JP2003297735A - 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 - Google Patents
液量判定装置、露光装置、および液量判定方法Info
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 398
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 97
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 87
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 57
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7035—Proximity or contact printers
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- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H1/0408—Total internal reflection [TIR] holograms, e.g. edge lit or substrate mode holograms
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- Holo Graphy (AREA)
Abstract
る。 【解決手段】 複数の光学部品(200,202)間を
充填する充填液(204)の液量を判定するための液量
判定装置であり、充填液(204)を介して対向する一
対の光学部品のうち一方の光学部品(202)につい
て、当該光学部品(202)の対向面(203)に略垂
直に検査光を射出するための検査光射出装置(260)
と、対向面上における任意の検査位置に検査光を射出さ
せるために検査光射出装置(260)を搬送するための
搬送装置(262)と、検査光射出装置(260)から
対向面(230)に向けて射出された検査光の反射光に
基づいて検査光の反射位置を特定するための反射位置特
定装置(240)と、反射位置特定装置(240)が特
定した反射位置に基づいて検査位置における充填液の有
無を判定するための判定装置(264)と、を備える。
Description
して露光を行うホログラフィック露光装置に係り、特
に、ホログラムマスクをプリズムと密接させるために使
うマッチングリキッド等の充填液の液量を判定し補充す
るために装置に関する。
いて、TIR型(Total Internal Re
flection:全内部反射型)ホログラフィック露
光技術が注目されてきている。この露光技術は、ホログ
ラムマスクに対し所望のパターンを記録する記録工程
と、このホログラムマスクに再生光を照射して半導体パ
ターン用のフォトレジストを感光する露光工程とからな
る。
に対応したマスクパターン(元レチクル)にレーザー光の
記録ビームを照射して回折光を生じさせ、ホログラムマ
スクの記録面に射出する。一方、ホログラムマスクの記
録面に対し一定の角度でホログラムマスクの裏側から参
照光を照射し、元レチクルからの回折光と干渉させる。
これによってホログラムマスクの記録面に干渉パターン
を生じさせこれをホログラム記録面に記録させる。
ログラムマスクを置いて、記録時と反対方向から再生光
である露光ビームを照射し、フォトレジスト上に元のパ
ターンを再現した回折光を結像させてフォトレジストを
露光する。
ーンの干渉パターンが記録されるため、露光すべきパタ
ーンが変わるたびにホログラムマスクをプリズムから取
り外し新たなホログラムマスクをプリズムと密着させる
必要がある。従来、ホログラムマスクとプリズムとを屈
折率に影響を与えずに密接させるためにマッチングリキ
ッドという光学的特性を調整した充填液が使われてい
た。
ングリキッドには揮発性があるため、長時間露光してい
るうちに徐々にマッチングリキッドが揮発し、正しい露
光が行えなくなるという問題があった。このため、適当
なタイミングで露光を中断し、マッチングリキッドの有
無を確かめ、液量が不足している場合には補充するとい
う作業を強いられていた。
取り付けられると、ホログラムマスクはホログラフィッ
ク露光装置の内部に配置されるため、露光の前にマッチ
ングリキッドの液量を肉眼で確かめることには困難が伴
う。
クのみならず、マッチングリキッドを頻繁に補充するこ
とも大変煩わしいものであった。せめて連続した露光工
程中はマッチングリキッドの補充をしないで済ますこと
が望まれる。
本発明は、光学部品間の充填液の液量を自動的に判定し
うる液量判定装置、それを用いた露光装置を提供するこ
とを目的とする。
ことのできる充填液貯留装置を提供することを目的とす
る。
填液の液量を判定するための液量判定装置において、充
填液を介して対向する一対の光学部品のうち一方の光学
部品について、当該光学部品の対向面に略垂直に検査光
を射出するための検査光射出装置と、対向面上における
任意の検査位置に検査光を射出させるために検査光射出
装置を搬送するための搬送装置と、検査光射出装置から
対向面に向けて射出された検査光の反射光に基づいて検
査光の反射位置を特定するための反射位置特定装置と、
反射位置特定装置が特定した反射位置に基づいて検査位
置における充填液の有無を判定するための判定装置と、
を備える。
心付近とした場合において特定された反射位置が所定の
条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光学部品
が装着されていないと判定してもよい。
部とした場合において特定された反射位置が所定の条件
を満たしているか否かに基づいて、充填液の液量が充分
であるか否かを判定してもよい。
光学部品間に供給する充填液供給装置をさらに備えても
よい。このとき、充填液供給装置は、判定装置において
