JPH07309947A - Sulfur-containing polymer - Google Patents

Sulfur-containing polymer

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JPH07309947A
JPH07309947A JP6105521A JP10552194A JPH07309947A JP H07309947 A JPH07309947 A JP H07309947A JP 6105521 A JP6105521 A JP 6105521A JP 10552194 A JP10552194 A JP 10552194A JP H07309947 A JPH07309947 A JP H07309947A
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JP
Japan
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sulfur
containing polymer
polymer
mol
refractive index
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JP6105521A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Nagai
康彦 永井
Tomohiro Fukai
知裕 深井
Yasushi Nakayama
靖士 中山
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a sulfur-contg. polymer which has a high refractive index and an excellent heat resistance and is suitable for applications such as an optical lens, a phase difference plate, an antireflection film, and a permselective membrane. CONSTITUTION:A sulfur-contg. polymer having a wt.-average mol.wt. of 10,000 or higher is produced from 40-55mol% dithiol of the formula (wherein R<1> and R<2> are each H, 1-3C alkyl, 1-3C alkoxy, phenyl, hydroxyl, Cl, or Br provided they may be the same or different from each other; and n is an integer of 1-3) and 60-45mol% diviny1 compds. comprising 10-90mol% divinylbenzene and 90-10mol% arom. diacrylate.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率を有し、耐熱
性に優れ、光学レンズ、位相差板、反射防止膜、選択透
過膜等の用途に好適に利用できる含硫黄ポリマーに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sulfur-containing polymer having a high refractive index, excellent heat resistance, and suitable for use in optical lenses, retardation plates, antireflection films, selective transmission films and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチック光学材料は無機ガラス材料
に比べ軽量で割れにくく、成形性にも優れることから、
近年眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素子として急速
に普及してきている。
2. Description of the Related Art Plastic optical materials are lighter in weight than inorganic glass materials, less prone to cracking, and have excellent moldability.
In recent years, it has rapidly spread as an optical element such as a spectacle lens and a camera lens.

【0003】上記プラスチック光学材料として現在広く
用いられているものとしては、例えば、ジエチレングリ
コールビスアリルカーボネートをラジカル重合させたも
の等がある。これらは、軽量で耐衝撃性に優れ、染色も
容易で、切削、研磨等の加工性も良好である等の優れた
性質を有しているが、屈折率が無機ガラスの1.52に
比べて1.50と低いため、例えば、ガラスレンズと同
等の光学物性を得るには、レンズの中心厚、コバ厚及び
曲率等を大きくする必要があり、このため全体に肉厚に
なることが避けられない欠点を有していた。
Materials widely used as the above-mentioned plastic optical materials are, for example, those obtained by radical polymerization of diethylene glycol bisallyl carbonate. These have excellent properties such as light weight, excellent impact resistance, easy dyeing, and good workability such as cutting and polishing, but have a refractive index higher than that of inorganic glass of 1.52. Since it is as low as 1.50, it is necessary to increase the center thickness, edge thickness, curvature, etc. of the lens, for example, in order to obtain optical properties equivalent to those of a glass lens. It had a drawback that was not possible.

【0004】選択反射膜、選択透過膜等の光学多層膜と
して利用するには、1.70以上というさらに高い屈折
率が要求されるが、市販されているプラスチック光学材
料中最高は、ICI社製、ポリエーテルスルホンの1.
64であり、高屈折率を有するプラスチック光学材料は
乏しく、また、1.70を超える屈折率を有していても
透明性や材料の着色等の問題点を有しており、実際に利
用できるものは存在しなかった。従って、現在使用され
ている光学多層膜は無機ガラスの蒸着で作成されている
が、大面積の蒸着が難しく高コストになるため、潜在的
な市場要求はあるものの汎用的に利用されるには至って
いない状態であり、簡便な塗工法によって塗膜を形成し
える高屈折率を有するプラスチック光学材料に対する要
求が高まっていた。
A higher refractive index of 1.70 or more is required for use as an optical multilayer film such as a selective reflection film and a selective transmission film, but the highest commercially available plastic optical material is manufactured by ICI. Polyethersulfone 1.
64, the number of plastic optical materials having a high refractive index is scarce, and even if it has a refractive index of more than 1.70, it has problems such as transparency and coloring of the material, and can be actually used. There was nothing. Therefore, the optical multilayer film currently used is formed by vapor deposition of inorganic glass, but it is difficult to deposit a large area and the cost is high. It has not been reached yet, and there has been an increasing demand for a plastic optical material having a high refractive index capable of forming a coating film by a simple coating method.

