JP2003294992A - 光デバイス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】モニタリング機能を有する光デバイスの小型化
及び光ファイバアレイの高密度化を図り、更に、信号光
の減衰を抑える。 【解決手段】Ｖ溝１２に整列された光ファイバアレイ１
８において、各光ファイバ１６の端面１６ａは、基準面
に対する角度ψが６°〜４５°であって、特定の波長の
光成分を反射させる反射膜１３０が形成されている。光
ファイバ１６のコア５０を伝搬する信号光のうち、特定
の波長の光成分が端面１６ａの反射膜１３０にて反射す
る。この反射光５２は、全反射部材９２の底面からその
内部に入射され、該全反射部材９２の端面９２ａで全反
射され、更に、第２の屈折率整合層９４を介して受光素
子７０の受光面に到達される。このとき、反射光５２を
受光素子７０の受光面に対して直角に入射させることが
可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、１本の光ファイバ
あるいは複数本の光ファイバ（光ファイバアレイ）を有
する光デバイスに関し、特に、光ファイバを伝搬する信
号光をモニタする場合に好適な光デバイスに関する。

【０００２】

【従来の技術】近時、ファイバアンプを用いた波長多重
通信の発達に伴い、アンプ特性確保のため、各波長の光
量をモニタし、光量を調整した上でアンプにて増幅させ
るという方式がとられるようになってきている。

【０００３】このモニタには各種方法が知られている
が、各ファイバにモニタデバイスを搭載するため、モニ
タデバイスだけでかなりの大きさを必要としている。

【０００４】そのため、モニタデバイスの小型化、高密
度化が望まれている。また、モニタする際に、信号光の
一部を取り出すことで行うようにしているが、信号光を
大きく減衰させることなくモニタリングできるものが望
まれている。

【０００５】従来では、図２０に示すような技術が開示
されている（例えば特開２００１−２６４５９４号公報
参照）。この技術は、上面に溝２００が設けられたガラ
ス基板２０２の前記溝２００内に光ファイバ２０４を載
置固定し、ガラス基板２０２に、ダイシングソーによる
切断によって傾斜した端面２０６（傾斜端面）を形成
し、更に、前記傾斜端面２０６に金属膜による反射器２
０８を樹脂によって貼り付けるというものである。ガラ
ス基板２０２の上面には、受光素子２１０が設けられて
いる。

【０００６】これにより、光ファイバ２０４を伝搬する
信号光２１２のうち、特定の波長を有する光成分２１４
が反射器２０８で反射され、クラッド外に取り出される
ことになる。従って、この反射光２１４をガラス基板２
０２上の前記受光素子２１０にて検知することで、信号
光のモニタが可能となる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のモニタデバイスにおいては、受光素子２１０をガラ
ス基板２０２上に直接設置するようにしているため、光
ファイバ２０４のクラッド表面からガラス基板２０２の
上面（特に、受光素子２１０が設置された面）までの距
離が長くなったり、反射器２０８からの反射光２１４が
受光素子２１０の受光面に対して斜め方向に入射する場
合がある。

【０００８】反射光２１４のスポット径は、反射光２１
４の光路が長くなるにつれて、指数関数的に大きくな
る。そのため、例えばクラッド外に屈折率整合層を介し
て受光素子２１０を設置する構成を採用する場合等にお
いて、反射光２１４のスポット径が受光素子２１０の受
光面の径よりも大きくなることは十分に考えられる。

【０００９】また、受光面に対して斜め方向に入射した
場合においても、反射光２１４のスポット径が受光素子
２１０の受光面の径よりも大きくなる場合がある。この
ような場合、反射光２１４のスポットの一部が受光面か
らはみ出てしまい、反射光２１４の損失につながり、受
光感度の低下をもたらすおそれがある。また、複数の光
ファイバ２０４が配列された光ファイバアレイにおいて
は、ある光ファイバ２０４の反射光２１４が隣の光ファ
イバ２０４に対応する受光素子２１０に入射する、いわ
ゆるクロストークが発生するおそれがある。

【００１０】そこで、上述の問題を解決するために、ガ
ラス基板２０２の端面２０６の角度、即ち、鉛直面に対
する角度を大きくとって、受光素子２１０の受光面に対
する入射角度を小さくする方法も考えられる。しかし、
ガラス基板２０２の端面２０６に別の光学部品を設置す
る場合を想定したとき、この光ファイバ２０４に結合さ
れる光学部品は、小型化の要請や強度の関係から、その
端面の傾斜角を極端に大きくとることができない。

【００１１】従って、ガラス基板２０２の端面２０６の
角度を大きくとった場合、ガラス基板２０２の端面２０
６に別の光学部品を固定することは、困難性を伴うと共
に、光ファイバ２０４の端面から前記別の光学部品まで
の距離が長くなり、信号光の大幅な減衰をもたらすおそ
れがある。

【００１２】また、ガラス基板２０２の上面のうち、端
面２０６近くに受光素子を設置した場合、以下のような
問題が発生するおそれがある。つまり、ガラス基板２０
２の端面２０６に別の光学部品を設置する際には、例え
ばガラス基板２０２の端面２０６と前記別の光学部品と
をＵＶ接着剤にて固定することが考えられる。このよう
な場合に、ガラス基板２０２の端面２０６の上方から該
端面２０６に向かって紫外線を照射するようにしている
が、上述のように、端面２０６近くに受光素子２１０が
設置されていると、紫外線の照射経路に受光素子２１０
が介在することとなり、ＵＶ接着剤に紫外線が十分に照
射されず、該接着剤を硬化させることができなくなるお
それがある。

【００１３】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、モニタリング機能を有する光デバイスと
別の光学部品とを容易に結合することができ、しかも、
光デバイスに設置される光ファイバアレイの高密度化を
図ることができ、更に、信号光の減衰を抑えることがで
きる光デバイスを提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光デバイス
は、それぞれの端面に反射機能が設けられた１以上の光
ファイバと、前記反射機能によって発生した反射光の光
路上であって、かつ、前記光ファイバのクラッド外の位
置に設置された光素子と、前記反射光を、前記光素子に
対して、適正な角度で入射させる手段とを有することを
特徴とする。

【００１５】ここで、光ファイバのコアを伝搬する信号
光のうち、光ファイバの端面での反射光成分を除いた光
成分は、例えばこの光デバイスの後段に結合される他の
光学部品に入射されることになる。

【００１６】この発明では、光ファイバの端面からの反
射光が、前記光素子に対して、適正な角度で入射される
ことから、反射光のスポットの一部が光素子からはみ出
るなどの不都合は生じなくなる。

【００１７】特に、光素子の設置位置を光ファイバの端
面から遠ざけても、前記手段によって、光素子に対し
て、適正な角度で入射させることができるため、光素子
を光ファイバの端面から遠ざけた位置に設置することが
できる。その結果、光ファイバの端面とその後段に配置
される別の光学部品との間に例えばＵＶ接着剤を介在さ
せた場合を想定したとき、光ファイバの端面に対してそ
の上方から紫外線を照射した際に、前記ＵＶ接着剤に対
して紫外線が十分に照射されることから、ＵＶ接着剤に
よる結合を実現させることができる。

