JP2003277477A - Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device

Info

Publication number
JP2003277477A
JP2003277477A JP2002089002A JP2002089002A JP2003277477A JP 2003277477 A JP2003277477 A JP 2003277477A JP 2002089002 A JP2002089002 A JP 2002089002A JP 2002089002 A JP2002089002 A JP 2002089002A JP 2003277477 A JP2003277477 A JP 2003277477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
component
resin composition
resin
epoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002089002A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Yokouchi
比斗志 横内
Mototake Andou
元丈 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Kyocera Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Chemical Corp filed Critical Kyocera Chemical Corp
Priority to JP2002089002A priority Critical patent/JP2003277477A/en
Publication of JP2003277477A publication Critical patent/JP2003277477A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for sealing with which reflow resistance and moisture proof reliability are improved while satisfying characteristics such as moldability and hardness. <P>SOLUTION: The epoxy resin composition comprises (A) an epoxy resin component, (B) a phenol resin curing agent, (C) a silane coupling agent and (D) an inorganic filler as essential components. The epoxy resin component (A) comprises an epoxy resin having a skeleton represented by the genera formula (1) (wherein n is an integer of 0 or ≥1) and the phenol resin curing agent component (B) comprises a phenol resin having a skeleton represented by the general formula (2) (wherein n is an integer of 0 or ≥1). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子などの
電子部品の封止材料として使用されるエポキシ樹脂組成
物とそれを用いた樹脂封止型半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition used as a sealing material for electronic parts such as semiconductor elements and a resin-sealed semiconductor device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子などの電子部品については、
一般的に熱硬化性樹脂を用いて封止することが行われて
いる。このような封止材料にはエポキシ樹脂をベースと
し、これに硬化剤や硬化促進剤、さらにはシリカ粉末の
ような無機質充填剤や顔料などを配合した組成物が、信
頼性、成形性、価格などの点から多用されている。
2. Description of the Related Art Regarding electronic parts such as semiconductor elements,
Generally, a thermosetting resin is used for sealing. Epoxy resin is used as the base material for such encapsulation, and a composition in which a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler such as silica powder or a pigment is added to the encapsulation material is reliable, formable, and inexpensive. It is often used from the point.

【0003】ところで、近年、半導体集積回路の分野に
おいては、半導体素子の高集積化と共に、素子サイズの
大型化が進められている。一方、パッケージデザインに
ついても、従来のピン挿入実装型のDIP(Dual-In Li
ne Package)から、表面実装型のSOP(Small Outlin
e Package)、QFP(Quad Flat Package)、SOJ
(Small Outline J-lead Package)、TSOP(Thin
SOP)、LQFP(Large QFP)、TQFP(Thin
QFP)などへと変化している。
By the way, in recent years, in the field of semiconductor integrated circuits, along with the high integration of semiconductor devices, the size of the devices has been increased. On the other hand, regarding the package design, the conventional pin insertion mounting type DIP (Dual-In Li
ne Package), surface mount type SOP (Small Outlin)
e Package), QFP (Quad Flat Package), SOJ
(Small Outline J-lead Package), TSOP (Thin
SOP), LQFP (Large QFP), TQFP (Thin
QFP) and so on.

【0004】このような半導体パッケージの実装方式の
変更に伴って、従来のピン挿入実装型パッケージではあ
まり問題とならなかった、半田付け工程時の不具合が問
題になってきている。すなわち、表面実装型パッケージ
の場合、プリント基板などへの実装時にパッケージ全体
が半田に直接浸漬され、急激に230〜270℃程度の高温に
晒されるため、樹脂封止したパッケージの封止樹脂部に
クラックが生じたり、また半導体素子と封止樹脂部との
間やリードフレームなどの基板と封止樹脂部との間に剥
離が生じるというような問題が発生している。これらは
半導体パッケージの製造歩留りや信頼性の低下要因とな
っている。
With such a change in the mounting method of the semiconductor package, a problem in the soldering process, which has not been a serious problem in the conventional pin insertion mounting type package, has become a problem. In other words, in the case of a surface mount type package, the entire package is directly immersed in solder when it is mounted on a printed circuit board, etc., and is rapidly exposed to a high temperature of 230 to 270 ° C. There are problems that cracks may occur and peeling may occur between the semiconductor element and the sealing resin portion or between the substrate such as the lead frame and the sealing resin portion. These are factors that reduce the manufacturing yield and reliability of semiconductor packages.

【0005】一方、電子部品の封止用途に用いられるエ
ポキシ樹脂組成物は、そのままでは非常に燃えやすいこ
とから、安全性を確保する上でUL規格により難燃性を
付与することが求められている。エポキシ樹脂組成物に
おいては、塩素や臭素などのハロゲン元素を含むハロゲ
ン系難燃剤とアンチモン化合物(例えば三酸化アンチモ
ン)などの難燃助剤とを併用して難燃化することが一般
的である。
On the other hand, since the epoxy resin composition used for sealing electronic parts is very flammable as it is, it is required to impart flame retardancy according to UL standard in order to ensure safety. There is. In an epoxy resin composition, it is common to use a halogen-based flame retardant containing a halogen element such as chlorine or bromine and a flame retardant aid such as an antimony compound (for example, antimony trioxide) for flame retardation. .

【0006】しかしながら、これらのハロゲン系難燃剤
やアンチモン化合物などの難燃助剤は、電子部品の信頼
性を低下させるという問題に加えて、近年の環境問題に
対する意識の高まりに伴って、環境への影響が問題視さ
れはじめている。例えば、一部のハロゲン系難燃剤を含
む材料は、燃焼時に毒性の強いダイオキシン化合物を発
生させるのではないかと指摘されている。また、アンチ
モン化合物は水に溶出しやすく、水質環境に著しく影響
を与える。このように、ハロゲン系難燃剤やアンチモン
化合物はいずれも環境衛生上の問題を有している。
However, these flame-retardant auxiliaries such as halogen-based flame retardants and antimony compounds, in addition to the problem of lowering the reliability of electronic parts, have become more environmentally friendly with the recent increasing awareness of environmental problems. The influence of is beginning to be seen as a problem. For example, it has been pointed out that some halogen-containing flame retardant-containing materials may generate highly toxic dioxin compounds when burned. In addition, antimony compounds are easily dissolved in water, which significantly affects the water quality environment. As described above, both the halogen-based flame retardant and the antimony compound have environmental hygiene problems.

【0007】そこで、他の難燃剤としてリン系、金属酸
化物、水酸化物などを使用することが検討されている
が、リン系難燃剤は少量の添加で難燃性を付与すること
ができる反面、やはり水質環境に対して影響を与えると
いう問題を有している。また、金属酸化物や水酸化物な
どの難燃剤は難燃性付与効果が低く、多量に添加する必
要があることから、エポキシ樹脂組成物自体の特性に悪
影響を及ぼすという問題を有している。また、リン系や
無機系の難燃剤を使用すると、ハロゲン系難燃剤とアン
チモン化合物との併用に比べて、長期の耐湿信頼性や高
温信頼性が著しく劣るという問題もある。
Therefore, the use of phosphorus, metal oxides, hydroxides and the like as other flame retardants has been studied, but the addition of a small amount of phosphorus flame retardant can impart flame retardancy. On the other hand, it also has the problem of affecting the water quality environment. Further, flame retardants such as metal oxides and hydroxides have a low flame retardancy-imparting effect and need to be added in a large amount, which has a problem that the properties of the epoxy resin composition itself are adversely affected. . Further, when a phosphorus-based or inorganic flame-retardant is used, there is a problem that long-term moisture resistance reliability and high-temperature reliability are significantly inferior to the combined use of a halogen-based flame retardant and an antimony compound.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、表面
実装型パッケージは例えば半田付け工程時に急激に高温
に晒されることから、従来のエポキシ樹脂組成物を用い
て樹脂封止したパッケージでは封止樹脂部にクラックや
剥離などが生じやすいという問題がある。このようなこ
とから、表面実装型パッケージなどに適用した際に、例
えば実装時におけるクラックや剥離などの発生を抑制し
得る、信頼性に優れたエポキシ樹脂組成物の開発が望ま
れている。また、封止用のエポキシ樹脂組成物において
も、環境への配慮などから、ハロゲン系難燃剤やアンチ
モン化合物などを用いることなく良好な難燃性を付与し
得る、信頼性の高い難燃化技術の開発が求められてい
る。
As described above, since the surface mount type package is rapidly exposed to a high temperature during, for example, the soldering process, a package packaged with a conventional epoxy resin composition is sealed. There is a problem that cracks and peeling are likely to occur in the resin part. For this reason, when applied to a surface mount type package or the like, it is desired to develop an epoxy resin composition having excellent reliability that can suppress the occurrence of cracks or peeling during mounting, for example. Further, even in the epoxy resin composition for encapsulation, a highly reliable flame retardant technology capable of imparting good flame retardancy without using a halogen-based flame retardant or an antimony compound due to environmental considerations. Development is required.