【0005】一方、液晶表示用部材の一つである位相差
フィルムは、高速応答性液晶の利用に伴い、高屈折率の
素材が選ばれる方向にあるが、市販されている液晶の屈
折率の範囲は最高1.75であり、このため位相差フィ
ルム素材用としても高屈折率の材料が望まれていた。
On the other hand, a retardation film, which is one of the members for liquid crystal display, tends to be selected for a material having a high refractive index with the use of a fast response liquid crystal. The range is up to 1.75, and therefore, a material having a high refractive index has been desired even for a retardation film material.

【0006】芳香族系含硫黄ポリマーは、耐熱性や耐薬
品性に優れているため、エンジニアリングプラスチック
として有用なものである。また硫黄の原子屈折や芳香族
環の分子屈折の高さから、そのポリマーは高屈折率を有
しており、光学材料としても期待されてきた。
Aromatic sulfur-containing polymers are excellent in heat resistance and chemical resistance, and are useful as engineering plastics. Further, due to the high atomic refraction of sulfur and the high molecular refraction of the aromatic ring, the polymer has a high refractive index and has been expected as an optical material.

【0007】芳香族系含硫黄ポリマーは、ジビニルベン
ゼン等の芳香族化合物と種々のジチオール化合物を重合
させて得られ、例えば、特開昭62−270627号公
報には、ジビニルベンゼンとベンゼンジチオールからな
る含硫黄ポリマーが、特開昭63−277242号公報
にはジビニルベンゼンとピリジンジチオールからなる含
硫黄ポリマーが、また、特開昭63−277243号公
報にはジビニルベンゼンとチオフェンジチオールからな
る含硫黄ポリマーがそれぞれ開示されている。
The aromatic sulfur-containing polymer is obtained by polymerizing an aromatic compound such as divinylbenzene and various dithiol compounds. For example, JP-A-62-270627 discloses divinylbenzene and benzenedithiol. The sulfur-containing polymer is disclosed in JP-A-63-277242 as a sulfur-containing polymer composed of divinylbenzene and pyridinedithiol, and in JP-A-63-277243 as a sulfur-containing polymer composed of divinylbenzene and thiophenedithiol. Each is disclosed.

【0008】しかしながら、ジビニルベンゼンとベンゼ
ンジチオールからなる含硫黄ポリマーの屈折率は約1.
8と高いが、耐熱性の指標であるガラス転移温度(T
g)が室温以下であって、実用上大きな問題となってい
た。また、ジビニルベンゼンとピリジンジチオールから
なる含硫黄ポリマー及びジビニルベンゼンとチオフェン
ジチオールからなる含硫黄ポリマーは、屈折率及びガラ
ス転移温度ともに高い値を持つが、ポリマー生成の収率
が低いという問題点があった。
However, the refractive index of the sulfur-containing polymer composed of divinylbenzene and benzenedithiol is about 1.
Although it is as high as 8, the glass transition temperature (T
g) is below room temperature, which is a serious problem in practical use. Further, the sulfur-containing polymer composed of divinylbenzene and pyridinedithiol and the sulfur-containing polymer composed of divinylbenzene and thiophenedithiol have high values of refractive index and glass transition temperature, but there is a problem that the yield of polymer formation is low. It was

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、高屈折率を有し、かつ耐熱性にも優れた光学材料を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, it is an object of the present invention to provide an optical material having a high refractive index and excellent heat resistance.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、含硫黄
ポリマーを一般式(I)で表されるジチオール40〜5
5モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モル%
及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からなるジ
ビニル化合物60〜45モル%で構成し、重量平均分子
量を10000以上とするところに存する。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The gist of the present invention is to use a sulfur-containing polymer as a dithiol 40-5 represented by the general formula (I).
5 mol% and divinylbenzene 10 to 90 mol%
And 60 to 45 mol% of a divinyl compound composed of 90 to 10 mol% of an aromatic diacrylate, and a weight average molecular weight of 10,000 or more.

