JP2003307693A - レーザ走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 偏向器よりも前の光学系の部品点数が少ない
タンデム型レーザ走査装置を提供する。 【解決手段】 偏向器よりも前の光学系として、複数の
レーザダイオードと、複数のコリメータレンズと、１つ
のビーム合成ミラーを備えて、各レーザダイオードから
のレーザビームをコリメータレンズによって個別に平行
光とした後、ビーム合成ミラーで主走査方向についての
光路を一致させる。ビーム合成ミラーにコリメータレン
ズからのレーザビームを個別に反射する複数の反射面を
設けるとともに、各反射面に副走査方向のパワーをもた
せて、ビーム合成ミラーをシリンダレンズとしても機能
させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ走査装置に関
し、画像形成の分野で利用される。

【０００２】

【従来の技術】感光体上に収束するレーザビームで感光
体を走査することにより、感光体上に画像の潜像を形成
するレーザ走査装置が、プリンタ、複写機等の画像形成
装置で用いられている。レーザ走査装置は、レーザビー
ムを発するレーザ光源と、感光体を走査する方向（主走
査方向）に光源からのレーザビームを偏向させる偏向器
と、感光体上にレーザビームを収束させる光学系より成
る。感光体上にレーザビームを収束させる光学系は、光
源と偏向器の間に配置されて、主として副走査方向（主
走査方向に垂直な方向）についてのレーザビームの収束
を調節する偏向器前の光学系と、偏向器と感光体の間に
配置されて、主走査方向と副走査方向の双方についての
レーザビームの収束を調節する偏向器後の走査光学系に
２分されるのが一般的である。

【０００３】カラー画像を提供する場合、複数の感光体
を用い、感光体ごとに色成分の異なる画像の潜像を形成
して、各潜像を現像して個々の色成分の画像とした後、
印刷の際に全ての画像を重ね合わせる。このように複数
のレーザビームで異なる感光体（走査領域）を走査する
レーザ走査装置はタンデム型と呼ばれる。

【０００４】従来のタンデム型レーザ走査装置の構成を
図７に示す。このレーザ走査装置は、４本のレーザビー
ムによって４つの感光体を走査するものであり、４つの
レーザダイオード６１ａ〜６１ｄ、４つのコリメータレ
ンズ６２ａ〜６２ｄ、４つのシリンダレンズ６３ａ〜６
３ｄ、ビーム合成ミラー６４、ポリゴンミラー６５、お
よび走査光学系６６を備えている。

【０００５】レーザダイオード６１ａ〜６１ｄが発する
レーザビームは、それぞれ、コリメータレンズ６２ａ〜
６２ｄおよびシリンダレンズ６３ａ〜６３ｄを経て、ビ
ーム合成ミラー６４に入射する。ビーム合成ミラー６４
はシリンダレンズ６３ａ〜６３ｄからの４本のレーザビ
ームを略同一方向に向けて反射して、偏向器であるポリ
ゴンミラー６５に導く。ポリゴンミラー６５は、その回
転によってビーム合成ミラー６４からの各レーザビーム
を偏向させつつ、走査光学系６６に導く。ポリゴンミラ
ー６５の回転方向が主走査方向、その回転軸に沿う方向
が副走査方向に相当する。

【０００６】レーザダイオード６１ａ〜６１ｄが発する
レーザビームは発散光であり、コリメータレンズ６２ａ
〜６２ｄによって一旦平行光とされた後、シリンダレン
ズ６３ａ〜６３ｄによって、副走査方向についてポリゴ
ンミラー６５の反射面近傍に収束する収束光とされる。
走査光学系６６は複数のレンズより成り、ポリゴンミラ
ー６５からの各レーザビームを主走査方向と副走査方向
の双方について収束光として、不図示の感光体（走査領
域）上に収束させる。

