JP2003285091A - 酸生成槽の液面レベル調整装置および調整方法 - Google Patents
酸生成槽の液面レベル調整装置および調整方法Info
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Abstract
へのオーバーフローを低減可能な酸生成槽の液面レベル
調整装置および調整方法を提供する。 【解決手段】 制御装置10は、液面計9の出力を監視
し、液面に応じて排出ライン8上の調整弁81の開度を
調整することにより、気液分離器7を通過する処理水流
量を維持しつつ、気液分離器7の上端部7Uから酸生成
槽3内へと溢水する流量を調整して、酸生成槽3内の液
面レベルを調整する。
Description
置に関し、特に、嫌気性処理を行う反応槽と酸生成槽の
間で処理水を循環させる処理装置において、酸生成槽の
液面レベルを調整する装置および方法に関する。
ン生成菌等を利用した嫌気性処理によって、有機性成分
をバイオガスへと分解して処理する方法が広く用いられ
ている。近年、高負荷設備においては、腐食防止のた
め、各処理槽を密閉式とするケースが増えている。この
ように各処理槽を密閉した場合、反応を行う反応槽に処
理水を循環させる循環水槽(酸生成槽)の液面レベルが
安定しないと、生成されたバイオガスを貯留するガスホ
ルダーからバイオガスが逆流したり、槽内が負圧となる
ことで、系内に空気が流入して嫌気性反応が維持できな
くなるといった問題が生じる。
ては、特開2001−170679号公報に開示されている技術が
知られている。この技術では、図3に示されるように、
反応槽2から酸生成槽3への処理水の返送ライン6上に
気液分離器7’を配置し、気液分離器7’の下端部と酸
生成槽3とを調整弁81を備えた循環水ライン62によ
って接続している。そして、液面計9で測定した酸生成
槽3の液面レベルに応じてこの調整弁81の開度を制御
することで、反応槽2から酸生成槽3へと返送される水
量を調整することにより、酸生成槽3の液面レベルを調
整するものである。
置においては、液面レベルが下がり、調整弁81の開度
を開いたとき、気液分離器7’内の液面が下がり、気液
の分離長を確保できない場合がある。一方で、液面レベ
ルが上がり、調整弁81の開度を開いたときには、気液
分離器7’内の液面レベルも上がり、排出ライン8から
気泡がオーバーフローしやすいという問題点がある。
分離長を確保でき、気泡の排出ラインへのオーバーフロ
ーを低減可能な酸生成槽の液面レベル調整装置および調
整方法を提供することを課題とする。
め、本発明に係る酸生成槽の液面レベル調整装置は、
(1)酸生成槽の液面レベルを検知する液面計と、(2)酸生
成槽と反応槽との間で処理水を循環させる循環ライン
と、(3)循環ライン上に配置され、処理水の気液分離を
行う気液分離器と、(4)気液分離器に接続され、処理水
の一部を排出する処理水排出ラインと、(5)処理水排出
ライン上に配置される調整弁と、(6)液面計の出力に応
じて調整弁の開度を調整する制御装置と、を備えている
ものである。
調整方法は、反応槽と酸生成槽の間で処理水を循環させ
るとともに、気液分離後の処理水の一部を処理水排出ラ
インにより排水しており、酸生成槽の液面レベルを検知
し、酸生成槽の液面レベルに応じて処理水排出ライン上
に配置される調整弁の開度を調整して排水量を調整する
ことにより、酸生成槽の液面レベルを所定レベルに調整
するものである。
理水の排出量を調整することで、酸生成槽の液面レベル
を正確に調整することができる。また、気液分離器自体
の液面レベルが変動しないので、気液の分離長を確保で
きるとともに、気泡が排出ラインへとオーバーフローす
ることがない。
延びる循環ラインが接続される処理水入口が、その下部
に処理水排出ラインが接続される処理水出口が、処理水
出口より上方に酸生成槽へと延びる循環ラインが接続さ
れる返送処理水出口がそれぞれ配置されていることが好
ましい。このように各入口、出口を配置すると、気液分
離器内での滞留時間を確保することができる。
上方に配置されていることが好ましい。このようにする
と、さらに、気液分離器内での滞留時間を確保すること
ができる。
れており、液面より上に位置する上端が開放され、液面
下に位置する下端が閉塞された管状であることが好まし
い。このように、気液分離器を酸生成槽内に配置する
と、酸生成槽周囲の配管をコンパクトに設計でき、省ス
ペース化が図れるとともに、制御のタイムラグが短くな
るので、酸生成槽内の液面変動を小さくできる。
の好適な実施の形態について詳細に説明する。説明の理
解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に
対しては可能な限り同一の参照番号を附し、重複する説
明は省略する。
調整装置を備えた有機性排水処理システムの第1の実施
形態の概略構成図である。この排水処理システム1は、
嫌気性処理を行う反応槽2と、反応槽に処理水を循環さ
せる酸生成槽3とから構成される。
保持されている。酸生成槽3は、内部に気液分離器7を
内蔵している。この気液分離器7は、略円筒状の構造
で、その上端7Uが開放され、下端7Lが閉塞された略
管状構造をなし、上端部が通常の液面レベルから少し突
出する形で酸生成槽3の液相内に配置されている。この
気液分離器7の上端部近傍に、反応槽2の液面直下付近
から伸びる返送ライン6が接続されており、気液分離器
7の下端部近傍からは、処理水を排出する排出ライン8
が接続されている。排出ライン8上には、電磁式の調整
弁81が配置されている。このように気液分離器7を酸
生成槽3に内蔵することで、配管を簡略化して設備全体
をコンパクトにすることができる。
等を用いて検出する液面計9が配置されるとともに、処
理対象となる原水が導入される導入ライン4と、気相部
に接続されて余剰ガスを排出するためのガス処理ライン
31が接続されている。さらに、酸生成槽3から反応槽
2へと処理水を送出する送出ライン5が設けられ、送出
ライン5上にはポンプ51が配置される。液面計9、調
整弁81は制御装置10に電気的に接続されている。
明に係る酸生成槽3の液面レベル調整方法と合わせて具
体的に説明する。
槽3内へと導入される。導入された原水中の有機性成分
は、酸生成槽内の通性嫌気性菌によって低級脂肪酸へと
分解される。分解された低級脂肪酸を含む排水は、ポン
プ51によって送出ライン5から反応槽2へと送られ、
ここで、メタン生成菌によってさらに分解されてメタン
ガスや炭酸ガスを主成分とするバイオガスへと分解され
て排水中から除去される。
を介して気液分離器7へと送られ、バイオガスと処理水
が分離された後、処理水の一部は排出ライン8から排出
される。一方、バイオガスは、酸生成槽3内の気相内へ
と送出され、ガス処理ライン31により図示していない
ガス処理設備へと送られ、処理される。このとき、余剰
処理水を気液分離器7の上端7Uから溢水させることで
処理水を循環させている。
処理)は、反応槽2内の酸性度が強いと阻害されてしま
う。酸生成槽3内では分解反応によって酸が生成されて
いるため、反応槽2から処理水を戻すことで、反応槽2
へ導く処理水のpH調整を行っている。ここで、処理水
中に含まれるバイオガスは、炭酸ガスや硫化物を含んで
いるため、これが酸生成槽3の液相内へ溶け込むと液相
のpHを低下させてしまうので、気液分離器7によって
予めバイオガスを分離し、pHの低下を防止している。
通常は、導入ライン4から導入される原水の流量を1と
すると、排出ライン8から排出される処理水の流量も1
であり、一方、送出ライン5と返送ライン6により反応
槽2と酸生成槽3間で循環される処理水の流量は1.2
程度である。つまり、気液分離器7の上端7Uから溢水
する処理水の流量(溢水流量)が、原水流量の約0.2
倍程度ある。
て反応槽2、酸生成槽3内の反応を安定して行わせるた
め、酸生成槽3内の液面レベルを以下のようにして調整
している。
定レベルより低くなったときには、制御装置10は調整
弁81の開度を絞り、排出ライン8から排出される処理
水の流量が導入ライン4から導入される原水の流量より
も少なくなるよう調整する。この場合、反応槽2と酸生
成槽3間の循環流量には変化がないが、溢水流量を増大
させることで、酸生成槽3内に保持される液量を増大さ
せ、その液面レベルを上昇させて設定レベルに近づける
ことができる。
定レベルより高くなったときには、制御装置10は調整
弁81の開度を開き、排出ライン8から排出される処理
水の流量が導入ライン4から導入される原水の流量より
も多くなるよう調整する。この場合も、反応槽2と酸生
成槽3間の循環流量には変化がないが、溢水流量を減少
させることで、酸生成槽3内に保持される液量を減少さ
せ、その液面レベルを下降させて設定レベルに近づける
ことができる。
循環流量には変化がなく、気液分離器7へ導入される処
理水流量が略一定に維持される。ここで、調整弁81の
開度を開く場合でも溢水流量が0とならないよう、つま
り、排出ライン8から排出される処理水流量が気液分離
器7へ導入される処理水流量を下回るよう制御すること
により、気液分離器7内における気液分離長を確保し、
バイオガスの排出ラインへのオーバーフローを確実に抑
制することができる。なお、気液分離器7内における処
理水流速を0.5m/s以下に維持すると、バイオガス
の分離が確実になり、好ましい。
3内に配置したが、酸生成槽3の外に配置することも可
能である。図2は、気液分離器7aを酸生成槽3の外に
配置した第2の実施形態の処理システム1aを示す概略
構成図である。
aは、返送ライン6a上に配置された略円筒状の密閉容
器から構成されており、その上端部にガス排出ライン3
1aが、上端部近傍に反応槽2から伸びる返送ライン6
1aが、下端部近傍に酸生成槽3へと伸びる返送ライン
62aが接続されている。そして、返送ライン62a
は、折り返し構造によって、気液分離器7a出口から返
送ライン61aの気液分離器7aの入口より高い位置ま
で一旦上昇した後、下降して酸生成槽3に接続される。
調整弁81aを有する排出ライン8aは、この返送ライ
ン62aの最高点より上流側であって、かつ、気液分離
器7a内の必要液高さ以上のレベルから分岐している。
理システム1と同様の液面レベル調整が行われる。具体
的には、液面計9で測定した液面レベルが設定レベルよ
り低くなったときには、制御装置10は調整弁81aの
開度を絞り、排出ライン8aから排出される処理水の流
量が導入ライン4から導入される原水の流量よりも少な
くなるよう調整する。この場合、排出ライン5、返送ラ
イン61aの流量には変化がないが、返送ライン62a
から酸生成槽3へと流入する液量を増大させることで、
その液面レベルを上昇させて設定レベルに近づけること
ができる。
定レベルより高くなったときには、制御装置10は調整
弁81aの開度を開き、排出ライン8aから排出される
処理水の流量が導入ライン4から導入される原水の流量
よりも多くなるよう調整する。この場合も、排出ライン
5、返送ライン61aの流量には変化がないが、返送ラ
イン62aから酸生成槽3へと流入する液量を減少さ
せ、その液面レベルを下降させて設定レベルに近づける
ことができる。
導入される処理水流量は、略一定に維持される。本シス
テムでは、調整弁81aの開度を全開にしてもその構造
上、反応槽2と酸生成槽3の気相圧力が均衡していれ
ば、気液分離器7aの液面が排出ライン8aの分岐位置
より低下することはないので、気液分離器7a内におけ
る気液分離長を確保し、バイオガスの排出ライン8aへ
のオーバーフローを確実に抑制することができる。な
お、気液分離器7a内における処理水流速は、気液分離
器7の場合と同様に、0.5m/s以下に維持すると、
バイオガスの分離が確実になるので、好ましい。
生成槽へ返送される処理水の流量を調整して酸生成槽の
液面レベルを調整し、この際に、気液分離器を通過する
流量を略一定に維持することができるので、気液の分離
長を確保でき、気泡の排出ラインへのオーバーフローを
抑制することができる。
ることで、配管を簡略化して、設備全体をコンパクトに
することができる。
備えた有機性排水処理システムの第1の実施形態の概略
構成図である。
備えた有機性排水処理システムの第2の実施形態の概略
構成図である。
ある。
槽、4…導入ライン、5…送出ライン、6…返送ライ
ン、7…気液分離器、8…排出ライン、9…液面計、1
0…制御装置、31…ガス処理ライン、51…ポンプ、
81…調整弁。
2)
延びる循環ラインが接続される処理水入口が、その下部
に処理水排出ラインが接続される処理水出口がそれぞれ
配置されているとともに、酸生成槽への処理水返送は、
処理水出口より上方位置を経由して行われることが好ま
しい。このように配置すると、気液分離器内での滞留時
間を確保することができる。
水入口より上方位置を経由して行われることが好まし
い。このようにすると、さらに、気液分離器内での滞留
時間を確保することができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 嫌気性処理を行う反応槽との間で処理水
を循環させる酸生成槽の液面レベルを調整する装置であ
って、 前記酸生成槽の液面レベルを検知する液面計と、 前記酸生成槽と前記反応槽との間で処理水を循環させる
循環ラインと、 前記循環ライン上に配置され、処理水の気液分離を行う
気液分離器と、 前記気液分離器に接続され、処理水の一部を排出する処
理水排出ラインと、 前記処理水排出ライン上に配置される調整弁と、 前記液面計の出力に応じて前記調整弁の開度を調整する
制御装置と、 を備えている酸生成槽の液面レベル調整装置。 - 【請求項2】 前記気液分離器は、その上部に前記反応
槽から延びる循環ラインが接続される処理水入口が、そ
の下部に前記処理水排出ラインが接続される処理水出口
が、前記処理水出口より上方に前記酸生成槽へと延びる
循環ラインが接続される返送処理水出口がそれぞれ配置
されている請求項1記載の酸生成槽の液面レベル調整装
置。 - 【請求項3】 前記返送処理水出口は前記処理水入口よ
り上方に配置されている請求項2記載の酸生成槽の液面
レベル調整装置。 - 【請求項4】 前記気液分離器は、前記酸生成槽の液相
内に配置されており、液面より上に位置する上端が開放
され、液面下に位置する下端が閉塞された管状である請
求項3記載の酸生成槽の液面レベル調整装置。 - 【請求項5】 嫌気性処理を行う反応槽との間で処理水
を循環させる酸生成槽の液面レベルを調整する方法であ
って、 前記反応槽と前記酸生成槽の間で処理水を循環させると
ともに、気液分離後の処理水の一部を処理水排出ライン
により排水しており、 前記酸生成槽の液面レベルを検知し、 前記酸生成槽の液面レベルに応じて前記処理水排出ライ
ン上に配置される調整弁の開度を調整して排水量を調整
することにより、前記酸生成槽の液面レベルを所定レベ
ルに調整する酸生成槽の液面レベル調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002092269A JP4091327B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 酸生成槽の液面レベル調整装置および調整方法 |
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JP2002092269A JP4091327B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 酸生成槽の液面レベル調整装置および調整方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012254399A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Yamato Scale Co Ltd | 連続計量混合システム |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002092269A patent/JP4091327B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2012254399A (ja) * | 2011-06-08 | 2012-12-27 | Yamato Scale Co Ltd | 連続計量混合システム |
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