JP2003305362A - Fluid action apparatus and method for action on fluid - Google Patents

Fluid action apparatus and method for action on fluid

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JP2003305362A
JP2003305362A JP2002116053A JP2002116053A JP2003305362A JP 2003305362 A JP2003305362 A JP 2003305362A JP 2002116053 A JP2002116053 A JP 2002116053A JP 2002116053 A JP2002116053 A JP 2002116053A JP 2003305362 A JP2003305362 A JP 2003305362A
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JP
Japan
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fluid
action
light
fluid chamber
chamber
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Application number
JP2002116053A
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Japanese (ja)
Inventor
Kinya Kato
欽也 加藤
Shizuyoshi Itou
澄好 伊藤
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Canon Inc
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Canon Inc
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an installation method and an installation means for a light radiation part which does not require a sheath pipe in a structure wherein the light radiation part is installed in an optical action tank. <P>SOLUTION: A fluid action apparatus comprises a fluid chamber for storing a fluid; an action part having a first part for carrying out action on the fluid by direct contact with the fluid stored in the fluid chamber and a second part united with the first part and deteriorated by direct contact with the fluid; an installation part for installing the action part in the fluid chamber so as to place the first part in the fluid chamber; and an isolation part for shutting the inside of the fluid chamber from the outer air and isolating the second part from the inside of the fluid chamber so as to separate the second part from the fluid when the action part is installed in the fluid chamber. Action on the fluid is carried out using the apparatus. A photoreaction apparatus provided with the light radiation part is used as the fluid action apparatus and a photoreaction method using the light radiation part is used as the method for action on the fluid. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光を照射すること
によって汚染物質を分解する反応槽を有する装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus having a reaction tank for decomposing contaminants by irradiating it with light.

【0002】[0002]

【背景技術】光照射は、光化学反応を促進する、生物を
殺菌する、活性を向上させるなどの目的に広く用いられ
ている。
BACKGROUND ART Light irradiation is widely used for the purpose of promoting photochemical reactions, killing organisms, improving activity, and the like.

【0003】光の照射手段として、光反応槽内に光照射
部を配する図1のごとき形態もしくは、図2のごとき光
反応槽の外部から光を照射する形態がある。
As a means for irradiating light, there is a form as shown in FIG. 1 in which a light irradiating section is arranged in the photoreaction tank or a form as shown in FIG.

【0004】内部から照射する図1のごとき形態におい
ては、反応気体の性質例えば酸化力などから光照射部を
保護するため所定の光を透過する鞘管などに光照射手段
を挿入し、反応気体と接触しないようにしている。(特
開平10-180040号公報)光反応槽の外部から光を照射する
図2のごとき形態では、光照射部が反応槽と分離した位
置に配されており反応気体と接触することはない。
In the embodiment as shown in FIG. 1 in which the light is irradiated from the inside, the light irradiation means is inserted into a sheath tube or the like which transmits a predetermined light in order to protect the light irradiation portion from the property of the reaction gas, such as oxidizing power, and the reaction gas is introduced. I try not to come into contact with. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-180040) In the mode as shown in FIG. 2 in which light is irradiated from the outside of the photoreaction tank, the light irradiation unit is arranged at a position separated from the reaction tank and does not come into contact with the reaction gas.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、光照射部全体
を鞘管で覆う構成、及び光照射部を外部に設ける構成
は、光を直接照射することができないため、分解効率が
低いという問題があった。そこで、本発明では、光反応
槽内に光照射部を配する形態において、鞘管の必要のな
い光照射部の設置方法並びに設置手段の提供を目的とす
る。
However, the structure in which the entire light irradiation part is covered with the sheath tube and the structure in which the light irradiation part is provided outside cannot directly irradiate the light, so that the decomposition efficiency is low. there were. Therefore, an object of the present invention is to provide an installation method and installation means for a light irradiation section that does not require a sheath tube in a configuration in which the light irradiation section is arranged in the photoreaction tank.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、槽内にお
いて保護すべきは、光照射部のうち腐食等に弱い口金部
であることに着目し、鋭意検討の結果本発明に至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have paid attention to the mouthpiece portion which is vulnerable to corrosion etc. in the light irradiation portion to be protected in the tank. .

【0007】すなわち、本発明は、流体を収容可能な流
体室と;前記流体室内に収容される流体と直接接触する
ことで前記流体に作用する第1の部分、前記第1の部分
と一体であり前記流体と直接接触することで劣化する第
2の部分とを有する作用部と;前記作用部の前記第1の
部分が前記流体室内に位置するように前記作用部を前記
流体室に装着するための装着部と;前記装着部により前
記作用部を前記流体室に装着したときに前記流体室の内
部を外気から遮断し、かつ前記第2の部分が前記流体と
接触しないように前記流体室の内部から隔離する隔離部
とを備えることを特徴とする流体作用装置に関する。
That is, according to the present invention, a fluid chamber capable of accommodating a fluid; a first portion that acts on the fluid by being in direct contact with the fluid accommodated in the fluid chamber, is integrally formed with the first portion. A working portion having a second portion that deteriorates by directly contacting the fluid; and mounting the working portion in the fluid chamber such that the first portion of the working portion is located in the fluid chamber. A mounting part for cutting off the inside of the fluid chamber from the outside air when the working part is mounted on the fluid chamber by the mounting part, and the second part does not come into contact with the fluid. And a separating portion for separating the inside from the inside of the fluid working device.

【0008】また、本発明は流体と直接接触することで
前記流体に作用する第1の部分と前記第1の部分と一体
であり前記流体と直接接触することで劣化する性質を有
する第2の部分とを有する作用部を用いて流体に作用さ
せる方法であって、前記第1の部分を前記流体に直接接
触させて作用させるとき、前記流体を外気から遮断し、
かつ前記第2の部分を前記流体と接触しないように前記
流体から隔離する工程を有することを特徴とする、流体
に作用させる方法に関する。
Further, according to the present invention, the first portion which acts on the fluid by directly contacting the fluid and the second portion which is integral with the first portion and has the property of being deteriorated by the direct contact with the fluid are provided. A method of acting on a fluid using an action part having a portion, wherein when the first portion is brought into direct contact with the fluid to act on the fluid, the fluid is shielded from the outside air,
And a method of acting on a fluid, comprising the step of isolating the second portion from the fluid so as not to contact the fluid.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】(分解装置)以下、本発明の好ま
しい形態につき図面を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION (Decomposition device) A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】図3は、本発明に係わる一実施形態を汚染
物質分解装置に用いた形態を示すものである。汚染物質
を含む気体に、所定の波長を有する光の照射を行なうと
汚染物質は分解され、分解処理後の気体は、連続的に排
気管から排出される。
FIG. 3 shows a form in which one embodiment according to the present invention is used in a pollutant decomposition apparatus. When the gas containing the pollutant is irradiated with light having a predetermined wavelength, the pollutant is decomposed, and the gas after the decomposition treatment is continuously discharged from the exhaust pipe.

