JP2003288795A - Semiconductor memory device post-repair circuit and device - Google Patents

Semiconductor memory device post-repair circuit and device

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JP2003288795A
JP2003288795A JP2002381962A JP2002381962A JP2003288795A JP 2003288795 A JP2003288795 A JP 2003288795A JP 2002381962 A JP2002381962 A JP 2002381962A JP 2002381962 A JP2002381962 A JP 2002381962A JP 2003288795 A JP2003288795 A JP 2003288795A
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a post-repair circuit and method for a semiconductor device. <P>SOLUTION: The ability to repair defective cells in a memory array by replacing those cells with redundant cells, is improved using a redundant memory line control circuit 25i, 23i that empolys two types of redundancy programming. At least one memory line can be programmed subsequent to device packaging ('post repair') of the semiconductor device using commands that cut electric fuses. The redundant memory lines that are reserved for post repair are selectable among the same redundant memory lines that can be programmed using laser fuses. This allows all redundant memory lines to be available for laser repair, if needed, but also allows a redundant memory line to be selected for post repair after it has been determined that the redundant memory line is defect-free. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する従来技術】本発明は半導体メモリ装置の
リペア構造及びリペア方法に係り、より詳細にはポスト
リペア構造及び方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a repair structure and a repair method for a semiconductor memory device, and more particularly to a post repair structure and method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリ装置、例えば、DRAM
(Dynamic Random Access Memory)はロー/カラムアレ
イに配列される非常に多くのメモリセルを含む。各メモ
リセルは通常1ビットの情報を貯蔵する。アレイはロー
信号線(ローライン)とロー信号線に直交して配列され
るカラム信号線(カラムライン)とを含む。メモリセル
はローラインとカラムラインとの各交差点に位置する。
特定のメモリセルに連結されたアレイローラインとアレ
イカラムラインとをアドレッシングすることによって対
応するメモリセルにアクセスする。
2. Description of the Related Art Semiconductor memory devices such as DRAMs
(Dynamic Random Access Memory) includes a large number of memory cells arranged in a row / column array. Each memory cell normally stores 1 bit of information. The array includes row signal lines (row lines) and column signal lines (column lines) arranged orthogonal to the row signal lines. The memory cell is located at each intersection of the row line and the column line.
A corresponding memory cell is accessed by addressing an array row line and an array column line connected to a specific memory cell.

【0003】半導体メモリ装置では、メモリラインのあ
らゆるメモリセル、ローライン、カラムラインが正常に
動作せねばならない。実際には、与えられたウェーハ上
にあるメインメモリセルアレイが100%動作可能なわ
けではない。したがって、大部分の半導体装置はいくつ
かの不良セルを代替できる比較的少ない冗長メモリセル
アレイを具備するように設計される。
In a semiconductor memory device, every memory cell, row line, and column line in a memory line must operate normally. In reality, the main memory cell array on a given wafer is not 100% operational. Therefore, most semiconductor devices are designed to have a relatively small number of redundant memory cell arrays that can replace some defective cells.

【0004】一つの通常的な設計方法によれば、冗長ア
レイは冗長メモリセルカラムで構成される。この方法に
よれば、冗長メモリセルのそれぞれはメインメモリセル
アレイローラインと交差する冗長カラムラインに連結さ
れる。各冗長カラムラインは一つ以上の不良セルを有す
ると考えられるメインメモリセルアレイカラムを代替で
きる。メインアレイカラムがアドレスされるごとに、冗
長性制御ブロックはカラムアドレスを欠陥カラムアドレ
スと比較する。欠陥カラムがアドレスされるごとに、冗
長性制御ブロックは欠陥カラムの代りに欠陥カラムに関
連する(または結合された)冗長カラムを選択する。
According to one conventional design method, a redundant array is composed of redundant memory cell columns. According to this method, each of the redundant memory cells is connected to a redundant column line which intersects the main memory cell array row line. Each redundant column line can replace a main memory cell array column that is considered to have one or more defective cells. Each time the main array column is addressed, the redundancy control block compares the column address with the defective column address. Each time a defective column is addressed, the redundancy control block selects the redundant column associated with (or combined with) the defective column instead of the defective column.

【0005】欠陥ローを冗長ローに取り替える冗長性ス
キームも使われる。一部の半導体装置は関連回路内に冗
長ロー及び冗長カラムを含む。
Redundancy schemes are also used that replace defective rows with redundant rows. Some semiconductor devices include redundant rows and columns in associated circuitry.

【0006】冗長性制御ブロック及びこれに関する冗長
カラム/ローを使用する前に、欠陥ラインアドレスが制
御ブロックにプログラムされねばならない。プログラミ
ングするために冗長性制御ブロックはヒューズブロック
を含む。半導体メモリ装置がウェーハ状態である場合、
メインメモリアレイをテストして欠陥セルの位置を把握
する。カラムの代替を仮定すると、与えられた欠陥カラ
ムを代替するために冗長性制御ブロック及び冗長カラム
が選択される。欠陥カラムのアドレスはヒューズブロッ
クにあるヒューズを選択的に切断することによって、そ
のカラムアドレスを示すように冗長性制御ブロック内に
設定される。ヒューズは一般的にレーザービームを使用
して物理的に切断される。
Prior to using the redundancy control block and its associated redundant columns / rows, the defective line address must be programmed into the control block. The redundancy control block includes a fuse block for programming. When the semiconductor memory device is in a wafer state,
Test the main memory array to determine the location of defective cells. Assuming column replacement, redundancy control blocks and redundant columns are selected to replace a given defective column. The address of the defective column is set in the redundancy control block to indicate the column address by selectively cutting the fuse in the fuse block. Fuses are typically physically blown using a laser beam.

【0007】大部分のメモリアレイ欠陥はウェーハ状態
でのテスト過程で検出可能であるが、一部の欠陥は半導
体装置のパッケージング後に発生する。その欠陥に対し
てパッケージング後にメモリアレイをリペア(救済)で
きるか否かによって半導体装置が良品になるか、不良品
になるかが決定される。パッケージング後のアレイのリ
ペアをポストリペアという。
Although most memory array defects can be detected during a test process in a wafer state, some defects occur after packaging a semiconductor device. Whether the semiconductor device becomes a good product or a defective product is determined depending on whether the memory array can be repaired (repaired) after packaging for the defect. The repair of the array after packaging is called post repair.

【0008】ポストリペアの冗長性は、パッケージング
中に発生する欠陥を修正できる長所があるが、ポストリ
ペア冗長性制御ブロック及びこれに関する電気的プログ
ラミング回路はレーザー切断されたヒューズによる冗長
性制御ブロックに比べて多くの回路領域を占めるので、
コスト面で不利な短所がある。
Although post-repair redundancy has the advantage that defects that occur during packaging can be repaired, the post-repair redundancy control block and its associated electrical programming circuits are redundantly controlled by laser blown fuses. Occupies more circuit area than
There is a disadvantage in terms of cost.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明が
解決しようとする技術的課題は、ウェーハ状態(例え
ば、レーザー切断)のヒューズプログラミングの長所と
ポストリペアプログラミングの長所とを調和させて、リ
ペア効率を向上させうるデュアルモード冗長性回路を含
む半導体メモリ装置を提供することである。
Therefore, the technical problem to be solved by the present invention is to harmonize the advantages of the fuse programming of the wafer state (for example, laser cutting) and the advantages of the post-repair programming to improve the repair efficiency. A semiconductor memory device including a dual mode redundancy circuit capable of improving

【0010】本発明が解決しようとする他の技術的課題
は、ウェーハ状態(例えば、レーザー切断)のヒューズ
プログラミングの長所とポストリペアプログラミングの
長所とを調和させて、リペア効率を向上させうる半導体
メモリ装置のリペア方法を提供することである。
Another technical problem to be solved by the present invention is to combine the advantages of wafer state (for example, laser cutting) fuse programming with the advantages of post repair programming to improve repair efficiency. A method of repairing an apparatus is provided.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の一態様は、デュ
アルモード冗長性回路を含む半導体メモリ装置である。
デュアルモード冗長性回路は複数の冗長メモリラインを
含む。各冗長メモリラインは一つの冗長性制御ブロック
と結合(関連)される。冗長性制御ブロックの大部分は
半導体装置のパッケージング前にのみプログラムされる
レーザーヒューズブロックを含む。冗長性制御ブロック
の少なくとも一つは半導体装置のパッケージング後にの
みプログラムされる電気的にプログラム可能なヒューズ
ブロックを含む。したがって、前記装置はデュアル−サ
イクルリペア方法を可能にする。デュアル−サイクルリ
ペア方法によれば、大部分のリペアはもっと経済的なレ
ーザーヒューズブロックを利用してウェーハ状態で行わ
れ、少数の電気的ヒューズブロックは場合(例えば、パ
ッケージングに関連した欠陥が発生した場合)によって
ポストリペアモードでパッケージング後に利用される。
One aspect of the present invention is a semiconductor memory device including a dual mode redundancy circuit.
The dual mode redundancy circuit includes a plurality of redundant memory lines. Each redundant memory line is associated with one redundant control block. Most of the redundancy control blocks include laser fuse blocks that are programmed only before packaging the semiconductor device. At least one of the redundancy control blocks includes an electrically programmable fuse block that is programmed only after packaging the semiconductor device. The device thus enables a dual-cycle repair method. With the dual-cycle repair method, most repairs are done at the wafer level using more economical laser fuse blocks, and a small number of electrical fuse blocks (e.g., packaging-related defects occur). If used) will be used after packaging in post repair mode.

【0012】前記リペアスキームは、レーザーリペア専
用の一部の冗長メモリライン及びポストリペア専用の一
部の冗長メモリラインを有する。ポストリペア専用の冗
長メモリライン自体が不良であればポストリペアは不可
能である。不良のないレーザーリペア用の冗長メモリラ
インが使われずに残っていても、ポストリペアは不可能
である。
The repair scheme has some redundant memory lines dedicated to laser repair and some redundant memory lines dedicated to post repair. If the redundant memory line itself dedicated to post repair is defective, post repair is impossible. Post-repair is not possible even if the redundant memory lines for defect-free laser repair remain unused.

【0013】したがって、本発明の他の一態様は、ポス
トリペア効率性を高めるデュアルモード冗長性回路を含
む半導体メモリ装置である。前記回路はウェーハ状態ア
ドレス貯蔵部(すなわち、レーザーヒューズブロック)
を一つの冗長ラインと結合させる。第2構成では、前記
回路はポストリペアアドレス貯蔵部(すなわち、電気的
ヒューズブロック)を同じ冗長メモリラインと結合させ
る。したがって、前記デュアルモードの冗長性を採用す
る半導体メモリ装置はさらにリペア自由度を有する。例
えば、ウェーハ状態のテスト中には各冗長メモリライン
はレーザーヒューズブロックと結合される。欠陥のない
一つの冗長メモリラインはテスト中にポストリペア用に
割当てられる。割当てられた冗長メモリラインはポスト
リペアを可能にするために、ポストリペアアドレス貯蔵
部と結合される。
Therefore, another aspect of the present invention is a semiconductor memory device including a dual mode redundancy circuit for improving post repair efficiency. The circuit is a wafer state address store (ie, a laser fuse block).
To one redundant line. In the second configuration, the circuit couples post repair address stores (ie, electrical fuse blocks) with the same redundant memory line. Therefore, the semiconductor memory device adopting the dual mode redundancy has a repair degree of freedom. For example, each redundant memory line is associated with a laser fuse block during wafer condition testing. One defect-free redundant memory line is allocated for post repair during testing. The assigned redundant memory line is combined with a post repair address store to enable post repair.

【0014】かかる方法によれば、半導体メモリ装置
は、それぞれが一つのレーザーヒューズ/比較器に結合
されている複数の冗長メモリラインを具備する。各ライ
ンの良否を調べるためにメイン及び冗長メモリラインが
テストされる。各不良メインメモリラインに対して、前
記不良メインメモリラインを代替するために割当てられ
る前記不良のない冗長メモリラインのうち一つと結合さ
れた前記レーザーヒューズ/比較器を構成する。前記欠
陥メモリラインの代替後にも不良のない冗長メモリライ
ンが残っている場合、残っている不良のない冗長メモリ
ラインをポストリペア用に割当てる。前記割当てられた
ポストリペア用の冗長メモリラインを前記割当てられた
ポストリペア用の冗長メモリラインと結合されたレーザ
ーヒューズ/比較器の代りにポストリペア比較器と結合
させる。
According to such a method, the semiconductor memory device comprises a plurality of redundant memory lines, each of which is coupled to one laser fuse / comparator. The main and redundant memory lines are tested to see if each line is good or bad. For each defective main memory line, the laser fuse / comparator is coupled to one of the defect-free redundant memory lines assigned to replace the defective main memory line. If there is a defect-free redundant memory line after replacement of the defective memory line, the remaining defect-free redundant memory line is allocated for post repair. The redundant memory line for the assigned post repair is coupled with a post repair comparator instead of the laser fuse / comparator coupled with the redundant memory line for the assigned post repair.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明と本発明の動作上の利点及
び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解す
るためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付
図面及び添付図面に記載された内容を参照せねばならな
い。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS For a full understanding of the present invention and its operational advantages and objectives achieved by the practice of the present invention, the accompanying drawings and accompanying drawings that illustrate preferred embodiments of the invention are shown: You must refer to the contents described in.

【0016】以下、添付した図面を参照して本発明の望
ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳細
に説明する。各図面に提示された同じ参照符号は同様の
構成要素を示す。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by explaining preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. The same reference numbers presented in the figures refer to similar components.

【0017】図1は、本発明の1実施形態による半導体
メモリ装置20を示すブロック図である。図1に示され
た半導体メモリ装置20は同期式DRAM(SDRA
M)である。メインセルアレイ30及び冗長カラムセル
アレイ32はロー及びカラム回路部により動作する。カ
ラム回路部は感知増幅器34及びカラムデコーダ50を
具備する。カラムデコーダ50は各カラムアドレスCA
に対してデータの書込みあるいは読出しが行われるカラ
ムラインを選択する。カラムデコーダ50内で、冗長メ
モリライン制御回路100はカラムアドレスCA及びカ
ラム選択イネーブル信号CSLENによってメインカラ
ムを代替する冗長カラムを決定する。
FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor memory device 20 according to one embodiment of the present invention. The semiconductor memory device 20 shown in FIG. 1 is a synchronous DRAM (SDRA).
M). The main cell array 30 and the redundant column cell array 32 are operated by row and column circuit units. The column circuit unit includes a sense amplifier 34 and a column decoder 50. The column decoder 50 uses each column address CA
A column line to which data is written or read is selected. In the column decoder 50, the redundant memory line control circuit 100 determines a redundant column that replaces the main column according to the column address CA and the column selection enable signal CSLEN.

【0018】ロー回路部は、ローデコーダ40及びロー
アドレスマルチプレクサ42を含む。ローデコーダ40
は各ローアドレスRAに対して活性化されるロー(ワー
ド)ラインを選択する。ロー選択イネーブル信号RSL
ENはRAが有効な時点を示す。半導体メモリ装置20
には冗長ローライン及び回路部は図示されていないが、
冗長カラムセルアレイ32及び冗長メモリライン制御回
路100と類似した冗長ローライン及び回路部が備わり
うる。ローアドレスマルチプレクサ42は、アドレスレ
ジスタ80から出力される外部ローアドレスと、リフレ
ッシュ制御器44により制御されるリフレッシュカウン
タ46から出力されるリフレッシュローアドレスとを受
信していずれか一つをローアドレスRAに出力する。
The row circuit section includes a row decoder 40 and a row address multiplexer 42. Row decoder 40
Selects a row (word) line activated for each row address RA. Low select enable signal RSL
EN indicates when RA is valid. Semiconductor memory device 20
Redundant row lines and circuit parts are not shown in FIG.
Redundant row lines and circuit units similar to the redundant column cell array 32 and the redundant memory line control circuit 100 may be provided. The row address multiplexer 42 receives the external row address output from the address register 80 and the refresh row address output from the refresh counter 46 controlled by the refresh controller 44, and sets one of them as a row address RA. Output.

【0019】回路入力及び出力は3つのレジスタセット
を通じて行われる。命令語レジスタ70は外部メモリコ
ントローラから命令語バスCMDを通じてワードライン
活性化、読出し、書込み、プリチャージ、オートリフレ
ッシュ、モードレジスタ印加のような命令語信号を受信
する。アドレスレジスタ80はメモリコントローラから
アドレスバスを通じてアドレス信号ADD[0:m]を
受信する。そして、データI/Oレジスタは両方向デー
タラインDQ[0:w]に連結される。
Circuit inputs and outputs are done through three sets of registers. The command word register 70 receives command word signals such as word line activation, read, write, precharge, auto-refresh, and mode register application from the external memory controller through the command word bus CMD. The address register 80 receives the address signal ADD [0: m] from the memory controller through the address bus. The data I / O register is connected to the bidirectional data lines DQ [0: w].

【0020】命令語デコーダ60は受信された命令語を
解釈して他のメモリ装置ブロックに適切な制御信号を生
じる。モードレジスタセット(Mode Regist
erSet:MRS)62はモードレジスタ印加命令が
CMDバスに受信される場合には、アドレスバスADD
を通じて装置設定信号を受信する。一般的に、MRSは
バーストタイプ、バースト長、レイテンシなどSDRA
Mの動作パラメータを定義するために使われるレジスタ
である。望ましい実施形態で、MRSの機能の一つは、
特定の命令がCMDバスに受信される場合には、ADD
バスに提供されるアドレスによって電気的ヒューズボッ
クス内のヒューズ部を設定することである。
The command word decoder 60 interprets the received command word to generate appropriate control signals for other memory device blocks. Mode register set (Mode Register)
erSet: MRS) 62 is an address bus ADD when a mode register application command is received on the CMD bus.
Through the device setting signal. In general, MRS is SDRA such as burst type, burst length, and latency.
A register used to define the operating parameters of M. In the preferred embodiment, one of the functions of MRS is
ADD if a particular command is received on the CMD bus
Setting the fuse part in the electrical fuse box by the address provided on the bus.

【0021】本発明が適用されるメモリ装置により多く
の進歩的な特性がありうるが、前述した特徴は本発明の
一実施形態を支援できる大部分のSDRAMに共通する
基本的な特徴である。本発明の実施形態に特に関連のあ
る半導体メモリ装置20の特徴は詳細に後述される。
Although the memory device to which the present invention is applicable may have many advanced characteristics, the above-mentioned characteristics are basic characteristics common to most SDRAMs capable of supporting one embodiment of the present invention. Features of the semiconductor memory device 20 that are particularly relevant to embodiments of the present invention are described in detail below.

【0022】図2は、本発明の第1実施形態による基本
的なデュアルモード冗長カラム制御回路100のブロッ
ク図である。図2を参照すれば、デュアルモード冗長カ
ラム制御回路100は電気的ヒューズボックス110、
アドレス比較器120、電気的冗長性制御ブロック13
1、レーザー冗長性制御ブロック132〜13n(nは
整数)及びRCSL発生器14i(i=1〜n)を具備
する。
FIG. 2 is a block diagram of a basic dual mode redundant column control circuit 100 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the dual mode redundant column control circuit 100 includes an electrical fuse box 110,
Address comparator 120, electrical redundancy control block 13
1, laser redundancy control blocks 132 to 13n (n is an integer) and RCSL generator 14i (i = 1 to n).

【0023】冗長カラム制御回路100は冗長カラムセ
ルアレイ(図1の32)でのn個の冗長カラムに対する
アクセスを制御する。RCSL発生器14iが対応する
冗長性カラム選択信号RCSLi(i=1〜n)を生じ
ると、欠陥のあるメインアレイカラムの代りにn個の冗
長カラムのうち一つが選択される。
The redundant column control circuit 100 controls access to n redundant columns in the redundant column cell array (32 in FIG. 1). When the RCSL generator 14i generates the corresponding redundancy column selection signal RCSLi (i = 1 to n), one of the n redundant columns is selected instead of the defective main array column.

【0024】各RCSL発生器14i(i=1〜n)は
冗長性制御ブロックから出力される対応するRCSLイ
ネーブル信号RCSLENi(i=1〜n)に応答して
活性化される。各RCSL発生器14i(i=1〜n)
は直列で連結される二つのインバータ(図示せず)を利
用して具現できる。
Each RCSL generator 14i (i = 1 to n) is activated in response to a corresponding RCSL enable signal RCSLENi (i = 1 to n) output from the redundancy control block. Each RCSL generator 14i (i = 1 to n)
Can be implemented using two inverters (not shown) connected in series.

【0025】図3は、電気的冗長性制御ブロック131
及びレーザー冗長性制御ブロック132〜13nの詳細
な回路図である。各レーザー冗長性制御ブロック132
〜13nはレーザーヒューズボックス及びアドレス比較
器、すなわち、レーザーヒューズ/比較器150を含
む。レーザービームはウェーハ段階のリペア動作中にレ
ーザーヒューズボックスにある選択されたヒューズを切
断する。その後、レーザーヒューズ/比較器150はカ
ラムアドレスCAをレーザーヒューズボックスに貯蔵さ
れた欠陥カラムアドレスと比較して、カラムアドレスC
Aが貯蔵されたアドレスと一致すればOUTを出力す
る。直列で連結されたインバータ154と共にNAND
ゲート152はOUTとCSLENとを論理積演算して
RCSLENiを生じる。RCSLENiが発生すれ
ば、冗長カラムiが選択される。
FIG. 3 shows an electrical redundancy control block 131.
13 is a detailed circuit diagram of the laser redundancy control blocks 132 to 13n. Each laser redundancy control block 132
13n includes a laser fuse box and address comparator, ie, laser fuse / comparator 150. The laser beam blows selected fuses in the laser fuse box during the wafer stage repair operation. Then, the laser fuse / comparator 150 compares the column address CA with the defective column address stored in the laser fuse box to determine the column address C.
If A matches the stored address, OUT is output. NAND with inverter 154 connected in series
Gate 152 ANDs OUT with CSLEN to produce RCSLENi. If RCSLENi is generated, the redundant column i is selected.

【0026】電気的冗長性制御ブロック131はNAN
Dゲート160とこれに直列で連結されたインバータ1
62とを含み、ENとCSLENとを論理積(AND)
演算してRCSLEN1を生じる。RCSLEN1が発
生すれば、冗長カラム1が選択される。
The electrical redundancy control block 131 is a NAN.
Inverter 1 connected in series with D gate 160
62, and logical product (AND) of EN and CSLEN
Calculate to produce RCSLEN1. If RCSLEN1 occurs, redundant column 1 is selected.

【0027】ENはアドレス比較器120の出力であ
り、CAがECAと一致する時に発生する(図2参
照)。ECAは電気的ヒューズボックス110に電気的
に貯蔵された欠陥カラムアドレスである。したがって、
冗長カラムライン2〜nはウェーハ段階リペア過程での
みプログラムされるのに対して、冗長カラム1はいずれ
の段階でも、すなわち、ポストリペア過程でもプログラ
ムされる。
EN is the output of the address comparator 120 and is generated when CA matches ECA (see FIG. 2). ECA is a defective column address electrically stored in the electrical fuse box 110. Therefore,
The redundant column lines 2 to n are programmed only in the wafer stage repair process, while the redundant column 1 is programmed in any stage, that is, in the post repair process.

【0028】図4及び図5は電気的ヒューズボックス1
10の一例を示す。まず図4を参照すれば、電気的ヒュ
ーズボックス110はバッファリングされる出力を有す
る多数の電気的ヒューズ部31a、31i(i=0〜
k)を含む。各電気的ヒューズ部は1ビットのデータを
貯蔵する。ヒューズ部31aはOUTaビットを貯蔵す
る。OUTaはバッファリングされて、電気的ヒューズ
ボックス110がプログラムされたかどうかを示すマス
タアクセス信号MAになる。ヒューズ部31i(i=0
〜k)はOUTiを貯蔵する。OUTiはバッファリン
グされて電気的カラムアドレス信号ビットECAiにな
る。
4 and 5 show the electrical fuse box 1
10 shows an example. Referring to FIG. 4, the electrical fuse box 110 includes a plurality of electrical fuse parts 31a and 31i (i = 0 to 0) having buffered outputs.
k) is included. Each electric fuse unit stores 1-bit data. The fuse unit 31a stores the OUTa bit. OUTa is buffered into a master access signal MA indicating whether the electrical fuse box 110 has been programmed. Fuse portion 31i (i = 0
~ K) store OUTi. OUTi is buffered into electrical column address signal bits ECAi.

【0029】MRS(図1の62)は、外部命令語に応
答してヒューズボックス110にプログラミング入力M
RSA、MRSCA0〜MRSCAkを生じる。各電気
的ヒューズ部は最初には第1状態にあるように、例え
ば、非設定アドレスビットを示すように組立てられる。
MRSプログラミング入力が印加されれば対応する電気
的ヒューズ部は第2状態、すなわち、設定アドレスビッ
トを示すように設定される。したがって、ヒューズボッ
クス110をプログラムするために、MRS62はリペ
アされるカラムアドレスをプログラムするために対応す
るカラムアドレスをMRSCA0〜kに印加し、マスタ
アクセスビットをプログラムするためにMRSAを活性
化する。
The MRS (62 in FIG. 1) is programmed into the fuse box 110 in response to an external command word.
This produces RSA, MRSCA0 to MRSCAk. Each electrical fuse portion is initially assembled in the first state, eg, to indicate a non-set address bit.
When the MRS programming input is applied, the corresponding electrical fuse portion is set to the second state, that is, to indicate the set address bit. Therefore, to program the fuse box 110, the MRS 62 applies the corresponding column address to MRSCA0-k to program the column address to be repaired, and activates the MRSA to program the master access bit.

【0030】図5は、電気的ヒューズ部31i(i=
a、0〜k)の一具現例を示す詳細な回路図である。各
電気的ヒューズ部31a、31i(i=0〜k)は第1
及び第2ヒューズ素子F1、F2、第1〜第5NMOS
トランジスタN1〜N5、第1〜第2PMOSトランジ
スタP1、P2を含む。
FIG. 5 shows an electrical fuse section 31i (i =
It is a detailed circuit diagram which shows one implementation example of a, 0-k). Each of the electric fuse units 31a and 31i (i = 0 to k) has a first
And second fuse elements F1 and F2 and first to fifth NMOSs
The transistors N1 to N5 and the first and second PMOS transistors P1 and P2 are included.

【0031】第1及び第2NMOSトランジスタN1、
N2のドレーン、第1PMOSトランジスタP1のドレ
ーン、第2PMOSトランジスタP2のゲート及び第3
NMOSトランジスタN3のゲートが第1ノード411
に共通で接続される。そして、第1PMOSトランジス
タP1のゲート、第2NMOSトランジスタN2のゲー
ト、第3及び第4トランジスタN3、N4のドレーン及
び第2PMOSトランジスタP2のドレーンが第2ノー
ド412に共通で接続される。第2ノード412の信号
が出力信号OUTになる。各NMOSトランジスタのソ
ースはグラウンドに接続され、P1、P2のソースはそ
れぞれヒューズF1、F2を通じてVDDに接続され
る。そして、N5のドレーンはP1のソースに接続され
る。
The first and second NMOS transistors N1,
The drain of N2, the drain of the first PMOS transistor P1, the gate of the second PMOS transistor P2, and the third
The gate of the NMOS transistor N3 has a first node 411.
Commonly connected to. The gate of the first PMOS transistor P1, the gate of the second NMOS transistor N2, the drains of the third and fourth transistors N3 and N4, and the drain of the second PMOS transistor P2 are commonly connected to the second node 412. The signal of the second node 412 becomes the output signal OUT. The sources of the NMOS transistors are connected to the ground, and the sources of P1 and P2 are connected to VDD through the fuses F1 and F2, respectively. The drain of N5 is connected to the source of P1.

【0032】ヒューズ部31iはヒューズF2の抵抗を
ヒューズF1の抵抗より大きくする。したがって、両ヒ
ューズがいずれも切断されなければ、ヒューズ部に電源
が供給される場合にノード412はロジックロー状態で
駆動し、ノード411はロジックハイ状態で駆動する。
The fuse portion 31i makes the resistance of the fuse F2 larger than that of the fuse F1. Therefore, if both fuses are not blown, the node 412 is driven in the logic low state and the node 411 is driven in the logic high state when power is supplied to the fuse portion.

【0033】第1及び第4NMOSトランジスタN1、
N4のゲートに正常状態がロジックロー状態である第1
入力信号MRS1が入力される。第1入力信号MRS1
はヒューズF1が切断されているか否かを調べるために
必要な信号であり、簡略に後述される。
First and fourth NMOS transistors N1,
The normal state of the gate of N4 is the logic low state.
The input signal MRS1 is input. First input signal MRS1
Is a signal necessary for checking whether or not the fuse F1 is blown, and will be briefly described later.

【0034】第5NMOSトランジスタN5のゲートに
は第2入力信号MRS2が入力される。第2入力信号M
RS2は第1ヒューズ素子F1を電気的に切断するため
に使われる。第2入力信号MRS2がハイレベルになれ
ば、第5NMOSトランジスタN5がターンオンされて
第1ヒューズ素子F1に過電流が流れる。よって、第1
ヒューズ素子F1が燃えて電気的に切断される。第1ヒ
ューズ素子F1が切断されれば、第1PMOSトランジ
スタP1のソースがターンオンされる第5NMOSトラ
ンジスタN5によって低電位になり、したがって、第1
ノード411の電圧が下降する。第1ノード411の電
圧が下降するにつれて第2PMOSトランジスタP2は
ターンオンされて第2ノード412の電圧は上昇する。
第2ノード412の電圧が上昇するにつれて、第2NM
OSトランジスタN2がさらにターンオンされて第1ノ
ード411の電圧はさらに下降する。このような過程を
通じて結局出力信号OUTはハイレベルになる。
The second input signal MRS2 is input to the gate of the fifth NMOS transistor N5. Second input signal M
RS2 is used to electrically disconnect the first fuse element F1. When the second input signal MRS2 goes high, the fifth NMOS transistor N5 is turned on and an overcurrent flows through the first fuse element F1. Therefore, the first
The fuse element F1 burns and is electrically cut. When the first fuse element F1 is cut off, the source of the first PMOS transistor P1 is turned to a low potential by the fifth NMOS transistor N5 which is turned on, and thus
The voltage of node 411 drops. As the voltage of the first node 411 decreases, the second PMOS transistor P2 is turned on and the voltage of the second node 412 increases.
As the voltage of the second node 412 increases, the second NM
The OS transistor N2 is further turned on and the voltage of the first node 411 further decreases. Through this process, the output signal OUT eventually becomes high level.

【0035】プログラミング後、第1入力信号MRS1
は第2入力信号MRS2の印加によりヒューズF1が完
全に切断されたかどうかを決定するのに使われうる。テ
ストモードで、MRS1は瞬間的にロジックハイ状態に
なって、両側ノード411、412をロジックロー状態
にする。もし、ヒューズF1が切断されなかったなら
ば、ノード411はMSR1がロー状態に回復される時
にハイ状態に復帰する。
After programming, the first input signal MRS1
Can be used to determine whether the fuse F1 has been completely blown by the application of the second input signal MRS2. In test mode, MRS1 momentarily goes to a logic high state, causing both nodes 411 and 412 to go to a logic low state. If fuse F1 was not blown, node 411 returns to a high state when MSR1 is restored to a low state.

【0036】MRS1の印加/非印加によってリペアさ
れたアドレスラインがテストされる。テストが成功しな
ければ、一つ以上のヒューズが完全に切断されず、した
がって冗長カラムが欠陥カラムを正常に代替できなかっ
たことを意味する。その場合には、電気的プログラミン
グ及びテスト過程がヒューズ切断を再試行するために反
復されることがある。
The repaired address line is tested by application / non-application of MRS1. If the test is unsuccessful, it means that one or more fuses were not completely blown and thus the redundant column could not successfully replace the defective column. In that case, the electrical programming and test process may be repeated to retry the fuse blow.

【0037】図6は、図2のアドレス比較器の一具現例
を詳細に示す回路図である。アドレス比較器120は、
多数の比較部51i(i=0〜k)、多数の論理積ゲー
ト520、522、524を含む。各論理積ゲートはN
ANDゲートとインバータとで構成される。
FIG. 6 is a circuit diagram showing in detail an implementation of the address comparator of FIG. The address comparator 120 is
A large number of comparators 51i (i = 0 to k) and a large number of AND gates 520, 522, 524 are included. Each AND gate is N
It is composed of an AND gate and an inverter.

【0038】各比較部51i(i=0〜k)は1ビット
XNOR(exclusive−NOR)機能を実行す
る。各比較部51i(i=0〜k)は電気的リペアアド
レスビットECAi(i=0〜k)及び外部アドレスの
対応するビットCAi(i=0〜k)を受信して同一か
どうかを比較する。両ビットが同一であれば、ハイレベ
ルの信号が出力され、両ビットが相異なればローレベル
の信号が出力される。
Each comparator 51i (i = 0 to k) executes a 1-bit XNOR (exclusive-NOR) function. Each comparing unit 51i (i = 0 to k) receives the electrical repair address bit ECAi (i = 0 to k) and the corresponding bit CAi (i = 0 to k) of the external address and compares the bits for comparison. . If both bits are the same, a high level signal is output, and if both bits are different, a low level signal is output.

【0039】各比較部51i(i=0〜k)から出力さ
れる信号とマスタ信号MAとが論理積演算されて電気的
リペア活性信号ENに出力される。したがって、各比較
部51i(i=0〜k)から出力される出力信号がいず
れもハイレベルである場合には、電気的リペア活性信号
ENがハイレベルに活性化される。
The signal output from each comparator 51i (i = 0 to k) and the master signal MA are logically ANDed and output as an electrical repair activation signal EN. Therefore, when all the output signals output from the comparison units 51i (i = 0 to k) are at the high level, the electrical repair activation signal EN is activated to the high level.

【0040】図2〜図6に図示及び説明されたように、
冗長カラム制御ブロックは一つの冗長カラムをポストリ
ペア用に使用するために、レーザーヒューズだけの冗長
性スキームに比べてリペア能力を向上させる。同時に、
本実施形態は、大部分のアレイ欠陥がウェーハ段階のリ
ペア過程で存在して検出できるという認識に基づいて、
大部分の冗長カラムをより経済的なレーザーヒューズ制
御回路で駆動する。
As shown and described in FIGS. 2-6,
The redundant column control block uses one redundant column for post-repair, and thus improves the repair capability as compared to the laser fuse only redundancy scheme. at the same time,
This embodiment is based on the recognition that most array defects are present and can be detected during the wafer stage repair process.
Most redundant columns are driven by more economical laser fuse control circuits.

【0041】図2に示された実施形態によれば、電気的
冗長性制御ブロックに関連する冗長カラムに不良が発生
すれば、リペアが不可能である。すなわち、この冗長カ
ラムが不良であれば、冗長カラム2〜nのうち一つ以上
の冗長カラムが欠陥がなくて使われなかったしてもポス
トリペアは不可能である。これに対し、第2実施形態に
よれば、電気的冗長性制御信号に関するいくつかの冗長
カラムのうち一つを選択させることによってポストリペ
アを実施する可能性を向上させる。望ましくは、ウェー
ハ組立て後に、欠陥のない冗長カラムがポストリペア用
に割当てられる。また望ましくは、それぞれの欠陥のな
い冗長カラムはレーザーリペアにも割当てられる。
According to the embodiment shown in FIG. 2, if a defect occurs in the redundant column associated with the electrical redundancy control block, repair is impossible. That is, if this redundant column is defective, post-repair is impossible even if one or more redundant columns of the redundant columns 2 to n have no defect and are not used. On the other hand, according to the second embodiment, the possibility of carrying out post repair is improved by selecting one of several redundant columns related to the electrical redundancy control signal. Preferably, after wafer assembly, defect-free redundant columns are allocated for post repair. Also preferably, each defect-free redundant column is also assigned to a laser repair.

【0042】図7は、第2実施形態による冗長カラム制
御回路200を示すブロック図である。いろいろな面で
図2と類似しているが、図7はポストリペア制御ブロッ
ク251〜25n、他の冗長性制御ブロック231〜2
3nを含み、制御信号が異なる。このような相異点は図
7〜図10を参照して後述される。簡単に言えば、各冗
長性制御ブロック23iはレーザーヒューズ機能を有す
るが、電気的リペア活性信号ENにも応答するように構
成される。したがって、ポストリペア用にのみ具現され
る冗長カラムはなく、あらゆる冗長カラムはレーザーリ
ペア用に使われてもよく、必要であれば欠陥のない冗長
カラムはウェーハ組立て後にポストリペア電気的ヒュー
ズ回路に割当てられる。このような融通性により、ウェ
ーハ段階及びポストリペア段階で欠陥のない冗長カラム
を効率的に使用できる。
FIG. 7 is a block diagram showing a redundant column control circuit 200 according to the second embodiment. 2 is similar to FIG. 2 in various aspects, but FIG. 7 shows the post repair control blocks 251 to 25n and the other redundancy control blocks 231 to 2n.
3n, and the control signals are different. Such a difference will be described later with reference to FIGS. Briefly, each redundancy control block 23i has a laser fuse function, but is also configured to respond to the electrical repair activation signal EN. Therefore, there is no redundant column implemented only for post repair, any redundant column may be used for laser repair, and defect-free redundant columns can be assigned to post repair electrical fuse circuits after wafer assembly if necessary. To be Such flexibility allows efficient use of defect-free redundant columns at the wafer and post repair stages.

【0043】図2の冗長カラム制御回路と類似して、図
7の制御回路200はMRSを利用して所望のポストリ
ペアカラムアドレスに設定されうる電気的ヒューズボッ
クス210を具備する。アドレス比較器220は、電気
的ヒューズボックス210にプログラムされたアドレス
ECAとカラムアドレスCAとを比較する。アドレス比
較器220はプログラムされたアドレスECAと外部ア
ドレスCAとが一致すれば、電気的リペア活性信号EN
をハイレベルに活性化する。
Similar to the redundant column control circuit of FIG. 2, the control circuit 200 of FIG. 7 includes an electrical fuse box 210 that can be set to a desired post repair column address using MRS. The address comparator 220 compares the address ECA programmed in the electrical fuse box 210 with the column address CA. If the programmed address ECA matches the external address CA, the address comparator 220 receives the electrical repair activation signal EN.
Is activated to a high level.

【0044】図2では、電気的冗長性制御ブロック13
1だけが電気的リペアアドレス比較器120からENを
受信するのに対し、図7では、各冗長性制御ブロック2
31〜23nはアドレス比較器220からENを受信す
る。各冗長性制御ブロック23iはまたカラムアドレス
CA、及び対応するポストリペア制御ブロック25iか
ら制御信号CSiを受信する。制御信号CSiは冗長性
制御ブロック23iがENに応答するか、レーザーヒュ
ーズ/比較器と結合してCAを使用するかを決定する。
典型的には、ポストリペア制御ブロック25iのうち1
ブロックのヒューズだけ切断されるであろう。ポストリ
ペア制御ブロック25i内のヒューズが切断されれば対
応する制御信号CSiが活性化されるが、これは対応す
る冗長カラムがポストリペア用に使われうることを意味
する。
In FIG. 2, the electrical redundancy control block 13
1 only receives EN from the electrical repair address comparator 120, whereas in FIG. 7, each redundancy control block 2
31 to 23n receive EN from the address comparator 220. Each redundancy control block 23i also receives a column address CA and a control signal CSi from the corresponding post repair control block 25i. The control signal CSi determines whether the redundancy control block 23i responds to EN or uses CA in combination with the laser fuse / comparator.
Typically, one of the post repair control blocks 25i
Only the block fuse will be blown. When the fuse in the post repair control block 25i is blown, the corresponding control signal CSi is activated, which means that the corresponding redundant column can be used for post repair.

【0045】図8は、冗長性制御ブロックを詳細に示す
図面である。冗長性制御ブロック23iは対応するRC
SL発生器24i(i=1〜n)に冗長性活性信号RC
SLENi(i=1〜n)を出力する。各冗長性制御ブ
ロック23iはレーザーリペアのためにレーザーリペア
処理パート610、ポストリペアのためにポストリペア
処理パート620を含む。
FIG. 8 is a drawing showing the redundancy control block in detail. The redundancy control block 23i has a corresponding RC
The redundancy activation signal RC is sent to the SL generator 24i (i = 1 to n).
SLENi (i = 1 to n) is output. Each redundancy control block 23i includes a laser repair processing part 610 for laser repair and a post repair processing part 620 for post repair.

【0046】レーザーリペア処理パート610は、レー
ザーヒューズボックス611、アドレス比較部612及
び第1論理部613を含む。
The laser repair processing part 610 includes a laser fuse box 611, an address comparison unit 612 and a first logic unit 613.

【0047】レーザーヒューズボックス611は、多数
のレーザーで切断されるヒューズを含む。レーザーヒュ
ーズは、レーザーによって選択的に切断されることによ
って不良セルが発生したカラムを指定するアドレスLC
Aにプログラムされる。
Laser fuse box 611 contains a number of laser blown fuses. The laser fuse is an address LC that specifies a column in which a defective cell is generated by being selectively cut by a laser.
Program to A.

【0048】アドレス比較部612はアドレス比較器2
20と同じく、レーザーヒューズボックス611にプロ
グラムされたアドレスLCAと外部から印加されるアド
レスCAとが同一であれば活性化される出力信号OUT
を生じる。
The address comparison unit 612 is the address comparator 2
Similar to 20, the output signal OUT that is activated if the address LCA programmed in the laser fuse box 611 and the address CA applied from the outside are the same.
Cause

【0049】第1論理部613は、アドレス比較部61
2から出力される出力信号OUTと制御信号CSiとを
論理和演算して第1論理信号TS1を出力する。制御信
号CSiは前述したようにポストリペア制御ブロック2
5iから出力される信号であり、第1レベル(ここで
は、ハイレベル)である場合にはポストリペアを指示す
る。
The first logic unit 613 is the address comparison unit 61.
The output signal OUT output from 2 and the control signal CSi are ORed to output the first logic signal TS1. The control signal CSi is, as described above, the post repair control block 2
The signal is output from 5i, and when it is at the first level (here, high level), post repair is instructed.

【0050】ポストリペア処理パート620はインバー
タ621と第2論理部622とを含む。インバータ62
1はCSiの反転信号CSi#を生じる。第2論理部6
22は、制御信号CSiの反転信号CSi#と電気的リ
ペア活性信号ENとを論理和演算して第2論理信号TS
2を出力する。
The post repair processing part 620 includes an inverter 621 and a second logic unit 622. Inverter 62
1 produces the inverted signal CSi # of CSi. Second logic unit 6
A second logical signal TS 22 performs a logical OR operation on the inverted signal CSi # of the control signal CSi and the electrical repair activation signal EN.
2 is output.

【0051】第3論理部631は、レーザーリペア処理
パート610及びポストリペア処理パート620に共有
されるものであり、第1及び第2論理信号TS1、TS
2とカラム選択信号CSLENとを論理積演算して冗長
性活性化信号RCSLENi(i=1〜n)を出力す
る。
The third logic section 631 is shared by the laser repair processing part 610 and the post repair processing part 620, and the first and second logic signals TS1 and TS.
2 and the column selection signal CSLEN are ANDed and a redundancy activation signal RCSLENi (i = 1 to n) is output.

【0052】読出しまたは書込み命令が半導体メモリ装
置に受信される時、外部カラムアドレスCAも共に受信
される。CAにより指定されたメインカラムがリペアさ
れなければ、いかなるリペアヒューズボックスもそのア
ドレスを含んでいない。CAにより指定されたメインカ
ラムがウェーハ段階のレーザーリペア過程で代替されれ
ば、そのカラムアドレスは冗長性制御ブロック23iの
うち一つのレーザーヒューズボックス611に貯蔵され
る。そして、CAにより指定されたメインカラムがポス
トリペア過程で代替されれば、そのカラムアドレスは電
気的ヒューズボックス210に貯蔵される。CAは電気
的ヒューズアドレス比較器220だけでなく、各冗長性
制御ブロック23iのアドレス比較器612にも提供さ
れる。各アドレス比較器はCAをそれ自体の貯蔵された
アドレスと比較する。すなわち、アドレス比較器612
はCAをレーザーヒューズアドレスLCAと比較し、ア
ドレス比較器220はCAを電気的ヒューズアドレスE
CAと比較する。欠陥のあるメインカラムがリペアされ
たとすれば、アドレス比較器のうち一つはCAと貯蔵さ
れたアドレスとが一致することを検出して出力信号OU
TまたはENを活性化する。CAにより指定されたメイ
ンカラムがリペアされなかったならば、どの比較器も出
力信号を活性化しないであろう。
When a read or write command is received by the semiconductor memory device, the external column address CA is also received. If the main column designated by CA is not repaired, then no repair fuse box contains that address. If the main column designated by CA is replaced in the laser repair process at the wafer stage, the column address is stored in one laser fuse box 611 of the redundancy control block 23i. Then, if the main column designated by CA is replaced in the post repair process, the column address is stored in the electrical fuse box 210. CA is provided not only to the electrical fuse address comparator 220 but also to the address comparator 612 of each redundancy control block 23i. Each address comparator compares CA with its own stored address. That is, the address comparator 612
Compares CA with the laser fuse address LCA, and the address comparator 220 compares CA with the electrical fuse address ECA.
Compare with CA. If the defective main column is repaired, one of the address comparators detects that the CA and the stored address match and outputs the output signal OU.
Activate T or EN. If the main column designated by CA was not repaired, no comparator would activate the output signal.

【0053】第1または主要動作モードでは各冗長性制
御回路23iはレーザーヒューズ−プログラムによるリ
ペアアドレスに応答する。このモードで制御信号CSi
は非活性化され、TS1はOUTに応答し、TS2は常
に非活性化される。したがって、CAとLCAとが一致
してCSLENが活性化されれば、冗長カラム選択信号
RCSLENiが活性化される。そうでなければ、冗長
カラム選択信号RCSLENiは非活性状態に維持され
る。
In the first or main operation mode, each redundancy control circuit 23i responds to the repair address by the laser fuse-program. In this mode, control signal CSi
Are deactivated, TS1 responds to OUT, and TS2 is always deactivated. Therefore, when CA and LCA match and CSLEN is activated, the redundant column selection signal RCSLENi is activated. Otherwise, the redundant column selection signal RCSLENi is maintained in the inactive state.

【0054】代替動作モードでは各冗長性制御回路23
iは、電気的ヒューズプログラムによるリペアアドレス
に応答する。このモードで制御信号CSiは活性化さ
れ、TS1は常に活性化され、TS2はENに応答す
る。したがって、CAとECAとが一致してCSLEN
が活性化されれば、冗長カラム選択信号RCSLENi
が活性化される。そうでなければ、冗長カラム選択信号
RCSLENiは非活性状態に維持される。
In the alternative operation mode, each redundancy control circuit 23
i responds to the repair address by the electrical fuse program. In this mode, the control signal CSi is activated, TS1 is always activated, and TS2 responds to EN. Therefore, CA and ECA match and CSLEN
Is activated, the redundant column selection signal RCSLENi
Is activated. Otherwise, the redundant column selection signal RCSLENi is maintained in the inactive state.

【0055】図7の実施形態では冗長性制御ブロック2
3iのうち多くとも一つのブロックが代替動作モードに
設定される。他のあらゆる冗長性制御ブロックは主要動
作モードに設定される。どの制御ブロック23iが代替
動作モードに設定されるかはポストリペア制御ブロック
25iの状態によって決定される。各ポストリペア制御
ブロック25iはヒューズまたは他の設定可能な素子を
含む。例えば、図9はポストリペア制御ブロックの一具
現例を示す。
In the embodiment of FIG. 7, the redundancy control block 2
At most one of the 3i blocks is set to the alternative operating mode. All other redundancy control blocks are set to the main operating mode. Which control block 23i is set to the alternative operation mode is determined by the state of the post repair control block 25i. Each post repair control block 25i includes a fuse or other configurable element. For example, FIG. 9 illustrates an exemplary implementation of the post repair control block.

【0056】図9で、ポストリペア制御ブロック25i
はポストリペアヒューズ710を含む。ポストリペアヒ
ューズ710はウェーハ段階でレーザーで切断可能なヒ
ューズであることが望ましい。制御信号CSiが活性さ
れるか否かはポストリペアヒューズ710が切断される
か否かによって決定される。すなわち、ポストリペアヒ
ューズ710が切断されていない場合には制御信号CS
iはローレベルに非活性化され、ポストリペアヒューズ
710が切断される場合には制御信号CSiはハイレベ
ルに活性化される。
In FIG. 9, the post repair control block 25i
Includes a post repair fuse 710. The post repair fuse 710 is preferably a laser-cuttable fuse at the wafer stage. Whether the control signal CSi is activated depends on whether the post repair fuse 710 is cut. That is, when the post repair fuse 710 is not cut, the control signal CS
i is deactivated to a low level, and when the post repair fuse 710 is cut, the control signal CSi is activated to a high level.

【0057】ポストリペア制御ブロック25iは、ヒュ
ーズ710以外に二つのPMOSトランジスタP3、P
4、一つのNMOSトランジスタN6及び二つのインバ
ータ712、714を含む。PMOSトランジスタP
3、P4のそれぞれはそのソースはVDDに、そのドレ
ーンはヒューズ710の一端のノード810に接続され
る。NMOSトランジスタN6は、そのソースはグラウ
ンドに、そのドレーンはヒューズ710の他の一端に接
続される。
The post repair control block 25i includes two PMOS transistors P3 and P3 in addition to the fuse 710.
4, including one NMOS transistor N6 and two inverters 712 and 714. PMOS transistor P
The sources of 3 and P4 are connected to VDD, and the drain thereof is connected to the node 810 at one end of the fuse 710. The NMOS transistor N6 has its source connected to the ground and its drain connected to the other end of the fuse 710.

【0058】ノード810はインバータ712の入力に
接続される。ノード812はインバータ712の出力を
インバータ714の入力及びPMOSトランジスタP4
のゲートに連結させる。インバータ714の出力は制御
信号CSiになる。
Node 810 is connected to the input of inverter 712. The node 812 outputs the output of the inverter 712 to the input of the inverter 714 and the PMOS transistor P4.
Connect to the gate. The output of the inverter 714 becomes the control signal CSi.

【0059】ポストリペア制御ブロック25iの入力信
号はパワーアップ信号VCCHである。パワーアップ信
号VCCHの波形は図10に示されている。パワーアッ
プ信号VCCHは半導体メモリ装置に電源POWERが
印加されれば(T1)、初期にはローレベルであるが、
電源レベルが一定レベル以上になれば(T2)ハイレベ
ルになる信号である。パワーアップ信号VCCHはトラ
ンジスタP3、N6のゲートに印加される。
The input signal of the post repair control block 25i is the power-up signal VCCH. The waveform of the power-up signal VCCH is shown in FIG. The power-up signal VCCH is initially at a low level when the power supply POWER is applied to the semiconductor memory device (T1),
It is a signal that becomes high level when the power supply level becomes a certain level or higher (T2). The power-up signal VCCH is applied to the gates of the transistors P3 and N6.

【0060】ポストリペア制御ブロック25iの動作は
次の通りである。まず、ポストリペアヒューズ710が
切断された状態であると仮定する。半導体メモリ装置が
パワーオンされれば(図10のT1時点)、パワーアッ
プ信号VCCHはローレベル状態にあり、PMOSトラ
ンジスタP3はターンオンされる。ヒューズ710は切
断された状態であるためノード810はハイレベルにな
る。インバータ712によってノード812はローレベ
ルになり、制御信号CSiはハイレベルになる。
The operation of the post repair control block 25i is as follows. First, assume that post repair fuse 710 is in a blown state. When the semiconductor memory device is powered on (time T1 in FIG. 10), the power-up signal VCCH is in the low level state and the PMOS transistor P3 is turned on. Since the fuse 710 is blown, the node 810 becomes high level. The node 812 becomes low level and the control signal CSi becomes high level by the inverter 712.

【0061】図8のT2時点後にパワーアップ信号VC
CHがハイレベルになってPMOSトランジスタP3が
ターンオフされても、PMOSトランジスタP4のゲー
トに印加される信号はローレベルであるため、PMOS
トランジスタP4がターンオンされてノード810はハ
イレベルに維持され、制御信号CSiもハイレベルに維
持される。
After time T2 in FIG. 8, the power-up signal VC
Even if CH becomes high level and the PMOS transistor P3 is turned off, the signal applied to the gate of the PMOS transistor P4 is low level.
The transistor P4 is turned on, the node 810 is maintained at the high level, and the control signal CSi is also maintained at the high level.

【0062】一方、ポストリペア制御用ヒューズ710
がレーザーで切断されていない状態であると仮定する。
この状態でパワーアップ信号VCCHが入力されれば、
PMOSトランジスタP3がターンオンされてノード8
10が一時的にハイレベルになるが、まもなくパワーア
ップ信号VCCHがハイレベルになれば、NMOSトラ
ンジスタN6がターンオンされてPMOSトランジスタ
P3はターンオフされて、ノード810はローレベルに
なる。インバータ712によってノード812はハイレ
ベルになり、PMOSトランジスタP4をターンオフさ
せる。インバータ714はローレベルの制御信号CSi
を出力する。
On the other hand, the post repair control fuse 710.
Is not cut by a laser.
If the power-up signal VCCH is input in this state,
When the PMOS transistor P3 is turned on, the node 8
10 is temporarily set to the high level, but when the power-up signal VCCH is set to the high level soon, the NMOS transistor N6 is turned on, the PMOS transistor P3 is turned off, and the node 810 is set to the low level. The node 812 goes high due to the inverter 712, turning off the PMOS transistor P4. The inverter 714 is a low level control signal CSi.
Is output.

【0063】本実施形態で、ポストリペア用に使われる
冗長カラムラインiはウェーハ状態で決定されることが
望ましい。例えば、不良が発生しない冗長カラムを調べ
るために冗長カラムラインがテストされる。欠陥のない
冗長メモリラインはポストリペア用に割当てられる。ポ
ストリペア用への割当ては、そのメモリラインに関する
ポストリペア制御ブロックのヒューズ710の切断によ
り行われる。
In this embodiment, it is desirable that the redundant column line i used for post repair be determined in a wafer state. For example, the redundant column lines are tested to see which redundant columns do not fail. Defect-free redundant memory lines are allocated for post repair. The allocation for the post repair is performed by cutting the fuse 710 of the post repair control block for the memory line.

【0064】また望ましくは、ポストリペア用に使われ
る冗長メモリラインの選択はウェーハ段階のレーザーヒ
ューズリペア動作と関連して行われる。例えば、どんな
ラインが不良であるかを調べるためにメイン及び冗長カ
ラムラインがウェーハ段階でテストされる。各不良メイ
ンアレイカラムラインに対しては欠陥のない冗長メモリ
ラインが指定され、冗長メモリラインに関するレーザー
ヒューズボックス(図8の611)が不良メインアレイ
カラムラインのアドレスでプログラムされる。あらゆる
不良メインメモリラインがリペアされて欠陥のない冗長
メモリラインが指定されないまま残っている場合、残っ
ている欠陥のない冗長メモリラインのうち一つがポスト
リペア用に割当てられる。ポストリペア用への割当て
は、そのメモリラインに関するポストリペア制御ブロッ
クのヒューズ710の切断により行われる。
Also preferably, the selection of redundant memory lines used for post repair is performed in connection with the laser fuse repair operation at the wafer level. For example, main and redundant column lines are tested at the wafer stage to see what lines are bad. A defect-free redundant memory line is designated for each defective main array column line, and the laser fuse box (611 in FIG. 8) for the redundant memory line is programmed with the address of the defective main array column line. If all defective main memory lines have been repaired and the non-defective redundant memory lines remain unspecified, then one of the remaining non-defective redundant memory lines is assigned for post repair. The allocation for the post repair is performed by cutting the fuse 710 of the post repair control block for the memory line.

【0065】そして、半導体メモリ装置はパッケージン
グされ、パッケージ状態で第2のテストが行われる。
Then, the semiconductor memory device is packaged, and the second test is performed in the packaged state.

【0066】前記半導体メモリ装置のパッケージ状態で
不良メモリカラムが発生すると、MRS260を利用し
て電気的ヒューズボックス210を欠陥カラムアドレス
でプログラムする命令語を印加することによってリペア
が行われる。ポストリペア制御ブロック25iがレーザ
ーリペア後に使用可能でありポストリペア用に割当てら
れたならば、ポストリペアが可能になる。
When a defective memory column occurs in the packaged state of the semiconductor memory device, the MRS 260 is used to apply a command to program the electrical fuse box 210 with the defective column address to perform repair. Post repair is enabled if post repair control block 25i is available after laser repair and is assigned for post repair.

【0067】ウェーハ段階テスト及びプログラミング中
にポストリペア用カラムを選択することが望ましいが、
他の実施形態も可能である。例えば、図11は、ボンデ
ィングパッド830を通じてポストリペア用カラムを選
択する他のポストリペア制御ブロック27iの具現例を
示す。一状態ではボンディングパッド830は連結され
ないまま残っている。NMOSトランジスタ N7、N
8、N9はノード820をローレベルに引き下げること
によって、インバータ720、722によりローレベル
の制御信号CSiが出力されるようにする。
Although it is desirable to select a post repair column during wafer stage testing and programming,
Other embodiments are possible. For example, FIG. 11 illustrates an example of another post repair control block 27i that selects a post repair column through the bonding pad 830. In one state, the bonding pad 830 remains unconnected. NMOS transistor N7, N
8 and N9 pull down the node 820 to the low level so that the inverters 720 and 722 output the low-level control signal CSi.

【0068】他の状態ではボンディングパッド830は
VDDに接続される。したがって、ノード820及び制
御信号CSiはハイレベルになる。制御信号CSiをハ
イレベルにしてポストリペア用冗長カラムを選択するた
めには、ボンディングパッド830はワイヤボンディン
グ中にVDDパッドにワイヤボンディングされねばなら
ない。ポストリペア用冗長カラムを選択するための他の
方法は、ボンディングパッド830を半導体メモリ装置
外部のチップキャリア上のリード(lead)線でVD
Dに接続されるリード線にワイヤボンディングすること
である。
In other states, the bonding pad 830 is connected to VDD. Therefore, the node 820 and the control signal CSi go high. The bonding pad 830 must be wire bonded to the VDD pad during wire bonding in order to set the control signal CSi to the high level and select the redundant column for post repair. Another method for selecting the redundant column for post repair is to use the bonding pad 830 as a VD with a lead wire on a chip carrier outside the semiconductor memory device.
Wire bonding to the lead wire connected to D.

【0069】さらに他の選択方法の実施形態が図12及
び図13に示される。この例はパッケージング後にポス
トリペア比較器220に関する冗長カラムの選択を可能
にする。図12で、各ポストリペア制御ブロック28i
(i=1〜n)はMRS290から出力される対応する
制御ラインMRSPRCiを通じて電気的にプログラム
可能である。与えられたポストリペア制御ブロック28
iを電気的ヒューズボックスアドレス比較器220と結
合させるために制御ラインMRSPRCiを活性化する
命令が印加される。すると、ポストリペア制御ブロック
28i内の電気的ヒューズが切断されて、制御信号CS
iが活性化される。
Still another selection method embodiment is shown in FIGS. This example allows the selection of redundant columns for post repair comparator 220 after packaging. In FIG. 12, each post repair control block 28i
(I = 1 to n) are electrically programmable through corresponding control lines MRSPRCi output from MRS 290. Given post repair control block 28
A command is applied to activate control line MRSPRCi to couple i with electrical fuse box address comparator 220. Then, the electrical fuse in the post repair control block 28i is cut off, and the control signal CS
i is activated.

【0070】この例では、どの冗長性制御ブロック23
iが相変らず使用可能であり、欠陥がないかを調べるの
が困難である。このような問題を解決するために、各ポ
ストリペア制御ブロック28iはポストリペア制御ブロ
ック28i内の電気的ヒューズが切断されることを防止
するレーザーヒューズを含む。したがって、ウェーハ段
階プログラミング中に各冗長性制御ブロック23iはレ
ーザーリペア用に使われ、対応するポストリペア制御ブ
ロック28i内のレーザーヒューズは対応するポストリ
ペア制御ブロックの電気的プログラミングを防止するた
めにまた切断される。与えられた冗長カラムが不良であ
ると分かれば、対応するポストリペア制御ブロック内の
レーザーヒューズはまた、そのポストリペア制御ブロッ
クの電気的プログラミングを防止するために切断され
る。
In this example, which redundancy control block 23
i can still be used, and it is difficult to check for defects. To solve this problem, each post repair control block 28i includes a laser fuse that prevents the electrical fuse in the post repair control block 28i from being blown. Therefore, during the wafer stage programming, each redundancy control block 23i is used for laser repair, and the laser fuse in the corresponding post repair control block 28i is also blown to prevent electrical programming of the corresponding post repair control block. To be done. If a given redundant column is found to be defective, the laser fuse in the corresponding post repair control block is also blown to prevent electrical programming of that post repair control block.

【0071】その後、欠陥カラムのポストリペア中に、
最初のiに対してポストリペア制御ブロックの選択及び
電気的ヒューズ切断が行われる。この最初の選択後、欠
陥カラムがリペアされなかったならば、対応するポスト
リペア制御ブロックはディスエーブルされたと推定され
る。すると、リペアが正常に完了するまで新しいiを選
択して前記過程を繰り返し、全てのiに対してリペアが
成功しなければ、ポストリペアは失敗したことになる。
Then, during post repair of the defective column,
For the first i, the post repair control block is selected and the electrical fuse is cut. If the defective column has not been repaired after this first selection, then the corresponding post-repair control block is presumed to be disabled. Then, a new i is selected until the repair is completed normally, and the above process is repeated. If the repair is not successful for all i, the post repair has failed.

【0072】図13は、図12に示されたポストリペア
制御ブロック28iの一具現例を示す回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing one embodiment of the post repair control block 28i shown in FIG.

【0073】制御ブロック28iは、ヒューズ730が
切断されていない状態ではパワーアップ後に制御信号C
Siがロジックローレベルになり、ヒューズ730が切
断された状態ではパワーアップ後に制御信号CSiがロ
ジックハイレベルになるという点で、図9に示された制
御ブロック25iと類似して動作する。ヒューズ730
を切断するために、MRSPRCiが活性化されてトラ
ンジスタP7をターンオンさせることによってヒューズ
730を通じて過電流を流す。この過電流はヒューズ7
40を通じて流れる。したがって、ヒューズ740は切
断されずに、これを通じて電流が流れねばならない。
The control block 28i controls the control signal C after power-up when the fuse 730 is not cut.
It operates similarly to the control block 25i shown in FIG. 9 in that the control signal CSi goes to the logic high level after power-up when Si goes to the logic low level and the fuse 730 is blown. Fuse 730
In order to blow the current, MRSPRCi is activated to turn on the transistor P7, thereby causing an overcurrent to flow through the fuse 730. This overcurrent is due to fuse 7
It flows through 40. Therefore, the fuse 740 must not be blown, but a current must flow through it.

【0074】制御ブロック28iのプログラミングを防
止するためには、ヒューズ740がレーザーで切断され
る。ヒューズ740が切断されればMRSPRCiが活
性化された場合には、ヒューズ730を通じて過電流が
流れられない。
To prevent programming of control block 28i, fuse 740 is laser blown. If the fuse 740 is blown and the MRSPRCi is activated, no overcurrent flows through the fuse 730.

【0075】前記実施形態は一回のポストリペア動作を
行うが、本発明はこれに限定されない。すなわち、ポス
トリペア用冗長性カラムの数は可変である。例えば、図
14は、2回のポストリペア動作を行えるリペア回路9
00を示すブロック図である。リペア回路900は、図
7に示されたポストリペア回路200と類似して、冗長
性制御ブロック93i(i=1〜n)、RCSL発生器
94i(i=1〜n)及びポストリペア制御ブロック9
5i(i=1〜n)を具備する。図7に示されたポスト
リペア回路200との差異点は、リペア回路900は2
つの電気的ヒューズボックス911、912及びアドレ
ス比較器921、922を具備するという点である。
Although the above-described embodiment performs one post-repair operation, the present invention is not limited to this. That is, the number of redundancy columns for post repair is variable. For example, FIG. 14 shows a repair circuit 9 that can perform a post-repair operation twice.
It is a block diagram showing 00. The repair circuit 900 is similar to the post repair circuit 200 shown in FIG. 7, and includes a redundancy control block 93i (i = 1 to n), an RCSL generator 94i (i = 1 to n), and a post repair control block 9.
5i (i = 1 to n). The difference from the post repair circuit 200 shown in FIG.
This is in that it has two electric fuse boxes 911 and 912 and address comparators 921 and 922.

【0076】2つの電気的ヒューズボックス911、9
12は、MRS260から出力される多数の信号MRS
1、MRSCAiにより制御されて、内部の電気的ヒュ
ーズが選択的に切断されることによって欠陥カラムを指
定する第1及び第2電気的カラムアドレスECA1、E
CA2でそれぞれプログラムされる。ヒューズボックス
のプログラムが独立して行われるように、電気的ヒュー
ズボックスは一つのMRS信号を他のMRS信号をゲー
ト制御するのに使用できる。
Two electrical fuse boxes 911, 9
12 is a number of signals MRS output from the MRS 260.
1. First and second electrical column addresses ECA1 and E controlled by MRSCAi to designate defective columns by selectively disconnecting internal electrical fuses.
Each is programmed in CA2. The electrical fuse box can be used to gate one MRS signal to another so that the fuse box can be programmed independently.

【0077】アドレス比較器921は、第1電気的ヒュ
ーズボックス911にプログラムされた第1電気的カラ
ムアドレスECA1と外部から印加されるアドレスCA
とを比較して両アドレスECA1、CAが一致すれば、
第1電気的リペア活性信号EN1を活性化する。アドレ
ス比較器922は、第2電気的ヒューズボックス912
にプログラムされた第2電気的カラムアドレスECA2
と外部から印加されるアドレスCAとを比較して両アド
レスECA2、CAが一致すれば第2電気的リペア活性
信号EN2を活性化する。
The address comparator 921 includes a first electrical column address ECA1 programmed in the first electrical fuse box 911 and an externally applied address CA.
When the two addresses ECA1 and CA match,
The first electrical repair activation signal EN1 is activated. The address comparator 922 includes a second electrical fuse box 912.
Second electrical column address ECA2 programmed to
Is compared with an address CA applied from the outside, and if both addresses ECA2 and CA match, the second electrical repair activation signal EN2 is activated.

【0078】第1及び第2電気的リペア活性信号EN
1、EN2は冗長性制御ブロック93i(i=1〜n)
に入力される。
First and second electrical repair activation signals EN
1 and EN2 are redundancy control blocks 93i (i = 1 to n)
Entered in.

【0079】冗長性制御ブロック93i(i=1〜n)
はポストリペア制御ブロック95i(i=1〜n)から
入力される制御信号CSi(i=1〜n)、第1及び第
2電気的リペア活性信号EN1、EN2によって、レー
ザーリペアを行うこともあり、ポストリペアを行うこと
もある。回路900で各制御信号CSiは2つの信号線
で構成されて、一つの信号線CSi_1はEN1と、も
う一つの信号線CSi_2はEN2と対をなす。冗長性
制御ブロック93iはCSi_1とCSi_2がいずれ
もローレベルである時はレーザーリペアブロックとして
動作する。冗長性制御ブロック93iはCSi_1がハ
イレベルであり、CSi_2がローレベルである場合は
リペアアドレスECA1に応答してポストリペアブロッ
クとして動作する。冗長性制御ブロック93iはCSi
_1がローレベルであり、CSi_2がハイレベルであ
る場合はリペアアドレスECA2に応答してポストリペ
アブロックとして動作する。
Redundancy control block 93i (i = 1 to n)
May perform laser repair by the control signal CSi (i = 1 to n) input from the post repair control block 95i (i = 1 to n) and the first and second electrical repair activation signals EN1 and EN2. , Sometimes post repair. In the circuit 900, each control signal CSi is composed of two signal lines, and one signal line CSi_1 is paired with EN1 and the other signal line CSi_2 is paired with EN2. The redundancy control block 93i operates as a laser repair block when both CSi_1 and CSi_2 are at low level. The redundancy control block 93i operates as a post repair block in response to the repair address ECA1 when CSi_1 is at high level and CSi_2 is at low level. The redundancy control block 93i is CSi
When _1 is low level and CSi_2 is high level, it operates as a post repair block in response to the repair address ECA2.

【0080】2つの制御信号を生じるために各ポストリ
ペア制御ブロック95iは、2つのレーザーヒューズ及
び図9に示された回路と類似した回路を2セット含む。
To generate the two control signals, each post repair control block 95i includes two laser fuses and two sets of circuits similar to those shown in FIG.

【0081】図15は、図12に示されたリペア回路2
00に一部の変更を加えた回路のブロック図である。こ
の実施形態は、図12に示された実施形態により修正さ
れない、2つの起こりうる失敗の場合を修正できるよう
にする。第1の失敗の場合は、メインカラムをレーザー
リペアしたが、そのレーザーリペアに関するリペアカラ
ムも不良である場合である。第2の失敗の場合は、ポス
トリペア用に割当てられたカラムがこのリペア後に不良
であると明らかになった場合である。両方の場合におい
て、図12に示された実施形態は、特定アドレスを他の
冗長カラムに更にリペアできない。
FIG. 15 shows the repair circuit 2 shown in FIG.
10 is a block diagram of a circuit obtained by partially modifying 00. FIG. This embodiment makes it possible to fix two possible failure cases that are not corrected by the embodiment shown in FIG. The first failure is when the main column is laser repaired, but the repair column for that laser repair is also defective. The second failure case is when the column allocated for post repair proves to be bad after this repair. In both cases, the embodiment shown in FIG. 12 cannot further repair the particular address to other redundant columns.

【0082】このような失敗の場合をカバーするため
に、図15に示された実施形態は、ポストリペア制御ブ
ロックのオーバーライドの概念を導入する。その概念は
冗長性制御ブロック間に適用される。図15に示された
ように、冗長性制御ブロック291は冗長性制御ブロッ
ク292にオーバーライド信号OVR1を生じ、冗長性
制御ブロック292は冗長性制御ブロック293にオー
バーライド信号OVR2を生じ、前記パターンは冗長性
制御ブロック29nまで続く。ある冗長性制御ブロック
がロジックローレベルのオーバーライド信号を受信すれ
ば、これに応答して2つの動作を行う。一つはロジック
ローレベルのオーバーライド信号を次の冗長性制御ブロ
ックにパスする動作であり、もう一つはアドレスマッチ
が発生してもそれ自体のRCSLENが活性化されない
ように遮断する動作である。冗長性制御ブロックはま
た、遮断されずにそれ自体のプログラムされたアドレス
とアドレスマッチが発生すれば、それ自体のオーバーラ
イド信号を活性化する。
To cover such a failure case, the embodiment shown in FIG. 15 introduces the concept of overriding the post repair control block. The concept applies between redundancy control blocks. As shown in FIG. 15, the redundancy control block 291 produces an override signal OVR1 in the redundancy control block 292, the redundancy control block 292 produces an override signal OVR2 in the redundancy control block 293, and the pattern is redundant. Continue to control block 29n. When a redundancy control block receives a logic low level override signal, it performs two operations in response. One is an operation of passing a logic low level override signal to the next redundancy control block, and the other is an operation of shutting down RCSLEN of its own so as not to be activated even if an address match occurs. The redundancy control block also activates its own override signal if an address match occurs with its programmed address without interruption.

【0083】実際に、本実施形態で冗長性制御ブロック
29i及びポストリペア制御ブロック28iはブロック
nから始まってブロック1に上がりながら使用できる。
例えば、レーザーリペア中にいくつかの不良カラムがリ
ペアされると仮定する。そのうち最後のものは冗長性制
御ブロック293をリペアアドレスRA3でレーザープ
ログラミングすることによってリペアされ、冗長性制御
ブロック292、291はポストリペア用に利用できる
と仮定する。この場合、ポストリペア制御ブロック28
3〜28nは前述したように、レーザーリペア中にディ
スエーブルされる。冗長性制御ブロック293はCAが
RA3と一致して、CSLENが活性化されるごとにR
CSLEN3を活性化する。
In fact, in this embodiment, the redundancy control block 29i and the post repair control block 28i can be used starting from the block n and going up to the block 1.
For example, assume that some bad columns are repaired during laser repair. Assume that the last one is repaired by laser programming the redundancy control block 293 with repair address RA3, and the redundancy control blocks 292, 291 are available for post repair. In this case, the post repair control block 28
3 to 28n are disabled during laser repair as described above. In the redundancy control block 293, CA matches RA3, and R is activated each time CSLEN is activated.
Activate CSLEN3.

【0084】その後、パッケージング後にポストリペア
テスト中にアドレスRA3に対して不良が検出されたと
仮定する。これは冗長制御ブロック293に関する冗長
カラムに不良が発生した可能性が高い。しかし、ポスト
リペアテスト過程でこのアドレスが一回リペアされたか
どうかが分からない。したがって、このアドレスに対し
て再びリペアする。アドレスRA3は電気的ヒューズボ
ックス210にプログラムされる。リペアシステムはポ
ストリペア制御ブロック28nをプログラミングしよう
とするが、このポストリペア制御ブロック28nはレー
ザーリペア中にディスエーブルされたため、その試みは
失敗する。リペアシステムは次のポストリペア制御ブロ
ック28n−1をプログラミングしようとし、その試み
はポストリペア制御ブロック282まで続く。ポストリ
ペア制御ブロック282はレーザーリペアに使われない
ため、ポストリペアに使われうる。プログラミングが完
了すれば、CS2がハイレベルに活性化される。
After that, it is assumed that a defect is detected for the address RA3 during the post repair test after packaging. It is highly possible that a defect has occurred in the redundant column related to the redundant control block 293. However, it is unknown whether this address was repaired once in the post repair test process. Therefore, the address is repaired again. Address RA3 is programmed into electrical fuse box 210. The repair system attempts to program the post repair control block 28n, but the attempt fails because the post repair control block 28n was disabled during laser repair. The repair system attempts to program the next post repair control block 28n-1 and the attempt continues until post repair control block 282. Since the post repair control block 282 is not used for laser repair, it can be used for post repair. When programming is completed, CS2 is activated to high level.

【0085】カラムRA3がテストされる場合には、C
AとECAとが一致する。したがって、ENとCS2と
がいずれも活性化されれば、制御ブロック292は対応
する冗長カラムを選択するためにRCSLEN2を活性
化する。同時に、冗長制御ブロック292はオーバーラ
イド信号OVR2をロジックローレベルにする。ロジッ
クローレベルのOVR2を受信する冗長性制御ブロック
293はそれ自体の内部アドレス比較器がアドレスマッ
チを検出しても、RCSLEN3が活性化されることを
遮断する。
If column RA3 is tested, then C
A and ECA match. Therefore, if both EN and CS2 are activated, control block 292 activates RCSLEN2 to select the corresponding redundant column. At the same time, the redundancy control block 292 sets the override signal OVR2 to the logic low level. The redundancy control block 293 receiving the logic low level OVR2 blocks RCSLEN3 from being activated even when its own internal address comparator detects an address match.

【0086】前記例で一段階進めると、RCSL2に関
するリペアカラムが不良である場合も可能である。する
と、電気的ポストリペアにもかかわらず、カラムRA3
がテストされる場合に不良が発生する。ポストリペアシ
ステムは他のポストリペア制御ブロック281を使用し
てプログラムする。すると、CS1とCS2とがいずれ
も活性化される。CAとRA3とが一致するごとに、冗
長性制御ブロック291、292、293は内部アドレ
スマッチを検出する、しかし、冗長性制御ブロック29
1の優先度が高いので、OVR1信号を利用して冗長性
制御ブロック292がRCSLEN2を活性化すること
を遮断する。また、ブロック292は冗長性制御ブロッ
ク293を遮断する。
If one step is advanced in the above example, it is possible that the repair column for RCSL2 is defective. Then, despite the electrical post repair, the column RA3
Defects occur when is tested. The post repair system is programmed using another post repair control block 281. Then, both CS1 and CS2 are activated. Each time CA and RA3 match, redundancy control blocks 291, 292, 293 detect an internal address match, but redundancy control block 29
Since the priority of 1 is high, the redundancy control block 292 is blocked from activating RCSLEN2 by using the OVR1 signal. Also, block 292 blocks redundancy control block 293.

【0087】図16は、前記の機能を行う冗長性制御ブ
ロック29iの一例を示す。レーザーヒューズボックス
611及びアドレス比較器612は図8に示されたブロ
ックと同様に動作する。ロジック素子613は、OUT
を制御信号CSiと否定論理和演算して第1ロジック信
号TS1#を出力する。ロジック素子622はCSi#
を電気的リペア活性信号ENと否定論理和演算して第2
ロジック信号TS2#を出力する。NORゲート641
は、第1ロジック信号TS1#及び第2ロジック信号T
S2#を受信してロジック素子631に入力される信号
を生じる。ロジック素子631の他の入力はCSLEN
及びOVR(i−1)である。ロジック素子631は前
記3つの信号を論理積演算してカラム選択イネーブル信
号RCSLENiを生じる。OVR(i−1)がロジッ
クローレベルである場合には、RCSLENiの活性化
が防止される。
FIG. 16 shows an example of the redundancy control block 29i which performs the above functions. The laser fuse box 611 and the address comparator 612 operate similarly to the block shown in FIG. The logic element 613 is OUT
Is ANDed with the control signal CSi to output the first logic signal TS1 #. Logic element 622 is CSi #
And NOR operation with the electrical repair activation signal EN
The logic signal TS2 # is output. NOR gate 641
Is a first logic signal TS1 # and a second logic signal T
S2 # is received to generate a signal input to the logic element 631. The other input of the logic element 631 is CSLEN
And OVR (i-1). The logic element 631 logically ANDs the three signals to generate the column selection enable signal RCSLENi. When OVR (i-1) is at a logic low level, activation of RCSLENi is prevented.

【0088】さらにもう2つのロジックゲートは出力優
先信号OVRiを生じるのに使われる。インバータ64
2はOVR(i−1)を反転する。NORゲート643
はNORゲート641の出力及びインバータ642の出
力を受信して出力優先信号OVR(i)を出力する。O
VR(i−1)がロジックローであればOVR(i)も
ロジックローになる。OVR(i)はまた、冗長性制御
ブロック29iがアドレスマッチを検出して第1及び第
2ロジック信号TS1#、TS2#がいずれもローレベ
ルになれば、ロジックローになる。
Still another two logic gates are used to generate the output priority signal OVRi. Inverter 64
2 inverts OVR (i-1). NOR gate 643
Receives the output of the NOR gate 641 and the output of the inverter 642 and outputs the output priority signal OVR (i). O
If VR (i-1) is logic low, OVR (i) will also be logic low. OVR (i) also becomes logic low when the redundancy control block 29i detects an address match and both the first and second logic signals TS1 # and TS2 # are at low level.

【0089】本発明は図面に示された一実施形態を参考
して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業
者によればこれより多様な変形及び均等な他の実施形態
が可能であるという点を理解できよう。例えば、冗長性
制御ブロックと冗長性メモリラインとの関連性は多様な
構成で表現可能である。一部の冗長性制御ブロックだけ
デュアルモード(ウェーハ段階のレーザープログラミン
グ及びポストリペアプログラミング)機能を有し、残り
の冗長性制御ブロックはデュアルモード機能を有しなく
てもよい。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は
特許請求の範囲の技術的思想により決まらねばならな
い。
Although the present invention has been described with reference to an embodiment shown in the drawings, it is merely an example, and those skilled in the art will appreciate various modifications and equivalent other embodiments. Understand that is possible. For example, the relationship between the redundancy control block and the redundancy memory line can be expressed in various configurations. Only some of the redundancy control blocks may have dual mode (laser programming at the wafer level and post repair programming) capability, and the remaining redundancy control blocks may not have dual mode capability. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical idea of the claims.

【0090】[0090]

【発明の効果】本発明によれば、ポストリペア用冗長性
ラインがレーザーリペア用冗長性ラインと別途に備わる
必要がない。そして、レーザーリペアに使われない冗長
性ラインを予めテストして不良のない良品の冗長性ライ
ンをポストリペア用に選択することによってポストリペ
アの成功確率が非常に高まる。
According to the present invention, the redundant line for post repair need not be provided separately from the redundant line for laser repair. Then, by pre-testing a redundant line not used for laser repair and selecting a good non-defective redundant line for post repair, the success rate of post repair is greatly increased.

【0091】したがって、本発明によればリペア効率が
向上して半導体メモリ装置の収率が大きく増加する効果
がある。
Therefore, according to the present invention, the repair efficiency is improved and the yield of the semiconductor memory device is greatly increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の1実施形態による半導体メモリ装置を
示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a semiconductor memory device according to example embodiments.

【図2】デュアルモードリペア回路の一実施形態を示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing an embodiment of a dual mode repair circuit.

【図3】図2の冗長性制御ブロックを詳細に図示する回
路図である。
3 is a circuit diagram illustrating in detail the redundancy control block of FIG.

【図4】図2の電気的ヒューズブロック及びアドレス比
較器の詳細な回路図である。
FIG. 4 is a detailed circuit diagram of the electrical fuse block and address comparator of FIG.

【図5】図2の電気的ヒューズブロック及びアドレス比
較器の詳細な回路図である。
5 is a detailed circuit diagram of the electrical fuse block and address comparator of FIG.

【図6】図2の電気的ヒューズブロック及びアドレス比
較器の詳細な回路図である。
FIG. 6 is a detailed circuit diagram of the electrical fuse block and address comparator of FIG.

【図7】電気的ヒューズブロックを多数の冗長カラムの
うち一つに結合させる手段を有するデュアルモードリペ
ア回路の第2実施形態を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram illustrating a second embodiment of a dual mode repair circuit having a means for coupling an electrical fuse block to one of a number of redundant columns.

【図8】図7の冗長性制御ブロックを詳細に示す回路図
である。
FIG. 8 is a detailed circuit diagram of the redundancy control block of FIG.

【図9】図7のポストリペア制御ブロックの詳細な回路
図である。
9 is a detailed circuit diagram of the post repair control block of FIG.

【図10】図9のポストリペア制御ブロックに入力され
るパワーアップ信号の波形図である。
10 is a waveform diagram of a power-up signal input to the post repair control block of FIG.

【図11】図7のポストリペア制御ブロックの他の具現
例を示す図面である。
11 is a diagram illustrating another implementation example of the post repair control block of FIG.

【図12】電気的ヒューズポストリペアブロックを有す
るデュアルモードリペア回路の第3実施形態を示すブロ
ック図及びポストリペア制御ブロックの回路図である。
FIG. 12 is a block diagram showing a third embodiment of a dual mode repair circuit having an electrical fuse post repair block and a circuit diagram of a post repair control block.

【図13】電気的ヒューズポストリペアブロックを有す
るデュアルモードリペア回路の第3実施形態を示すブロ
ック図及びポストリペア制御ブロックの回路図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a third embodiment of a dual mode repair circuit having an electric fuse post repair block and a circuit diagram of a post repair control block.

【図14】2回のポストリペア動作を行える電気的なヒ
ューズブロックを有するデュアルモードリペア回路の第
4実施形態を示すブロック図である。
FIG. 14 is a block diagram showing a fourth embodiment of a dual mode repair circuit having an electrical fuse block capable of performing a post repair operation twice.

【図15】以前の失敗したリペア動作の試みをオーバー
ライドする機能を有する冗長性制御ブロックを有するデ
ュアルモードリペア回路の第5実施形態を示すブロック
図である。
FIG. 15 is a block diagram illustrating a fifth embodiment of a dual mode repair circuit having a redundancy control block that has the ability to override a previous failed repair operation attempt.

【図16】図15の冗長性制御ブロックの一具現例であ
る。
16 is an exemplary implementation of the redundancy control block of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

210 電気的ヒューズボックス 220 アドレス比較器 231、232、233、23n 冗長性制御ブロック 241、242、243、24n RCSL発生器 251、252、253、25n ポストリペア制御ブ
ロック 260 モードレジスタセット(MRS)
210 Electrical Fuse Box 220 Address Comparators 231, 232, 233, 23n Redundancy Control Blocks 241, 242, 243, 24n RCSL Generators 251, 252, 253, 25n Post Repair Control Block 260 Mode Register Set (MRS)

フロントページの続き Fターム(参考) 5L106 AA01 CC12 CC13 CC17 DD00 EE07 GG05 GG07 5M024 AA90 AA91 BB07 BB30 DD63 DD80 DD85 HH10 MM10 MM13 MM15 PP01 PP02 PP03 PP07Continued front page    F-term (reference) 5L106 AA01 CC12 CC13 CC17 DD00                       EE07 GG05 GG07                 5M024 AA90 AA91 BB07 BB30 DD63                       DD80 DD85 HH10 MM10 MM13                       MM15 PP01 PP02 PP03 PP07

Claims (51)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれが対応する複数のメインメモリ
セルに連結されてアドレス可能なメインメモリラインの
集合と、 複数の第1冗長メモリセルに連結される第1冗長メモリ
ラインと、 入力アドレスが選択されたメモリラインアドレスと一致
する度に前記第1冗長メモリラインを選択できる冗長メ
モリライン制御回路と、 を具備し、 前記冗長メモリライン制御回路は、前記入力アドレスを
第1主要貯蔵アドレスと比較する第1比較に基づいて前
記冗長メモリラインを選択する主要モードと、前記入力
アドレスを第1代替貯蔵アドレスと比較する第2比較に
基づいて前記冗長メモリラインを選択する代替モードと
を有し、 前記第1代替貯蔵アドレスはメモリ装置がパッケージン
グされた後に貯蔵されうることを特徴とする半導体メモ
リ装置。
1. A set of addressable main memory lines connected to a plurality of corresponding main memory cells, a first redundant memory line connected to a plurality of first redundant memory cells, and an input address selected. A redundant memory line control circuit capable of selecting the first redundant memory line each time it matches the stored memory line address, the redundant memory line control circuit comparing the input address with a first main storage address. A primary mode for selecting the redundant memory line based on a first comparison and an alternative mode for selecting the redundant memory line based on a second comparison comparing the input address with a first alternative storage address, The first alternative storage address may be stored after the memory device is packaged.
【請求項2】 前記冗長メモリライン制御回路は、 前記第1主要貯蔵アドレスを貯蔵する第1レーザーヒュ
ーズボックスと、 前記第1代替貯蔵アドレスを貯蔵する第1ポストリペア
アドレスボックスと、 前記第1比較を行って前記第1比較結果が真である時に
第1主要信号をイネーブルする第1主要アドレス比較器
と、 前記第2比較を行って前記第2比較結果が真である時に
第1代替信号をイネーブルする第1ポストリペアアドレ
ス比較器と、 前記主要モードでは前記第1主要信号に応答して前記冗
長メモリラインを選択し、前記代替モードでは前記第1
代替信号に応答して前記冗長メモリラインを選択するモ
ード選択回路と、 を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体メモリ
装置。
2. The redundant memory line control circuit, a first laser fuse box storing the first main storage address, a first post repair address box storing the first alternative storage address, the first comparison A first main address comparator for enabling a first main signal when the first comparison result is true, and a second substitute signal for performing the second comparison when the second comparison result is true. A first post repair address comparator for enabling the redundant memory line in response to the first primary signal in the primary mode, and the first in the alternate mode.
The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: a mode selection circuit that selects the redundant memory line in response to an alternative signal.
【請求項3】 前記半導体メモリ装置はモードレジスタ
セット回路をさらに具備し、 前記第1ポストリペアアドレスボックスは前記第1代替
貯蔵アドレスを貯蔵する多数の電気的ヒューズ部を含
み、 前記電気的ヒューズ部は、半導体メモリ装置のパッケー
ジング後に印加される外部命令語に応答して前記モード
レジスタセット回路から発生するモードレジスタセット
信号の集合に応答して前記第1代替貯蔵アドレスを貯蔵
することを特徴とする請求項2に記載の半導体メモリ装
置。
3. The semiconductor memory device further comprises a mode register set circuit, the first post repair address box includes a plurality of electrical fuse units storing the first alternative storage address, and the electrical fuse unit. Stores the first alternative storage address in response to a set of mode register set signals generated from the mode register set circuit in response to an external command applied after packaging the semiconductor memory device. The semiconductor memory device according to claim 2.
【請求項4】 前記モード選択回路は、 レーザーヒューズを含んで制御信号を生じるポストリペ
ア制御ブロックを有し、前記ポストリペア制御ブロック
は、前記レーザーヒューズが切断されていない場合には
前記制御信号を第1ロジックレベルに設定し、前記レー
ザーヒューズが切断された場合には前記制御信号を第2
ロジックレベルに設定することを特徴とする請求項2に
記載の半導体メモリ装置。
4. The mode selection circuit includes a post-repair control block including a laser fuse to generate a control signal, and the post-repair control block outputs the control signal when the laser fuse is not cut. When the laser fuse is cut, the control signal is set to the second logic level when the first logic level is set.
The semiconductor memory device of claim 2, wherein the semiconductor memory device is set to a logic level.
【請求項5】 前記半導体メモリ装置は、前記半導体メ
モリ装置のパワーアップ後に前記半導体メモリ装置に供
給される電圧が所定の閾値に到達するまではロジックロ
ーレベルのパワーアップ信号を生じるパワーアップ信号
回路をさらに具備し、 前記ポストリペア制御ブロックは、前記パワーアップ信
号がロジックハイレベルにスイッチングされた後に前記
パワーアップ信号に応答することを特徴とする請求項4
に記載の半導体メモリ装置。
5. The power-up signal circuit of the semiconductor memory device, which generates a logic-low power-up signal until the voltage supplied to the semiconductor memory device reaches a predetermined threshold after power-up of the semiconductor memory device. 5. The post-repair control block is further responsive to the power-up signal after the power-up signal is switched to a logic high level.
The semiconductor memory device according to 1.
【請求項6】 前記ポストリペア制御ブロックは前記パ
ワーアップ信号に応答するラッチを含み、 前記ポストリペア制御ブロックは前記パワーアップ信号
がロジックローレベルである間には前記ラッチを前記第
1ロジックレベルに設定し、前記パワーアップ信号がロ
ジックハイレベルに転換された後にはレーザーヒューズ
が切断されるか否かによって前記第1ロジックレベルに
維持されるか、又は前記第2ロジックレベルに転換され
ることを特徴とする請求項5に記載の半導体メモリ装
置。
6. The post repair control block includes a latch responsive to the power up signal, the post repair control block bringing the latch to the first logic level while the power up signal is at a logic low level. The power-up signal is maintained at the first logic level or is converted to the second logic level after the power-up signal is converted to the logic high level. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the semiconductor memory device is a memory device.
【請求項7】 前記モード選択回路は、 前記制御信号が前記第1または第2ロジックレベルのう
ちいずれに設定されるかによって前記第1主要信号及び
前記第1代替信号のうち一つを複製するゲートロジック
をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の半導体
メモリ装置。
7. The mode selection circuit duplicates one of the first main signal and the first alternative signal depending on whether the control signal is set to the first or second logic level. The semiconductor memory device of claim 4, further comprising gate logic.
【請求項8】 前記モード選択回路はカラム選択信号を
さらに受信し、 前記冗長メモリラインは前記カラム選択信号の状態によ
ってイネーブルされることを特徴とする請求項7に記載
の半導体メモリ装置。
8. The semiconductor memory device of claim 7, wherein the mode selection circuit further receives a column selection signal, and the redundant memory line is enabled according to a state of the column selection signal.
【請求項9】 前記モード選択回路は、 ボンディングパッドを含んで制御信号を生じるポストリ
ペア制御ブロックを有し、前記ポストリペア制御ブロッ
クは、前記ボンディングパッドが基準電圧にワイヤされ
た場合には前記制御信号を第1ロジックレベルに設定
し、前記ボンディングパッドが前記基準電圧にワイヤさ
れていない場合には前記制御信号を第2ロジックレベル
に設定することを特徴とする請求項2に記載の半導体メ
モリ装置。
9. The mode selection circuit includes a post repair control block that includes a bonding pad to generate a control signal, and the post repair control block controls the control when the bonding pad is wired to a reference voltage. 3. The semiconductor memory device of claim 2, wherein the signal is set to a first logic level and the control signal is set to a second logic level when the bonding pad is not wired to the reference voltage. .
【請求項10】 前記ポストリペア制御ブロックはプル
ダウン回路及びバッファをさらに具備し、 前記プルダウン回路は前記バッファ入力及び前記ボンデ
ィングパッドに連結されるプルダウンノードを有し、前
記ボンディングパッドが前記基準電圧にワイヤされてい
ない場合には前記バッファ入力をロジックローレベルに
引き下げて、前記ボンディングパッドが前記基準電圧に
ワイヤされた場合には前記バッファ入力を前記基準電圧
に実質的に維持させることを特徴とする請求項9に記載
の半導体メモリ装置。
10. The post repair control block further comprises a pull-down circuit and a buffer, the pull-down circuit having a pull-down node connected to the buffer input and the bonding pad, the bonding pad being wired to the reference voltage. The buffer input is pulled to a logic low level if not, and the buffer input is substantially maintained at the reference voltage when the bonding pad is wired to the reference voltage. Item 10. The semiconductor memory device according to item 9.
【請求項11】 前記モード選択回路は、 ボンディングパッドを含んで制御信号を生じるポストリ
ペア制御ブロックを有し、前記ポストリペア制御ブロッ
クは、前記ボンディングパッドが電源供給電圧にワイヤ
されている場合には前記制御信号を第1ロジックレベル
に設定し、前記ボンディングパッドが前記グラウンド電
圧にワイヤされている場合には前記制御信号を第2ロジ
ックレベルに設定することを特徴とする請求項2に記載
の半導体メモリ装置。
11. The mode selection circuit includes a post repair control block that includes a bonding pad to generate a control signal, and the post repair control block is provided when the bonding pad is wired to a power supply voltage. The semiconductor device according to claim 2, wherein the control signal is set to a first logic level, and the control signal is set to a second logic level when the bonding pad is wired to the ground voltage. Memory device.
【請求項12】 前記半導体メモリ装置はモードレジス
タセット回路をさらに具備し、 前記モード選択回路は電気的ヒューズを含んで制御信号
を生じるポストリペア制御ブロックを有し、前記ポスト
リペア制御ブロックは、前記電気的ヒューズが切断され
ていない場合には前記制御信号を第1ロジックレベルに
設定し、前記電気的ヒューズが切断された場合には前記
制御信号を第2ロジックレベルに設定し、 前記電気的ヒューズは、半導体メモリ装置のパッケージ
ング後に印加される外部命令に応答して前記モードレジ
スタセットから発生するモードレジスタセット信号に応
答して切断されることを特徴とする請求項2に記載の半
導体メモリ装置。
12. The semiconductor memory device further comprises a mode register set circuit, the mode selection circuit includes a post repair control block including an electric fuse to generate a control signal, and the post repair control block includes the post repair control block. The control signal is set to a first logic level when the electrical fuse is not blown, and the control signal is set to a second logic level when the electrical fuse is blown; The semiconductor memory device of claim 2, wherein the semiconductor memory device is disconnected in response to an external command applied after packaging the semiconductor memory device in response to a mode register set signal generated from the mode register set. .
【請求項13】 前記ポストリペア制御ブロックは、 電気的プログラミングによって前記制御信号の状態が変
更されることを防止するレーザーヒューズをさらに含む
ことを特徴とする請求項12に記載の半導体メモリ装
置。
13. The semiconductor memory device of claim 12, wherein the post repair control block further includes a laser fuse that prevents a state of the control signal from being changed by electrical programming.
【請求項14】 前記半導体メモリ装置は複数の第2冗
長メモリセルに連結される第2冗長メモリラインをさら
に具備し、 前記冗長メモリライン制御回路は、 前記第2主要貯蔵アドレスを貯蔵する第2レーザーヒュ
ーズボックス、及び前記入力アドレスを前記第2主要貯
蔵アドレスと比較して比較結果が真である時に第2主要
信号をイネーブルする第2主要アドレス比較器を含み、
前記主要モードで前記第2主要信号に応答して前記第2
冗長メモリラインを選択することを特徴とする請求項2
に記載の半導体メモリ装置。
14. The semiconductor memory device may further include a second redundant memory line connected to a plurality of second redundant memory cells, wherein the redundant memory line control circuit stores a second main storage address. A laser fuse box, and a second main address comparator for comparing the input address with the second main storage address and enabling a second main signal when the comparison result is true,
In response to the second main signal in the main mode, the second
3. A redundant memory line is selected.
The semiconductor memory device according to 1.
【請求項15】 前記モード選択回路は、 前記代替モードでは前記第1代替信号に応答して前記第
1冗長メモリラインの代りに前記第2冗長メモリライン
を選択できることを特徴とする請求項14に記載の半導
体メモリ装置。
15. The mode selection circuit according to claim 14, wherein in the alternative mode, the second redundant memory line can be selected in place of the first redundant memory line in response to the first alternative signal. A semiconductor memory device as described.
【請求項16】 前記半導体メモリ装置は、 第2代替貯蔵アドレスを貯蔵する第2ポストリペアアド
レスボックスと、 前記入力アドレスを前記第2代替アドレスと比較する第
3比較を行って、前記第3比較結果が真である時に第2
代替信号をイネーブルする第2ポストリペアアドレス比
較器とを具備し、 前記モード選択回路は前記代替モードで前記第2代替信
号に応答して前記第1冗長メモリラインを選択できるこ
とを特徴とする請求項14に記載の半導体メモリ装置。
16. The semiconductor memory device performs a third comparison for comparing the input address with the second alternative address and a second post repair address box for storing a second alternative storage address to perform the third comparison. Second when the result is true
A second post-repair address comparator enabling an alternate signal, wherein the mode selection circuit is capable of selecting the first redundant memory line in response to the second alternate signal in the alternate mode. 14. The semiconductor memory device according to 14.
【請求項17】 それぞれが対応する複数のメインメモ
リセルに連結されてアドレス可能なメインメモリライン
の集合と、 複数の第1冗長メモリセルに連結される第1冗長メモリ
ラインと、 複数の第2冗長メモリセルに連結される第2冗長メモリ
ラインと、 それぞれがメモリラインアドレスを貯蔵でき、前記メモ
リラインアドレスを入力アドレスと比較して前記比較結
果が真である時に比較器の出力信号をイネーブルする第
1及び第2レーザーヒューズ/比較器と第1電気的ヒュ
ーズ/比較器と、 第1プログラムによる構成で前記第1レーザーヒューズ
/比較器出力信号及び前記第1電気的ヒューズ/比較器
出力信号の選択に基づいて前記第1冗長メモリラインを
選択でき、第2プログラムによる構成で前記第2レーザ
ーヒューズ/比較器出力信号及び前記第1電気的ヒュー
ズ/比較器出力信号の選択に基づいて前記第2冗長メモ
リラインを選択できる冗長メモリライン制御回路と、 を具備する半導体メモリ装置。
17. A set of addressable main memory lines each connected to a plurality of corresponding main memory cells, a first redundant memory line connected to a plurality of first redundant memory cells, and a plurality of second redundant memory lines. A second redundant memory line connected to the redundant memory cell, each storing a memory line address, comparing the memory line address with an input address, and enabling an output signal of the comparator when the comparison result is true. First and second laser fuses / comparators, first electrical fuses / comparators, and a first program of the first laser fuses / comparator output signals and the first electrical fuses / comparator output signals. The first redundant memory line can be selected based on selection, and the second laser fuse / comparator has a configuration according to a second program. The semiconductor memory device having a a redundant memory line control circuit that can select the second redundant memory line based on the selection of the force signal and the first electrical fuse / comparator output signal.
【請求項18】 前記半導体メモリ装置は前記第1電気
的ヒューズ/比較器と類似した第2電気的ヒューズ/比
較器をさらに具備し、 前記冗長メモリライン制御回路は、また第3プログラム
による構成で前記第2電気的ヒューズ/比較器出力信号
の選択に基づいて前記第1冗長メモリラインを選択でき
ることを特徴とする請求項17に記載の半導体メモリ装
置。
18. The semiconductor memory device further comprises a second electrical fuse / comparator similar to the first electrical fuse / comparator, wherein the redundant memory line control circuit is also configured by a third program. 18. The semiconductor memory device of claim 17, wherein the first redundant memory line can be selected based on the selection of the second electrical fuse / comparator output signal.
【請求項19】 前記半導体メモリ装置は外部命令の一
部として電気的ヒューズプログラミング信号を受信する
ことができるモードレジスタセット回路をさらに具備
し、 前記モードレジスタセット回路は前記プログラミング信
号のプログラミングターゲットが前記第1電気的ヒュー
ズ/比較器か、あるいは前記第2電気的ヒューズ/比較
器かを検出して、前記プログラミング信号の一部として
提供されるリペアアドレスで前記プログラミングターゲ
ットをプログラミングすることを特徴とする請求項18
に記載の半導体メモリ装置。
19. The semiconductor memory device may further include a mode register set circuit capable of receiving an electrical fuse programming signal as a part of an external command, the mode register set circuit having the programming target of the programming signal as the programming target. Detecting the first electrical fuse / comparator or the second electrical fuse / comparator and programming the programming target with a repair address provided as part of the programming signal. Claim 18
The semiconductor memory device according to 1.
【請求項20】 前記半導体メモリ装置は、外部命令の
一部として電気的ヒューズプログラミング信号を受信で
きるモードレジスタセット回路をさらに具備し、 前記モードレジスタセット回路は、前記プログラミング
信号の一部として提供されるリペアアドレスで前記第1
電気的ヒューズ/比較器をプログラミングすることを特
徴とする請求項17に記載の半導体メモリ装置。
20. The semiconductor memory device further comprises a mode register set circuit capable of receiving an electrical fuse programming signal as part of an external command, the mode register set circuit being provided as part of the programming signal. The repair address is the first
18. The semiconductor memory device as claimed in claim 17, wherein the electric fuse / comparator is programmed.
【請求項21】 前記冗長メモリライン制御回路は、 電気的ヒューズを含み、前記プログラムによる構成を選
択するのに使われる制御信号を生じるポストリペア制御
ブロックを有し、前記ポストリペア制御ブロックは、前
記電気的ヒューズが切断されていない場合には前記制御
信号を第1ロジックレベルに設定し、前記電気的ヒュー
ズが切断された場合には前記制御信号を第2ロジックレ
ベルに設定し、 前記電気的ヒューズは、半導体メモリ装置のパッケージ
ング後に印加される外部命令語に応答して前記モードレ
ジスタセット回路から発生するモードレジスタセット信
号に応答して切断されることを特徴とする請求項20に
記載の半導体メモリ装置。
21. The redundant memory line control circuit includes a post repair control block including an electric fuse and generating a control signal used to select the programmed configuration, the post repair control block comprising: The control signal is set to a first logic level when the electrical fuse is not blown, and the control signal is set to a second logic level when the electrical fuse is blown; 21. The semiconductor device of claim 20, wherein the semiconductor memory device is disconnected in response to a mode register set signal generated from the mode register set circuit in response to an external command applied after packaging the semiconductor memory device. Memory device.
【請求項22】 前記半導体メモリ装置は、 前記冗長メモリライン制御回路が前記第1及び第2冗長
メモリラインの両方を選択しても強制的に前記第1冗長
メモリラインを選択させるオーバーライド回路をさらに
具備することを特徴とする請求項21に記載の半導体メ
モリ装置。
22. The semiconductor memory device further includes an override circuit for forcibly selecting the first redundant memory line even if the redundant memory line control circuit selects both the first and second redundant memory lines. 22. The semiconductor memory device according to claim 21, further comprising:
【請求項23】 前記半導体メモリ装置は、前記第1及
び第2冗長メモリラインと前記第1及び第2レーザーヒ
ューズ/比較器と類似した第3冗長メモリライン及び第
3レーザーヒューズ/比較器をさらに具備し、 前記冗長メモリライン制御回路は、第3プログラムによ
る構成で前記第3レーザーヒューズ/比較器出力信号ま
たは前記第1電気的ヒューズ/比較器出力信号の選択に
基づいて前記第3冗長メモリラインを選択でき、 前記オーバーライド回路は、前記冗長メモリライン制御
回路が前記第2及び第3冗長メモリラインの両方を選択
しても強制的に前記第2冗長メモリラインを選択させ、
前記冗長メモリライン制御回路が前記第1及び第3冗長
メモリラインの両方を選択しても強制的に前記第1冗長
メモリラインを選択させることを特徴とする請求項22
に記載の半導体メモリ装置。
23. The semiconductor memory device further comprises a third redundant memory line and a third laser fuse / comparator similar to the first and second redundant memory lines and the first and second laser fuses / comparators. The redundant memory line control circuit comprises a third program, and the third redundant memory line is selected based on selection of the third laser fuse / comparator output signal or the first electrical fuse / comparator output signal. The override circuit forcibly selects the second redundant memory line even if the redundant memory line control circuit selects both the second and third redundant memory lines,
23. The redundant memory line control circuit forcibly selects the first redundant memory line even if both the first and third redundant memory lines are selected.
The semiconductor memory device according to 1.
【請求項24】 前記ポストリペア制御ブロックはレー
ザーで切断可能なヒューズを含み、 前記レーザーで切断可能なヒューズが切断されたかどう
かによって、前記電気的ヒューズがモードレジスタセッ
ト信号に応答して切断されるかどうかが決定されること
を特徴とする請求項21に記載の半導体メモリ装置。
24. The post repair control block includes a laser-cuttable fuse, and the electrical fuse is cut in response to a mode register set signal depending on whether the laser-cuttable fuse is cut. 22. The semiconductor memory device as claimed in claim 21, wherein whether or not it is determined.
【請求項25】 前記半導体メモリ装置は、 前記冗長メモリライン制御回路が前記第1及び第2冗長
メモリラインの両方を選択しても強制的に前記第1冗長
メモリラインを選択させるオーバーライド回路をさらに
具備することを特徴とする請求20に記載の半導体メモ
リ装置。
25. The semiconductor memory device further comprises an override circuit for forcibly selecting the first redundant memory line even if the redundant memory line control circuit selects both the first and second redundant memory lines. 21. The semiconductor memory device according to claim 20, further comprising:
【請求項26】 それぞれが一つのレーザーヒューズ/
比較器に結合されている複数の冗長メモリライン及びメ
インメモリラインの集合を具備する半導体メモリ装置の
ポストリペアをイネーブルする方法において、 欠陥のない冗長メモリラインを決定するために前記冗長
メモリラインをテストする段階と、 欠陥のない冗長メモリラインをポストリペア用に割当て
る段階と、 前記メモリラインと結合されたレーザーヒューズ/比較
器の代りに前記割当てられた欠陥のない冗長メモリライ
ンをポストリペア比較器と結合させる段階と、 を含む半導体メモリ装置のポストリペアイネーブル方
法。
26. One laser fuse / each
In a method of enabling post repair in a semiconductor memory device comprising a plurality of redundant memory lines coupled to a comparator and a set of main memory lines, the redundant memory lines are tested to determine a defective redundant memory line. Assigning a non-defective redundant memory line for post repair, and replacing the laser fuse / comparator coupled with the memory line with the assigned non-defective redundant memory line with a post repair comparator. A post-repair enabling method for a semiconductor memory device, comprising: combining.
【請求項27】 それぞれが一つのレーザーヒューズ/
比較器に結合されている複数の冗長メモリライン及びメ
インメモリラインの集合を具備する半導体メモリ装置を
リペアする方法において、 前記半導体メモリ装置をパッケージに組立てる前には、 どのラインが不良であり、どのラインが不良でないかを
決定するために前記メインメモリラインをテストする段
階と、 各不良メインメモリラインに対して、前記不良メインメ
モリラインを代替するために割当てられる前記冗長メモ
リラインのうち一つと結合された前記レーザーヒューズ
/比較器を構成する段階とを具備し、 前記半導体メモリ装置をパッケージに組立てた後には、 不良メモリラインが存在するかどうかを調べるために前
記外部でアドレス可能なメモリラインをテストする段階
と、 不良メモリラインが存在する場合、前記不良メモリライ
ンを代替するために冗長メモリラインを電気的に割当て
る段階とを具備する半導体メモリ装置のリペア方法。
27. Each has one laser fuse /
In a method of repairing a semiconductor memory device comprising a set of a plurality of redundant memory lines and a main memory line coupled to a comparator, which line is defective and which one is defective before assembling the semiconductor memory device into a package? Testing the main memory line to determine if the line is not defective, and for each defective main memory line, combining with one of the redundant memory lines assigned to replace the defective main memory line. After the semiconductor memory device is assembled into a package, the externally addressable memory line may be checked to determine whether a defective memory line is present. If there is a defective memory line in the testing stage, the defective memory Method of repairing a semiconductor memory device including a step of electrically allocating redundant memory line in order to replace the line.
【請求項28】 前記半導体メモリ装置のリペア方法
は、 前記組立て前に、前記割当てられた冗長メモリラインの
それぞれが前記半導体メモリ装置の組立て後に電気的に
割当てられることを防止するために、前記割当てられた
冗長メモリラインのそれぞれと結合されたレーザーで設
定可能なヒューズを設定する段階をさらに具備すること
を特徴とする請求項27に記載の半導体メモリ装置のリ
ペア方法。
28. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 1, wherein the assignment of the redundant memory lines before the assembly is prevented from being electrically assigned after the assembly of the semiconductor memory device. 28. The method of claim 27, further comprising setting a laser-settable fuse coupled to each of the redundant memory lines.
【請求項29】 前記半導体メモリ装置のリペア方法
は、 前記組立て前に、どの冗長メモリラインが不良でないか
を調べるために前記冗長メモリラインをテストする段階
をさらに具備することを特徴とする請求項28に記載の
半導体メモリ装置のリペア方法。
29. The method of repairing a semiconductor memory device, further comprising the step of testing the redundant memory lines to check which redundant memory line is not defective before the assembling. 28. A method for repairing a semiconductor memory device according to item 28.
【請求項30】 前記半導体メモリ装置のリペア方法
は、 前記組立て前に、前記割当てられた冗長メモリラインの
それぞれが前記半導体メモリ装置の組立て後に電気的に
割当てられることを防止するために、前記割当てられた
冗長メモリラインのそれぞれと結合されたレーザーで設
定可能なヒューズを設定する段階をさらに具備すること
を特徴とする請求項29に記載の半導体メモリ装置のリ
ペア方法。
30. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 1, wherein, before the assembling, each of the assigned redundant memory lines is electrically assigned after the assembling of the semiconductor memory device. 30. The method of claim 29, further comprising setting a laser-configurable fuse associated with each of the redundant memory lines.
【請求項31】 前記不良メモリラインを代替するため
に冗長メモリラインを電気的に割当てる段階は、 前記不良メモリラインと結合されたアドレスを電気的ヒ
ューズボックスに設定する段階と、 利用可能な冗長メモリラインが全部試みられるか、また
は前記不良メモリラインが代替されるまで、冗長メモリ
ラインに関するリペアアドレスの集合をルーピングする
段階と、 前記リペアアドレスに関する電気的ヒューズを設定する
ように試みる段階と、 前記リペアアドレスに関するメモリラインが相変らず不
良であるかどうかを調べるために前記不良メモリライン
に関するアドレスをテストする段階とを具備することを
特徴とする請求項28に記載の半導体メモリ装置のリペ
ア方法。
31. Electrically assigning a redundant memory line to replace the defective memory line, setting an address associated with the defective memory line in an electrical fuse box, and using available redundant memory. Looping a set of repair addresses for redundant memory lines, attempting to set an electrical fuse for the repair addresses until all lines have been tried or the defective memory line has been replaced; 29. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 28, further comprising the step of testing an address related to the defective memory line to check whether the memory line related to the address is still defective.
【請求項32】 前記リペアアドレスの集合をルーピン
グする段階は、 前記リペアアドレスをこれらの各々の冗長メモリライン
に対するオーバーライド優先度によって所定の順序に配
列する段階を含み、 前記所定の順序で後ろのアドレスはより高いオーバーラ
イド優先度を有し、 高いオーバーライド優先度に基づいて、低い優先度を有
するメモリラインが不良メモリラインアドレスと既に関
連しているとしても、前記高いオーバーライド優先度を
有するリペアアドレスに関する冗長メモリラインを選択
することを特徴とする請求項31に記載の半導体メモリ
装置のリペア方法。
32. Looping the set of repair addresses includes arranging the repair addresses in a predetermined order according to an override priority for each of these redundant memory lines, the trailing addresses in the predetermined order. Has a higher override priority, and based on the higher override priority, the redundancy for the repair address with the higher override priority, even if the memory line with the lower priority is already associated with the bad memory line address. 32. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 31, wherein a memory line is selected.
【請求項33】 前記半導体メモリ装置のリペア方法
は、 前記組立て前に、前記冗長メモリラインのうち一つを不
良メインメモリラインの代替のために割当てる場合に
は、前記オーバーライド優先度に対応する所定の順序に
冗長メモリラインを割当てる段階をさらに具備すること
を特徴とする請求項32に記載の半導体メモリ装置のリ
ペア方法。
33. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 1, wherein, when one of the redundant memory lines is assigned to replace a defective main memory line before the assembling, a predetermined corresponding to the override priority is given. 33. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 32, further comprising allocating redundant memory lines in the order of.
【請求項34】 それぞれが一つのレーザーヒューズ/
比較器に結合されている複数の冗長メモリライン及びメ
インメモリラインの集合を具備する半導体メモリ装置を
リペアする方法において、 前記半導体メモリ装置をパッケージに組立てる前に、 どのラインが不良であり、どのラインが不良でないかを
調べるために前記メインメモリライン及び前記冗長メモ
リラインをテストする段階と、 各不良メインメモリラインに対して、前記不良メインメ
モリラインを代替するために割当てられる前記不良のな
い冗長メモリラインのうち一つをと結合された前記レー
ザーヒューズ/比較器を構成する段階と、 欠陥メモリラインの代替後にも前記不良のない冗長メモ
リラインが残っている場合、前記残っている不良のない
冗長メモリラインをポストリペア用に割当てる段階と、 前記割当てられたポストリペア用冗長メモリラインを、
前記割当てられたポストリペア用冗長メモリラインと結
合されたレーザーヒューズ/比較器の代りにポストリペ
ア比較器と結合させる段階とを具備する半導体メモリ装
置のリペア方法。
34. One laser fuse / each
A method of repairing a semiconductor memory device comprising a set of a plurality of redundant memory lines and a main memory line coupled to a comparator, wherein which line is defective and which line is defective before the semiconductor memory device is assembled into a package. A test of the main memory line and the redundant memory line to determine whether the defective main memory line is defective, and for each defective main memory line, the defective redundant memory allocated to replace the defective main memory line. Configuring the laser fuse / comparator coupled with one of the lines, and if the defective redundant memory line remains after replacement of the defective memory line, the remaining defect-free redundancy Allocating a memory line for post repair, said allocated post repair The A redundant memory line,
Connecting the post-repair comparator in place of the laser fuse / comparator coupled to the assigned redundant memory line for post-repair, and repairing the semiconductor memory device.
【請求項35】 前記半導体メモリ装置のリペア方法
は、 前記半導体メモリ装置をパッケージに組立てた後に、 前記メインメモリラインのうちどのラインが不良かを調
べるために前記メインメモリラインを再びテストする段
階と、 前記再テスト過程中に前記メインメモリラインのうち一
ラインが不良であると決定されれば、前記不良メインメ
モリラインを代替するために前記割当てられたポストリ
ペア冗長メモリラインと結合されたポストリペア比較器
を構成する段階とをさらに具備することを特徴とする請
求項34に記載の半導体メモリ装置のリペア方法。
35. The method of repairing a semiconductor memory device, further comprising testing the main memory line again to check which of the main memory lines is defective after the semiconductor memory device is assembled in a package. If one of the main memory lines is determined to be defective during the retesting process, a post repair combined with the assigned post repair redundant memory line to replace the defective main memory line. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 34, further comprising the step of configuring a comparator.
【請求項36】 前記割当てられたポストリペア用冗長
メモリラインを前記ポストリペア比較器と結合させる段
階は、 ヒューズを切断することによって、前記ポストリペア比
較器が前記割当てられたポストリペア用冗長メモリライ
ンと結合されるように選択ロジックを構成する段階と、 前記割当てられたポストリペア用冗長メモリラインに結
合されたレーザーヒューズ/比較器との結合を遮断する
段階とを含むことを特徴とする請求項34に記載の半導
体メモリ装置のリペア方法。
36. The step of coupling the assigned post-repair redundant memory line with the post-repair comparator comprises: blowing a fuse so that the post-repair comparator has the assigned post-repair redundant memory line. Configuring a select logic to be coupled to the laser fuse / comparator coupled to the assigned redundant memory line for post repair. 34. A method for repairing a semiconductor memory device according to 34.
【請求項37】 前記ヒューズの切断は、前記半導体メ
モリ装置のパッケージング後に外部命令により行われる
ことを特徴とする請求項36に記載の半導体メモリ装置
のリペア方法。
37. The method of repairing a semiconductor memory device according to claim 36, wherein the cutting of the fuse is performed by an external command after packaging of the semiconductor memory device.
【請求項38】 不良メインメモリラインを代替できる
冗長ラインと、 半導体メモリ装置のパッケージング組立て前にのみプロ
グラムされうる第1不良アドレス貯蔵部と、 半導体メモリ装置のパッケージング組立て後にのみプロ
グラムされうる第2不良アドレス貯蔵部と、 前記第1または第2不良アドレス貯蔵部を前記冗長ライ
ンと結合させうる手段とを具備する半導体メモリ装置。
38. A redundant line that can replace a defective main memory line, a first defective address storage that can be programmed only before packaging and assembling a semiconductor memory device, and a first defective address that can be programmed only after packaging and assembling a semiconductor memory device. A semiconductor memory device comprising: two defective address storage units; and means for coupling the first or second defective address storage unit with the redundant line.
【請求項39】 前記半導体メモリ装置は、入力アドレ
スを前記第1及び第2不良アドレス貯蔵部に貯蔵されて
いるアドレスとそれぞれ比較する第1及び第2アドレス
比較器をさらに具備し、 前記結合手段は一つのプログラマブルモードでは第1ア
ドレス比較器をイネーブルし、他のプログラマブルモー
ドでは第2アドレス比較器をイネーブルするプログラマ
ブルポストリペア制御ブロックを含むことを特徴とする
請求項38に記載の半導体メモリ装置。
39. The semiconductor memory device further comprises first and second address comparators for comparing an input address with an address stored in the first and second defective address storage units, respectively, and the combining means. 39. The semiconductor memory device of claim 38, further comprising a programmable post repair control block that enables the first address comparator in one programmable mode and the second address comparator in another programmable mode.
【請求項40】 それぞれが不良メインメモリラインを
代替できるN(Nは2より大きい数)個の冗長ライン
と、 それぞれが一つの冗長ラインと結合され、半導体メモリ
装置のパッケージング組立て前にのみプログラムされう
るM(MはN/2より大きい数)個の第1不良アドレス
貯蔵部と、 それぞれが一つの冗長ラインと結合され、半導体メモリ
装置のパッケージング組立て後にのみプログラムされう
るN−M個の第2不良アドレス貯蔵部とを具備する半導
体メモリ装置。
40. N (N is a number greater than 2) redundant lines, each of which can replace a defective main memory line, and each redundant line are combined with one redundant line to program only before packaging and assembling of a semiconductor memory device. M first (M is a number larger than N / 2) first defective address storage units, each of which is connected to one redundancy line, and can be programmed only after packaging and assembling a semiconductor memory device. A semiconductor memory device having a second defective address storage unit.
【請求項41】 ローとカラムとのマトリックス構造に
配列される複数のノーマルメモリセルを含む半導体メモ
リ装置において、 前記ノーマルメモリセルの欠陥ラインを代替できる二つ
以上の冗長性ラインと、 レーザーで切断可能な多数のレーザーヒューズの選択的
切断によって前記欠陥ラインの代りに対応する冗長性ラ
インを選択するレーザーリペアを行い、所定の制御信号
及び電気的リペア活性信号に応答して前記欠陥ラインの
代りに前記対応する冗長性ラインを選択するポストリペ
アを行う前記冗長性ラインのそれぞれに対応して具備す
る前記冗長性制御ブロックと、 前記冗長性制御ブロックのうち少なくとも2個の前記冗
長性制御ブロックのそれぞれに対応して一つずつ備わ
り、前記指定された冗長性ラインに対応する前記冗長性
制御ブロックとして所定レベルの前記制御信号を出力す
るポストリペア制御ブロックとを具備することを特徴と
する半導体メモリ装置。
41. In a semiconductor memory device including a plurality of normal memory cells arranged in a matrix structure of rows and columns, two or more redundancy lines that can replace defective lines of the normal memory cells and laser cutting. A laser repair for selecting a corresponding redundant line in place of the defective line is performed by selectively cutting a plurality of laser fuses, and the defective line is replaced in place of the defective line in response to a predetermined control signal and an electrical repair activation signal. Each of the redundancy control blocks provided corresponding to each of the redundancy lines for performing post-repair for selecting the corresponding redundancy line, and at least two of the redundancy control blocks among the redundancy control blocks. One by one corresponding to the above, the redundancy control corresponding to the specified redundancy line. A semiconductor memory device comprising a post repair control block that outputs the control signal of a predetermined level as a control block.
【請求項42】 前記半導体メモリ装置は、 電気的に切断可能な多数の電気的ヒューズを含み、選択
的に切断される前記電気的ヒューズの組合わせによって
前記欠陥ラインのうちいずれか一つを指定するアドレス
でプログラムされる電気的ヒューズボックスと、 前記プログラムされたアドレスと外部アドレスとが一致
すれば、前記電気的リペア活性信号を活性化するアドレ
ス比較器とをさらに具備することを特徴とする請求項4
1に記載の半導体メモリ装置。
42. The semiconductor memory device includes a plurality of electrically fuses that can be electrically cut, and one of the defective lines is designated by a combination of the electrically fuses that are selectively cut. And an address comparator that activates the electrical repair activation signal when the programmed address and the external address match. Item 4
1. The semiconductor memory device according to 1.
【請求項43】 前記半導体メモリ装置は、外部から多
数のコマンド信号及び多数のアドレス信号を受信するモ
ードレジスタセットをさらに具備し、 前記電気的ヒューズボックスは、前記外部信号に応答し
て前記モードレジスタセットから出力される信号によっ
て制御されることを特徴とする請求項42に記載の半導
体メモリ装置。
43. The semiconductor memory device further comprises a mode register set for receiving a large number of command signals and a large number of address signals from the outside, wherein the electrical fuse box is responsive to the external signals to store the mode registers. The semiconductor memory device of claim 42, wherein the semiconductor memory device is controlled by a signal output from the set.
【請求項44】 前記アドレス比較器は、 前記電気的ヒューズボックスにプログラムされたアドレ
スの1ビットと前記外部アドレスの1ビットずつをそれ
ぞれ受信して前記受信される両ビットが一致すれば第1
ロジックレベルの信号をそれぞれ出力する多数の比較部
を含み、前記比較部の出力信号がいずれも前記第1ロジ
ックレベルである時に前記電気的リペア活性信号を活性
化することを特徴とする請求項42に記載の半導体メモ
リ装置。
44. The address comparator receives 1 bit of an address programmed in the electrical fuse box and 1 bit of the external address, respectively, and receives the first bit if the received two bits match.
43. The method according to claim 42, further comprising a plurality of comparators each outputting a logic level signal, wherein the electrical repair activation signal is activated when the output signals of the comparators are all at the first logic level. The semiconductor memory device according to 1.
【請求項45】 前記冗長性制御ブロックのそれぞれは
前記レーザーリペアの遂行のためのレーザーリペア処理
パートを含み、 前記リペア処理パートは、選択的に切断される前記レー
ザーヒューズの組合わせによって前記欠陥ラインのうち
いずれか一つを指定するアドレスでプログラムされるレ
ーザーヒューズボックスと、前記レーザーヒューズボッ
クスにプログラムされたアドレスと前記外部アドレスと
が同一であれば活性化される出力信号を生じるアドレス
比較部とを含むことを特徴とする請求項42に記載の半
導体メモリ装置。
45. Each of the redundancy control blocks includes a laser repair processing part for performing the laser repair, wherein the repair processing part includes the defective line due to a combination of the laser fuses that are selectively cut. A laser fuse box programmed with an address designating any one of them, and an address comparison unit that produces an output signal that is activated if the address programmed in the laser fuse box and the external address are the same. 43. The semiconductor memory device according to claim 42, comprising:
【請求項46】 前記ポストリペア制御ブロックは、 前記冗長性制御ブロックのそれぞれに対応して一つずつ
備わることを特徴とする請求項42に記載の半導体メモ
リ装置。
46. The semiconductor memory device of claim 42, wherein one post repair control block is provided for each of the redundancy control blocks.
【請求項47】 前記ポストリペア制御ブロックのそれ
ぞれはレーザーで切断可能なポストリペア制御用ヒュー
ズを含み、 前記ポストリペア制御ブロックから出力される前記制御
信号は、前記ポストリペア制御用ヒューズが切断される
か否かによってロジックレベルを別にすることを特徴と
する請求項42に記載の半導体メモリ装置。
47. Each of the post-repair control blocks includes a post-repair control fuse that can be cut by a laser, and the control signal output from the post-repair control block disconnects the post-repair control fuse. 43. The semiconductor memory device of claim 42, wherein the logic level is different depending on whether or not it is.
【請求項48】 前記ポストリペア制御用ヒューズの切
断は前記半導体装置のウェーハ状態で行われ、 前記ポストリペアは前記半導体装置のパッケージ状態で
行われることを特徴とする請求項47に記載の半導体メ
モリ装置。
48. The semiconductor memory according to claim 47, wherein the cutting of the post repair control fuse is performed in a wafer state of the semiconductor device, and the post repair is performed in a package state of the semiconductor device. apparatus.
【請求項49】 ローとカラムとのマトリックス構造に
配列される複数のノーマルメモリセルと、前記ノーマル
メモリセルの欠陥ラインを代替できる2本以上の冗長性
ラインとを含む半導体メモリ装置で、前記欠陥ラインを
前記冗長性ラインに取り替えるリペア方法において、 (a)前記半導体装置のウェーハ状態でレーザーを利用
してレーザーリペアを行う段階と、 (b)前記冗長性ラインのうち前記(a)段階でのレー
ザーリペアに使われていない冗長性ラインをテストする
段階と、 (c)前記(b)段階のテストで良品として認定された
冗長性ラインのうち少なくとも一つを電気的リペア用ラ
インとして選択する段階と、 (d)パッケージ状態で前記半導体装置をテストする段
階と、 (e)前記(d)段階で発生した欠陥ラインを前記電気
的リペア用ラインにリペアする段階とを具備することを
特徴とするポストリペア方法。
49. A semiconductor memory device comprising: a plurality of normal memory cells arranged in a matrix structure of rows and columns; and two or more redundancy lines that can replace defective lines of the normal memory cells. In the repair method for replacing a line with the redundancy line, (a) performing a laser repair using a laser in a wafer state of the semiconductor device; and (b) a step of (a) of the redundancy lines. Testing a redundant line not used for laser repair, and (c) selecting at least one of the redundant lines certified as non-defective in the test of (b) above as an electrical repair line. (D) a step of testing the semiconductor device in a package state, and (e) a defect line generated in the step (d). Post repair method characterized by comprising the step of repairing the electrical repair line.
【請求項50】 前記(a)段階は、 レーザーで切断可能な多数のレーザーヒューズを選択的
に切断して前記欠陥ラインを指定するアドレスをプログ
ラムする段階を含むことを特徴とする請求項49に記載
のポストリペア方法。
50. The method of claim 49, wherein the step (a) includes the step of selectively cutting a number of laser fuses capable of being cut by a laser to program an address for designating the defective line. Post repair method described.
【請求項51】 前記(e)段階は、 電気的に切断可能な多数の電気的ヒューズを選択的に切
断して前記(d)段階で発生した欠陥ラインを指定する
アドレスをプログラムする段階を含むことを特徴とする
請求項49に記載のポストリペア方法。
51. The step (e) includes the step of selectively cutting a plurality of electrically disconnectable electric fuses to program an address designating a defective line generated in the step (d). 50. The post repair method according to claim 49, wherein:
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