【0011】[0011]

【化2】 [Chemical 2]

【0012】式中、R1 、R2 は同一又は異なって水
素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコ
キシル基、フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。
nは1〜3の整数を表す。
In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, Cl or Br.
n represents an integer of 1 to 3.

【0013】本発明の含硫黄ポリマーを構成する第一の
成分は、一般式(I)で表されるジチオールである。上
記ジチオールとしては、例えば、1,4−ベンゼンジチ
オール、1,3−ベンゼンジチオール、1,2−ベンゼ
ンジチオール、2−メチル−1,4−ベンゼンジチオー
ル、2−エチル−1,4−ベンゼンジチオール、2−メ
トキシ−1,4−ベンゼンジチオール、2−クロロ−
1,4−ベンゼンジチオール、ジメルカプトジフェニル
スルフィド、ビス−(4−メルカプト−3−メチル−フ
ェニル)スルフィド、ビス−(4−メルカプト−3−メ
トキシフェニル)スルフィド、ビス−(4−メルカプト
−3−クロロフェニル)スルフィド、4,4′−ジメル
カプトジフェニルスルフィド、1,4−ビス−(4−メ
ルカプトフェニルチオ)ベンゼン等が挙げられる。これ
らの化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混
合して使用してもよい。上記ジチオールの配合割合は、
全モノマー中の40〜55モル%である。40モル%未
満では高屈折率のポリマーが得られず、55モル%を超
えるとポリマーの重合度が低下するので、上記範囲に限
定される。
The first component constituting the sulfur-containing polymer of the present invention is dithiol represented by the general formula (I). Examples of the dithiol include 1,4-benzenedithiol, 1,3-benzenedithiol, 1,2-benzenedithiol, 2-methyl-1,4-benzenedithiol, 2-ethyl-1,4-benzenedithiol, 2-methoxy-1,4-benzenedithiol, 2-chloro-
1,4-benzenedithiol, dimercaptodiphenyl sulfide, bis- (4-mercapto-3-methyl-phenyl) sulfide, bis- (4-mercapto-3-methoxyphenyl) sulfide, bis- (4-mercapto-3-) Examples thereof include chlorophenyl) sulfide, 4,4′-dimercaptodiphenyl sulfide, and 1,4-bis- (4-mercaptophenylthio) benzene. These compounds may be used alone or in combination of two or more. The mixing ratio of the dithiol is
It is 40 to 55 mol% in all monomers. If it is less than 40 mol%, a polymer having a high refractive index cannot be obtained, and if it exceeds 55 mol%, the degree of polymerization of the polymer is lowered, so that it is limited to the above range.

【0014】本発明の含硫黄ポリマーを構成する第二の
成分は、ジビニルベンゼンである。上記ジビニルベンゼ
ンは、オルト体、メタ体、パラ体のいずれを使用するこ
ともできるが、入手のしやすさからメタ体、パラ体が好
ましい。これらの異性体化合物は単独でも2種以上を混
合しても使用することができる。
The second component constituting the sulfur-containing polymer of the present invention is divinylbenzene. The divinylbenzene can be used in any of an ortho form, a meta form, and a para form, but the meta form and the para form are preferable from the viewpoint of easy availability. These isomer compounds can be used alone or in admixture of two or more.

