JP2003305021A - 磁界発生装置およびその製造方法 - Google Patents

磁界発生装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP2003305021A
JP2003305021A JP2003035128A JP2003035128A JP2003305021A JP 2003305021 A JP2003305021 A JP 2003305021A JP 2003035128 A JP2003035128 A JP 2003035128A JP 2003035128 A JP2003035128 A JP 2003035128A JP 2003305021 A JP2003305021 A JP 2003305021A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic field
magnet
field generator
permanent magnet
magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003035128A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4085833B2 (ja
Inventor
Masaaki Aoki
雅昭 青木
Takeshi Tsuzaki
剛 津崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Metals Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority to JP2003035128A priority Critical patent/JP4085833B2/ja
Publication of JP2003305021A publication Critical patent/JP2003305021A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4085833B2 publication Critical patent/JP4085833B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 輸送後における磁界強度の低下および磁界均
一性の悪化を抑制できる、磁界発生装置およびその製造
方法を提供する。 【解決手段】 磁界発生装置10は一対の板状継鉄1
2a,12bを含む。一対の板状継鉄12a,12bの
それぞれの対向面側には永久磁石群14a,14bが配
置され、永久磁石群14a,14bのそれぞれの対向面
側には磁極板16a,16bが固着される。永久磁石群
14a,14bは永久磁石18を含む。磁極板16a,
16bは、環状突起24と環状突起24の外側面に設け
られた漏洩磁束防止用の永久磁石28とを含む。永久磁
石18,28は、着磁率が80%以上99.9%以下の
R−Fe−B系磁石を含む。製造時には、組み立てられ
た磁界発生装置10全体を40℃以上70℃以下で加温
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は磁界発生装置およ
びその製造方法に関し、より特定的にはMRI用磁界発
生装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、MRI用の磁界発生装置は、出荷
前に予め磁界強度および磁界均一性が十分に調整された
上で、コンテナ等で設置場所まで輸送される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような工
夫にも拘わらず現地に到着した時点で磁界強度が低下し
あるいは磁界の均一性が基準値を超えて悪化し、磁界発
生装置を再調整しなければならない場合があった。特
に、漏洩磁束防止用磁石を用いて漏洩磁束を少なくする
とともに主磁石から発生した磁束を中心部分に集中させ
る磁界発生装置においてその傾向が顕著である。また、
コンテナ梱包されて輸出される場合や、撮像スピードを
向上させるために最近多く使用されている磁界強度の大
きい(中心磁界強度:0.25T以上)装置においても
その傾向が顕著である。それゆえにこの発明の主たる目
的は、輸送後における磁界強度の低下および磁界均一性
の悪化を抑制できる、磁界発生装置およびその製造方法
を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、請求項1に記載の磁界発生装置は、空隙を形成し
て対向配置されかつR−Fe−B系磁石を含む一対の第
1磁石、および一対の第1磁石を支持する継鉄を備え、
R−Fe−B系磁石の着磁率が80%以上99.9%以
下であることを特徴とする。この明細書において「着磁
率」とは常温(25℃)における着磁率をいう。請求項
2に記載の磁界発生装置は、請求項1に記載の磁界発生
装置において、一対の第1磁石の対向面側に設けられる
磁極板をさらに備え、磁極板は、環状突起と環状突起の
外側面に設けられた漏洩磁束防止用の第2磁石とを含む
ことを特徴とする。
【0005】請求項3に記載の磁界発生装置は、請求項