【００１８】また、前記反射機能は、前記光ファイバの
端面に形成され、特定の波長の光成分を反射させる反射
膜を有するようにしてもよい。この反射膜としては、い
わゆるＨＲコート膜であり、例えば酸化タンタルと酸化
珪素による多層膜で構成される。この膜の構成を任意に
設定することで反射光量と透過光量を任意に設定するこ
とが可能となる。

【００１９】前記手段は、前記光ファイバのクラッド内
に形成され、かつ、前記反射光の光路を変更する全反射
面を有するようにしてもよい。この場合、例えば光ファ
イバの端面における反射位置からクラッド内の任意の位
置に斜めスリットを入れると、反射光は、このスリット
の部分でさらに反射されることになる。斜めスリットの
角度を例えば対空気において全反射するように設定すれ
ば、光量を減衰させることなく、かつ、光素子に対して
垂直に入射させることも可能になる。その結果、光ファ
イバアレイにおけるクロストークの低減を図ることがで
き、光ファイバアレイの高密度化を実現させることがで
きると共に、光素子として受光素子を設置した場合にお
ける受光感度を向上させることができる。

【００２０】また、前記構成において、前記光ファイバ
の表面のうち、少なくとも前記反射光が取り出される部
分に屈折率整合層が形成され、前記手段は、前記光ファ
イバの外部に設置され、かつ、前記屈折率整合層を通じ
て取り出された前記反射光の光路を変更する全反射面を
有するようにしてもよい。

【００２１】この場合も、光ファイバアレイにおけるク
ロストークの低減を図ることができ、光ファイバアレイ
の高密度化を実現させることができると共に、光素子と
して受光素子を設置した場合における受光感度を向上さ
せることができる。

【００２２】光ファイバの外部に設置された全反射面を
構成する場合は、光ファイバ上に、前記屈折率整合層を
介して内部に前記反射光が入射され、かつ、空気層より
も高い屈折率を有する部材を設置する。これにより、前
記部材と前記空気層との境界面で前記全反射面を構成す
ることができる。しかも、光素子の設置位置を光ファイ
バの端面から遠ざけることができ、他の光学部品とＵＶ
接着剤にて固定する場合に有利になる。

【００２３】なお、光ファイバ上にミラー部材を設置
し、該ミラー部材の表面にて反射面を構成するようにし
てもよい。

【００２４】また、前記手段として、前記光ファイバの
外部に設置され、かつ、前記屈折率整合層を介して入射
された前記反射光を前記光素子まで導波させる導波部材
を有するようにしてもよい。この場合も、光素子の設置
位置を光ファイバの端面から遠ざけることができ、他の
光学部品とＵＶ接着剤にて固定する場合に有利になる。

【００２５】また、前記構成において、前記光ファイバ
における前記反射機能を有する端面に、屈折率整合機能
を有する接着剤を介して他の光学部品を固着するように
してもよい。

【００２６】また、前記構成において、前記光ファイバ
が載置されるＶ溝が形成された基台を有し、前記光素子
が前記基台にて支持された配線基板に実装され、前記基
台のうち、前記光ファイバの端面と対応する端面を、前
記光ファイバの端面とほぼ同一の角度で傾斜させるよう
にしてもよい。

【００２７】また、前記構成において、前記光ファイバ
のクラッドに凹部を形成し、前記凹部上に前記光素子を
設置するようにしてもよい。これにより、光ファイバの
端面から光素子までの距離を短くすることができ、光フ
ァイバアレイとした場合のクロストークを有効に低減さ
せることができる。

【００２８】また、前記構成において、前記基台は、前
記Ｖ溝の形成部分の両側において立ち上がる側壁が一体
に形成され、前記側壁の上端面に前記配線基板を、前記
光素子を前記光ファイバに向けて載置するようにしても
よい。

【００２９】通常、光ファイバ外に光素子を設置する場
合、電気配線を考慮すると、配線基板上に実装された光
素子を光ファイバ上に設置することが考えられる。単純
に、光素子を上に向けた状態で基台上に配線基板を設置
しても、クラッドの表面から光素子までの距離が長くな
り、具体的には、光ファイバと配線基板間の距離、配線
基板の厚み、配線基板から光素子までの距離の合計とな
る。そのため、上述したように、反射光の損失並びにク
ロストークが発生するおそれがある。

【００３０】しかし、本発明では、基台における側壁の
上端面に配線基板を載置する際に、前記光素子を光ファ
イバに向けて載置するようにしたので、光ファイバのク
ラッド面に光素子を近接させることが可能となり、光素
子が受光素子であれば、受光感度の向上を図ることがで
き、しかも、クロストークの低減を有効に図ることがで
きる。

【００３１】また、光ファイバ上に光素子を設置する場
合、反射光が取り出される部分に光素子を位置決めする
必要がある。このとき、光ファイバが１本で光素子が１
つの場合は、それほど問題はないが、例えば８本以上の
光ファイバが配列された光ファイバアレイの各光ファイ
バに対してそれぞれ光素子を設置する場合、各光素子の
位置決めは困難を伴う。しかし、配線基板上に光ファイ
バの配列に対応して光素子をアレイ状に配列実装し、該
配線基板を基台の側壁の上端面に載置することで、光フ
ァイバアレイの各光ファイバに対して光素子を簡単に位
置決めすることができ、位置決め精度の向上、並びに位
置決め作業の時間短縮を図ることができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光デバイスの
実施の形態例を図１〜図１９を参照しながら説明する。

【００３３】まず、第１の実施の形態に係る光デバイス
１０Ａは、図１及び図２に示すように、上面に複数（図
示の例では、８つ）のＶ溝１２がそれぞれ平行に配列さ
れた基台１４を有する。各Ｖ溝１２には、それぞれ光フ
ァイバ１６が載置固定されている。つまり、この基台１
４には、複数の光ファイバ１６が配列されてなる光ファ
イバアレイ１８が載置固定されている。

【００３４】また、基台１４上には、光ファイバアレイ
１８をＶ溝１２側に押さえ付ける押さえ基板２０が固着
されている。この押さえ基板２０は、基台１４の端面１
４ａからある程度遠ざかった位置に設置されている。

【００３５】基台１４の上面には、前記Ｖ溝１２のほ
か、光ファイバアレイ１８の被覆部２２が載置される載
置面２４が形成されている。この載置面２４には、光フ
ァイバアレイ１８の被覆部２２を固定するためのホルダ
ー２６が取り付けられる。このホルダー２６で前記被覆
部２２を保持することで、光ファイバアレイ１８がＶ溝
１２から容易に抜け出たり、裸部分と被覆部２２との間
で屈曲するなどの不都合を回避することができる。な
お、押さえ基板２０と載置面２４とで挟まれた部分２８
は、光ファイバアレイ１８が外部に露出するオープン部
２８である。