【0011】1は汚染物質に光を照射し汚染物質を分解
する光反応槽である。2a,2bは光照射手段であり、分
解対象物気体は導入管3を介して反応槽1に送られる。
処理済みの気体は排気管4を介して排出される。
Reference numeral 1 denotes a photoreaction tank for irradiating pollutants with light to decompose the pollutants. 2a and 2b are light irradiation means, and the decomposition object gas is sent to the reaction tank 1 through the introduction pipe 3.
The treated gas is discharged through the exhaust pipe 4.

【0012】光照射手段のうち、腐食等の影響が懸念さ
れる口金部7を含む部分は、反応槽1の外部に出るよう
に設置されている。これにより、反応槽内で生じる光照
射による影響が口金部に及ぶことはない。
Of the light irradiating means, the portion including the mouthpiece portion 7 which may be affected by corrosion or the like is installed so as to go out of the reaction tank 1. As a result, the influence of light irradiation generated in the reaction tank does not affect the mouthpiece.

【0013】光照射手段の一部を反応槽の外に出るよう
に設置したため、反応槽との間に隙間が生じる。この隙
間から反応槽内の物質が反応槽の外に漏れるのを防ぐた
め、照射による寄与を期待する空間から口金部を遮断す
る必要がある。このため、隙間から気体が行き来しない
ように、反応槽内と口金部を封印(シール)して遮断す
る。
Since a part of the light irradiation means is installed so as to go out of the reaction tank, a gap is formed between the light irradiation means and the reaction tank. In order to prevent the substances in the reaction tank from leaking out of the reaction tank through this gap, it is necessary to block the mouthpiece part from the space expected to contribute by irradiation. For this reason, the inside of the reaction tank and the mouthpiece are sealed to prevent gas from coming and going from the gap.

【0014】光照射部が蛍光灯のような形状の場合、通
常、図4のごとき構成をしている。即ち、光照射手段2
のうち、実際に光を発光する光発光部6と、電力を供給
する端子をもつ口金部7a,7bからなる。
When the light irradiating section has a shape like a fluorescent lamp, it usually has a structure as shown in FIG. That is, the light irradiation means 2
Among them, the light emitting section 6 that actually emits light and the base sections 7a and 7b having terminals for supplying electric power are included.

【0015】図5は、本発明に係わる一実施形態を示す
ものである。上記のごとき光照射部2と反応槽1の反応
槽壁 14 との関係を拡大して示している。
FIG. 5 shows an embodiment according to the present invention. The relationship between the light irradiation unit 2 and the reaction tank wall 14 of the reaction tank 1 is enlarged and shown.

【0016】即ち、1は(反応)槽であり、光照射手段2
が設置されている。拡大図において14 は槽壁であり2
は光照射手段としての蛍光灯である。7は蛍光灯の口金
部である。
That is, 1 is a (reaction) tank, which is a light irradiation means 2
Is installed. In the enlarged view, 14 is the tank wall and 2
Is a fluorescent lamp as a light irradiation means. Reference numeral 7 is a base portion of the fluorescent lamp.

【0017】槽1内と口金部7とを密封遮断するため、
シール部品(Oリング)8をもちいて蛍光灯2の発光部面
でシールを行っている。シールは蛍光灯2の発光部面と
槽壁14 との間に直接的におこなってもよいが、図5で
は導入ポート 10 を介してシールしている。本構成によ
り、槽内の気体は反応槽の外に漏れることはなく、口金
部7に接触することはない。
In order to seal and shut off the inside of the tank 1 and the mouthpiece 7,
A sealing part (O-ring) 8 is used to seal the light emitting surface of the fluorescent lamp 2. The sealing may be performed directly between the light emitting surface of the fluorescent lamp 2 and the tank wall 14, but in FIG. 5, it is sealed via the introduction port 10. With this configuration, the gas in the tank does not leak to the outside of the reaction tank and does not contact the base 7.

【0018】図6は、他の形態を示している。この態様
では、アダプター9を光照射手段である蛍光灯2に内包
するように接合させ、これを介してシール用のOリング
8で密封している。これは、蛍光灯等の光照射手段にお
ける発光部の形状、特に径のサイズに製造状のばらつき
が存在する場合、特に有効である。
FIG. 6 shows another form. In this embodiment, the adapter 9 is joined so as to be included in the fluorescent lamp 2 which is the light irradiating means, and is sealed by the O-ring 8 for sealing via this. This is particularly effective when there is a manufacturing variation in the shape of the light emitting part in the light irradiation means such as a fluorescent lamp, especially in the size of the diameter.

【0019】図7は、他の形態を示している。この態様
では、導入ポート 10 と光照射手段である蛍光灯2との
隙間及び導入ポート 10 と反応槽壁 14 との隙間をシー
ル用のOリング8で密封している。導入ポート 10 は、
反応槽壁 14 にねじ止め等で固定する(不図示)。
FIG. 7 shows another form. In this mode, the gap between the introduction port 10 and the fluorescent lamp 2 which is the light irradiation means and the gap between the introduction port 10 and the reaction vessel wall 14 are sealed with an O-ring 8 for sealing. Deployment port 10 is
It is fixed to the reaction vessel wall 14 with screws (not shown).

【0020】蛍光灯2に電力を供給する手段は、口金部
のプラグに適合するリセプタクル(ソケット)を脱着させ
ることであるが、この態様では、蛍光灯を光反応槽に組
み込んだ状態で、リセプタクルを脱着させることができ
る。
The means for supplying electric power to the fluorescent lamp 2 is to attach and detach a receptacle (socket) which fits the plug of the base. In this embodiment, the receptacle is inserted in the state where the fluorescent lamp is incorporated in the photoreaction tank. Can be detached.