【0009】本発明はこのような従来の課題に対処する
ためになされたもので、成形性や耐湿信頼性などの基本
特性を満足させた上で、耐リフロー性などの高温信頼性
(熱衝撃信頼性)を高めたエポキシ樹脂組成物、さらに
環境への影響を配慮して、ハロゲン系難燃剤やアンチモ
ン化合物などを用いることなく、良好な難燃性を付与し
たエポキシ樹脂組成物、およびこのようなエポキシ樹脂
組成物を用いた樹脂封止型半導体装置を提供することを
目的としている。
The present invention has been made in order to cope with such a conventional problem, and satisfies basic characteristics such as moldability and moisture resistance reliability and, at the same time, high temperature reliability (thermal shock resistance) such as reflow resistance. Reliability), an epoxy resin composition with good flame retardancy without using a halogen-based flame retardant or an antimony compound in consideration of the influence on the environment. An object of the present invention is to provide a resin-encapsulated semiconductor device using the epoxy resin composition.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ビフェニ
レン基を含有する特定構造のエポキシ樹脂と、ジオキシ
ナフタレン型の特定構造を有するフェノール樹脂硬化剤
とを使用することによって、成形性や耐湿信頼性などの
特性を満足させた上で、耐リフロー性などの高温信頼性
(熱衝撃信頼性)を高めることができ、さらに骨格中に
窒素原子を有するアミノシランカップリング剤を併用す
ることによって、耐湿信頼性や耐リフロー性などをより
一層向上させることが可能であることを見出した。また
さらに、特定構造のエポキシ樹脂とフェノール樹脂の使
用に加えて、無機質充填剤の配合量を制御することによ
って、難燃剤を使用することなくエポキシ樹脂組成物に
優れた難燃性を付与することが可能であることを見出し
た。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for achieving the above-mentioned object, the present inventors have found that an epoxy resin having a specific structure containing a biphenylene group and a specific structure of a dioxynaphthalene type are selected. By using the phenolic resin hardeners we have, we can enhance the high temperature reliability (thermal shock reliability) such as reflow resistance while satisfying the characteristics such as moldability and moisture resistance reliability. It has been found that the moisture resistance reliability and reflow resistance can be further improved by using an aminosilane coupling agent having a nitrogen atom therein. Furthermore, in addition to the use of an epoxy resin and a phenol resin having a specific structure, by controlling the compounding amount of an inorganic filler, it is possible to impart excellent flame retardancy to an epoxy resin composition without using a flame retardant. Found that is possible.

【0011】本発明はこのような知見に基づいてなされ
たもので、本発明のエポキシ樹脂組成物は請求項1に記
載したように、(A)エポキシ樹脂成分、(B)フェノ
ール樹脂硬化剤、(C)シランカップリング剤、および
(D)無機質充填剤を必須成分として含有するエポキシ
樹脂組成物であって、前記(A)成分のエポキシ樹脂成
分は、
The present invention has been made on the basis of such findings, and the epoxy resin composition of the present invention has, as described in claim 1, (A) epoxy resin component, (B) phenol resin curing agent, An epoxy resin composition containing (C) a silane coupling agent and (D) an inorganic filler as essential components, wherein the epoxy resin component of component (A) is

【化3】 で表される骨格を有するエポキシ樹脂を含み、かつ前記
(B)成分のフェノール樹脂硬化剤は、
[Chemical 3] The phenol resin curing agent as the component (B), which contains an epoxy resin having a skeleton represented by

【化4】 で表される骨格を有するフェノール樹脂を含むことを特
徴としている。
[Chemical 4] It is characterized by containing a phenol resin having a skeleton represented by

【0012】本発明のエポキシ樹脂組成物は、さらに請
求項4に記載したように、(C)成分のシランカップリ
ング剤が骨格中に窒素原子を有するアミノシランカップ
リング剤を含むことを特徴としている。また、請求項5
に記載したように、(D)成分の無機質充填剤を全組成
物量に対して83〜90質量%の範囲で含有し、かつ実質的
に難燃剤を含有しないことを特徴としている。
The epoxy resin composition of the present invention is further characterized in that the silane coupling agent as the component (C) contains an aminosilane coupling agent having a nitrogen atom in the skeleton. . In addition, claim 5
As described above, the inorganic filler as the component (D) is contained in the range of 83 to 90% by mass with respect to the total amount of the composition, and the flame retardant is not substantially contained.

【0013】本発明の樹脂封止型半導体装置は、上述し
た本発明のエポキシ樹脂組成物を封止材料として用いた
ものであって、請求項6に記載したように、本発明のエ
ポキシ樹脂組成物の硬化物により封止された半導体チッ
プを具備することを特徴としている。このような樹脂封
止型半導体装置においては、樹脂封止部の耐湿信頼性や
高温信頼性などを高めることができることから、各種実
装方式を採用した場合においても、信頼性の高い実装を
実現することが可能となる。
The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention uses the above-mentioned epoxy resin composition of the present invention as an encapsulating material, and as described in claim 6, the epoxy resin composition of the present invention is used. It is characterized by comprising a semiconductor chip sealed with a cured product. In such a resin-encapsulated semiconductor device, since the moisture resistance reliability and high temperature reliability of the resin encapsulation portion can be improved, highly reliable mounting is realized even when various mounting methods are adopted. It becomes possible.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Modes for carrying out the present invention will be described below.

【0015】本発明のエポキシ樹脂組成物は、(A)エ
ポキシ樹脂成分、(B)フェノール樹脂硬化剤、(C)
シランカップリング剤および(D)無機質充填剤を必須
成分として含有するものである。これらの必須成分のう
ち、(A)成分のエポキシ樹脂成分は、
The epoxy resin composition of the present invention comprises (A) an epoxy resin component, (B) a phenol resin curing agent, and (C).
It contains a silane coupling agent and (D) an inorganic filler as essential components. Of these essential components, the epoxy resin component of component (A) is

【化5】 で表される骨格を有するエポキシ樹脂(以下、ビフェニ
レン基含有エポキシ樹脂と記す)を含んでいる。
[Chemical 5] An epoxy resin having a skeleton represented by (hereinafter referred to as a biphenylene group-containing epoxy resin) is included.

【0016】上記した(1)式で骨格が表されるビフェニ
レン基含有エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂組成物の成形
性などの基本特性を維持した上で、その骨格構造などに
基づいて耐湿信頼性や耐リフロー性などの熱衝撃信頼性
の向上、さらにはエポキシ樹脂組成物の難燃性の向上に
寄与する成分である。このようなビフェニレン基含有エ
ポキシ樹脂としては、エポキシ当量が200〜350の範囲の
ものが好ましく用いられ、さらにエポキシ当量が250〜3
20の範囲のものがより好ましい。また、軟化温度は40〜
100℃の範囲であることが好ましく、さらには50〜75℃
の範囲であることがより好ましい。さらに、樹脂溶融粘
度については、150℃におけるICI粘度計(コーンア
ンドプレート型)により測定される樹脂溶融粘度が0.1
〜3.0ポイズの範囲であることが好ましい。
The biphenylene group-containing epoxy resin whose skeleton is represented by the above formula (1) maintains basic properties such as moldability of the epoxy resin composition and, on the basis of its skeleton structure, moisture resistance reliability and It is a component that contributes to improvement of thermal shock reliability such as reflow resistance, and further improvement of flame retardancy of the epoxy resin composition. As such a biphenylene group-containing epoxy resin, those having an epoxy equivalent of 200 to 350 are preferably used, and further an epoxy equivalent of 250 to 3 is used.
The range of 20 is more preferable. Also, the softening temperature is 40 ~
It is preferably in the range of 100 ° C, and further 50 to 75 ° C.
The range is more preferably. Furthermore, regarding the resin melt viscosity, the resin melt viscosity measured by an ICI viscometer (cone and plate type) at 150 ° C. is 0.1.
It is preferably in the range of up to 3.0 poise.