【００３６】そして、基台１４のうち、その端面１４ａ
から押さえ基板２０までの部分がモニタ部３０を構成
し、このモニタ部３０において、光ファイバアレイ１８
を伝搬する各信号光の一部がそれぞれ取り出されて例え
ば受光素子アレイ３２にて検知されることになる。受光
素子アレイ３２は、複数の受光素子が、光ファイバアレ
イ１８における光ファイバ１６の配列ピッチとほぼ同一
の配列ピッチで配列された構造を有し、図３に示すよう
に、表面に配線パターン３４が形成された配線基板３６
上に実装されている。

【００３７】また、前記基台１４は、Ｖ溝１２の形成部
分の両側において立ち上がる側壁４０が一体に形成さ
れ、これら側壁４０の上端面４２に、前記配線基板３６
が受光素子アレイ３２を光ファイバアレイ１８側に向け
て載置、固定されている。

【００３８】そして、この第１の実施の形態に係る光デ
バイス１０Ａは、図４の拡大図に示すように、基台１４
の端面１４ａと各光ファイバ１６の端面１６ａが共に、
所定の角度ψをもった傾斜端面１４ａ及び１６ａとされ
ている。前記所定の角度ψとは、光ファイバ１６におけ
る信号光の伝搬方向と直交する面を基準面（鉛直面）と
したとき、端面１４ａ及び１６ａの前記基準面に対する
角度ψをいう。

【００３９】各光ファイバ１６の端面１６ａは、反射機
能を有し、図４に示すように、特定の波長の光成分を反
射させる反射膜１３０が形成されている。本実施の形態
では、各光ファイバ１６の端面１６ａを含む基台１４の
傾斜端面１４ａの全面に反射膜１３０を形成した。ここ
で、反射膜１３０は、酸化タンタル及び酸化珪素の多層
膜とした。もちろん、各光ファイバ１６の端面１６ａの
みに反射膜１３０を形成してもよい。

【００４０】従って、光ファイバ１６のコア５０を伝搬
する信号光のうち、特定の波長の光成分が前記傾斜端面
１６ａの反射膜１３０にて特定の割合だけ反射すること
になる。この反射光５２をクラッド５４の外に屈折率整
合層を通じて取り出すことで例えば光量のモニタリング
等に使うことができる。

【００４１】また、第１の実施の形態においては、光フ
ァイバ１６上に、内部を反射光５２が透過する全反射部
材９２が設置され、更に、光ファイバ１６のクラッド５
４と全反射部材９２との間に第１の屈折率整合層５６が
形成され、全反射部材９２の上面と受光素子７０との間
に第２の屈折率整合層９４が形成されている。

【００４２】前記全反射部材９２は、空気層よりも高い
屈折率を有し、第１の屈折率整合層５６を介して内部に
反射光５２が入射されるように位置決めされている。全
反射面は、該全反射部材９２と空気層との境界面（端面
９２ａ）にて構成される。

【００４３】つまり、反射光５２は、全反射部材９２の
底面からその内部に入射され、該全反射部材９２の端面
９２ａで全反射される。全反射部材９２は空気層より屈
折率が高いため、前記端面９２ａでの全反射が可能であ
る。当然、端面９２ａの角度は全反射するだけの角度で
なくてはならない。そして、反射光５２は、第２の屈折
率整合層９４を介して受光素子７０の受光面に到達され
る。このとき、反射光５２を受光素子７０の受光面に対
して直角に入射させることも可能となる。

【００４４】好ましい条件として、前記第１の屈折率整
合層５６としては、クラッド５４で全反射しないだけの
屈折率を有すること、つまり、光ファイバ１６の屈折率
と全反射部材の屈折率の間の屈折率を有することが好ま
しい。第２の屈折率整合層９４についても同様であり、
全反射部材９２の屈折率と受光素子７０における受光面
の屈折率の間の屈折率を有することが好ましい。ちなみ
に、屈折率は、石英ファイバで１．４４、受光素子（Ｇ
ａＡｓ−フォトダイオード）の場合、３．５である。

【００４５】従って、各部材の屈折率の関係は、受光素
子７０の受光面＞第２の屈折率整合層９４＞全反射部材
９２＞第１の屈折率整合層５６＞光ファイバ１６のクラ
ッド５４となる。

【００４６】厳密には、各屈折率界面での反射が全て同
じ反射率になるように設定すると最小の反射率となる。
上記の場合、順に３．５、２．８、２．２４、１．８、
１．４４とすることで、各界面での反射は１．２％とな
り、トータルで４．９％の反射となる。反射損失にする
と、０．２２ｄＢ程度である。

【００４７】また、図４に示すように、基台１４並びに
光ファイバ１６の傾斜端面１４ａ並びに１６ａには、例
えばＵＶ接着剤１３２を介してＰＬＣなどの光学部品１
３４が結合される場合がある。この場合、光ファイバの
コア５０を伝搬する信号光のうち、傾斜端面１６ａでの
反射光成分を除いた信号光成分が光学部品１３４の導波
路１３６に再入射され、該導波路１３６を伝搬すること
となる。

【００４８】ここで、前記反射光５２における光ファイ
バ１６の光軸とのなす角（以下、反射角度θと記す）
は、反射光５２がクラッド５４の界面で全反射される程
度の角度であることが好ましい。反射光５２がクラッド
５４の界面で全反射される程度の角度とは、前記第１の
屈折率整合層５６がなければクラッド５４の界面で全反
射される程度の角度をいう。これにより、前記反射光５
２の大部分が光ファイバ１６のコア５０には戻らずに、
光ファイバ１６におけるクラッド５４の界面に向けて進
むことになる。これは、反射戻り光防止と、モニタ効率
の向上につながる。

【００４９】また、光ファイバ１６における傾斜端面１
６ａの基準面に対する角度（端面角度）ψの範囲は６°
〜４５°である。角度が小さいとコア５０への反射戻り
光が発生するため、少なくとも６°以上が好ましい。ま
た、端面角度を極端に大きくすると、光デバイス１０Ａ
が大きくなるという懸念から適正ではない。しかし、端
面角度を調整することで、受光素子７０の配置位置を任
意に設定することができるというメリットがある。これ
らのことから、端面角度ψの範囲は６°〜４５°が好ま
しい。特に、光デバイス１０Ａの小型化を図る場合は、
６°〜２０°が好ましい。なお、端面角度ψが大きいこ
とによる反射光の減衰は小さい。

【００５０】このように、第１の実施の形態に係る光デ
バイス１０Ａにおいては、光ファイバ１６の端面１６ａ
からの反射光５２が、受光素子７０の受光面に対して、
受光上、適正な角度、この実施の形態では、受光面に対
して直角に入射されることから、反射光５２のスポット
の一部が受光面からはみ出るなどの不都合は生じなくな
り、受光素子７０の感度を向上させることができる。

【００５１】特に、受光素子７０の設置位置を光ファイ
バ１６の端面１６ａから遠ざけても、全反射部材９２に
よって、受光素子７０に対して、受光上、適正な角度で
入射させることができるため、受光素子７０を光ファイ
バ１６の端面１６ａから遠ざけた位置に設置することが
できる。

