JPH01108736A - Manufacture of integrated circuit - Google Patents

Manufacture of integrated circuit

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JPH01108736A
JPH01108736A JP62265348A JP26534887A JPH01108736A JP H01108736 A JPH01108736 A JP H01108736A JP 62265348 A JP62265348 A JP 62265348A JP 26534887 A JP26534887 A JP 26534887A JP H01108736 A JPH01108736 A JP H01108736A
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JP
Japan
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address
fuse
signal
address signal
input
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Application number
JP62265348A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Miyazaki
敏行 宮崎
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH01108736A publication Critical patent/JPH01108736A/en
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Abstract

PURPOSE:To make it possible to fuse cut a fuse at the address of 9 defective memory cell only to a necessary memory circuit out of a plurality of pieces of memory circuits by a method wherein an address signal to specify the detected defective memory cell is fed to each of a plurality of pieces of the memory circuits individually and simultaneously. CONSTITUTION:A performance test is conducted for each of a plurality of pieces of memory circuits on one sheet of a wafer by a detecting means (detecting process) 10 and after the compare check of known write data and read out data is performed to detect a defective memory cell, the address signal of the defective memory cell is fed to the memory circuits by an address signal input process 11. This process 11 makes first and second signals led out by a driver 3 feed respectively to first and second selecting means 14 and 15. Here, as one of the signals is selected by a control means 16, the address signal is inputted at a different value in every memory circuit individually and simultaneously.

Description

【発明の詳細な説明】 (概要〕 冗長セルが設けられたメモリ回路が一枚のつ工−ハ上に
複数個形成された集積回路の製造方法に関し、 複数個のメモリ回路部で不良メモリセルのアドレスが異
なっても迅速にメモリセルの冗長使用判定用ヒユーズを
溶断することを目的とし、メモリセルの冗長使用判定用
ヒユーズの溶断の有無の組合わせでプログラムされたア
ドレスに対応するアドレス入力時は冗長セルを使用する
構成としたメモリ回路が一枚のつI−ハ上に複数個形成
された集積回路の製造方法において、該複数個のメモリ
回路の不良メモリセルを検出する検出工程と、該不良メ
モリセルを指定する゛アドレス信号を別々に、かつ、同
時に供給するアドレス信号入力工程と、該アドレス信号
が入力された該複数個のメモリ回路に対して前記冗長使
用判定用ヒユーズを溶断すべき信号を印加して該ヒユー
ズを溶断する溶断工程とを具備し、該アドレス信号入力
工程は各アドレス信号入力端子の夫々に対して、互いに
論理値あ異なる第1及び第2の信号を並列に出力するド
ライバと、該第1の信号を選択出力する第1の選択手段
と、該第2の信号を選択出力する第2の選択手段と、該
第1及び第2の選択手段をI制御するllllIll手
段とを用いて該アドレス信号の入力を行なうよう構成す
る。
[Detailed Description of the Invention] (Summary) Regarding a method for manufacturing an integrated circuit in which a plurality of memory circuits each having a redundant cell are formed on a single chip, a defective memory cell in a plurality of memory circuit sections is provided. The purpose is to quickly blow out the fuse for determining redundant use of memory cells even if the addresses of the memory cells are different. A method for manufacturing an integrated circuit in which a plurality of memory circuits configured to use redundant cells are formed on a single I-C, a detection step of detecting a defective memory cell in the plurality of memory circuits; an address signal input step for separately and simultaneously supplying address signals specifying the defective memory cell; and blowing the redundant use determination fuse for the plurality of memory circuits to which the address signals are input. and a blowing step of blowing out the fuse by applying a signal to the address signal input terminal, and the address signal input step applies first and second signals having different logical values to each address signal input terminal in parallel. I-control the driver for outputting, the first selection means for selectively outputting the first signal, the second selection means for selectively outputting the second signal, and the first and second selection means. The address signal is input using the llllll means.

(産業上の利用分野) 本発明は集積回路の製造方法に係り、特に冗長セルが設
けられたメモリ回路が一枚のウェーハ上に複数個形成さ
れた集積回路の製造方法に関する。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a method of manufacturing an integrated circuit, and more particularly to a method of manufacturing an integrated circuit in which a plurality of memory circuits each having redundant cells are formed on a single wafer.

大規模集積回路(LSI)の動作試験を行ない、その結
果不良と判定されたメモリセルは、予め設けられている
メモリセルの冗長使用判定用ヒユーズが溶断され、その
不良メモリセルに対応したアドレス入力時に冗長セルを
使用することで不良救済を行なう。
A large-scale integrated circuit (LSI) is tested for operation, and if a memory cell is determined to be defective, the pre-installed fuse for determining redundant use of the memory cell is blown, and an address corresponding to the defective memory cell is input. Sometimes, redundant cells are used to repair defects.

このようなLSIを一枚のつI−ハ上に多数個形成する
場合は、上記のヒユーズ溶断を迅速に行なうことが、製
造効率の点から必要とされる。
When forming a large number of such LSIs on a single I-C, it is necessary to blow out the fuses quickly in terms of manufacturing efficiency.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第8図は従来の集積回路の製造方法の要部工程での一例
の回路系統図を示す。同図中、1はテスタで、動作試験
が終了した後述する被測定デバイス5電〜54に対して
、不良メモリセルに代えて冗長セルを使用するため、不
良メモリセルに対応したアドレスで冗長使用判定用ヒユ
ーズを溶断するべく、そのアドレスを指定するアドレス
信号を出力する。
FIG. 8 shows a circuit system diagram of an example of main steps in a conventional integrated circuit manufacturing method. In the same figure, 1 is a tester, and redundant cells are used in place of defective memory cells for devices under test 5 to 54, which will be described later, after the operation test is completed, so they are used redundantly at addresses corresponding to the defective memory cells. In order to blow out the determination fuse, an address signal designating the address is output.

テスタ1はmピットのアドレス信号に対応してmll設
けられたドライバ21〜2m、バッファ3u 〜3+ 
m s 321〜32 m 、 331〜3s m *
34亀〜34w+、 ドライバリレー4n〜4I霜。
The tester 1 includes drivers 21 to 2m and buffers 3u to 3+, which are provided in response to address signals of m pits.
m s 321~32 m, 331~3s m *
34 turtle ~ 34w +, driver relay 4n ~ 4I frost.

42+〜4z tn* 431〜41 tn、44〜4
4 tnなとより構成されている。
42+~4z tn* 431~41 tn, 44~4
It is composed of 4 tn and so on.

ドライバ21〜2mは入力データに基づいてハイレベル
及びローレベルのうちいずれか一方を選択出力する。
The drivers 21 to 2m selectively output either a high level or a low level based on input data.

バッファ3n〜34mは夫々ドライバ21〜2ynの出
力信号を入力信号として受け、それを緩衝増幅してドラ
イバリレー4n〜44T11に供給する。ドライバリレ
ー411〜44mはテスタ1内の1111回路(図示せ
ず)よりの制御信号により励磁(メーク)又は非励磁(
ブレーク)とされるよう構成されており、メーク時のみ
そのドライバリレーに対応するバッファよりの信号を選
択する。
Buffers 3n to 34m each receive output signals from drivers 21 to 2yn as input signals, buffer and amplify the signals, and supply the buffered signals to driver relays 4n to 44T11. Driver relays 411 to 44m are energized (make) or de-energized (
The signal from the buffer corresponding to that driver relay is selected only at the time of make.

ドライバリレー4n〜4amはテスタビンを介して被測
定デバイス51〜54のパッド(アドレス信号入力端子
)6n〜641Tlに接続されている。
Driver relays 4n-4am are connected to pads (address signal input terminals) 6n-641Tl of devices under test 51-54 via tester bins.

上記のドライバ21〜2m、バッファ3o〜3 a m
 m ドライバリレー4n〜44Tnよりなる回路部は
、例えば被測定デバイス51〜54の各々のパッド数並
列に設けられている。
Above driver 21~2m, buffer 3o~3am
The circuit section consisting of the m driver relays 4n to 44Tn is provided in parallel in the number of pads of each of the devices under test 51 to 54, for example.

被測定デバイス51〜54は互いに同一構成とされたL
SIで、これらはメモリセルの冗長使用判定用ヒユーズ
が設けられ、そのうち溶断したヒユーズに対応するアド
レス入力時は冗長セルを使用する構成とされたメモリ回
路(例えばランダムφアクセス、メモリ(RAM))で
、また、これらは同じ一枚のつI−ハ上に搭載されてい
る。この−枚のウェーハ上には、これら被測定デバイス
51〜54を含め、これらと同一構成のLSIが多数個
搭載されている。この−枚のつI−ハ上の多数個のLS
I(被測定デバイス)の動作試験を行なった後、不良と
判定された被測定デバイスについて所定個所のヒユーズ
を溶断する。
The devices under test 51 to 54 have the same configuration.
In SI, these are memory circuits (e.g., random φ access, memory (RAM)) that are provided with fuses for determining redundant use of memory cells, and are configured to use redundant cells when an address corresponding to a blown fuse is input. Also, these are mounted on the same single board. On this second wafer, a large number of LSIs having the same configuration as the devices to be measured 51 to 54 are mounted. A large number of LS on this one I-C
After performing an operation test on I (device under test), fuses at predetermined locations of the device under test determined to be defective are blown.

−例として、実際に既知のデータを書き込んだ優読み出
して、その読み出しデータを入力データと照合する動作
試験の結果、被測定デバイス51〜54のうち被測定デ
バイス5I及び52の夫々同一アドレスのメモリセルに
不良があったものとすると、ドライバ21及び22 (
ただし、22は因示せず)よりハイレベルの信号が継続
して取り出されると共に、ドライバリレー4n〜41W
Iと421〜42而は夫々不良メモリセルのアドレスと
同じアドレスを指定するmピットのアドレス信号を出力
するようにメーク又はブレークされ、かつ、ドライバリ
レー431〜4gm、4a〜44W1は夫々ブレークさ
れる。
- As an example, as a result of an operation test in which known data is actually written and read out, and the read data is compared with input data, the memory of each of the devices under test 5I and 52 of the devices under test 51 to 54 at the same address Assuming that there is a defect in the cell, the drivers 21 and 22 (
However, 22 is not indicated), a higher level signal is continuously taken out, and driver relays 4n to 41W
I and 421-42 are respectively made or broken so as to output an m-pit address signal specifying the same address as the address of the defective memory cell, and driver relays 431-4gm and 4a-44W1 are broken, respectively. .

これにより、被測定デバイス5I及び52の各バッド6
n〜6IWIと621〜62Wlには同じアドレス信号
が入力され、この状態において被測定デバイス51及び
52に電圧V1.V21〜Vaが印加されることにより
、後述する如く、不良メモリセルと同じアドレスで冗長
使用判定用ヒユーズが溶断される。
As a result, each pad 6 of the devices under test 5I and 52
The same address signal is input to n-6IWI and 621-62Wl, and in this state, the voltage V1. By applying V21 to Va, the redundant use determination fuse is blown at the same address as the defective memory cell, as will be described later.

この冗長使用判定用ヒユーズが溶断されると、その後こ
のLSIの出荷後の実際の使用時において、溶断された
冗長使用判定用ヒユーズにプログラムされたアドレスと
一致したアドレス信号が入力されたときに、冗長用のデ
コーダ回路が活性化されると共に、通常のデコーダ回路
の動作を禁止し、不良であった前記メモリセルに代えて
冗長セルが使用される。従って、不良メモリセルの救済
ができることになる。
When this fuse for determining redundant use is blown, when the LSI is actually used after shipment, when an address signal that matches the address programmed in the blown fuse for determining redundant use is input, The redundant decoder circuit is activated, the normal decoder circuit is prohibited from operating, and the redundant cell is used in place of the defective memory cell. Therefore, defective memory cells can be repaired.

このようにして、テスタ1を用いて被測定デバイス5曹
及び52の不良状態を同時に救済することができる。
In this way, using the tester 1, it is possible to remedy the defective states of the devices under test 5 and 52 at the same time.

(発明が解決しようとする問題点) しかるに、被測定デバイス51〜54は夫々同一構成で
あるが、不良メモリセルのアドレス値が夫々常に同一で
あるとは限らず、不良メモリセルは互いに異なるアドレ
ス値である場合もあり、また不良メモリセルの全くない
被測定デバイスもある。
(Problem to be Solved by the Invention) However, although the devices under test 51 to 54 have the same configuration, the address values of the defective memory cells are not always the same, and the defective memory cells have different addresses. There are also devices under test that have no defective memory cells.

しかし、従来のテスタでは、測定対象となった不良部分
を有する被測定デバイスの各アドレス信号入力用パッド
に接続されたドライバリレーがすべて同一のアドレス信
号を出力するように適宜メークされ、測定対象外の良品
の被測定デバイスの各アドレス信号入力用パッドに接続
されたドライバリレーがすべてブレークされるよう構成
されていた。
However, with conventional testers, the driver relays connected to each address signal input pad of the device under test that has a defective part are all appropriately configured to output the same address signal. The configuration was such that all driver relays connected to each address signal input pad of a non-defective device under test were broken.

このため、従来は上記のように不良個所が異なるような
被測定デバイス51〜54の不良救済を行なう場合は、
まとめてヒユーズを溶断することはできず、測定対象と
なる被測定デバイスを1つとし、その被測定デバイスに
対する条件設定を行ない、ヒユーズを溶断することを、
不良個所がある被測定デバイスすべてについて繰り返し
ていた。
For this reason, conventionally, when repairing defects in the devices under test 51 to 54, which have different defective locations as described above,
It is not possible to blow fuses all at once, so it is recommended to set the conditions for one device under test and then blow the fuses.
The process was repeated for all devices under test that had defective parts.

従って、従来は上記の場合は測定効率(ヒユーズ溶断効
率)が著しく低下するというl!1IWA点があった。
Therefore, it has been conventionally said that in the above case, the measurement efficiency (fuse blowing efficiency) decreases significantly! There was 1 IWA point.

本発明は上記の点に鑑みて創作されたもので、複数個の
メモリ回路−で不良メモリセルのアドレスが異なっても
迅速にメモリセルの冗長使用判定用ヒユーズを溶断する
ことができる集積回路の製造方法を提供することを目的
とする。
The present invention was created in view of the above points, and is an integrated circuit that can quickly blow out a fuse for determining redundant use of a memory cell even if the address of a defective memory cell differs in a plurality of memory circuits. The purpose is to provide a manufacturing method.

〔問題点を解決するための手段] 第1図は本発明の原理ブロック図を示す。図中、10は
検出工程、11はアドレス信号入力工程。
[Means for Solving the Problems] FIG. 1 shows a block diagram of the principle of the present invention. In the figure, 10 is a detection process, and 11 is an address signal input process.

12は溶断工程を示す。12 indicates a fusing process.

検出工程10は複数−のメモリ回路を被測定デバイスと
して動作試験して不良メモリセルを検出する。
In the detection step 10, a plurality of memory circuits are tested as devices under test to detect defective memory cells.

アドレス信号入力工程11は複数個のメモリ回路の夫々
について検出された不良メモリセルを指定するアドレス
信号を別々に、かつ、同時に供給する。
The address signal input step 11 separately and simultaneously supplies address signals specifying the detected defective memory cells for each of the plurality of memory circuits.

溶断工程12は不良メモリセルに対応したアドレスで冗
長使用判定用ヒユーズを溶断すべき信号を印加してヒユ
ーズを溶断する。
In the blowing step 12, a signal for blowing out the redundant use determination fuse is applied at the address corresponding to the defective memory cell to blow the fuse.

ここで、アドレス信号入力工程11はドライバ13、第
1の選択手段14.第2の選択手段15゜制御手段16
よりなり、制御手段16により第1及び第2の選択手段
14及び15のいずれか一方のみを選択出力状態とする
か、又は両方共に信号通過阻止状態とする。これらのド
ライバ13.第1及び第2の選択手段14及び15.1
11111手段16を用いて前記アドレス信号の入力が
行なわれる。
Here, the address signal input step 11 includes a driver 13, a first selection means 14. Second selection means 15° control means 16
Accordingly, the control means 16 sets only one of the first and second selection means 14 and 15 to a selective output state, or both of them are set to a signal passage blocking state. These drivers13. First and second selection means 14 and 15.1
The address signal is input using the 11111 means 16.

〔作用〕[Effect]

メモリの冗長使用判定用ヒユーズが設けられ、そのうち
溶断したヒユーズに対応するアドレス入力時は冗長セル
を使用する構成としたメモリ回路が一枚のウェーハ上に
複数個形成された集積回路の製造方法において、−枚の
つI−ハ上の複数個のメモリ回路に対して夫々検出手段
10により動作試験を行ない、既知の1き込みデータと
読み出したデータの比較照合を行なって不良メモリセル
を検出した後、アドレス信号入力工程11によりその不
良メモリセルのアドレス信号をメモリ回路に供給する。
In a method for manufacturing an integrated circuit in which a plurality of memory circuits are formed on a single wafer, in which fuses for determining redundant use of memory are provided, and a redundant cell is used when an address corresponding to a blown fuse is input. An operation test was performed on a plurality of memory circuits on each of the two sheets of I-C by the detection means 10, and defective memory cells were detected by comparing the known data read out with the data read out. Thereafter, in an address signal input step 11, the address signal of the defective memory cell is supplied to the memory circuit.

このアドレス信号入力工程11はドライバ13より取り
出された第1及び第2の信号が第1及び第2の選択手段
14及び15に夫々供給され、ここで制御手段16によ
りいずれか一方が選択されるので、アドレス信号はメモ
リ回路毎に異なる値で、別々に、かつ、同時に入力する
ことができる。
In this address signal input step 11, the first and second signals taken out from the driver 13 are supplied to the first and second selection means 14 and 15, respectively, and one of them is selected by the control means 16 here. Therefore, address signals with different values can be input to each memory circuit separately and simultaneously.

また、制御手段16により、上記の第1及び第2の信号
はいずれも選択出力されないようにもでき、この場合は
次の溶断工程12におけるヒユーズ溶断を行なわないよ
うにできる。
Furthermore, the control means 16 can selectively output neither the first nor second signals, and in this case, the fuse can be prevented from blowing in the next blowing step 12.

従って、−枚のつI−ハ上に搭載された複数個のメモリ
回路が不良メモリセルのアドレスが互いに異なっていて
も、また不良品のメモリ回路と良品のメモリ回路とが混
在していても、同時に異なるアドレス信号を別々に供給
したり、良品のメモリ回路にはアドレス信号を供給しな
いようにすることができる。
Therefore, even if the addresses of defective memory cells of multiple memory circuits mounted on one I-C are different from each other, or even if defective memory circuits and good memory circuits are mixed together, , different address signals can be supplied separately at the same time, or address signals can not be supplied to non-defective memory circuits.

(実施例〕 第2図は本発明の要部の一実施例の回路系統図を示す。(Example〕 FIG. 2 shows a circuit system diagram of an embodiment of the main part of the present invention.

同図中、第8図と同で構成部分には同一符号を付し、そ
の説明を適宜省略する。第2図はアドレス信号入力工程
11において使用されるテスタ17の構成の一実施例を
示し、テスタ17内のドライバ181〜18mは夫々互
いに逆相の第1の信号と第2の信匈を並列に出力できる
2つの出力端子を有している。    − ドライバ18+より取り出された第1及び第2の信号の
うち第1の信号はバッファ311.321゜3s+、、
3aを並列に介してドライバリレー4m。
In the figure, the same components as in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals, and the explanation thereof will be omitted as appropriate. FIG. 2 shows an example of the configuration of the tester 17 used in the address signal input step 11, and the drivers 181 to 18m in the tester 17 respectively output a first signal and a second signal in parallel, which are opposite in phase to each other. It has two output terminals that can output to. - The first signal of the first and second signals taken out from the driver 18+ is sent to the buffer 311.321°3s+, .
Driver relay 4m via 3a in parallel.

421 、431 # 44+に供給され、第2の信号
はバッファ19n 、1921.193電、1941を
並列に介してドライバリレー20n 、2021.20
31゜2041に供給される。ドライバリレー4 n 
+ 421 。
421, 431 #44+, and the second signal is passed through buffers 19n, 1921.193 and 1941 in parallel to driver relays 20n and 2021.20.
31°2041. Driver relay 4 n
+421.

431.44盲と20n 、2021.2031.20
aとは夫々別々の制御信号により制御され、ドライバリ
レー4flがメークされて第1の信号を出力するときは
ドライバリレー2Onがブレーク状態とされ、ドライバ
リレー20nが第2の信号を出力するときはドライバリ
レー4nがブレーク状態とされる(ドライバリレー42
1〜441.2021〜204Iも同様)。また、ドラ
イバリレー4 n〜441と10n〜104Iとは共に
ブレーク状態とされることもある。
431.44 Blindness and 20n, 2021.2031.20
a are controlled by separate control signals, and when driver relay 4fl is made and outputs the first signal, driver relay 2On is in the break state, and when driver relay 20n outputs the second signal, driver relay 2On is in the break state. Driver relay 4n is set to break state (driver relay 42
1-441. The same applies to 2021-204I). Further, driver relays 4n to 441 and 10n to 104I may both be in a broken state.

このようにして、テスタピン211〜214には第1の
信号又は第2の信号が供給される(信号が何も供給され
ないこともある)。テスタビン211〜214は被測定
デバイス51〜54のmビットのアドレス信号入力端子
のうち1ビツト目の入力端子であるパッド61〜64に
接続される。
In this way, the tester pins 211-214 are supplied with the first signal or the second signal (in some cases, no signal is supplied). The tester bins 211-214 are connected to pads 61-64 which are the first bit input terminals of the m-bit address signal input terminals of the devices under test 51-54.

テスタ17は、上記のドライバ18+1.バッフア3n
〜341,19TI〜1941.ドライバリレー4n〜
441,201〜2041よりなる回路部が、第2図に
示す如くmピットのアドレス信号に対応して全部でm系
統並列に設けられている。
The tester 17 has the above drivers 18+1. buffer 3n
~341,19TI~1941. Driver relay 4n~
As shown in FIG. 2, a total of m circuit sections consisting of circuit sections 441, 201 to 2041 are provided in parallel in correspondence with address signals of m pits.

なお、ドライバ181〜18mには、被測定デバイス5
1〜54の動作試験時には、動作試験用信号が供給され
る。
Note that the drivers 181 to 18m include the device under test 5.
During the operation tests 1 to 54, an operation test signal is supplied.

前記したように、被測定デバイス51〜54の夫々は互
いに同一構成のメモリ回路であって、例”えば第3図に
示す如き構成の256にビットのダイナミック・ランダ
ム・アクセス・メモリ(DRAM)である。
As described above, each of the devices under test 51 to 54 is a memory circuit having the same configuration, for example, a 256-bit dynamic random access memory (DRAM) having the configuration shown in FIG. be.

第3図中、25は262.144ピツトのメモリセルで
、ロウ側に2系統の冗長セル26a。
In FIG. 3, 25 is a memory cell with 262.144 pits, and two systems of redundant cells 26a are provided on the row side.

26bが設けられ、かつ、コラム側に1系統の冗長セル
27が設けられている。
26b, and one system of redundant cells 27 is provided on the column side.

冗長セル26a、26bに対応して冗長回路28a、2
8bが設けられており、又、冗長セル27に対応して冗
長回路29が設けられている。
Redundant circuits 28a, 2 correspond to redundant cells 26a, 26b.
8b is provided, and a redundant circuit 29 is provided corresponding to the redundant cell 27.

Ao〜A8は9ピツトのアドレス信号で、これらはアド
レスバッフ?30及び31に夫々供給される。またパル
スであるRAS及びCASはりOツクジェネレータ32
に供給され、またCASはリフレッシュコントロール回
路33を介してアドレスカウンタ34に供給される。ア
ドレスカウンタ34の出力信号はアドレスバッファ30
及び31に夫々供給される。
Ao to A8 are 9-pit address signals, are these address buffers? 30 and 31, respectively. Also, a pulse generator 32 for RAS and CAS beams.
CAS is also supplied to the address counter 34 via the refresh control circuit 33. The output signal of the address counter 34 is sent to the address buffer 30.
and 31, respectively.

アドレスバッフy30の出力信号はロウアドレス信号と
して冗長回路29a、28k)に夫々供給されると共に
、ロウデコーダ35に供給される。
The output signal of the address buffer y30 is supplied as a row address signal to the redundant circuits 29a, 28k, respectively, and also to the row decoder 35.

また、アドレスバッフ?31の出力信号はコラムアドレ
ス信号として冗長回路29及びコラムデコーダ36に供
給される。更に、前記CASがアドレスバッフy30及
び0ウデコーダ35に夫々供給され、かつ、冗長回路2
9の出力信号と共に冗長センスアンプ・I10ゲート3
7に供給される。
Also, address buffer? The output signal of 31 is supplied to redundancy circuit 29 and column decoder 36 as a column address signal. Further, the CAS is supplied to the address buffer y30 and the 0 decoder 35, respectively, and the redundant circuit 2
Redundant sense amplifier I10 gate 3 with output signal of 9
7.

コラムデコーダ36によりデコードされたコラムアドレ
スはセンスアンプ・I10ゲート38を介してメモリセ
ル25に供給される。
The column address decoded by the column decoder 36 is supplied to the memory cell 25 via the sense amplifier/I10 gate 38.

また、39はゲート回路、40はクロックジェネレータ
、41はライトクロックジェネレータ。
Further, 39 is a gate circuit, 40 is a clock generator, and 41 is a light clock generator.

42はデータ入力バッフ7.43はデータ出力バッファ
、44は基板バイアスジェネレータである。
42 is a data input buffer 7, 43 is a data output buffer, and 44 is a substrate bias generator.

ライトイネーブルパルスWEがライトクロックジェネレ
ータ41に供給され、これよりCASの立下り時点でW
Eがローレベルのときは書き込み状態となり、入力デー
タDINがデータ入hバツ・ファ42を通してセンスア
ンプ・I10ゲート38に供給される。また、CASの
立下り時点でWEがへイレベルのときはデータ人力バッ
ファ42は信号通過阻止状態となり、読み出し動作が行
なわれる。
A write enable pulse WE is supplied to the write clock generator 41, and from this, at the falling edge of CAS, W
When E is at a low level, a write state is entered, and input data DIN is supplied to the sense amplifier/I10 gate 38 through the data input buffer 42. Further, when WE is at a high level at the falling edge of CAS, the data manual buffer 42 enters a signal passage blocking state and a read operation is performed.

メモリセル25のビット線の先、にはセンスアンプ・I
10ゲート38が接続されており、読み出し時にはメモ
リセル25の指定アドレスの記憶情報がセンスアンプ・
I10ゲート3Bのセンスアンプで検出、増幅され、デ
ータ出力バッファ43を介して出力データ000丁とな
る。
At the end of the bit line of the memory cell 25, there is a sense amplifier I.
10 gates 38 are connected, and when reading, the stored information at the specified address of the memory cell 25 is sent to the sense amplifier.
It is detected and amplified by the sense amplifier of the I10 gate 3B, and becomes output data 000 through the data output buffer 43.

硼き込み時にはデータ人力バッファ42を通して入力さ
れたデータDINに基づいてセンスアンプ・I10ゲー
ト38のI10ゲートが駆動され、ピット線を介して指
定アドレスのメモリセル25に書き込まれる。
At the time of writing, the I10 gate of the sense amplifier/I10 gate 38 is driven based on the data DIN inputted through the data manual buffer 42, and the data is written into the memory cell 25 at the designated address via the pit line.

ここで、ロウアドレスは通常はロウデコーダ35により
指定されるが、冗長セル26a、26b使用時は冗長回
路28a、28bのうちのいずれかにより指定され、コ
ラムアドレスは通常はコラムデコーダ36により指定さ
れるが、冗長セル27使用時は冗長回路29により指定
される。
Here, the row address is normally specified by the row decoder 35, but when the redundant cells 26a, 26b are used, it is specified by either of the redundant circuits 28a, 28b, and the column address is usually specified by the column decoder 36. However, when the redundant cell 27 is used, it is specified by the redundant circuit 29.

ここで、冗長回路28a及び28bは同一構成で、冗長
回路29も同様の構成で、例えば第4図に示す如き構成
とされている。
Here, the redundant circuits 28a and 28b have the same configuration, and the redundant circuit 29 also has the same configuration, for example, as shown in FIG.

同図中、46o〜461はアドレス信号Ao〜Ay 、
Ao 〜Ayと電EEVt 、 Vz  (Vz Gt
第3図に示す如<V21.V22.V21とがあるが、
ここではいずれか−の電圧を示す)とが供給されるヒユ
ーズ判定1111.47は冗長使用用ヒユーズ判定回路
である。     ゛ また、MO8型電界効果トランジスタ(以下、トランジ
スタという)022〜QaはいずれもNチヤンネルでs
QmとQysはフリップ70ツブを構成している。
In the figure, 46o to 461 are address signals Ao to Ay,
Ao ~Ay and electric EEVt, Vz (Vz Gt
As shown in FIG. 3 <V21. V22. There is V21,
The fuse determination circuit 1111.47 to which a negative voltage (indicated here) is supplied is a fuse determination circuit for redundant use.゛Moreover, the MO8 type field effect transistors (hereinafter referred to as transistors) 022 to Qa are all N-channel s
Qm and Qys constitute a flip 70 tube.

ヒユーズ判定1路46o〜467及び冗長使用用ヒユー
ズ判定回路47の各々は第5図(A)に示す冗長プログ
ラム回路が2系統と、それらの2系統の冗長プログラム
回路の論理積をとる第5図(B)に示すAND回路と、
第5図(C)に示す判定回路とより構成されている。ま
た、冗長使用用ヒユーズ判定回路47では第5図(A)
、(C)に示す信号A1の代りにVssが印加され、A
nの代りにφ^CTIVεが印加される構成とされてい
る。
Each of the first fuse determination circuits 46o to 467 and the redundant use fuse determination circuit 47 is constructed by calculating the logical product of two redundant program circuits shown in FIG. 5(A) and those two redundant program circuits. The AND circuit shown in (B),
It is composed of a determination circuit shown in FIG. 5(C). In addition, in the fuse determination circuit 47 for redundant use, as shown in FIG.
, Vss is applied instead of the signal A1 shown in (C), and A
The configuration is such that φ^CTIVε is applied instead of n.

前記したヒユーズは第5図(A)に示す冗長プログラム
回路に、50aで示す如く配設されている。第5図(A
)〜(C)において、トランジスタQI〜Q21はいず
れもNチャンネルで、第5図(A)のトランジスタQ2
のゲートにはAo〜A7のうち対応する1ピツトのアド
レス信号が入力され、トランジスタQ3のゲートにはア
ドレス信号A8が供給される。
The above-mentioned fuse is arranged as shown at 50a in the redundant program circuit shown in FIG. 5(A). Figure 5 (A
) to (C), transistors QI to Q21 are all N-channel, and transistor Q2 in FIG. 5(A)
The address signal of one corresponding pit among Ao to A7 is input to the gate of transistor Q3, and the address signal A8 is supplied to the gate of transistor Q3.

ここで、トランジスタQ2のゲート入力アドレス信号A
ηが“O”(すなわちローレベル)で、かつQ3のゲー
ト入力もローレベルのとぎは、第6図(A)に−点鎖点
で示す信号φ1がハイレベルのときにトランジスタQ+
がオン、Q2及びQ3が夫々オフだからノード◎がハイ
レベルとなり、トランジスタQ4のドレイン・ソースを
通してトランジスタQsのゲートに印加される信号はハ
イレベルとなる。
Here, the gate input address signal A of transistor Q2
When η is "O" (that is, low level) and the gate input of Q3 is also low level, when the signal φ1 shown by the - dotted chain in FIG. 6(A) is high level, the transistor Q+
is on and Q2 and Q3 are each off, so the node ◎ becomes high level, and the signal applied to the gate of transistor Qs through the drain and source of transistor Q4 becomes high level.

ノード(i@(Q sのゲート)がハイレベルになる。The node (i@(gate of Qs) becomes high level.

とトランジスタQsがオンとなる。また、このときトラ
ンジスタQ7は信号φ1がハイレベルのためにオンとな
っており、ノード@の電位はハイレベルとなっている。
and transistor Qs is turned on. Further, at this time, the transistor Q7 is turned on because the signal φ1 is at a high level, and the potential of the node @ is at a high level.

その後、第6図に示す如くφ1がローレベルとなり、ト
ランジスタQ7をオフとし、またノードα電位がローレ
ベルでトランジスタQ9がオフとなっている状態におい
て、トランジスタQnのゲート入力信号φ2がO−レベ
ル、ヒユーズ50aの一端の入力電圧v2が高電圧とな
り、更にその数Is後にトランジスタQsのドレインに
高電圧V+が加わると、トランジスタQ9がオンとなり
、ノードゆ電位がローレベルとなり、ヒユーズ50aに
電流が流れ、ヒユーズ50aが溶断する。
Thereafter, as shown in FIG. 6, φ1 goes to low level, turning off transistor Q7, and while node α potential is at low level and transistor Q9 is off, gate input signal φ2 of transistor Qn goes to O-level. , the input voltage v2 at one end of the fuse 50a becomes a high voltage, and a few Is later, when a high voltage V+ is applied to the drain of the transistor Qs, the transistor Q9 is turned on, the node potential becomes low level, and a current flows through the fuse 50a. The flow causes the fuse 50a to blow.

このとき、もう一系統のヒユーズ50b (図示せず)
はQ3に相当するトランジスタのゲート入力がA8であ
るので、トランジスタQ9はオフであり、ヒユーズ50
k)は溶断されない。すなわち、2つあるヒユーズ50
a及び50bのうち、どちらを溶断するかはアドレス信
号A8により行なわれる。
At this time, another system fuse 50b (not shown)
Since the gate input of the transistor corresponding to Q3 is A8, the transistor Q9 is off and the fuse 50
k) is not fused. That is, there are two fuses 50
Which of a and 50b is to be blown out is determined by address signal A8.

なお、トランジスタQmのゲート入カバルスφ2はヒユ
ーズ50aの溶断後ノード@がハイレベルとならないよ
うに中間レベルとなり、クランプする。
Incidentally, the gate input voltage φ2 of the transistor Qm becomes an intermediate level and is clamped so that the node @ does not become a high level after blowing out the fuse 50a.

ヒユーズ50a又は50bS溶断されるときのアドレス
信号A1はローレベル(論理“O″)であり、ハイレベ
ル(論理“1”)のときは上記とは逆に溶断されない。
When the fuse 50a or 50bS is blown, the address signal A1 is at a low level (logic "O"), and when it is at a high level (logic "1"), it is not blown, contrary to the above.

2系統ある冗長プログラム回路のノード@O′の各電位
は第5図(B)に示すAND回路のトランジスタQ*、
Goの各ゲートに夫々印加されるから、レードOの電位
はヒユーズ50a又は50b#C溶断されたときのみQ
+を又はQ10がオフでハイレベルとなり、トランジス
タQ+sがオンとなる。これにより、トランジスタQ1
4IQI5の接続点−電位はローレベルとなる。
Each potential of the node @O' of the two redundant program circuits is the transistor Q* of the AND circuit shown in FIG. 5(B),
Since it is applied to each gate of Go, the potential of the lead O becomes Q only when the fuse 50a or 50b#C is blown.
+ or Q10 is off, it becomes high level, and transistor Q+s turns on. As a result, transistor Q1
The potential at the connection point of 4IQI5 becomes low level.

このようにして、前記テスタ17より不良メモリセルに
対応したアドレスをパッド6重〜6m(ここではm−9
)に供給し、電圧V2(V21〜v23)を高電圧にし
た後V1を高電圧にすることにより、八〇〜A7のうち
論理“0”のピットのヒユーズが溶断され、論理“1”
のビットのヒユーズは非溶断とされる。このヒユーズの
溶断及び非溶断の組合せにより、後述する実際のユーザ
使用時において、不良メモリセルのアドレスを判別し、
その代りに冗長セル26a、26b又は27を使用する
ことで、不良救済が図られる。
In this way, the address corresponding to the defective memory cell is determined by the tester 17 from pad 6 to 6m (here m-9).
), and by making the voltage V2 (V21 to V23) high and then making V1 a high voltage, the fuse of the logic "0" pit among 80 to A7 is blown, and the logic "1" is blown.
The fuse of the bit is not blown. By the combination of blown and unblown fuses, the address of the defective memory cell can be determined during actual use by the user, which will be described later.
By using redundant cells 26a, 26b, or 27 instead, defect relief can be achieved.

なお、冗長使用用ヒユーズ判定回路47は、冗長セルを
使用するアドレスがヒユーズ判定回路46o〜477の
すべてのヒユーズを溶断しない値であったときは、良品
のためにヒユーズを溶断しない場合との区別がつかない
ので、そのような場合に区別を可能にするため、冗長セ
ル使用時にはヒユーズが溶断される。
Note that the redundant use fuse determination circuit 47 distinguishes between a case where the address that uses the redundant cell has a value that does not blow all the fuses in the fuse determination circuits 46o to 477 and a case where the fuses are not blown because of a non-defective product. To enable differentiation in such cases, the fuse is blown when redundant cells are used.

なお、本発明と直接の関係はないが、次に上記の如くに
してヒユーズが溶断されたDRAMが搭載されたLSI
を実際にユーザが使用したときの冗長選択方法について
説明する。
Although not directly related to the present invention, the following describes an LSI equipped with a DRAM whose fuse has been blown as described above.
We will explain how to select redundancy when actually used by a user.

製品使用時には第4図及び第5図(A)に示す電圧V1
が電圧Vssに、電圧v2が成るレベルに設定される。
When using the product, the voltage V1 shown in Figures 4 and 5 (A)
is set to the level at which the voltage Vss becomes the voltage v2.

このため、冗長使用用ヒユーズ判定回路47においては
、そのヒユーズが非溶断の場合、第5図(A)に示すノ
ードO及びもう一系統の対応するノード@′の電位が夫
々ハイレベルとなるので、トランジスタQw及びQts
が夫々オンとなる。従って、第5図(B)に示すノード
@の電位はローレベル、ノードC知電位はトランジスタ
Qvsがオフなのでハイレベルとなる。
Therefore, in the redundant use fuse determination circuit 47, if the fuse is not blown, the potentials of the node O and the corresponding node @' of the other system shown in FIG. 5(A) are at a high level, respectively. , transistors Qw and Qts
are respectively turned on. Therefore, the potential of the node @ shown in FIG. 5(B) is at a low level, and the potential at the node C is at a high level because the transistor Qvs is off.

このとき第5図(C)に示す冗長使用判定回路の入力信
号φ^1:TIVEはハイレベルであり、また前記した
ノード砲口−レベル、ノード@がハイレベルであるため
、トランジスタQsy、Onがオンとなり、トランジス
タQ+s 、 Qss 、 Q21がオフであり、よっ
てトランジスタQt9がオンとなり、トランジスタQw
及びQssの両ドレイン接続点Oの電位がローレベルに
なる。
At this time, the input signal φ^1:TIVE of the redundant use determination circuit shown in FIG. is on, transistors Q+s, Qss, and Q21 are off, so transistor Qt9 is on, and transistor Qw
The potential at the connection point O of both drains of Qss and Qss becomes low level.

逆に冗長使用用ヒユーズ判定回路47において、そのヒ
ユーズがmsされている場合、トランジスタQI2.O
nはカットオフし、ノード@はハイレベル、ノードOは
ローレベルとなるから、トランジスタQ四はカットオフ
のままである。
Conversely, in the redundant use fuse determination circuit 47, if the fuse is ms, transistor QI2. O
Since n is cut off, node @ is at high level, and node O is at low level, transistor Q4 remains cut off.

同様にヒユーズ判定回路46o〜477の夫々において
も、ヒユーズが溶断されていないとき(すなわち、アド
レスAm−“1”がヒユーズによりプログラムされてい
るとき)、アドレスA1−“0″が入力されると第5図
(B)及び(C)に示すノード[相]電位がローレベル
、α電位がハイレベルとなり、かつ、第551 (C)
に示すトランジスタOnのドレイン入力へηが“1″(
すなわちハイレベル)となるので、トランジスタQ+s
がオン状態となり、ノード@がローレベルになる。
Similarly, in each of the fuse determination circuits 46o to 477, when the fuse is not blown (that is, when the address Am-"1" is programmed by the fuse), when the address A1-"0" is input, The node [phase] potential shown in FIGS. 5(B) and (C) is at a low level, the α potential is at a high level, and the 551st (C)
When η is “1” (
In other words, it becomes high level), so the transistor Q+s
turns on, and the node @ goes to low level.

また、ヒユーズが溶断されているとき(すなわち、アド
レスA1−“O”がヒユーズによりプログラムされてい
るとき)、アドレスA1==−“1”が入力されると、
ノード蜘へイレベル、ノード@がローレベル、トランジ
スタQII5のドレイン人力A?lがハイレベルとなる
からトランジスタQvaがオンとなり、ツートノ)の電
位がローレベルとなる。
Also, when the fuse is blown (that is, when address A1-“O” is programmed by the fuse), if address A1==-“1” is input,
The node is high level, the node @ is low level, and the drain of transistor QII5 is A? Since l becomes a high level, the transistor Qva turns on, and the potential of the transistor Qva becomes a low level.

このように1.ヒユーズプログラムされたアドレスと入
力アドレスとが異なる場合はノードOの電位はローレベ
ルとなる。
In this way 1. If the fuse-programmed address and the input address are different, the potential of node O becomes low level.

これに対し、ヒユーズにプログラムされたアドレスと入
力アドレスとが一致する場合はノードOはハイレベルと
なる。例えば、ヒユーズが溶断されているとき(アドレ
スA1−“0”がプログラムされているとき)、アドレ
スA?l−“0”が入力された場合は、ノード@とAm
がハイレベル、ノードO≧A1がローレベルとなるため
、第5図(C)に示すトランジスタQm及びQ10が共
にカットオフとなり、ノードCつはハイレベルとなる。
On the other hand, if the address programmed into the fuse and the input address match, the node O becomes high level. For example, when the fuse is blown (when address A1-“0” is programmed), address A? If l-“0” is input, node @ and Am
is at a high level and node O≧A1 is at a low level, so transistors Qm and Q10 shown in FIG. 5(C) are both cut off, and node C is at a high level.

また、ヒユーズが溶断されていないヒユーズ判定回路4
6o〜46アにアドレスAy+=’1″が入力されたと
きも、ノードQ鴎びλτがローレベル、ノード@とA1
がハイレベルなので、トランジスタQm及びQtsが共
にカットオフとなる。
In addition, the fuse determination circuit 4 in which the fuse is not blown
Also when address Ay+='1'' is input to 6o to 46A, node Q Kamubi λτ is low level, nodes @ and A1
Since is at a high level, both transistors Qm and Qts are cut off.

このようにして、冗長使用用ヒユーズ判定回路47内の
ヒユーズが溶断され、かつ、ヒユーズ判定回路46o〜
467によりヒユーズの溶断の有無の組合せでプログラ
ムされたアドレスと一致する入力アドレス八1が印加さ
れた場合のみ、第4図及び第5図(C)に示すノード@
が第7図に示す如くハイレベルとなる。
In this way, the fuses in the redundant use fuse determination circuit 47 are blown, and the fuse determination circuits 46o--
Only when the input address 81 that matches the address programmed by the combination of fuse blowing and non-blowing by 467 is applied, the node @ shown in FIGS. 4 and 5(C) is applied.
becomes high level as shown in FIG.

この状態において、パルスφ1がハイレベルのときには
第4図に示すトランジスタQ22.Q24がオンとなる
が、パルスφ^CTfVE’がこのときローレベルのた
めにトランジスタQysはオフであり、第4図のノード
■にノードψ)のハイレベルの電位がトランジスタOn
を通してチャージアップされる。
In this state, when the pulse φ1 is at a high level, the transistor Q22. Q24 is turned on, but since the pulse φ^CTfVE' is at a low level at this time, the transistor Qys is off, and the high level potential of the node ■ and node ψ in FIG.
It is charged up through.

この状態において、パルスφ1がローレベルになると、
第7図に示す如くパルスφA CT I V E’がハ
イレベルになり、かつノード6)の電位がハイレベルに
なり、第4図に示すトランジスタQ25がオンになるの
で、トランジスタQδのソースとQaのドレインとの接
続点■の電位は第7図に示す如くハイレベルとなり、か
つ、このφス億Φの電位がゲートに印加されるトランジ
スタQ28がオンになり、ノードσpの電位がローレベ
ルに落ちる。
In this state, when pulse φ1 becomes low level,
As shown in FIG. 7, the pulse φA CT I V E' becomes high level, and the potential of node 6) becomes high level, turning on transistor Q25 shown in FIG. 4, so that the source of transistor Qδ and Qa As shown in FIG. 7, the potential at the connection point (■) with the drain of φ becomes a high level, and the transistor Q28, whose gate is applied with this potential of Φ, turns on, and the potential of the node σp goes to a low level. drop down.

上記のノードmの電位がハイレベルとなると、冗長セル
26a、26b又は27のデコーダ回路を活性化して、
メモリセル25内の入力アドレスに相当する不良メモリ
セルの代りに冗長セル26a、26b又は27を使用し
−かつ、通常のデコーダ回路の動作を禁止して多重選択
を防止する。
When the potential of the node m becomes high level, the decoder circuit of the redundant cell 26a, 26b or 27 is activated,
Redundant cells 26a, 26b, or 27 are used in place of the defective memory cell corresponding to the input address in memory cell 25, and normal decoder circuit operation is inhibited to prevent multiple selection.

なお、通常はノードOの電位は0−レベルだから、ノー
ド[株]19の電位もローレベルとなり、通常のデコー
ダ回路が活性化されることは勿論である。
Note that since the potential of the node O is normally at the 0-level, the potential of the node 19 is also at the low level, and the normal decoder circuit is of course activated.

(発明の効果)   − 上述の如く、本発明によれば、−枚のウェーハ上に搭載
された複数個のメモリ回路(被測定デバイス)の不良メ
モリセルが互いに異なっていても、また不良品のメモリ
回路と良品のメモリ回路とが混在していても、同時に異
なるアドレス信号を別々に供給したり、良品のメモリ回
路にはアドレス信号を供給しないようにできるため、複
数個のメモリ回路のうち必要なメモリ回路に対してのみ
不良メモリセルのアドレスでヒユーズを溶断することが
でき、よって従来にくらべて製造工程での作業効率を大
幅に改善することができる等の特長を有するものである
(Effects of the Invention) - As described above, according to the present invention, even if the defective memory cells of a plurality of memory circuits (devices under test) mounted on one wafer are different from each other, Even if memory circuits and non-defective memory circuits coexist, different address signals can be supplied separately at the same time, or address signals can not be supplied to non-defective memory circuits. This method has the advantage that the fuse can be blown at the address of a defective memory cell only for memory circuits that are defective, and that work efficiency in the manufacturing process can be greatly improved compared to the conventional method.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のWANブロック図、 第2図は本発明の要部の一実施例の回路系統図、第3図
は第2図の被測定デバイスの一例のブロック図、 第4図は第3図の要部の一例の回路系統図、第5図は第
4図の各要部の回路図、 第6図はヒユーズ溶断時の動作説明用信号波形図、  
       − 第7図は冗長選択時の動作説明用信号波形図、第8図は
従来の一例の回路系統図である。 図において、 10は検出工程、 11はアドレス信号入力工程、 12は溶断工程、 13はドライバ、 14は第1の選択手段、 15は第2の選択手段、 16はiqm手段、 26a、26b、27は冗長セル、 28a、28b、29Lt冗長回路、 50aはヒユーズ を示す。 (♀完声fif>原理フ5コーy7!E應1図 〒壁−17 @2図 115f!1 第6図 第7因
Fig. 1 is a WAN block diagram of the present invention, Fig. 2 is a circuit system diagram of an embodiment of the main part of the present invention, Fig. 3 is a block diagram of an example of the device under test shown in Fig. 2, and Fig. 4 is a block diagram of an example of the device under test in Fig. Fig. 3 is a circuit diagram of an example of the main parts, Fig. 5 is a circuit diagram of each main part of Fig. 4, Fig. 6 is a signal waveform diagram for explaining operation when a fuse blows,
- FIG. 7 is a signal waveform diagram for explaining the operation when redundancy is selected, and FIG. 8 is a circuit system diagram of an example of the conventional system. In the figure, 10 is a detection process, 11 is an address signal input process, 12 is a fusing process, 13 is a driver, 14 is a first selection means, 15 is a second selection means, 16 is an iqm means, 26a, 26b, 27 are redundant cells, 28a, 28b, 29Lt redundant circuits, and 50a is a fuse. (♀Full voice fif>Principle f5ko y7! E㇉1 figure 〒Wall-17 @2 figure 115f!1 Figure 6 7th cause

Claims (1)

【特許請求の範囲】  メモリセルの冗長使用判定用ヒューズが設けられ、該
ヒューズの溶断の有無の組合わせでプログラムされたア
ドレスに対応するアドレス入力時は冗長セルを使用する
構成としたメモリ回路が一枚のウェーハ上に複数個形成
された集積回路の製造方法において、 該複数個のメモリ回路を被測定デバイスとして動作試験
して不良メモリセルを検出する検出工程(10)と、 該複数個のメモリ回路の夫々について該検出された不良
メモリセルを指定するアドレス信号を別々に、かつ、同
時に供給するアドレス信号入力工程(11)と、 該アドレス信号が入力された該複数個のメモリ回路に対
して前記冗長使用判定用ヒューズを溶断すべき信号を印
加して該ヒューズを溶断する溶断工程(12)とを具備
し、 該アドレス信号入力工程(11)は各アドレス信号入力
端子の夫々に対して、 互いに論理値の異なる第1及び第2の信号を並列に出力
するドライバ(13)と、 該ドライバ(13)よりの該第1の信号を選択出力する
第1の選択手段(14)と、 該ドライバ(13)よりの該第2の信号を選択出力する
第2の選択手段(15)と、 該第1及び第2の選択手段(14、15)の一方を選択
出力状態とし、他方を信号通過阻止状態に制御するか、
又は該第1及び第2の選択手段(14、15)の両方共
に信号通過阻止状態に制御する制御手段(16)とを用
いて該アドレス信号の入力を行なうことを特徴とする集
積回路の製造方法。
[Claims] A memory circuit is provided with a fuse for determining redundant use of a memory cell, and is configured to use a redundant cell when an address corresponding to a programmed address is input based on a combination of whether or not the fuse is blown. A method for manufacturing a plurality of integrated circuits formed on one wafer, comprising: a detection step (10) of testing the operation of the plurality of memory circuits as devices under test to detect defective memory cells; an address signal input step (11) for separately and simultaneously supplying an address signal specifying the detected defective memory cell to each of the memory circuits; and to the plurality of memory circuits to which the address signal is input. and a blowing step (12) of applying a signal to blow the fuse for redundant use determination to blow the fuse, and the address signal input step (11) applies a signal to each of the address signal input terminals. , a driver (13) that outputs first and second signals having different logical values in parallel; a first selection means (14) that selectively outputs the first signal from the driver (13); a second selection means (15) for selectively outputting the second signal from the driver (13); and one of the first and second selection means (14, 15) is set to a selective output state, and the other is set to a selective output state. control to block signal passage, or
or the manufacture of an integrated circuit characterized in that the address signal is input using a control means (16) that controls both the first and second selection means (14, 15) to a signal passage blocking state. Method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0580130A (en) * 1991-09-20 1993-04-02 Nec Corp Semiconductor integrated circuit
JP2002083499A (en) * 2000-06-21 2002-03-22 Advantest Corp Data write-in device, data write-in method, test device, and test method

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