JP2003298212A - Printed wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents

Printed wiring board and manufacturing method thereof

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JP2003298212A
JP2003298212A JP2002100974A JP2002100974A JP2003298212A JP 2003298212 A JP2003298212 A JP 2003298212A JP 2002100974 A JP2002100974 A JP 2002100974A JP 2002100974 A JP2002100974 A JP 2002100974A JP 2003298212 A JP2003298212 A JP 2003298212A
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board which is prevented from the increase of contact resistance, in the printed wiring board in which interlayer connections are obtained by embedding wiring patterns in a base and compressing a conductive paste, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: Since wiring patterns 6, 9 formed on support boards 2, 7 and metal layers formed thereon, for example, electrolytic nickel plating layers 5, 8 are embedded in a base, a conduction paste 14 filled in through-holes 13 arranged in prescribed positions of the porous base is fully compressed, and the densification of the conductive material in the conduction paste 14 is enhanced. Hence the printed circuit board having low connection resistance and reliable interlayer connections can be provided. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面実装部品、特
にベアチップ等の電子部品を実装するプリント配線板と
その製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board for mounting surface mounted components, particularly electronic components such as bare chips, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の情報、通信端末を中心とした電子
機器の高機能化と小型、軽量化の要求により、半導体の
高集積及び高速化技術が急速に進展している。
2. Description of the Related Art Due to recent demands for higher functionality, smaller size, and lighter weight of electronic devices centering on information and communication terminals, high integration and speed-up technologies for semiconductors are rapidly advancing.

【0003】そのため、これら小型化、軽量化を達成す
るためのベアチップ等の電子部品を実装するプリント配
線板に対しても高密度配線および高密度実装を可能と
し、なおかつ安価なものが求められている。
Therefore, high density wiring and high density mounting are possible even on a printed wiring board for mounting electronic components such as bare chips in order to achieve these miniaturization and weight reduction, and at the same time, inexpensive ones are required. There is.

【0004】このような市場の要求に応えるために、従
来の銅めっきによるスルーホール接続を基本構成とする
プリント配線板に代わって、インタースティシャルバイ
アホール(以下、IVHという)に導電性ペーストを充
填して導通接続を図るとともに、部品ランド直下や任意
の層間にIVHを形成し、安価に製造できる全層IVH
構造の多層プリント配線板(特開平6−268345号
公報)が開発され、市場に供給されている。
In order to meet the demands of the market as described above, a conductive paste is applied to the interstitial via holes (hereinafter referred to as IVH) instead of the conventional printed wiring board which basically has through-hole connection by copper plating. Full-layer IVH that can be manufactured at low cost by filling and conducting connection and forming IVH directly under the component land and between any layers
A multilayer printed wiring board having a structure (Japanese Patent Laid-Open No. 6-268345) has been developed and supplied to the market.

【0005】この全層IVH構造の多層プリント配線板
は基材に貫通孔を開けて、その貫通孔に導電性ペースト
を充填した後、金属はくを張り合せて加熱・加圧するこ
とにより、層間接続をとるものである。
This multi-layered printed wiring board having an IVH structure is formed by forming a through hole in a substrate, filling the through hole with a conductive paste, and then laminating a metal foil and applying heat and pressure to form an interlayer. It is a connection.

【0006】以下従来のプリント配線板の製造方法につ
いて説明する。
A conventional method for manufacturing a printed wiring board will be described below.

【0007】図5は従来のプリント配線基板の製造方法
を示す工程断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of steps showing a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【0008】まず、両面にポリエステルなどの離型性フ
ィルム21を備えた基材22を準備する。この基材とし
ては、例えば樹脂繊維やガラス繊維の不織布に熱硬化性
エポキシ樹脂を含浸させた基材が用いられる(図5
(A))。
First, a substrate 22 having release films 21 made of polyester or the like on both sides is prepared. As this base material, for example, a base material obtained by impregnating a non-woven fabric of resin fiber or glass fiber with a thermosetting epoxy resin is used (FIG. 5).
(A)).

【0009】次に基材22の所定の箇所に貫通孔23を
形成し(図5(B))、導電性ペースト24を充填す
る。充填方法としては、導電性ペースト24を直接、離
型性フィルム21の上から印刷する(図5(C))。
Next, a through hole 23 is formed in a predetermined portion of the base material 22 (FIG. 5B), and a conductive paste 24 is filled therein. As a filling method, the conductive paste 24 is directly printed on the release film 21 (FIG. 5C).

【0010】次に基材22の両面から離型性フィルム2
1を剥離後、両面に銅はく25などの金属はくを張り付
け(図5(D))、真空熱プレス機で加熱・加圧するこ
とにより、基材22が圧縮されるとともに銅はく25と
接着される(図5(E))。
Next, the release film 2 is formed on both sides of the substrate 22.
After peeling off 1, the metal foil such as copper foil 25 is attached to both surfaces (FIG. 5 (D)), and the base material 22 is compressed and the copper foil 25 is heated and pressed by a vacuum heat press machine. And are bonded (FIG. 5 (E)).

【0011】この工程において、導電性ペーストも圧縮
されるが、そのときに導電物質間からバインダ成分が押
し出され、導電物質同士および導電物質と銅はく間の結
合が強固になり、導電性ペースト中の導電物質が緻密化
されるとともに、基材も圧縮され、基材22の構成部分
であるエポキシ樹脂および導電性ペースト24が硬化す
るというもので、これにより、接続抵抗値が低く、信頼
性の高い層間接続が得られる。
In this step, the conductive paste is also compressed, but at that time, the binder component is extruded from between the conductive materials, and the conductive materials and the bond between the conductive material and the copper foil are strengthened, so that the conductive paste is formed. The conductive material therein is densified, the base material is also compressed, and the epoxy resin and the conductive paste 24, which are the constituent parts of the base material 22, are hardened. As a result, the connection resistance value is low and the reliability is high. High interlayer connection can be obtained.

【0012】その後フォトプロセスにより銅はく25を
選択的にエッチングして所定の配線パターン26を形成
する(図5(F))。
Thereafter, the copper foil 25 is selectively etched by a photo process to form a predetermined wiring pattern 26 (FIG. 5 (F)).

【0013】現在ではさらに基板の高密度配線化が進ん
でランドの小径化がより一層求められることとなり、そ
れに伴いバイアホールとなる貫通孔も径を小さくする必
要が生じてきた。
Nowadays, as the wiring density of the substrate is further increased and the diameter of the land is required to be further reduced, it is necessary to reduce the diameter of the through hole which becomes the via hole.

【0014】ところが、上記のような構成および製造方
法において、貫通孔の小径化を図ると、初期接続抵抗値
が高くなり、そのばらつきも大きくなる。
However, in the above-described structure and manufacturing method, when the diameter of the through hole is reduced, the initial connection resistance value increases and the variation thereof increases.

【0015】また温度サイクル試験やプレッシャークッ
カー試験(高温、高圧下での破壊試験)などの信頼性試
験では接続抵抗値が変動するという課題があった。これ
は貫通孔の径が小さくなると、導電性ペーストの充填性
が悪くなり、電気的接続を安定化させるために必要な圧
縮率を確保できなくなるためである。
Further, reliability tests such as a temperature cycle test and a pressure cooker test (destruction test under high temperature and high pressure) have a problem that the connection resistance value varies. This is because if the diameter of the through hole becomes small, the filling property of the conductive paste becomes poor, and it becomes impossible to secure the compression ratio necessary for stabilizing the electrical connection.

【0016】また、離型性フィルムを剥離する工程にお
いても、貫通孔径が小さくなると、離型性フィルムを剥
離する際に導電性ペーストが離型性フィルム側に付着し
て取られ易くなり、貫通孔内への導電性ペーストの充填
量が減少する。その結果、電気的接続を安定化させるた
めに必要な導電性ペーストの圧縮を確保できないという
ことが生じる。
Also, in the step of peeling the release film, when the through-hole diameter is small, the conductive paste is easily adhered to the release film side when the release film is peeled off and is easily removed. The filling amount of the conductive paste in the holes is reduced. As a result, it may not be possible to secure the compression of the conductive paste necessary for stabilizing the electrical connection.

【0017】そこで、この圧縮の低下を補う工法として
転写法によるプリント配線板とその製造方法が考案され
ている。
Therefore, as a construction method for compensating for this reduction in compression, a printed wiring board by a transfer method and its manufacturing method have been devised.

【0018】図6、図7は、従来の転写法によるプリン
ト配線板の製造方法を示す工程断面図である。
6 and 7 are process sectional views showing a method for manufacturing a printed wiring board by a conventional transfer method.

【0019】まず、金属はくとしての銅はく32と支持
基板31からなる転写板30を準備する(図6
(A))。
First, a transfer plate 30 comprising a copper foil 32 as a metal foil and a supporting substrate 31 is prepared (FIG. 6).
(A)).

【0020】次に、この銅はくを形成した支持基板にフ
ォトプロセスを用いて転写するための配線パターンを形
成する。
Next, a wiring pattern for transfer is formed on the supporting substrate having the copper foil formed thereon by a photo process.

【0021】支持基板31に形成された銅はく32の表
面にフォトプロセスによりエッチングレジスト33を形
成した後(図6(B))、塩化第二銅などのエッチング
液により不要な銅はくを除去して所定の配線パターン3
4を形成したうえで(図6(C))、エッチングレジス
ト33を剥離してパターン形成が完了することにより、
第1の転写板30の作製が完了する(図6(D))。
After forming an etching resist 33 on the surface of the copper foil 32 formed on the support substrate 31 by a photo process (FIG. 6 (B)), unnecessary copper foil is removed by an etching solution such as cupric chloride. Predetermined wiring pattern 3
4 is formed (FIG. 6C), the etching resist 33 is peeled off to complete the pattern formation,
The production of the first transfer plate 30 is completed (FIG. 6D).

【0022】次に上記と同様の転写板の作製方法によ
り、異なる配線パターン36が支持基板35に形成され
た第2の転写板41を作製する(図6(E))。
Next, a second transfer plate 41 having different wiring patterns 36 formed on the support substrate 35 is manufactured by the same transfer plate manufacturing method as described above (FIG. 6 (E)).

【0023】次に、両面にポリエステルなどの離型性フ
ィルム37を備えた基材38を準備する(図7
(F))。
Next, a substrate 38 having release films 37 made of polyester or the like on both sides is prepared (FIG. 7).
(F)).

【0024】次に基材38の所定の箇所に貫通孔39を
形成し(図7(G))、導電性ペースト40を充填す
る。充填方法としては、導電性ペースト40を直接、離
型性フィルム37の上から印刷する。
Next, a through hole 39 is formed in a predetermined portion of the base material 38 (FIG. 7G), and a conductive paste 40 is filled therein. As a filling method, the conductive paste 40 is directly printed on the release film 37.

【0025】次に基材38の両面から離型性フィルム3
7を剥離後(図7(H))、先に作製した第1の転写板
30と第2の転写板41とを対向させ、その間に導電性
ペースト40が充填された基材38を重ね合わせ(図7
(I))、真空熱プレス機で第1および第2の転写板の
両側から加熱・加圧することにより、基材38が圧縮さ
れるとともに基材38の内部に配線パターン34,36
が埋設され、貫通孔39内の導電性ペースト40と接着
される(図7(J))。
Next, the release film 3 is formed on both sides of the base material 38.
7 is peeled off (FIG. 7 (H)), the first transfer plate 30 and the second transfer plate 41 produced previously are opposed to each other, and the base material 38 filled with the conductive paste 40 is overlapped therebetween. (Fig. 7
(I)) By heating and pressurizing both sides of the first and second transfer plates with a vacuum heat press machine, the base material 38 is compressed and the wiring patterns 34, 36 are provided inside the base material 38.
Are embedded and adhered to the conductive paste 40 in the through holes 39 (FIG. 7 (J)).

【0026】次に支持基板31,35を化学的または機
械的に除去することにより、配線パターン34,36が
基材38に埋設された形態の配線基板が得られる(図7
(K))。
Next, the supporting substrates 31, 35 are chemically or mechanically removed to obtain a wiring substrate in which the wiring patterns 34, 36 are embedded in the base material 38 (FIG. 7).
(K)).

【0027】このように、基材とともに導電性ペースト
が圧縮されることに加えて、配線パターンの埋設によ
り、さらに導電性ペーストが圧縮され、導電性ペースト
中の導電物質が緻密化されるため接続抵抗値が低く、信
頼性の高い層間接続が得られる。
As described above, in addition to compressing the conductive paste together with the base material, the conductive paste is further compressed by burying the wiring pattern, and the conductive substance in the conductive paste is densified, so that the connection is made. A low resistance value and highly reliable interlayer connection can be obtained.

【0028】[0028]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のプリント配
線板では、以下の課題がある。細線化が進み、かつ配線
パターン形成の高精度化が求められる背景において、そ
れを実現するために銅はく25の厚みを薄くする必要が
生じてきたが、銅はく25の厚みを薄くすると、細線化
には対応し易いものの、配線パターン26の厚みが薄い
ため、基材に埋設される配線パターン26の深さ(厚
さ)が小さくなる。そのため導電性ペースト24の圧縮
率が低下するため、初期接続抵抗値が高くなり、その結
果、初期接続抵抗値のばらつきも大きくなるという課題
があった。
The above-mentioned conventional printed wiring board has the following problems. In the background of the progress of finer wiring and the demand for higher precision of wiring pattern formation, it has become necessary to reduce the thickness of the copper foil 25 in order to realize it. However, if the thickness of the copper foil 25 is reduced, Although it is easy to cope with thinning, since the wiring pattern 26 is thin, the depth (thickness) of the wiring pattern 26 embedded in the base material is small. Therefore, since the compressibility of the conductive paste 24 is reduced, the initial connection resistance value is increased, resulting in a large variation in the initial connection resistance value.

【0029】そこで本発明は上記従来の課題を解決する
ものであり、バイアホール径の小径化と配線パターンの
ファイン化においても、導電性ペーストが充分圧縮でき
ることにより、接続抵抗値が低く、信頼性の高いプリン
ト配線板とその製造方法を提供することを目的とするも
のである。
Therefore, the present invention is intended to solve the above-mentioned conventional problems. Even when the via hole diameter is made small and the wiring pattern is made fine, the conductive paste can be sufficiently compressed so that the connection resistance value is low and the reliability is high. It is an object of the present invention to provide a high-quality printed wiring board and a manufacturing method thereof.

【0030】[0030]

【課題を解決するための手段】そして上記目的を達成す
るために、本発明の請求項1に記載の発明は、特に、支
持基板上に形成された回路と、前記回路上に一定厚み、
一定寸法を有する金属層が形成された第1及び第2の転
写板が、層間接着用シートを介して対向して配置・積層
され、前記回路及び前記金属層のみが層間接着用シート
に埋設されて、かつ前記支持基板が取り除かれた構成を
有するプリント配線板であり、これにより基材の所定位
置に設けられた貫通孔に充填した導電性ペーストに充分
な圧縮がかかることになり、導電性ペースト中の導電物
質が緻密化されるため、接続抵抗値が低く、信頼性の高
い層間接続を有したプリント配線板を実現することがで
きる。
In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 1 of the present invention is, in particular, a circuit formed on a supporting substrate and a constant thickness on the circuit,
First and second transfer plates on which a metal layer having a certain size is formed are arranged and laminated so as to face each other with an interlayer adhesive sheet interposed therebetween, and only the circuit and the metal layer are embedded in the interlayer adhesive sheet. And a printed wiring board having a configuration in which the supporting substrate is removed, whereby the conductive paste filled in the through holes provided at predetermined positions of the base material is sufficiently compressed, and Since the conductive material in the paste is densified, it is possible to realize a printed wiring board having a low connection resistance value and highly reliable interlayer connection.

【0031】本発明の請求項2に記載の発明は、特に、
金属層は電解めっきにて形成されていることを特徴とす
る請求項1に記載のプリント配線板であり、これにより
導電性ペーストの圧縮率を制御するための金属層の厚み
が容易に設定できるという効果が得られる。
The invention according to claim 2 of the present invention is
The printed wiring board according to claim 1, wherein the metal layer is formed by electrolytic plating, whereby the thickness of the metal layer for controlling the compressibility of the conductive paste can be easily set. The effect is obtained.

【0032】本発明の請求項3に記載の発明は、特に、
金属層の一定厚みは、層間接着用シートの厚みの5〜1
0%であることを特徴とする請求項1に記載のプリント
配線板であり、これにより細線化のため配線パターンの
厚みが薄くなっても一定の厚さの金属層が基材内部に埋
設されるため、導電性ペーストに充分な圧縮がかかるこ
とになり、接続抵抗値が低く、信頼性の高い層間接続を
有したプリント配線板を得ることができる。
The invention according to claim 3 of the present invention is
The fixed thickness of the metal layer is 5 to 1 of the thickness of the interlayer adhesive sheet.
It is 0%, The printed wiring board according to claim 1, wherein a metal layer having a constant thickness is embedded inside the base material even if the thickness of the wiring pattern becomes thin due to thinning. Therefore, the conductive paste is sufficiently compressed, and a printed wiring board having a low connection resistance value and highly reliable interlayer connection can be obtained.

【0033】本発明の請求項4に記載の発明は、特に、
層間接着用シートは、導通孔を備えていることを特徴と
する請求項1に記載のプリント配線板であり、これによ
り多層化した際、任意の層間で必要な層間のみ導通がと
れることから、不要な層間の導通のために生じるデッド
スペース(不要なスペース)が発生しなくなるため高密
度化が実現できるものである。
The invention according to claim 4 of the present invention is
The sheet for interlayer adhesion is the printed wiring board according to claim 1, characterized in that it has a conductive hole, and when multilayered by this, conduction can be taken only between required layers between arbitrary layers, Since a dead space (unnecessary space) caused by unnecessary conduction between layers is not generated, high density can be realized.

【0034】本発明の請求項5に記載の発明は、特に、
導通孔は、導電性ペーストを充填して形成されたもので
あることを特徴とする請求項4に記載のプリント配線板
であり、従来のめっき導通孔に比べて、スローイングパ
ワー(めっき付きまわり性)を考慮する必要がないため
大幅な小径化が可能となるという効果が得られる。
The invention according to claim 5 of the present invention is
The printed wiring board according to claim 4, wherein the conductive hole is formed by filling a conductive paste. Since there is no need to consider), the effect that the diameter can be significantly reduced can be obtained.

【0035】本発明の請求項6に記載の発明は、特に、
第1の転写板に形成された金属層と、第2の転写板に形
成された金属層は、導通孔を介して電気的に接続されて
いることを特徴とする請求項4に記載のプリント配線板
であり、これにより任意の層間で、必要な層間のみ導通
がとれるため、デッドスペースが発生せず高密度化が実
現でき、小径化に伴い導電性ペーストの充填量が減少し
ても、支持基板上に形成された回路と回路上に形成され
た金属層が、層間接着シートに埋設されながら導電性ペ
ーストを充分圧縮するため、接続抵抗値の低いプリント
配線板を実現できるものである。
The invention according to claim 6 of the present invention is
The print according to claim 4, wherein the metal layer formed on the first transfer plate and the metal layer formed on the second transfer plate are electrically connected through a conduction hole. It is a wiring board, so that between any layers, conduction can be taken only between the required layers, so that it is possible to realize high density without generating dead space, and even if the filling amount of the conductive paste decreases as the diameter decreases, The circuit formed on the support substrate and the metal layer formed on the circuit sufficiently compress the conductive paste while being embedded in the interlayer adhesive sheet, so that a printed wiring board having a low connection resistance value can be realized.

【0036】本発明の請求項7に記載の発明は、特に、
層間接着用シートは、アラミド不織布エポキシ樹脂含浸
シートであることを特徴とする請求項1に記載のプリン
ト配線板であり、アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シー
トは従来のガラス不織布エポキシ樹脂含浸シートに比べ
て比重が小さいため、基板が軽くなり製品の軽量化に有
効である。
The invention according to claim 7 of the present invention is
The interlaminar adhesive sheet is a printed wiring board according to claim 1, wherein the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet has a specific gravity higher than that of the conventional glass nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet. The small size makes the substrate lighter, which is effective in reducing the weight of the product.

【0037】本発明の請求項8に記載の発明は、特に、
金属層の寸法は導通孔より40〜150μmだけ大であ
ることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板で
あり、位置ずれの許容差を一定範囲にすることにより、
従来の転写板と導電性ペーストの充填された導通孔を有
する層間接着シートとを重ねる際、位置ずれが生じる
と、ランドから導電性ペーストが層間接着シートの表面
に露出、流出し、短絡の原因となっていた問題を解消す
るという効果が得られる。
The invention according to claim 8 of the present invention is
The printed wiring board according to claim 1, wherein the size of the metal layer is larger than that of the conductive hole by 40 to 150 μm, and the positional deviation tolerance is set within a certain range.
When a conventional transfer plate and an interlayer adhesive sheet having a conductive hole filled with a conductive paste are overlapped with each other, if the position shifts, the conductive paste is exposed and flows from the land to the surface of the interlayer adhesive sheet, causing a short circuit. The effect of solving the problem that has become is obtained.

【0038】本発明の請求項9に記載の発明は、特に、
層間接着用シートは、被圧縮性を有する多孔質材である
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板であ
り、これにより層間接着用シートが圧縮されると同時に
導電性ペーストも圧縮されるため、導電性ペースト中の
バインダ成分が多孔質材である層間接着用シートの方に
押し出され、導電物質同士および導電物質と銅はく間の
結合が強固になり、導電性ペースト中の導電物質が緻密
化されるため、接続抵抗値が低く、信頼性の高い層間接
続を得ることができる。
The invention according to claim 9 of the present invention is
The printed wiring board according to claim 1, wherein the interlayer adhesive sheet is a porous material having compressibility, whereby the interlayer adhesive sheet is compressed, and at the same time, the conductive paste is compressed. Therefore, the binder component in the conductive paste is extruded toward the sheet for interlayer adhesion which is a porous material, the bond between the conductive substances and between the conductive substance and the copper foil becomes strong, and Since the conductive material is densified, the connection resistance value is low and a highly reliable interlayer connection can be obtained.

【0039】本発明の請求項10に記載の発明は、特
に、被圧縮性を有する多孔質材の被圧縮率は、10〜5
0%であることを特徴とする請求項9に記載のプリント
配線板であり、これにより多孔質材が圧縮される際に回
路と金属層が多孔質材中へ埋設されるのが容易となる。
そしてこの埋設された回路の厚みと金属層の厚みとの相
互作用により、導電性ペースト中の導電物質が更に緻密
化されるため、接続抵抗値が低く、信頼性の高い層間接
続を得ることができる。
According to the tenth aspect of the present invention, in particular, the compressibility of the porous material having compressibility is 10 to 5
It is 0%, It is a printed wiring board of Claim 9, Comprising: When a porous material is compressed, it becomes easy to embed a circuit and a metal layer in a porous material. .
The interaction between the thickness of the embedded circuit and the thickness of the metal layer further densifies the conductive material in the conductive paste, so that a highly reliable interlayer connection having a low connection resistance value can be obtained. it can.

【0040】本発明の請求項11に記載の発明は、特
に、層間接着用シートの、樹脂含有率は、40〜65%
であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線
板であり、これにより多孔質材が圧縮される際、回路、
金属層の周囲に樹脂が回り込みながら埋まっていくた
め、ボイドのない平坦性の優れたプリント配線板を得る
ことができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, in particular, the resin content of the interlayer adhesive sheet is 40 to 65%.
The printed wiring board according to claim 1, wherein when the porous material is compressed, a circuit,
Since the resin wraps around the metal layer while being embedded, a printed wiring board having excellent flatness without voids can be obtained.

【0041】本発明の請求項12に記載の発明は、特
に、支持基板上に金属はくが形成された第1及び第2の
転写板を準備する工程と、第1及び第2の転写板の金属
はく上に一定厚みと一定寸法を有する金属層を選択的に
形成する工程と、前記金属層をエッチングレジストとし
て金属はくを回路形成する工程と、層間接着用シートを
準備する工程と、第1及び第2の転写板の回路形成面を
層間接着用シートを介して対向させ積層する工程と、こ
れを加熱・加圧する工程とを有することを特徴とするプ
リント配線板の製造方法であり、これにより基材の所定
位置に設けられた貫通孔に充填した導電性ペーストに充
分な圧縮がかかることになり、導電性ペースト中の導電
物質が緻密化されるため、接続抵抗値が低く、信頼性の
高い層間接続を有したプリント配線板を実現することが
できる。
According to a twelfth aspect of the present invention, in particular, the steps of preparing the first and second transfer plates having the metal foil formed on the supporting substrate, and the first and second transfer plates. Selectively forming a metal layer having a constant thickness and a constant size on the metal foil, the step of forming a circuit of the metal foil using the metal layer as an etching resist, and the step of preparing an interlayer adhesive sheet; A method for manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of laminating the circuit forming surfaces of the first and second transfer boards so as to face each other with an interlayer adhesive sheet interposed therebetween; and a step of heating and pressing the layers. As a result, the conductive paste filled in the through holes provided at the predetermined positions of the base material is sufficiently compressed, and the conductive substance in the conductive paste is densified, resulting in a low connection resistance value. Have reliable interlayer connection It is possible to realize a printed circuit board.

【0042】本発明の請求項13に記載の発明は、特
に、金属層を選択的に形成する工程は、フォトプロセス
によりめっきレジストを形成し、めっきレジストの非形
成部に電解ニッケルめっき層を形成することを特徴とす
る請求項12に記載のプリント配線板の製造方法であ
り、これにより導電性ペーストの圧縮率を制御するため
の金属層の厚みが容易に設定できる。また電解ニッケル
めっき層は硬度が高いため、加熱・加圧により層間接着
シートに容易に埋め込まれるという効果が得られる。
In the thirteenth aspect of the present invention, particularly, in the step of selectively forming the metal layer, a plating resist is formed by a photo process, and an electrolytic nickel plating layer is formed in a portion where the plating resist is not formed. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the thickness of the metal layer for controlling the compressibility of the conductive paste can be easily set. Further, since the electrolytic nickel plating layer has a high hardness, it is possible to obtain the effect of being easily embedded in the interlayer adhesive sheet by heating and pressurizing.

【0043】本発明の請求項14に記載の発明は、特
に、金属層の厚みは、電解めっきプロセスを用いて層間
接着シートの厚みの5〜10%に設定することを特徴と
する請求項12に記載のプリント配線板の製造方法であ
り、電解めっきプロセスを用いるため金属層の厚みが容
易に設定でき、また細線化のため配線パターンの厚みが
薄くなっても一定の厚さの金属層が基材内部に埋設され
るため、導電性ペーストに充分な圧縮がかかることにな
り、接続抵抗値が低く、信頼性の高い層間接続を有した
プリント配線板を得ることができる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in particular, the thickness of the metal layer is set to 5 to 10% of the thickness of the interlayer adhesive sheet by using an electrolytic plating process. In the method for manufacturing a printed wiring board described in 1, the thickness of the metal layer can be easily set by using the electrolytic plating process, and even if the thickness of the wiring pattern becomes thin due to thinning, a metal layer having a constant thickness can be formed. Since it is embedded inside the base material, the conductive paste is sufficiently compressed, so that it is possible to obtain a printed wiring board having low connection resistance and highly reliable interlayer connection.

【0044】本発明の請求項15に記載の発明は、特
に、金属はくを回路形成する工程は、銅アンモニウム錯
イオンを主成分とするアルカリエッチング液を用いて金
属はくを溶解除去することを特徴とする請求項12に記
載のプリント配線板の製造方法であり、これによりエッ
チングレジストとなる金属層を電解ニッケルめっきによ
って形成した場合、アルカリエッチング液でエッチング
する際、電解ニッケルめっき層を保護しつつ金属はくを
溶解除去して回路を形成することができるという効果が
得られる。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in particular, in the step of forming the circuit of the metal foil, the metal foil is dissolved and removed using an alkaline etching solution containing copper ammonium complex ions as a main component. 13. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein, when the metal layer serving as an etching resist is formed by electrolytic nickel plating, the electrolytic nickel plating layer is protected when etching with an alkaline etching solution. At the same time, it is possible to obtain an effect that the circuit can be formed by melting and removing the metal foil.

【0045】本発明の請求項16に記載の発明は、特
に、金属層は、矩形状断面に形成することを特徴とする
請求項12に記載のプリント配線板の製造方法であり、
これにより層間接着用シートが圧縮され回路と金属層が
層間接着シート中へ埋設される際、層間接着シートの樹
脂が、回路と金属層の周囲に回り込んで埋め込まれ、埋
め込まれた金属層の幅は回路の上幅よりも広いため、ア
ンカー効果により、ピール強度やプル強度が大幅に向上
することができるという効果が得られる。
The invention according to claim 16 of the present invention is the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, characterized in that the metal layer is formed in a rectangular cross section.
As a result, when the interlayer adhesive sheet is compressed and the circuit and the metal layer are embedded in the interlayer adhesive sheet, the resin of the interlayer adhesive sheet wraps around the circuit and the metal layer to be embedded, and the embedded metal layer Since the width is wider than the upper width of the circuit, the peeling strength and the pulling strength can be significantly improved by the anchor effect.

【0046】本発明の請求項17に記載の発明は、特
に、加熱・加圧する工程の後、第1及び第2の転写板の
支持基板を除去する工程を備えたことを特徴とする請求
項12に記載のプリント配線板の製造方法であり、これ
により真空熱プレス機などで加熱・加圧する工程で基板
に異物が付着しても、配線パターンとなる金属はくは支
持基板によって保護されているため配線パターンの断線
につながるような金属はくへのキズが防止できるという
効果が得られる。
According to a seventeenth aspect of the present invention, in particular, after the step of heating and pressurizing, the step of removing the supporting substrates of the first and second transfer plates is provided. 12. The method for manufacturing a printed wiring board according to 12, wherein even if foreign matter adheres to the substrate in the process of heating / pressurizing with a vacuum heat press or the like, the metal foil to be the wiring pattern is protected by the supporting substrate. As a result, it is possible to obtain an effect that it is possible to prevent scratches on the metal foil that lead to disconnection of the wiring pattern.

【0047】本発明の請求項18に記載の発明は、特
に、支持基板を除去する工程は、化学的溶解除去または
機械的研磨除去であることを特徴とする請求項17に記
載のプリント配線板の製造方法であり、これにより支持
基板を硫酸、塩酸などで化学的に溶解するかまたはベル
トサンダーなどにより機械的研磨を用いて比較的に低コ
ストで容易に除去することができるという効果が得られ
る。
The invention according to claim 18 of the present invention is characterized in that, in particular, the step of removing the supporting substrate is chemical dissolution removal or mechanical polishing removal. This method has the effect that it can be easily removed at a relatively low cost by chemically dissolving the supporting substrate with sulfuric acid, hydrochloric acid or the like or by using mechanical polishing with a belt sander or the like. To be

【0048】本発明の請求項19に記載の発明は、特
に、支持基板は、導電体であることを特徴とする請求項
12に記載のプリント配線板の製造方法であり、これに
より支持基板は導電体であるため、支持基板上に電解め
っきにより容易に銅はくなどの金属はくを形成すること
ができるという効果が得られる。
The invention according to claim 19 of the present invention is, in particular, the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, characterized in that the supporting substrate is a conductor. Since it is a conductor, it has an effect that a metal foil such as a copper foil can be easily formed on the supporting substrate by electrolytic plating.

【0049】本発明の請求項20に記載の発明は、特
に、支持基板は、樹脂フィルムであることを特徴とする
請求項12に記載のプリント配線板の製造方法であり、
これにより支持基板をキャリアとすることにより、極薄
銅はくも製造設備や搬送において取り扱いが容易になる
とともに剥離機で容易に剥離することができるという効
果が得られる。
The invention according to claim 20 of the present invention is, in particular, the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, characterized in that the support substrate is a resin film.
As a result, by using the supporting substrate as a carrier, it is possible to obtain an effect that it is easy to handle in ultra-thin copper foil manufacturing equipment and transportation and can be easily peeled by a peeling machine.

【0050】本発明の請求項21に記載の発明は、特
に、樹脂フィルムは、耐熱性と離型性を有するものであ
ることを特徴とする請求項20に記載のプリント配線板
の製造方法であり、これにより真空熱プレスで加熱・加
圧しても支持基板である樹脂フィルムは耐熱性を有する
ため、溶着を防止することができる。また支持基板を除
去する際は離型性を有することで引き剥がし剥離が容易
となるという効果が得られる。
The invention according to claim 21 of the present invention is the method for producing a printed wiring board according to claim 20, characterized in that the resin film has heat resistance and releasability. Therefore, even if the resin film as the supporting substrate has heat resistance even if it is heated and pressed by a vacuum hot press, it is possible to prevent welding. Further, when the supporting substrate is removed, since it has releasability, the effect of facilitating peeling and peeling can be obtained.

【0051】本発明の請求項22に記載の発明は、特
に、層間接着用シートを準備する工程は、層間接着用シ
ートに貫通孔を形成し導電性ペーストを充填する工程を
含むことを特徴とする請求項12に記載のプリント配線
板の製造方法であり、これにより、多層化した際、任意
の層間で、必要な層間のみ導通がとれることから、従来
のように不要な層間が導通化されるために生じるデッド
スペースが発生しなくなるため、高密度化が実現できる
という効果が得られる。
According to a twenty-second aspect of the present invention, in particular, the step of preparing the interlayer adhesive sheet includes a step of forming a through hole in the interlayer adhesive sheet and filling it with a conductive paste. 13. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein when a multilayer is formed, only required layers can be electrically connected to each other between arbitrary layers, so that unnecessary layers are electrically connected as in the conventional case. Since a dead space that occurs due to this does not occur, there is an effect that high density can be realized.

【0052】本発明の請求項23に記載の発明は、特
に、層間接着用シートは、被圧縮性の多孔性を有するア
ラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートであり、かつ含浸
樹脂は半硬化状態であることを特徴とする請求項12に
記載のプリント配線板の製造方法であり、これによりア
ラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートは従来のガラスク
ロスエポキシ樹脂含浸シートに比べて比重が小さいた
め、基板が軽くなり製品の軽量化に有効である。
According to a twenty-third aspect of the present invention, in particular, the interlayer adhesive sheet is an aramid nonwoven fabric epoxy resin impregnated sheet having compressibility and porosity, and the impregnated resin is in a semi-cured state. 13. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet has a smaller specific gravity than a conventional glass cloth epoxy resin-impregnated sheet, resulting in a lighter substrate. It is effective for weight reduction.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】(実施の形態)以下本発明の実施
の形態について図面を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0054】図1、図2は本発明の実施の形態における
プリント配線板の製造工程図である。
1 and 2 are manufacturing process diagrams of a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【0055】まず、金属はくとしての銅はく3と支持基
板2からなる転写板1を準備する。この支持基板2とし
てはステンレス板やアルミニウムはくなどの導電体を使
用し、支持基板2に銅はく3を電解めっきにより形成し
たものを使う場合と、支持基板2として樹脂フィルムを
使用し、この樹脂フィルムに銅はくを張り合せたものを
使う場合がある(図1(A))。
First, a transfer plate 1 including a copper foil 3 as a metal foil and a supporting substrate 2 is prepared. A conductor such as a stainless steel plate or an aluminum foil is used as the support substrate 2, a support substrate 2 having a copper foil 3 formed by electrolytic plating is used, and a resin film is used as the support substrate 2. In some cases, a resin film laminated with copper foil is used (FIG. 1 (A)).

【0056】銅はく3は、エッチングにより微細な配線
パターン6(約30〜50μm)を形成するために、厚
みが10μm以下の極薄の銅はく3を使用することが望
ましい。
As for the copper foil 3, it is desirable to use an extremely thin copper foil 3 having a thickness of 10 μm or less in order to form a fine wiring pattern 6 (about 30 to 50 μm) by etching.

【0057】次に、この支持基板2に形成された銅はく
3の表面にフォトプロセスによりめっきレジスト4を形
成する(図1(B))。
Next, a plating resist 4 is formed on the surface of the copper foil 3 formed on the supporting substrate 2 by a photo process (FIG. 1 (B)).

【0058】次に、めっきレジスト4の非形成部に金属
層としての矩形状断面を有する電解ニッケルめっき層5
を形成する(図1(C))。この電解ニッケルめっき層
5は比較的硬度が高いため、後の工程における加熱・加
圧により層間接着シートに容易に埋め込まれる。
Next, an electrolytic nickel plating layer 5 having a rectangular cross section as a metal layer is formed on a portion where the plating resist 4 is not formed.
Are formed (FIG. 1C). Since this electrolytic nickel plating layer 5 has a relatively high hardness, it can be easily embedded in the interlayer adhesive sheet by heating and pressurizing in a later step.

【0059】次に、めっきレジスト4を水酸化ナトリウ
ム等の溶液で剥離する(図1(D))。そして前記電解
ニッケルめっき層5をエッチングレジストとして、銅ア
ンモニウム錯イオンを主成分とするアルカリエッチング
液により不要な銅はくを除去して所定の配線パターン6
を形成することにより、第1の転写板1の作製が完了す
る(図1(E))。
Next, the plating resist 4 is stripped with a solution of sodium hydroxide or the like (FIG. 1 (D)). Then, using the electrolytic nickel plating layer 5 as an etching resist, unnecessary copper foil is removed by an alkaline etching solution containing copper ammonium complex ions as a main component, and a predetermined wiring pattern 6 is formed.
The formation of the first transfer plate 1 is completed by forming (FIG. 1 (E)).

【0060】銅アンモニウム錯イオンを主成分とするア
ルカリエッチング液を用いて銅はくを溶解除去する理由
は、これにより、エッチングレジストとしての電解ニッ
ケルめっき層5を保護しつつ銅はくを溶解除去して回路
を形成することができるからである。
The reason why the copper foil is dissolved and removed by using the alkaline etching solution containing copper ammonium complex ion as a main component is that the copper foil is dissolved and removed while protecting the electrolytic nickel plating layer 5 as the etching resist. This is because a circuit can be formed.

【0061】次に上記と同様の転写板の作製方法によ
り、異なる配線パターン9が支持基板7に形成された第
2の転写板10を作製(図1(F))し、第1及び第2
の転写板1,10の準備を完了する。
Next, a second transfer plate 10 having different wiring patterns 9 formed on the support substrate 7 is manufactured by the same method as described above for manufacturing a transfer plate (FIG. 1 (F)).
The preparation of the transfer plates 1 and 10 is completed.

【0062】次に、両面にポリエステルなどの離型性フ
ィルム11を備えた多孔質基材12を準備する。この多
孔質基材12としては、厚さが50〜100μmのアラ
ミド不織布エポキシ樹脂含浸シートなどが用いられる
(図2(G))。
Next, a porous substrate 12 having release films 11 made of polyester or the like on both sides is prepared. As the porous substrate 12, an aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet having a thickness of 50 to 100 μm is used (FIG. 2 (G)).

【0063】アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートは
比重が小さいため、軽量化に有効である。またアラミド
不織布はレーザー加工性が良好であるため、微小な孔を
高速で開けるのに適している。さらにアラミド不織布は
樹脂でありエポキシ樹脂との密着性が良いため導電性ペ
ーストの流れによるにじみの発生が大幅に減少する。
Since the aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet has a small specific gravity, it is effective for weight reduction. Further, since the aramid nonwoven fabric has good laser processability, it is suitable for opening minute holes at high speed. Further, since the aramid non-woven fabric is a resin and has good adhesiveness with the epoxy resin, the occurrence of bleeding due to the flow of the conductive paste is significantly reduced.