【0021】上記構成を反応槽の内側に設置する図8の
ごとき構成をとってもよい。
A configuration as shown in FIG. 8 in which the above configuration is installed inside the reaction tank may be adopted.

【0022】図9は、他の形態を示している。この態様
では、2つの部品からなる導入ポート 10a,10bを用い、
シール用のOリング8を介して密封している。Oリング
のシール性能を高めるために、Oリングを蛍光灯の発光
部と導入ポートの間で圧縮させ、よりお互いが密着する
構造としている。また、あらかじめリセプタクルが光反
応槽に組み込まれた状態で、光照射手段を組み込めば、
自動的に電力が供給される構造としても良い。
FIG. 9 shows another form. In this mode, using the introduction ports 10a and 10b made of two parts,
It is hermetically sealed via an O-ring 8 for sealing. In order to improve the sealing performance of the O-ring, the O-ring is compressed between the light emitting portion of the fluorescent lamp and the introduction port so that the O-ring and the introduction port are in close contact with each other. In addition, if the light irradiation means is installed in the state where the receptacle is previously installed in the photoreaction tank,
The structure may be such that electric power is automatically supplied.

【0023】シールに関しては、必ずしもOリングに限
る訳ではなく、他のエラストマーシール類、例えば、U
パッキン、オイルシール、Xシール、グランドパッキン
など、また接着材、その他の充填剤によるシール、さら
には、磁性流体シールなどの流体によるシールなどで構
成しても良い。
The seal is not necessarily limited to the O-ring, but other elastomer seals such as U-ring are used.
A packing, an oil seal, an X seal, a gland packing, or the like, a seal made of an adhesive or other filler, or a fluid seal such as a magnetic fluid seal may be used.

【0024】光照射手段の光発光部の素材は、反応ガス
によって実質的に影響を受けないものが良く、例えばガ
ラス製のものが好ましい。なお、溶剤などでコーティン
グされている場合は反応ガスの影響を確かめてから使用
すると良い。
The material of the light emitting portion of the light irradiating means is preferably one which is not substantially affected by the reaction gas, and is preferably made of glass, for example. When coated with a solvent, it is recommended to check the effect of the reaction gas before use.

【0025】発光面、多くはガラス面に対してシール部
材を押し付ける形態においては、発光部が破損しないよ
うその圧力に留意する必要がある。
In the case where the seal member is pressed against the light emitting surface, mostly a glass surface, it is necessary to pay attention to the pressure so as not to damage the light emitting portion.

【0026】反応槽1の形状はいかなる形態でもよく、
口金部7を反応槽1の外側に出す部分が凹んでいる形態
でもよい。
The reaction tank 1 may have any shape,
It is also possible to adopt a form in which the portion of the mouthpiece 7 that extends outside the reaction tank 1 is recessed.

【0027】また、光照射手段の口金部を光反応槽の外
に配する効果としては、光反応槽内の腐食ガスやその他
の流体に光照射手段の口金部を晒さなくて済み、口金部
の腐食やショート、劣化を未然に防止できることであ
る。それによって、光照射手段の発光部だけを光反応槽
内に組み込めることができる。
Further, as an effect of arranging the base portion of the light irradiation means outside the light reaction tank, it is not necessary to expose the base portion of the light irradiation means to the corrosive gas or other fluid in the light reaction tank. That is, it is possible to prevent corrosion, short circuit, and deterioration of the product. Thereby, only the light emitting part of the light irradiating means can be incorporated in the light reaction tank.

【0028】また、光照射手段は、口金部が光反応槽の
内部から遮断されている構成であれば、光反応槽内部に
あっても構わない。光照射手段の口金部を光反応槽の内
部に配する効果としては、反応槽を簡単な構成とするこ
とができる。また、光照射部から放出される光のロスが
ない。
Further, the light irradiating means may be provided inside the photoreaction tank as long as the mouthpiece is shielded from the inside of the photoreaction tank. As an effect of arranging the base portion of the light irradiation means inside the photoreaction tank, the reaction tank can have a simple structure. Further, there is no loss of light emitted from the light irradiation section.

【0029】よって、本発明は、光照射部が反応槽の内
外部を問わず、光照射部を覆う鞘管を必要としない。特
に、光源の波長が短波長の場合は、ガラス製の鞘管で
は、光が透過することがないため、石英管などの高価な
鞘管が必要となるが本発明では不要である。また、直接
照射が可能なため吸収がなく、発光した光の殆どすべて
を全方位にわたって利用することができる。
Therefore, the present invention does not require a sheath tube for covering the light irradiation section regardless of whether the light irradiation section is inside or outside the reaction tank. In particular, when the wavelength of the light source is a short wavelength, the glass sheath tube does not allow light to pass therethrough, so an expensive sheath tube such as a quartz tube is required, but this is not necessary in the present invention. Further, since direct irradiation is possible, there is no absorption and almost all the emitted light can be used in all directions.

【0030】本発明はいかなる光反応または殺菌等に利
用することができる。例えば光により物質変換、分解、
合成反応に用いることができる。光照射手段2として棒
状の蛍光灯について説明をおこなってきたが、本発明
は、棒状のみならず、球状、紡錘状などいかなる形態の
光照射手段2に用いることができる。
The present invention can be used for any photoreaction or sterilization. For example, light converts matter, decomposes,
It can be used in synthetic reactions. Although a rod-shaped fluorescent lamp has been described as the light irradiating means 2, the present invention can be used not only in the rod shape but also in any shape such as a spherical shape or a spindle shape.

【0031】(分解対象となる汚染物質)本発明を汚染物
質の光分解に用いる場合、使用できる汚染物質は特に限
定しないが、例えば、塩素化エチレン、塩素化メタン等
が挙げられる。具体的には塩素化エチレンとしては、エ
チレンの1〜4塩素置換体、即ちクロロエチレン、ジク
ロロエチレン(DCE)、トリクロロエチレン(TCE)、
テトラクロロエチレン(PCE)が挙げられる。更にジク
ロロエチレンとしては、例えば1,1-ジクロロエチレン
(塩化ビニリデン)、cis-1,2-ジクロロエチレン、tran
s-1,2-ジクロロエチレンを挙げることができる。また
塩素化メタンとしては、メタンの塩素置換体、例えばク
ロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン等が挙
げられる。
(Contaminants to be Decomposed) When the present invention is used for photodecomposition of pollutants, usable pollutants are not particularly limited, and examples thereof include chlorinated ethylene and chlorinated methane. Specifically, as chlorinated ethylene, 1 to 4 chlorine-substituted products of ethylene, that is, chloroethylene, dichloroethylene (DCE), trichloroethylene (TCE),
Tetrachlorethylene (PCE) is mentioned. Further, as dichloroethylene, for example, 1,1-dichloroethylene
(Vinylidene chloride), cis-1,2-dichloroethylene, tran
Mention may be made of s-1,2-dichloroethylene. Examples of the chlorinated methane include chlorine-substituted compounds of methane, such as chloromethane, dichloromethane and trichloromethane.