【0015】本発明の含硫黄ポリマーを構成する第三の
成分は、芳香族ジアクリレートである。上記芳香族ジア
クリレートは、その分子内に芳香族環を一つ以上有して
おりかつアクリロイル基又はメタクリロイル基を二つ有
する化合物である。上記芳香族ジアクリレートとして
は、例えば、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイル
オキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(ω−
(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシ)フェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオ
キシジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
(ω−(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシ)ジブ
ロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(ω−
(メタ)アクリロイルオキシポリプロポキシ)フェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイ
ルオキシフェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(ω
−(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシ)フェニ
ル)スルホン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイ
ルオキシジブロモフェニル)スルホン、9,9−ビス
(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−(ω−(メタ)アクリロイルオ
キシポリエトキシ)フェニル)フルオレン、1,4−ジ
ヒドロキシフェニルジ(メタ)アクリレート、4,4′
−ジヒドロキシ−p−ジフェニルジ(メタ)アクリレー
ト、4,4′′−ジヒドロキシ−p−ターフェニルジ
(メタ)アクリレート、4,4′′′−ジヒドロキシ−
p−クォーターフェニルジ(メタ)アクリレート、1,
3−ジヒドロキシナフタレンジ(メタ)アクリレート、
1,5−ジヒドロキシナフタレンジ(メタ)アクリレー
ト、2,3−ジヒドロキシナフタレンジ(メタ)アクリ
レート、2,6−ジヒドロキシナフタレンジ(メタ)ア
クリレート、2,7−ジヒドロキシナフタレンジ(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は、
単独で使用してもよいし、2種以上混合して使用しても
よい。
The third component constituting the sulfur-containing polymer of the present invention is aromatic diacrylate. The aromatic diacrylate is a compound having one or more aromatic rings in its molecule and two acryloyl groups or methacryloyl groups. Examples of the aromatic diacrylate include 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) propane and 2,2-bis (4- (ω-
(Meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl)
Propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydibromophenyl) propane, 2,2-bis (4-
(Ω- (meth) acryloyloxypolyethoxy) dibromophenyl) propane, 2,2-bis (4- (ω-
(Meth) acryloyloxypolypropoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (ω)
-(Meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydibromophenyl) sulfone, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9, 9-bis (4- (ω- (meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl) fluorene, 1,4-dihydroxyphenyldi (meth) acrylate, 4,4 '
-Dihydroxy-p-diphenyldi (meth) acrylate, 4,4 "-dihydroxy-p-terphenyldi (meth) acrylate, 4,4"'-dihydroxy-
p-quaterphenyl di (meth) acrylate, 1,
3-dihydroxynaphthalene di (meth) acrylate,
1,5-dihydroxynaphthalene di (meth) acrylate, 2,3-dihydroxy naphthalene di (meth) acrylate, 2,6-dihydroxy naphthalene di (meth) acrylate, 2,7-dihydroxy naphthalene di (meth) acrylate, etc. To be These compounds are
They may be used alone or in combination of two or more.

【0016】上記ジビニルベンゼンと上記芳香族ジアク
リレートの配合割合は、両モノマーを合わせたもののう
ち、芳香族ジアクリレートが90〜10モル%であり、
より好ましくは80〜20モル%である。芳香族ジアク
リレートが10モル%未満ではポリマーの耐熱性の向上
が充分でなく、90モル%を超えると高い屈折率が得ら
れないので、上記範囲に限定される。
The blending ratio of the above-mentioned divinylbenzene and the above-mentioned aromatic diacrylate is 90 to 10 mol% of the aromatic diacrylate in the combination of both monomers.
It is more preferably 80 to 20 mol%. When the amount of aromatic diacrylate is less than 10 mol%, the heat resistance of the polymer is not sufficiently improved, and when it exceeds 90 mol%, a high refractive index cannot be obtained.

【0017】上記三成分からなる含硫黄ポリマーの重量
平均分子量はポリスチレン換算で10000以上であ
る。10000未満では成形性や膜形成性が劣化するの
で、上記範囲に限定される。また、本発明の含硫黄ポリ
マーを硬化性塗膜等に利用する場合には、特に分子量の
上限は限定されないが、熱可塑性樹脂として成形性が必
要とされるときは、分子量が1000000以下のもの
が好ましい。
The weight average molecular weight of the sulfur-containing polymer composed of the above three components is 10,000 or more in terms of polystyrene. If it is less than 10,000, the moldability and the film-forming property are deteriorated, so the content is limited to the above range. Further, when the sulfur-containing polymer of the present invention is used for a curable coating film, the upper limit of the molecular weight is not particularly limited, but when the moldability as a thermoplastic resin is required, the molecular weight is 1,000,000 or less. Is preferred.