【０００７】レーザダイオード６１ａ〜６１ｄおよびコ
リメータレンズ６２ａ〜６２ｄは、組ごとに副走査方向
の位置（高さ）をずらして配置されており、シリンダレ
ンズ６３ａ〜６３ｄはどれも同じ高さに配置されてい
る。コリメータレンズ６２ａ〜６２ｄによって平行光と
されたレーザダイオード６１ａ〜６１ｄからのレーザビ
ームは、シリンダレンズ６３ａ〜６３ｄごとに高さの異
なる位置に入射し、シリンダレンズ６３ａ〜６３ｄによ
って収束光とされたレーザビームは副走査方向について
角度差を有する。

【０００８】ビーム合成ミラー６４は、副走査方向に位
置をずらして設けられた平面で長方形の４つの反射面を
有し、シリンダレンズ６３ａ〜６３ｄからの４本のレー
ザビームをこれらの反射面で個別に反射する。ビーム合
成ミラー６４の各反射面は、副走査方向に平行である
が、法線方向が主走査方向について異なっており、異な
る方向から入射するレーザビームを同一方向に反射し
て、ポリゴンミラー６５に向かうレーザビームの光路を
主走査方向について一致させる。ビーム合成ミラー６４
からポリゴンミラー６５に向かう４本のレーザビーム
は、平面であるビーム合成ミラー６４の反射面によって
反射された後も、副走査方向についての角度差を有す
る。４本のレーザビームはその角度差を有したままポリ
ゴンミラー６５によって反射され、走査光学系６６を経
た後に副走査方向に分離し、個別の走査領域に導かれ
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のレーザ走査装置
では、偏向器およびその後の光学系を４本のレーザビー
ムに共用しており、偏向器以後の構成については簡素
化、小型化が図られている。しかしながら、複数のレー
ザビームを偏向器であるポリゴンミラーに導く直前に合
成するようにしているため、偏向器前の光学系について
は、簡素化、小型化があまりなされていない状況にあ
る。特に、偏向器前にレーザビームの副走査方向の収束
を調節するシリンダレンズが、レーザビームそれぞれに
対して備えられて、個別に配置されているため、副走査
方向に収束するレーザビームの収束位置の調整が難し
い。また、コストの低減にも限界がある。

【００１０】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たもので、偏向器よりも前の光学系の部品点数が少ない
タンデム型レーザ走査装置を提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、レーザビームを発する複数の光源と、
複数の光源からのレーザビームを所定の方向に偏向させ
る偏向器と、複数の光源からの全てのレーザビームを偏
向器に導くビーム合成素子とを備え、偏向器によって偏
向させたレーザビームを複数の領域に個別に導いて各領
域を走査するレーザ走査装置は、ビーム合成素子が複数
の光源からのレーザビームを個別に反射して偏向器に導
く複数の反射面を有し、レーザビームの中心光線を反射
する中心反射点におけるビーム合成素子の反射面の法線
方向が、偏向器によるレーザビームの偏向方向につい
て、反射面ごとに相違し、ビーム合成素子の各反射面
が、少なくとも偏向器によるレーザビームの偏向方向に
対して垂直な方向について、パワーを有する構成とす
る。

【００１２】このレーザ走査装置は、複数のレーザビー
ムで複数の領域を走査するタンデム型である。ビーム合
成素子は複数の反射面を有しており、複数の光源からの
レーザビームを各反射面で個別に反射して偏向器に導
く。各反射面は、レーザビームの中心光線を反射する中
心反射点における法線方向が、偏向器によるレーザビー
ムの偏向方向つまり主走査方向について相違しており、
主走査方向について異なる方向から入射するレーザビー
ムを、偏向器のうち主走査方向について同じ部位に導く
ことができる。

【００１３】しかも、各反射面は、偏向器によるレーザ
ビームの偏向方向に対して垂直な方向つまり副走査方向
にパワーを有しており、各レーザビームの副走査方向の
収束を調節することが可能である。したがって、副走査
方向の収束を調節するためにシリンダレンズ等を別途備
える必要がなく、部品点数の少ない簡素で小型の構成と
なる。また、各レーザビームの収束を調節する素子が単
体であるため、収束位置を揃えることも容易であり、コ
ストも抑えられる。