【0017】上述したようなビフェニレン基含有エポキ
シ樹脂の具体例としては、日本化薬株式会社製のNC−
3000P(商品名;エポキシ当量=277、軟化温度=61
℃、樹脂溶融粘度=1.1ポイズ)、NC−3000S(商
品名;エポキシ当量=282、軟化温度=59℃、樹脂溶融粘
度=0.9ポイズ)などが挙げられる。これらのビフェニレ
ン基含有エポキシ樹脂は1種を単独で使用してもよい
し、また2種以上を混合して使用してもよい。
Specific examples of the biphenylene group-containing epoxy resin as described above include NC-manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
3000P (trade name; epoxy equivalent = 277, softening temperature = 61
℃, resin melt viscosity = 1.1 poise), NC-3000S (trade name; epoxy equivalent = 282, softening temperature = 59 ℃, resin melt viscosity = 0.9 poise) and the like. These biphenylene group-containing epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

【0018】(A)成分のエポキシ樹脂成分において
は、上記したビフェニレン基含有エポキシ樹脂に加え
て、必要に応じて他のエポキシ樹脂を併用してもよい。
併用するエポキシ樹脂としては、例えばノボラック型エ
ポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ト
リフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポ
キシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エ
ポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂、スチルベンゼン型エポキシ
樹脂、縮合多環芳香族炭化水素変性エポキシ樹脂などが
挙げられ、これらの1種または2種以上を併用することが
できる。
In the epoxy resin component of component (A), in addition to the above-mentioned biphenylene group-containing epoxy resin, other epoxy resin may be used in combination if necessary.
Examples of the epoxy resin used in combination include novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, naphthalene ring-containing epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol. Examples thereof include F-type epoxy resins, stilbenzene-type epoxy resins, condensed polycyclic aromatic hydrocarbon-modified epoxy resins and the like, and one or more of these can be used in combination.

【0019】上記したような他のエポキシ樹脂を併用す
る場合、その配合量は全エポキシ樹脂量(エポキシ樹脂
成分の総質量=ビフェニレン基含有エポキシ樹脂の質量
+他のエポキシ樹脂の質量)に対して50質量%未満とす
ることが好ましい。言い換えると、(1)式で骨格が表さ
れるビフェニレン基含有エポキシ樹脂を全エポキシ樹脂
量に対して50質量%以上含むことが好ましい。ビフェニ
レン基含有エポキシ樹脂の配合量が全エポキシ樹脂量に
対して50質量%未満であると、上記した耐湿信頼性や耐
リフロー性などの向上効果を十分に得ることができない
おそれがある。ビフェニレン基含有エポキシ樹脂の配合
量は全エポキシ樹脂量に対して80質量%以上であること
がより好ましい。
When the other epoxy resin as described above is used in combination, the compounding amount thereof is based on the total amount of the epoxy resin (total mass of epoxy resin components = mass of biphenylene group-containing epoxy resin + mass of other epoxy resin). It is preferably less than 50% by mass. In other words, it is preferable that the biphenylene group-containing epoxy resin having a skeleton represented by the formula (1) is contained in an amount of 50% by mass or more based on the total amount of the epoxy resin. When the blending amount of the biphenylene group-containing epoxy resin is less than 50% by mass with respect to the total amount of the epoxy resin, the above-mentioned effects of improving the moisture resistance reliability and reflow resistance may not be sufficiently obtained. The blending amount of the biphenylene group-containing epoxy resin is more preferably 80% by mass or more based on the total amount of epoxy resin.

【0020】(B)成分のフェノール樹脂硬化剤は、
(A)成分のエポキシ樹脂成分中のエポキシ基と反応し
て硬化させるものであって、
The (B) component phenol resin curing agent is
(A) Component which is cured by reacting with an epoxy group in the epoxy resin component,

【化6】 で表される骨格を有するフェノール樹脂(以下、ジオキ
シナフタレン型フェノール樹脂と記す)を含んでいる。
このジオキシナフタレン型フェノール樹脂は、その骨格
構造などに基づいて硬化物の耐湿信頼性や耐リフロー性
などの熱衝撃信頼性の向上に寄与し、さらに難燃性を高
める成分である。
[Chemical 6] A phenol resin having a skeleton represented by (hereinafter referred to as a dioxynaphthalene type phenol resin) is included.
This dioxynaphthalene-type phenol resin is a component that contributes to the improvement of the moisture resistance reliability and the thermal shock reliability such as the reflow resistance of the cured product based on its skeleton structure, and further enhances the flame retardancy.

【0021】このようなジオキシナフタレン型フェノー
ル樹脂としては、フェノール性水酸基当量が90〜120の
範囲のものが好ましく用いられ、さらに水酸基当量が95
〜115の範囲のものがより好ましい。また、樹脂溶融粘
度については、150℃におけるICI粘度計(コーンア
ンドプレート型)により測定される樹脂溶融粘度が0.5
〜10.0ポイズの範囲であることが好ましく、さらに好ま
しくは1.0〜8.0ポイズの範囲である。ジオキシナフタレ
ン型フェノール樹脂の具体例としては、新日鐵化学株式
会社製のSN−375(商品名;水酸基当量=106、樹脂
溶融粘度=1.0ポイズ)、SN−385(商品名;水酸基
当量=105、樹脂溶融粘度=3.1ポイズ)のようなSN−3
00シリーズなどが挙げられる。
As such a dioxynaphthalene type phenol resin, one having a phenolic hydroxyl group equivalent in the range of 90 to 120 is preferably used, and further the hydroxyl equivalent is 95.
Those in the range of to 115 are more preferable. Regarding the resin melt viscosity, the resin melt viscosity measured by an ICI viscometer (cone and plate type) at 150 ° C. is 0.5.
It is preferably in the range of -10.0 poise, more preferably in the range of 1.0-8.0 poise. Specific examples of the dioxynaphthalene type phenol resin include SN-375 (trade name; hydroxyl group equivalent = 106, resin melt viscosity = 1.0 poise) manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., SN-385 (trade name; hydroxyl group equivalent =). 105, resin melt viscosity = 3.1 poise) SN-3
Examples include the 00 series.

【0022】(B)成分のフェノール樹脂硬化剤におい
ては、上記したジオキシナフタレン型フェノール樹脂に
加えて、必要に応じて他のフェノール樹脂を併用しても
よい。併用するフェノール樹脂としては、例えばフェノ
ールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシ
クロペンタジエン変性フェノール樹脂、パラキシレン変
性フェノール樹脂、フェノール類とベンズアルデヒドや
ナフチルアルデヒドとの縮合物、トリフェノールメタン
化合物、フェノールビフェニルアラルキル樹脂などが挙
げられ、これらの1種または2種以上を併用することがで
きる。
In the phenol resin curing agent as the component (B), in addition to the above-mentioned dioxynaphthalene type phenol resin, other phenol resin may be used in combination if necessary. Examples of the phenol resin to be used in combination include, for example, phenol novolac resin, cresol novolac resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, paraxylene modified phenol resin, condensate of phenol and benzaldehyde or naphthyl aldehyde, triphenol methane compound, phenol biphenyl aralkyl resin. And the like, and one or more of these may be used in combination.

【0023】上記したような他のフェノール樹脂を併用
する場合、(2)式で骨格が表されるジオキシナフタレン
型フェノール樹脂の配合量は、全フェノール樹脂量(フ
ェノール樹脂成分の総質量=ジオキシナフタレン型フェ
ノール樹脂の質量+他のフェノール樹脂の質量)に対し
て5質量%以上とすることが好ましい。ジオキシナフタ
レン型フェノール樹脂の配合量が全フェノール樹脂量に
対して5質量%未満であると、上記した耐湿信頼性や耐
リフロー性などの向上効果を十分に得ることができない
おそれがある。
When the other phenolic resin as described above is used in combination, the compounding amount of the dioxynaphthalene type phenolic resin whose skeleton is represented by the formula (2) is such that the total phenolic resin amount (total mass of phenolic resin component = diethyl resin It is preferably 5% by mass or more based on the mass of the oxynaphthalene type phenolic resin + the mass of the other phenolic resin). If the amount of the dioxynaphthalene-type phenol resin compounded is less than 5% by mass with respect to the total amount of the phenol resin, it may not be possible to sufficiently obtain the above-described effects of improving the moisture resistance reliability and reflow resistance.