【0064】また樹脂の含有率は、40〜65%の範囲
であれば基板としての物理機械的特性及び電気的特性に
おいて優れたものが選定できるが、望ましくは55〜6
0%であるものを選定することが良好である。これによ
り多孔質基材12が圧縮される際、配線パターン9、金
属層の周囲に樹脂が回り込みながら埋まっていくため、
ボイドのない平坦性の優れた基板が得られる。
If the resin content is in the range of 40 to 65%, it is possible to select one having excellent physical and mechanical properties and electrical properties as a substrate, but it is preferably 55 to 6
It is good to select one that is 0%. As a result, when the porous substrate 12 is compressed, the resin wraps around the wiring pattern 9 and the metal layer while being embedded,
A substrate having excellent flatness without voids can be obtained.

【0065】上記の樹脂含有率40〜65%の範囲で層
間接着用シートとしてのアラミド不織布エポキシ樹脂含
浸シートを選定した場合、多孔質基材12の被圧縮率は
10〜50%の範囲となり、55〜60%の範囲で選定
した場合は、被圧縮率は、30〜40%とすることが可
能となる。
When the aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet as the interlayer adhesive sheet is selected in the above resin content range of 40 to 65%, the compressibility of the porous substrate 12 is in the range of 10 to 50%. When selected in the range of 55 to 60%, the compression rate can be set to 30 to 40%.

【0066】ここで、被圧縮率が10%以下の場合、導
電性ペースト中の導電物質の緻密化が悪く、貫通孔の直
径が50μmの小径の場合、接続抵抗値が高くなり、ま
た、被圧縮率が50%以上の場合は、導通孔が変形し、
基材の平滑性が損なわれ、抵抗値のばらつきが大きくな
る傾向にあるので不適当である。
Here, when the compressibility is 10% or less, the densification of the conductive material in the conductive paste is poor, and when the diameter of the through hole is as small as 50 μm, the connection resistance value increases, and When the compression rate is 50% or more, the conduction hole is deformed,
It is not suitable because the smoothness of the substrate is impaired and the resistance value tends to vary widely.

【0067】したがって、樹脂の含有率は55〜60%
の範囲で、かつ被圧縮率は30〜40%の範囲の層間接
着用シートとしてのアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シ
ートを選定することによって、基板としての物理機械的
特性及び電気的特性はもちろん、導通接続抵抗値が安定
し、平坦性の優れた基板が得られる。
Therefore, the resin content is 55 to 60%.
By selecting an aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet as an inter-layer adhesive sheet having a compressibility of 30 to 40%, conductive connection as well as physical and mechanical characteristics as a substrate can be achieved. A substrate having stable resistance and excellent flatness can be obtained.

【0068】次にアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シー
トの所定の箇所にレーザ加工機などで直径50〜100
μmの貫通孔13を形成(図2(H))し、貫通孔13
に導電性ペースト14を充填する。充填方法としては、
貫通孔13を有するアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シ
ートをスクリーン印刷機などにセットした後、導電性ペ
ースト14を直接、離型性フィルム11の上から印刷す
る。
Next, a diameter of 50 to 100 is applied to a predetermined portion of the aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet by a laser processing machine or the like.
The through hole 13 of μm is formed (FIG. 2 (H)), and the through hole 13 is formed.
Is filled with the conductive paste 14. As a filling method,
After setting the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet having the through holes 13 in a screen printing machine or the like, the conductive paste 14 is directly printed on the release film 11.

【0069】次にアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シー
トの両面から離型性フィルム11を剥離後(図2
(I))、先に作製した第1の転写板1と第2の転写板
10とを対向させ、その間に導電性ペースト14が充填
された層間接着用シートとしてのアラミド不織布エポキ
シ樹脂含浸シートを重ね合わせる(図2(J))。
Next, the release film 11 was peeled off from both sides of the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet (see FIG. 2).
(I)), an aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet as an interlayer adhesive sheet in which the first transfer plate 1 and the second transfer plate 10 prepared above are opposed to each other and the conductive paste 14 is filled between them. Overlap (FIG. 2 (J)).

【0070】その後、真空熱プレス機で第1および第2
の転写板の両側から加熱・加圧することにより、アラミ
ド不織布エポキシ樹脂含浸シートが圧縮されるとともに
アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートの内部に配線パ
ターン6,9および電解ニッケルめっき層5,8が埋設
され、アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートと接着さ
れる(図2(K))。
Thereafter, the first and second vacuum hot presses were used.
By heating and pressurizing the transfer plate from both sides, the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet is compressed and the wiring patterns 6, 9 and the electrolytic nickel plating layers 5, 8 are embedded inside the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet, It is bonded to an aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet (FIG. 2 (K)).

【0071】第1の転写板1と第2の転写板10に用い
た支持基板2,7を、耐熱性と離型性を有する樹脂フィ
ルムとすることにより、支持基板2,7上の極薄銅はく
も製造設備や搬送において取り扱いが容易になり、真空
熱プレスでの加熱・加圧に際しても溶着を防止すること
ができ、さらに支持基板2,7の除去、引き剥がし剥離
が容易となる。
The supporting substrates 2 and 7 used for the first transfer plate 1 and the second transfer plate 10 are made of a resin film having heat resistance and releasability so that the supporting substrates 2 and 7 are extremely thin. It is easy to handle in the copper foil manufacturing equipment and transportation, and it is possible to prevent welding even during heating / pressurizing in a vacuum hot press, and further, it becomes easy to remove and peel off the supporting substrates 2 and 7.

【0072】最後に、支持基板2,7を硫酸、塩酸など
の化学的に溶解するかまたはベルトサンダーなど機械的
研磨の低コストで容易にできる方法を用いて除去するこ
とにより、配線パターン6,9および電解ニッケルめっ
き層5,8がアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートに
埋設された配線基板が得られる(図2(L))。
Finally, the supporting substrates 2 and 7 are chemically dissolved in sulfuric acid, hydrochloric acid or the like, or removed by using a mechanical polishing method such as a belt sander which can be easily performed at a low cost. A wiring board in which 9 and electrolytic nickel plating layers 5 and 8 are embedded in an aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet is obtained (FIG. 2 (L)).

【0073】ここで、層間接着用シートとしてのアラミ
ド不織布エポキシ樹脂含浸シートに埋設される金属層と
しての電解ニッケルめっき層5との関係について以下に
述べる。
Here, the relationship with the electrolytic nickel plating layer 5 as the metal layer embedded in the aramid nonwoven fabric epoxy resin impregnated sheet as the interlayer adhesion sheet will be described below.

【0074】アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シート
は、厚みを50μm、被圧縮率は30〜40%のものを
使用し、形成する貫通孔13の直径は50μmに設定す
る。
The aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet has a thickness of 50 μm and a compressibility of 30 to 40%, and the diameter of the through hole 13 to be formed is set to 50 μm.

【0075】また第1の転写板1と第2の転写板10上
の配線パターン6,9の線間、線幅を30μmとするた
め、銅はく3の厚みを5μmの極薄のものを使用する。
Further, since the line width and the line width of the wiring patterns 6 and 9 on the first transfer plate 1 and the second transfer plate 10 are set to 30 μm, the thickness of the copper foil 3 should be 5 μm. use.

【0076】このとき、金属層としての電解ニッケルめ
っき層5の厚みは、層間接着用シートの厚みの5〜10
%である2.5〜5μmに設定することによって、層間
接着用シートに埋設される深さは、片側それぞれ7.5
〜10μmとなり、アラミド不織布エポキシ樹脂含浸シ
ートの被圧縮率30〜40%の範囲内で安定した加圧が
可能となる。
At this time, the thickness of the electrolytic nickel plating layer 5 as the metal layer is 5 to 10 times the thickness of the interlayer adhesive sheet.
%, The depth embedded in the interlayer adhesive sheet is 7.5 on each side.
It becomes 10 μm, and stable pressurization is possible within a compression rate range of 30 to 40% of the aramid nonwoven fabric epoxy resin-impregnated sheet.

【0077】また、層間接着用シートの厚みを100μ
m(被圧縮率は30〜40%)のものを使用し、形成す
る貫通孔13の直径を100μm、配線パターン6,9
の線間、線幅を50μmとし、銅はく3の厚みを10μ
mの極薄のものを使用した場合においても、電解ニッケ
ルめっき層5の厚みを、層間接着用シートの厚みの5〜
10%である5〜10μmとすることによって同様の接
続信頼性の効果が得られる。
The thickness of the interlayer adhesive sheet is 100 μm.
m (the compressibility is 30 to 40%), the diameter of the through hole 13 to be formed is 100 μm, and the wiring patterns 6 and 9 are used.
Between the lines, the line width is 50 μm, and the thickness of the copper foil 3 is 10 μm.
Even when a very thin m is used, the thickness of the electrolytic nickel plating layer 5 is set to 5 times the thickness of the interlayer adhesive sheet.
The same effect of connection reliability can be obtained by setting the thickness to 10%, which is 5 to 10 μm.

【0078】これにより、ファイン化のため、配線パタ
ーン6,9の厚みが薄くなっても一定の厚さの金属層が
基材内部に埋設されるため、導電性ペーストに充分な圧
縮がかかることになり、接続抵抗値が低く、信頼性の高
い層間接続を有したプリント配線板が得られる。
As a result, even if the wiring patterns 6 and 9 are thinned, a metal layer having a constant thickness is embedded inside the base material for finer patterning, so that the conductive paste is sufficiently compressed. Thus, a printed wiring board having a highly reliable interlayer connection with a low connection resistance value can be obtained.

【0079】なお、銅はく3の厚みを10μm以上にす
ると、エッチングによる配線パターンの形成が困難とな
り、逆に5μm以下のものは、製造工程における搬送や
取り扱いが困難となり、さらに材料コストの上昇につな
がり実現性が乏しい。
If the thickness of the copper foil 3 is 10 μm or more, it becomes difficult to form a wiring pattern by etching. On the contrary, if the thickness of the copper foil 3 is 5 μm or less, it becomes difficult to carry and handle in the manufacturing process, and the material cost further increases. It leads to and is not feasible.

【0080】このような極薄の銅はくを用いるに際して
第1及び第2の転写板の支持基板2,7を、アルミニウ
ムはく等の導電体とすることにより支持基板2,7上に
電解めっきにより容易に銅はくなどの金属はくを形成す
ることができるとともに、製造設備や搬送において取り
扱いが困難であった極薄銅はくも支持基板2,7をキャ
リアとすることにより、取り扱いが容易となる。
When such ultrathin copper foil is used, the supporting substrates 2 and 7 of the first and second transfer plates are made to be conductors such as aluminum foil, so that electrolysis is performed on the supporting substrates 2 and 7. A metal foil such as a copper foil can be easily formed by plating, and by using the ultra-thin copper foil supporting substrates 2 and 7 which are difficult to handle in manufacturing equipment and transportation, as a carrier, It will be easy.

【0081】また基材が支持基板2,7で固定されるこ
とで寸法が安定化するため、従来、製造工程中の主に加
熱処理工程で問題となっていた基材の伸び縮みによる位
置精度不良などが減少する。
Further, since the size is stabilized by fixing the base material with the supporting substrates 2 and 7, the positional accuracy due to expansion and contraction of the base material, which has been a problem mainly in the heat treatment process in the manufacturing process in the past, is high. Defects are reduced.

【0082】さらに電解ニッケルめっき層5の寸法は導
通孔より40〜150μmだけ大であることが望まし
く、積層の際の位置ずれが生じても貫通孔13内の導電
性ペースト14は電解ニッケルめっき層5に覆われた状
態であるため導電性ペースト14が露出しにくくなり、
位置ずれの許容量が大きくなる。また広い幅の矩形状断
面を有する金属層が基材中に埋設されているため、アン
カー効果によりピール強度やプル強度が大幅に向上す
る。
Further, it is desirable that the size of the electrolytic nickel plating layer 5 is 40 to 150 μm larger than that of the conduction hole, and the conductive paste 14 in the through hole 13 is formed in the electrolytic nickel plating layer even if the positional deviation occurs during lamination. The conductive paste 14 is less likely to be exposed because it is covered with 5.
The amount of positional deviation is increased. Moreover, since the metal layer having a wide rectangular cross section is embedded in the base material, the peeling strength and the pulling strength are significantly improved by the anchor effect.

【0083】ここで、40μm以下の場合は位置ずれに
対応するのが困難となり、150μm以上の場合は配線
設計における配線収容性が低下するため、上記の範囲と
することが望ましい。
Here, when it is 40 μm or less, it becomes difficult to deal with the positional deviation, and when it is 150 μm or more, the wiring accommodability in the wiring design deteriorates, so the above range is preferable.

【0084】以上のように、本実施の形態によれば、従
来は図3(A)(B)に示すように銅はく厚により導電
性ペースト40の圧縮率が変化していたが、図3(C)
に示すように配線パターンとしての銅はくを薄くしても
銅はくの上部に金属層としての電解ニッケルめっき層が
形成されていることにより、基材へ埋設する導体層の厚
みは電解ニッケルめっき層の厚さで決めることができ、
導電性ペーストの圧縮率は前記電解ニッケルめっき層の
厚さで制御できるため、配線パターンとしての銅はくを
薄くしてファインパターン化し、かつ接続抵抗値が低
く、信頼性の高いプリント配線板を得ることが可能とな
る。
As described above, according to the present embodiment, conventionally, the compressibility of the conductive paste 40 changes depending on the thickness of the copper foil as shown in FIGS. 3A and 3B. 3 (C)
Even if the copper foil as the wiring pattern is thin as shown in Fig. 5, the thickness of the conductor layer embedded in the base material is equal to the thickness of the electrolytic nickel because the electrolytic nickel plating layer as the metal layer is formed on the copper foil. It can be determined by the thickness of the plating layer,
Since the compressibility of the conductive paste can be controlled by the thickness of the electrolytic nickel plating layer, the copper foil as a wiring pattern is thinned to form a fine pattern, and the connection resistance value is low, so that a highly reliable printed wiring board can be obtained. It becomes possible to obtain.

【0085】また、図4(A)に示すように、従来では
位置ずれにより導電性ペーストが露出15することがあ
ったが、本実施の形態では、図4(B)に示すように矩
形状断面を有する電解ニッケルめっき層が形成されてい
るため、導電性ペーストが露出しにくくなり、位置ずれ
の許容量が大きくなる。
Further, as shown in FIG. 4 (A), conventionally, the conductive paste may be exposed 15 due to the position shift, but in the present embodiment, as shown in FIG. 4 (B), the conductive paste has a rectangular shape. Since the electrolytic nickel plating layer having a cross section is formed, the conductive paste is less likely to be exposed, and the allowable amount of displacement is increased.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板上に
形成されている配線パターンとその上に形成された金属
層を基材内部に埋設することにより基材の所定位置に設
けられた貫通孔に充填した導電性ペーストに充分な圧縮
がかかることになり、導電性ペースト中の導電物質が緻
密化されるため、接続抵抗値が低く、信頼性の高い層間
接続を有したプリント配線板を実現することができる。
As described above, according to the present invention, the wiring pattern formed on the substrate and the metal layer formed on the wiring pattern are embedded in the substrate so that the wiring pattern is provided at a predetermined position of the substrate. The conductive paste filled in the through holes will be compressed sufficiently, and the conductive material in the conductive paste will be densified, so that the connection resistance value is low and the printed wiring with highly reliable interlayer connection. A board can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態におけるプリント配線板の
製造方法を示す工程断面図
FIG. 1 is a process sectional view showing a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態におけるプリント配線板の
製造方法を示す工程断面図
FIG. 2 is a process sectional view showing a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態における導電性ペーストの
圧縮状態を比較するための断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view for comparing the compressed state of the conductive paste in the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態における層間位置ずれした
時の層間接続状態を比較するための断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view for comparing interlayer connection states when interlayer positions are displaced in the embodiment of the present invention.

【図5】従来のプリント配線板の製造方法を示す工程断
面図
FIG. 5 is a process sectional view showing a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【図6】従来のプリント配線板の製造方法を示す工程断
面図
FIG. 6 is a process sectional view showing a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【図7】従来のプリント配線板の製造方法を示す工程断
面図
FIG. 7 is a process sectional view showing a conventional method for manufacturing a printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,10 転写板 2,7 支持基板 3 銅はく 4 めっきレジスト 5,8 電解ニッケルめっき層 6,9,34,36 配線パターン 11 離型性フィルム 12,38 多孔質基材 13 貫通孔 14,40 導電性ペースト 15 導電性ペーストの流れ(導電性ペーストの露出) 1,10 Transfer plate 2,7 support substrate 3 copper foil 4 Plating resist 5,8 Electrolytic nickel plating layer 6,9,34,36 wiring pattern 11 Release film 12,38 Porous substrate 13 through holes 14,40 Conductive paste 15 Flow of conductive paste (exposure of conductive paste)

Claims (23)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持基板上に形成された回路と、前記回
路上に一定厚み、一定寸法を有する金属層が形成された
第1及び第2の転写板が、層間接着用シートを介して対
向して配置・積層され、前記回路及び前記金属層のみが
層間接着用シートに埋設されて、かつ前記支持基板が取
り除かれた構成を有するプリント配線板。
1. A circuit formed on a supporting substrate and first and second transfer plates having a metal layer having a certain thickness and a certain dimension formed on the circuit face each other with an interlayer adhesive sheet interposed therebetween. A printed wiring board having a configuration in which the circuit and the metal layer are embedded in an interlayer adhesive sheet, and the supporting substrate is removed.
【請求項2】 金属層は、電解めっきにて形成されてい
ることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。
2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the metal layer is formed by electrolytic plating.
【請求項3】 金属層の一定厚みは、層間接着用シート
の厚みの5〜10%であることを特徴とする請求項1に
記載のプリント配線板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the certain thickness of the metal layer is 5 to 10% of the thickness of the interlayer adhesive sheet.
【請求項4】 層間接着用シートは、導通孔を備えてい
ることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板。
4. The printed wiring board according to claim 1, wherein the interlayer adhesive sheet has a conductive hole.
【請求項5】 導通孔は、導電性ペーストを充填して形
成されたものであることを特徴とする請求項4に記載の
プリント配線板。
5. The printed wiring board according to claim 4, wherein the conductive hole is formed by filling a conductive paste.
【請求項6】 第1の転写板に形成された金属層と、第
2の転写板に形成された金属層は、導通孔を介して電気
的に接続されていることを特徴とする請求項4に記載の
プリント配線板。
6. The metal layer formed on the first transfer plate and the metal layer formed on the second transfer plate are electrically connected through a conduction hole. The printed wiring board according to item 4.
【請求項7】 層間接着用シートは、アラミド不織布エ
ポキシ樹脂含浸シートであることを特徴とする請求項1
に記載のプリント配線板。
7. The interlaminar adhesive sheet is an aramid non-woven fabric epoxy resin-impregnated sheet.
The printed wiring board described in.
【請求項8】 金属層の寸法は導通孔より40〜150
μmだけ大であることを特徴とする請求項1に記載のプ
リント配線板。
8. The size of the metal layer is 40 to 150 from the through hole.
The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board has a size of only μm.
【請求項9】 層間接着用シートは、被圧縮性を有する
多孔質材であることを特徴とする請求項1に記載のプリ
ント配線板。
9. The printed wiring board according to claim 1, wherein the interlayer adhesive sheet is a porous material having compressibility.
【請求項10】 被圧縮性を有する多孔質材の被圧縮率
は、10〜50%であることを特徴とする請求項9に記
載のプリント配線板。
10. The printed wiring board according to claim 9, wherein the compressibility of the compressible porous material is 10 to 50%.
【請求項11】 層間接着用シートの、樹脂含有率は、
40〜65%であることを特徴とする請求項1に記載の
プリント配線板。
11. The resin content of the interlayer adhesive sheet is
It is 40-65%, The printed wiring board of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
【請求項12】 支持基板上に金属はくが形成された第
1及び第2の転写板を準備する工程と、第1及び第2の
転写板の金属はく上に一定厚みと一定寸法を有する金属
層を選択的に形成する工程と、前記金属層をエッチング
レジストとして金属はくを回路形成する工程と、層間接
着用シートを準備する工程と、第1及び第2の転写板の
回路形成面を層間接着シートを介して対向させ積層する
工程と、これを加熱・加圧する工程とを有することを特
徴とするプリント配線板の製造方法。
12. A step of preparing first and second transfer plates having a metal foil formed on a supporting substrate, and a step of providing a constant thickness and a constant dimension on the metal foil of the first and second transfer plates. A step of selectively forming a metal layer having the metal layer, a step of forming a metal foil circuit using the metal layer as an etching resist, a step of preparing an interlayer adhesive sheet, and a circuit formation of the first and second transfer plates A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of laminating the surfaces so as to face each other with an interlayer adhesive sheet interposed therebetween;
【請求項13】 金属層を選択的に形成する工程は、フ
ォトプロセスによりめっきレジストを形成し、めっきレ
ジストの非形成部に電解ニッケルめっき層を形成するこ
とを特徴とする請求項12に記載のプリント配線板の製
造方法。
13. The method according to claim 12, wherein the step of selectively forming the metal layer comprises forming a plating resist by a photo process and forming an electrolytic nickel plating layer on a portion where the plating resist is not formed. Manufacturing method of printed wiring board.
【請求項14】 金属層の厚みは、電解めっきプロセス
を用いて層間接着用シートの厚みの5〜10%に設定す
ることを特徴とする請求項12に記載のプリント配線板
の製造方法。
14. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the thickness of the metal layer is set to 5 to 10% of the thickness of the interlayer adhesion sheet by using an electrolytic plating process.
【請求項15】 金属はくを回路形成する工程は、銅ア
ンモニウム錯イオンを主成分とするアルカリエッチング
液を用いて金属はくを溶解除去することを特徴とする請
求項12に記載のプリント配線板の製造方法。
15. The printed wiring according to claim 12, wherein in the step of forming the circuit of the metal foil, the metal foil is dissolved and removed by using an alkaline etching solution containing copper ammonium complex ions as a main component. Method of manufacturing a plate.
【請求項16】 金属層は、矩形状断面に形成すること
を特徴とする請求項12に記載のプリント配線板の製造
方法。
16. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the metal layer is formed in a rectangular cross section.
【請求項17】 加圧・加熱する工程の後、第1及び第
2の転写板の支持基板を除去する工程を備えたことを特
徴とする請求項12に記載のプリント配線板の製造方
法。
17. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, further comprising a step of removing the supporting substrates of the first and second transfer plates after the step of applying pressure and heating.
【請求項18】 支持基板を除去する工程は、化学的溶
解除去または機械的研磨除去であることを特徴とする請
求項17に記載のプリント配線板の製造方法。
18. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 17, wherein the step of removing the supporting substrate is chemical dissolution removal or mechanical polishing removal.
【請求項19】 支持基板は、導電体であることを特徴
とする請求項12に記載のプリント配線板の製造方法。
19. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the support substrate is a conductor.
【請求項20】 支持基板は、樹脂フィルムであること
を特徴とする請求項12に記載のプリント配線板の製造
方法。
20. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the support substrate is a resin film.
【請求項21】 樹脂フィルムは、耐熱性と離型性を有
するものであることを特徴とする請求項20に記載のプ
リント配線板の製造方法。
21. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 20, wherein the resin film has heat resistance and releasability.
【請求項22】 層間接着用シートを準備する工程は、
層間接着用シートに貫通孔を形成し導電性ペーストを充
填する工程を含むことを特徴とする請求項12に記載の
プリント配線板の製造方法。
22. The step of preparing an interlayer adhesive sheet,
The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, further comprising the step of forming a through hole in the interlayer adhesive sheet and filling it with a conductive paste.
【請求項23】 層間接着用シートは、被圧縮性の多孔
性を有するアラミド不織布エポキシ樹脂含浸シートであ
り、かつ含浸樹脂は半硬化状態であることを特徴とする
請求項12に記載のプリント配線板の製造方法。
23. The printed wiring according to claim 12, wherein the interlayer adhesive sheet is an aramid nonwoven fabric epoxy resin impregnated sheet having compressibility and porosity, and the impregnated resin is in a semi-cured state. Method of manufacturing a plate.
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