【００１４】ここで、ビーム合成素子の各反射面の中心
反射点が、偏向器によるレーザビームの偏向方向に対し
て垂直な一直線上に略位置する構成とするとよい。この
ようにすると、偏向器に導くレーザビームの光路を主走
査方向について一致させることができて、偏向器よりも
後の光学系の設定が容易になる。しかも、ビーム合成素
子から偏向器に至る各レーザビームの光路長が略等しく
なるため、ビーム合成素子の各反射面の副走査方向のパ
ワーを同等にするだけで、副走査方向についてのレーザ
ビームの収束度合いを揃えることができる。レーザビー
ムが副走査方向に収束する位置の調節も一層容易にな
る。

【００１５】また、偏向器によるレーザビームの偏向方
向に対して垂直な方向のビーム合成素子の各反射面のパ
ワーが、偏向器によるレーザビームの偏向方向について
変化している構成とするとよい。光源からのレーザビー
ムは主走査方向については斜めの方向からビーム合成素
子の反射面に入射することになるため、反射面の副走査
方向のパワーを主走査方向のどの部位においても一様と
すると、収差が生じる。各反射面の副走査方向のパワー
を主走査方向について変化させることで、この収差の発
生を避けることが可能になる。

【００１６】ビーム合成素子の反射面と反射面の間の部
位は滑らかな曲面のみから成るようにするのが好まし
い。樹脂材料を用いる成形によってビーム合成素子を製
造することが容易になり、コストを一層抑えることがで
きる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明のレーザ走査装置の
実施形態について図面を参照しながら説明する。第１の
実施形態のレーザ走査装置１の構成を図１および図２に
示す。図１は、レーザ走査装置１のうち、偏向器よりも
前の部分を示しており、図２は、偏向器以後の部分を示
している。レーザ走査装置１は偏向器としてポリゴンミ
ラー１５を備えており、その回転方向が主走査方向、回
転軸に沿う方向が副走査方向である。図１は平面図であ
り、紙面に沿う方向が主走査方向、紙面に垂直な方向が
副走査方向に相当する。図２は側面図であり、紙面に垂
直な方向が主走査方向、紙面内の上下方向が副走査方向
に相当する。

【００１８】偏向器前の光学系は、４つのレーザダイオ
ード１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、４つのコリメー
タレンズ１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、および１つ
のビーム合成ミラー１４より成る。レーザ走査装置１で
は、レーザダイオード１１ａ〜１１ｄからの４本のレー
ザビームをそれぞれコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄに
よって平行光としてビーム合成ミラー１４に導き、全て
のレーザビームをビーム合成ミラー１４によって略同一
方向に反射してポリゴンミラー１５に導く。

【００１９】ビーム合成ミラー１４からポリゴンミラー
１５に向かう４本のレーザビームの光路は、主走査方向
については一致しており、副走査方向についてはやや角
度差を有している。各レーザビームは、ポリゴンミラー
１５に対して、主走査方向については同一方向から同一
位置に入射し、副走査方向についてはやや角度差のある
方向から略同一の位置（高さ）に入射する。ビーム合成
ミラー１４は各レーザビームを副走査方向について収束
させる機能も有しており、各レーザビームはポリゴンミ
ラー１５の反射面近傍に収束する。

【００２０】偏向器以後の光学系は、偏向器であるポリ
ゴンミラー１５のほか、第１の走査レンズ１６、第２の
走査レンズ１７、および７つのミラー１８ａ、１８ｂ、
１８ｃ、１８ｄ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄより成る。第
１の走査レンズ１６および第２の走査レンズ１７は走査
光学系を成し、ポリゴンミラー１５からの各レーザビー
ムを、主走査方向と副走査方向の双方について、走査領
域Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ上に収束する収束光とする。