1または2に記載の磁界発生装置において、R−Fe−
B系磁石は、Coおよび/またはDyを実質的に含まな
いことを特徴とする。請求項4に記載の磁界発生装置
は、請求項1から3のいずれかに記載の磁界発生装置に
おいて、必要とされる磁界強度の均一度が100ppm
以内(均一磁界空間において空間内の各ポイントが中心
磁界強度(基準磁界強度)に対して±50ppmの磁界
強度を有する)であることを特徴とする。
【0006】請求項5に記載の磁界発生装置は、請求項
1から4のいずれかに記載の磁界発生装置において、コ
ンテナで輸送されることを特徴とする。請求項6に記載
の磁界発生装置は、請求項1から5のいずれかに記載の
磁界発生装置において、均一磁界空間において0.25
T以上の磁界強度を有することを特徴とする。
【0007】請求項7に記載の磁界発生装置の製造方法
は、R−Fe−B系磁石を含む磁界発生装置を組み立て
る第1工程、および組み立てられた磁界発生装置全体を
40℃以上70℃以下で加温する第2工程を備える。請
求項8に記載の磁界発生装置の製造方法は、R−Fe−
B系磁石を含む磁石を板状継鉄に固定し磁極ユニットを
組み立てる第1工程、組み立てられた磁極ユニットを4
0℃以上70℃以下で加温する第2工程、および加温さ
れた磁極ユニットを支持継鉄に固定する第3工程を備え
る。
【0008】請求項9に記載の磁界発生装置の製造方法
は、R−Fe−B系磁石を含む磁石を形成する第1工
程、磁石を40℃以上70℃以下で加温する第2工程、
加温された磁石を着磁する第3工程、および着磁された
磁石を板状継鉄に固定する第4工程を備える。請求項1
0に記載の磁界発生装置の製造方法は、R−Fe−B系
磁石を含む磁石を形成する第1工程、磁石を99.9%
をこえる着磁率で着磁する第2工程、着磁された磁石を
80%以上99.9%以下の着磁率に減磁させる第3工
程、および減磁された磁石を板状継鉄に固定する第4工
程を備える。
【0009】請求項1に記載の磁界発生装置では、R−
Fe−B系磁石(Rはイットリウム(Y)を含む希土類
元素、Feは鉄、Bはホウ素)の最終的な着磁率を80
%以上99.9%以下に抑制することによって、固有保
磁力を損なわずに組み立てられた磁界発生装置の経時的
なあるいは温度上昇等の環境要因による減磁を抑制でき
る。したがって、磁界発生装置の輸送後における磁界強
度の低下および磁界均一度の悪化を抑制でき、磁界発生
装置は設置場所に到着した時点で高い磁界均一度を保つ
ことができる。
【0010】なお、R−Fe−B系磁石の最終的な着磁
率が80%未満であれば、当該磁石の磁気特性を十分に
生かすことができず、磁石使用量が多くなり効率が悪く
なる。一方、その最終的な着磁率が99.9%を超えた
状態で当該磁石を使用すると、輸送時の温度変化等によ
って当該磁石の減磁が大きくなってしまう。
【0011】一般に、漏洩磁束防止用の第2磁石を設け
ることによって、漏洩磁束を少なくすることはできるが
その反面、主磁石である第1磁石を減磁させ易くなる。
請求項2に記載の磁界発生装置では、第1磁石に含まれ
るR−Fe−B系磁石の着磁率を予め抑えておくことに
よって、漏洩磁束防止用の第2磁石をさらに設けても第
1磁石は第2磁石の影響をさほど受けず、磁界発生装置
の磁界強度の変化および磁界均一度の悪化を抑制でき
る。また、漏洩磁束防止用の第2磁石を組み付けてから
磁界発生装置に加温処理を施せば、その後の磁界強度の
変化や磁界均一度の悪化を一層抑制できる。
【0012】R−Fe−B系磁石は、コバルト(Co)
やディスプロシウム(Dy)を含まないと固有保磁力が
小さくなり熱減磁が発生しやすく逆磁界に対して弱くな
り、それぞれの場合磁界強度や磁界均一度が変化しやす
くなる。しかし、請求項3に記載の磁界発生装置では、
予めR−Fe−B系磁石の最終的な着磁率を抑えておく
ことによって、高価な元素であるCoやDyを含まない
磁石を用いても磁界強度の変化および磁界均一度の悪化
を抑制できる。なお、請求項3において「実質的に含ま
ない」とは、重量比率で0.1wt%以下であることを
いう。
【0013】請求項4に記載の磁界発生装置では、磁界
強度の変化や磁界均一度の悪化を抑制できるので、誤差
が100ppm以内という高精度の磁界強度が必要とさ
れる場合であっても、磁界強度の誤差を上述の範囲内に
抑えやすい。
【0014】たとえば空調を行っていないコンテナで磁
界発生装置を輸送する場合には、コンテナ内の温度が7
0℃前後まで上昇する場合もあるため、磁界強度の変化
および磁界均一度の悪化を招き易い。請求項5に記載の
磁界発生装置では、このようなコンテナによって輸送さ
れる場合であっても磁界強度の変化および磁界均一度の
悪化を抑制できる。
【0015】減磁は%単位で発生するので磁界強度が大
きいほど磁界強度の変化量は大きくなる。したがって、
均一磁界空間の磁界強度がたとえば0.25T以上と大
きい場合には、磁界強度の変化量も大きくなる。請求項
6に記載の磁界発生装置では、このように磁界強度が大
きい場合であっても、磁界強度の変化を抑制できる。
「均一磁界空間」とは、磁界強度の差が100ppm以
内である磁界空間をいう。
【0016】請求項7に記載の磁界発生装置の製造方法
では、着磁率が99.9%をこえる磁石を使用して磁界
