの片面又は両面に設けられ、これを用いて、本発明の
表示装置が得られる。
ム或いは光学補償フィルムの基材としても使用できる。
するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるもので
はない。
ンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は93pp
mであった。
に溶解し、濾過した。
ながら加えて、さらに30分間撹拌した後、アドバンテ
ック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジ
フィルターTCW−PPS−20Nで濾過し、添加液A
を調製した。
に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を
使用して濾過し、ドープ液を調製した。
ンメットNFでドープ液Aを濾過した。インライン添加
液ライン中で、日本精線(株)製のファインメットNF
でインライン添加液Aを濾過した。濾過したドープ液A
100質量部に対して濾過したインライン添加液Aを
2.2質量部加えて、インラインミキサー(東レ社製、
静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分
混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度33℃、
1500mm幅でステンレスバンド支持体に均一に流延
した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が80%
になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力127N/mでス
テンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロ
ーストリアセテートフィルムを1550mm幅にスリッ
トし、その後、テンターで幅方向に10%延伸しなが
ら、70℃の乾燥温度で、乾燥させ、その後、120
℃、135℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させな
がら乾燥を終了させ、1330mm幅にスリットし、フ
ィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工
を施して、セルローストリアセテートフィルム試料1〜
11を得た。このときのセルローストリアセテートフィ
ルムの膜厚は40μm、巻数は2000mであった。
ついて下記に示す各評価を行った。
測定)Spectrophotometer U−32
00(日立製作所製)を用い、フィルムの分光吸収スペ
クトルを測定し、500nmと380nmに於ける透過
率を求め、以下のようにランク分けを行った。500n
mの透過率は高い程優れており、380nmの透過率は
低い程優れている。
200(日立製作所製)を用い、JIS−K−7103
に定められるフィルムのYI(YellownessI
ndex:黄色みの指数)を下記式により求める。
た光源色の三刺激値。
ルフィルムを作製した後、ステンレスバンド支持体から
剥離したフィルムが接する一本目のロールの汚れ具合を
目視で観察し、以下のランクに分けて評価した。
い B:ロールが部分的に汚れているのがかすかにわかる C:ロールが全面的に汚れているのがはっきりわかる A〜Bは生産が続けられるレベル。Cは生産を中断して
ロールを清掃するレベル。
0mセルロースエステルフィルムを作製した所で、フィ
ルム試料をサンプリングし、得られたフィルム1m2上
に存在する30μm以上の押され故障の数を計測した。
℃、90%RHの高温高湿雰囲気下に1000時間放置
後、フィルムの表面を観察することによりブリードアウ
トの有無を目視評価した。
ない B:フィルム表面にブリードアウトがかすかに分かる C:フィルム表面にブリードアウトがハッキリ分かる (耐光性)下記に記載のアルカリ鹸化処理を行った後、
下記に記載の方法で作製した偏光板について、強制劣化
前の平行透過率と直行透過率を測定し、下記式にしたが
って偏光度を算出した。その後各々の偏光板をサンシャ
インウェザーメーター500時間、UVカットフィルタ
ー無しでの条件で強制劣化後、再度平行透過率と直行透
過率を測定し、下記式に従って偏光度を算出した。偏光
度変化量を下記式により求め、耐光性の評価とした。
90)1/2)×100 偏光度P500=〔(H0′−H90′)/(H0′+
H90′)〕1/2×100 偏光度変化量:P0−P500 偏光度変化率(%)=((P0−P500)/(P0 ))×
100 H0:劣化処理前の平行透過率 H90:劣化処理前の直行透過率 H0′:劣化処理後の平行透過率 H90′:劣化処理後の直行透過率 P0:強制劣化前の偏光度 P500:強制劣化500時間後の偏光度 ◎:偏光度変化率10%未満 ○:偏光度変化率10%以上25%未満 ×:偏光度変化率25%以上。
に行い、次いで80℃で乾燥を行った。それぞれの結果
を以下に示す。
表される紫外線吸収剤を含有した本発明の試料は、比較
試料に比して、紫外吸収特性性能に優れ、ロール汚れ、
押され故障及びブリードアウト故障の発生が低減され、
かつ、耐光性に優れていることが分かる。
ルフィルムを、沃素1kg、ホウ酸4kg含む水溶液1
00kgに浸漬し50℃で6倍に延伸して偏光膜を作っ
た。この偏光膜の両面にアルカリ鹸化処理を行ったセル
ロースエステルフィルム試料を完全鹸化型ポリビニルア
ルコール5%水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光
板を作製した。
液晶ディスプレイ MultiSync LCD152
5J 型名 LA−1529HM)の最表面の偏光板を
注意深く剥離した、上記で作製した偏光板を、偏光方向
を合わせて液晶表示パネルに張り付けた。それぞれの液
晶表示パネルについて、目視にてコントラストを評価し
た結果、本発明の偏光板を用いた液晶表示パネルは、比
較例の偏光板を用いた液晶表示パネルに対し長期間に亘
って、高いコントラストが維持されていることが確認で
きた。
ルムを用いた偏光板及び表示装置は、紫外線吸収性能に
優れ、フィルムの押され故障がなく、生産性に優れた効
果を有する。
Claims (7)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で示される紫外線吸収
剤を含有することを特徴とする光学フィルム。 【化1】 〔式中、R0、R1は水素原子、炭素数1〜25のアルキ
ル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基又は無置換、
炭素数1〜4のアルキル基置換のフェニル基、置換、無
置換のオキシカルボニル基、置換、無置換のアミノカル
ボニル基を表す。R2〜R5、R19〜R23は水素原子、炭
素数2〜20の置換、無置換のアルキル基を表す。〕 - 【請求項2】 蛍光増白剤及びセルロースエステルから
選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴
とする請求項1に記載の光学フィルム。 - 【請求項3】 2価以上の脂肪族多価アルコール及びモ
ノカルボン酸誘導体から得られる脂肪族多価アルコール
エステルを含有することを特徴とする請求項1又は2に
記載の光学フィルム。 - 【請求項4】 1次平均粒子径が1〜20nmであり、
且つ、見かけ比重が70〜500g/リットルである二
酸化珪素微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜
3の何れか1項に記載の光学フィルム。 - 【請求項5】 膜厚が20〜65μmであることを特徴
とする請求項1〜4の何れか1項に記載の光学フィル
ム。 - 【請求項6】 請求項1〜5の何れか1項に記載の光学
フィルムを有することを特徴とする偏光板。 - 【請求項7】 請求項1〜5の何れか1項に記載の光学
フィルムを用いることを特徴とする表示装置。
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