【００２１】副走査方向について角度差を有してポリゴ
ンミラー１５に入射した各レーザビームは、その後も角
度差を維持し、第１の走査レンズ１６および第２の走査
レンズ１７より成る走査光学系を経た後に分離する。分
離した１本のレーザビーム（レーザダイオード１１ａか
らのもの）は、ミラー１８ａによって第１の走査領域Ｒ
ａに導かれ、他のレーザビームはミラー１８ｂ〜１８ｄ
とミラー１９ｂ〜１９ｄとによってそれぞれ第２〜第４
の走査領域Ｒｂ〜Ｒｄに導かれる。これにより、各走査
領域Ｒａ〜Ｒｄ上に配置された感光体５０ａ〜５０ｄに
描画がなされ、レーザ走査装置１はタンデム型となって
いる。

【００２２】図１に示したように、レーザダイオード１
１ａ〜１１ｄとコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄは、共
通の光源部ホルダ１３に取り付けられ固定されている。
レーザダイオード１１ａ〜１１ｄは、副走査方向から見
て、同一の円の円周上に、かつ、各々が発するレーザビ
ームの主光線が、その円の中心を通るように配置されて
いる。コリメータレンズ１２ａ〜１２ｄは、各々の光軸
がレーザダイオード１１ａ〜１１ｄからのレーザビーム
の主光線に一致するように配置されている。

【００２３】ただし、レーザダイオード１１ａ〜１１ｄ
とコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄの副走査方向の位置
（高さ）は組ごとに相違し、レーザダイオード１１ａと
コリメータレンズ１２ａの組が最も低く、レーザダイオ
ード１１ｄとレーザダイオード１１ｄの組が最も高い。
また、レーザダイオード１１ａ〜１１ｄとコリメータレ
ンズ１２ａ〜１２ｄは、コリメータレンズ１２ａ〜１２
ｄの光軸が副走査方向について互いに平行になるように
配置されており、コリメータレンズ１２ａ〜１２ｄから
ビーム合成ミラー１４に向かう各レーザビームは副走査
方向については角度差を有さない。

【００２４】ビーム合成ミラー１４の構成を図３に示
す。ビーム合成ミラー１４は４つの反射面１４ａ、１４
ｂ、１４ｃ、１４ｄを有する。反射面１４ａ〜１４ｄ
は、コリメータレンズ１２ａ〜１２ｄの高低差に等しい
距離だけ副走査方向にずらして設けられており、それぞ
れコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄからのレーザビーム
を受けて反射する。各反射面１４ａ〜１４ｄは、コリメ
ータレンズ１２ａ〜１２ｄからのレーザビームの中心光
線（レーザダイオード１１ａ〜１１ｄが発するレーザビ
ームの主光線）を反射する点（以下、中心反射点とい
う）における法線の方向が、主走査方向について相違す
るように形成されており、これにより、異なる方向から
入射するレーザビームを主走査方向について同一方向に
反射することができる。

【００２５】各反射面１４ａ〜１４ｄの中心反射点は、
副走査方向に平行な同一直線Ｌ上に位置している。この
直線Ｌを副走査方向から見たときの点が、各レザーダイ
オード１１ａ〜１１ｄからのレーザビームの主光線が通
る上述の円の中心である。

【００２６】ビーム合成ミラー１４の反射面１４ａ〜１
４ｄは自由曲面の凹面とされている。各反射面１４ａ〜
１４ｄは、副走査方向に正のパワーを有し、主走査方向
についてはパワーを有さない。また、各反射面１４ａ〜
１４ｄは、中心反射点における法線の方向が副走査方向
にも相違するように形成されており、反射したレーザビ
ームを、副走査方向については、角度差を有しかつポリ
ゴンミラー１５の近傍に収束する収束光とし、主走査方
向については、平行光のままとする。

【００２７】各反射面１４ａ〜１４ｄの副走査方向のパ
ワーは、主走査方向に沿って変化する。レーザビームは
各反射面１４ａ〜１４ｄに対して主走査方向については
大きく傾斜した方向から入射することになり、副走査方
向のパワーが主走査方向のどの部位においても同じであ
れば、副走査方向について収束光としたレーザビームに
収差が生じる。反射面１４ａ〜１４ｄの副走査方向のパ
ワーを主走査方向に沿って変化するようにしているの
は、この収差の発生を抑えるためである。

【００２８】副走査方向のパワーは、中心反射点におい
ては全ての反射面１４ａ〜１４ｄで同じであるが、副走
査方向のパワーの主走査方向に沿う変化の度合いは、反
射面１４ａ〜１４ｄへのレーザビームの入射角の差を考
慮して、反射面１４ａ〜１４ｄごとに違えて設定されて
いる。これにより、各反射面１４ａ〜１４ｄによって反
射された４本のレーザビームは、等しい収束度合いの収
束光となる。反射面１４ａ〜１４ｄを自由曲面としたこ
とで、このような設定が容易になる。

【００２９】ビーム合成ミラー１４は樹脂製であり、そ
の製造には成形を採用することができる。ビーム合成ミ
ラー１４は全体として概ね６面体であり、反射面１４ａ
〜１４ｄは、その１面１４ｅに設けられている。この面
１４ｅのうち反射面１４ａ〜１４ｄ以外の部位は滑らか
に連続した曲面であり、反射面１４ａ〜１４ｄの向きは
異なるものの、反射面と反射面の間に段差は存在しな
い。これは、成形のための金型の作製を容易にするとと
もに、成形後にビーム合成ミラー１４を損傷することな
く容易に金型から分離し得るようにするための設定であ
る。

【００３０】各反射面１４ａ〜１４ｄの周囲を平面とす
ることもできる。そのような構成のビーム合成ミラー１
４を図４に示す。この構成では、反射面と反射面の間に
面の傾きが不連続な段差Ｈが生じることになり、金型の
作製に際して、バイトの位置が段差Ｈによって制限され
て、反射面１４ａ〜１４ｄとする部位を加工するのが難
しくなる。反射面１４ａ〜１４ｄの間隔を大きくすれば
加工は容易になるが、そのようにすると、レーザビーム
の副走査方向の角度差が大きくなってしまい、偏向器後
の走査光学系が大型化する結果となる。また、段差Ｈが
存在すると、金型からの分離に際して、その部分が金型
に引っかって損傷し易くなる。

【００３１】図４の構成のビーム合成ミラー１４は、成
形により全体を一度に製造するのではなく、１つの反射
面を有する部分を個別に作製しておき、これらを接着等
により一体とすることでも製造することができる。しか
し、この製造方法では、反射面１４ａ〜１４ｄの相対位
置や向きの調整が困難である。したがって、ビーム合成
ミラー１４は、反射面１４ａ〜１４ｄの周囲が平面であ
る図４の構成とするよりも、反射面１４ａ〜１４ｄの周
囲が滑らかに連続した曲面である図３の構成とし、成形
により一体に製造するのが好ましい。

【００３２】第２の実施形態のレーザ走査装置２の構成
を図５に示す。図５は、レーザ走査装置２のうち偏向器
よりも前の部分を示す平面図である。レーザ走査装置２
は、レーザ走査装置１の光源部ホルダ１３を修飾したも
ので、光学構成はレーザ走査装置１と同様であり、偏向
器以後の構成も図２に示したとおりである。

【００３３】レーザ走査装置１では、レーザダイオード
１１ａ〜１１ｄおよびコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄ
を光源部ホルダ１３に直接取り付ける構成としていた
が、レーザ走査装置２では、レーザダイオード１１ａ〜
１１ｄを個別に保持する４つのダイオードホルダ１３ａ
とコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄを個別に保持する４
つのコリメータホルダ１３ｂを備え、ダイオードホルダ
１３ａとコリメータホルダ１３ｂを、光源部ホルダ１３
に取り付けるようにしている。この構成では、ビーム合
成ミラー１４に対するレーザダイオード１１ａ〜１１ｄ
およびコリメータレンズ１２ａ〜１２ｄの位置や向きの
調整が容易になる。

【００３４】第３の実施形態のレーザ走査装置３の構成
を図６に示す。図６は、レーザ走査装置３のうち偏向器
よりも前の部分を示す平面図である。レーザ走査装置３
も、レーザ走査装置１の光源部ホルダ１３を修飾したも
ので、光学構成はレーザ走査装置１と同様であり、偏向
器以後の構成も図２に示したとおりである。

【００３５】光源部ホルダ１３はレーザ走査装置１のも
のよりも大きく、ビーム合成ミラー１４も光源部ホルダ
１３に取り付けられている。光源部ホルダ１３には、ビ
ーム合成ミラー１４からポリゴンミラー１５に至るレー
ザビームに対して平行な貫通溝１３ｈが２つ設けられて
おり、レーザ走査装置３の筐体（不図示）内の光源ホル
ダ１３を取り付ける部位には、貫通溝１３ｈの側縁に接
するピン（突起）１３ｐが２つ設けられている。

【００３６】この構成では、ピン１３ｐによって垂直方
向の位置の変動を規制しながら、ビーム合成ミラー１４
からポリゴンミラー１５に至るレーザビームに沿う方向
の光源部ホルダ１３の位置を調節することができる。こ
れにより、ポリゴンミラー１５の近傍で副走査方向に収
束するレーザビームの収束位置を調節して、走査光学系
によるレーザビームの収束状態を厳密に設定することが
容易になる。

【００３７】上記の各実施形態では、コリメータレンズ
１２ａ〜１２ｄを備え、レーザダイオード１１ａ〜１１
ｄからのレーザビームを平行光としてビーム合成ミラー
１４に導くようにしているが、ビーム合成ミラー１４に
導くレーザビームを必ずしも平行光とする必要はない。
例えば、コリメータレンズ１２ａ〜１２ｄに代えて集光
レンズを備え、レーザダイオード１１ａ〜１１ｄからの
レーザビームを緩やかな発散光としてビーム合成ミラー
１４に導くようにしてもよい。その場合、ビーム合成ミ
ラー１４の各反射面１４ａ〜１４ｄに主走査方向のパワ
ーをもたせることで、ポリゴンミラー１５に向かうレー
ザビームを主走査方向について平行光とすることが可能
である。

【００３８】

【発明の効果】レーザビームを発する複数の光源と、複
数の光源からのレーザビームを所定の方向に偏向させる
偏向器と、複数の光源からの全てのレーザビームを偏向
器に導くビーム合成素子とを備え、偏向器によって偏向
させたレーザビームを複数の領域に個別に導いて各領域
を走査するレーザ走査装置において、本発明のように、
ビーム合成素子が複数の光源からのレーザビームを個別
に反射して偏向器に導く複数の反射面を有し、レーザビ
ームの中心光線を反射する中心反射点におけるビーム合
成素子の反射面の法線方向が、偏向器によるレーザビー
ムの偏向方向について、反射面ごとに相違し、ビーム合
成素子の各反射面が、少なくとも偏向器によるレーザビ
ームの偏向方向に対して垂直な方向について、パワーを
有する構成とすると、レーザビームを合成するビーム合
成素子に、副走査方向についてのレーザビームの収束を
調節する機能を併せもたせることができて、偏向器より
も前の光学系の部品点数を少なくすることができる。し
たがって、簡素で小型、かつ低コストのレーザ走査装置
となる。副走査方向についてのレーザビームの収束位置
の調節も容易である。

【００３９】特に、ビーム合成素子の各反射面の中心反
射点が、偏向器によるレーザビームの偏向方向に対して
垂直な一直線上に略位置する構成とすると、偏向器に導
くレーザビームの光路を主走査方向について一致させる
ことができて、偏向器よりも後の光学系の設定が容易に
なる。しかも、ビーム合成素子から偏向器に至る各レー
ザビームの光路長が略等しくなるため、ビーム合成素子
の各反射面の副走査方向についてのパワーを同等にする
だけで、副走査方向についてのレーザビームの収束度合
いを揃えることができる。レーザビームが副走査方向に
収束する位置の調節も一層容易になる。