発生装置を組み立てた後に磁界発生装置全体を加温する
ことによって、磁界発生装置に含まれる磁石を予め減磁
し着磁率を抑えておく。これによって、たとえば温度上
昇等の環境要因の変化があっても磁界発生装置によって
発生する磁界が長時間にわたって安定し、磁界発生装置
の輸送後における磁界強度の低下および磁界均一度の悪
化を抑制でき、磁界発生装置は設置場所に到着した時点
で高い磁界精度を保つことができる。
【0017】請求項8に記載の磁界発生装置の製造方法
では、磁極ユニットの組立後に磁極ユニット全体を加温
することによって、磁極ユニットに含まれる磁石を予め
減磁し着磁率を抑えておく。この磁極ユニットを用いて
組み立てられた磁界発生装置では、磁界が長時間にわた
って安定し、磁界発生装置の輸送後における磁界強度の
低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。また、磁界
発生装置全体を加温する場合より加温スペースが狭くて
足りる。
【0018】請求項9に記載の磁界発生装置の製造方法
では、磁石の段階で加温してから着磁することによって
磁石の着磁率を抑えておく。この磁石を用いて組み立て
られた磁界発生装置では、磁界が長時間にわたって安定
し、磁界発生装置の輸送後における磁界強度の低下およ
び磁界均一度の悪化を抑制できる。また、磁界発生装置
全体や磁極ユニットを加温する場合より、加温スペース
が狭くてもよく、小型の加温装置を用いることができ
る。
【0019】請求項10に記載の磁界発生装置の製造方
法では、磁石を99.9%をこえる着磁率で着磁してか
ら減磁することによって磁石の着磁率を抑えておく。こ
の磁石を用いて組み立てられた磁界発生装置では、磁界
が長時間にわたって安定し、磁界発生装置の輸送後にお
ける磁界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑制でき
る。また、磁石の状態で処理できるので作業効率がよ
い。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施形態について説明する。図1および図2を参照し
て、この発明の一実施形態のMRI用磁界発生装置10
は、オープンタイプのMRI用磁界発生装置であり、空
隙を形成して対向配置される一対の磁極ユニット11a
および11bを含む。
【0021】磁極ユニット11aおよび11bは、それ
ぞれ板状継鉄12aおよび12bを含む。一対の板状継
鉄12aおよび12bのそれぞれの対向面側には永久磁
石群14aおよび14bが配置され、永久磁石群14a
および14bのそれぞれの対向面側には磁極板16aお
よび16bが固着される。
【0022】永久磁石群14aおよび14bは、図3か
らわかるように、直方体状の複数の永久磁石18を含
む。永久磁石18には、たとえばNEOMAX−47
(住友特殊金属株式会社製)等のCoおよび/またはD
yが実質的に含まれていない高磁束密度タイプのR−F
e−B系磁石が用いられ、たとえば常温における着磁率
は80%以上99.9%以下に設定される。一例とし
て、永久磁石18は、着磁率100%のときの磁束密度
が0.3824Tの磁石であれば、磁束密度が0.38
20Tとなるよう着磁される。永久磁石18は図示しな
い磁石単体を組み立てることによって得られる。
【0023】磁極板16aは、永久磁石群14a上に配
置されるたとえば鉄からなる円板状のベースプレート2
0を含む。ベースプレート20上には、うず電流の発生
を防止するための珪素鋼板22が形成される。珪素鋼板
22は、ベースプレート20上に接着剤で固定される。
ベースプレート20の周縁部には、たとえば鉄からなり
周縁部の磁界強度を上げ、均一磁界を得るための環状突
起24が形成される。環状突起24は複数の環状突起片
26を含み、各環状突起片26を珪素鋼板22の周縁部
に固定することによって環状突起24が形成される。
【0024】各環状突起24の外側面には、漏洩磁束防
止用の永久磁石28が設けられる。永久磁石28には、
NEOMAX−39SH(住友特殊金属株式会社製)等
の高保磁力タイプのR−Fe−B系磁石が用いられ、た
とえば常温における着磁率は80%以上99.9%以下
に設定される。一例として、永久磁石28は、着磁率1
00%のときの磁束密度が0.3824Tの磁石であれ
ば、磁束密度が0.3820Tとなるよう着磁される。
永久磁石28は図示しない磁石単体を組み立てることに
よって得られる。
【0025】永久磁石28によって磁束を磁極板16
a、16b間に誘導し漏れ磁束を少なくできる。永久磁
石28の底部から磁束が漏洩しないように、永久磁石2
8の底部が永久磁石群14aに略当接(5mm以下に近
接)するまで、永久磁石28の下部が延びていることが
望ましい。このように永久磁石28と永久磁石群14a
とが近接する場合には減磁が発生しやすい。磁極板16
bについても同様である。
【0026】図2に示すように、下側の磁極板16aに
おける永久磁石28の磁化方向A1は永久磁石群14a
の各永久磁石18の磁化方向B1とは異なり内向きとな
る。その永久磁石28の磁化角度θ1は永久磁石群14
aの主面30a(水平方向)に対して永久磁石28の磁
化方向A1がなす角度を示す。上側の磁極板16bにお