充填液の液量が十分でないと判定された場合に、光学部
品間に所定量の充填液を供給する。
の検査位置の各々について充填液の液量が十分であるか
否かを判定してもよい。このとき充填液供給装置は、充
填液の液量が十分でないと判定された検査位置の分布に
基づいて供給すべき充填液の液量を決定する。
の領域の周囲における複数の検査位置の各々について充
填液の液量が充分であるか否かを判定してもよい。この
とき充填液供給装置は、いずれかの検査位置について充
填液の液量が十分でないと判断された場合に充填液を供
給する。
る充填液を供給するための充填液貯留装置において、複
数の光学部品が側面をそろえて充填液が充填されるべき
間隙を介して隣接している部分に設けられ、充填液を溜
める貯留部を有し、当該貯留部が当該部分における間隙
の端部に向けて開口している、充填液を供給するための
タンクを備える。
る充填液を供給するための充填液貯留装置において、複
数の光学部品の側面が段違いに、かつ、充填液が充填さ
れるべき間隙を介して隣接している部分に設けられ、一
方の光学部品の側面から当該段違いになっている部分に
張り出して設けられる延長板を備え、延長板と一方の光
学部品の底部と他方の光学部品の側面とによって囲まれ
る空間内に、充填液を溜めることが可能に構成されてい
る。
る充填液を供給するための充填液貯留装置において、複
数の光学部品のうち下側に配置される光学部品の方が棚
部においてせり出すように、充填液が充填されるべき間
隙を介して段違いに設けられ、棚部の側面に充填液の流
出防止柵を備え、棚部と流出防止柵とで囲まれる空間に
貯留される充填液を当該空間に開口している間隙の端部
から供給可能に構成されている。
充填液貯留装置を備えていてもよい。このとき充填液貯
留装置に充填液供給装置から充填液を供給するように構
成されている。
一方の光学部品としてのホログラムマスクと、ホログラ
ムマスクに露光ビームを照射して露光領域を露光する照
射手段と、を備える露光装置であってもよい。
するのに適する液量判定方法でもある。すなわち、本発
明は、複数の光学部品間を充填する充填液の液量を判定
するための液量判定方法において、充填液を介して対向
する一対の光学部品のうち一方の光学部品について、当
該光学部品の対向面に略垂直に検査光を射出するステッ
プと、対向面上における任意の検査位置に検査光を射出
させるステップと、対向面に向けて射出された検査光の
反射光に基づいて検査光の反射位置を特定するステップ
と、特定した反射位置に基づいて検査位置における充填
液の有無を判定するステップと、を備える。
向面の中心付近とした場合において特定された反射位置
が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の
光学部品が装着されていないと判定してもよい。
面の周辺部とした場合において特定された反射位置が所
定の条件を満たしているか否かに基づいて、充填液の液
量が充分であるか否かを判定してもよい。
対の光学部品間に供給するステップをさらに備えていて
もよい。このとき、判定するステップにおいて充填液の
液量が十分でないと判定された場合に、光学部品間に所
定量の充填液を供給するステップをさらに備える。
ける複数の検査位置の各々について充填液の液量が十分
であるか否かを判定してもよい。このとき、充填液を供
給するステップは、充填液の液量が十分でないと判定さ
れた検査位置の分布に基づいて供給すべき充填液の液量
を決定する。
る所定の領域の周囲における複数の検査位置の各々につ
いて充填液の液量が充分であるか否かを判定してもよ
い。このとき、充填液を供給するステップは、いずれか
の検査位置について充填液の液量が十分でないと判断さ
れた場合に充填液を供給する。
図面を参照しながら説明する。 (実施形態1)本発明の実施形態1は、本発明の液量判
定装置を備えたTIR型ホログラフィック露光装置に係
り、充填液の液量の検査位置をホログラムマスク面の周
辺部とした露光装置に関する。
ログラフィック露光装置の全体構成図を示す。
202、ステージ222を備えるステージ装置224、
第1情報処理装置226、距離測定光学系240、膜厚
測定光学系250、光源260、搬送装置262、第2
情報処理装置270、露光光源280、露光光源駆動装
置282、第3情報処理装置264、充填液供給装置2
30を備えて構成される。プリズム202にはホログラ
ムマスク200が充填液であるマッチングリキッド20
4を介して密着されている。
係り、距離測定光学系240および膜厚測定光学系25
0のための検査光を射出可能に構成されている。
り、マッチングリキッド204を介してホログラムマス
ク200と対向するプリズム202の対向面203上に
おける任意の検査位置に検査光が射出できるように光源
260を搬送するようになっている。すなわち搬送装置
262は、第3情報処理装置264の制御によって、前
記対向面203に対応する任意の位置(P1やP2や図
面の垂直方向)に搬送可能になっており、プリズム20
2の反射によってホログラムマスク200に射出される
検査光が対向面203の任意の位置に当該面に垂直に供
給可能になっている。
置特定装置の一部に係り、ビームスプリッタ242、シ
リンドリカルレンズ244、光センサ246、誤差信号
検出器248を備え、ホログラムマスク200の記録面
と被露光基板上に塗布された感光性材料膜表面214と
の距離を調整して露光時のフォーカスを制御することが
可能に構成されている。
ら射出された検査光がプリズム202で反射された後、
ホログラムマスク200との対向面203または被露光
基板210の感光性材料膜表面214で反射された反射
光の光路を垂直な方向に変更するようになっている。
直な二方向のうち一方のみにレンズとして作用し他方に
は光学的な作用を及ぼさないように構成されており、入
射する光の射出点からの距離に応じて、二方向に対称的
な集光形状が得られる焦点距離が変化するようになって
いる。このため光源260からの検査光がどの反射位置