【0018】本発明の含硫黄ポリマーの製造方法は特に
限定されず、例えば、上記ジチオール、ジビニルベンゼ
ン及び芳香族ジアクリレートを配合し、ラジカル重合開
始剤の存在下又は非存在下で加熱するか、紫外線照射す
る方法等により上記含硫黄ポリマーを容易に得ることが
できる。この場合、重合はバルクで行っても溶液中で行
ってもよい。上記溶媒としてはこれらモノマーの良溶媒
であれば特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。上
記ラジカル重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾ
イル、過酸化−tert−ブチル、ラウロイルパーオキ
サイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、2,
2′−アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘ
キサンカルボニル等が挙げられる。その使用量は、ジビ
ニルベンゼン及び芳香族ジアクリレートを合わせたもの
に対し0.1〜10モル%が好ましく、0.5〜5モル
%がより好ましい。
The method for producing the sulfur-containing polymer of the present invention is not particularly limited. For example, the above-mentioned dithiol, divinylbenzene and aromatic diacrylate are blended and heated in the presence or absence of a radical polymerization initiator, The above-mentioned sulfur-containing polymer can be easily obtained by a method such as ultraviolet irradiation. In this case, the polymerization may be carried out in bulk or in solution. The solvent is not particularly limited as long as it is a good solvent for these monomers, and examples thereof include benzene, toluene, xylene, and tetrahydrofuran. Examples of the radical polymerization initiator include benzoyl peroxide, -tert-butyl peroxide, lauroyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, 2,
2'-azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexanecarbonyl and the like can be mentioned. The amount used is preferably 0.1 to 10 mol%, more preferably 0.5 to 5 mol% based on the total amount of divinylbenzene and aromatic diacrylate.

【0019】[0019]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

【0020】実施例1含硫黄ポリマーの調製 減圧蒸留により精製したp−ジビニルベンゼン0.39
g(3mmol)、ジメルカプトジフェニルスルフィド
1.22g(5mmol)、2,2−ビス(4−メタク
リロイルオキシフェニル)プロパン0.73g(2mm
ol)、重合開始剤として4,4′−アゾビスイソブチ
ロニトリル0.036g(0.022mmol)、さら
に重合溶媒としてトルエン20mlをフラスコ内に仕込
んだ。この後フラスコをドライアイス−メタノール浴に
て充分冷却し、減圧、窒素導入という操作を3回繰り返
した。次にフラスコを70℃の恒温槽に入れて、7時間
攪拌しながら反応させた。反応終了後に重合液をメタノ
ール中に落とし、ポリマーを析出させて回収した。その
後デカンテーション、遠心分離により溶媒を分離し、メ
タノールによる洗浄を繰り返して未反応物を除去した。
収率は93%であった。上記モノマーの配合量、収率は
表1に示した。
Example 1 Preparation of Sulfur-Containing Polymer p-Divinylbenzene 0.39 purified by vacuum distillation
g (3 mmol), dimercaptodiphenyl sulfide 1.22 g (5 mmol), 2,2-bis (4-methacryloyloxyphenyl) propane 0.73 g (2 mm
ol), 0.036 g (0.022 mmol) of 4,4′-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, and 20 ml of toluene as a polymerization solvent were charged in the flask. After that, the flask was sufficiently cooled in a dry ice-methanol bath, and the operations of decompressing and introducing nitrogen were repeated three times. Next, the flask was placed in a constant temperature bath of 70 ° C. and reacted while stirring for 7 hours. After completion of the reaction, the polymerization liquid was dropped into methanol to precipitate a polymer, which was then collected. Then, the solvent was separated by decantation and centrifugation, and washing with methanol was repeated to remove unreacted substances.
The yield was 93%. The blending amounts and yields of the above monomers are shown in Table 1.

