JP2003313163A - N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製造方法 - Google Patents
N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、医薬、農薬および工業薬品
の中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメタノ
ールおよび2−ピロリジンメタノールについて工業的に
好適な製造方法を提供することにある。 【解決手段】 N−置換−2−ピロリジンカルボン酸を
N−置換−2−ピロリジンカルボン酸のハロゲン化物と
した後、還元することによりN−置換−2−ピロリジン
メタノールが高純度、高収率で、かつ工業的に好適に得
られる。また、当該N−置換−2−ピロリジンメタノー
ルを脱保護基反応させることにより、高純度の2−ピロ
リジンメタノールが高収率で得られ、特に光学活性を有
する(S)−2−ピロリジンメタノールおよび(R)−
2−ピロリジンメタノールにおいては高純度で光学活性
が維持されたものが対応するN−置換−2−ピロリジン
カルボン酸から高収率で得られる。
の中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメタノ
ールおよび2−ピロリジンメタノールについて工業的に
好適な製造方法を提供することにある。 【解決手段】 N−置換−2−ピロリジンカルボン酸を
N−置換−2−ピロリジンカルボン酸のハロゲン化物と
した後、還元することによりN−置換−2−ピロリジン
メタノールが高純度、高収率で、かつ工業的に好適に得
られる。また、当該N−置換−2−ピロリジンメタノー
ルを脱保護基反応させることにより、高純度の2−ピロ
リジンメタノールが高収率で得られ、特に光学活性を有
する(S)−2−ピロリジンメタノールおよび(R)−
2−ピロリジンメタノールにおいては高純度で光学活性
が維持されたものが対応するN−置換−2−ピロリジン
カルボン酸から高収率で得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬および工業
薬品中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメタ
ノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製
造方法に関する。
薬品中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメタ
ノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の2−ピロリジンメタノールの製造
方法については、次に記載の方法等が知られている。
方法については、次に記載の方法等が知られている。
【0003】例えば、オーガニック・シンセシス・コレ
クティブボリューム 第7巻、26頁では、還元剤とし
てLiAlH4を用いることにより、(S)−プロリン
を還元し(S)−2−ピロリジンメタノールを得る方法
が記載されている。しかし、LiAlH4は優れた還元剤
である反面、発火性があり、また高価であることより工
業的生産手段としては問題を有する。
クティブボリューム 第7巻、26頁では、還元剤とし
てLiAlH4を用いることにより、(S)−プロリン
を還元し(S)−2−ピロリジンメタノールを得る方法
が記載されている。しかし、LiAlH4は優れた還元剤
である反面、発火性があり、また高価であることより工
業的生産手段としては問題を有する。
【0004】また、特開平5−221935号公報で
は、還元剤として金属ホウ素水素化物とジアルキル硫酸
及びパラトルエンスルホン酸アルキルから選ばれる化合
物とを組み合わせて用いることにより、アミノ酸誘導体
を還元しアミノアルコール類を得る方法が記載されてい
る。しかし、この方法は、金属ホウ素水素化物−ボラン
共存系の還元反応となり、爆発性及び毒性があるジボラ
ンが多量に発生するため、工業的生産手段としては問題
を有する。
は、還元剤として金属ホウ素水素化物とジアルキル硫酸
及びパラトルエンスルホン酸アルキルから選ばれる化合
物とを組み合わせて用いることにより、アミノ酸誘導体
を還元しアミノアルコール類を得る方法が記載されてい
る。しかし、この方法は、金属ホウ素水素化物−ボラン
共存系の還元反応となり、爆発性及び毒性があるジボラ
ンが多量に発生するため、工業的生産手段としては問題
を有する。
【0005】また類似化合物の製法としては、特開平1
1−12235号公報には、非環状アミノ酸ハライドの
塩酸塩等を金属ホウ素水素化物を用いて還元し、アミノ
アルコールを製造する方法が記載されている。しかし、
この方法により、2−ピロリジンカルボン酸を酸クロラ
イド化し、さらに金属ホウ素水素化物(NaBH4)に
より還元したが、対応する2−ピロリジンメタノールは
得られなかった。
1−12235号公報には、非環状アミノ酸ハライドの
塩酸塩等を金属ホウ素水素化物を用いて還元し、アミノ
アルコールを製造する方法が記載されている。しかし、
この方法により、2−ピロリジンカルボン酸を酸クロラ
イド化し、さらに金属ホウ素水素化物(NaBH4)に
より還元したが、対応する2−ピロリジンメタノールは
得られなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、医
薬、農薬および工業薬品の中間体として有用なN−置換
−2−ピロリジンメタノールおよび2−ピロリジンメタ
ノールについて工業的に安全且つ、有利に製造する方法
を提供することである。
薬、農薬および工業薬品の中間体として有用なN−置換
−2−ピロリジンメタノールおよび2−ピロリジンメタ
ノールについて工業的に安全且つ、有利に製造する方法
を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、N−置換
−2−ピロリジンメタノールおよび2−ピロリジンメタ
ノールについて工業的に安全且つ、有利に製造する方法
について鋭意検討した結果、下記一般式(1)
−2−ピロリジンメタノールおよび2−ピロリジンメタ
ノールについて工業的に安全且つ、有利に製造する方法
について鋭意検討した結果、下記一般式(1)
【0008】
【化5】
(R1は、N原子の保護基であって、置換基を有してい
てもよい炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル
基または芳香族アシル基、置換基を有していてもよい炭
素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族アルコキ
シカルボニル基、フェノキシカルボキシ基またはアラル
キルオキシカルボニル基を表わす。)で示されるN−置
換−2−ピロリジンカルボン酸をN−置換−2−ピロリ
ジンカルボン酸のハロゲン化物とした後、金属ホウ素水
素化物によって還元することによりN−置換−2−ピロ
リジンメタノールが高純度、高収率で、かつ工業的に安
全に得られること、および当該N−置換−2−ピロリジ
ンメタノールを脱保護基反応させることにより、高純度
の2−ピロリジンメタノールが高収率で得られ、特に光
学活性を有する(S)−N−置換−2−ピロリジンカル
ボン酸または(R)−N−置換−2−ピロリジンカルボ
ン酸を原料として用いた場合、それぞれ光学活性が維持
された(S)−2−ピロリジンメタノールおよび(R)
−2−ピロリジンメタノールが得られることを見出し、
本発明を完成した。
てもよい炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル
基または芳香族アシル基、置換基を有していてもよい炭
素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族アルコキ
シカルボニル基、フェノキシカルボキシ基またはアラル
キルオキシカルボニル基を表わす。)で示されるN−置
換−2−ピロリジンカルボン酸をN−置換−2−ピロリ
ジンカルボン酸のハロゲン化物とした後、金属ホウ素水
素化物によって還元することによりN−置換−2−ピロ
リジンメタノールが高純度、高収率で、かつ工業的に安
全に得られること、および当該N−置換−2−ピロリジ
ンメタノールを脱保護基反応させることにより、高純度
の2−ピロリジンメタノールが高収率で得られ、特に光
学活性を有する(S)−N−置換−2−ピロリジンカル
ボン酸または(R)−N−置換−2−ピロリジンカルボ
ン酸を原料として用いた場合、それぞれ光学活性が維持
された(S)−2−ピロリジンメタノールおよび(R)
−2−ピロリジンメタノールが得られることを見出し、
本発明を完成した。
【0009】以下、本発明について更に詳細に説明す
る。
る。
【0010】本発明においてN−置換−2−ピロリジン
カルボン酸とは、2−ピロリジンカルボン酸のN原子に
保護基を導入した化合物を言う。N原子の保護基
(R1)としては、置換基を有していてもよい炭素数1
〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル基または芳香族ア
シル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の直
鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族炭酸エステル基または芳香
族炭酸エステル基等が挙げられる。例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボキシ基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のア
ラルキルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基等が挙げられ、このなかでも、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、アセチル基、ベンゾイル基が好ましい。N
−置換−2−ピロリジンカルボン酸は、例えば、ピロリ
ジンカルボン酸から実験化学講座第4版Vol.22、
228−258頁等に記載された公知の方法により合成
される。
カルボン酸とは、2−ピロリジンカルボン酸のN原子に
保護基を導入した化合物を言う。N原子の保護基
(R1)としては、置換基を有していてもよい炭素数1
〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル基または芳香族ア