【００５２】その結果、光ファイバ１６の端面１６ａと
該端面１６ａに結合される別の光学部品１３４との間に
例えばＵＶ接着剤１３２を介在させた場合を想定したと
き、光ファイバ１６の端面１６ａに対してその上方から
紫外線を照射した際に、前記ＵＶ接着剤１３２に対して
紫外線が十分に照射されることから、ＵＶ接着剤１３２
による結合を実現させることができる。

【００５３】つまり、光ファイバ１６の端面１６ａでの
反射光５２を取り出してモニタに利用するので、受光素
子７０が端面１６ａ近傍に存在する場合がある。光ファ
イバ１６の端面１６ａに受光素子７０が存在すると、こ
の部分は紫外線が通らないため、光ファイバ１６の端面
１６ａと別の光学部品１３４との結合にＵＶ接着剤１３
６が使えない等の問題を生じさせてしまう場合がある。
このため、少しでも受光素子７０は光ファイバ１６の端
面１６ａから遠ざかった位置に設置した方が好ましい場
合がある。

【００５４】この第１の実施の形態では、全反射部材９
２を利用していることから、受光素子７０を光ファイバ
１６の端面１６ａからある程度距離を置いて設置するこ
とが可能となる。この場合、数百μｍの距離を確保する
ことが可能である。

【００５５】ＵＶ硬化時の紫外線の透過を考慮すると、
紫外線の透過のための間隔として、光ファイバ１６の端
面１６ａから１００μｍ以上の間隔が必要となる。この
間隔の確保は、全反射部材９２の厚みと長さで調整する
ことができる。

【００５６】なお、例えば設置スペース上等の問題で、
全反射部材９２の厚みに制約がある場合は、図５に示す
ように、全反射部材９２の中で、反射光５２の全反射を
繰り返させ、その上で受光素子７０に入射させてやれ
ば、薄い全反射部材９２でも、光ファイバ１６の端面１
６ａから受光素子７０の設置位置までの距離（間隔）を
確保することが可能となる。

【００５７】また、光ファイバ１６の端面１６ａから発
生した反射光５２の光路上には、光導波路のような光の
閉じこめを行う手段が存在しないため、ある広がりをも
ってクラッド５４等を通じて受光素子７０までの間を伝
搬する。このため、モニタリングを考えた場合、上述し
たように、光ファイバ１６のクラッド５４から受光素子
７０までの距離が長いと、反射光５２の広がりが大きく
なり、そのスポット径が受光素子７０の受光面の径を超
えれば損失になるだけでなく、光ファイバアレイ１８を
構成する光ファイバ１６が例えば２５０μｍピッチや、
更には１２７μｍピッチといった狭いピッチ間隔で並ん
でいると、クロストークという問題も発生する。

【００５８】このため、光ファイバ１６から受光素子７
０までの距離は極力短いことが必要となる。この１つの
手段として、受光素子７０を極力光ファイバ１６まで近
接させることが好ましい。この場合、受光素子７０を駆
動する電気回路が配線され、かつ、受光素子７０が実装
された配線基板３６をセットする際に、受光素子７０を
いかに光ファイバ１６に近接させるかという問題が発生
する。

【００５９】この問題を解決するために、この第１の実
施の形態では、図１に示すように、配線基板３６の裏面
３６ａを上方に向け、受光素子アレイ３２が実装された
面３６ｂを下方に向けて、この配線基板３６を基台１４
上に設置するようにしている。これは、いわゆるフリッ
プチップ実装により実現されることとなる。

【００６０】また、例えば４０チャネルといったチャネ
ル数の多い光ファイバアレイ１８を考えた場合、受光素
子アレイ３２もそれに対応して長くなることは必須であ
る。この長い受光素子アレイ３２を正確に光ファイバア
レイ１８の近傍にどのように設置するかという問題も生
じる。

【００６１】この問題を解決するために、この第１の実
施の形態では、光ファイバアレイ１８に用いる基台１４
の両側に、配線基板３６を設置するための設置面４２を
有する側壁４０を設けるようにしている。この側壁４０
の上端面（設置面４２）を基準に受光素子アレイ３２を
設置することで、受光素子７０と光ファイバ１６との位
置合わせ（高さ方向）が容易になる。

【００６２】前記側壁４０の上端面（設置面４２）は、
Ｖ溝１２の存在する面（Ｖ溝上面）と、ある角度をもっ
て連続してつながるようにしておけば、特開平２−９６
６０９号公報に開示された高精度な接触式測定方法を用
いて、光ファイバ１６の中心位置（Ｖ溝１２の仮想円中
心）と設置面４２の位置関係を正確に把握することがで
き、高精度な位置合わせが容易となる。

【００６３】このような設置面４２を使用しないで、例
えばアクティブに位置を合わせをしようとすると、１２
７μｍピッチの４０チャネル受光素子アレイの場合、受
光素子アレイそのものの長さが０．３ｍｍ程度なのに対
して、幅が５ｍｍ程度にもなるため、このような長細い
形状のものを光ファイバアレイ１８と平行に設置するこ
とは非常に困難となる。

【００６４】従って、第１の実施の形態のように、基台
１４に設けられた側壁４０の上端面（設置面４２）を基
準として受光素子アレイ３２を設置することが好まし
い。また、この設置面４２に挟まれた部位に押さえ基板
２０や受光素子アレイ３２を設置することになるため、
特開平９−１２００１４号公報に記載のように、高い信
頼性をもって押さえ基板２０や受光素子アレイ３２を設
置することができる。

【００６５】次に、第２の実施の形態に係る光デバイス
１０Ｂについて図６を参照しながら説明する。

【００６６】この第２の実施の形態に係る光デバイス１
０Ｂは、上述した第１の実施の形態に係る光デバイス１
０Ａとほぼ同様の構成を有するが、光ファイバ１６の外
部に、ミラー部材９０が設置されている点で異なる。こ
のミラー部材９０のミラー表面９０ａは、屈折率整合層
５６を通じて取り出された反射光５２の光路を変更する
反射面を構成している。

【００６７】反射光５２はミラー部材９０の内部を伝搬
せず、ミラー表面９０ａにて全反射して受光素子７０の
受光面まで到達する。この場合も、クラッド５４の界面
での全反射防止のために、屈折率整合層５６を設ける必
要がある。反射光５２はこの屈折率整合層５６内を伝搬
し、かつ、ミラー面９０ａで反射するため、この屈折率
整合層５６の屈折率は２．４４が最適である。

【００６８】なお、ミラー部材９０としては、例えばガ
ラス基板の表面に反射膜を形成した一般的なミラー部材
を使用することができる。

【００６９】この第２の実施の形態に係る光デバイス１
０Ｂにおいても、受光素子７０を設置した場合における
受光感度を向上させることができる。また、他の光学部
品１３４との結合においてＵＶ接着剤１３２を用いる場
合に、光ファイバ１６の端面１６ａから受光素子７０ま
での間隔として、紫外線を透過させるに十分な距離を確
保することができる。

【００７０】次に、第３の実施の形態に係る光デバイス
１０Ｃについて図７を参照しながら説明する。

【００７１】この第３の実施の形態に係る光デバイス１
０Ｃは、光ファイバ１６のクラッド５４内に、反射光５
２の光路を変更する全反射面８０が形成されている点で
特徴を有する。

【００７２】つまり、光ファイバ１６に、前記反射膜１
３０とは別に、反射光５２が全反射するための低屈折率
層（全反射層８２）を設ける。図７の例では、光ファイ
バ１６のクラッド５４内における反射光５２の光路上に
反射光５２が全反射するに必要な角度のスリット８２を
設けるようにしている。この全反射層８２は、空気層と
なるので、屈折率１．４４のクラッド５４から入射した
反射光５２は屈折率１の空気層で全反射が可能となる。
反射光５２の反射角度θが１６°の場合、このスリット
８２に必要な角度（基準面（鉛直面）とのなす角）は２
８°である。

【００７３】但し、反射光５２の受光素子７０への入射
角は０°であることが最良であるため、これを実現する
スリット角がより好ましい。図７の例では、３７°であ
る。

【００７４】なお、光ファイバ１６に直接スリット８２
を設けると、加工状態によってはマイクロクラック等が
発生するおそれがあるため、長期信頼性に問題を生じる
おそれもある。このため、スリット８２に低屈折率の接
着剤を充填するなどの工夫を施せば、上述のような問題
の発生を低減することができる。

【００７５】この場合も、反射光５２が取り出される部
分と受光素子７０との間に屈折率整合層５６を設けた方
が屈折率界面での反射を考慮すると好ましい。屈折率整
合層５６を設けずに空気層とした場合、光ファイバ１６
から空気、空気から受光素子７０となるため、約３０％
は反射で損失することとなる（損失１．５５ｄＢ）。こ
の反射損失の観点からすると、各屈折率界面での反射が
全て同じ反射率になるように設定すれば、最小の反射率
となり、最適といえる。この場合、屈折率２．４４の屈
折率整合層５６を設けることでトータル約９．５％の反
射となり、反射損失は０．４４ｄＢである。

【００７６】このように、第３の実施の形態に係る光デ
バイス１０Ｃにおいては、光ファイバ１６のクラッド５
４内に、反射光５２の光路を変更する全反射面８０を形
成するようにしているため、反射光５２の光路、例えば
光ファイバ１６の端面１６ａから屈折率整合層５６まで
の光路を短くすることが可能となり、しかも、反射光５
２を受光素子７０の受光面に対して直角に入射させるこ
とも可能となる。これにより、光ファイバアレイ１８に
おけるクロストークの低減を図ることができ、光ファイ
バアレイ１８の高密度化を実現させることができると共
に、受光素子７０を設置した場合における受光感度を向
上させることができる。

【００７７】この第３の実施の形態では、光ファイバ１
６の端面１６ａから受光素子７０までの距離として１０
０μｍ程度しか確保できない。この場合、図７に示すよ
うに、例えば光ファイバ１６の端面１６ａに結合される
光学部品１４０が、導波路１４２を有するシリコン基板
だとすると、シリコン基板も紫外線を通すことができな
いため、ＵＶ接着剤１３２に十分に紫外線を照射させる
ことができなくなる場合がある。

【００７８】しかし、以下のように、例えばピグテール
の形態によって問題を回避することができる。

【００７９】即ち、図７に示すように、光学部品１４０
の上部に透明のヤトイ（図示せず）を使用するか、ヤト
イなどのような治具もない状態にすれば、光ファイバ１
６のコア５０より上部については光学部品１４０の上方
から光ファイバ１６の端面１６ａに向けて紫外線を照射
し（矢印Ａ参照）、光ファイバ１６のコア５０より下部
については基台１４の裏面側から光ファイバ１６の端面
１６ａに向けて紫外線を照射することで（矢印Ｂ参
照）、光ファイバ１６の端面１６ａと光学部品１４０と
の間のＵＶ接着剤１３２を硬化させることができる。こ
の場合、当然、基台１４自体は透明であることが必要と
なる。

【００８０】次に、第１の実施の形態に係る光デバイス
１０Ａを作製する方法の実施例について図１〜図４並び
に図８を参照しながら説明する。

【００８１】まず、図８のステップＳ１において、基台
１４、配線基板３６及び全反射部材９２を準備する（図
１〜図４参照）。

【００８２】この場合、基台１４は、複数のＶ溝１２と
側壁４０が一体に形成されたものを準備した。配線基板
３６にはアルミナを採用し、厚み１ｍｍとした。受光素
子７０（図４参照）としては、厚み２００μｍのフォト
ダイオードを用いた。全反射部材９２には、厚み３００
μｍ、屈折率２．２のガラスを用いた。

【００８３】加工精度等を考慮し、光ファイバアレイ１
８と受光素子アレイ３２の間隔が３２０μｍになるよう
に基台１４の側壁４０の設置面４２の高さを設定した。
また、光ファイバ１６の頂部がＶ溝１２の上面から５０
μｍ程度はみ出るようなＶ溝深さに設定した。

【００８４】その後、図８のステップＳ２において、Ｖ
溝１２に光ファイバ１６を載置した。その後、ステップ
Ｓ３において、図２に示すように、基台１４上に押さえ
基板２０を載置した後、光ファイバアレイ１８をＶ溝１
２に対して押さえ付けるように加重をかけ、光ファイバ
アレイ１８の先端部分に対して第１の屈折率整合層５６
として用いられる接着剤を供給した。このときの接着剤
には屈折率１．８のものを用いた。

【００８５】続いて、ステップＳ４において、押さえ基
板２０と基台１４の隙間を通じて、あるいは押さえ基板
４０に形成された図示しない接着剤注入口を通じて接着
剤を供給し、硬化した。

【００８６】その後、ステップＳ５において、基台１４
の端面１４ａ並びに各光ファイバ１６の端面１６ａに対
して研磨を施した。研磨の角度によって反射光５２の光
路が変化するため、各光ファイバ１６の端面１６ａから
クラッド５４外に反射光５２が取り出される部分までの
距離が、設計上、必要な距離になるように研磨した。本
実施例では、前記距離が３８０μｍになるように、基台
１４の端面１４ａ並びに各光ファイバ１６の端面１６ａ
に対して研磨を施した。端面角度、即ち、各光ファイバ
１６における端面１６ａの基準面に対する角度ψを８°
とした。

【００８７】次に、図８のステップＳ６において、基台
１４の端面１４ａ並びに各光ファイバ１６の端面１６ａ
に対して反射膜１３０（ハーフミラー）の形成を行っ
た。反射光１０％、透過光９０％となるシリコン酸化膜
とチタン酸化膜の多層膜を、前記基台１４の端面１４ａ
並びに各光ファイバ１６の端面１６ａに蒸着にて形成し
た。

【００８８】続いて、ステップＳ７において、全反射部
材９２の設置を行った。第１の屈折率整合層５６として
用いる接着剤に屈折率１．８のものを使用することを前
提に、全反射部材９２の端面９２ａの角度（基準面（鉛
直面）とのなす角）は１９°とした。これにより、その
後に設置される受光素子７０の受光面への反射光５２の
入射角は０°となる。

【００８９】また、光ファイバ１６の端面１６ａから約
１７０μｍのところにおいて、反射光５２がクラッド５
４から抜けるので、全反射部材９２の長さを２００μｍ
とし、反射光５２がクラッド５４から抜ける位置がこの
全反射部材９２の前面９２ｂ（図４参照）から１５０μ
ｍの位置となるように設定した。

【００９０】反射光５２がクラッド５４から抜ける位置
に確実に第１の屈折率整合層５６が形成されるように屈
折率１．８のＵＶ接着剤（第１の屈折率整合層５６とし
て用いる接着剤）にて全反射部材９２を固定した。各光
ファイバ１６の端面１６ａを観察しながら位置決めを行
ったので、各チャネルに対し、ばらつきのない状態で全
反射部材９２を設置することができた。

【００９１】その後、図８のステップＳ８において、受
光素子アレイ３２の設置を行った。この工程は、まず、
全反射部材９２の後端部（端面９２ａ側の部分）を画像
で認識し、配線基板３６に実装された受光素子アレイ３
２を位置決めした。このとき、光ファイバアレイ１８の
先端から波長１．５５μｍのレーザ光を入射しておき、
出射される反射光５２を受光素子アレイ３２で受け、該
受光素子アレイ３２の出力をモニタしながら、出力が最
大となるように設置位置を微調整した。このとき、受光
素子アレイ３２のうち、１チャネルと８チャネルの受光
素子７０の出力をモニタしながら調整を行った。受光素
子７０の出力のモニタは、配線基板３６上に形成された
配線パターン３４にプローブを当てて、検出した。

【００９２】受光素子アレイ３２の高さ方向は、配線基
板３６を基台１４の側壁４０の上端面（設置面４２）に
設置させるようにしたので、全反射部材９２から２０μ
ｍの位置に設置された。このとき、配線基板３６と設置
面４２の間に熱硬化型の接着剤を塗布しておいた。そし
て、全反射部材９２と受光素子アレイ３２間の２０μｍ
のギャップに第２の屈折率整合層９４となる屈折率２．
８のＵＶ接着剤を充填し、紫外線を照射して硬化させ
た。

【００９３】その後、ステップＳ９において、光ファイ
バアレイ１８を含む基台１４全体を８０℃に加熱し、Ｕ
Ｖ接着剤の熱養生と熱硬化型接着剤の硬化を同時に行っ
た。

【００９４】最後に、図８のステップＳ１０において、
検査を行った。反射光５２（モニタリング光）として
は、１３ｄＢの光を確認した。チャネル間のクロストー
クは４０ｄＢと良好であった。光ファイバ１６のコア５
０を伝搬する信号光の損失は反射光成分の減衰を含め１
ｄＢの損失であり、問題ない結果を得た。

【００９５】そして、上述の工程を踏むことにより、８
心２５０μｍピッチのファイバアレイを有するモニタリ
ング機能付き光デバイス（第１の実施の形態に係る光デ
バイス１０Ａ）が完成した。

【００９６】この場合、押さえ基板２０が設置された部
分の長さが３ｍｍ、モニタ部３０の長さが３ｍｍ、載置
面２４の長さが３ｍｍ、オープン部２８の長さが２ｍｍ
であって、全長１１ｍｍと小型に作製することができ
た。厚みは、基台１４、押さえ基板２０とも１．５ｍｍ
であり、幅は５ｍｍとした。

【００９７】上述の第１〜第３の実施の形態に係る光デ
バイス１０Ａ〜１０Ｃにおいては、光ファイバ１６のク
ラッド５４上に屈折率整合層５６を介して受光素子７０
を設置するようにしたが、その他、クラッド５４の一部
を削り、その削った部分に受光素子７０を設置するよう
にしてもよい。

【００９８】以下、その構成を採用した第４の実施の形
態に係る光デバイス１０Ｄについて図９〜図１９を参照
しながら説明する。

【００９９】この第４の実施の形態に係る光デバイス１
０Ｄは、図９に示すように、光ファイバ１６のクラッド
５４のうち、受光素子７０（図１０参照）が設置される
部分に削り込み加工を施して、例えば底面１１０ａが平
坦な凹部１１０（削り部分）を設け、更に、図１０に示
すように、該凹部１１０に受光素子７０を屈折率整合層
５６（接着剤層）を介して設置している点で特徴を有す
る。これにより、光ファイバの端面１６ａから受光素子
７０の受光面までの距離を短くすることができる。

【０１００】図９及び図１０では、凹部１１０の底面１
１０ａを光ファイバ１６の端面１６ａまで連続して形成
した例を示している。もちろん、図１１に示すように、
凹部１１０を光ファイバ１６の端面１６ａから遠ざけた
位置に形成するようにしてもよい。この場合、上述した
ように、ＵＶ接着剤を硬化させる目的で紫外線を透過さ
せる際に有利になる。

【０１０１】この第４の実施の形態に係る光デバイス１
０Ｄの効果としては、以下のものが挙げられる。

【０１０２】まず、第１に、１２７μｍピッチ等のよう
に狭い間隔の光ファイバアレイ１８の場合、受光素子７
０の受光面積を小さくする必要から、反射光５２のスポ
ット径が限られることと、配列ピッチが狭いため、他の
チャネルに光が入るというクロストークの発生が問題と
なるが、この第４の実施の形態では、クラッド５４に凹
部１１０を設け、該凹部１１０に受光素子７０を設置し
たことから、光ファイバ１６の端面１６ａから受光素子
７０の受光面までの距離を短くすることができ、反射光
５２における受光素子７０の受光面でのスポット径を小
さくすることができる。これは、クロストークの低減に
有効となる。

【０１０３】第２に、削り込みによって形成された前記
凹部１１０における内壁１１０ｂ（図９参照）を、受光
素子７０の設置上の基準とすることで、受光素子７０
（並びに受光素子アレイ３２）の光軸方向に対するパッ
シブアライメントが可能となる。通常、受光素子７０
（並びに受光素子アレイ３２）を設置する場合、受光素
子７０からの光をモニタしながら光ファイバ１６との光
軸合わせ（信号光の出力が最も強く観測される位置を見
つけること）を行って設置するようにしているが、前記
凹部１１０における内壁１１０ｂを設置上の基準とする
ことで、上述のような信号光出力のモニタの手間をなく
すことができ、受光素子７０（並びに受光素子アレイ３
２）の設置にかかる時間の短縮、工程の簡略化を図るこ
とができる。

【０１０４】第３に、光ファイバ１６の上部における反
射光５２の損失要因の除去が可能となる。即ち、例えば
図１２Ａに示すように、Ｖ溝１２に屈折率整合層を構成
しない接着剤１１２を用いて光ファイバ１６を固定した
場合を想定する。この場合、光ファイバ１６のクラッド
５４上に接着剤１１２が残留すると、この残留した接着
剤（残留接着剤１１２ａ）の上部に屈折率整合層５６を
介して受光素子７０が設置されることになるが、クラッ
ド５４と残留接着剤１１２ａとの界面並びに残留接着剤
１１２ａと屈折率整合層５６との界面にて反射光５２の
出力が弱められることとなる。

【０１０５】一方、この第４の実施の形態では、クラッ
ド５４に対する削り込みによって、該クラッド５４に凹
部１１０を設けることから、図１２Ｂに示すように、凹
部１１０の底面１１０ａに接着剤が残留するということ
がない。そのため、凹部１１０の底面１１０ａ上に屈折
率整合層５６を介して受光素子７０を設置しても、前記
接着剤１１２による反射光５２の損失は発生しない。

【０１０６】第４に、熱変動に対しても、受光素子７０
にて安定に受光を行うことができる。即ち、削り込みに
よって凹部１１０を形成すると、受光素子７０が設置さ
れる部分（凹部１１０の底面１１０ａ）が平坦面を有す
る構造となる。

【０１０７】従って、図１０に示すように、凹部１１０
の底面１１０ａ上に屈折率整合層５６を介して受光素子
７０を設置する場合や、後述する第２の具体例のように
（図１６及び図１７参照）、凹部１１０の底面に第１の
屈折率整合層５６を介して導波部材１２０を設置し、更
に、該導波部材１２０上に第２の屈折率整合層９４を介
して受光素子７０を設置する場合等において、凹部１１
０の底面１１０ａ上に設けられる屈折率整合層５６（第
１の屈折率整合層）の厚みを前記凹部１１０の底面１１
０ａ上において均一とすることができる。

【０１０８】通常、円柱状の光ファイバ１６上に屈折率
整合層５６を介して受光素子７０を設置する場合、図１
３Ａに示すように、受光素子７０の受光面をほぼ水平に
維持して設置する。ここで、受光素子７０の受光面の中
心線（光ファイバ１６の光軸に沿った線）を考えたと
き、その中心線から左右に向かうほど屈折率整合層５６
の厚みが大きくなる。屈折率整合層５６として使用され
る接着剤は、熱膨張係数が２００〜３００×１０^-7［１
／℃］と大きいために、屈折率整合層５６として用いら
れる接着剤の厚みが不均一な場合、熱変動による応力不
均一が無視できない場合がある。このような応力不均一
状態においては、その屈折率分布も不均一となる場合が
あると想定される。

【０１０９】この課題は、接着剤の硬化条件（方法）等
で回避することも可能であるが、有効な手段の１つとし
ては、この第４の実施の形態に係る光デバイス１０Ｄの
ように、削り込みによってクラッド５４に凹部１１０を
形成することにより、図１３Ｂに示すように、屈折率整
合層５６として用いる接着剤の厚みを均一にすることが
挙げられる。

【０１１０】ここで、その他の好ましい態様について説
明する。削り込みを行う位置については、特に限定され
るものではないが、光ファイバ１６の端面１６ａから受
光素子７０の受光中心までの距離が５ｍｍの範囲になる
位置であることが望ましい。これは光ファイバ１６の端
面１６ａから受光位置までの距離が大きくなるほど反射
モニタ光の受光パワーが減衰してしまうためである。

【０１１１】削り込み量については、直径１２５μｍの
シングルモードファイバの場合、光ファイバ１６の上端
部から最小で２１μｍ、最大で５５μｍとすることが望
ましい。

【０１１２】削り込み量の最小値については、反射光５
２のスポット径が約１０μｍにおいて損失要因の影響を
受けないことを考慮すると、直径１２５μｍファイバの
場合、凹部１１０の底面１１０ａの幅が最低１０μｍに
なるように、最小で２１μｍの削り量とすることが好ま
しい。

【０１１３】また、光ファイバ１６におけるコア５０の
周囲には、コア５０の内部での全反射による漏れ光が周
囲２μｍ程度存在している。この範囲まで削り込みを行
ってしまうと、コア５０を伝搬する信号光まで取り出し
てしまうことになり、信号光の損失要因となる。従っ
て、削り込みの最大値はこの漏れ光の範囲に及ばないこ
とが好ましい。例えば直径１２５μｍシングルモードフ
ァイバの場合、５５μｍまで削り込みを行うことができ
る。

【０１１４】次に、第４の実施の形態に係る光デバイス
１０Ｄにおいて、凹部１１０に受光素子７０を設置する
いくつかの形態（具体例）について説明する。

【０１１５】まず、第１の具体例に係る光デバイス１０
Ｄａは、図１４及び図１５に示すように、凹部１１０の
底面１１０ａに屈折率整合層５６を介して受光素子７０
を設置することが挙げられる。この場合、コア５０から
凹部１１０の底面１１０ａまでの最短距離ｄは２μｍ以
上であり、屈折率整合層５６の厚みｔは３μｍ未満が好
ましい。

【０１１６】次に、第２の具体例に係る光デバイス１０
Ｄｂは、図１６及び図１７に示すように、凹部１１０の
底面１１０ａに第１の屈折率整合層５６を介して導波部
材１２０を設置し、更に、該導波部材１２０上に第２の
屈折率整合層９４を介して受光素子７０を設置する。導
波部材１２０としては、ガラスや高分子材料が挙げられ
る。

【０１１７】この第２の具体例に係る光デバイス１０Ｄ
ｂは、コア５０の近傍まで削り込みを行って凹部１１０
を形成する場合に好ましい。即ち、光ファイバ１６のよ
うな導波路は、その実効屈折率により、光の伝搬形態が
決定される。コア５０の近傍に受光素子７０のような屈
折率の大きな物質が配置されると、このコア５０におけ
る光の伝搬形態に影響を及ぼす場合がある。このような
影響が懸念される場合は、この第２の具体例に示すよう
に、凹部１１０の直上にガラスや高分子材料にて構成さ
れた導波部材１２０を屈折率整合層５６を介して配置す
ればよい。

【０１１８】次に、第３の具体例に係る光デバイス１０
Ｄｃは、図１８及び図１９に示すように、上述した第１
の具体例に係る光デバイス１０Ｄａとほぼ同様の構成を
有するが、屈折率整合層５６の厚みｔが３μｍ以上であ
る点で異なる。この第３の具体例においては、コア５０
の近傍に受光素子７０を設置する場合の影響の懸念を払
拭したい場合で、かつ、第２の具体例に示すような導波
部材１２０を設置することが困難な場合に有効である。

【０１１９】これら第１〜第３の具体例に係る光デバイ
ス１０Ｄａ〜１０Ｄｃにおいては、凹部１１０と受光素
子７０間、あるいは凹部１１０と導波部材１２０間に屈
折率整合層５６を介在させるようにしているが、これら
の場合、屈折率整合層５６として機能する接着剤を用い
ることが挙げられる。一般に、接着剤の厚みを制御する
こと、特に、薄く制御することは容易ではないが、厚く
することは容易である。従って、第３の具体例に係る光
デバイス１０Ｄｃにおいては、製造の簡単化においても
有利となる。