で反射されたかに応じて光センサ244上に集光する反
射光の形状の対称性が変化するようになっている。
されたフォトデテクタであり、それぞれのフォトデテク
タに入射する検査光の光量に応じた電気信号を出力する
ようになっている。
のフォトデテクタからそれぞれ出力された電気信号の差
分を演算し誤差信号を出力するようになっている。
位置特定装置および判定装置に係り、前記誤差信号に基
づいて本発明の反射位置の特定と液量判定とを実施する
ようになっている。
2、タンク234、流路ポンプ236、および供給パイ
プ238を備え、第3情報処理装置264においてマッ
チングリキッドの液量が十分でないと判定された場合
に、所定量のマッチングリキッド204をプリズム20
2とホログラムマスク200との間隙に充填液を供給す
るように構成されている。
処理装置264の制御信号に基づいて所定の時間駆動信
号を出力するようになっている。流路ポンプ236は、
この駆動信号が出力されている期間中、タンク234に
貯留されている補充用のマッチングリキッド204を供
給パイプ238に供給するようになっている。供給パイ
プ238に出力されたマッチングリキッドはプリズム2
02とホログラムマスク200との間隙に直接供給され
るようになっているが、この間隙へのマッチングリキッ
ドの供給部分に後述する充填液貯留装置300を介して
供給するように構成してもよい。
224は、感光性材料膜212が形成された被露光基板
210を真空チャック等でステージ222上に保持し
て、少なくとも上下方向(Z方向)へのステージ222
の位置調整が可能に構成されている。第1情報処理装置
226は距離測定光学系240から出力された誤差信号
に基づいて、ホログラム記録面201と被露光基板上に
形成された感光性材料膜表面214との距離に基づいて
フォーカスが適正となるようにステージ220の位置を
設定するように構成されている。膜厚測定光学系250
は、ビームスプリッタ、フォトデテクタ、増幅器、A/
D変換器等を備え、被露光基板210上に形成された感
光性材料膜212の膜厚を測定するための構成を備えて
いる。第2情報処理装置270は、膜厚測定光学系25
0により出力された感光性材料膜212の膜厚の相対値
に基づいて露光の光量を制御するように構成されてい
る。露光光源280は、ホログラムマスク200のホロ
グラム記録面202に露光ビームを照射可能に構成され
ている。露光光源駆動装置282は、露光光源280を
移動して被露光基板210上の所望の露光領域を走査し
て露光するように構成されている。
本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態1
では、対向面203上に検査光を射出する検査位置を、
図2に示すように、対向面203の周辺部としている点
に特徴がある。
れる露光領域DA2に対し、マージンをとった有効領域
DA1が任意に定められている。マッチングリキッドは
Eの部分から供給可能である。破線で示すように、揮発
するにつれてプリズムとホログラムマスクとの密着面
(間隙)の周囲からマッチングリキッド204が揮発
し、充填液領域LA1が縮小していく。本実施形態では
この有効領域DA1よりも充填液領域LA1が縮小した
か否かを判定する。すなわち、図2に示すように、検査
光による検出位置MP11aおよびbを対向面203の
周辺部に設定する。これら複数の検出位置のうち、いず
れか一つのみについて検出してもいいし、幾つかについ
て検出してもよいし、総てについて検出してもよい。例
えば、対向面203における対角線上にある検出位置M
P11aでは、中心点MPCからの距離が遠いために早
めにマッチングリキッドが蒸発すると考えられる。この
ため、比較的早期に、すなわち、マッチングリキッドの
揮発量が少ないうちにマッチングリキッドの液量不足を
検出可能である。一方、対向面203における辺の中央
部分では対角線における液量不足より若干遅く液量不足
が検出されると考えられる。
本実施形態1の液量判定処理動作を説明する。当該液量
判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光
工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程と
は独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用
時に無くならないようにしてもよい。
64は、搬送装置262を制御して光源260を移動さ
せ、プリズム202の対向面203の中心点MPCに検
査光が射出できるようにする(S10)。もしホログラ
ムマスク200がプリズム202にマッチングリキッド
を介して装着されているならば、検出光は対向面203
で反射されることなくホログラム記録面201に達し、
そこで一部が反射され、大部分が被露光基板210の感
光性材料膜面214で反射される。もしもホログラムマ
スクがプリズムに装着されているならば、少なくとの対
向面の中心付近にはマッチングリキッドが存在していな
ければならないはずである。そこで、第3情報処理装置
264は、距離測定光学系240から出力された誤差信
号が、検出光が総て対向面203で反射されたことを示
している場合にはマッチングリキッド無し、つまりホロ
グラムマスクが装着されていないと判定し(S11:
N)、図示しない表示装置やランプにその旨の表示をさ
せる(S12)。
された場合(S11:Y)、第3情報処理装置264は
予めメモリに記憶されているか入力されるかした検出レ
ベルを特定する(S13)。検出レベルとは、どの程度
マッチングリキッドの充填液境界LA1が縮小していた
らアラームを出すかを定めるレベルをいう。例えば図2
で説明したように、比較的早めにアラームを出すなら、
対向面203の対角線周辺部に検出位置MP11bを設
定するし、もう少しマッチングリキッドの揮発を許容す
るなら検出位置MP11aなどに設定する。
装置264は、搬送装置262を制御し、設定した検出