【0024】ただし、ジオキシナフタレン型フェノール
樹脂を単独で使用した場合には、成形性などが若干低下
するおそれがあることから、全フェノール樹脂量に対し
て50質量%未満の範囲で他のフェノール樹脂を併用する
ことが好ましい。このような点からは、ジオキシナフタ
レン型フェノール樹脂の配合量は全フェノール樹脂量に
対して5〜50質量%の範囲とすることが好ましい。併用
する他のフェノール樹脂については、特にパラキシレン
変性フェノール樹脂を使用することが好ましい。パラキ
シレン変性フェノール樹脂の具体例としては、三井化学
株式会社製のXL−225−3L、XLC−LL、XL
C−3L、XLC−4L(商品名)、明和化成株式会社
製のMEH−7800M、MEH−7800S、MEH
−7800SS(商品名)、住金ケミカル株式会社製の
HE−100C−10、HE−100C−15、HE−
100C−30(商品名)などが挙げられる。
However, when the dioxynaphthalene type phenol resin is used alone, the moldability and the like may be slightly deteriorated. Therefore, the amount of other phenol is less than 50% by mass based on the total amount of the phenol resin. It is preferable to use a resin together. From this point of view, the amount of the dioxynaphthalene-type phenol resin compounded is preferably in the range of 5 to 50 mass% with respect to the total amount of the phenol resin. As for the other phenol resin used in combination, it is particularly preferable to use a para-xylene-modified phenol resin. Specific examples of the para-xylene-modified phenol resin include XL-225-3L, XLC-LL, and XL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
C-3L, XLC-4L (trade name), MEH-7800M, MEH-7800S, MEH manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.
-7800SS (trade name), HE-100C-10, HE-100C-15, HE- manufactured by Sumikin Chemical Co., Ltd.
100C-30 (trade name) and the like.

【0025】(A)成分のエポキシ樹脂成分と(B)成
分のフェノール樹脂硬化剤との配合比は特に限定される
ものではないが、それぞれの未反応成分を少なく抑える
ために、(A)成分の全エポキシ樹脂のエポキシ基数に
対する(B)成分の全フェノール樹脂のフェノール性水
酸基数の比(フェノール性水酸基数/エポキシ基数)で
表される配合比を0.5〜1.2の範囲に設定することが好ま
しく、さらに好ましくは0.7〜1.0の範囲である。
The mixing ratio of the epoxy resin component of the component (A) and the phenol resin curing agent of the component (B) is not particularly limited, but in order to suppress each unreacted component to a small amount, the component (A) is It is preferable to set the compounding ratio represented by the ratio (the number of phenolic hydroxyl groups / the number of epoxy groups) of the number of phenolic hydroxyl groups of the total phenolic resin of the component (B) to the number of epoxy groups of the total epoxy resin of 0.5 to 1.2. , And more preferably 0.7 to 1.0.

【0026】(C)成分のシランカップリング剤には、
例えばアミノシラン系、エポキシシラン系、ビニルシラ
ン系、アルキルシラン系、メルカプトシラン系などの各
種のシランカップリング剤を使用することができる。こ
れらのうちでも、特に骨格中に窒素原子を有するアミノ
シランカップリング剤を使用することが好ましい。アミ
ノシランカップリング剤は、上述した(1)式で骨格が表
されるビフェニレン基含有エポキシ樹脂および(2)式で
骨格が表されるジオキシナフタレン型フェノール樹脂と
併用することによって、エポキシ樹脂組成物の耐湿信頼
性や耐リフロー性などの熱衝撃信頼性をより一層向上さ
せる。
The silane coupling agent as the component (C) includes
For example, various silane coupling agents such as aminosilane-based, epoxysilane-based, vinylsilane-based, alkylsilane-based, and mercaptosilane-based can be used. Among these, it is particularly preferable to use an aminosilane coupling agent having a nitrogen atom in the skeleton. Aminosilane coupling agent, by using in combination with a biphenylene group-containing epoxy resin whose skeleton is represented by the above formula (1) and a dioxynaphthalene type phenolic resin whose skeleton is represented by the above formula (2), an epoxy resin composition Further improve the thermal shock reliability such as moisture resistance reliability and reflow resistance.

【0027】アミノシランカップリング剤としては、例
えばN-β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメ
トキシシラン、N-β(アミノエチル)-γ-アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリ
エトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシ
ランなどが挙げられ、特にN-フェニル-γ-アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエ
トキシシランなどが好ましい。これらのアミノシランカ
ップリング剤は1種または2種以上の混合物として使用さ
れる。
Examples of the aminosilane coupling agent include N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and γ-aminopropyltriethoxysilane. , N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane and the like, and particularly N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-ureidopropyltriethoxysilane and the like are preferable. These aminosilane coupling agents are used alone or as a mixture of two or more.

【0028】また、(C)成分のシランカップリング剤
においては、アミノシランカップリング剤に加えて、他
のシランカップリング剤を併用してもよい。併用する他
のシランカップリング剤としては、γ-グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシシラ
ン系、γ-(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシランなどのビニルシラン系、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシランなどのアルキルシラン
系、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メ
ルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカ
プトシラン系、イミダゾールシランなどが挙げられる。
Further, in the silane coupling agent as the component (C), other silane coupling agent may be used in combination with the aminosilane coupling agent. Other silane coupling agents used in combination include epoxysilanes such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. System, γ- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane and other vinylsilane systems, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane and other alkylsilane systems, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, Examples thereof include mercaptosilane-based compounds such as γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and imidazolesilane.

【0029】アミノシランカップリング剤とその他のシ
ランカップリング剤とを併用する場合、アミノシランカ
ップリング剤の配合量は、全シランカップリング剤量
(シランカップリング剤の総質量=アミノシランカップ
リング剤の質量+他のシランカップリング剤の質量)に
対して70質量%以上とすることが好ましい。アミノシラ
ンカップリング剤の配合量は、全シランカップリング剤
量に対して90質量%以上とすることがさらに好ましい。
When the aminosilane coupling agent and another silane coupling agent are used in combination, the amount of the aminosilane coupling agent is the total amount of silane coupling agents (total weight of silane coupling agent = weight of aminosilane coupling agent). + Mass of other silane coupling agent) is preferably 70% by mass or more. It is more preferable that the amount of the aminosilane coupling agent is 90% by mass or more based on the total amount of silane coupling agents.

【0030】(D)成分の無機質充填剤は、硬化物の熱
膨張係数、熱伝導率、吸水性、弾性率、難燃性などの特
性を改善する目的で配合されるものであり、例えば溶融
シリカ、結晶シリカ、アルミナ、タルク、チタンホワイ
ト、ベンガラ、炭化珪素などの粉末、これらを球形化し
たビーズ、または単結晶繊維やガラス繊維などが挙げら
れ、これらは1種または2種以上の混合物として使用され
る。これらの無機質充填剤のうち、例えば熱膨張の低減
の観点からは溶融シリカを使用することが好ましく、ま
た高熱伝導の観点からは結晶シリカやアルミナが好まし
い。さらに、難燃性の付与という観点からは、溶融シリ
カや結晶シリカなどが好ましく用いられる。
The inorganic filler as the component (D) is added for the purpose of improving properties such as thermal expansion coefficient, thermal conductivity, water absorption, elastic modulus and flame retardancy of the cured product. Powders such as silica, crystalline silica, alumina, talc, titanium white, red iron oxide, and silicon carbide, beads obtained by sphering these, single crystal fibers, glass fibers, and the like can be given.These are one kind or a mixture of two or more kinds. used. Of these inorganic fillers, for example, fused silica is preferably used from the viewpoint of reducing thermal expansion, and crystalline silica or alumina is preferred from the viewpoint of high thermal conductivity. Further, fused silica and crystalline silica are preferably used from the viewpoint of imparting flame retardancy.

【0031】無機質充填剤の形状については、流動性、
成形性、金型磨耗性の観点から、球状または球状に近い
形状が好ましい。さらに、無機質充填剤には最大粒径が
100μm以下、さらには75μm以下の粉末を用いることが
好ましい。無機質充填剤の最大粒径が100μmを超える
と、狭部への充填性が低下するなどして成形性の劣化が
起こりやすくなるためである。また、無機質充填剤の平
均粒径は5〜50μmの範囲であることが好ましい。無機質
充填剤粉末の平均粒径が5μm未満であるとエポキシ樹脂
組成物の粘度が上昇し、一方50μmを超えると樹脂成分
と充填剤との分散性が低下して、例えば成形品が不均一
になったり、また狭細部への充填性が低下するなどの不
具合が生じる。無機質充填剤粉末の平均粒径は10〜30μ
mの範囲であることがさらに好ましい。
Regarding the shape of the inorganic filler, fluidity,
From the viewpoint of moldability and mold wear resistance, a spherical shape or a shape close to a spherical shape is preferable. Furthermore, the maximum particle size of the inorganic filler is
It is preferable to use a powder of 100 μm or less, and further 75 μm or less. This is because if the maximum particle size of the inorganic filler exceeds 100 μm, the moldability tends to deteriorate due to a decrease in the filling property into the narrow portion. The average particle size of the inorganic filler is preferably in the range of 5 to 50 μm. If the average particle size of the inorganic filler powder is less than 5 μm, the viscosity of the epoxy resin composition increases, while if it exceeds 50 μm, the dispersibility of the resin component and the filler decreases, and, for example, the molded product becomes uneven. In addition, there are problems such as deterioration of the filling property in narrow details. The average particle size of the inorganic filler powder is 10-30μ
More preferably, it is in the range of m.

【0032】(D)成分の無機質充填剤の配合量は全組
成物量に対して70〜92質量%の範囲とすることが好まし
く、さらに好ましくは78〜91質量%の範囲である。無機
質充填剤は上述したように硬化物の熱膨張係数、熱伝導
率、吸水性、弾性率、難燃性などの特性を改善するもの
であり、このような無機質充填剤の配合量が70質量%未
満であると上記したような特性の改善効果を十分に得る
ことができない。一方、無機質充填剤の配合量が92質量
%を超えるとエポキシ樹脂組成物の流動性が著しく低下
し、成形性に劣ることから実用に適さない。
The blending amount of the inorganic filler as the component (D) is preferably 70 to 92% by mass, more preferably 78 to 91% by mass, based on the total amount of the composition. The inorganic filler improves the properties such as the thermal expansion coefficient, the thermal conductivity, the water absorption, the elastic modulus, and the flame retardancy of the cured product as described above, and the compounding amount of such an inorganic filler is 70 mass. If it is less than%, the effect of improving the characteristics as described above cannot be sufficiently obtained. On the other hand, if the blending amount of the inorganic filler exceeds 92% by mass, the flowability of the epoxy resin composition will be significantly reduced and the moldability will be poor, such being unsuitable for practical use.

【0033】本発明のエポキシ樹脂組成物においては、
特に(D)成分の無機質充填剤として溶融シリカや結晶
シリカなどの難燃性の付与性が高い充填剤から選ばれる
1種または2種以上を使用すると共に、その配合量を全組
成物量に対して83〜90質量%の範囲とすることが望まし
い。すなわち、上記したような無機質充填剤を83質量%
以上の範囲で配合することによって、エポキシ樹脂組成
物に実質的に難燃剤を配合することなく、良好な難燃性
を付与することが可能となる。なお、無機質充填剤の配
合量は成形性をより良好に保つ上で90質量%以下とする
ことが好ましい。
In the epoxy resin composition of the present invention,
In particular, as the inorganic filler of the component (D), a filler having a high flame retardancy-imparting property such as fused silica or crystalline silica is selected.
It is desirable to use one kind or two or more kinds and to make the blending amount within the range of 83 to 90 mass% with respect to the total amount of the composition. That is, 83% by mass of the inorganic filler as described above
By blending in the above range, good flame retardancy can be imparted to the epoxy resin composition without substantially blending the flame retardant. The content of the inorganic filler is preferably 90% by mass or less in order to keep the moldability better.

【0034】本発明のエポキシ樹脂組成物には、上述し
た(A)〜(D)の必須成分以外に、本発明の効果を阻
害しない範囲で、必要に応じて他の添加剤を配合するこ
とができる。他の添加剤としてはこの種の組成物に一般
的に配合される、リン系、アミン系、イミダゾール系、
有機ホスフィン系、テトラフェニルボロン塩系などの硬
化促進剤、カーボンブラック、コバルトブルーなどの着
色剤、アルキルチタネートなどの表面処理剤、天然ワッ
クス、合成ワックスなどの離型剤、シリコーンオイルや
シリコーンゴムなどの低応力化剤などが挙げられる。
In addition to the above-mentioned essential components (A) to (D), other additives may be added to the epoxy resin composition of the present invention, if necessary, within a range that does not impair the effects of the present invention. You can Other additives commonly used in compositions of this type are phosphorus-based, amine-based, imidazole-based,
Organic phosphine-based and tetraphenylboron salt-based curing accelerators, carbon black, cobalt blue and other coloring agents, alkyl titanate and other surface treatment agents, natural wax, synthetic wax and other release agents, silicone oil and silicone rubber, etc. The stress reducing agents of

【0035】本発明のエポキシ樹脂組成物を製造する一
般的な方法としては、上記した(A)〜(D)の必須成
分および必要に応じて他の添加成分をミキサーなどで十
分に均一混合(ドライブレンド)し、さらに熱ロール、
ニーダ、押出し機などで溶融混練し、冷却後に粉砕する
方法が挙げられる。
As a general method for producing the epoxy resin composition of the present invention, the above-mentioned essential components (A) to (D) and, if necessary, other additive components are sufficiently homogeneously mixed with a mixer or the like ( Dry blend) and then heat roll,
Examples thereof include a method of melt-kneading with a kneader or an extruder, cooling and then pulverizing.

【0036】このようにして得られる本発明のエポキシ
樹脂組成物は、半導体素子などの電子部品の封止材料と
して有用である。すなわち、前述した(1)式で骨格が表
されるビフェニレン基含有エポキシ樹脂を含む(A)エ
ポキシ樹脂成分と、前述した(2)式で骨格が表されるジ
オキシナフタレン型フェノール樹脂を含む(B)フェノ
ール樹脂硬化剤とを組合せて使用することによって、こ
れら樹脂成分の骨格構造などに基づいて、成形性などの
基本特性を維持した上で耐湿信頼性や耐リフロー性など
の熱衝撃信頼性を向上させることができる。耐湿信頼性
や耐リフロー性などの特性は、(C)成分としてアミノ
シランカップリング剤を使用することでより一層高める
ことが可能となる。
The epoxy resin composition of the present invention thus obtained is useful as a sealing material for electronic parts such as semiconductor elements. That is, the epoxy resin component (A) containing the biphenylene group-containing epoxy resin whose skeleton is represented by the above formula (1) and the dioxynaphthalene type phenol resin whose skeleton is represented by the above formula (2) are included ( B) When used in combination with a phenolic resin curing agent, basic characteristics such as moldability are maintained based on the skeleton structure of these resin components, and reliability against heat shock such as moisture resistance and reflow resistance is maintained. Can be improved. Properties such as moisture resistance reliability and reflow resistance can be further enhanced by using an aminosilane coupling agent as the component (C).

【0037】上述したように、エポキシ樹脂組成物の耐
リフロー性などの熱衝撃信頼性を高めることによって、
例えばエポキシ樹脂組成物を表面実装型パッケージの封
止材料として用いた際に、半田付け工程時におけるパッ
ケージの封止樹脂部のクラックや、封止樹脂部と半導体
素子もしくはリードフレームなどの基板との間の剥離の
発生を抑制することが可能となる。すなわち、パッケー
ジの実装方式にかかわらず、実装工程(半田付け工程)
時の信頼性を大幅に向上させることができる。
As described above, by improving the thermal shock reliability such as the reflow resistance of the epoxy resin composition,
For example, when an epoxy resin composition is used as a sealing material for a surface mount type package, cracks in the sealing resin portion of the package during the soldering process, and the sealing resin portion and a substrate such as a semiconductor element or a lead frame It is possible to suppress the occurrence of peeling between them. That is, regardless of the package mounting method, the mounting process (soldering process)
The reliability of time can be greatly improved.

【0038】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物は、
その成形性などの特性を維持した上で、比較的多量の無
機質充填剤を含むことが可能であることから、例えばハ
ロゲン系難燃剤やアンチモン化合物などの難燃助剤を用
いることなく、良好な難燃性を付与することができる。
このようなエポキシ樹脂組成物の難燃性の向上には樹脂
成分の骨格構造なども寄与している。前述したように、
ハロゲン系難燃剤やアンチモン化合物などは環境への影
響が問題視されはじめていることから、そのような難燃
剤などを使用することなく、エポキシ樹脂組成物に良好
な難燃性を付与することの意義は大きい。
Further, the epoxy resin composition of the present invention is
Since it is possible to include a relatively large amount of an inorganic filler while maintaining properties such as its moldability, it is possible to obtain a favorable result without using a flame retardant aid such as a halogen-based flame retardant or an antimony compound. Flame resistance can be imparted.
The skeleton structure of the resin component also contributes to the improvement of the flame retardancy of the epoxy resin composition. As previously mentioned,
Since halogen-based flame retardants and antimony compounds have begun to be regarded as environmentally problematic, the significance of imparting good flame retardancy to epoxy resin compositions without the use of such flame retardants Is big.

【0039】本発明の半導体装置は、上述した本発明の
エポキシ樹脂組成物を封止材料として用いたものであっ
て、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物により封止さ
れた半導体チップを具備するものである。半導体装置を
構成する半導体素子は特に限定されるものではなく、例
えば集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリ
スタ、ダイオードなどの種々の半導体素子に対して適用
可能である。上述したように、本発明のエポキシ樹脂組
成物は耐湿信頼性や熱衝撃信頼性などに優れることか
ら、パッケージ自体の長期信頼性などの向上に加えて、
パッケージの実装工程時における不良発生や信頼性の低
下を抑制することができる。これらによって、半導体パ
ッケージなどのパッケージ部品の製造歩留りや信頼性を
高めることが可能となる。
A semiconductor device of the present invention uses the above-mentioned epoxy resin composition of the present invention as a sealing material, and comprises a semiconductor chip sealed with a cured product of the epoxy resin composition of the present invention. To do. The semiconductor element that constitutes the semiconductor device is not particularly limited, and is applicable to various semiconductor elements such as an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, and a diode. As described above, since the epoxy resin composition of the present invention is excellent in moisture resistance reliability and thermal shock reliability, in addition to improvement in long-term reliability of the package itself,
It is possible to suppress the occurrence of defects and the decrease in reliability during the package mounting process. As a result, it is possible to improve the manufacturing yield and reliability of package components such as semiconductor packages.

【0040】半導体素子の封止方法としては、低圧トラ
ンスファー成形法が一般的であるが、射出成形、圧縮成
形、注型などにより封止することも可能である。エポキ
シ樹脂組成物で封止した後、加熱して硬化させることに
よって、最終的にその硬化物で封止された半導体装置が
得られる。加熱による硬化は150℃以上の温度で熱硬化
させることが好ましい。さらに、半導体素子を搭載する
基板としては、セラミック基板、プラスチック基板、ポ
リイミドフィルム、リードフレームなどが挙げられる
が、特にこれらに限定されるものではない。
As a method of sealing the semiconductor element, a low pressure transfer molding method is generally used, but it is also possible to seal it by injection molding, compression molding, casting or the like. After sealing with the epoxy resin composition and heating and curing, a semiconductor device finally sealed with the cured product is obtained. The curing by heating is preferably heat curing at a temperature of 150 ° C. or higher. Furthermore, examples of the substrate on which the semiconductor element is mounted include a ceramic substrate, a plastic substrate, a polyimide film, a lead frame and the like, but the substrate is not particularly limited thereto.

【0041】[0041]

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例およびその評
価結果について説明する。ただし、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Next, specific examples of the present invention and evaluation results thereof will be described. However, the present invention is not limited to these examples.

【0042】実施例1 まず、下記の(3)式の構造式を有するパラビフェニレン
基含有エポキシ樹脂・NC−3000P(商品名、日本
化薬社製;エポキシ当量=277g/eq、軟化温度=61℃、樹
脂溶融粘度=1.1ポイズ)9.50質量%と、下記の(4)式の
構造式を有するジオキシナフタレン型フェノール樹脂・
SN−375(商品名、新日鐵化学社製;水酸基当量=1
04g/eq、樹脂溶融粘度=1.1ポイズ)3.50質量%と、シラ
ンカップリング剤としてγ-アミノプロピルトリエトキ
シシラン(アミノシランカップリング剤1)1.0質量%
と、無機質充填剤として溶融球状シリカ粉末(最大粒径
=75μm、平均粒径=16μm、比表面積=4.6m2/g)85質量%
と、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TP
P)0.15質量%と、カルナバワックス0.35質量%と、カ
ーボンブラック0.5質量%とを常温で混合し、次いで70
〜90℃で加熱溶融混練した。冷却後、適当な大きさに粉
砕して、目的とするエポキシ樹脂組成物を得た。なお、
エポキシ樹脂とフェノール樹脂の配合比(フェノール性
水酸基数/エポキシ基数)は0.98である。
Example 1 First, a parabiphenylene group-containing epoxy resin having the structural formula (3) below, NC-3000P (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; epoxy equivalent = 277 g / eq, softening temperature = 61). ℃, resin melt viscosity = 1.1 poise) 9.50 mass%, and dioxynaphthalene type phenol resin having the following structural formula (4)
SN-375 (trade name, manufactured by Nippon Steel Chemical Co .; hydroxyl equivalent = 1)
04g / eq, resin melt viscosity = 1.1 poise) 3.50% by mass and silane coupling agent γ-aminopropyltriethoxysilane (aminosilane coupling agent 1) 1.0% by mass
And fused spherical silica powder as the inorganic filler (maximum particle size
= 75 μm, average particle size = 16 μm, specific surface area = 4.6 m 2 / g) 85 mass%
And triphenylphosphine (TP
P) 0.15 mass%, carnauba wax 0.35 mass% and carbon black 0.5 mass% are mixed at room temperature, and then 70
The mixture was melt-kneaded by heating at ~ 90 ° C. After cooling, it was pulverized to an appropriate size to obtain the desired epoxy resin composition. In addition,
The compounding ratio of epoxy resin and phenol resin (number of phenolic hydroxyl groups / number of epoxy groups) is 0.98.

【0043】[0043]

【化7】 [Chemical 7]

【化8】 [Chemical 8]

【0044】実施例2〜26 エポキシ樹脂として、実施例1で用いたパラビフェニレ
ン基含有エポキシ樹脂・NC−3000P(エポキシ当
量=277g/eq)と、下記の(5)式の構造式を有するビフェ
ニル型エポキシ樹脂・YX−4000H(商品名、JE
R社製;エポキシ当量=193g/eq)と、下記の(6)式の構
造式を有するオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂・EOCN−1020−55(商品名、日本化薬社
製;エポキシ当量=198g/eq)をそれぞれ用意した。
Examples 2 to 26 As the epoxy resin, the parabiphenylene group-containing epoxy resin NC-3000P (epoxy equivalent = 277 g / eq) used in Example 1 and biphenyl having the structural formula (5) below. Type Epoxy Resin YX-4000H (trade name, JE
R company; epoxy equivalent = 193 g / eq) and orthocresol novolac type epoxy resin having the structural formula (6) below: EOCN-1020-55 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co .; epoxy equivalent = 198 g) / eq) was prepared respectively.

【0045】[0045]

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 [Chemical 10]

【0046】フェノール樹脂については、実施例1で用
いたジオキシナフタレン型フェノール樹脂・SN−37
5(水酸基当量=104g/eq)と、下記の(7)式の構造式を
有するパラキシレン変性フェノール樹脂・MEH−78
00SS(商品名、明和化成社製;水酸基当量=175g/e
q)と、下記の(8)式の構造式を有するビフェニル変性フ
ェノール樹脂・MEH−7851SS(商品名、明和化
成社製;水酸基当量=198g/eq)と、下記の(9)式の構造
式を有するナフトール型フェノール樹脂・SN−180
(商品名、新日鐵化学社製;水酸基当量=196g/eq)とを
用意した。
For the phenol resin, the dioxynaphthalene type phenol resin SN-37 used in Example 1 was used.
5 (hydroxyl equivalent = 104 g / eq) and para-xylene-modified phenol resin having the structural formula (7) below: MEH-78
00SS (Brand name, manufactured by Meiwa Kasei Co .; hydroxyl equivalent = 175g / e
q), and a biphenyl-modified phenolic resin MEH-7851SS (trade name, manufactured by Meiwa Kasei Co .; hydroxyl equivalent = 198 g / eq) having the structural formula of the following formula (8) and the structural formula of the following formula (9). Naphthol type phenolic resin having SN-180
(Trade name, manufactured by Nippon Steel Chemical Co .; hydroxyl equivalent = 196 g / eq) were prepared.

【0047】[0047]

【化11】 [Chemical 11]

【化12】 [Chemical 12]

【化13】 [Chemical 13]

【0048】また、シランカップリング剤については、
実施例1で用いたγ-アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(アミノシランカップリング剤1)に加えて、N-フ
ェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン(アミノ
シランカップリング剤2)とγ-グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン(エポキシシランカップリング剤)
を用意した。さらに、実施例1と同様に、溶融球状シリ
カ粉末(最大粒径=75μm、平均粒径=16μm、比表面積=
4.6m2/g)、トリフェニルホスフィン(TPP)、カル
ナバワックス、およびカーボンブラックを用意した。
Regarding the silane coupling agent,
In addition to γ-aminopropyltriethoxysilane (aminosilane coupling agent 1) used in Example 1, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (aminosilane coupling agent 2) and γ-glycidoxypropyltrisilane were used. Methoxysilane (epoxysilane coupling agent)
Prepared. Further, as in Example 1, fused spherical silica powder (maximum particle size = 75 μm, average particle size = 16 μm, specific surface area =
4.6 m 2 / g), triphenylphosphine (TPP), carnauba wax, and carbon black were prepared.

【0049】上記した各成分を表1および表2に示す配
合比に基づいてそれぞれ常温で混合し、次いで70〜90℃
で加熱溶融混練した。冷却後、それぞれ適当な大きさに
粉砕して、それぞれ目的とするエポキシ樹脂組成物を得
た。
The above components were mixed at room temperature based on the compounding ratios shown in Tables 1 and 2, and then 70-90 ° C.
It was heated, melted and kneaded. After cooling, each was crushed to an appropriate size to obtain the desired epoxy resin composition.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】[0051]

【表2】 [Table 2]

【0052】比較例1〜8 表2に示したように、上述した実施例と同様な各成分を
用いて、本発明の範囲外のエポキシ樹脂組成物を実施例
1と同様にして作製した。なお、比較例3、5で使用し
たフェノールノボラック樹脂は下記の(10)式の構造式を
有するものであって、明和化成社製のフェノールノボラ
ック樹脂・TEH−1085(商品名;水酸基当量=104
g/eq)を用いた。
Comparative Examples 1 to 8 As shown in Table 2, an epoxy resin composition outside the scope of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1, using the same components as those in the above-mentioned examples. The phenol novolac resin used in Comparative Examples 3 and 5 has the following structural formula (10), and the phenol novolac resin TEH-1085 (trade name; hydroxyl equivalent = 104) manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.
g / eq) was used.

【0053】[0053]

【化14】 [Chemical 14]

【0054】上述した実施例1〜26および比較例1〜
8で得た各エポキシ樹脂組成物の特性、すなわち吸水
率、硬度、成形性、耐湿信頼性、耐リフロー性、難燃性
を以下のようにして測定、評価した。これらの測定結果
を表3、表4および表5にそれぞれ示す。
Examples 1 to 26 and Comparative Example 1 described above
The properties of each epoxy resin composition obtained in Example 8, ie, water absorption, hardness, moldability, moisture resistance reliability, reflow resistance, and flame retardancy were measured and evaluated as follows. The results of these measurements are shown in Tables 3, 4, and 5, respectively.

【0055】吸水率については、まず各エポキシ樹脂組
成物を175℃、60秒間の条件でトランスファー成形し
て、直径50mm×厚さ3mmの成形品を作り、175℃、8時間
の条件で後硬化させた後、これら硬化物を127℃、2.5気
圧の飽和水蒸気中に24時間放置した。放置後に増加した
質量に基づいて吸水率(%)を求めた。
Regarding the water absorption rate, first, each epoxy resin composition was transfer molded at 175 ° C. for 60 seconds to form a molded product having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm, and post-cured at 175 ° C. for 8 hours. After that, these cured products were allowed to stand in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm for 24 hours. The water absorption rate (%) was calculated based on the mass increased after standing.

【0056】硬度については、各エポキシ樹脂組成物を
175℃、60秒間の条件でトランスファー成形して、直径5
0mm×厚さ3mmの成形品を作り、金型を開放した直後にバ
ーコール硬度計により成形品の熱時硬度を測定した。ま
た、成形性については、EMMI規格に準じた金型を使
用し、175℃、120秒の条件でスパイラルフロー(mm)を測
定した。
Regarding the hardness, each epoxy resin composition
Transfer molding at 175 ° C for 60 seconds, diameter 5
A 0 mm x 3 mm thick molded product was prepared, and the hot hardness of the molded product was measured by a Barcol hardness meter immediately after the mold was opened. Regarding moldability, a mold conforming to the EMMI standard was used, and the spiral flow (mm) was measured under the conditions of 175 ° C. and 120 seconds.

【0057】耐湿信頼性については、まず2本のアルミ
ニウム配線を有するシリコンチップを42アロイフレーム
に接着し、各エポキシ樹脂組成物を用いて175℃、90秒
間の条件でトランスファー成形した後、175℃、8時間の
条件で後硬化させた。このようにして得た各成形品に対
して、127℃、2.5気圧の飽和水蒸気中で耐湿信頼性試験
(PCT)を行い、アルミニウム腐蝕による50%断線
(不良発生)が起こる時間を評価した。
Regarding the moisture resistance reliability, first, a silicon chip having two aluminum wirings was adhered to a 42 alloy frame, transfer molding was carried out using each epoxy resin composition at 175 ° C. for 90 seconds, and then 175 ° C. And post-cured for 8 hours. A moisture resistance reliability test (PCT) was performed on each of the molded products thus obtained in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm to evaluate the time at which 50% disconnection (defect occurrence) due to aluminum corrosion occurred.

【0058】耐リフロー性については、まずダミーチッ
プ(6.0×6.0mm)をQFPパッケージ(14×14×1.0mm
/Cuフレーム)に収納し、各エポキシ樹脂組成物を用
いて175℃、90秒間の条件でトランスファー成形した
後、175℃、8時間の条件で後硬化させた。このようにし
て得た各樹脂封止型半導体装置(QFP型半導体パッケ
ージ)に対して、85℃、85%RHの条件で所定時間(48
h、72h、96h、168h)の吸湿処理を施した後、260℃(ma
x)のIRリフローを3回行い、室温に冷却した後に実体
顕微鏡および超音波探傷装置でクラック、剥離の発生の
有無を観察した。各吸湿処理時間後において、それぞれ
クラックや剥離の発生による不良発生率を調べた。
Regarding the reflow resistance, first, a dummy chip (6.0 × 6.0 mm) is placed in a QFP package (14 × 14 × 1.0 mm).
/ Cu frame), transfer molding was performed at 175 ° C. for 90 seconds using each epoxy resin composition, and post-curing was performed at 175 ° C. for 8 hours. Each resin-encapsulated semiconductor device (QFP type semiconductor package) obtained in this manner was subjected to a predetermined time (48
h, 72h, 96h, 168h), after 260 ℃ (ma
IR reflow (x) was performed three times, and after cooling to room temperature, the presence or absence of cracks and peeling was observed with a stereoscopic microscope and an ultrasonic flaw detector. After each moisture absorption treatment time, the defect occurrence rate due to the occurrence of cracks and peeling was examined.

【0059】難燃性については、各エポキシ樹脂組成物
を175℃、90秒間の条件でトランスファー成形し、120×
12×0.8mmおよび120×12×3.2mmの各成形品をそれぞれ
作り、次いで175℃、8時間の後硬化を行った。これら各
硬化物を用いて、UL−94耐炎性試験規格に基づく燃
焼試験を行って、難燃性を評価した。
Regarding the flame retardancy, each epoxy resin composition was transfer molded under the conditions of 175 ° C. and 90 seconds, and 120 ×
12 × 0.8 mm and 120 × 12 × 3.2 mm molded products were made, and then post-cured at 175 ° C. for 8 hours. Each of these cured products was subjected to a combustion test based on the UL-94 flame resistance test standard to evaluate flame retardancy.

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】[0061]

【表4】 [Table 4]

【0062】[0062]

【表5】 [Table 5]

【0063】表3、表4および表5から明らかなよう
に、各実施例によるエポキシ樹脂組成物はいずれも硬
度、成形性、耐湿信頼性、耐リフロー性に優れ、さらに
所定量の無機質充填剤(実施例では溶融球状シリカ)を
含有することで、良好な難燃性が付与されていることが
分かる。さらに、フェノール樹脂硬化剤として(4)式の
構造式を有するジオキシナフタレン型フェノール樹脂と
他のフェノール樹脂を併用することで、成形性がより一
層向上すると共に、耐湿信頼性や耐リフロー性も向上
し、またアミノシランカップリング剤を使用すること
で、耐湿信頼性や耐リフロー性がより一層向上すること
が分かる。なお、実施例5〜7の組成比で無機質充填剤
を92質量%を超えて配合したところ、成形性(スパイラ
ルフロー)の低下が認められ、一方無機質充填剤の配合
量を83質量%未満とした場合には難燃性が低下し、また
耐湿信頼性や耐リフロー性も若干低下する傾向が認めら
れた。
As is clear from Table 3, Table 4 and Table 5, the epoxy resin compositions according to the respective examples are excellent in hardness, moldability, moisture resistance reliability and reflow resistance, and further have a predetermined amount of inorganic filler. It can be seen that good flame retardancy is imparted by containing (fused spherical silica in the examples). Furthermore, by using the dioxynaphthalene type phenol resin having the structural formula (4) as a phenol resin curing agent and another phenol resin together, the moldability is further improved, and the moisture resistance reliability and reflow resistance are also improved. It can be seen that the moisture resistance reliability and the reflow resistance are further improved by the use of the aminosilane coupling agent. In addition, when the inorganic filler was blended in an amount exceeding 92 mass% in the composition ratio of Examples 5 to 7, a decrease in moldability (spiral flow) was observed, while the blending amount of the inorganic filler was less than 83 mass%. It was confirmed that the flame retardancy was lowered, and the moisture resistance reliability and the reflow resistance were slightly lowered.

【0064】一方、各比較例によるエポキシ樹脂組成物
において、(3)式の構造式を有するパラビフェニレン基
含有エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂のみを使用した比
較例1〜2は、耐湿信頼性、耐リフロー性、難燃性が実
施例に比べて劣っているものであった。また、(4)式の
構造式を有するジオキシナフタレン型フェノール樹脂以
外のフェノール樹脂のみを使用した比較例3〜8は、使
用したフェノール樹脂により耐湿信頼性や耐リフロー性
が劣っていたり、あるいは硬度などの基本特性や難燃性
が劣るものであった。
On the other hand, in the epoxy resin compositions according to the respective comparative examples, Comparative Examples 1 and 2 using only the epoxy resin other than the parabiphenylene group-containing epoxy resin having the structural formula (3), were excellent in moisture resistance reliability and resistance. The reflowability and flame retardancy were inferior to those of the examples. In Comparative Examples 3 to 8 in which only the phenol resin other than the dioxynaphthalene type phenol resin having the structural formula (4) is used, moisture resistance reliability and reflow resistance are inferior depending on the phenol resin used, or It was inferior in basic properties such as hardness and incombustibility.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のエポキシ
樹脂組成物によれば、硬度や成形性などの特性を満足さ
せた上で、耐湿信頼性や耐リフロー性などの熱衝撃信頼
性を向上させることができ、さらには難燃剤などを用い
ることなく、良好な難燃性を付与することが可能とな
る。このようなエポキシ樹脂組成物を封止材料として用
いた本発明の樹脂封止型半導体装置によれば、実装時の
信頼性や製造歩留りなどの向上を図ることができる。
As described above, according to the epoxy resin composition of the present invention, the characteristics such as hardness and moldability are satisfied, and the thermal shock reliability such as humidity resistance and reflow resistance is improved. It is possible to improve, and it is possible to impart good flame retardancy without using a flame retardant or the like. According to the resin-encapsulated semiconductor device of the present invention using such an epoxy resin composition as an encapsulating material, it is possible to improve the reliability at the time of mounting, the manufacturing yield, and the like.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 Fターム(参考) 4J002 CC032 CC042 CD041 CD061 CD201 CE002 DE117 DE137 DE147 DJ007 DJ017 DJ047 DL007 EX016 EX056 EX076 EX086 FA047 FD017 FD142 FD206 GQ05 4J036 AD12 AE07 FA01 FA03 FA05 FA13 FB08 JA07 4M109 AA01 EA02 EB03 EB06 EB13Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 F term (reference) 4J002 CC032 CC042 CD041 CD061 CD201 CE002 DE117 DE137 DE147 DJ007 DJ017 DJ047 DL007 EX016 EX056 EX076 EX086 FA047 FD017 FD142 FD206 GQ05 4J036 AD12 AE07 FA01 FA03 FA05 FA13 FB08 JA07 4M109 AA01 EA02 EB03 EB06 EB13

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂成分、(B)フェノ
ール樹脂硬化剤、(C)シランカップリング剤、および
(D)無機質充填剤を必須成分として含有するエポキシ
樹脂組成物であって、前記(A)成分のエポキシ樹脂成
分は、 【化1】 で表される骨格を有するエポキシ樹脂を含み、かつ前記
(B)成分のフェノール樹脂硬化剤は、 【化2】 で表される骨格を有するフェノール樹脂を含むことを特
徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin composition containing (A) an epoxy resin component, (B) a phenol resin curing agent, (C) a silane coupling agent, and (D) an inorganic filler as essential components, wherein: The epoxy resin component of component (A) is as follows: The phenol resin curing agent of the component (B), which contains an epoxy resin having a skeleton represented by: An epoxy resin composition comprising a phenol resin having a skeleton represented by:
【請求項2】 前記(B)成分のフェノール樹脂硬化剤
は、全フェノール樹脂量に対して、前記(2)式で表され
る骨格を有するフェノール樹脂を5質量%以上含むこと
を特徴とする請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
2. The component (B) phenolic resin curing agent contains 5% by mass or more of a phenolic resin having a skeleton represented by the formula (2), based on the total amount of phenolic resin. The epoxy resin composition according to claim 1.
【請求項3】 前記(B)成分のフェノール樹脂硬化剤
は、全フェノール樹脂量に対して、前記(2)式で表され
る骨格を有するフェノール樹脂を5〜50質量%の範囲で
含むことを特徴とする請求項1記載のエポキシ樹脂組成
物。
3. The (B) component phenol resin curing agent contains a phenol resin having a skeleton represented by the formula (2) in an amount of 5 to 50 mass% with respect to the total amount of the phenol resin. An epoxy resin composition according to claim 1.
【請求項4】 前記(C)成分のシランカップリング剤
は、骨格中に窒素原子を有するアミノシランカップリン
グ剤を含むことを特徴とする請求項1ないし請求項3の
いずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。
4. The epoxy according to any one of claims 1 to 3, wherein the silane coupling agent as the component (C) contains an aminosilane coupling agent having a nitrogen atom in the skeleton. Resin composition.
【請求項5】 前記(D)成分の無機質充填剤を全組成
物量に対して83〜90質量%の範囲で含有し、かつ実質的
に難燃剤を含まないことを特徴とする請求項1ないし請
求項4のいずれか1項記載のエポキシ樹脂組成物。
5. The inorganic filler as the component (D) is contained in the range of 83 to 90% by mass with respect to the total amount of the composition, and the flame retardant is not substantially contained. The epoxy resin composition according to claim 4.
【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれか1項
記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物により封止された半
導体素子を具備することを特徴とする樹脂封止型半導体
装置。
6. A resin-encapsulated semiconductor device comprising a semiconductor element encapsulated with a cured product of the epoxy resin composition according to claim 1. Description:
JP2002089002A 2002-03-27 2002-03-27 Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device Pending JP2003277477A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002089002A JP2003277477A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002089002A JP2003277477A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003277477A true JP2003277477A (en) 2003-10-02

Family

ID=29234711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002089002A Pending JP2003277477A (en) 2002-03-27 2002-03-27 Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003277477A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007023097A (en) * 2005-07-13 2007-02-01 Kyocera Chemical Corp Resin composition for encapsulation and encapsulated electronic part device
JP2009221357A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic part device
JP2009270054A (en) * 2008-05-09 2009-11-19 Hitachi Chem Co Ltd Insulation resin composition, and insulation film with support
JP2010090216A (en) * 2008-10-06 2010-04-22 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing, and electronic part device
JP2010155981A (en) * 2008-12-29 2010-07-15 Nan Ya Plast Corp High thermal-conductive, halogen-free, flame-retardant resin composition, and prepreg and coating thereof
JP6043433B2 (en) * 2014-06-11 2016-12-14 積水化学工業株式会社 Adhesive for electronic parts and adhesive for display element

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007023097A (en) * 2005-07-13 2007-02-01 Kyocera Chemical Corp Resin composition for encapsulation and encapsulated electronic part device
JP2009221357A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing and electronic part device
JP2009270054A (en) * 2008-05-09 2009-11-19 Hitachi Chem Co Ltd Insulation resin composition, and insulation film with support
JP2010090216A (en) * 2008-10-06 2010-04-22 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for sealing, and electronic part device
JP2010155981A (en) * 2008-12-29 2010-07-15 Nan Ya Plast Corp High thermal-conductive, halogen-free, flame-retardant resin composition, and prepreg and coating thereof
JP6043433B2 (en) * 2014-06-11 2016-12-14 積水化学工業株式会社 Adhesive for electronic parts and adhesive for display element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003261746A (en) Resin composition for sealing and sealed electronic device
JP2003277477A (en) Epoxy resin composition and resin-sealing type semiconductor device
JP2005200533A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor and resin-sealed semiconductor device
JP4950010B2 (en) Manufacturing method of epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and manufacturing method of semiconductor device
JP2003261646A (en) Epoxy resin composition and resin-sealed semiconductor device
JP5379066B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2004131610A (en) Resin composition for sealing and resin-sealed semiconductor device
JP2004099837A (en) Sealing resin composition and resin-sealed semiconductor device
JPH0977958A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP4020632B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2005146141A (en) Resin composition for sealing and resin sealing type semiconductor device
JP4765294B2 (en) Semiconductor device
JP3871025B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JPH08337634A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device sealed therewith
JP2000186183A (en) Epoxy resin composition for sealing and semiconductor device
JP3008981B2 (en) Epoxy resin composition
JP3011807B2 (en) Epoxy resin composition
JP2000281748A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP4687195B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP2003292739A (en) Resin composition for sealing and device for sealing electronic part
JP3093051B2 (en) Epoxy resin composition
JPH0625384A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2005139260A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3032067B2 (en) Epoxy resin composition
JP2005281623A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040316

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040323

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040720