シル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜10の直
鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族炭酸エステル基または芳香
族炭酸エステル基等が挙げられる。例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボキシ基、ベンジルオキシカルボ
ニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基等のア
ラルキルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基等が挙げられ、このなかでも、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、アセチル基、ベンゾイル基が好ましい。N
−置換−2−ピロリジンカルボン酸は、例えば、ピロリ
ジンカルボン酸から実験化学講座第4版Vol.22、
228−258頁等に記載された公知の方法により合成
される。
【0011】N−置換−2−ピロリジンカルボン酸ハロ
ゲン化物は、N−置換−2−ピロリジンカルボン酸のカ
ルボン酸の部分を酸ハロゲン化物とすることにより得ら
れる。例えば、塩化チオニル等のクロル化剤により、反
応溶媒の存在下又は不存在下においてN−置換−2−ピ
ロリジンカルボン酸は、容易にクロル化され、N−置換
−2−ピロリジンカルボン酸クロライドが得られる。
ハロゲン化反応の際の温度条件は、通常、−20℃〜7
0℃の範囲で行なわれ、好ましくは0℃〜50℃で行な
われる。
ゲン化物は、N−置換−2−ピロリジンカルボン酸のカ
ルボン酸の部分を酸ハロゲン化物とすることにより得ら
れる。例えば、塩化チオニル等のクロル化剤により、反
応溶媒の存在下又は不存在下においてN−置換−2−ピ
ロリジンカルボン酸は、容易にクロル化され、N−置換
−2−ピロリジンカルボン酸クロライドが得られる。
ハロゲン化反応の際の温度条件は、通常、−20℃〜7
0℃の範囲で行なわれ、好ましくは0℃〜50℃で行な
われる。
【0012】本発明においてハロゲン化反応の際に必要
に応じて用いる溶媒としては、反応が影響をうけない溶
媒であれば、特に限定されず、例えば、トルエン、ジブ
チルエーテル、o−ジクロロベンゼン、酢酸エチル等が
挙げられる。
に応じて用いる溶媒としては、反応が影響をうけない溶
媒であれば、特に限定されず、例えば、トルエン、ジブ
チルエーテル、o−ジクロロベンゼン、酢酸エチル等が
挙げられる。
【0013】本発明においては、N−置換−2−ピロリ
ジンカルボン酸のハロゲン化物をN−置換−2−ピロリ
ジンメタノールに還元する場合の還元剤として金属ホウ
素化水素化物を用いる。上記金属ホウ素化水素化物とし
ては、LiBH4、NaBH4、KBH4等が挙げられ、
その中でもNaBH4が好ましい。
ジンカルボン酸のハロゲン化物をN−置換−2−ピロリ
ジンメタノールに還元する場合の還元剤として金属ホウ
素化水素化物を用いる。上記金属ホウ素化水素化物とし
ては、LiBH4、NaBH4、KBH4等が挙げられ、
その中でもNaBH4が好ましい。
【0014】金属ホウ素化水素化物の使用量は、通常、
0.5〜3.0倍モル量であり、好ましくは1.0〜
2.0倍モル量である。0.5倍モル量より少ない場合
は収率が低下し、3.0倍モル量より多い場合は経済性
が悪くなるため好ましくない。
0.5〜3.0倍モル量であり、好ましくは1.0〜
2.0倍モル量である。0.5倍モル量より少ない場合
は収率が低下し、3.0倍モル量より多い場合は経済性
が悪くなるため好ましくない。
【0015】本発明における還元反応時の温度は、通
常、−30〜50℃で行なわれ、好ましくは−15〜1
0℃で行なわれる。
常、−30〜50℃で行なわれ、好ましくは−15〜1
0℃で行なわれる。
【0016】本発明における還元反応時に必要に応じて
用いられる溶媒としては、金属ホウ素水素化物と反応し
ないものであれば、特に限定されず、たとえば、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
用いられる溶媒としては、金属ホウ素水素化物と反応し
ないものであれば、特に限定されず、たとえば、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。
【0017】本発明において2−ピロリジンメタノール
は、N−置換−2−ピロリジンメタノールに対し脱保護
基反応を行なうことにより得られ、脱保護基反応として
は、公知の方法で実施される。例えば、実験化学講座第
4版Vol.22、271〜281頁およびPROTE
CTIVE GROUPS in ORGANICSY
NTHESIS 503〜631頁等に記載された方法
が挙げられる。
は、N−置換−2−ピロリジンメタノールに対し脱保護
基反応を行なうことにより得られ、脱保護基反応として
は、公知の方法で実施される。例えば、実験化学講座第
4版Vol.22、271〜281頁およびPROTE
CTIVE GROUPS in ORGANICSY
NTHESIS 503〜631頁等に記載された方法
が挙げられる。
【0018】保護基にアルコキシカルボニル基を導入し
た場合の脱保護基反応は、N−置換−2−ピロリジンメ