位置の各々について位置情報を読み出し(S14)、そ
の位置情報で特定される対向面203上の検出位置に検
出光を出力させる。そして距離測定光学系240から出
力された誤差信号に基づいて、上記と同様にマッチング
リキッドの有無を判定する。もしもマッチングリキッド
がその検出位置に存在するなら、検出光はその検出位置
で反射されることなくホログラムマスク200に達する
が、マッチングリキッドが揮発してその検出位置に存在
しなくなっているなら、検出光はその検出位置で反射さ
れる。誤差信号が検出光の反射位置として対向面以外の
位置を示している場合には(S15:Y)、その検出位
置にはマッチングリキッドが存在するため、次の検出位
置の検出に移行する(S16:N)。総ての検出位置に
おけるマッチングリキッドの有無を検査し(S14〜S
16)、総ての検出位置においてマッチングリキッドが
存在していることを判定できたら(S16:Y)、第3
情報処理装置264は補充する必要が無い旨の表示を必
要に応じて行い(S17)、液量判定処理を終了する。
次いで必要に応じて露光工程に移行する。一方、いずれ
かの検出位置についてマッチングリキッドが存在してい
ないことが検出された場合(S15:N)、必要に応じ
てマッチングリキッドが不足している旨の表示を行う
(S18)。
された場合には(S18)その旨の表示を見た操作者が
人手でマッチングリキッドを補充するようにしてもよい
が、本実施形態ではさらに充填液供給装置230による
マッチングリキッドの補充を行う(S19)。すなわ
ち、第3情報処理装置264は検出レベルを参照し、ど
の程度の液量のマッチングリキッドを供給すべきかを決
定し、その液量に応じた期間だけ駆動装置232を駆動
して流路ポンプ236を動作させる。タンク234から
は流路ポンプ236の駆動されている期間だけマッチン
グリキッドが、プリズム202とホログラムマスク20
0との間隙に供給される。なお、マッチングリキッドの
供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十分にマ
ッチングリキッドが供給されたかを確認してもよい。ま
た、流路ポンプ236の駆動期間を予め決める代わり
に、この液量判定の結果をフィードバックさせて液量が
回復し次第流路ポンプを停止させるように構成してもよ
い。
向面の中心付近とした場合において特定された反射位置
が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の
光学部品が装着されていないと判定するので、ホログラ
ムマスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。ま
た液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認で
きる。
おいて液量判定をするように構成したので、比較的早期
にマッチングリキッドの不足を検出することができる。
れた後に充填液供給装置がマッチングリキッドを適量供
給するので、マッチングリキッドの供給を自動化し、人
手を介しての困難なマッチングリキッドの補充を省くこ
とが可能である。 (実施形態2)本発明の実施形態2は、前記実施形態1
と同様のホログラフィック露光装置に係り、複数の検査
位置について充填液の液量判定を行って液量不足と判定
された検査位置の分布に基づいて供給すべき充填液の液
量を決定する露光装置に関する。
光装置の構成は実施形態1と同様であるため説明を省略
する。
本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態2
では、対向面203上に検査光を射出する検査位置を、
図4に示すように、対向面203の内部に複数設けてい
る点に特徴がある。
れる露光領域DA2に対し、マージンをとった有効領域
DA1が任意に定められている。この有効領域DA1に
ほぼ十分にマッチングリキッドを行き渡らせるために
は、少なくともマッチングリキッドは充填液領域LA1
を占めていなければならない。また露光領域DA2に対
する露光処理を行うためにはどんなにマッチングリキッ
ドが少なくても充填液領域LA2の範囲にはマッチング
リキッドが存在しなくてはならない。そこで本実施形態
2では、マッチングリキッドの揮発量に応じた制御が行
えるように、充填液領域LA1およびLA2の内外に検
査位置MP21aおよびb、MP22aおよびbを設け
る。そして液量不足と判定された検査位置の分布に応じ
て補充する液量を変化させる。例えば表1に示すように
検出された液量不足の検出位置に応じたマッチングリキ
ッドの補充量を定めることができる。
ある。例えば、これら複数の検出位置のうち、幾つかに
ついて検出してもよいし、総てについて検出してもよ
い。例えば、プリズム底面が中心軸に対して幾何学的に
対称な形状を有している場合、この対向面で幾何学的に
中心軸対称な位置にある検出位置同士は充填液の充填度
がほぼ同じであると考えられるので、一方の検出を省い
てもよい。
本実施形態2の液量判定処理動作を説明する。当該液量
判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光
工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程と
は独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用
時に無くならないようにしてもよい。
64は、搬送装置262を制御して光源260を移動さ
せ、プリズム202の対向面203の中心点MPCに検
査光が射出できるようにする(S20)。もしホログラ
ムマスク200がプリズム202にマッチングリキッド
を介して装着されているならば、検出光は対向面203
で反射されることなくホログラム記録面201に達し、
そこで一部が反射され、大部分が被露光基板210の感
光性材料膜面214で反射される。もしもホログラムマ