ける永久磁石28の磁化方向A2は永久磁石群14bの
各永久磁石18の磁化方向B2とは異なり外向きとな
る。その永久磁石28の磁化角度θ2は永久磁石群14
bの主面30b(水平方向)に対して永久磁石28の磁
化方向A2がなす角度を示す。
【0027】また、板状継鉄12aおよび12bには、
それぞれ複数の貫通孔32aおよび32bが形成され、
永久磁石群14aおよび14bには、それぞれ貫通孔3
2aおよび32bに対応する位置に貫通孔34aおよび
34bが形成される。さらに、磁極板16aおよび16
bの各ベースプレート20には、それぞれ貫通孔34a
および34bに対応する位置にねじ孔36aおよび36
bが形成される。
【0028】そして、磁極板固定用の固定ボルト38a
が、貫通孔32aおよび34aに挿通され、すなわち板
状継鉄12aおよび永久磁石群14aを貫通して、ねじ
孔36aに螺入されることによって、磁極板16aが永
久磁石群14aの主面に固定される。同様に、磁極板固
定用の固定ボルト38bが、貫通孔32bおよび34b
に挿通され、すなわち板状継鉄12bおよび永久磁石群
14bを貫通して、ねじ孔36bに螺入されることによ
って、磁極板16bが永久磁石群14bの主面に固定さ
れる。
【0029】板状継鉄12aおよび12bは一枚の板状
の支持継鉄40によって磁気的に結合される。すなわ
ち、支持継鉄40の下端面に板状継鉄12aの一端縁側
上面が、支持継鉄40の上端面が板状継鉄12bの一端
縁側下面にそれぞれ位置するように、支持継鉄40が板
状継鉄12aおよび12bに接続される。したがって、
板状継鉄12aおよび12bと支持継鉄40とは、その
接続部が略90度の角度を有し側面視コ字状になるよう
に接続される。
【0030】図1を参照して、板状継鉄12aと支持継
鉄40との接続部内面側のうち永久磁石群14aから最
も遠い位置(この実施の形態では板状継鉄12aと支持
継鉄40との接続部内面側の両端)に、それぞれ補強部
材42が形成される。同様に、板状継鉄12bと支持継
鉄40との接続部内面側のうち永久磁石群14bから最
も遠い位置(この実施の形態では板状継鉄12bと支持
継鉄40との接続部内面側の両端)に、それぞれ補強部
材42が形成される。したがって、補強部材42によっ
て、板状継鉄12aと支持継鉄40とが、板状継鉄12
bと支持継鉄40とがそれぞれより強く固定される。
【0031】また、板状継鉄12aの下面には、4つの
脚部44が取り付けられる。このような磁界発生装置1
0では、均一磁界空間F(図2参照)においてたとえば
0.25T以上の磁界強度が要求される。
【0032】ついで、磁界発生装置10の製造方法につ
いて説明する。なお、主磁石である永久磁石18および
漏洩磁束防止用磁石である永久磁石28は、たとえば図
4に示すような着磁装置50を用いて着磁あるいは減磁
される。着磁装置50は着磁コイル52を含み、載置台
54上に配置された永久磁石18または28が着磁コイ
ル52内に挿入される。着磁コイル52には切り替えス
イッチ56を介して着磁電源58が接続される。したが
って、着磁装置50は、切り替えスイッチ56の動作に
よって着磁と減磁とを切り替えることができる。
【0033】また、永久磁石18および28は、たとえ
ば図5に示す加温装置60を用いて加温される。加温装
置60は、加温槽62を含み、加温槽62内の上部およ
び下部にはそれぞれヒータ64が設けられる。ヒータ6
4は温度制御装置66によって制御される。また、永久
磁石18および28は加温槽62の入口から出口までコ
ンベア68によって搬送される。永久磁石18(28)
は加温槽62内で所定温度まで昇温される。
【0034】(製造方法1)磁界発生装置10全体を加
温する場合について説明する。まず、磁界発生装置10
全体を組み立てる。このとき、永久磁石18および28
はたとえば図4に示す着磁装置50を用いて99.9%
をこえる着磁率で着磁されている。ここで、「着磁率が
99.9%をこえる着磁」とは、磁化が略飽和した状態
をいい、通常、磁石の保磁力の3倍以上の磁界を印加し
たときにこの状態になる。
【0035】そして、磁界発生装置10を収容できる部
屋をヒータによって全体が均一の温度になるように暖
め、その部屋に磁界発生装置10を収容して加温し減磁
する。磁界発生装置10はたとえば40℃以上70℃以
下の所望の温度に加温される。この温度範囲であれば、
永久磁石18や28の常温における着磁率を80%以上
99.9%以下に設定でき、所望の着磁率に応じて温度
が設定される。その後、最終磁界調整を行う。
【0036】この製造方法では、磁界発生装置10全体
を組み立ててから加温処理して永久磁石18,28の着
磁率を80%以上99.9%以下に抑えることによっ
て、その後における経時的なあるいは温度上昇による減
磁を少なくでき、磁界発生装置10の輸送後における磁
界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。
【0037】特に、漏洩磁束防止用の永久磁石28は主
磁石である永久磁石18を減磁させやすいが、この方法
によれば、永久磁石18および28を含む磁界発生装置
10を加温して永久磁石18および28を減磁した後に
最終磁界調整するので、その後における磁界均一度の劣
化が少なく、漏洩磁束防止用の永久磁石28による影響
をも抑制できる。
【0038】したがって、磁界発生装置10は搬送中に
高い温度になったとしても設置場所に到着した時点で高
い磁界均一度を保つことができる。なお、磁界発生装置
10を加温するには、板状継鉄12aおよび12b等に
ヒータを埋め込んでおき、これによって磁界発生装置1
0を内部から昇温させてもよい。この場合には、磁界発
生装置10全体をスポンジ等の断熱材で覆うことが好ま
しい。
【0039】(製造方法2)磁極ユニット11aを加温
する場合について説明する。まず、磁極ユニット11a
を組み立てる。このとき、永久磁石18および28はた
とえば図4に示す着磁装置50を用いて99.9%をこ
える着磁率で着磁されている。
【0040】そして、磁極ユニット11aを収容できる
部屋をヒータによって全体が均一になるように暖め、そ
の部屋に磁極ユニット11aを入れて加温し減磁する。
磁極ユニット11aは、先の製造方法1と同様に所望の
着磁率(80%以上99.9%以下から選択)に応じ
て、たとえば40℃以上70℃以下の温度に加温され
る。磁極ユニット11bについても同様に処理する。そ
の後、磁極ユニット11a,11bを支持継鉄40に固
定して磁界発生装置10を得た後、工場出荷前に最終的
に磁界均一度の調整を行う。
【0041】この製造方法では、組み立てられた磁極ユ
ニット11a,11bを加温処理することによって、磁
極ユニット11a,11bを用いた磁界発生装置の輸送
後における磁界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑
制できる。特に、漏洩磁束防止用の永久磁石28は主磁
石である永久磁石18に影響を与えやすいが、この方法
によれば、永久磁石18および28を含む磁極ユニット
を加温して永久磁石18および28を減磁した後に最終
磁界調整するので、その後における磁界均一度の劣化が
少なく、漏洩磁束防止用の永久磁石28による影響をも
抑制できる。また、磁界発生装置10全体を組み立てて
から加温する場合と比べて加温スペースが狭くてもよ
い。
【0042】(製造方法3)永久磁石18を組み立て、
昇温したあとで着磁する場合について説明する。この場
合、永久磁石18を組み立てた後、板状継鉄12a,1
2bに接着する前に以下の工程を行う。
【0043】まず、永久磁石18をたとえば図5に示す
加温装置60の加温槽62内に入れ、永久磁石18全体
が均一にたとえば60℃になるまで加温する。なお、永
久磁石18は、たとえば40℃以上70℃以下の所望の
温度で加温され得る。加温された永久磁石18を加温槽
62から取りだし、たとえば図4に示す着磁装置50で
永久磁石18に対して瞬間的に高い磁界(3T以上)を
印加し永久磁石18を80%以上99.9%以下の着磁
率で着磁する。高温時には低温時に比べて着磁率が低下
するので、永久磁石18を高温にした状態で着磁するこ
とは、結果的に、永久磁石18を着磁後に熱減磁する
(後述の製造方法5参照)のと同様になる。永久磁石2
8についても同様に処理される。
【0044】その後、永久磁石18および28を板状継
鉄12a,12bに固定し、磁界発生装置10を組み立
てる。この製造方法によって得られた永久磁石18およ
び28を用いた磁界発生装置10では、輸送後における
磁界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。
また、磁界発生装置10全体や磁極ユニット11a,1
1bを加温する場合より、加温スペースが狭くてもよ
く、小型の加温装置60を用いることができる。なお、
永久磁石は一旦着磁すると磁力が働き吸引力や反発力が
作用するので、加温した永久磁石を板状継鉄12a,1
2bに固定する分だけ順次着磁して使用することが、安
全面から好ましい。
【0045】(製造方法4)永久磁石18を組み立て、
着磁したあとで逆磁界を印加して減磁する場合について
説明する。この場合、永久磁石18を組み立てた後、板
状継鉄12a,12bに接着する前に以下の工程を行
う。
【0046】まず、永久磁石18に対して瞬間的に高い
磁界(3T以上)を印加し99.9%をこえる着磁率で
着磁した後、着磁された永久磁石18に対して逆磁界
(0.01T〜2T)を印加して減磁させ、着磁率を8
0%以上99.9%以下に抑える。永久磁石18の着磁
および減磁は、たとえば図4に示す着磁装置50を用い
て行われる。永久磁石28についても同様に処理され
る。
【0047】その後、永久磁石18および28を板状継
鉄12a,12bに固定し、磁界発生装置10を組み立
てる。この製造方法によって得られた永久磁石18およ
び28を用いた磁界発生装置10では、輸送後における
磁界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。
また、この方法によれば、加温による減磁ではないの
で、時間が短くて済み、作業効率がよい。
【0048】(製造方法5)永久磁石18を組み立て、
着磁したあとで熱減磁する場合について説明する。この
場合、永久磁石18を組み立てた後、板状継鉄12a,
12bに接着する前に以下の工程を行う。
【0049】まず、たとえば図4に示す着磁装置50を