【0032】例えば、土壌から吸引された汚染物質の処
理、化学プロセス等の工場から排出される汚染排気ガス
の浄化、活性炭からの脱離される汚染ガス、汚染水の曝
気によって生じる汚染ガス等の気体状態の処理に加え、
地下水汚染などの溶液状態の汚染水処理、さらには活性
炭からの脱着される高濃度の溶剤の処理に使用すること
ができる。
For example, treatment of pollutants sucked from soil, purification of pollutant exhaust gas discharged from factories in chemical processes, pollutant gas desorbed from activated carbon, pollutant gas produced by aeration of polluted water, etc. In addition to handling the state,
It can be used for treatment of contaminated water in a solution state such as groundwater contamination, and also for treatment of a high concentration solvent desorbed from activated carbon.

【0033】(光照射手段)光照射手段として、上記塩素
化合物では波長 100〜300nmの光源を使用すると良い。
これは上記範囲の光のエネルギーが上記塩素化合物の主
要な結合の結合エネルギーより大きいため結合を切断し
分解することができる。このような光源の例として波長
253.7nmの光を放出する蛍光型の殺菌ランプ(例えば
東芝GL4〜30)がある。
(Light irradiating means) As the light irradiating means, it is preferable to use a light source having a wavelength of 100 to 300 nm for the above chlorine compound.
Since the energy of light in the above range is larger than the bond energy of the main bond of the chlorine compound, the bond can be broken and decomposed. Wavelengths as an example of such a light source
Fluorescent germicidal lamp that emits 253.7 nm of light (eg
There is Toshiba GL4-30).

【0034】また、塩素の存在下で分解をおこなう場合
に本発明を用いることができる。塩素の存在下で分解を
おこなう場合はより長波長の光を光源として使用するこ
とができる。
Further, the present invention can be used when the decomposition is carried out in the presence of chlorine. When the decomposition is carried out in the presence of chlorine, longer wavelength light can be used as the light source.

【0035】例えば、波長 300〜500nmの光、さらに波
長 350〜450nmの光を使用する光分解に本発明を用いる
ことができる。市販されている蛍光灯の例としては、ブ
ラックライト蛍光灯ランプ(東芝FLB4BLB〜15B
LB、20S・BLB、40S・BLB等)がある。
For example, the present invention can be used for photolysis using light having a wavelength of 300 to 500 nm and light having a wavelength of 350 to 450 nm. An example of a commercially available fluorescent lamp is a black light fluorescent lamp (Toshiba FLB4BLB-15B).
LB, 20S ・ BLB, 40S ・ BLB, etc.).

【0036】(塩素の存在下で分解を行なう場合)塩素の
供給法として、塩素ボンベから供給されるものを利用し
ても良いし、次亜塩素酸を含む溶液から発生する塩素を
使用しても良い。
(When decomposing in the presence of chlorine) As a chlorine supply method, one supplied from a chlorine cylinder may be used, or chlorine generated from a solution containing hypochlorous acid may be used. Is also good.

【0037】そして、分解対象ガスと塩素ガスを含む気
体との混合割合に関して、気体中の塩素ガスの濃度が、
5ppm以上 1000ppm以下となるように調整することが
好ましく、分解対象ガスの濃度によって異なるが、特に
は、混合気体中の塩素ガス濃度が 20ppmから 500ppm
の間、更には 80ppmから 300ppmとした場合、分解対
象ガスの分解効率は特に顕著なものとなる。
Regarding the mixing ratio of the gas to be decomposed and the gas containing chlorine gas, the concentration of chlorine gas in the gas is
It is preferable to adjust it so that it is 5 ppm or more and 1000 ppm or less, and it depends on the concentration of the gas to be decomposed, but especially, the chlorine gas concentration in the mixed gas is from 20 ppm to 500 ppm.
During this period, and when it is set to 80 ppm to 300 ppm, the decomposition efficiency of the gas to be decomposed becomes particularly remarkable.

【0038】次亜塩素酸を含む溶液から発生する塩素を
使用するときは、該次亜塩素酸を含む溶液に酸を所定量
加え、塩素が効率よく発生するようにするとよい。
When chlorine generated from a solution containing hypochlorous acid is used, it is preferable to add a predetermined amount of acid to the solution containing hypochlorous acid so that chlorine can be efficiently generated.

【0039】また、上記の酸等を含む次亜塩素酸を含む
溶液を気体で曝気することで、より効率的に塩素を含む
気体を得ることができる。また、分解処理の対象が汚染
物質を含む水の場合、次亜塩素酸を含む溶液を混合した
ものを気体で曝気する構成としても、あるいは直接気体
の塩素を汚染水中に吹き込む構成としてもよい。
Further, the gas containing chlorine can be more efficiently obtained by aerating the solution containing the hypochlorous acid containing the above-mentioned acid with the gas. When the target of the decomposition treatment is water containing a pollutant, a mixture of a solution containing hypochlorous acid may be aerated, or a structure in which gaseous chlorine is directly blown into the contaminated water may be used.

【0040】このような場合には散気装置(バブラ)を用
いることができる。散気装置は、液体に気体を吹き込む
ために用いられる通常の装置でかまわないが、気泡の大
きさが塩素の気散に十分な表面積になるように選定され
ることが望ましい。
In such a case, an air diffuser (bubbler) can be used. The air diffuser may be a conventional device used to blow gas into the liquid, but it is desirable that the size of the bubbles be selected so that the surface area is sufficient for the vaporization of chlorine.