スクがプリズムに装着されているならば、少なくとの対
向面の中心付近にはマッチングリキッドが存在していな
ければならないはずである。そこで、第3情報処理装置
264は、距離測定光学系240から出力された誤差信
号が、検出光が総て対向面203で反射されたことを示
している場合にはマッチングリキッド無し、つまりホロ
グラムマスクが装着されていないと判定し(S21:
N)、図示しない表示装置やランプにその旨の表示をさ
せる(S22:表1参照)。
された場合(S21:Y)、液量判定に移る。まず第3
情報処理装置264は、搬送装置262を制御し、設定
した検出位置の各々について位置情報を読み出し(S2
3)、その位置情報で特定される対向面203上の検出
位置に検出光を出力させる。そして距離測定光学系24
0から出力された誤差信号に基づいて、反射位置を検出
し(S24)、それに対応させてマッチングリキッドの
有無を判定する(S25)。もしもマッチングリキッド
がその検出位置に存在するなら、検出光はその検出位置
で反射されることなくホログラムマスク200に達する
が、マッチングリキッドが揮発してその検出位置に存在
しなくなっているなら、検出光はその検出位置で反射さ
れる。一つの検出位置の液量判定が終了するとその結果
を記憶し、次の検出位置の液量判定に移行する(S2
6:N)。総ての検出位置におけるマッチングリキッド
の有無を検査したら(S23〜S26)、第3情報処理
装置264は液量不足と判定された検出位置の分布に応
じて補充するマッチングリキッドの液量を決定し対応し
たアラーム表示を行う(S27)。例えば第3情報処理
装置は表1に示すような対応関係を利用する。
あると判定されている場合には、操作者が人手でマッチ
ングリキッドを補充するようにしてもよいが、本実施形
態ではさらに充填液供給装置230によるマッチングリ
キッドの補充を行う(S28)。すなわち、第3情報処
理装置264は表1など、液量不足と判定された検出位
置の分布に基づいた供給すべきマッチングリキッドの液
量を決定し、その液量に応じた期間だけ駆動装置232
を駆動して流路ポンプ236を動作させる。タンク23
4からは流路ポンプ236の駆動されている期間だけマ
ッチングリキッドが、プリズム202とホログラムマス
ク200との間隙に供給される。なお、マッチングリキ
ッドの供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十
分にマッチングリキッドが供給されたかを確認してもよ
い。
向面の中心付近とした場合において特定された反射位置
が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の
光学部品が装着されていないと判定するので、ホログラ
ムマスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。ま
た液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認で
きる。
れた検出位置の分布を検出するように構成したので、ど
の程度マッチングリキッドが不足しているか端的に通知
することができ、不足している液量に応じたマッチング
リキッドの補充が行える。
液供給装置がマッチングリキッドを適量供給するので、
マッチングリキッドの供給を自動化し、人手を介しての
困難なマッチングリキッドの補充を省くことが可能であ
る。 (実施形態3)本発明の実施形態3は、前記実施形態1
と同様のホログラフィック露光装置に係り、露光領域の
周囲における複数の検査位置の各々について充填液の液
量が充分であるか否かを判定する露光装置に関する。
光装置の構成は実施形態1と同様であるため説明を省略
する。
本実施形態における検出位置を説明する。本実施形態3
では、部分露光を行う場合を想定している。すなわちホ
ログラムマスク面の一部の領域に露光すべき露光領域DA
が設定されている。少なくともこの露光領域にマッチン
グリキッドが存在すれば、露光処理が行える。そこで本
実施形態では、対象となる露光領域DAの周囲について液
量不足を判定する点に特徴がある。
ンが再生される露光領域DAに対し、その周囲の液量を
判定する。さらに必要に応じて露光領域DAの中心点MPC
や露光領域内の任意の点MP31,32,・・・3xを検
出位置としてもよい。
本実施形態3の液量判定処理動作を説明する。当該液量
判定処理は、本ホログラフィック露光装置における露光
工程の最初に行うように設定してもよいし、露光工程と
は独立して定期的に行ってマッチングリキッドが未使用
時に無くならないようにしてもよい。
64は、露光領域DAの中心点の位置情報を読み出して
(S30)、搬送装置262を制御して光源260を移
動させ、露光領域DAの中心点MPCに検査光が射出でき
るようにする(S31)。もしホログラムマスク200
がプリズム202にマッチングリキッドを介して装着さ
れているならば、検出光は対向面203で反射されるこ
となくホログラム記録面201に達し、そこで一部が反
射され、大部分が被露光基板210の感光性材料膜面2
14で反射される。もしもホログラムマスクがプリズム
に装着されているならば、少なくとの対向面の中心付近
にはマッチングリキッドが存在していなければならない
はずである。そこで、第3情報処理装置264は、距離
測定光学系240から出力された誤差信号が、検出光が
総て対向面203で反射されたことを示している場合に
はマッチングリキッド無し、つまりホログラムマスクが
装着されていないと判定し(S32:N)、図示しない
表示装置やランプにその旨の表示をさせる(S33)。
された場合(S32:Y)、液量判定に移る。まず第3
情報処理装置264は、露光領域DAの位置情報を読み出
す(S34)。そして搬送装置262を制御し、露光領
域DAの周囲を検査光が走査していくようにして検査を開
始する(S35)。液量が確保されている限り(S36:
Y)、一周するまでは(S39:N)、連続的に誤差信号