用いて永久磁石18に対して瞬間的に高い磁界(3T以
上)を印加して99.9%をこえる着磁率で着磁する。
着磁された永久磁石18をヒータが設置された炉内(4
0℃〜70℃)内に収容して熱減磁させ、着磁率を80
%以上99.9%以下に抑える。永久磁石28について
も同様に処理される。
【0050】永久磁石18および28を板状継鉄12
a,12bに固定し、磁界発生装置10を組み立てる。
この製造方法によって得られた永久磁石18および28
を用いた磁界発生装置10では、輸送後における磁界強
度の低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。
【0051】なお、上述の製造方法以外の方法として
は、永久磁石を本来の着磁方向とは逆方向にわずかに着
磁した後に本着磁し所望の着磁率を得るようにしてもよ
い。この場合には、逆方向の着磁率が大きいほどその後
の正方向の着磁磁界を大きくしなければならない。ま
た、減磁の方法としては、磁界発生装置10全体あるい
は磁極ユニット11a,11b全体に対して、逆磁界減
磁を施すようにしてもよい。
【0052】因みに、図6を参照して、永久磁石に関す
る一実験例について説明する。ここでは、永久磁石とし
てNEOMAX−47を用い、永久磁石を加温処理(1
00%着磁した後50℃で24時間維持)した場合と加
温処理しない場合とについて、磁界強度の経時変化を比
較した。
【0053】加温処理した永久磁石の着磁率は99%、
加温処理しない永久磁石の着磁率は100%に設定され
た。そして、実験中は、永久磁石には逆磁界なしで温度
が32℃に保たれた。図6からわかるように、加温処理
した場合は加温処理しない場合より磁界強度の変化率を
大幅に小さくできる。
【0054】つぎに、図7を参照して、他の実験例につ
いて説明する。ここでは、永久磁石としてNEOMAX
−47を用い、永久磁石を55℃加温処理した場合と、
逆磁界減磁処理した場合と、加温処理および逆磁界減磁
処理のいずれも行わない場合とについて、温度上昇に対
する磁界強度の変化を比較した。
【0055】「55℃加温処理」は、永久磁石を100
%着磁した後55℃で2時間保ち着磁率を99.9%と
した。「逆磁界減磁処理」は、永久磁石を100%着磁
した後、表面磁界強度が55℃加温処理の場合と同等に
なるように逆磁界を上げながら減磁した。
【0056】図7からわかるように、55℃加温処理し
た場合および逆磁界減磁処理した場合は、これらの処理
をしない場合より、温度上昇に対する磁界強度変化率が
大幅に小さくなる。さらに、55℃加温処理した場合は
逆磁界減磁処理した場合より、温度上昇に対する磁界強
度変化率が小さくなる。これは、加温処理は永久磁石全
体に対して均一に作用するが、逆磁界減磁処理は逆磁界
による減磁を永久磁石に対して均一に作用させにくいか
らである。
【0057】図6および図7の結果より、加温処理ある
いは逆磁界減磁処理した永久磁石を主磁石および/また
は漏洩磁束防止用磁石として用いれば、主磁石や漏洩磁
束防止用磁石の経時変化あるいは温度上昇による減磁を
抑制でき、磁界発生装置を組み立てた後の磁界強度の変
化や磁界均一度の低下を抑制できる。
【0058】さらに、図8に磁界発生装置の磁束分布を
示す。図8(a)は、漏洩磁束防止用磁石を有する磁界
発生装置の磁束分布を示し、図8(b)は、漏洩磁束防
止用磁石がない磁界発生装置の磁束分布を示す。なお、
図8(a)の場合の中心磁界強度は0.262T、図8
(b)の場合の中心磁界強度は0.215Tであった。
【0059】図8(a)と(b)とを比較してわかるよ
うに、漏洩磁束防止用磁石を用いた場合には、磁束を磁
極板間に誘導する一方、漏洩磁束防止用磁石の外側の磁
束が疎になる。言い換えれば、漏洩磁束防止用磁石と永
久磁石群とは互いに反発しあって減磁しやすい状態にあ
るといえる。したがって、漏洩磁束防止用磁石を用いた
磁界発生装置では、温度が上昇することによって磁界強
度やその分布がより変化しやすくなる。したがって、漏
洩磁束防止用磁石を用いた磁界発生装置にこの発明を適
用すれば、磁界均一度の劣化を抑制でき効果的である。
【0060】また、永久磁石18や28に用いられるR
−Fe−B系磁石は、フェライト磁石やSm−Co磁石
に比べて比較的低温で熱減磁が発生しやすいが、上述の
実施形態のようにR−Fe−B系磁石の着磁率を予め抑
えておくことによって熱減磁を抑制できる。
【0061】永久磁石18に高い残留磁束密度が要求さ
れる場合には上述のようにCoを実質的に含まない三元
系R−Fe−B系磁石が使用される。この場合には、C
oを含む永久磁石に比べて熱減磁が大きくなるので、上
述の実施形態を採用する効果が大きい。さらにDyを実
質的に含んでいない磁石を用いる場合にも、上述の実施
形態を採用する効果は大きい。
【0062】また、磁界強度の変化や磁界均一度の悪化
を抑制できるので、空隙において、均一磁界空間Fすな
わち磁界強度の誤差が100ppm以内の磁界空間が必
要とされる場合であっても、磁界強度の誤差を上述の範
囲内に抑えやすい。さらに、たとえば空調が十分でない
コンテナによって磁界発生装置が輸送される場合であっ
ても、磁界強度の変化および磁界均一度の悪化を抑制で
きる。また、均一磁界空間Fの磁界強度がたとえば0.
25T以上と大きく変化量が大きくなりやすい場合であ
っても、磁界強度の変化を抑制できる。
【0063】
【発明の効果】この発明によれば、組み立てられた磁界
発生装置の経時的なあるいは温度上昇等の環境要因によ
る減磁を抑制できる。したがって、磁界発生装置の輸送
後における磁界強度の低下および磁界均一度の悪化を抑
制でき、磁界発生装置は設置場所に到着した時点で高い
磁界均一度を保つことができる。
【0064】また、磁界発生装置の組立後に磁界発生装
置全体を加温しておけば、温度上昇等の環境要因の変化
があっても磁界発生装置によって発生する磁界が長時間
にわたって安定し、磁界発生装置の輸送後における磁界
強度の低下および磁界均一度の悪化を抑制できる。磁極
ユニットを組み立てた後に加温する場合も同様に、磁界
発生装置の輸送後における磁界強度の低下および磁界均
一度の悪化を抑制できる。
【0065】さらに、磁石の段階で加温してから着磁す
る場合も同様に、磁界発生装置の輸送後における磁界強
度の低下および磁界均一度の悪化を抑制でき、また、加
温処理には小型の加温装置を用いることができる。ま
た、磁石を着磁してから減磁する場合も同様に、磁界発
生装置の輸送後における磁界強度の低下および磁界均一
度の悪化を抑制でき、さらに、磁石の状態で処理できる
ので作業効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1の実施形態の要部を示す図解図である。
【図3】この発明に用いられる永久磁石群の一例を示す
斜視図である。
【図4】この発明に用いられる着磁装置の一例を示す図
解図である。
【図5】この発明に用いられる加温装置の一例を示す図
解図である。
【図6】永久磁石の磁界強度の経時変化を示すグラフで
ある。
【図7】永久磁石の磁界強度の温度上昇による変化を示
すグラフである。
【図8】(a)は漏洩磁束防止用磁石を有する磁界発生
装置の磁束分布、(b)は漏洩磁束防止用磁石のない磁
界発生装置の磁束分布を示す。
【符号の説明】
10 磁界発生装置 11a,11b 磁極ユニット 12a,12b 板状継鉄 14a,14b 永久磁石群 16a,16b 磁極板 18,28 永久磁石 24 環状突起 40 支持継鉄 50 着磁装置 60 加温装置 F 均一磁界空間

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空隙を形成して対向配置されかつR−F
    e−B系磁石を含む一対の第1磁石、および前記一対の
    第1磁石を支持する継鉄を備え、 前記R−Fe−B系磁石の着磁率が80%以上99.9
    %以下である、磁界発生装置。
  2. 【請求項2】 前記一対の第1磁石の対向面側に設けら
    れる磁極板をさらに備え、 前記磁極板は、環状突起と前記環状突起の外側面に設け
    られた漏洩磁束防止用の第2磁石とを含む、請求項1に
    記載の磁界発生装置。
  3. 【請求項3】 前記R−Fe−B系磁石は、Coおよび
    /またはDyを実質的に含まない、請求項1または2に
    記載の磁界発生装置。
  4. 【請求項4】 必要とされる磁界強度の均一度が100
    ppm以内である、請求項1から3のいずれかに記載の
    磁界発生装置。
  5. 【請求項5】 コンテナで輸送される、請求項1から4
    のいずれかに記載の磁界発生装置。
  6. 【請求項6】 均一磁界空間において0.25T以上の
    磁界強度を有する、請求項1から5のいずれかに記載の
    磁界発生装置。
  7. 【請求項7】 R−Fe−B系磁石を含む磁界発生装置
    を組み立てる第1工程、および組み立てられた前記磁界
    発生装置全体を40℃以上70℃以下で加温する第2工
    程を備える、磁界発生装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 R−Fe−B系磁石を含む磁石を板状継
    鉄に固定し磁極ユニットを組み立てる第1工程、 組み立てられた前記磁極ユニットを40℃以上70℃以
    下で加温する第2工程、および加温された前記磁極ユニ
    ットを支持継鉄に固定する第3工程を備える、磁界発生
    装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 R−Fe−B系磁石を含む磁石を形成す
    る第1工程、 前記磁石を40℃以上70℃以下で加温する第2工程、 加温された前記磁石を着磁する第3工程、および着磁さ
    れた前記磁石を板状継鉄に固定する第4工程を備える、
    磁界発生装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 R−Fe−B系磁石を含む磁石を形成
    する第1工程、 前記磁石を99.9%をこえる着磁率で着磁する第2工
    程、 着磁された前記磁石を80%以上99.9%以下の着磁
    率に減磁させる第3工程、および減磁された前記磁石を
    板状継鉄に固定する第4工程を備える、磁界発生装置の
    製造方法。
JP2003035128A 2002-02-15 2003-02-13 磁界発生装置の製造方法 Expired - Fee Related JP4085833B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003035128A JP4085833B2 (ja) 2002-02-15 2003-02-13 磁界発生装置の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002037746 2002-02-15
JP2002-37746 2002-02-15
JP2003035128A JP4085833B2 (ja) 2002-02-15 2003-02-13 磁界発生装置の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007330824A Division JP4586850B2 (ja) 2002-02-15 2007-12-21 磁界発生装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003305021A true JP2003305021A (ja) 2003-10-28
JP4085833B2 JP4085833B2 (ja) 2008-05-14

Family

ID=29405184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003035128A Expired - Fee Related JP4085833B2 (ja) 2002-02-15 2003-02-13 磁界発生装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4085833B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006003892A1 (ja) * 2004-07-01 2006-01-12 Neomax Co., Ltd. 磁界発生装置