【0021】重量平均分子量(Mw)の測定 得られた含硫黄ポリマーをゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー(GPC)法によりポリスチレン換算にて
その分子量を測定した。カラムクロマトグラフィーは、
東ソー社製GPCシステムにより行った。結果は表1に
示した。
Measurement of Weight Average Molecular Weight (Mw) The obtained sulfur-containing polymer was measured for its molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) method. Column chromatography
It was performed by a Tosoh GPC system. The results are shown in Table 1.

【0022】ガラス転移温度(Tg)の測定 セイコーインスツルメンツ社製示差走査熱量計により測
定した。結果は表1に示した。
Measurement of glass transition temperature (Tg) It was measured by a differential scanning calorimeter manufactured by Seiko Instruments. The results are shown in Table 1.

【0023】屈折率の測定 得られたポリマーをジクロロメタンに溶解し、平滑な製
膜板の上に流延させてキャストフィルムを作製し、この
フィルムの屈折率をエリプソメーター(溝尻光学社製)
により23℃で測定した。結果は表1に示した。
Measurement of Refractive Index The obtained polymer was dissolved in dichloromethane and cast on a smooth film-forming plate to prepare a cast film, and the refractive index of this film was measured by an ellipsometer (Mizojiri Optical Co., Ltd.).
At 23 ° C. The results are shown in Table 1.

【0024】ポリマー中の各モノマー組成比の測定 実施例1で得られた含硫黄ポリマーの 1H−NMR測定
(テトラメチルシラン標準、ppm単位)を行い、結果
を下記に示した。 a群:7.2〜6.7 M (多重線) b群:2.7〜3.2 M (多重線) c群: 1.9 S (一重線) d群: 1.6 S (一重線) 上記a〜dはそれぞれ下記の式のプロトンに対応する。
これらからポリマー中のモノマー組成比を求めると、仕
込み組成とほぼ同等のモノマーにより構成されているこ
とが確認された。
Measurement of each monomer composition ratio in the polymer The 1 H-NMR measurement (tetramethylsilane standard, ppm unit) of the sulfur-containing polymer obtained in Example 1 was carried out, and the results are shown below. Group a: 7.2 to 6.7 M (multiple lines) Group b: 2.7 to 3.2 M (multiple lines) Group c: 1.9 S (single line) Group d: 1.6 S (single line) Line) The above a to d respectively correspond to protons in the following formula.
When the monomer composition ratio in the polymer was obtained from these, it was confirmed that the polymer was composed of monomers having almost the same composition as the charged composition.

【0025】[0025]

【化3】 [Chemical 3]

【0026】実施例2〜6 p−ジビニルベンゼン以外は、表1のモノマー組成で仕
込み、実施例1と同様にして重合をおこなった。得られ
たポリマーの重量平均分子量、ガラス転移温度、屈折率
を測定し、結果を表1に示した。また、得られたそれぞ
れのポリマーについて実施例1と同様にして 1H−NM
R測定を行い、仕込み組成とほぼ同等のモノマーにより
構成されていることを確認した。
Examples 2 to 6 Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that the monomer composition shown in Table 1 was used except for p-divinylbenzene. The weight average molecular weight, glass transition temperature and refractive index of the obtained polymer were measured, and the results are shown in Table 1. Further, for each of the obtained polymers, 1 H-NM was prepared in the same manner as in Example 1.
R measurement was carried out, and it was confirmed that it was composed of a monomer having almost the same composition as the charged composition.

【0027】実施例7 重合溶媒をトルエンからテトラヒドロフランに変えたこ
と以外は、実施例1と同様にして含硫黄ポリマーを得、
重量平均分子量、ガラス転移温度、屈折率を測定し、こ
れらの結果を表1に示した。また、得られた含硫黄ポリ
マーについて実施例1と同様にして 1H−NMR測定を
行い、仕込み組成とほぼ同等のモノマーにより構成され
ていることを確認した。
Example 7 A sulfur-containing polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymerization solvent was changed from toluene to tetrahydrofuran.
The weight average molecular weight, glass transition temperature, and refractive index were measured, and the results are shown in Table 1. Further, the obtained sulfur-containing polymer was subjected to 1 H-NMR measurement in the same manner as in Example 1, and it was confirmed that the sulfur-containing polymer was composed of a monomer having almost the same composition as the charged composition.

【0028】実施例8 実施例1と同様にモノマー成分を仕込んだ後、反応混合
液を60℃に保持して紫外線(450W 高圧水銀灯)
を5時間照射して重合させた。重合後は実施例1と同様
にして処理した。得られたポリマーの重量平均分子量、
ガラス転移温度、屈折率を測定し、結果を表1に示し
た。また、得られた含硫黄ポリマーについて実施例1と
同様にして 1H−NMR測定を行い、仕込み組成とほぼ
同等のモノマーにより構成されていることを確認した。
Example 8 After charging the monomer components in the same manner as in Example 1, the reaction mixture was kept at 60 ° C. and ultraviolet rays (450 W high pressure mercury lamp).
Was irradiated for 5 hours to polymerize. After the polymerization, the same treatment as in Example 1 was carried out. The weight average molecular weight of the obtained polymer,
The glass transition temperature and the refractive index were measured, and the results are shown in Table 1. Further, the obtained sulfur-containing polymer was subjected to 1 H-NMR measurement in the same manner as in Example 1, and it was confirmed that the sulfur-containing polymer was composed of a monomer having almost the same composition as the charged composition.

【0029】比較例1〜3 比較例1及び2ではp−ジビニルベンゼンを5mmol
とし、比較例3ではp−ジビニルベンゼンを加えず、残
部を表1の組成で仕込んだこと以外は、実施例1と同様
に重合を行った。得られたポリマーの重量平均分子量、
ガラス転移温度、屈折率を測定し、結果を表1に示し
た。また、得られたポリマーについて実施例1と同様に
して 1H−NMR測定を行い、仕込み組成とほぼ同等の
モノマーにより構成されていることを確認した。
Comparative Examples 1 to 3 In Comparative Examples 1 and 2, 5 mmol of p-divinylbenzene was used.
In Comparative Example 3, p-divinylbenzene was not added, and the remainder was charged in the composition shown in Table 1 to carry out polymerization in the same manner as in Example 1. The weight average molecular weight of the obtained polymer,
The glass transition temperature and the refractive index were measured, and the results are shown in Table 1. Further, 1 H-NMR measurement was performed on the obtained polymer in the same manner as in Example 1, and it was confirmed that the polymer was composed of a monomer having almost the same composition as the charged composition.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の含硫黄ポリマーは上記3種のモ
ノマーからなり、高屈折率を有し、耐熱性に優れてお
り、光学レンズ、位相差板、反射防止膜、選択透過膜等
の光学材料として好適に利用できる。
Industrial Applicability The sulfur-containing polymer of the present invention is composed of the above-mentioned three kinds of monomers, has a high refractive index and is excellent in heat resistance, and can be used in optical lenses, retardation plates, antireflection films, selective transmission films, etc. It can be suitably used as an optical material.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式(I)で表されるジチオール40
〜55モル%、並びに、ジビニルベンゼン10〜90モ
ル%及び芳香族ジアクリレート90〜10モル%からな
るジビニル化合物60〜45モル%からなり、重量平均
分子量が10000以上であることを特徴とする含硫黄
ポリマー。 【化1】 式中、R1 、R2 は、同一又は異なって、水素、炭素数
1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、
フェニル基、水酸基、Cl又はBrを表す。nは1〜3
の整数を表す。
1. A dithiol 40 represented by the general formula (I).
.About.55 mol%, and 60 to 45 mol% of a divinyl compound consisting of 10 to 90 mol% of divinylbenzene and 90 to 10 mol% of an aromatic diacrylate, and having a weight average molecular weight of 10,000 or more. Sulfur polymer. [Chemical 1] In the formula, R 1 and R 2 are the same or different and each represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms,
It represents a phenyl group, a hydroxyl group, Cl or Br. n is 1 to 3
Represents the integer.
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