に基づく液量の判定を行う。液量不足が検出されること
なく検出光が露光領域DAの周囲を一周できたら(S3
9:Y)、液量が充分であると考えられるため、補充無
しの表示をして(S40)処理を終了する。必要に応じ
て露光工程に移行する。
判定された場合には(S36:N)、液量不足の表示を行
う(S37)。マッチングリキッドの補充が必要である
と判定されている場合には、操作者が人手でマッチング
リキッドを補充するようにしてもよいが、本実施形態で
はさらに充填液供給装置230によるマッチングリキッ
ドの補充を行う(S38)。すなわち、第3情報処理装
置264は所定の液量に応じた期間だけ駆動装置232
を駆動して流路ポンプ236を動作させる。タンク23
4からは流路ポンプ236の駆動されている期間だけマ
ッチングリキッドが、プリズム202とホログラムマス
ク200との間隙に供給される。なお、マッチングリキ
ッドの供給後に再び同じ検出位置の液量判定を行って十
分にマッチングリキッドが供給されたかを確認してもよ
い。また、流路ポンプ236の駆動期間を予め決める代
わりに、この液量判定の結果をフィードバックさせて液
量が回復し次第流路ポンプを停止させるように構成して
もよい。
光領域の中心とした場合において特定された反射位置が
所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき一方の光
学部品が装着されていないと判定するので、ホログラム
マスクの装着すべき旨の警告を出すことができる。また
液量判定に先立ち、ホログラムマスクの存在を確認でき
る。
おいて液量を判定するように構成したので、最低限必要
なマッチングリキッドの液量を判定できる。
液供給装置がマッチングリキッドを適量供給するので、
マッチングリキッドの供給を自動化し、人手を介しての
困難なマッチングリキッドの補充を省くことが可能であ
る。 (実施形態4)本発明の実施形態4は、上記した充填液
供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な
補充液貯留装置に関する。
成図を示す。図8に示すように、本補充液貯留装置30
0は、複数の光学部品であるプリズム202とホログラ
ムマスク200が側面をそろえてマッチングリキッド2
04が充填されるべき間隙を介して隣接している部分に
設けられる。例えば、ホログラフィック露光装置におい
てはプリズムの背面にそのような部位がある。そして断
面が取っ手形状となるような本体310を備えており、
その内部にマッチングリキッドを溜める貯留部312を
有し、当該貯留部312が当該部分における間隙の端部
に向けて開口している。この本体310は例えば接着剤
などで貼りしろ316においてプリズム202に貼り合
わせられる。本体の長さは、ある程度のマッチングリキ
ッドが貯留できるならば、プリズムの一辺と同じ長さで
もそれ以下でもよい。この中にマッチングリキッド20
4を充填してから間隙部分に取り付けることにより、マ
ッチングリキッドが貯留部312から常に間隙に供給さ
れる。
充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例え
ば本体310に開口314を設けて充填液供給装置23
0における供給パイプ238を接続するように構成す
る。他方、この開口を開閉自在な蓋として構成し、人手
を介してスポイトなどで充填液を補充可能に構成しても
よい。
体としてのマッチングリキッドの液量を上げることがで
き、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長
くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッド
の補充をしなくて済むようになる。 (実施形態5)本発明の実施形態5は、前述した充填液
供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な
補充液貯留装置に関する。
成図を示す。図9に示すように、本補充液貯留装置30
0bは、複数の光学部品の側面が段違いに、すなわちプ
リズム202に比べホログラムマスク200bが若干小
さく作られその側面が段違いになっている場所に設けら
れる。そしてプリズム202側から段違いになっている
部分に張り出して設けられる延長板320を備えてい
る。延長板320は例えば貼りしろ326においてプリ
ズム202と貼り合わせられている。延長板の長さは、
ある程度のマッチングリキッドが貯留できるならば、プ
リズムの一辺と同じ長さでもそれ以下でもよい。延長板
320とプリズム202の底部とホログラムマスクの側
面とによって囲まれる貯留空間322内には、マッチン
グリキッドが表面張力およびその粘性によって貯留され
るようになっている。この構成のよって、マッチングリ
キッドが貯留空間322から常に間隙に供給される。
充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例え
ば延長板320に開口324を設けて充填液供給装置2
30における供給パイプ238を接続するように構成す
る。他方、この開口を開閉自在な蓋として構成し、人手
を介してスポイトなどで充填液を補充可能に構成しても
よい。
体としてのマッチングリキッドの液量を上げることがで
き、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長
くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッド
の補充をしなくて済むようになる。 (実施形態6)本発明の実施形態6は、前述した充填液
供給装置と共に、または、独立して使用すること可能な
補充液貯留装置に関する。
構成図を示す。図10に示すように、本補充液貯留装置
300cは、複数の光学部品のうち下側に配置される光
学部品の方、すなわちホログラムマスク200cが棚部
332においてせり出しており、棚部の側面に充填液の