JP2008018246A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 温度操作方法、磁場発生装置およびmri装置
JP2008545492A (ja) * 2005-06-10 2008-12-18 ベイジン タイジエ ヤンユアン メディカル エンジニアリング テクニカル シーオー.,エルティーディー. 永久磁石、mriで使用するための永久磁石を備えた磁気装置およびその製造方法
US7570142B2 (en) 2003-02-27 2009-08-04 Hitachi Metals, Ltd. Permanent magnet for particle beam accelerator and magnetic field generator

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7570142B2 (en) 2003-02-27 2009-08-04 Hitachi Metals, Ltd. Permanent magnet for particle beam accelerator and magnetic field generator
WO2006003892A1 (ja) * 2004-07-01 2006-01-12 Neomax Co., Ltd. 磁界発生装置
CN100418475C (zh) * 2004-07-01 2008-09-17 日立金属株式会社 磁场产生装置
US7733090B2 (en) 2004-07-01 2010-06-08 Hitachi Metals, Ltd. Magnetic field generator
JP2008545492A (ja) * 2005-06-10 2008-12-18 ベイジン タイジエ ヤンユアン メディカル エンジニアリング テクニカル シーオー.,エルティーディー. 永久磁石、mriで使用するための永久磁石を備えた磁気装置およびその製造方法
JP4773515B2 (ja) * 2005-06-10 2011-09-14 ベイジン タイジエ ヤンユアン メディカル エンジニアリング テクニカル シーオー.,エルティーディー. 永久磁石、mriで使用するための永久磁石を備えた磁気装置およびその製造方法
JP2008018246A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 温度操作方法、磁場発生装置およびmri装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4085833B2 (ja) 2008-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8322024B2 (en) Magnetic field generator manufacturing method
Xia et al. Initial irreversible losses and enhanced high‐temperature performance of rare‐earth permanent magnets
EP1835516B1 (en) Magnetizing method for permanent magnet
KR100944745B1 (ko) 자장 중 열처리로
US8817370B2 (en) Magnetic circuit for faraday rotator and method of manufacturing magnetic circuit for faraday rotator
US20040263303A1 (en) Magnetic-field-generating apparatus and magnetic field orientation apparatus using it
Haavisto et al. Magnetic Behavior of Sintered NdFeB Magnets on a Long‐Term Timescale
EP1548765A1 (en) Method for manufacturing bonded magnet and method for manufacturing magnetic device having bonded magnet
JP2003305021A (ja) 磁界発生装置およびその製造方法
JP2021093521A (ja) 着磁装置および被着磁物
JP5370912B2 (ja) 磁界発生装置
JP4586850B2 (ja) 磁界発生装置の製造方法
JP4305810B2 (ja) 磁場中熱処理炉及びそれを用いた熱処理方法
JP4389194B2 (ja) 磁場中熱処理炉
JP4423586B2 (ja) 磁場中熱処理炉
JPH0372606A (ja) 磁石材料の着磁方法
JPS62139304A (ja) 磁界均一性のよい磁気回路
JP2005168854A (ja) 永久磁石対向型磁気回路
JPH09131025A (ja) 永久磁石の着磁方法
JPH06140248A (ja) 永久磁石回転子の着磁方法
JP2000219965A (ja) スパッタ装置用磁気回路
Komura et al. Establishment of multipole magnetizing method and apparatus using a heating system for Nd-Fe-B isotropic bonded magnets
Zhan et al. Strategic grain boundary diffusion process for high-performance Ce-containing sintered Nd-Fe-B magnets
JPH04368101A (ja) 希土類永久磁石
JP2024048522A (ja) 磁気冷凍装置及び冷凍機

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050922

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070606

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080211

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110228

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4085833

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120229

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130228

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140228

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees