JP2003294920A

JP2003294920A - 反射鏡

Info

Publication number: JP2003294920A
Application number: JP2002095889A
Authority: JP
Inventors: Junichi Nakaho; 純一仲保; Noriyuki Takai; 典之高井; Hiroshi Yoshida; 浩吉田; Norie Fukui; 紀江福井; Takenobu Sakai; 酒井　　武信; Masayuki Ichiyanagi; 昌幸一柳
Original assignee: Tokai Rika Co Ltd; Toyota Motor Corp
Current assignee: Tokai Rika Co Ltd; Toyota Motor Corp
Priority date: 2002-03-29
Filing date: 2002-03-29
Publication date: 2003-10-15

Abstract

(57)【要約】【課題】安価なコストで二重像等が生じ難く品質が高
い反射鏡を得る。【解決手段】光触媒性親水膜１６は、光触媒性親水膜
１６の基本成分である二酸化珪素を有する溶質を溶剤中
に溶かし込むと共に、光触媒粒子１８を混合した被膜原
液をガラス基板１２の表面上に塗布若しくは滴下した状
態で、ガラス基板１２を回転させることで被膜原液をガ
ラス基板１２の表面全体に薄く広げられ、更に、焼成処
理することで形成される。このため、真空蒸着やスパッ
タに比べて製造コストが安価になる。また、光触媒粒子
１８が混合されているものの、基本的に光触媒性親水膜
１６は二酸化珪素で形成されるため、屈折率が小さい。
これにより、光の干渉等が軽減若しくは防止され、所謂
「二重像」の発生等を軽減若しくは防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光を反射する反射
鏡に係り、特に、車両の室外に取り付けられるドアミラ
ーやフェンダーミラー等の屋外での使用に好適な反射鏡
に関する。

【０００２】

【従来の技術】車両には、左右両後方側を確認するため
の所謂ドアミラー（アウタービューミラーと称する場合
もある）と称される反射鏡が設けられている。また、近
年、このような反射鏡では、二酸化珪素（ＳｉＯ₂）の
層と二酸化チタン（ＴｉＯ₂）の層からなる光触媒性親
水膜をガラス基板に形成した反射鏡が用いられている。

【０００３】すなわち、この種の反射鏡は、車両の室外
に設けられているため雨天時には雨に晒される。このと
き、反射鏡の表面に雨滴等の水滴が付着すると反射像が
歪むため、反射鏡の表面に二酸化珪素等により構成され
る親水層を形成して、親水性を向上させ、表面に付着し
た水を薄膜化させることで水滴付着による反射像の歪み
を抑制したり、また、早期に蒸発させている。

【０００４】一方で、この種の反射鏡は通常時であって
も他の車両の排気ガスの成分（主に有機物）等が反射鏡
の表面に付着して汚れることがある。反射鏡の表面が汚
れていると、上記の親水層による親水性が低下する。そ
こで、二酸化珪素によって形成される親水層とガラス面
との間に二酸化チタン等により構成される光触媒層を設
け、親水層に付着した有機物を反射鏡の表面近傍で二酸
化チタン等の光触媒機能により分解して浄化し、親水層
の表面の親水性を維持することが考えられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この上記の
親水層や光触媒層は、真空スパッタリングや真空蒸着等
により個々に形成される。このため、製造コストが高い
という問題がある。

【０００６】また、このような従来の光触媒性親水膜
は、親水層と光触媒層とを個々に形成している。ここ
で、親水層は二酸化珪素（ＳｉＯ₂）を主成分としてい
るため、光の透過率がミラーの基板の材質であるガラス
に近いが、二酸化チタン（ＴｉＯ ₂）を主成分とする光
触媒層は親水層に比べて屈折率が高い。このため、基板
に形成された反射膜での反射光が干渉され、所謂「二重
像」の要因の一つになっており、品質の向上という点で
改良の余地が多分に残されている。

【０００７】本発明は、上記事実を考慮して、安価なコ
ストで二重像等が生じ難く品質が高い反射鏡を得ること
が目的である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の反射鏡
は、表面又は裏面に所定の反射率で光を反射する反射膜
が形成された基板と、主に二酸化チタンで形成される粒
状の光触媒粒子が一定濃度で略均一に分散されると共に
主に二酸化珪素を含めて形成された被膜原液を、前記基
板の表面又は裏面に塗布した状態で焼成することによ
り、前記光触媒粒子が略一定の密度で分布した状態で前
記基板の表面又は裏面に形成され、且つ、厚さが８０ｎ
ｍ以上２００ｎｍ以下の光触媒性親水膜と、を備えてい
る。

【０００９】上記構成の反射鏡では、基板の表面又は裏
面に所定の反射率を有する反射膜が形成されており、基
板の表面に反射膜が設けられている構成であれば、基板
の表面に入射した光が反射膜によって所定の反射率で反
射され、また、基板の裏面に反射膜が設けられている構
成であれば、基板の表面側から基板を透過して基板の裏
面側へ達した光が反射膜によって所定の反射率で反射さ
れ、再び、基板を透過して基板の表面側から外部へ出
る。

【００１０】一方、基板の表面又は裏面には、光触媒性
親水膜が形成されている。この光触媒性親水膜は主に二
酸化珪素を含めて構成されているため、その表面は所謂
「濡れ性」が高く、この光触媒性親水膜の表面に水滴が
付着した際の水滴の接触角が小さくなり、全体的に薄い
膜状となる。このため、反射膜で反射された反射像の歪
みを軽減できる。

【００１１】また、上記の光触媒性親水膜は、粒状の光
触媒粒子が一定濃度で略均一に分散した被膜原液を基板
の表面又は裏面に塗布した状態で焼成することにより形
成される。このため、光触媒性親水膜の内部には、略一
定の密度で光触媒粒子が分散している。この光触媒粒子
は主に二酸化チタンで形成されるため、所謂「光触媒機
能」を有しており、光触媒粒子に光が照射されると、光
触媒機能により光触媒性親水膜の表面に付着した油分等
の有機化合物が分解される。これにより、光触媒性親水
膜の表面を清潔にでき、親水性被膜の表面での親水性を
維持できる。

【００１２】ここで、上述したように、光触媒性親水膜
は、光触媒粒子が一定濃度で略均一に分散した被膜原液
を基板の表面又は裏面に塗布した状態で焼成することに
より形成されるため、真空蒸着やスパッタ等により二酸
化珪素の親水性被膜を形成する構成に比べて製造コスト
が安価になる。

【００１３】また、上記のように被膜原液には予め光触
媒粒子が略一定の密度で分布しているため、焼成により
形成される光触媒性親水膜は単層で、しかも、その厚さ
が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とされる。このように、
本反射鏡における光触媒性親水膜は単層で厚さが極めて
薄いことから、光触媒性親水膜自体の機械的強度を向上
でき、耐磨耗性を向上できる。このため、光触媒性親水
膜の表面の払拭等による機能低下が防止若しくは抑制さ
れる。

【００１４】さらに、本反射鏡の光触媒性親水膜は、二
酸化チタンにより形成される光触媒粒子が混在している
ものの、基本的には二酸化珪素を主成分とした膜である
ため、光触媒性親水膜の光の屈折率が極めて小さい。こ
れにより、光の干渉等が軽減若しくは防止され、所謂
「二重像」の発生等を軽減若しくは防止できる。

【００１５】請求項２記載の反射鏡は、表面又は裏面に
所定の反射率で光を反射する反射膜が形成された基板
と、粒径が１０ｎｍ以上で主に二酸化チタンで形成され
た光触媒粒子が一定濃度で略均一に分散されると共に主
に二酸化珪素を含めて形成された被膜原液を、前記基板
の表面又は裏面に塗布した状態で焼成することにより、
前記光触媒粒子が略一定の密度で分布した状態で前記基
板の表面又は裏面に形成された光触媒性親水膜と、を備
え、且つ、前記二酸化チタンの最大粒径を前記光触媒性
親水膜の膜厚以下とした、ことを特徴としている。

【００１６】上記構成の反射鏡では、基板の表面又は裏
面に所定の反射率を有する反射膜が形成されており、基
板の表面に反射膜が設けられている構成であれば、基板
の表面に入射した光が反射膜によって所定の反射率で反
射され、また、基板の裏面に反射膜が設けられている構
成であれば、基板の表面側から基板を透過して基板の裏
面側へ達した光が反射膜によって所定の反射率で反射さ
れ、再び、基板を透過して基板の表面側から外部へ出
る。

【００１７】一方、基板の表面又は裏面には、光触媒性
親水膜が形成されている。この光触媒性親水膜は主に二
酸化珪素を含めて構成されているため、その表面は所謂
「濡れ性」が高く、この光触媒性親水膜の表面に水滴が
付着した際の水滴の接触角が小さくなり、全体的に薄い
膜状となる。このため、反射膜で反射された反射像の歪
みを軽減できる。

【００１８】また、上記の光触媒性親水膜は、光触媒粒
子が一定濃度で略均一に分散した被膜原液を基板の表面
又は裏面に塗布した状態で焼成することにより形成され
る。このため、光触媒性親水膜の内部には、略一定の密
度で光触媒粒子が分散している。この光触媒粒子は主に
二酸化チタンで形成されるため、所謂「光触媒機能」を
有しており、光触媒粒子に光が照射されると、光触媒機
能により光触媒性親水膜の表面に付着した油分等の有機
化合物が分解される。これにより、光触媒性親水膜の表
面を清潔にでき、親水性被膜の表面での親水性を維持で
きる。

【００１９】ここで、上述したように、光触媒性親水膜
は、光触媒粒子が一定濃度で略均一に分散した被膜原液
を基板の表面又は裏面に塗布した状態で焼成することに
より形成されるため、真空蒸着やスパッタ等により二酸
化珪素の親水性被膜を形成する構成に比べて製造コスト
が安価になる。

【００２０】また、本反射鏡の光触媒性親水膜に混在す
る光触媒粒子は、１０ｎｍ以上の粒径を有しているが、
その最大値（最大粒径）は光触媒性親水膜の膜厚以下で
あるため、光触媒粒子が光触媒性親水膜の内部に確実に
埋設される。このため、光触媒性親水膜の表面を滑らか
にでき、表面の摩擦抵抗を軽減できる。これにより、耐
磨耗性を向上でき、光触媒性親水膜の表面の払拭等によ
る機能低下が防止若しくは抑制される。

【００２１】さらに、上記のように、光触媒粒子は１０
ｎｍ以上の粒径を有しているが、その最大値（最大粒
径）は光触媒性親水膜の膜厚以下であるため、基板上に
被膜原液を塗布した状態において光触媒粒子が良好に分
散され、光触媒性親水膜の表面に平行な方向のみなら
ず、厚さ方向にも良好に分散され、光触媒機能や親水機
能の均一化に寄与する。

【００２２】また、本反射鏡の光触媒性親水膜は、光触
媒粒子が混在しているものの、基本的には二酸化珪素を
主成分とした膜であるため、光触媒性親水膜の光の屈折
率が極めて小さい。これにより、光の干渉等が軽減若し
くは防止され、所謂「二重像」の発生等を軽減若しくは
防止できる。

【００２３】請求項３記載の反射鏡は、表面又は裏面に
所定の反射率で光を反射する反射膜が形成された基板
と、主に二酸化チタンで形成される光触媒粒子が一定濃
度で略均一に分散されると共に主に二酸化珪素を含めて
形成された被膜原液を、前記基板の表面又は裏面に塗布
した状態で焼成することにより、前記光触媒粒子が略一
定の密度で分布した状態で前記基板の表面又は裏面に形
成される光触媒性親水膜と、を備え、且つ、前記光触媒
性親水膜の質量に対する前記光触媒粒子の質量比を、４
０％以上７０％以下とした、ことを特徴としている。

【００２４】上記構成の反射鏡では、基板の表面又は裏
面に所定の反射率を有する反射膜が形成されており、基
板の表面に反射膜が設けられている構成であれば、基板
の表面に入射した光が反射膜によって所定の反射率で反
射され、また、基板の裏面に反射膜が設けられている構
成であれば、基板の表面側から基板を透過して基板の裏
面側へ達した光が反射膜によって所定の反射率で反射さ
れ、再び、基板を透過して基板の表面側から外部へ出
る。

【００２５】一方、基板の表面又は裏面には、光触媒性
親水膜が形成されている。この光触媒性親水膜は主に二
酸化珪素を含めて構成されているため、その表面は所謂
「濡れ性」が高く、この光触媒性親水膜の表面に水滴が
付着した際の水滴の接触角が小さくなり、全体的に薄い
膜状となる。このため、反射膜で反射された反射像の歪
みを軽減できる。

【００２６】また、上記の光触媒性親水膜は、光触媒粒
子が一定濃度で略均一に分散した被膜原液を基板の表面
又は裏面に塗布した状態で焼成することにより形成され
る。このため、光触媒性親水膜の内部には、略一定の密
度で光触媒粒子が分散している。この光触媒粒子は主に
二酸化チタンで形成されるため、所謂「光触媒機能」を
有しており、光触媒粒子に光が照射されると、光触媒機
能により光触媒性親水膜の表面に付着した油分等の有機
化合物が分解される。これにより、光触媒性親水膜の表
面を清潔にでき、親水性被膜の表面での親水性を維持で
きる。

【００２７】ここで、上述したように、光触媒性親水膜
に混在する光触媒粒子の光触媒性親水膜の質量に対する
質量比が４０％以上７０％以下であるため、光触媒性親
水膜の比較的長期に亘り安定して親水機能を持続させる
ことができ、しかも、光触媒性親水膜に対する油分等が
付着した場合にも比較的早期に親水機能を回復させるこ
とができる。

【００２８】また、本反射鏡の光触媒性親水膜は、光触
媒粒子が混在しているものの、基本的には二酸化珪素を
主成分とした膜であるため、光触媒性親水膜の光の屈折
率が極めて小さい。これにより、光の干渉等が軽減若し
くは防止され、所謂「二重像」の発生等を軽減若しくは
防止できる。

【００２９】

【発明の実施の形態】＜第１の実施の形態の構成＞図１
には本発明の第１の実施の形態に係る反射鏡１０の斜視
図が示されており、図２には図１の２−２に線に沿った
概略的な拡大断面図が示されている。

【００３０】図１及び図２に示されるように、反射鏡１
０は基板としてのガラス基板１２を備えている。ガラス
基板１２の裏面（図１の矢印ＲＥとは反対方向側の面）
には、反射膜１４が形成されている。

【００３１】反射膜１４は、例えば、クロムやクロムを
主成分とする合金により形成されている。ガラス基板１
２に形成された反射膜１４の少なくともガラス基板１２
側の面は充分な光沢を有し、且つ、光の反射率が高い。
したがって、ガラス基板１２の表面側から入射した光が
ガラス基板１２内を透過してガラス基板１２の裏面側へ
達すると、反射膜１４によって反射されて、再びガラス
基板１２内を透過してガラス基板１２の表面側へ向か
う。

【００３２】なお、本実施の形態では、反射膜１４をク
ロム若しくはクロムを主成分とした合金により形成され
ていたが、反射膜１４の構成はこれに限るものではな
く、他の金属、例えば、アルミニウムや銀、若しくはこ
れらの金属を主成分とする合金であっても構わない。

【００３３】一方、ガラス基板１２の表面（すなわち、
ガラス基板１２の反射膜１４とは反対側の面）には光触
媒性親水膜１６が形成されている。光触媒性親水膜１６
は、主に二酸化珪素（ＳｉＯ₂）により形成されてお
り、その厚さＴ₁は８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とされ
ている。

【００３４】光触媒性親水膜１６は、上記のように主に
二酸化珪素（ＳｉＯ₂）により形成されていることか
ら、ガラス基板１２の表面側から入射した光の透過率は
上記のガラス基板１２の透過率と略同等で、光を充分に
透過できるようになっている。また、光触媒性親水膜１
６は、その表面（すなわち、ガラス基板１２とは反対側
の表面）における濡れ性が高く、水滴が付着した際の水
滴との接触角は１０°以下となる。

【００３５】また、図２に示されるように、光触媒性親
水膜１６の内部には粒状の光触媒粒子１８が埋設されて
いる。光触媒粒子１８は主に二酸化チタン（ＴｉＯ₂）
によって形成されており、その粒径は、５０ｎｍ以上で
最大は光触媒性親水膜１６の被膜の厚さＴ₁以下（すな
わち、光触媒性親水膜１６の厚さを最小の８０ｎｍとす
る場合には、光触媒粒子１８の最大粒径は８０ｎｍで、
光触媒性親水膜１６の厚さを最大の２００ｎｍとする場
合には、光触媒粒子１８の最大粒径は２００ｎｍ）とさ
れている。

【００３６】また、光触媒粒子１８は光触媒性親水膜１
６の内部で略均一に分布している。言い換えれば、光触
媒性親水膜１６はその内部構造がマトリックス状とされ
ており、その内部に断続的に形成された空隙に光触媒粒
子１８が埋設された状態になっている。

【００３７】さらに、このように光触媒粒子１８は光触
媒性親水膜１６の内部で略均一に分散されているが、光
触媒粒子１８全体の質量は、光触媒性親水膜１６全体の
質量の約４０％〜７０％を占めている。

【００３８】光触媒粒子１８は、主に二酸化チタン（Ｔ
ｉＯ₂）によって形成されていることで、所謂「光触媒
性（光触媒機能）」を有しており、光が当たると光触媒
機能で光触媒性親水膜１６の表面上に付着した有機化合
物を分解する。

【００３９】以上の光触媒粒子１８が含まれた光触媒性
親水膜１６は、所謂「スピンコート法」によってガラス
基板１２上に形成される。

【００４０】「スピンコート法」については周知の技術
であるため、詳細な説明は省略するが、簡単に述べる
と、先ず、図３に示されるように、光触媒性親水膜１６
の基本成分である二酸化珪素（ＳｉＯ₂）を有する溶質
を溶剤（溶媒）中に溶かし込み、更に、上記の光触媒粒
子１８を混合した被膜原液２０をガラス基板１２の表面
上に塗布若しくは滴下する。次いで、図４に示されるよ
うに、ガラス基板１２の厚さ方向を軸方向として被膜原
液２０が塗られたガラス基板１２の略面中央周りに回転
させて、その際の遠心力で被膜原液２０をガラス基板１
２の表面全体に薄く広げる。

【００４１】さらに、この状態で被膜原液２０が塗られ
たガラス基板１２の乾燥処理等を行なったのち、焼成炉
にて被膜原液２０が塗られたガラス基板１２を焼成処理
してガラス基板１２の表面上に上記の光触媒性親水膜１
６を形成する。

【００４２】＜第１の実施の形態の作用、効果＞次に、
本実施の形態の作用並びに効果について説明する。

【００４３】本反射鏡１０では、上記のようにガラス基
板１２上に光触媒性親水膜１６が形成されているため、
本反射鏡１０の表面、すなわち、光触媒性親水膜１６の
表面上に雨水等の水滴が付着しても、水滴の接触角は１
０°未満となるため、水滴が所謂粒状に残留せず、薄い
膜状に拡がる。これにより、反射像の歪みが抑制され
る。

【００４４】一方で、例えば、本反射鏡１０を車両の室
外に設置されるフェンダーミラーやドアミラー等の鏡体
として適用される場合には、他の車両の排気ガス中に含
まれる有機物が本反射鏡１０の表面に付着して、光触媒
性親水膜１６の親水性を低下させる。しかしながら、上
記のように、光触媒性親水膜１６中には主に二酸化チタ
ン（ＴｉＯ₂）により構成される光触媒粒子１８が混在
しており、この光触媒粒子１８に光が照射されることで
生ずる光触媒効果により、本反射鏡１０の表面に付着し
た結城物が分解されて反射鏡１０の表面が浄化される。
これにより、光触媒性親水膜１６の親水性を損なうこと
がない。

【００４５】ここで、光触媒性親水膜１６に含まれる光
触媒粒子１８の質量比と、オイルが表面上に塗布された
光触媒性親水膜１６が親水性を取り戻すまでに要する時
間（以下、便宜状「回復時間」と称する）並びに暗所
（すなわち、光触媒粒子１８の光触媒性が機能しない場
所）に放置した場合での親水性の持続日数との関係が図
５のグラフに示されている。

【００４６】図５に示されるように、回復時間は光触媒
粒子１８の質量比の増加に対して概ね反比例して減少お
り、親水性の持続日数は光触媒粒子１８の質量比に概ね
比例して増加している。

【００４７】ここで、本実施の形態において、光触媒粒
子１８の質量比は約４０％以上７０％以下とされている
ため、２時間乃至４時間と比較的短時間で光触媒性親水
膜１６が親水性を取り戻しており、しかも、親水性の持
続日数も１０日以上（概ね２０日以下）と長期に亘り、
実用性が極めて高い。

【００４８】一方、図６には光触媒性親水膜１６に含ま
れる光触媒粒子１８の質量比と、光触媒性親水膜１６の
屈折率との関係がグラフによって示されている。

【００４９】図６に示されるように、光触媒性親水膜１
６の屈折率は光触媒粒子１８の質量比の増加に伴い増加
している。

【００５０】ここで、本実施の形態において、光触媒粒
子１８が混在しているものの、光触媒性親水膜１６は基
本的に二酸化珪素により形成されている。しかも、光触
媒粒子１８の質量比は約４０％以上７０％以下とされて
いるため、光触媒性親水膜１６の屈折率は１．５乃至
１．８と比較的ガラス基板１２の屈折率に近い。このた
め、ガラス基板１２の屈折率と光触媒性親水膜１６の屈
折率の大きな乖離で生じる光干渉に起因する「二重像」
の発生等を防止若しくは軽減でき、例えば、反射鏡１０
を後方視認用として適用する場合の品質を向上できる。

【００５１】また、製造面で考えると、上述したよう
に、光触媒性親水膜１６は上述したスピンコート法によ
り形成されるため、真空蒸着やスパッタ等により二酸化
珪素の親水性被膜を形成する構成に比べて製造コストが
安価になる。

【００５２】さらに、機械的な面等の他の面から考える
と、上記のように被膜原液２０には予め光触媒粒子１８
が略一定の密度で分布しているため、焼成により形成さ
れる光触媒性親水膜１６は単層で、しかも、その厚さＴ
₁が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とされる。このよう
に、本反射鏡１０における光触媒性親水膜１６は単層で
厚さが極めて薄いことから、光触媒性親水膜１６自体の
機械的強度を向上でき、耐磨耗性を向上できる。このた
め、光触媒性親水膜１６の表面の払拭等による機能低下
を防止若しくは抑制できる。

【００５３】また、光触媒性親水膜１６に混在する光触
媒粒子１８は、５０ｎｍ以上の粒径を有しているが、そ
の最大値（最大粒径）は光触媒性親水膜１６の膜厚以下
であるため、光触媒粒子１８が光触媒性親水膜１６の内
部に確実に埋設される。このため、光触媒性親水膜１６
の表面を滑らかにできる。表面の摩擦抵抗を軽減でき
る。したがって、この意味でも耐磨耗性を向上でき、光
触媒性親水膜１６の表面の払拭等による機能低下を防止
若しくは抑制できる。

【００５４】さらに、上記のように光触媒粒子１８は５
０ｎｍ以上の粒径を有しているが、その最大値（最大粒
径）は光触媒性親水膜１６の膜厚以下であるため、基板
上に被膜原液２０を塗布した状態において光触媒粒子１
８が良好に分散され、光触媒性親水膜１６の表面に平行
な方向のみならず、厚さ方向にも良好に分散され、光触
媒機能や親水機能の均一化に寄与する。

【００５５】なお、本実施の形態では、ガラス基板１２
の裏面に反射膜１４を設けた構成であったが、ガラス基
板１２は単純な透明であってもよいし、薄青色等に着色
された透明であってもよい。

【００５６】また、本実施の形態では、ガラス基板１２
の裏面に反射膜１４を設けた構成であったが、例えば、
図７に示されるように、ガラス基板１２の表面に反射膜
１４を設け、更に、反射膜１４の表面（ガラス基板１２
とは反対側の面）に光触媒性親水膜１６を設ける構成と
してもよい。

【００５７】さらに、本実施の形態では、反射膜１４を
クロムやクロムを含む合金等の金属で形成したが、反射
膜１４の構成が金属に限定されるものではない。例え
ば、図８に示されるように、複数の誘電体薄膜３２、３
４、３６、３８を積層することで形成された反射膜４０
を、ガラス基板１２の裏面に設け、反射膜４０で光を反
射すると共に、光干渉作用で反射光を青系の色にする所
謂「ブルーミラー」としてもよい。

【００５８】＜第２の実施の形態の構成＞次に、本発明
の第２の実施の形態について説明する。なお、本第２の
実施の形態を説明するにあたり、前記第１の実施の形態
と基本的に同一の部位に関しては同一の符号を付与して
その説明を省略する。

【００５９】図９には、本実施の形態に係る反射鏡５０
の構造が概略的な拡大断面図によって示されている。

【００６０】この図に示されるように、本反射鏡５０
は、反射膜１４を備えておらず、代わりに、反射膜とし
ての導電性反射膜５２が形成されている。この導電性反
射膜５２も基本的には反射膜１４と同様に、少なくとも
ガラス基板１２側の面は、充分な光沢を有し、且つ、光
の反射率が高く、ガラス基板１２の導電性反射膜５２が
形成された側とは反対側からガラス基板１２へ入射した
光を導電性反射膜５２により反射することができる。更
に、この導電性反射膜５２は、電極、リード線、及びス
イッチを介してバッテリー（何れも図示省略）へ電気的
に接続されている。

【００６１】また、ガラス基板１２と導電性反射膜５２
との間には透明の導電性被膜５４が形成されている。こ
の導電性被膜５４も導電性反射膜５２と同様に電極、リ
ード線、及びスイッチを介してバッテリー（何れも図示
省略）へ電気的に接続されている。

【００６２】この導電性被膜５４と導電性反射膜５２と
の間にはエレクトロクロミック被膜５６が形成されてい
る。エレクトロクロミック被膜５６は、例えば、酸化イ
リジウムや酸化ニッケル等の酸化発色材被膜、五酸化タ
ンタル等の固体電解質被膜、三酸化タングステンや三酸
化モリブデン等の還元発色材被膜等の三種類の膜を三層
に重ね合わせることにより形成されており、上記の電極
を介して導電性反射膜５２、導電性被膜５４に電圧を印
加すると、可逆的な酸化、還元反応によりエレクトロク
ロミック被膜５６が着色され、或いは消色される（すな
わち、着色が解除される）。

【００６３】すなわち、本反射鏡５０は、上記の着色及
び消色の作用で反射光の色調を変化させる所謂「エレク
トロクロミック反射鏡」を構成しており、なかでも、導
電性反射膜５２、導電性被膜５４、及びエレクトロクロ
ミック被膜５６の複数の薄膜を積層して構成した「薄膜
エレクトロクロミック反射鏡」を構成している。

【００６４】上記構成の本反射鏡５０でも、前記第１の
実施の形態に係る反射鏡１０と同様に、光触媒性親水膜
１６を備えているため、基本的には前記第１の実施の形
態と同様の作用を奏し、同様の効果を得ることができ
る。

【００６５】ところで、上記のような導電性反射膜５
２、導電性被膜５４、及びエレクトロクロミック被膜５
６を備えた反射鏡に二酸化珪素の親水層と二酸化チタン
の光触媒層を積層して構成した従来の光触媒性親水膜を
適用した場合には、二酸化チタンの光触媒層の屈折率が
大きいため、図１０に一点鎖線で示されるように、反射
鏡の表面反射率が極めて大きく、しかも、光触媒性親水
膜の厚さの変化に表面反射率が極めて敏感に変化する
（すなわち、極めて僅かな膜厚の誤差で表面反射率が変
化してしまう）。このため、所望の反射率を得るために
は光触媒性親水膜の膜厚を極めて厳格に管理しなくては
ならないという問題がある。

【００６６】なお、図１０における色度座標ｘ及び色度
座標ｙは、ＪＩＳＺ８７０１の『ＸＹＺ表色系及びＸ
10Ｙ10Ｚ10表色系による色の表示方法』に基づいて計算
されたものであり、その計算方法等に関しての詳細な説
明はここでは省略する。

【００６７】また、従来の光触媒性親水膜では光触媒層
の屈折率が大きいため、導電性反射膜５２、導電性被膜
５４、及びエレクトロクロミック被膜５６を備えた反射
鏡に従来の光触媒性親水膜を適用すると、図１１の矢印
Ａで指し示す一点鎖線で示されるように全体的に干渉色
が強く、しかも、光触媒性親水膜の膜厚の変化に対して
敏感に色調を変化させてしまう（すなわち、極めて僅か
な膜厚の誤差で色調が変化してしまう）。このため、所
望の色調を得るためには光触媒性親水膜の膜厚を極めて
厳格に管理しなくてはならないという問題がある。

【００６８】これに対して、本反射鏡５０に適用した光
触媒性親水膜１６は、光触媒粒子１８が混在しているも
のの、基本的に二酸化珪素により形成されているため、
屈折率が低い。このため、図１０に実線で示されるよう
に、表面反射率が低く抑えられ、しかも、光触媒性親水
膜１６の厚さの変化に対しても、表面反射率の変化を小
さくすることができる。

【００６９】一方、図１１において矢印Ｂで指し示す実
線で示されるように、本反射鏡５０では色調を白系の色
にすることができ、しかも、光触媒性親水膜１６の厚さ
の変化に対する色調変化が極めて小さい。

【００７０】このように、本反射鏡５０では、光触媒性
親水膜１６の膜厚をさほど厳格に管理しなくても所望の
表面反射率及び所望の色調を得ることができ、生産効率
を極めて効果的に向上でき、これによって、製造コスト
を安価にできる。

【００７１】なお、本実施の形態では、所謂「エレクト
ロクロミック反射鏡」のなかの「薄膜エレクトロクロミ
ック反射鏡」に本発明を適用した構成であったが、「薄
膜エレクトロクロミック反射鏡」以外の「エレクトロク
ロミック反射鏡」には、例えば、図１２に示されるよう
な「セル構造エレクトロクロミック反射鏡」がある。

【００７２】以下、「セル構造エレクトロクロミック反
射鏡」としての反射鏡７０の構造について簡単に説明す
る。

【００７３】反射鏡７０は、ガラス基板１２と反射膜１
４の間にガラス板７２が配置されている。ガラス基板１
２とガラス板７２との間には各々が薄肉シート状若しく
は膜状に形成された一対の透明電極７４が重なるように
配置されている。これらの透明電極７４の間には、ゲル
状のエレクトロクロミック材７６が設けられており、シ
ール材７８によってエレクトロクロミック材７６が透明
電極７４の間で封入されている。

【００７４】以上のような反射鏡７０では透明電極７４
に電圧を印加すると、可逆的な酸化、還元反応によりエ
レクトロクロミック材７６が着色され、或いは消色さ
れ、結果的には、上記の反射鏡５０（薄膜エレクトロク
ロミック反射鏡）と同様の作用を奏し、同様の効果を得
ることができる。

【００７５】このような反射鏡７０のガラス基板１２の
表面に光触媒性親水膜１６を形成しても、ガラス基板１
２の表面に光触媒性親水膜１６が形成された反射鏡５０
と同様の作用を奏し、同様の効果を得ることができる。

【００７６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の本
発明では、安価なコストで二重像等の発生を防止若しく
は軽減でき、しかも、耐磨耗性等の機械的性質を向上で
き、光触媒性親水膜の表面の払拭等による機能低下を防
止若しくは抑制できる。

【００７７】請求項２記載の本発明では、安価なコスト
で二重像等の発生を防止若しくは軽減でき、しかも、耐
磨耗性等の機械的性質を向上でき、光触媒性親水膜の表
面の払拭等による機能低下を防止若しくは抑制できる。
さらに、光触媒性親水膜の表面に平行な方向のみなら
ず、厚さ方向にも良好に分散させることができ、光触媒
機能や親水機能の均一化を図ることができる。

【００７８】請求項３記載の本発明では、安価なコスト
で二重像等の発生を防止若しくは軽減でき、しかも、比
較的長期に亘り安定して親水機能を得ることができるう
え、光触媒性親水膜に油分等が付着した場合にも比較的
早期に親水機能を回復させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る反射鏡の斜視
図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態に係る反射鏡の構造
の概略を示す拡大断面図である。

【図３】基板に被膜原液を塗布している状態を示す斜視
図である。

【図４】被膜原液が塗布された基板を回転させている状
態（スピンコーティング）を示す斜視図である。

【図５】光触媒性親水膜に含まれる光触媒粒子の質量比
と、オイルが表面上に塗布された光触媒性親水膜が親水
性を取り戻すまでに要する時間及び暗所に放置した場合
での親水性の持続日数との関係を示すグラフである。

【図６】光触媒性親水膜に含まれる光触媒粒子の質量比
と、光触媒性親水膜の屈折率との関係を示すグラフであ
る。

【図７】本発明の第１の実施の形態に係る反射鏡の構造
の変形例の概略を示す拡大断面図である。

【図８】本発明の第１の実施の形態に係る反射鏡の構造
の他の変形例の概略を示す拡大断面図である。

【図９】本発明の第２の実施の形態に係る反射鏡の構造
の概略を示す拡大断面図である。

【図１０】光触媒性親水膜の膜厚と表面反射率との関係
を示すグラフである。

【図１１】光触媒性親水膜の膜厚と色調との関係を示す
色度座標図である。

【図１２】本発明の第２の実施の形態に係る反射鏡の構
造の変形例の概略を示す拡大断面図である。

【符号の説明】

１０反射鏡１２ガラス基板（基板）１４反射膜１６光触媒性親水膜１８光触媒粒子２０被膜原液４０反射膜５０反射鏡５２導電性反射膜（反射膜）７０反射鏡

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高井典之愛知県丹羽郡大口町豊田三丁目260番地株式会社東海理化電機製作所内 (72)発明者吉田浩愛知県丹羽郡大口町豊田三丁目260番地株式会社東海理化電機製作所内 (72)発明者福井紀江愛知県丹羽郡大口町豊田三丁目260番地株式会社東海理化電機製作所内 (72)発明者酒井武信愛知県豊田市トヨタ町１番地トヨタ自動車株式会社内 (72)発明者一柳昌幸愛知県豊田市トヨタ町１番地トヨタ自動車株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 DA06 DA12 DE01 3D053 FF40 HH21 4G059 AA11 AC21 AC22 EA04 EA05 EB05 4G069 AA03 AA08 BA03A BA04A BA48A CD10 DA06 EA11 EB15Y EB18Y EC21Y ED02 FA01 FA03 FB23 FB30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面又は裏面に所定の反射率で光を反射
する反射膜が形成された基板と、主に二酸化チタンで形成される粒状の光触媒粒子が一定
濃度で略均一に分散されると共に主に二酸化珪素を含め
て形成された被膜原液を、前記基板の表面又は裏面に塗
布した状態で焼成することにより、前記光触媒粒子が略
一定の密度で分布した状態で前記基板の表面又は裏面に
形成され、且つ、厚さが８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の
光触媒性親水膜と、を備える反射鏡。
【請求項２】表面又は裏面に所定の反射率で光を反射
する反射膜が形成された基板と、粒径が１０ｎｍ以上で主に二酸化チタンで形成された光
触媒粒子が一定濃度で略均一に分散されると共に主に二
酸化珪素を含めて形成された被膜原液を、前記基板の表
面又は裏面に塗布した状態で焼成することにより、前記
光触媒粒子が略一定の密度で分布した状態で前記基板の
表面又は裏面に形成された光触媒性親水膜と、を備え、且つ、前記二酸化チタンの最大粒径を前記光触
媒性親水膜の膜厚以下とした、ことを特徴とする反射鏡。
【請求項３】表面又は裏面に所定の反射率で光を反射
する反射膜が形成された基板と、主に二酸化チタンで形成される光触媒粒子が一定濃度で
略均一に分散されると共に主に二酸化珪素を含めて形成
された被膜原液を、前記基板の表面又は裏面に塗布した
状態で焼成することにより、前記光触媒粒子が略一定の
密度で分布した状態で前記基板の表面又は裏面に形成さ
れる光触媒性親水膜と、を備え、且つ、前記光触媒性親水膜の質量に対する前記
光触媒粒子の質量比を、４０％以上７０％以下とした、ことを特徴とする反射鏡。