流出防止柵330を備えている。そして棚部332と流
出防止柵330とで囲まれる空間334に貯留されるマ
ッチングリキッドを間隙の端部から供給可能に構成され
ている。流出防止柵330はホログラムマスク200c
の周囲に貼り合わせられている。この柵はホログラムマ
スクの周囲を覆っている必要はなく、マッチングリキッ
ドを適量貯留可能ならばその一部、例えば一辺のみに設
けるようにしてもよい。
充填液供給装置230と併せて使用する場合には、例え
ば棚部332上部の空間334に対し充填液供給装置2
30における供給パイプ238からマッチングリキッド
が供給されるように構成する。流出防止策の側面に開口
を設けてここからマッチングリキッドを供給してもよ
い。またこの実施形態では空間334が上方に向けて開
口しているので、比較的楽に人手を介してスポイトなど
で充填液を補充することもできる。
体としてのマッチングリキッドの液量を上げることがで
き、マッチングリキッドを補充するための保守周期を長
くすることができ、頻繁に煩わしいマッチングリキッド
の補充をしなくて済むようになる。 (その他の変形例)本発明は、上記各実施形態に限定さ
れることなく種々に変更して適用することが可能であ
る。
ク露光装置における応用例を示したが、これに限定され
ることなく本発明は他の露光方法に利用することが可能
である。
填液を供給するための構成は実施形態の距離測定方法に
限定されることはなく公知技術を種々適用することが可
能である。
の実施形態に限定されず種々に変更して適用することが
可能である。
填する充填液の有無を判定する構成を備えたので、人手
による困難な充填液の液量検査を省き、液量が不足して
いることを自動的に判定し、必要に応じて充填液を補充
することができる。
結している部分に充填液を貯留する構造を提供したの
で、充填液の総量を上げ、充填液の補充回数を減らすこ
とができる。
装置の構成図である。
おける検査位置の配置を説明する平面図である。
ローチャートである。
おける検査位置の配置を説明する平面図である。
ローチャートである。
おける検査位置の配置を説明する平面図である。
ローチャートである。
明する図である。
明する図である。
説明する図である。
Claims (19)
- 【請求項1】 複数の光学部品間を充填する充填液の液
量を判定するための液量判定装置において、 前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち
一方の光学部品について、当該光学部品の対向面に略垂
直に検査光を射出するための検査光射出装置と、 前記対向面上における任意の前記検査位置に前記検査光
を射出させるために前記検査光射出装置を搬送するため
の搬送装置と、 前記検査光射出装置から前記対向面に向けて射出された
前記検査光の反射光に基づいて前記検査光の反射位置を
特定するための反射位置特定装置と、 前記反射位置特定装置が特定した前記反射位置に基づい
て前記検査位置における前記充填液の有無を判定するた
めの判定装置と、を備える液量判定装置。 - 【請求項2】 前記判定装置は、前記検査位置を前記対
向面の中心付近とした場合において特定された前記反射
位置が所定の条件を満たしていた場合に、対向すべき前
記一方の光学部品が装着されていないと判定する、請求
項1に記載の液量判定装置。 - 【請求項3】 前記判定装置は、前記検査位置を前記対
向面の周辺部とした場合において特定された前記反射位
置が所定の条件を満たしているか否かに基づいて、前記
充填液の液量が充分であるか否かを判定する、請求項1
に記載の液量判定装置。 - 【請求項4】 前記充填液を一対の前記光学部品間に供
給する充填液供給装置をさらに備え、 前記充填液供給装置は、前記判定装置において前記充填
液の液量が十分でないと判定された場合に、前記光学部
品間に所定量の前記充填液を供給する、請求項3に記載
の液量判定装置。 - 【請求項5】 前記判定装置は、前記対向面内における
複数の前記検査位置の各々について前記充填液の液量が
十分であるか否かを判定し、 前記充填液供給装置は、前記充填液の液量が十分でない
と判定された前記検査位置の分布に基づいて供給すべき
前記充填液の液量を決定する、請求項4に記載の液量判
定装置。 - 【請求項6】 前記判定装置は、前記対向面内における
所定の領域の周囲における複数の前記検査位置の各々に
ついて前記充填液の液量が充分であるか否かを判定し、 前記充填液供給装置は、いずれかの前記検査位置につい
て前記充填液の液量が十分でないと判断された場合に前
記充填液を供給する、請求項4に記載の液量判定装置。 - 【請求項7】 複数の光学部品間を充填する充填液を供
給するための充填液貯留装置において、 複数の前記光学部品が側面をそろえて前記充填液が充填
されるべき間隙を介して隣接している部分に設けられ、 前記充填液を溜める貯留部を有し、当該貯留部が当該部
分における前記間隙の端部に向けて開口している、前記
充填液を供給するためのタンクを備える充填液貯留装
置。 - 【請求項8】 複数の光学部品間を充填する充填液を供
給するための充填液貯留装置において、 複数の前記光学部品の側面が段違いに、かつ、前記充填
液が充填されるべき間隙を介して隣接している部分に設
けられ、 一方の前記光学部品の側面から当該段違いになっている
部分に張り出して設けられる延長板を備え、 前記延長板と前記一方の光学部品の底部と前記他方の光
学部品の側面とによって囲まれる空間内に、前記充填液
を溜めることが可能に構成されている、前記充填液を供
給するための充填貯留給装置。 - 【請求項9】 複数の光学部品間を充填する充填液を供
給するための充填液貯留装置において、 複数の前記光学部品のうち下側に配置される光学部品の
方が棚部においてせり出すように、前記充填液が充填さ
れるべき間隙を介して段違いに設けられ、 前記棚部の側面に前記充填液の流出防止柵を備え、 前記棚部と前記流出防止柵とで囲まれる空間に貯留され
る前記充填液を当該空間に開口している前記間隙の端部