【０１２０】上述の第４の実施の形態に係る光デバイス
１０Ｄ並びに第１〜第３の具体例に係る光デバイス１０
Ｄａ〜１０Ｄｃにおいては、光ファイバ１６の端面１６
ａにＵＶ接着剤１３２を介して他の光学部品１４０（図
７参照）を結合させる場合、上述した第３の実施の形態
に係る光デバイス１０Ｃと同様に、光ファイバ１６のコ
ア５０より上部については光学部品１４０の上方から光
ファイバ１６の端面１６ａに向けて紫外線を照射し（矢
印Ａ参照）、光ファイバ１６のコア５０より下部につい
ては基台１４の裏面側から光ファイバ１６の端面１６ａ
に向けて紫外線を照射することで（矢印Ｂ参照）、光フ
ァイバ１６の端面１６ａと光学部品１４０との間のＵＶ
接着剤１３２を硬化させることができる。

【０１２１】なお、この発明に係る光デバイスは、上述
の実施の形態に限らず、この発明の要旨を逸脱すること
なく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

【０１２２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光デ
バイスによれば、モニタリング機能を有する光デバイス
と別の光学部品とを容易に結合することができ、しか
も、光デバイスに設置される光ファイバアレイの高密度
化を図ることができ、更に、信号光の減衰を抑えること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態に係る光デバイスを正面から
見て示す断面図である。

【図２】第１の実施の形態に係る光デバイスを側面から
見て示す断面図である。

【図３】受光素子アレイが実装された配線基板を示す説
明図である。

【図４】第１の実施の形態に係る光デバイスにおけるモ
ニタ部の一例を示す拡大図である。

【図５】第１の実施の形態に係る光デバイスにおけるモ
ニタ部の他の例を示す拡大図である。

【図６】第２の実施の形態に係る光デバイスにおけるモ
ニタ部の一例を示す拡大図である。

【図７】第３の実施の形態に係る光デバイスにおけるモ
ニタ部の一例を示す拡大図である。

【図８】実施例に係る製造方法を示す工程ブロック図で
ある。

【図９】第４の実施の形態に係る光デバイスにおいて、
クラッドに凹部を形成した状態を示す説明図である。

【図１０】第４の実施の形態に係る光デバイスを側面か
ら見て示す断面図である。

【図１１】クラッドの他の部分に凹部を形成した状態を
示す説明図である。

【図１２】図１２Ａはクラッド上に残留する接着剤の影
響を示す説明図であり、図１２Ｂは凹部による効果を示
す説明図である。

【図１３】図１３Ａは円柱状の光ファイバ上に屈折率整
合層を形成した場合の影響を示す説明図であり、図１３
Ｂは凹部による効果を示す説明図である。

【図１４】第１の具体例に係る光デバイスを側面から見
て示す断面図である。

【図１５】図１４におけるＸＶ−ＸＶ線上の断面図であ
る。

【図１６】第２の具体例に係る光デバイスを側面から見
て示す断面図である。

【図１７】図１６におけるＸＶＩＩ−ＸＶＩＩ線上の断
面図である。

【図１８】第３の具体例に係る光デバイスを側面から見
て示す断面図である。

【図１９】図１８におけるＸＩＸ−ＸＩＸ線上の断面図
である。

【図２０】従来例に係るモニタデバイスの構成を示す斜
視図である。

【符号の説明】

１０Ａ〜１０Ｄ、１０Ｄａ〜１０Ｄｃ…光デバイス １２…Ｖ溝 １４…基台 １４ａ…端面（傾斜端面） １６…光ファイバ １６ａ…端面（傾斜端面） １８…光ファイバアレ
イ ２０…押さえ基板 ３２…受光素子アレイ ３６…配線基板 ４０…側壁 ４２…設置面 ５０…コア ５２…反射光 ５４…クラッド ５６…屈折率整合層（第１の屈折率整合層） ７０…受光素子 ８０…全反射面 ９０…ミラー部材 ９２…全反射部材 ９４…第２の屈折率整合層 １１０…凹部 １２０…導波部材 １３０…反射膜 １３２…ＵＶ接着剤 １３４、１４０…光学
部品

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H037 AA01 BA02 BA11 CA00 CA09 CA10 CA37 DA03 DA04 DA12 DA17

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】それぞれの端面に反射機能が設けられた１
   以上の光ファイバと、 前記反射機能によって発生した反射光の光路上であっ
   て、かつ、前記光ファイバのクラッド外の位置に設置さ
   れた光素子と、 前記反射光を、前記光素子に対して、適正な角度で入射
   させる手段とを有することを特徴とする光デバイス。
2. 【請求項２】請求項１記載の光デバイスにおいて、 前記反射機能は、前記光ファイバの端面に形成され、特
   定の波長の光成分を反射させる反射膜を有することを特
   徴とする光デバイス。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載の光デバイスにおい
   て、 前記手段は、前記光ファイバのクラッド内に形成され、
   かつ、前記反射光の光路を変更する全反射面を有するこ
   とを特徴とする光デバイス。
4. 【請求項４】請求項１〜３のいずれか１項に記載の光デ
   バイスにおいて、 前記光ファイバの表面のうち、少なくとも前記反射光が
   取り出される部分に屈折率整合層が形成され、 前記手段は、前記光ファイバの外部に設置され、かつ、
   前記屈折率整合層を通じて取り出された前記反射光の光
   路を変更する全反射面を有することを特徴とする光デバ
   イス。
5. 【請求項５】請求項４記載の光デバイスにおいて、 前記光ファイバ上に、前記屈折率整合層を介して内部に
   前記反射光が入射され、かつ、空気層よりも高い屈折率
   を有する部材が設置されていることを特徴とする光デバ
   イス。
6. 【請求項６】請求項５記載の光デバイスにおいて、 前記全反射面は、前記部材と前記空気層との境界面にて
   構成されていることを特徴とする光デバイス。
7. 【請求項７】請求項１〜４のいずれか１項に記載の光デ
   バイスにおいて、 前記光ファイバの表面のうち、少なくとも前記反射光が
   取り出される部分に屈折率整合層が形成され、 前記手段は、前記光ファイバの外部に設置され、かつ、
   前記屈折率整合層を介して入射された前記反射光を前記
   光素子まで導波させる導波部材を有することを特徴とす
   る光デバイス。
8. 【請求項８】請求項１〜７のいずれか１項に記載の光デ
   バイスにおいて、 前記光ファイバにおける前記反射機能を有する端面に、
   屈折率整合機能を有する接着剤を介して他の光学部品が
   固着されていることを特徴とする光デバイス。
9. 【請求項９】請求項１記載の光デバイスにおいて、 前記光ファイバが載置されるＶ溝が形成された基台を有
   し、 前記光素子が前記基台にて支持された配線基板に実装さ
   れ、 前記基台のうち、前記光ファイバの端面と対応する端面
   が、前記光ファイバの端面とほぼ同一の角度で傾斜して
   いることを特徴とする光デバイス。
10. 【請求項１０】請求項９記載の光デバイスにおいて、 前記光ファイバのクラッドに凹部が形成され、 前記凹部上に前記光素子が設置されていることを特徴と
    する光デバイス。
11. 【請求項１１】請求項９又は１０記載の光デバイスにお
    いて、 前記基台は、前記Ｖ溝の形成部分の両側において立ち上
    がる側壁が一体に形成され、 前記側壁の上端面に前記配線基板が前記光素子を前記光
    ファイバに向けて載置されていることを特徴とする光デ
    バイス。