タノールを加水分解することにより得られ、通常、N−
置換−2−ピロリジンメタノールのモル比に対し1.0
〜3.0倍モル量の酸またはアルカリの存在下で、10
℃〜80℃で加水分解させることにより2−ピロリジン
メタノールを得ることができる。
た場合の脱保護基反応は、N−置換−2−ピロリジンメ
タノールを加水分解することにより得られ、通常、N−
置換−2−ピロリジンメタノールのモル比に対し1.0
〜3.0倍モル量の酸またはアルカリの存在下で、10
℃〜80℃で加水分解させることにより2−ピロリジン
メタノールを得ることができる。
【0019】加水分解の際に必要に応じて用いられる溶
媒としては、水、アルコール類等が用いられる。
媒としては、水、アルコール類等が用いられる。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、医薬、農薬および工業
薬品の中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメ
タノール及び2−ピロリジンメタノールを合成する際
に、N原子が、特定の構造を有する保護基により保護さ
れた化合物を原料として用いることにより、工業的に安
全且つ、有利に製造することができる。また、光学活性
を有する化合物を原料として用いた場合には光学活性の
維持された(S)−N−置換−2−ピロリジンメタノー
ル、(R)−N−置換−2−ピロリジンメタノール、
(S)−2−ピロリジンメタノール又は(R)−2−ピ
ロリジンメタノールが高純度、高収率で得られる。
薬品の中間体として有用なN−置換−2−ピロリジンメ
タノール及び2−ピロリジンメタノールを合成する際
に、N原子が、特定の構造を有する保護基により保護さ
れた化合物を原料として用いることにより、工業的に安
全且つ、有利に製造することができる。また、光学活性
を有する化合物を原料として用いた場合には光学活性の
維持された(S)−N−置換−2−ピロリジンメタノー
ル、(R)−N−置換−2−ピロリジンメタノール、
(S)−2−ピロリジンメタノール又は(R)−2−ピ
ロリジンメタノールが高純度、高収率で得られる。
【0021】
【実施例】以下に本発明の方法を実施例により更に具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【0022】尚、光学活性物質の比旋光度については以
下の文献値を参照した。 (S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸:Tetrahedron,48(37),199
2 8007〜8022頁 (S)−2−ピロリジンメタノール:Tetrahed
ron,56(2),2000 233−248頁
下の文献値を参照した。 (S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸:Tetrahedron,48(37),199
2 8007〜8022頁 (S)−2−ピロリジンメタノール:Tetrahed
ron,56(2),2000 233−248頁
【0023】
【実施例1】N−メトキシカルボニル−2−ピロリジン
カルボン酸34.6g(0.2モル)をトルエン65m
l、N,N−ジメチルホルムアミド1ml中に加え、1
0〜20℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル28.6g
(0.24モル)を滴下し、3時間攪拌した。原料のピ
ークの消失と酸クロライドの単一ピークをガスクロマト
グラフィーで確認後、50〜55℃で濃縮し、N−メト
キシカルボニル−2−ピロリジンカルボン酸クロライド
を得た。次いで、テトラヒドロフラン65mlにNaB
H411.3g(0.3モル)を添加し、−15℃に冷
却後、前工程で得られたN−メトキシカルボニル−2−
ピロリジンカルボン酸クロライドを滴下し、−15℃〜
0℃の温度で3時間反応した。反応終了後、水を加え、
過剰のNaBH4を分解させて、無機分を除去後、これ
を濃縮し、N−メトキシカルボニル−2−ピロリジンメ
タノール27.1gを得た。(N−メトキシカルボニル
−2−ピロリジンカルボン酸基準の収率85%) このN−メトキシカルボニル−2−ピロリジンメタノー
ル27.1gに水60mlとKOHを23.4g加え、
昇温し、65〜70℃で5時間保温攪拌下に反応後、テ
トラヒドロフランを加え、有機層を分離し、濃縮し、G
C純度99%の2−ピロリジンメタノール16.3gを
得た。(N−メトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸基準の収率80%)
カルボン酸34.6g(0.2モル)をトルエン65m
l、N,N−ジメチルホルムアミド1ml中に加え、1
0〜20℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル28.6g
(0.24モル)を滴下し、3時間攪拌した。原料のピ
ークの消失と酸クロライドの単一ピークをガスクロマト
グラフィーで確認後、50〜55℃で濃縮し、N−メト
キシカルボニル−2−ピロリジンカルボン酸クロライド
を得た。次いで、テトラヒドロフラン65mlにNaB
H411.3g(0.3モル)を添加し、−15℃に冷
却後、前工程で得られたN−メトキシカルボニル−2−
ピロリジンカルボン酸クロライドを滴下し、−15℃〜
0℃の温度で3時間反応した。反応終了後、水を加え、
過剰のNaBH4を分解させて、無機分を除去後、これ
を濃縮し、N−メトキシカルボニル−2−ピロリジンメ
タノール27.1gを得た。(N−メトキシカルボニル
−2−ピロリジンカルボン酸基準の収率85%) このN−メトキシカルボニル−2−ピロリジンメタノー
ル27.1gに水60mlとKOHを23.4g加え、
昇温し、65〜70℃で5時間保温攪拌下に反応後、テ
トラヒドロフランを加え、有機層を分離し、濃縮し、G
C純度99%の2−ピロリジンメタノール16.3gを
得た。(N−メトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸基準の収率80%)
【0024】
【実施例2】(S)−N−エトキシカルボニル−2−ピ
ロリジンカルボン酸(比旋光度:[α]D 20 −68°
(C=4.2,メタノール )(文献値−68.1
°))37.4g(0.2モル)をトルエン50ml中
に加え、20〜30℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル
28.6g(0.24モル)を滴下し3時間攪拌した。
原料のピークの消失と酸クロライドの単一ピークをガス
クロマトグラフィーで確認後、50〜55℃で濃縮し、
(S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸クロライドを得た。次いで、テトラヒドロフラン
65mlにNaBH49.08g(0.24モル)を添
加し、−15℃に冷却後、前工程で得られた(S)−N
−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカルボン酸クロ
ライドを滴下し、−15℃〜0℃の温度で3時間反応し
た。反応終了後、水を滴下し、過剰のNaBH4を分解
させて無機分を除去後、これを濃縮し、(S)−N−エ
トキシカルボニル−2−ピロリジンメタノール30.2
gを得た。((S)−N−エトキシカルボニル−2−ピ
ロリジンカルボン酸基準の収率87%) この(S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジン
メタノール30.2gに水60mlとKOHを23.4
g加え、昇温し、65〜70℃で5時間保温攪拌下に反
応後、テトラヒドロフランを加え、有機層を分離濃縮
し、GC純度98%の(S)−2−ピロリジンメタノー
ル(比旋光度:[α]D 20 +31°(C=1, トルエ
ン)(文献値+30.4°))17.5gを得た。
((S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカ
ルボン酸基準の収率85%)
ロリジンカルボン酸(比旋光度:[α]D 20 −68°
(C=4.2,メタノール )(文献値−68.1
°))37.4g(0.2モル)をトルエン50ml中
に加え、20〜30℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル
28.6g(0.24モル)を滴下し3時間攪拌した。
原料のピークの消失と酸クロライドの単一ピークをガス
クロマトグラフィーで確認後、50〜55℃で濃縮し、
(S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカル
ボン酸クロライドを得た。次いで、テトラヒドロフラン
65mlにNaBH49.08g(0.24モル)を添
加し、−15℃に冷却後、前工程で得られた(S)−N
−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカルボン酸クロ
ライドを滴下し、−15℃〜0℃の温度で3時間反応し
た。反応終了後、水を滴下し、過剰のNaBH4を分解
させて無機分を除去後、これを濃縮し、(S)−N−エ
トキシカルボニル−2−ピロリジンメタノール30.2
gを得た。((S)−N−エトキシカルボニル−2−ピ
ロリジンカルボン酸基準の収率87%) この(S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジン
メタノール30.2gに水60mlとKOHを23.4
g加え、昇温し、65〜70℃で5時間保温攪拌下に反
応後、テトラヒドロフランを加え、有機層を分離濃縮
し、GC純度98%の(S)−2−ピロリジンメタノー
ル(比旋光度:[α]D 20 +31°(C=1, トルエ
ン)(文献値+30.4°))17.5gを得た。
((S)−N−エトキシカルボニル−2−ピロリジンカ
ルボン酸基準の収率85%)
【0025】
【比較例1】2−ピロリジンカルボン酸23.0g
(0.2モル)をジメトキシエタン100ml中に加
え、0〜5℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル23.8
g(0.2モル)を滴下し10〜15時間攪拌後、濃縮
し、2−ピロリジンカルボン酸クロリド塩酸塩を得た。
次いで、得られた2−ピロリジンカルボン酸クロリド塩
酸塩にジメトキシエタン100mlを加え−10〜0℃
に冷却後、NaBH422.7g(0.6モル)を発泡
に注意しながら加え、この混合液を室温にて18時間攪
拌した。その後、メタノール15mlを加え、薄層クロ
マトグラフィーにより分析したところ、2−ピロリジン
カルボン酸クロリド塩酸塩は、消失していたが、目的と
する2−ピロリジンメタノールは検出されず、多数の不
純物が認められた。 TLC分析条件 展開液:n−ブタノール:アセトン:28%アンモニア
水:水=10:10:5:2
(0.2モル)をジメトキシエタン100ml中に加
え、0〜5℃の温度で攪拌下に、塩化チオニル23.8
g(0.2モル)を滴下し10〜15時間攪拌後、濃縮
し、2−ピロリジンカルボン酸クロリド塩酸塩を得た。
次いで、得られた2−ピロリジンカルボン酸クロリド塩
酸塩にジメトキシエタン100mlを加え−10〜0℃
に冷却後、NaBH422.7g(0.6モル)を発泡
に注意しながら加え、この混合液を室温にて18時間攪
拌した。その後、メタノール15mlを加え、薄層クロ
マトグラフィーにより分析したところ、2−ピロリジン
カルボン酸クロリド塩酸塩は、消失していたが、目的と
する2−ピロリジンメタノールは検出されず、多数の不
純物が認められた。 TLC分析条件 展開液:n−ブタノール:アセトン:28%アンモニア
水:水=10:10:5:2
Claims (3)
- 【請求項1】下記一般式(1) 【化1】 (R1は、N原子の保護基であって、置換基を有してい
てもよい炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル
基または芳香族アシル基、置換基を有していてもよい炭
素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族アルコキ
シカルボニル基、フェノキシカルボキシ基またはアラル
キルオキシカルボニル基を表わす。)で示されるN−置
換−2−ピロリジンカルボン酸を下記一般式(2) 【化2】 (R1は、N原子の保護基であって、置換基を有してい
てもよい炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル
基または芳香族アシル基、置換基を有していてもよい炭
素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族アルコキ
シカルボニル基、フェノキシカルボキシ基またはアラル
キルオキシカルボニル基を表わし、Xはハロゲン原子を
表わす。)で示されるN−置換−2−ピロリジンカルボ
ン酸のハロゲン化物とした後、金属ホウ素水素化物によ
り還元して下記一般式(3) 【化3】 (R1は、N原子の保護基であって、置換基を有してい
てもよい炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状アシル
基または芳香族アシル基、置換基を有していてもよい炭
素数1〜10の直鎖、分岐鎖又は環状の脂肪族アルコキ
シカルボニル基、フェノキシカルボキシ基またはアラル
キルオキシカルボニル基を表わす。)で示されるN−置
換−2−ピロリジンメタノールを得ることを特徴とする
N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法。 - 【請求項2】一般式(1)で示されるN−置換−2−ピ
ロリジンカルボン酸を一般式(2)で示されるN−置換
−2−ピロリジンカルボン酸のハロゲン化物とした後、
金属ホウ素水素化物により還元して一般式(3)で示さ
れるN−置換−2−ピロリジンメタノールとし、さらに
脱保護基反応によって一般式(4)で示される2−ピロ
リジンメタノールを得ることを特徴とする2−ピロリジ
ンメタノールの製造方法。 【化4】 - 【請求項3】2−ピロリジンメタノールが(R)−2−
ピロリジンメタノール又は(S)−2−ピロリジンメタ
ノールであることを特徴とする請求項2記載の2−ピロ
リジンメタノールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002117583A JP2003313163A (ja) | 2002-04-19 | 2002-04-19 | N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002117583A JP2003313163A (ja) | 2002-04-19 | 2002-04-19 | N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003313163A true JP2003313163A (ja) | 2003-11-06 |
Family
ID=29534728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002117583A Pending JP2003313163A (ja) | 2002-04-19 | 2002-04-19 | N−置換−2−ピロリジンメタノールの製造方法および2−ピロリジンメタノールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003313163A (ja) |
-
2002
- 2002-04-19 JP JP2002117583A patent/JP2003313163A/ja active Pending
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