【0041】また、散気装置の材質は、次亜塩素酸を含
む溶液の成分と反応しない素材が選定されていることが
望ましい。例えば、焼結ガラス、多孔質セラミックス、
焼結SUS 316、繊維状のSUS 316 で織った網等で
作られた多孔質散気板や、ガラスまたはSUS 316 等
のパイプで作られたスパージャーなどを用いることがで
きる。
Further, it is desirable that the material of the air diffuser is selected so that it does not react with the components of the solution containing hypochlorous acid. For example, sintered glass, porous ceramics,
A porous diffuser plate made of a net woven of sintered SUS 316, fibrous SUS 316, or the like, or a sparger made of glass or a pipe of SUS 316 or the like can be used.

【0042】次亜塩素酸を含む溶液の性状としては、例
えば水素イオン濃度(pH値)が1以上4以下、好ましく
は2以上3以下、残留塩素濃度が5mg/L以上 300mg/L
以下、好ましくは5mg/L以上 150mg/L以下、より好ま
しくは 30mg/L以上 120mg/L以下の性状をもつと良
い。また好ましくは作用電極をプラチナ電極とし参照電
極を銀-塩化銀としたときの酸化還元電位が 800mV以
上 1500mV以下である。
The properties of the solution containing hypochlorous acid include, for example, hydrogen ion concentration (pH value) of 1 or more and 4 or less, preferably 2 or more and 3 or less, and residual chlorine concentration of 5 mg / L or more and 300 mg / L.
The following properties are preferable, preferably 5 mg / L or more and 150 mg / L or less, and more preferably 30 mg / L or more and 120 mg / L or less. The redox potential is preferably 800 mV or more and 1500 mV or less when the working electrode is a platinum electrode and the reference electrode is silver-silver chloride.

【0043】次亜塩素酸を含む溶液は、塩素を成分とし
て含む電解質(例えば、塩化ナトリウムや塩化カリウム
など)を含む溶液の電気分解を行なうことによって、陽
極側より得ることができる。電解前の原水中の電解質の
濃度は例えば塩化ナトリウムでは 20mg/L〜2000mg/L
が望ましく、より好ましくは 200mg/L以上 1000mg/L
以下とするのがよい。またこのとき一対の電極間に隔膜
を配置した場合、陽極近傍に生成される酸性の水と陰極
近傍にて生成するアルカリ性の水との混合を防ぐことが
できる。
The solution containing hypochlorous acid can be obtained from the anode side by electrolyzing a solution containing an electrolyte containing chlorine as a component (eg, sodium chloride or potassium chloride). The concentration of the electrolyte in the raw water before electrolysis is, for example, 20 mg / L to 2000 mg / L for sodium chloride.
Is preferable, and more preferably 200 mg / L or more and 1000 mg / L
The following is recommended. At this time, when a diaphragm is arranged between the pair of electrodes, it is possible to prevent the acidic water generated near the anode from mixing with the alkaline water generated near the cathode.

【0044】上記の特性を有する次亜塩素酸を含む溶液
は、試薬から調製することも可能である。例えば、塩酸
0.001mol/L〜0.1mol/L、塩化ナトリウム 0.005mol/
L〜0.02mol/L、及び次亜塩素酸ナトリウム 0.0001mol
/L〜0.01mol/Lとすることにより得ることができる。上
記の塩酸の代りに他の無機酸または有機酸を使用するこ
とができる。無機酸としては例えば、フッ酸、硫酸、リ
ン酸、ホウ酸などが、有機酸としては酢酸、ぎ酸、りん
ご酸、クエン酸、シュウ酸などが利用できる。また、弱
酸性水粉末生成剤(例えば、商品名 キノーサン21X(ク
リーンケミカル株式会社製))として市販されているN3
33NaCl2等を用いてもよい。
The solution containing hypochlorous acid having the above-mentioned properties can be prepared from a reagent. For example, hydrochloric acid
0.001mol / L ~ 0.1mol / L, sodium chloride 0.005mol / L
L ~ 0.02mol / L, and sodium hypochlorite 0.0001mol
It can be obtained by setting / L to 0.01 mol / L. Other inorganic or organic acids can be used in place of the above hydrochloric acid. As the inorganic acid, for example, hydrofluoric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, boric acid and the like can be used, and as the organic acid, acetic acid, formic acid, malic acid, citric acid, oxalic acid and the like can be used. In addition, N 3 which is commercially available as a weakly acidic water powder forming agent (for example, trade name: Kenosan 21X (manufactured by Clean Chemical Co., Ltd.))
It may be used C 3 O 3 NaCl 2, and the like.

【0045】分解のための気体としては塩素ガスについ
てのみ述べてきたが、光照射によってラジカルが発生す
る性質を有する気体であれば他のハロゲンガスなどを用
いてもかまわない。
Although only chlorine gas has been described as a gas for decomposition, other halogen gas may be used as long as it has a property of generating radicals by light irradiation.

【0046】また、本実施形態は、流体を分解する手段
として、光を流体に照射する形態が示されているが、特
にこれに限定されず、例えば、燃焼による酸化分解であ
ったり、菌による分解であってもよい。
Further, in the present embodiment, as a means for decomposing the fluid, a mode of irradiating the fluid with light is shown, but the invention is not particularly limited to this, and for example, oxidative decomposition by combustion, or by a bacterium. It may be decomposition.

【0047】以下に、本発明の実施例を示す。Examples of the present invention will be shown below.

【0048】[0048]

【実施例】[実施例1] (汚染ガス浄化システム)図3には本願を用いた汚染物質
分解のシステム構成が示されている。このシステムで
は、光分解反応槽1内の汚染物質と塩素との混合物に光
照射手段2a,2bから光照射が行なわれ汚染物質は分解
される。分解処理後の分解生成物を含む気体は、連続的
に排気管4から排出される。光照射手段2と槽1との関
係は、図3のごとき、光照射手段2の口金7を反応槽1
から出し、その接合部を図6と同様の構成とした。
[Embodiment] [Embodiment 1] (Pollution gas purification system) Fig. 3 shows a system configuration for decomposing pollutants using the present application. In this system, the mixture of the pollutant and chlorine in the photolysis reaction tank 1 is irradiated with light from the light irradiation means 2a, 2b, and the pollutant is decomposed. The gas containing the decomposition products after the decomposition treatment is continuously discharged from the exhaust pipe 4. The relationship between the light irradiating means 2 and the tank 1 is as shown in FIG.
Then, the bonded portion was made to have the same structure as that in FIG.

【0049】導入管3からトリクロロエチレン 100ppm
V,塩素濃度 50ppmVの混合ガスを光分解反応槽内に送
り込み、ブラックライト蛍光ランプ7(商品名:FL20S
BLB;株式会社東芝製、20W、波長 360nm近辺にピー
クを持つ光源)を用いて混合ガスに光照射した。光分解
反応槽の内側から直接ブラックライト蛍光ランプの照射
をおこなった。
From the introduction pipe 3 to 100 ppm of trichlorethylene
A mixed gas with V and chlorine concentration of 50 ppmV was sent into the photolysis reaction tank, and a black light fluorescent lamp 7 (trade name: FL20S
BLB: Toshiba Corporation, 20 W, light source having a peak around a wavelength of 360 nm) was used to irradiate the mixed gas with light. Irradiation with a black light fluorescent lamp was performed directly from the inside of the photolysis reaction tank.

【0050】滞留時間は1分となるよう混合気体を送り
込んだ。
The mixed gas was fed so that the residence time was 1 minute.

【0051】トリクロロエチレンが光分解反応槽1で分
解されていることを確認するため排気管4の出口でトリ
クロロエチレン濃度を測定したところ 0.05ppmV以下
であった。
In order to confirm that trichlorethylene was decomposed in the photolysis reaction tank 1, the concentration of trichlorethylene at the outlet of the exhaust pipe 4 was measured and found to be 0.05 ppmV or less.

【0052】所定の期間運転をおこなったが、口金部7
に腐食は観察されなかった。
After operating for a predetermined period of time, the mouthpiece 7
No corrosion was observed.

【0053】[実施例2] (汚染水浄化システム)本実施例は汚染水浄化の例であ
る。このシステムにおいては、汚染水と次亜塩素酸を含
む溶液等の混合物に対し曝気を行ない、この曝気気体を
閉ループ内で循環し、光照射を行なう。閉ループ内に分
解生成物を除去・分解するための除去容器が配されてお
り、ここで分解生成物は除去、分解される。このような
例を図10に示した。
[Embodiment 2] (Contaminated water purification system) This embodiment is an example of contaminated water purification. In this system, a mixture of contaminated water and a solution containing hypochlorous acid is aerated, and the aerated gas is circulated in a closed loop to perform light irradiation. A removal container for removing and decomposing the decomposition products is arranged in the closed loop, where the decomposition products are removed and decomposed. Such an example is shown in FIG.

【0054】この構成の汚染水浄化システムにおいて
は、汚染水を、浄化槽 13 の所定位置に収納し、これに
次亜塩素酸塩を含む溶液及び酸を加える。閉ループ状の
循環路11 内の気体循環を開始し、汚染水を含む次亜塩
素酸溶液の曝気を行なう。さらに、汚染物質及び次亜塩
素酸溶液中の塩素は、気相部に拡散、放出され光照射手
段2であるランプで光照射が行なわれ、汚染水に溶け込
んだ汚染物質は順次分解・除去される。
In the contaminated water purification system having this structure, contaminated water is stored in a predetermined position of the septic tank 13, and a solution containing hypochlorite and an acid are added thereto. The gas circulation in the closed loop circulation path 11 is started to aerate the hypochlorous acid solution containing the contaminated water. Further, the pollutants and chlorine in the hypochlorous acid solution are diffused and released in the gas phase part and are irradiated with light by the lamp which is the light irradiation means 2, and the pollutants dissolved in the contaminated water are decomposed and removed in sequence. It

【0055】光照射手段2と浄化槽 13 との関係は、図
7のごとき、光照射手段2の口金7を浄化槽 13 の外側
に出し、その接合部を図9と同様の構成とした。
As for the relationship between the light irradiating means 2 and the septic tank 13, the base 7 of the light irradiating means 2 is taken out of the septic tank 13 as shown in FIG.

【0056】図10 に示す装置を用いて回収溶剤の分解
を実験的に確かめた。
The decomposition of the recovered solvent was experimentally confirmed using the apparatus shown in FIG.

【0057】分解対象物質として活性炭からの脱着水を
使用した。この活性炭には有機塩素化合物による土壌汚
染から真空抽出法で抽出した汚染ガスの汚染物質が吸着
しており、これを水蒸気脱着したところ、脱着水には、
トリクロロエチレンが 50mg/L、ジクロロメタンが 40
mg/L、テトラクロロエチレンが 120mg/L、1,1,1-
トリクロロエタンが 20mg/L、及びcis-1,2-ジクロロ
エチレンが 70mg/L含まれていた。
Desorbed water from activated carbon was used as a substance to be decomposed. Pollutants of pollutant gas extracted by vacuum extraction method from soil pollution by organic chlorine compounds are adsorbed on this activated carbon, and when this is desorbed by steam, desorption water is
Trichloroethylene 50mg / L, dichloromethane 40
mg / L, tetrachloroethylene 120 mg / L, 1,1,1-
It contained 20 mg / L of trichloroethane and 70 mg / L of cis-1,2-dichloroethylene.

【0058】この脱着水を、総容積 50Lの浄化槽 11 に
20L 導入した。さらに、12%次亜塩素酸ナトリウム溶
液(キシダ化学、製造時含量約12%、有効塩素:min 5
%)を12mL 及び塩酸(35%塩酸)を6mL 加えた。その
結果、汚染脱着水はpH 2.5、残留塩素濃度 70〜90mg/
L となった。
This desorbed water was placed in a septic tank 11 having a total volume of 50 L.
20L was introduced. In addition, 12% sodium hypochlorite solution (Kishida Chemical, content about 12% at the time of production, available chlorine: min 5
%) And 6 mL of hydrochloric acid (35% hydrochloric acid) were added. As a result, the contaminated desorption water had a pH of 2.5 and a residual chlorine concentration of 70 to 90 mg /
It became L.

【0059】さらに、ホンプ2(イワキAPN 215)を動
かしエアーレーションを行なった。循環路 10 内のエア
ーは浄化槽 11 内に曝気口 12 から吹き込まれ、配管9
を通ってホンプに戻り循環する。このときの流量は約15
L/minであった。
Further, the homb 2 (Iwaki APN 215) was moved to perform aeration. The air in the circulation path 10 is blown into the septic tank 11 through the aeration port 12, and the piping 9
Return to Homp and circulate. The flow rate at this time is about 15
It was L / min.

【0060】浄化槽 13 の内側から直接、主に気相部に
光の照射を行なった。光の照射はブラックライト蛍光ラ
ンプ2(商品名:FL20SBLB;株式会社東芝製、20W)
を 10本配して行なった。(図では本数を省略してい
る。)1時間運転した後、処理水中のトリクロロエチレ
ン、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン、1,1,1
-トリクロロエタン及びcis-1,2-ジクロロエチレン量
をECDガスクロマトグラフィー等にて測定した。また
気相部における汚染物質濃度も測定した。
Light was radiated directly from the inside of the septic tank 13 mainly to the gas phase portion. Black light fluorescent lamp 2 (product name: FL20SBLB; manufactured by Toshiba Corporation, 20W)
It was carried out by arranging 10 bottles. (The number is omitted in the figure.) After operating for 1 hour, trichlorethylene, dichloromethane, tetrachloroethylene in the treated water, 1,1,1
The amounts of -trichloroethane and cis-1,2-dichloroethylene were measured by ECD gas chromatography or the like. The concentration of pollutants in the gas phase was also measured.

【0061】その結果、トリクロロエチレン、ジクロロ
メタン、テトラクロロエチレン、1,1,1-トリクロロ
エタン及びcis-1,2-ジクロロエチレンは 0.03mg/L以
下まで分解していた。
As a result, trichlorethylene, dichloromethane, tetrachloroethylene, 1,1,1-trichloroethane and cis-1,2-dichloroethylene were decomposed to 0.03 mg / L or less.

【0062】上記、脱着水分解浄化の運転を 100 サイ
クルおこなったのち、光照射部2を取り外して観察した
ところ、口金部7に腐食は観察されなかった。
After the operation of desorbing water decomposition purification was performed 100 cycles, the light irradiation section 2 was removed and observed. No corrosion was observed on the base section 7.

【0063】[実施例3]実施例1では、光を照射する手
段として光の波長が 300nm〜500nmの光源を用いた
が、本実施例では 254nmにピークをもつ光源(例えば殺
菌灯)を使用した。
[Example 3] In Example 1, a light source having a wavelength of light of 300 nm to 500 nm was used as a means for irradiating light, but in this Example, a light source having a peak at 254 nm (for example, a germicidal lamp) is used. did.

【0064】上記以外は実施例1とほぼ同様の実験をお
こなった。ブラックライトの代わりに殺菌灯(GL20:東
芝製)を、光分解反応槽1内に設置した。導入管3から
はテトラクロロエチレン 200ppmVを入れた以外は実施
例1とほぼ同様の実験をした。その結果、汚染ガスは分
解されるとともに、鞘管のない本構成において、口金部
が腐食されることがないことを確認した。
An experiment similar to that of Example 1 was performed except for the above. Instead of the black light, a germicidal lamp (GL20: made by Toshiba) was installed in the photolysis reaction tank 1. An experiment similar to that of Example 1 was performed except that 200 ppmV of tetrachloroethylene was introduced from the introduction pipe 3. As a result, it was confirmed that the polluted gas was decomposed and that the mouthpiece was not corroded in this configuration without the sheath tube.

【0065】[実施例4]実施例2では、光を照射する手
段として光の波長が 300nm〜500nmの光源を用いた
が、本実施例では 254nmにピークをもつ光源(例えば殺
菌灯)を使用した。
[Example 4] In Example 2, a light source having a light wavelength of 300 nm to 500 nm was used as a means for irradiating light, but in this Example, a light source having a peak at 254 nm (for example, a germicidal lamp) is used. did.

【0066】上記以外は実施例2とほぼ同様の実験をお
こなった。ブラックライトの代わりに殺菌灯(GL20:東
芝製)を、浄化槽 13 内に設置した。分解対象としてテ
トラクロロエチレン 200mg/Lの汚染水を入れた以外は
実施例2とほぼ同様の実験をおこなった。
An experiment similar to that of Example 2 was performed except for the above. A germicidal lamp (GL20: made by Toshiba) was installed in the septic tank 13 instead of the black light. An experiment similar to that of Example 2 was performed except that contaminated water of 200 mg / L of tetrachloroethylene was added as a decomposition target.

【0067】その結果、汚染水中の汚染物質は分解され
浄化されるとともに、鞘管のない本構成において、口金
部が腐食されることがないことを確認した。
As a result, it was confirmed that the pollutants in the contaminated water were decomposed and purified, and that the cap portion was not corroded in the present structure without the sheath tube.

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明を用いた方法を行なうことによ
り、鞘管が不要であり、直接照射が可能となった。この
ため吸収がなく、発光した光の殆どすべてを全方位にわ
たって利用することが可能となり、分解効率が上がっ
た。また、本発明は汚染ガス・汚染水の光分解等いずれ
の形態にも適用できる。
EFFECTS OF THE INVENTION By carrying out the method of the present invention, a sheath tube is unnecessary and direct irradiation becomes possible. Therefore, there is no absorption and almost all the emitted light can be used in all directions, and the decomposition efficiency is improved. Further, the present invention can be applied to any form such as photolysis of polluted gas and polluted water.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の光反応装置の一態様の構成を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of one aspect of a conventional photoreaction device.

【図2】従来の光反応装置に関する他の態様の構成を示
す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of another aspect of the conventional photoreaction device.

【図3】本発明の実施態様にかかる汚染物質分解装置の
概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a pollutant decomposition device according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明で用いた光照射手段の一例を示した図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing an example of a light irradiation means used in the present invention.

【図5】本発明の実施態様にかかる光照射手段と槽との
関係を示した概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing the relationship between the light irradiation means and the tank according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の他の実施態様にかかる光照射手段と槽
との関係を示した概略図である。
FIG. 6 is a schematic view showing a relationship between a light irradiation unit and a tank according to another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施態様にかかる光照射手段と槽
との関係を示した概略図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a relationship between a light irradiation unit and a tank according to another embodiment of the present invention.

【図8】本発明の他の実施態様にかかる光照射手段と槽
との関係を示した概略図である。
FIG. 8 is a schematic view showing the relationship between a light irradiation unit and a tank according to another embodiment of the present invention.

【図9】本発明の他の実施態様にかかる光照射手段と槽
との関係を示した概略図である。
FIG. 9 is a schematic view showing the relationship between a light irradiation unit and a tank according to another embodiment of the present invention.

【図10】本発明の他の実施態様にかかる汚染物質分解
装置の概略図である。
FIG. 10 is a schematic view of a pollutant decomposition device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:(反応)槽 2:光照射手段 3:導入管 4:排出管 5:鞘管 6:光発光部 7:口金部 8:シーリング材 9:アダプター 10 :導入ポート 11 :循環路 12 :曝気口 13 :浄化槽 14 :槽壁 15 :ポンプ 1: (reaction) tank 2: Light irradiation means 3: Introduction tube 4: Discharge pipe 5: sheath tube 6: Light emitting part 7: Clasp part 8: Sealing material 9: Adapter 10: Introduction port 11: Circuit 12: Aeration port 13: Septic tank 14: Tank wall 15: Pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D002 AA21 AB03 AC07 AC10 BA09 CA20 DA37 DA53 HA10 4D037 AA11 AB14 BA18 BB05 BB09 4G075 AA02 AA37 AA53 BA04 BA05 BD27 CA33 DA02 DA18 EB01 EB32 EC26 FB02 FB06 FB13 FC04 FC09 FC17    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4D002 AA21 AB03 AC07 AC10 BA09                       CA20 DA37 DA53 HA10                 4D037 AA11 AB14 BA18 BB05 BB09                 4G075 AA02 AA37 AA53 BA04 BA05                       BD27 CA33 DA02 DA18 EB01                       EB32 EC26 FB02 FB06 FB13                       FC04 FC09 FC17

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 流体を収容可能な流体室と;前記流体室
内に収容される流体と直接接触することで前記流体に作
用する第1の部分、前記第1の部分と一体であり前記流
体と直接接触することで劣化する第2の部分とを有する
作用部と;前記作用部の前記第1の部分が前記流体室内
に位置するように前記作用部を前記流体室に装着するた
めの装着部と;前記装着部により前記作用部を前記流体
室に装着したときに前記流体室の内部を外気から遮断
し、かつ前記第2の部分が前記流体と接触しないように
前記流体室の内部から隔離する隔離部とを備えることを
特徴とする流体作用装置。
1. A fluid chamber capable of containing a fluid; a first portion that acts on the fluid by directly contacting the fluid contained in the fluid chamber, the fluid being integral with the first portion, and An action portion having a second portion that deteriorates by direct contact; a mounting portion for attaching the action portion to the fluid chamber such that the first portion of the action portion is located in the fluid chamber And; isolating the inside of the fluid chamber so that the inside of the fluid chamber is shielded from the outside air when the action portion is attached to the fluid chamber by the mounting portion, and the second portion does not come into contact with the fluid. A fluid action device comprising:
【請求項2】 前記隔離部は、前記作用部が前記流体室
から脱離したときに前記流体室の内部と外気とを連通さ
せることを特徴とする請求項1記載の流体作用装置。
2. The fluid action device according to claim 1, wherein the isolation portion communicates the inside of the fluid chamber with the outside air when the action portion is separated from the fluid chamber.
【請求項3】 前記第1の部分は、前記流体に対し光を
照射することで前記流体を分解する光照射手段であるこ
とを特徴とする請求項1または2に記載の流体作用装
置。
3. The fluid action device according to claim 1, wherein the first portion is a light irradiation unit that decomposes the fluid by irradiating the fluid with light.
【請求項4】 前記光照射手段が、波長100〜300
nmの紫外線を含む光を照射可能な光源であることを特
徴とする請求項3記載の流体作用装置。
4. The light irradiation means has a wavelength of 100 to 300.
The fluid action device according to claim 3, wherein the fluid action device is a light source capable of irradiating light including nm ultraviolet rays.
【請求項5】 前記第2の部分は、前記流体と直接接触
することで酸化されることを特徴とする請求項1ないし
4のいずれかに記載の流体作用装置。
5. The fluid action device according to claim 1, wherein the second portion is oxidized by being in direct contact with the fluid.
【請求項6】 前記第2の部分は、金属であることを特
徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の流体作用
装置。
6. The fluid action device according to claim 1, wherein the second portion is made of metal.
【請求項7】 前記装着部は、前記作用部を前記流体室
に装着したときに前記第2の部分全体を覆う構造体であ
ることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載
の流体作用装置。
7. The mounting portion is a structure that covers the entire second portion when the action portion is mounted in the fluid chamber, according to any one of claims 1 to 6. Fluid working device.
【請求項8】 前記隔離部は、前記構造体と前記作用部
との間に設けられていることを特徴とする請求項7記載
の流体作用装置。
8. The fluid action device according to claim 7, wherein the isolation portion is provided between the structure and the action portion.
【請求項9】 少なくとも前記第2の部分と前記隔離部
との間に前記作用部を前記流体室に装着したときに記第
2の部分が前記流体と接触しないように前記流体室の内
部から隔離するための部材をさらに有することを特徴と
する請求項1ないし8のいずれかに記載の流体作用装
置。
9. The inside of the fluid chamber so that the second portion does not come into contact with the fluid when the action portion is mounted in the fluid chamber between at least the second portion and the isolation portion. The fluid action device according to claim 1, further comprising a member for isolating.
【請求項10】 前記第2の部分は、前記隔離部より外
気側にあることを特徴とする請求項1ないし9のいずれ
かに記載の流体作用装置。
10. The fluid action device according to claim 1, wherein the second portion is on the outside air side of the isolation portion.
【請求項11】 流体と直接接触することで前記流体に
作用する第1の部分と前記第1の部分と一体であり前記
流体と直接接触することで劣化する性質を有する第2の
部分とを有する作用部を用いて流体に作用させる方法で
あって、 前記第1の部分を前記流体に直接接触させて作用させる
とき、前記流体を外気から遮断し、かつ前記第2の部分
を前記流体と接触しないように前記流体から隔離する工
程を有することを特徴とする、流体に作用させる方法。
11. A first portion that acts on the fluid by directly contacting the fluid, and a second portion that is integral with the first portion and that has a property of being deteriorated by directly contacting the fluid. A method of acting on a fluid using an action part having, wherein when the first portion is brought into direct contact with the fluid to act on the fluid, the fluid is shielded from the outside air and the second portion is acted on as the fluid. A method of acting on a fluid, comprising the step of isolating the fluid from contact.
【請求項12】 請求項1ないし10のいずれかに記載
の装置を用いることを特徴とする請求項11に記載の流
体に作用させる方法。
12. A method for acting on a fluid according to claim 11, characterized in that the device according to any one of claims 1 to 10 is used.
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Cited By (3)

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