JP2003313295A - Novel silicon polymer and production process therefor - Google Patents

Novel silicon polymer and production process therefor

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JP2003313295A
JP2003313295A JP2002122363A JP2002122363A JP2003313295A JP 2003313295 A JP2003313295 A JP 2003313295A JP 2002122363 A JP2002122363 A JP 2002122363A JP 2002122363 A JP2002122363 A JP 2002122363A JP 2003313295 A JP2003313295 A JP 2003313295A
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Japan
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chemical formula
group
chemical
silicon polymer
represented
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JP2002122363A
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Inventor
Chiho Tanaka
千穂 田中
Kishiyun Abe
阿部  貴春
Takashi Kuroki
貴志 黒木
Masaji Tamai
正司 玉井
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Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a novel silicon polymer showing excellent optical characteristics, and to provide a preparation process therefor. <P>SOLUTION: The novel silicon polymer is represented by formula (1) (wherein R<SB>1</SB>and R<SB>2</SB>are each independently hydrogen atom, a 1-15C alkyl group or an alkoxy group; and R<SB>3</SB>is a specific group). The production process for producing the polymer is also disclosed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用樹脂材料と
して有用なケイ素ポリマーとその製造方法に関する。そ
の用途として光学レンズ、プリズム、光ディスク基板、
光ファイバー、光学フィルム等が挙げられる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a silicon polymer useful as an optical resin material and a method for producing the same. Its applications include optical lenses, prisms, optical disk substrates,
Examples thereof include optical fibers and optical films.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高度情報化社会の実現に向けたオ
プトエレクトロニクスの研究が精力的に行われている。
それと共に、光通信、光記録、光加工、光計測、光演算
等、オプトエレクトロニクスの様々な展開を支える基礎
材料として、有機光学材料、特に樹脂材料に対する期待
が高まっている。光学用樹脂材料は、軽量で可とう性に
優れる、電気的誘導を受けない、成形加工が容易である
などの多くの特徴を有し、光ファイバー、光導波路、光
ディスク基板、光フィルター、レンズ、光学用接着剤等
の用途に向けた展開が図られている。
2. Description of the Related Art In recent years, research on optoelectronics for realizing an advanced information society has been vigorously carried out.
At the same time, expectations are increasing for organic optical materials, particularly resin materials, as basic materials that support various developments of optoelectronics such as optical communication, optical recording, optical processing, optical measurement, and optical calculation. Optical resin materials have many features such as light weight and excellent flexibility, no electrical induction, and easy molding process. Optical fiber, optical waveguide, optical disk substrate, optical filter, lens, optical It is being developed for applications such as adhesives for automobiles.

【0003】光学用樹脂材料には次のような特性が求め
られている。すなわち、高透明性、低分散性(すなわち
高アッベ数)、低複屈折性、低吸水性、耐熱性、クリー
ン性、易成形性、耐薬品性・耐溶剤性、軽量等である。
代表的な非熱可塑性樹脂材料として、例えば下記のジア
リレート(化7)、商品名『CR−39』から得られる
樹脂を挙げられる。
The following characteristics are required for optical resin materials. That is, high transparency, low dispersibility (that is, high Abbe number), low birefringence, low water absorption, heat resistance, cleanability, easy moldability, chemical resistance / solvent resistance, light weight and the like.
As a typical non-thermoplastic resin material, for example, a resin obtained from the following diarylate (Chemical formula 7) and trade name "CR-39" can be mentioned.

【0004】[0004]

【化7】 [Chemical 7]

【0005】『CR−39』は眼鏡レンズ用モノマーと
して用いられ、得られる樹脂は無機ガラスに比べ軽く、
染色が容易という利点をもつが、熱重合硬化過程に20
時間と長時間を要する大きな欠点をもつ。
"CR-39" is used as a monomer for spectacle lenses, and the resin obtained is lighter than inorganic glass,
It has the advantage of being easy to dye, but it does not
It has a big drawback that it takes a long time and a long time.

【0006】一方、代表的な溶融成形可能な熱可塑性樹
脂材料としてPC(ポリカーボネート樹脂、例えば商品
名『パンライト』等のビスフェノールA型芳香族ポリカ
ーボネート樹脂等)、PMMA(ポリメチルメタアクリ
レート樹脂、アクリル樹脂)があり、透明性に優れてい
るうえにガラスに比べて軽く、溶融成形が可能であるた
め大量生産が容易である等の特徴から、多くの分野にお
いて、光学部品として応用が図られている。
On the other hand, typical melt-moldable thermoplastic resin materials include PC (polycarbonate resin, for example, bisphenol A type aromatic polycarbonate resin such as trade name "Panlite"), PMMA (polymethylmethacrylate resin, acrylic resin). Resin, which has excellent transparency, is lighter than glass, and can be mass-molded because it can be melt-molded. Therefore, it can be used as an optical component in many fields. There is.

【0007】なかでもPCはその透明性、耐衝撃性など
からレンズやディスク基板に多量に用いられている。P
Cは構造中にベンゼン環を有するため、屈折率は高いが
複屈折も高く、より情報密度の高いディスクの基板や光
ファイバーへの展開は困難である。一方PMMAはベン
ゼン環を含まないため、透明性が非常に優れており複屈
折率も低い。しかしながら、屈折率が低く、焦点距離が
短いことが要求されるレンズへの展開は困難であった。
Among them, PCs are widely used for lenses and disk substrates because of their transparency and impact resistance. P
Since C has a benzene ring in its structure, it has a high refractive index but also a high birefringence, and it is difficult to apply it to a substrate of a disk having a higher information density or an optical fiber. On the other hand, since PMMA does not contain a benzene ring, it has excellent transparency and a low birefringence. However, it was difficult to develop into a lens that requires a low refractive index and a short focal length.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】透明性が高く、高屈折
率と低複屈折性を両立し、かつ熱可塑性である高分子お
よびその製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a polymer having high transparency, having both a high refractive index and a low birefringence, and being thermoplastic, and a method for producing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らはベンゼン環
2個を有するシラン化合物とジヒドロキシ化合物を反応
させたケイ素ポリマーが高い透明性を有し、高屈折率と
低複屈折性を両立し、かつ溶融成形可能であることを見
い出し、本発明を完成した。
The present inventors have found that a silicon polymer obtained by reacting a silane compound having two benzene rings with a dihydroxy compound has a high transparency and has both a high refractive index and a low birefringence. Moreover, they have found that they can be melt-molded and have completed the present invention.

【0010】本発明は化学式(1)(化8)で表わされ
る繰り返し単位を有するケイ素ポリマーに関するもので
ある。
The present invention relates to a silicon polymer having a repeating unit represented by the chemical formula (1) (formula 8).

【0011】[0011]

【化8】 [Chemical 8]

【0012】(化学式(1)において、R1、R2はそれ
ぞれ独立に水素原子、炭素数1から15のアルキル基、
アルコキシ基であり、R3は化学式(2)(化9)で表
わされる2価の結合基を表し、これらから選ばれる1種
または2種以上の結合基より構成される。
(In the chemical formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms,
An alkoxy group, R 3 represents a divalent bonding group represented by the chemical formula (2) (Chemical Formula 9), and is composed of one or more kinds of bonding groups selected from these.

【0013】[0013]

【化9】 [Chemical 9]

【0014】化学式(2)において、X1は化学式
(3)(化10)で表わされ、X2、X3はそれぞれ独立
に化学式(4)(化11)で表される2価の結合基を表
し、これらは異なっていても、一部または全てが同じで
もよい。また、化学式(2)において、R4、R5
6、R7は少なくとも1つが炭素数1から6のアルキル
基、アルコキシ基であり、他はそれぞれ独立に水素原
子、炭素数1から6のアルキル基、アルコキシ基であ
る。また、R8、R9、R10、R11はそれぞれ独立に水素
原子、炭素数1から6のアルキル基、アルコキシ基であ
る。)
In the chemical formula (2), X 1 is represented by the chemical formula (3) (formula 10), and X 2 and X 3 are each independently a divalent bond represented by the chemical formula (4) (formula 11). Represents a group, which may be different, partly or wholly the same. In the chemical formula (2), R 4 , R 5 ,
At least one of R 6 and R 7 is an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the others are independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group. R 8 , R 9 , R 10 , and R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group. )

【0015】[0015]

【化10】 [Chemical 10]

【0016】[0016]

【化11】 [Chemical 11]

【0017】また、本発明は化学式(5)(化12)で
表わされるシラン化合物と化学式(6)(化13)で表
わされるジオール化合物を反応させることによって得ら
れるケイ素ポリマーの製造方法に関するものである。
The present invention also relates to a method for producing a silicon polymer obtained by reacting a silane compound represented by the chemical formula (5) (Chemical formula 12) with a diol compound represented by the chemical formula (6) (Chemical formula 13). is there.

【0018】[0018]

【化12】 [Chemical 12]

【0019】(化学式(5)において、R1、R2は前記
と同じ意味を表わし、Xはハロゲン原子、炭素数1から
15のアルキル基である。
(In the chemical formula (5), R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and X is a halogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.

【0020】[0020]

【化13】 [Chemical 13]

【0021】化学式(6)において、Rは前記と同じ
意味を表わす
In the chemical formula (6), R 3 has the same meaning as described above.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明の新規なケイ素ポリマー
は、化学式(1)で表わされる繰り返し単位を有するケ
イ素ポリマーである。複屈折率Δnとポリマーの分子構
造の関係は、式(1)(式1)で表わされる(「オプト
エレクトロニクスと高分子材料」 P19、20 井手文
雄 著 共立出版)。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The novel silicon polymer of the present invention is a silicon polymer having a repeating unit represented by the chemical formula (1). The relationship between the birefringence index Δn and the molecular structure of the polymer is represented by the formulas (1) and (1) (“Optoelectronics and Polymer Materials” P19, 20 by Fumio Ide, Kyoritsu Shuppan).

【0023】[0023]

【式1】 [Formula 1]

【0024】すなわち、基本的には複屈折率の大小はモ
ノマーユニットの主分極率差(σ1−σ2)に比例する。
例えばベンゼンの場合、一分子当り環の平行および垂直
方向の分極率はそれぞれ123.1×10-25cm3、6
3.5×10-25cm3と分極率の差(分極率の異方性)が
大きく、このため分子中にベンゼン環をもつポリマーは
一般に複屈折率が大きい。また、ポリマー材料は成形過
程でうける応力に基づく複屈折を示し、この配向複屈折
はポリマーの配向しやすさに比例する。PCの場合、イ
ソプロピリデン基で結ばれたベンゼン環が平面上に並ん
でいるのではなく相互にややねじれて配置しているが、
分極率の異方性を解消できるほどではなく、さらに比較
的配向しやすいため、結果的に複屈折率は大きく、高屈
折率と低複屈折率を両立できていない。
That is, the magnitude of the birefringence is basically proportional to the difference in the main polarizability (σ 1 −σ 2 ) of the monomer units.
For example, in the case of benzene, the polarizability of the ring per molecule in the parallel and vertical directions is 123.1 × 10 -25 cm 3 , 6 respectively.
The difference in polarizability (anisotropy of polarizability) is as large as 3.5 × 10 −25 cm 3, and therefore, a polymer having a benzene ring in the molecule generally has a large birefringence. Further, the polymer material exhibits birefringence based on the stress received during the molding process, and this orientation birefringence is proportional to the ease of orientation of the polymer. In the case of PC, the benzene rings connected by the isopropylidene group are not arranged side by side on the plane, but are arranged slightly twisted with respect to each other.
Since the anisotropy of the polarizability is not eliminated and the orientation is relatively easy, the birefringence is large as a result, and the high birefringence and the low birefringence cannot be achieved at the same time.

【0025】一方、本発明の新規ケイ素ポリマーはPC
同様分子中にベンゼン環を有するが、ケイ素に結合する
2つのベンゼン環が相互にねじれた配置をとっているた
め分極率の異方性を大幅に解消でき、かつ、ケイ素に結
合するベンゼン環がポリマー鎖に対してつきだした配置
をとるため、配向しにくく非晶性である。これら2つの
理由により、本発明の新規ケイ素ポリマーはベンゼン環
を含むにもかかわらず複屈折率が低く、よって高屈折率
と低複屈折率を両立でき、また非晶性であるために高透
過率を達成できている。
On the other hand, the novel silicon polymer of the present invention is PC
Although it has a benzene ring in the same molecule, since the two benzene rings that bond to silicon have a twisted arrangement with respect to each other, the anisotropy of polarizability can be largely eliminated, and the benzene ring that bonds to silicon is Since it is arranged so as to stick to the polymer chain, it is difficult to orient and is amorphous. Due to these two reasons, the novel silicon polymer of the present invention has a low birefringence despite containing a benzene ring, and therefore can achieve both a high birefringence and a low birefringence, and has high transparency due to its amorphous nature. You have achieved the rate.

【0026】また、Liawらは、2,2‘−ジメチルジフ
ェニル−4,4’−ジオールと、ジフェニルジククロロ
シランから重縮合反応によりケイ素ポリマーを得ている
が(Liaw,D.J.;Liaw,B.Y.;J P
olym Sci Part A:Polym Chem
1999,37,4591−4595)、光学特性につ
いての記述はなく、また溶融成形可能であるかについて
も触れていない。従って、この知見からは本発明の新規
ケイ素ポリマーが光学的特性に優れることは予想できな
い。
Also, Liaw et al. Obtained a silicon polymer from 2,2'-dimethyldiphenyl-4,4'-diol and diphenyldichlorosilane by a polycondensation reaction (Liaw, DJ; Liaw, B.Y .; JP
olym Sci Part A: Polym Chem
1999, 37, 4591-4595), there is no description of optical characteristics, and no mention is made of whether melt molding is possible. Therefore, from this knowledge, it cannot be expected that the novel silicon polymer of the present invention has excellent optical properties.

【0027】本発明の新規なケイ素ポリマーは、化学式
(5)で示されるシラン化合物と化学式(6)で示され
るジオール化合物を必要に応じて縮合化反応用触媒の存
在下で縮合化させることにより製造できる。化学式
(1)において、R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、
炭素数1から15のアルキル基、アルコキシ基である。
アルキル基の具体例としてはメチル基、エチル基、ヘキ
シル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルコキシ基
の具体例としてはメトキシ基、エトキシ基等が挙げられ
る。
The novel silicon polymer of the present invention is obtained by condensing a silane compound represented by the chemical formula (5) and a diol compound represented by the chemical formula (6) in the presence of a condensation reaction catalyst, if necessary. Can be manufactured. In the chemical formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom,
An alkyl group and an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms.
Specific examples of the alkyl group include a methyl group, ethyl group, hexyl group, cyclohexyl group and the like, and specific examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group and the like.

【0028】化学式(1)において、R3は化学式
(2)で表わされる2価の結合基を表わし、これらから
選ばれる1種又は2種以上の結合基より構成される。化
学式(2)において、X1は化学式(3)で表わされ、
2、X3はそれぞれ独立に化学式(4)で表わされる2
価の結合基を表わし、これらは異なっていても、一部ま
たは全てが同じであってもよい。また、化学式(2)に
おいて、R4、R5、R6、R7は少なくとも1つが、炭素
数1から6のアルキル基、アルコキシ基であり、他はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素数1から6のアルキル基、
アルコキシ基である。また、化学式(2)において、R
8、R9、R19、R11はそれぞれ独立に水素原子、炭素数
1から6のアルキル基、アルコキシ基である。
In the chemical formula (1), R 3 represents a divalent bonding group represented by the chemical formula (2), and is composed of one or more kinds of bonding groups selected from these. In the chemical formula (2), X 1 is represented by the chemical formula (3),
X 2 and X 3 are each independently represented by the chemical formula (4) 2
It represents a valent linking group, which may be different, partly or wholly the same. Further, in the chemical formula (2), at least one of R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 is an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the others are independently a hydrogen atom or 1 to 6 carbon atoms. An alkyl group of 6,
It is an alkoxy group. In the chemical formula (2), R
8 , R 9 , R 19 , and R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group.

【0029】R4〜R11の具体例としては、メチル基、エ
チル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、
iso-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プ
ロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブ
トキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキ
シルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基などが挙げられ
る。
Specific examples of R4 to R11 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group,
iso-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, tert-butoxy group, Examples thereof include a pentyloxy group, a hexyloxy group and a cyclohexyloxy group.

【0030】化学式(1)で表されるケイ素ポリマーを
シラン化合物とジヒドロキシ化合物より製造する方法を
説明する。反応装置は原料を供給する部分、反応容器内
部の撹拌装置、反応容器の温度を制御する部分などから
なる。本反応は、無溶媒もしくは溶媒中で反応させるこ
とができる。容器内に原料の化学式(5)で表されるシ
ラン化合物と化学式(6)で表されるジヒドロキシ化合
物および必要に応じて縮合化反応用触媒、溶媒を仕込
む。縮合化反応用触媒は溶液状態、懸濁状態、あるいは
溶媒に溶解することなくそのままの状態で仕込むことが
できる。反応溶液を所定の温度に制御しつつ、撹拌しな
がら所定の時間反応させる。所定の反応時間後、反応溶
媒を用いた場合は、減圧蒸留になどにより溶媒を除去も
しくはポリマーを析出させることによりケイ素ポリマー
を得られる。原料として用いられる化学式(5)で表さ
れるシラン化合物としてはジフルオロジフェニルシラ
ン、ジクロロジフェニルシラン、ジブロモジフェニルシ
ラン、ジクロロジ(4−メチルフェニル)シラン、ジク
ロロジ(3−メチルフェニル)シラン、ジクロロジ(4
−エチルジクロロフェニル)シラン、ジクロロジ(4−
イソプロピルフェニル)シラン、ジクロロジ(4−ブチ
ルフェニル)シラン、ジクロロジ(4−tertブチルフェ
ニル)シラン、ジクロロジ(4−シクロヘキシルフェニ
ル)シラン等が挙げられるもう一つの原料であるR
2(OH)2で表されるジヒドロキシ化合物としては1,
2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、3,3’
−ジシクロヘキサンジオール、3,4’−ジシクロヘキ
サンジオール、4,4’−ジシクロヘキサンジオール、
2,2−ビス(3−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プ
ロパン、ビス(3−ヒドロキシシクロヘキシル)エーテ
ル、ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)エーテル、
ビス(3−ヒドロキシシクロヘキシル)スルフィド、ビ
ス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)スルフィド、ビス
(3−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、ビス(4−
ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,5−ノルボル
ナンジオール、2,6−ノルボルナンジオール、1,4
−ノルボルナンジオール、2,3−ノルボルナンジオー
ル、4,8−ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ
[5,2,1,02,6]デカン、4−ヒドロキシ−8−
ヒドロキシメチルトリシクロ[5,2,1,02,6]デ
カン、8−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチルトリシク
ロ[5,2,1,02,6]デカン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3−イソブチルフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−tertブチル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、4,4‘−
(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノ
ール、4,4‘−(1,4−フェニレンジイソプロピリ
デン)ビスフェノール、6,6’−ジヒドロキシ−3,
3,3‘,3’−テトラメチル−1,1‘−スピロビス
インダン等を挙げることができる。
A method for producing the silicon polymer represented by the chemical formula (1) from a silane compound and a dihydroxy compound will be described. The reactor comprises a part for supplying raw materials, a stirrer inside the reactor, a part for controlling the temperature of the reactor, and the like. This reaction can be carried out without solvent or in a solvent. A silane compound represented by the chemical formula (5), a dihydroxy compound represented by the chemical formula (6), a condensation reaction catalyst, and a solvent are charged in a container. The condensation reaction catalyst can be charged in a solution state, a suspension state, or as it is without being dissolved in a solvent. The reaction solution is reacted at a predetermined temperature for a predetermined time with stirring while controlling the temperature. When a reaction solvent is used after a predetermined reaction time, the silicon polymer can be obtained by removing the solvent or precipitating the polymer by distillation under reduced pressure or the like. As the silane compound represented by the chemical formula (5) used as a raw material, difluorodiphenylsilane, dichlorodiphenylsilane, dibromodiphenylsilane, dichlorodi (4-methylphenyl) silane, dichlorodi (3-methylphenyl) silane, dichlorodi (4
-Ethyldichlorophenyl) silane, dichlorodi (4-
R which is another raw material such as isopropylphenyl) silane, dichlorodi (4-butylphenyl) silane, dichlorodi (4-tertbutylphenyl) silane, and dichlorodi (4-cyclohexylphenyl) silane.
The dihydroxy compound represented by 2 (OH) 2 is 1,
2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 3,3 ′
-Dicyclohexanediol, 3,4'-dicyclohexanediol, 4,4'-dicyclohexanediol,
2,2-bis (3-hydroxycyclohexyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, bis (3-hydroxycyclohexyl) ether, bis (4-hydroxycyclohexyl) ether,
Bis (3-hydroxycyclohexyl) sulfide, bis (4-hydroxycyclohexyl) sulfide, bis (3-hydroxycyclohexyl) methane, bis (4-
Hydroxycyclohexyl) methane, 2,5-norbornanediol, 2,6-norbornanediol, 1,4
-Norbornanediol, 2,3-norbornanediol, 4,8-bis (hydroxymethyl) tricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, 4-hydroxy-8-
Hydroxymethyltricyclo [5,2,1,0 2,6 ] decane, 8-hydroxy-4-hydroxymethyltricyclo [5,2,1 0 2,6 ] decane, 2,2-bis (4-
Hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-
Bis (4-hydroxy-3-isobutylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-tertbutylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-)
3,5-Dimethylphenyl) propane, 4,4'-
(1,3-phenylenediisopropylidene) bisphenol, 4,4 '-(1,4-phenylenediisopropylidene) bisphenol, 6,6'-dihydroxy-3,
3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobisindane and the like can be mentioned.

【0031】使用し得る脱縮合化反応用触媒は酸触媒と
塩基性触媒に大別できる、原料の化学式(5)で表され
るシラン化合物の置換基Xがハロゲン原子の場合、塩基
性触媒を使用し得る。置換基Xがアルコキシ基の場合、
酸触媒および塩基性触媒を使用し得る。
The catalyst for the decondensation reaction that can be used can be roughly classified into an acid catalyst and a basic catalyst. When the substituent X of the silane compound represented by the chemical formula (5) of the raw material is a halogen atom, a basic catalyst is used. Can be used. When the substituent X is an alkoxy group,
Acid and basic catalysts can be used.

【0032】酸触媒は無機酸としてHF,HCl、HB
r、HI、H2SO4、HNO3、H2CO3、HClO2
2S,H2SO3、H223などが挙げられ、有機酸と
してはHCOOH、CH3COOH、C65COOH、
蓚酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられ、金属酸化物と
してAl23、SiO2−Al23、A型ゼオライト、
X型ゼオライト、Y型ゼオライト、L型ゼオライト、モ
レキュラシーブス、モンモリロナイト、酸性白土、活性
白土、ケイソウ土などが挙げられ、イオン交換樹脂とし
て、スルホン型陽イオン交換樹脂、アクリル酸型陽イオ
ン交換樹脂などを挙げられる。
The acid catalyst is HF, HCl, HB as an inorganic acid.
r, HI, H 2 SO 4 , HNO 3 , H 2 CO 3 , HClO 2 ,
H 2 S, such as H 2 SO 3, H 2 S 2 O 3 , and examples of the organic acid HCOOH, CH 3 COOH, C 6 H 5 COOH,
Oxalate, such as trifluoroacetic acid can be mentioned, Al 2 O 3 as a metal oxide, SiO 2 -Al 2 O 3, A -type zeolite,
X-type zeolite, Y-type zeolite, L-type zeolite, molecular sieves, montmorillonite, acid clay, activated clay, diatomaceous earth and the like can be mentioned. As the ion exchange resin, sulfone type cation exchange resin, acrylic acid type cation exchange resin, etc. Can be mentioned.

【0033】塩基性触媒はアミン化合物としてアンモニ
ア、メチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノール
アミン、ピリジンなどが挙げられ、金属アミド化合物と
してリチウムアミド、ナトリウムメチルアミド、カリウ
ムエチルアミドなどが挙げられ、金属イミド化合物とし
てリチウムイミド、ナトリウムメチルイミド、カリウム
エチルイミドなどが挙げられ、アルコキシ化合物とし
て、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムエトキシドなどが挙げられ、有機金属化合物として
メチルリチウム、エチルナトリウム、フェニルカリウム
などが挙げられ、金属酸化物としてはMgO、SiO2
−MgO等が挙げられ、イオン交換樹脂として4級アン
モニウム型陰イオン交換樹脂などが挙げられる。
The basic catalyst includes amine compounds such as ammonia, methylamine, triethylamine, triethanolamine and pyridine, metal amide compounds include lithium amide, sodium methylamide and potassium ethylamide, and metal imide compounds. Examples include lithium imide, sodium methylimide, potassium ethylimide, examples of the alkoxy compound include lithium methoxide, sodium methoxide, potassium ethoxide, and the like, examples of the organometallic compound include methyllithium, ethyl sodium, phenyl potassium, and the like. And metal oxides such as MgO and SiO 2
-MgO etc. are mentioned, and a quaternary ammonium type anion exchange resin etc. are mentioned as an ion exchange resin.

【0034】原料の化学式(5)および(6)で表され
るシラン化合物とジヒドロキシ化合物の比率は特に限定
するものではないが、好ましくはシラン化合物に含まれ
るX基100mmolに対しヒドロキシ基がlmmol
から500mmol、好ましくは50〜200mmol
である。触媒である酸触媒または塩基性触媒は単独であ
るいは二種以上を混合して使用することができる。触媒
使用量はジヒドロキシ化合物100mmolに対し0.
0001mmolから400mmol、好ましくは0.
01〜100mmolである。
The ratio of the silane compound represented by the chemical formulas (5) and (6) to the dihydroxy compound is not particularly limited, but preferably 1 mmol of hydroxy group to 100 mmol of X group contained in the silane compound.
To 500 mmol, preferably 50 to 200 mmol
Is. The acid catalyst or the basic catalyst as a catalyst can be used alone or in combination of two or more kinds. The amount of catalyst used was 0.
0001 mmol to 400 mmol, preferably 0.
It is 01 to 100 mmol.

【0035】容器内は高純度窒素あるいは高純度アルゴ
ンなどの不活性ガスで置換することが望ましい。溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、メシチレンのような芳香族炭化水素系溶媒や、ジエ
チルエーテル、n−ブチルエーテル、アニソール、ジフ
ェニルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ビ
ス(2−メトキシエチル)エーテル、1,2−ビス(2
−メトキシエトキシ)エタンのようなエーテル系溶媒
や、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、
o−ジクロロベンゼンのような含ハロゲン溶媒や、N−
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのような有機極性溶媒及びこれらの混合溶媒
が使用できる。これらの中でも特にジクロロメタン、ク
ロロホルム、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼンの
ような含ハロゲン溶媒が好ましい。溶媒の量は原料のヒ
ドロキシシラン化合物1mmolに対して0.1〜40
mlが好ましい。また、溶媒に含まれる水分が触媒の活
性を低下させる場合があるので、溶媒は予め脱水乾燥し
たものを用いるのが好ましい。
It is desirable to replace the inside of the container with an inert gas such as high-purity nitrogen or high-purity argon. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene and mesitylene, diethyl ether, n-butyl ether, anisole, diphenyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1, 2-bis (2
Ether solvent such as -methoxyethoxy) ethane, dichloromethane, chloroform, chlorobenzene,
Halogen-containing solvent such as o-dichlorobenzene, N-
Organic polar solvents such as methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, and mixed solvents thereof can be used. Among these, halogen-containing solvents such as dichloromethane, chloroform, chlorobenzene and o-dichlorobenzene are particularly preferable. The amount of the solvent is 0.1 to 40 relative to 1 mmol of the raw material hydroxysilane compound.
ml is preferred. Further, since the water contained in the solvent may reduce the activity of the catalyst, it is preferable to use a solvent that has been dehydrated and dried in advance.

【0036】反応温度は−50〜300℃、より好まし
くは−20〜150℃である。さらに好ましくは0〜8
0℃である。反応圧力は減圧、常圧、加圧のいずれでも
かまわないが、反応温度が溶媒の沸点よりも高い場合に
は耐圧の反応容器を用いて加圧反応を行うことが望まし
い。反応時間は反応温度などにより異なるが0.1〜2
00時間が適切である。
The reaction temperature is -50 to 300 ° C, more preferably -20 to 150 ° C. More preferably 0-8
It is 0 ° C. The reaction pressure may be reduced pressure, normal pressure, or increased pressure, but when the reaction temperature is higher than the boiling point of the solvent, it is desirable to carry out the pressure reaction using a pressure resistant reaction vessel. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but is 0.1-2.
00 hours is appropriate.

【0037】溶媒除去によるケイ素ポリマーの単離は、
反応液に何も処理を施さない状態で行ってもかまわない
が、飽和脂肪族炭化水素やアルコール化合物中への分
散、濾過、水溶液による処理(特開平11−23638
8)または酸触媒の場合は陰イオン交換樹脂による処理
などで塩基性触媒の場合は陽イオン交換樹脂による処理
などの方法により触媒を分離した後で行うことが好まし
い。
Isolation of the silicon polymer by removal of the solvent
The reaction may be carried out without any treatment, but it may be dispersed in a saturated aliphatic hydrocarbon or alcohol compound, filtered, or treated with an aqueous solution (JP-A-11-23638).
8) Alternatively, it is preferably carried out after the catalyst is separated by a method such as treatment with an anion exchange resin in the case of an acid catalyst and treatment with a cation exchange resin in the case of a basic catalyst.

【0038】触媒の分離に使用できる飽和脂肪族炭化水
素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等
が、アルコール化合物としてはメタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等が挙げられる。飽和脂肪
族炭化水素及びアルコール化合物の使用量はシロキサン
含有高分子類1gに対して0.01〜200ml、より
好ましくは0.1〜50mlである。
Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon that can be used for separating the catalyst include pentane, hexane, heptane, octane and the like, and examples of the alcohol compound include methanol, ethanol and isopropyl alcohol. The amount of the saturated aliphatic hydrocarbon and alcohol compound used is 0.01 to 200 ml, and more preferably 0.1 to 50 ml, per 1 g of the siloxane-containing polymer.

【0039】陰イオン交換樹脂あるいは陽イオン交換樹
脂による触媒の除去は反応液を接触濾過法または固定層
法により陰イオン交換樹脂あるいは陽イオン交換樹脂で
処理することにより行う。接触濾過法とは、具体的には
反応液と陰イオン交換樹脂あるいは陽イオン交換樹脂を
混合し一定時間撹拌した後濾過により樹脂を除去する方
法である。また固定層法とはOH型の陰イオン交換樹脂
あるいはH型の陽イオン交換樹脂を充填したカラムや充
填塔などの固定層に反応液を通液することにより反応液
より触媒を除去する方法である。処理の回数はいずれも
通常1回であるが2〜100回の複数回行ってもかまわ
ない。反応液は通常そのままで処理を行うが、溶媒によ
り1.1〜100倍に希釈してもかまわない。使用でき
る陰イオン交換樹脂としては、交換基として−N(CH
33OH基、−N(C24OH)(CH32OH基を有
する強酸性OH型陰イオン交換樹脂、交換基として−N
2−基、−NH−基を有する弱酸性OH型陰イオン交
換樹脂が挙げられる。使用できる陽イオン交換樹脂とし
ては、交換基としてスルホン基を有する強酸性H型陽イ
オン交換樹脂、交換基としてカルボキシル基、フェノー
ル基、ホスホン基を有する弱酸性H型陽イオン交換樹
脂、およびこれらの樹脂をシリカ、アルミナなどの担体
に担持したものが挙げられる。これらの陰イオン交換樹
脂あるいは陽イオン交換樹脂は一種で、または複数種を
混合して使用することができる。陰イオン交換樹脂ある
いは陽イオン交換樹脂の形態は粒状、粉末のいずれでも
かまわない。含水量が10wt%を越える陰イオン交換
樹脂あるいは陽イオン交換樹脂は、そのままで使用して
もでもかまわないが、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などに
より含水量を10wt%以下にしておくことが望まし
い。
The removal of the catalyst by the anion exchange resin or the cation exchange resin is carried out by treating the reaction solution with the anion exchange resin or the cation exchange resin by the contact filtration method or the fixed bed method. The contact filtration method is specifically a method in which the reaction solution and an anion exchange resin or a cation exchange resin are mixed and stirred for a certain period of time, and then the resin is removed by filtration. The fixed bed method is a method of removing the catalyst from the reaction solution by passing the reaction solution through a fixed bed such as a column or a packed column packed with an OH type anion exchange resin or an H type cation exchange resin. is there. The number of treatments is usually once, but it may be performed a plurality of times from 2 to 100 times. The reaction solution is usually treated as it is, but may be diluted 1.1 to 100 times with a solvent. Anion exchange resins that can be used include -N (CH
3) 3 OH groups, -N (C 2 H 4 OH ) (CH 3) strongly acidic OH-type anion-exchange resin having 2 OH groups, -N as an exchange group
Examples include weakly acidic OH type anion exchange resins having an H 2 -group and a -NH-group. As the cation exchange resin which can be used, a strongly acidic H-type cation exchange resin having a sulfone group as an exchange group, a weakly acidic H type cation exchange resin having a carboxyl group, a phenol group or a phosphon group as an exchange group, and these An example is one in which the resin is supported on a carrier such as silica or alumina. These anion exchange resins or cation exchange resins can be used alone or in combination of two or more. The form of the anion exchange resin or the cation exchange resin may be granular or powder. The anion exchange resin or cation exchange resin having a water content of more than 10 wt% may be used as it is, but it is preferable to keep the water content of 10 wt% or less by air drying, heat drying, vacuum drying or the like. .

【0040】陰イオン交換樹脂あるいは陽イオン交換樹
脂の使用量は樹脂の種類、交換容量、触媒の種類、反応
液の触媒含有量により異なるが、反応液1mlに対し
0.0001〜10g、好ましくは0.01〜10gで
ある。処理時間または滞留時間は陰イオン交換樹脂ある
いは陽イオン交換樹脂の種類、使用量、反応液中の触媒
濃度により異なるが、0.001〜400時間、好まし
くは0.1〜150時間である。処理温度は−50〜3
00℃、より好ましくは0〜150℃である。
The amount of the anion exchange resin or cation exchange resin used varies depending on the type of resin, the exchange capacity, the type of catalyst, and the catalyst content of the reaction solution, but 0.0001 to 10 g, preferably 1 to 1 ml of the reaction solution. It is 0.01 to 10 g. The treatment time or residence time varies depending on the type of anion exchange resin or cation exchange resin, the amount used, and the catalyst concentration in the reaction solution, but is 0.001 to 400 hours, preferably 0.1 to 150 hours. Processing temperature is -50 to 3
The temperature is 00 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.

【0041】以上の触媒除去操作後、溶媒除去、カラム
分離、析出などの方法により反応液よりケイ素ポリマー
の分離を行う。本発明のケイ素ポリマーの分子量に特に
制限はなく、用途や加工方法に応じ、任意の分子量とす
ることができる。本発明のケイ素ポリマーは、用いるシ
ラン化合物とジヒドロキシ化合物との量比、反応時間、
反応温度などによって調節することができ、例えば、ケ
イ素ポリマーを0.5g/100ミリリットルの濃度で
クロロホルムに溶解した後35℃で測定した対数粘度の
値を0.1〜3.0デシリットル/gの任意の値とする
ことができる。
After the above catalyst removal operation, the silicon polymer is separated from the reaction solution by methods such as solvent removal, column separation and precipitation. The molecular weight of the silicon polymer of the present invention is not particularly limited, and may be any molecular weight depending on the application and processing method. The silicon polymer of the present invention, the amount ratio of the silane compound and the dihydroxy compound used, the reaction time,
It can be controlled by the reaction temperature and the like. For example, after the silicon polymer is dissolved in chloroform at a concentration of 0.5 g / 100 ml, the logarithmic viscosity value measured at 35 ° C. is 0.1 to 3.0 deciliter / g. It can be any value.

【0042】本発明のケイ素ポリマーは熱可塑性であ
り、通常の溶融成形により成形することができる。溶融
成形が可能となるためには、樹脂の分解温度に比べて樹
脂が流動する温度が十分に低いことが重要である。本発
明において溶融成形が可能であるとは、具体的には、空
気中において加熱により樹脂の5重量%が減少する温
度、すなわち5%重量減少温度に比べ、1〜1000パ
スカル・秒程度の溶融粘度を示す温度が30℃以上、好
ましくは50℃以上低いことをいう。本発明のケイ素ポ
リマーはいずれも溶融成形が可能であり、押し出し成
形、射出成形、真空成形、ブロー成形、圧縮成型、ブロ
ー成形、カレンダー成形、積層成形等により、ディス
ク、ファイバー等の様々な成形体を得ることができる。
The silicon polymer of the present invention is thermoplastic and can be molded by ordinary melt molding. In order to enable melt molding, it is important that the temperature at which the resin flows is sufficiently lower than the decomposition temperature of the resin. In the present invention, the melt-molding is possible, specifically, a temperature at which 5% by weight of the resin is reduced by heating in air, that is, a melting rate of about 1 to 1000 Pascal · sec as compared with a 5% weight reduction temperature. It means that the temperature showing the viscosity is lower than 30 ° C, preferably lower than 50 ° C. Any of the silicon polymers of the present invention can be melt-molded, and various molded articles such as disks and fibers can be obtained by extrusion molding, injection molding, vacuum molding, blow molding, compression molding, blow molding, calender molding, lamination molding and the like. Can be obtained.

【0043】[0043]

【実施例】(実施例1) 化合物1(化14)の合成[Example] (Example 1) Synthesis of compound 1

【0044】[0044]

【化14】 [Chemical 14]

【0045】200mlの4ツ口フラスコに磁気撹拌子
を設置し、フラスコ内を高純度窒素ガスで置換した。続
いてフラスコに原料の2,2−ジ(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン14.22g(5
0 mmol)、および溶媒としてあらかじめ脱水した
ジクロロメタン 50mlを仕込んだ。この反応溶媒を
氷浴し、内温が0℃なのを確認してから、原料のジクロ
ロジフェニルシラン12.66g(50mmol)およ
びピリジン8.31g(105mmol)を別々に同時
に窒素シール下で1時間掛けて15分かけて滴下した。
滴下終了後室温に戻し4時間撹拌した。反応液をジクロ
ロメタン50mlで希釈後、メタノール1000mlに
投入し析出物を濾別し粉体を得た。この粉体をジクロロ
メタン50mlに溶解し、この溶液をメタノール500
mlに投入し析出物を濾別し粉体を得た。この操作をも
う一度繰り返し得た粉体を室温にて真空乾燥させ目的生
成物20.44gを得た。収率は89%であった。GP
C(ゲル透過クロマトグラフィー)によるポリスチレン
換算の重量平均分子量はポリマー22800であった。
元素分析の測定値は、炭素79.9%(理論値80.1%)、水素
6.8%(理論値6.9%)であり、測定値は、測定誤差の範囲
で理論値とよく一致している。1 H-NMR(ppm,CD2Cl2) 1.2(-CH3 )、1.4(-CH3 )、6.8-6.9
(C(O-C=CH-)、6.9-7.0(C(CH3)2-C=CH-)、 7.2-7.5(CH=C
H-CH=)、7.6-7.8(Si-C=C-CH=) IR(cm-1) 700(m)、720(m)、740(m)、760(m)、840
(m)、1120(m)、1130(m)、1180(m)、1250(s)、1430(m)、
1510(m)、1605(m)、2960(w) 次に、この新規なケイ素ポリマーの物性及び光学特性を
測定した。ポリマーをクロロホルム溶媒に0.5g/1
00ミリリットルの濃度で溶解した後35℃で測定した
対数粘度[η]を測定した。また、DSCによりガラス
転移温度[Tg]を、TGAにより空気雰囲気における
5%重量減少温度[Td5]を測定した。また、光線透
過率は通常の熱プレス機を用いガラス転移温度+30℃
で3分間で厚さ約1.2mmの板状試験片を作成し、A
STM D1003に従って測定した。屈折率[nd]
及び複屈折率[Δnd]はポリマーのクロロホルム溶液
をシリコンウエハー上にスピンコートし、ガラス転移温
度+30℃で15分間窒素雰囲気下で加温したサンプル
を、プリズムカプラーで波長633nmにて測定した。
測定結果は表1にまとめた。
A magnetic stir bar was installed in a 200 ml four-necked flask, and the inside of the flask was replaced with high-purity nitrogen gas. Then, the raw material 2,2-di (4-hydroxy-) was placed in a flask.
3,5-Dimethylphenyl) propane 14.22 g (5
(0 mmol) and 50 ml of previously dehydrated dichloromethane as a solvent were charged. After the reaction solvent was ice-bathed and the internal temperature was confirmed to be 0 ° C., 12.66 g (50 mmol) of the raw material dichlorodiphenylsilane and 8.31 g (105 mmol) of pyridine were separately and simultaneously taken under a nitrogen blanket for 1 hour. For 15 minutes.
After completion of dropping, the mixture was returned to room temperature and stirred for 4 hours. The reaction solution was diluted with 50 ml of dichloromethane and then added to 1000 ml of methanol, and the precipitate was separated by filtration to obtain a powder. This powder is dissolved in 50 ml of dichloromethane and this solution is added to 500 ml of methanol.
The resulting mixture was added to a solution in ml and the precipitate was separated by filtration to obtain a powder. This operation was repeated once more and the powder thus obtained was vacuum dried at room temperature to obtain 20.44 g of the desired product. The yield was 89%. GP
The polystyrene-converted weight average molecular weight by C (gel permeation chromatography) was Polymer 22800.
The measured values of elemental analysis are carbon 79.9% (theoretical value 80.1%), hydrogen
6.8% (theoretical value 6.9%), and the measured value is in good agreement with the theoretical value within the range of measurement error. 1 H-NMR (ppm, CD 2 Cl 2 ) 1.2 (-C H 3 ), 1.4 (-C H 3 ), 6.8-6.9
(C (OC = C H- ), 6.9-7.0 (C (CH 3 ) 2 -C = C H- ), 7.2-7.5 (C H = C
H- C H =), 7.6-7.8 (Si-C = CC H =) IR (cm -1 ) 700 (m), 720 (m), 740 (m), 760 (m), 840
(m), 1120 (m), 1130 (m), 1180 (m), 1250 (s), 1430 (m),
1510 (m), 1605 (m), 2960 (w) Next, the physical properties and optical properties of this novel silicon polymer were measured. 0.5g / 1 of polymer in chloroform solvent
The logarithmic viscosity [η] measured at 35 ° C. after dissolution at a concentration of 00 ml was measured. Further, the glass transition temperature [Tg] was measured by DSC, and the 5% weight loss temperature [Td 5 ] in an air atmosphere was measured by TGA. Also, the light transmittance is glass transition temperature + 30 ° C using an ordinary heat press machine.
A plate-shaped test piece with a thickness of about 1.2 mm was prepared in 3 minutes by
It was measured according to STM D1003. Refractive index [nd]
The birefringence index [Δnd] was measured by spin-coating a chloroform solution of the polymer on a silicon wafer and heating the sample at a glass transition temperature of + 30 ° C. for 15 minutes in a nitrogen atmosphere at a wavelength of 633 nm using a prism coupler.
The measurement results are summarized in Table 1.

【0046】(実施例2) 化合物2(化15)の合成(Example 2) Synthesis of compound 2

【0047】[0047]

【化15】 [Chemical 15]

【0048】2,2−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)プロパンの代わりに4,4‘−(1,
3−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノール1
7.32g(50mmol)を用い、ジオールのジクロ
ロエチレン溶液を氷冷することなく室温のままジクロロ
ジフェニルシランとピリジンを同時に滴下した以外の条
件は実施例1と同じにして反応を行った。収率85%で
目的生成物22.38gを得た。GPC(ゲル透過クロ
マトグラフィー)によるポリスチレン換算の重量平均分
子量はポリマー194800であった。元素分析の測定
値は、炭素81.8 %(理論値82.1%)、水素6.
6%(理論値6.5%)であり、測定値は、測定誤差の範
囲で理論値とよく一致している。1 H-NMR(ppm, CD2Cl2) 1.5(-CCH3 )、6.8-6.9(0-C=CH
-)、6.9-7.0(C(CH3)2-C=CH-)、7.2-7.5(-CH=CH-)、7.7-
7.8(Si-C=CH-) IR(cm-1) 700(m)、720(m)、740(m)、760(m)、8
40(m)、1120(m)、1130(m)、1180(m)、1250(s)、1430
(m)、1510(m)、1605(m)、2960(w) 実施例1と同様に物性及び光学特性を測定した。結果は
表1に示した。
Instead of 2,2-di (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 4,4 '-(1,
3-phenylenediisopropylidene) bisphenol 1
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 7.32 g (50 mmol) was used and dichlorodiphenylsilane and pyridine were simultaneously added dropwise at room temperature without ice-cooling the dichloroethylene solution of the diol. 22.38 g of the desired product was obtained with a yield of 85%. The weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography) was polymer 194800. The measured values of elemental analysis are as follows: carbon 81.8% (theoretical value 82.1%), hydrogen 6.
6% (theoretical value 6.5%), and the measured value agrees well with the theoretical value within the range of measurement error. 1 H-NMR (ppm, CD 2 Cl 2 ) 1.5 (-CC H 3 ), 6.8-6.9 (0-C = C H
-), 6.9-7.0 (C (CH 3 ) 2 -C = C H- ), 7.2-7.5 (-C H = C H- ), 7.7-
7.8 (Si-C = C H- ) IR (cm -1 ) 700 (m), 720 (m), 740 (m), 760 (m), 8
40 (m), 1120 (m), 1130 (m), 1180 (m), 1250 (s), 1430
(m), 1510 (m), 1605 (m), 2960 (w) Physical properties and optical characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0049】(実施例3) 化合物3(化16)の合成(Example 3) Synthesis of compound 3

【0050】[0050]

【化16】 [Chemical 16]

【0051】2,2−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)プロパンの代わりに4,4‘−(1,
4−フェニレンジイソプロピリデン)ビスフェノール1
7.32g(50mmol)を用い、ジオールのジクロ
ロエチレン溶液を氷冷することなく室温のままジクロロ
ジフェニルシランとピリジンを同時に滴下した以外の条
件は実施例1と同じにして反応を行った。収率79%で
目的生成物20.80gを得た。GPC(ゲル透過クロ
マトグラフィー)によるポリスチレン換算の重量平均分
子量はポリマー174000であった。元素分析の測定
値は、炭素82.1 %(理論値82.1%)、水素6.
6%(理論値6.5%)であり、測定値は、測定誤差の範
囲で理論値とよく一致している。1 H-NMR(ppm, CD2Cl2) 1.5(-CCH3 )、6.8-6.9(0-C=CH
-)、6.9-7.0(C(CH3)2-C=CH-、C(CH3)2-C=CH-、 C-CH=CH
-CH=C)、7.2-7.5(CH=CH-)、7.7-7.8(Si-C=CH-) IR(cm-1) 700(m)、720(m)、740(m)、760(m)、840
(m)、1120(m)、1130(m)、1180(m)、1250(s)、1430(m)、
1510(m)、1605(m)、2960(w) 実施例1と同様に物性及び光学特性を測定した。結果は
表1に示した。
Instead of 2,2-di (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 4,4 '-(1,
4-phenylenediisopropylidene) bisphenol 1
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 7.32 g (50 mmol) was used and dichlorodiphenylsilane and pyridine were simultaneously added dropwise at room temperature without ice-cooling the dichloroethylene solution of the diol. 20.80 g of the desired product was obtained with a yield of 79%. The polystyrene-converted weight average molecular weight by GPC (gel permeation chromatography) was 174,000. The measured values of elemental analysis were carbon 82.1% (theoretical value 82.1%), hydrogen 6.
6% (theoretical value 6.5%), and the measured value agrees well with the theoretical value within the range of measurement error. 1 H-NMR (ppm, CD 2 Cl 2 ) 1.5 (-CC H 3 ), 6.8-6.9 (0-C = C H
-), 6.9-7.0 (C (CH 3 ) 2 -C = C H- , C (CH 3 ) 2 -C = C H- , CC H = C H
-C H = C), 7.2-7.5 (C H = C H- ), 7.7-7.8 (Si-C = C H- ) IR (cm -1 ) 700 (m), 720 (m), 740 (m ), 760 (m), 840
(m), 1120 (m), 1130 (m), 1180 (m), 1250 (s), 1430 (m),
1510 (m), 1605 (m), 2960 (w) Physical properties and optical characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0052】(実施例4) 化合物4(化17)の合成(Example 4) Synthesis of compound 4

【0053】[0053]

【化17】 [Chemical 17]

【0054】2,2−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)プロパンの代わりに6,6‘−ジヒド
ロキシ−3,3,3’,3‘−テトラメチル−1,1’
−ビスインダン15.42g(50mmol)を用い、
ジオールのジクロロエチレン溶液を氷冷することなく室
温のままジクロロジフェニルシランとピリジンを同時に
滴下した以外の条件は実施例1と同じにして反応を行っ
た。収率88%で目的生成物21.50gを得た。GP
C(ゲル透過クロマトグラフィー)によるポリスチレン
換算の重量平均分子量はポリマー60000であった。
元素分析の測定値は、炭素81.2 %(理論値81.1
%)、水素6.3%(理論値6.6%)であり、測定値
は、測定誤差の範囲で理論値とよく一致している。1 H-NMR(ppm, CD2Cl2) 1.2(CH3 )、1.9-2.2(-CH2 )、6.
2〜6.3(-O-C(-CH)=CH-)、6.7〜6.9(0-C(CH)=CH-CH)、7.
1-7.3(CH=CH-)、7.5-7.7(Si-C=CH-) IR(cm-1) 700(m)、720(m)、760(s)、970(m)、1120
(m)、1210(m)、1280(m)、1430(m)、1505(s)、1600(m)、
2900(m) 実施例1と同様に物性及び光学特性を測定した。結果は
表1に示した。
Instead of 2,2-di (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 6,6'-dihydroxy-3,3,3 ', 3'-tetramethyl-1,1'
-Using 15.42 g (50 mmol) of bisindane,
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that dichlorodiphenylsilane and pyridine were simultaneously added dropwise at room temperature without cooling the dichloroethylene solution of diol with ice. 21.50 g of the desired product was obtained with a yield of 88%. GP
The polystyrene-converted weight average molecular weight by C (gel permeation chromatography) was 60,000.
The measured value of the elemental analysis is carbon 81.2% (theoretical value 81.1
%) And hydrogen 6.3% (theoretical value 6.6%), and the measured values are in good agreement with the theoretical values within the range of measurement error. 1 H-NMR (ppm, CD 2 Cl 2 ) 1.2 (C H 3 ), 1.9-2.2 (-C H 2 ), 6.
2 to 6.3 (-OC (-CH) = C H- ), 6.7 to 6.9 (0-C (CH) = C H -C H ), 7.
1-7.3 (C H = C H- ), 7.5-7.7 (Si-C = C H- ) IR (cm -1 ) 700 (m), 720 (m), 760 (s), 970 (m), 1120
(m), 1210 (m), 1280 (m), 1430 (m), 1505 (s), 1600 (m),
2900 (m) Physical properties and optical characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0055】(実施例5) 化合物5(化18)の合成(Example 5) Synthesis of compound 5

【0056】[0056]

【化18】 [Chemical 18]

【0057】2,2−ジ(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)プロパンの代わりに4,4‘−ジシク
ロヘキサンジオール9.92g(50mmol)を用
い、ジオールのジクロロエチレン溶液を氷冷することな
く室温のままジクロロジフェニルシランとピリジンを同
時に滴下した以外の条件は実施例1と同じにして反応を
行った。収率77%で目的生成物14.57gを得た。
GPC(ゲル透過クロマトグラフィー)によるポリスチ
レン換算の重量平均分子量はポリマー83000であっ
た。元素分析の測定値は、炭素76.2 %(理論値7
6.1%)、水素8.2%(理論値8.0%)であり、測
定値は、測定誤差の範囲で理論値とよく一致している。1 H-NMR(ppm, CD2Cl2) 0.8-2.0(-CH2 -、-CH-CH-)、
3.6-3.8(-OCH)、7.2-7.5(CH=CH-)、 7.7-7.8(Si-C=CH-) IR(cm-1) 700(m)、720(m)、740(m)、760(m)、1080
(S)、1120(s)、1430(m)、1450(m)、1590(w)、2850(m)、
2930(m)、3190(w) 実施例1と同様に物性及び光学特性を測定した。結果は
表1に示した。
9.92 g (50 mmol) of 4,4'-dicyclohexanediol was used in place of 2,2-di (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, and the dichloroethylene solution of the diol was cooled with ice. The reaction was carried out under the same conditions as in Example 1 except that dichlorodiphenylsilane and pyridine were simultaneously added dropwise at room temperature. 14.57 g of the desired product was obtained with a yield of 77%.
The polystyrene-converted weight average molecular weight by GPC (gel permeation chromatography) was 83,000 polymer. The measured value of elemental analysis is carbon 76.2% (theoretical value 7
6.1%) and hydrogen 8.2% (theoretical value 8.0%), and the measured values are in good agreement with the theoretical values within the range of measurement error. 1 H-NMR (ppm, CD 2 Cl 2 ) 0.8-2.0 (-C H 2- , -C H -C H- ),
3.6-3.8 (-OC H ), 7.2-7.5 (C H = C H- ), 7.7-7.8 (Si-C = C H- ) IR (cm -1 ) 700 (m), 720 (m), 740 (m), 760 (m), 1080
(S), 1120 (s), 1430 (m), 1450 (m), 1590 (w), 2850 (m),
2930 (m), 3190 (w) Physical properties and optical characteristics were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】(参考例)代表的な光学用樹脂であるPM
MA、PC、アートンの物性及び光学特性を測定した。
PMMAのガラス転移温度[Tg]は93℃、光線透過
率は93%、屈折率[nd]は1.49、複屈折率[Δ
nd]は1.46×103であった。PCのガラス転移
温度[Tg]は150℃、光線透過率は90%、屈折率
[nd]は1.59、複屈折率[Δnd]は11.7×
103であった。アートンのガラス転移温度[Tg]は
171℃、光線透過率は92%、屈折率[nd]は1.
51、複屈折率[Δnd]は1.52×103であっ
た。
(Reference Example) PM which is a typical optical resin
The physical properties and optical properties of MA, PC and Arton were measured.
The glass transition temperature [Tg] of PMMA is 93 ° C., the light transmittance is 93%, the refractive index [nd] is 1.49, and the birefringence [Δ].
nd] was 1.46 × 10 3 . The glass transition temperature [Tg] of PC is 150 ° C., the light transmittance is 90%, the refractive index [nd] is 1.59, and the birefringence [Δnd] is 11.7 ×.
It was 10 3 . The glass transition temperature [Tg] of Arton is 171 ° C., the light transmittance is 92%, and the refractive index [nd] is 1.
51, and the birefringence [Δnd] was 1.52 × 10 3 .

【0060】[0060]

【発明の効果】芳香環を2個 有するシラン化合物とジ
ヒドロキシ化合物を縮合化反応させることにより優れた
光学特性を有する新規ケイ素ポリマーを提供する。本発
明の高分子類は透明性に優れ、高屈折率と低複屈折性を
両立し、かつ溶融成形が可能であり、光学レンズ、プリ
ズム、光ディスク基板、光ファイバー、光学フィルム等
に好適である。
The present invention provides a novel silicon polymer having excellent optical properties by subjecting a silane compound having two aromatic rings and a dihydroxy compound to a condensation reaction. The polymers of the present invention are excellent in transparency, have both a high refractive index and a low birefringence, can be melt-molded, and are suitable for optical lenses, prisms, optical disk substrates, optical fibers, optical films and the like.

フロントページの続き (72)発明者 玉井 正司 千葉県袖ヶ浦市長浦580番32 三井化学株 式会社内 Fターム(参考) 4J035 BA02 EA01 EB01 EB02 EB04 EB10 LB20 Continued front page    (72) Inventor Masashi Tamai             580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Mitsui Chemicals, Inc.             Inside the company F-term (reference) 4J035 BA02 EA01 EB01 EB02 EB04                       EB10 LB20

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 化学式(1)(化1)で表される繰り返
し単位を有するケイ素ポリマー。 【化1】 (化学式(1)において、R1、R2はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数1から15のアルキル基、アルコキシ基
であり、R3は化学式(2)(化2)で表される2価の
結合基を表し、これらから選ばれる1種または2種以上
の結合基より構成される。 【化2】 化学式(2)において、X1は化学式(3)(化3)で
表され、X2、X3はそれぞれ独立に化学式(4)(化
4)で表される2価の結合基を表し、これらは異なって
いても、一部または全てが同じでもよい。また、化学式
(2)において、R4、R5、R6、R7は少なくとも1つ
が炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基であり、他
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、アルコキシ基である。また、R8、R9、R10、R11
はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から6のアルキル
基、アルコキシ基である。)。 【化3】 【化4】
1. A silicon polymer having a repeating unit represented by the chemical formula (1) (chemical formula 1). [Chemical 1] (In the chemical formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms or an alkoxy group, and R 3 is a divalent group represented by the chemical formula (2) (chemical formula 2). And is composed of one or more kinds of bonding groups selected from these. In the chemical formula (2), X 1 is represented by the chemical formula (3) (Chemical formula 3), X 2 and X 3 each independently represent a divalent bonding group represented by the chemical formula (4) (Chemical formula 4), These may be different, or some or all may be the same. Further, in the chemical formula (2), at least one of R 4 , R 5 , R 6 , and R 7 is an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the others are each independently a hydrogen atom or 1 to 6 carbon atoms. Is an alkyl group or an alkoxy group. In addition, R 8 , R 9 , R 10 , R 11
Are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group. ). [Chemical 3] [Chemical 4]
【請求項2】 化学式(5)(化5)で表わされるシラ
ン化合物と、化学式(6)(化6)で表わされるジヒド
ロキシ化合物とを、縮合化反応させることを特徴とする
請求項1に記載のケイ素ポリマーの製造方法。 【化5】 (化学式(5)において、R1、R2は前記と同じ意味を
表わし、Xはハロゲン原子、炭素数1から15のアルコ
キシ基である。) 【化6】 (化学式(6)において、R3は前記と同じ意味を表わ
す)
2. The condensation reaction of the silane compound represented by the chemical formula (5) (Chemical formula 5) and the dihydroxy compound represented by the chemical formula (6) (Chemical formula 6). The method for producing a silicon polymer. [Chemical 5] (In the chemical formula (5), R 1 and R 2 have the same meanings as described above, and X is a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms.) (In the chemical formula (6), R 3 has the same meaning as described above.)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008239956A (en) * 2007-02-28 2008-10-09 Tokyo Institute Of Technology Method for producing silicon-containing polymer having fluorene backbone

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008239955A (en) * 2007-02-28 2008-10-09 Tokyo Institute Of Technology New fluorene backbone-containing polymer
JP2008239956A (en) * 2007-02-28 2008-10-09 Tokyo Institute Of Technology Method for producing silicon-containing polymer having fluorene backbone

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