【００４０】また、偏向器によるレーザビームの偏向方
向に対して垂直な方向のビーム合成素子の各反射面のパ
ワーが、偏向器によるレーザビームの偏向方向について
変化している構成とすると、レーザビームがビーム合成
素子の反射面に対して主走査方向について斜めに入射す
ることに起因する収差の発生を抑えることができて、走
査領域上でのレーザビームの収束状態を良好に保つこと
ができる。

【００４１】ビーム合成素子の反射面と反射面の間の部
位を滑らかな曲面のみから成るようにすると、樹脂材料
を用いる成形によってビーム合成素子を製造することが
容易になる。部品点数の低減に加え、廉価な材料を使用
することおよび製造工程の簡略化により、一層低コスト
のレーザ走査装置となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施形態のレーザ走査装置の偏向器よ
りも前の部分の構成を示す平面図。

【図２】 第１の実施形態のレーザ走査装置の偏向器以
後の部分の構成を示す側面図。

【図３】 第１の実施形態のレーザ走査装置のビーム合
成ミラーの構成を示す斜視図。

【図４】 第１の実施形態のレーザ走査装置のビーム合
成ミラーの変形例の構成を示す斜視図。

【図５】 第２の実施形態のレーザ走査装置の偏向器よ
りも前の部分の構成を示す平面図。

【図６】 第３の実施形態のレーザ走査装置の偏向器よ
りも前の部分の構成を示す平面図。

【図７】 従来のレーザ走査装置の構成を示す平面図。

【符号の説明】

１、２、３ レーザ走査装置 １１ａ〜１１ｄ レーザダイオード １２ａ〜１２ｄ コリメータレンズ １４ ビーム合成ミラー １４ａ〜１４ｄ 反射面 １５ ポリゴンミラー １６ 第１の走査レンズ １７ 第２の走査レンズ １８ａ〜１８ｄ ミラー １９ｂ〜１９ｄ ミラー １３ 光源部ホルダ １３ａ ダイオードホルダ １３ｂ コリメータホルダ １３ｈ 貫通溝 １３ｐ ピン ５０ａ〜５０ｄ 感光体 Ｒａ〜Ｒｄ 走査領域

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 BA50 BA51 BA54 BA58 BA71 BA82 2H045 AA01 BA22 BA34 DA02 5C051 AA02 CA07 DB24 DB30 EA01 5C072 AA03 CA06 DA04 HA02 HA06 HA09 HA10 HA13 QA14 XA05

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザビームを発する複数の光源と、複
   数の光源からのレーザビームを所定の方向に偏向させる
   偏向器と、複数の光源からの全てのレーザビームを偏向
   器に導くビーム合成素子とを備え、偏向器によって偏向
   させたレーザビームを複数の領域に個別に導いて各領域
   を走査するレーザ走査装置において、 ビーム合成素子が複数の光源からのレーザビームを個別
   に反射して偏向器に導く複数の反射面を有し、 レーザビームの中心光線を反射する中心反射点における
   ビーム合成素子の反射面の法線方向が、偏向器によるレ
   ーザビームの偏向方向について、反射面ごとに相違し、 ビーム合成素子の各反射面が、少なくとも偏向器による
   レーザビームの偏向方向に対して垂直な方向に、パワー
   を有することを特徴とするレーザ走査装置。
2. 【請求項２】 ビーム合成素子の各反射面の中心反射点
   が、偏向器によるレーザビームの偏向方向に対して垂直
   な一直線上に略位置することを特徴とする請求項１に記
   載のレーザ走査装置。
3. 【請求項３】 偏向器によるレーザビームの偏向方向に
   対して垂直な方向のビーム合成素子の各反射面のパワー
   が、偏向器によるレーザビームの偏向方向について変化
   していることを特徴とする請求項１に記載のレーザ走査
   装置。
4. 【請求項４】 ビーム合成素子の反射面と反射面の間の
   部位が滑らかな曲面のみから成ることを特徴とする請求
   項１に記載のレーザ走査装置。