から供給可能に構成されている、前記充填液を供給する
ための充填液貯留装置。 - 【請求項10】 請求項7に記載の充填液貯留装置を備
え、 前記充填液貯留装置に前記充填液供給装置から前記充填
液を供給するように構成されている、請求項4乃至6の
いずれか一項に記載の液量判定装置。 - 【請求項11】 請求項8に記載の充填液貯留装置を備
え、 前記充填液貯留装置に前記充填液供給装置から前記充填
液を供給するように構成されている、請求項4乃至6の
いずれか一項に記載の液量判定装置。 - 【請求項12】 請求項9に記載の充填液貯留装置を備
え、 前記充填液貯留装置に前記充填液供給装置から前記充填
液を供給するように構成されている、請求項4乃至6の
いずれか一項に記載の液量判定装置。 - 【請求項13】 請求項4乃至6および請求項10乃至
12のいずれか一項に記載の液量判定装置と、 前記一方の光学部品としてのホログラムマスクと、 前記ホログラムマスクに露光ビームを照射して露光領域
を露光する照射手段と、を備える露光装置。 - 【請求項14】 複数の光学部品間を充填する充填液の
液量を判定するための液量判定方法において、 前記充填液を介して対向する一対の前記光学部品のうち
一方の光学部品について、当該光学部品の対向面に略垂
直に検査光を射出するステップと、 前記対向面上における任意の前記検査位置に前記検査光
を射出させるステップと、 前記対向面に向けて射出された前記検査光の反射光に基
づいて前記検査光の反射位置を特定するステップと、 特定した前記反射位置に基づいて前記検査位置における
前記充填液の有無を判定するステップと、を備える液量
判定方法。 - 【請求項15】 前記判定するステップは、前記検査位
置を前記対向面の中心付近とした場合において特定され
た前記反射位置が所定の条件を満たしていた場合に、対
向すべき前記一方の光学部品が装着されていないと判定
する、請求項14に記載の液量判定方法。 - 【請求項16】 前記判定するステップは、前記検査位
置を前記対向面の周辺部とした場合において特定された
前記反射位置が所定の条件を満たしているか否かに基づ
いて、前記充填液の液量が充分であるか否かを判定す
る、請求項14に記載の液量判定方法。 - 【請求項17】 前記充填液を一対の前記光学部品間に
供給するステップをさらに備え、 前記判定するステップにおいて前記充填液の液量が十分
でないと判定された場合に、前記光学部品間に所定量の
前記充填液を供給するステップをさらに備える、請求項
16に記載の液量判定方法。 - 【請求項18】 前記判定するステップは、前記対向面
内における複数の前記検査位置の各々について前記充填
液の液量が十分であるか否かを判定し、 前記充填液を供給するステップは、前記充填液の液量が
十分でないと判定された前記検査位置の分布に基づいて
供給すべき前記充填液の液量を決定する、請求項17に
記載の液量判定方法。 - 【請求項19】 前記判定するステップは、前記対向面
内における所定の領域の周囲における複数の前記検査位
置の各々について前記充填液の液量が充分であるか否か
を判定し、 前記充填液を供給するステップは、いずれかの前記検査
位置について前記充填液の液量が十分でないと判断され
た場合に前記充填液を供給する、請求項17に記載の液
量判定方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002103064A JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
US10/394,034 US7073542B2 (en) | 2002-04-04 | 2003-03-24 | Liquid quantity determination unit, photolithography apparatus, and liquid quantity determination method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002103064A JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008042582A Division JP4811679B2 (ja) | 2008-02-25 | 2008-02-25 | 液量判定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003297735A true JP2003297735A (ja) | 2003-10-17 |
JP4117530B2 JP4117530B2 (ja) | 2008-07-16 |
Family
ID=29389136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002103064A Expired - Fee Related JP4117530B2 (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 液量判定装置、露光装置、および液量判定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7073542B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040103950A1 (en) | 2004-06-03 |
US7073542B2 (en) | 2006-07-11 |
JP4117530B2 (ja) | 2008-07-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050324 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120502 Year of fee payment: 4 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |