JP2003272947A - Ceramic electronic component and its manufacturing method - Google Patents

Ceramic electronic component and its manufacturing method

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JP2003272947A JP2002075082A JP2002075082A JP2003272947A JP 2003272947 A JP2003272947 A JP 2003272947A JP 2002075082 A JP2002075082 A JP 2002075082A JP 2002075082 A JP2002075082 A JP 2002075082A JP 2003272947 A JP2003272947 A JP 2003272947A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic electronic component which can be protected against a sheet attack and is almost kept free from a structural defect such as a short circuit or a withstand voltage failure. <P>SOLUTION: Laminated groups C1 to Cn each comprise a first to a third ceramic layer, 110 to 130, and internal electrodes 21 and 22, wherein the first ceramic layer 110 serves as a lowermost layer, and the third ceramic layer 130 serves as an uppermost layer. The laminated groups C1 to Cn are laminated in a manner where the first ceramic layer 110 and the third ceramic layer 130 are located adjacent to each other. The ceramic average grain diameters α1 to α13 and thicknesses T1 to T3 of the ceramic layers 110 to 130 are so set as to satisfy following formulas; (α1≤α2, α3), (0.05<α1≤0.35 μm), (T1<T2, T3), and (0<T1<1.5 μm). <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック電子部
品及びその製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a ceramic electronic component and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンデンサ、圧電素子等の セラミック
電子部品を製造する一つの方法として、支持体上にドク
ターブレード法でセラミック粉、有機バインダー、可塑
剤、溶剤等を含むセラミック塗料をセラミック塗料層状
に成形し、その上にパラジウム、銀、ニッケル等の電極
をスクリーン印刷により形成する方法が知られている。
2. Description of the Related Art As one method of manufacturing ceramic electronic components such as capacitors and piezoelectric elements, a ceramic coating containing ceramic powder, an organic binder, a plasticizer, a solvent, etc. is formed on a support by a doctor blade method into a ceramic coating layer. A method is known in which molding is performed and an electrode of palladium, silver, nickel, or the like is formed thereon by screen printing.

【0003】積層構造を得る場合は、得られたグリーン
シーを所望の積層構造になるように積層し、プレス切断
工程を経てセラミックグリーンチップを得る。このよう
にして得られたセラミックグリーンチップ中のバインダ
ーをバーンアウトし、1000℃〜1400℃で焼成
し、得られた焼成体に銀、銀−パラジウム、ニッケル、
銅等の端子電極を形成し、セラミック電子部品を得る。
When obtaining a laminated structure, the obtained green sheets are laminated so as to have a desired laminated structure, and a ceramic green chip is obtained through a press cutting process. The binder in the ceramic green chip thus obtained was burned out and fired at 1000 ° C to 1400 ° C, and the fired body thus obtained was provided with silver, silver-palladium, nickel,
A terminal electrode made of copper or the like is formed to obtain a ceramic electronic component.

【0004】上述した製造方法において、例えば、積層
セラミックコンデンサを製造する場合、小型化、大容量
化の手法として、1層あたりのセラミック塗料層の厚み
を薄くし、積層数を多くする手法が採用されてきた。例
えば、セラミック塗料層の厚みを3μm程度にし、これ
を800層以上の積層数とした積層セラミックコンデン
サも、既に知られている。
In the above-described manufacturing method, for example, when manufacturing a monolithic ceramic capacitor, a method of reducing the thickness of a ceramic coating layer per layer and increasing the number of laminated layers is adopted as a method of miniaturization and large capacity. It has been. For example, a monolithic ceramic capacitor in which the thickness of the ceramic coating layer is about 3 μm and the number of laminated layers is 800 or more is already known.

【0005】ところで、積層セラミックコンデンサに代
表されるセラミック電子部品を製造するに当たり、その
内部電極を形成する場合、従来は、可撓性を有する帯状
の支持体の表面に、セラミック塗料を塗布してセラミッ
ク塗料層を形成した後、内部電極ペーストを印刷するの
が一般的であった。支持体は、ポリエチレンテレフタレ
ート(PET)フィルム等によって構成される。
By the way, in manufacturing a ceramic electronic component represented by a monolithic ceramic capacitor, when forming an internal electrode thereof, conventionally, a ceramic coating is applied to the surface of a flexible belt-shaped support. It was common to print the internal electrode paste after forming the ceramic paint layer. The support is composed of a polyethylene terephthalate (PET) film or the like.

【0006】セラミック塗料は、アクリル樹脂やブチラ
ール樹脂等の有機バインダ、有機溶剤、可塑剤及びセラ
ミック粉末を混合して塗料化したものを用いる。
As the ceramic paint, a paint prepared by mixing an organic binder such as acrylic resin or butyral resin, an organic solvent, a plasticizer and ceramic powder is used.

【0007】内部電極ペーストは、有機バインダである
樹脂を有機溶剤によって溶解させたビヒクルを用い、こ
のビヒクル中にAg、Pd、NiまたはCu等の導電性
金属粉末を分散させ、場合によっては、粘度調整用希釈
剤を加えて調製される。ビヒクル中の有機溶剤として
は、テルピオーネやメチルエチケトン等が用いられ、バ
インダとしては、エチルセルロースもしくは二トロセル
ロース等のせるロース系樹脂、または、ブチルメタクリ
レートもしくはメチルメタクリレート等のアクリル系樹
脂が用いられる。また、希釈剤としては、芳香族炭化水
素や脂肪酸炭化水素等が使用される。
As the internal electrode paste, a vehicle in which a resin as an organic binder is dissolved by an organic solvent is used, and a conductive metal powder such as Ag, Pd, Ni or Cu is dispersed in this vehicle, and in some cases, the viscosity is increased. Prepared by adding an adjusting diluent. As the organic solvent in the vehicle, terpione, methyl etiketone, or the like is used, and as the binder, a cellulose resin such as ethyl cellulose or nitrocellulose, or an acrylic resin such as butyl methacrylate or methyl methacrylate is used. Further, as the diluent, aromatic hydrocarbon, fatty acid hydrocarbon or the like is used.

【0008】ところが、上述したような組成になる内部
電極ペーストを、従来の製法にしたがって、支持体の上
に塗布されたセラミック塗料層に印刷した場合、内部電
極ペーストに含まれているテルピオーネやメチルエチケ
トン等でなる有機溶剤が、セラミック塗料層に含まれる
アクリル樹脂やブチラール樹脂等の有機バインダを溶解
させてしまう。この現象は、シートアタックと称されて
いる。
However, when the internal electrode paste having the above-mentioned composition is printed on the ceramic coating layer applied on the support according to the conventional manufacturing method, terpione or methyl contained in the internal electrode paste is printed. The organic solvent such as etiketone dissolves the organic binder such as acrylic resin or butyral resin contained in the ceramic coating layer. This phenomenon is called sheet attack.

【0009】シートアタックが発生すると、セラミック
塗料層を支持体から剥離することが困難になる。また、
セラミック塗料層に穴やしわが発生することもあり、こ
のようなセラミック塗料層を用いて積層セラミックコン
デンサを製造した場合は、内部電極が導通する短絡不良
を生じたり、耐電圧不良となったり、さらには、目的と
する静電容量が得られなくなる等の致命的な欠陥を生じ
る恐れがある。
When sheet attack occurs, it becomes difficult to peel the ceramic coating layer from the support. Also,
Holes and wrinkles may occur in the ceramic paint layer, and when a multilayer ceramic capacitor is manufactured using such a ceramic paint layer, a short circuit failure in which internal electrodes are conducted or a withstand voltage failure occurs, Furthermore, there is a possibility of causing a fatal defect such as the inability to obtain the target electrostatic capacity.

【0010】この問題を回避する手段として、支持体の
上に、直接に、内部電極を印刷した後、その上にセラミ
ックペーストを塗布してセラミック塗料層を形成し、次
に、セラミック塗料層を内部電極と一緒に支持体の表面
から剥離する方法(例えば特許第2136761号)あ
る。
As a means for avoiding this problem, after printing the internal electrodes directly on the support, a ceramic paste is applied thereon to form a ceramic coating layer, and then the ceramic coating layer is formed. There is a method of peeling from the surface of the support together with the internal electrodes (for example, Japanese Patent No. 21366761).

【0011】しかし、この場合は、支持体に対する内部
電極及びセラミック塗料層の密着性が強くなるため、破
綻を生じることなく、セラミック塗料層を剥離すること
が極めて困難になる。
In this case, however, the adhesion between the internal electrode and the ceramic coating layer with respect to the support becomes strong, and it becomes extremely difficult to peel the ceramic coating layer without causing breakage.

【0012】支持体の表面に剥離容易化剤(以下剥離剤
と称する)を塗布しておき、剥離剤の表面に、内部電極
及びセラミック塗料層を形成すれば、剥離の困難性は回
避できるであろう。
The peeling difficulty can be avoided by applying a peeling facilitating agent (hereinafter referred to as a peeling agent) on the surface of the support and forming the internal electrodes and the ceramic coating layer on the surface of the peeling agent. Ah

【0013】しかし、剥離剤の表面に内部電極を印刷し
た場合、両者間の親和性が低いため、内部電極に、その
表面張力によって凝集するような作用が働き、内部電極
のパターン形状が崩れてしまい、所定の特性が得られな
くなる。
However, when the internal electrode is printed on the surface of the release agent, since the affinity between the two is low, the surface tension of the internal electrode causes the internal electrode to agglomerate and the pattern shape of the internal electrode collapses. As a result, predetermined characteristics cannot be obtained.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、シー
トアタックを防止でき、短絡不良や耐電圧不良等の構造
的欠陥を生じにくいセラミック電子部品、特に、積層セ
ラミックコンデンサを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a ceramic electronic component, particularly a monolithic ceramic capacitor, which can prevent sheet attack and hardly cause structural defects such as a short circuit defect and a withstand voltage defect. .

【0015】本発明のもう一つの課題は、セラミック塗
料層を薄くしても、剥離の困難性や製品の特性不良等を
生じる確率を著しく小さくし得る高精度、高信頼性のセ
ラミック電子部品の製造方法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a highly accurate and highly reliable ceramic electronic component capable of significantly reducing the probability of peeling difficulty or defective product characteristics even if the ceramic coating layer is thin. It is to provide a manufacturing method.

【0016】本発明の更にもう一つの課題は、電極に起
因する積層間段差を著しく小さくし、信頼性を向上させ
たセラミック電子部品の製造方法を提供することであ
る。
Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a ceramic electronic component in which the step difference between the layers due to the electrodes is significantly reduced and the reliability is improved.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は、上述した課題
を解決するためのセラミック電子部品及びその製造方法
を開示する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention discloses a ceramic electronic component and a method of manufacturing the same for solving the above-mentioned problems.

【0018】1.セラミック電子部品 上述した課題を解決するため、本発明に係るセラミック
電子部品は、セラミック基体と、複数の内部電極とを含
む。前記内部電極のそれぞれは、前記セラミック基体の
内部に間隔を隔てて埋設されている。
1. Ceramic Electronic Component In order to solve the above problems, a ceramic electronic component according to the present invention includes a ceramic base and a plurality of internal electrodes. Each of the internal electrodes is embedded in the inside of the ceramic base at a distance.

【0019】前記セラミック基体は、第1のセラミック
層と、第2のセラミック層と、第3のセラミック層とを
含む。
The ceramic substrate includes a first ceramic layer, a second ceramic layer, and a third ceramic layer.

【0020】前記第1のセラミック層は、前記内部電極
の一面側に隣接しており、前記第2のセラミック層は、
前記第1のセラミック層の隣接しない他の内部電極の一
面に隣接しており、前記第3のセラミック層は、前記第
2のセラミック層の隣接する前記他の内部電極の他面に
隣接している。
The first ceramic layer is adjacent to one surface side of the internal electrode, and the second ceramic layer is
The third ceramic layer is adjacent to one surface of the other internal electrode which is not adjacent to the first ceramic layer, and the third ceramic layer is adjacent to the other surface of the other internal electrode which is adjacent to the second ceramic layer. There is.

【0021】前記第1及び第3のセラミック層、及び、
前記内部電極は、前記第1のセラミック層を最下層と
し、前記第3のセラミック層を最上層とする積層グルー
プを構成する。
The first and third ceramic layers, and
The internal electrodes form a laminated group in which the first ceramic layer is the lowermost layer and the third ceramic layer is the uppermost layer.

【0022】前記積層グループは複数であり、それぞれ
は前記第1のセラミック層及び前記第3のセラミック層
が互いに隣接する関係で積層されている。
There are a plurality of laminated groups, and the first ceramic layer and the third ceramic layer are laminated in such a manner that they are adjacent to each other.

【0023】前記第1のセラミック層のセラミック平均
粒径をα1とし、その層厚をT1とし、前記第2のセラ
ミック層のセラミック平均粒径をα2とし、層厚をT2
とし、前記第3のセラミック層のセラミック平均粒径を
α3とし、層厚をT3としたとき、 α1≦α2、α3 0.05<α1≦0.35μm、 T1<T2、T3、及び、 0<T1<1.5μm を満たす。
The average ceramic grain size of the first ceramic layer is α1, the layer thickness is T1, the average ceramic grain size of the second ceramic layer is α2, and the layer thickness is T2.
And the ceramic average particle diameter of the third ceramic layer is α3 and the layer thickness is T3, α1 ≦ α2, α3 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, T1 <T2, T3, and 0 < T1 <1.5 μm is satisfied.

【0024】上述したように、本発明に係るセラミック
電子部品において、セラミック基体と、複数の内部電極
とを含んでおり、内部電極のそれぞれは、セラミック基
体の内部に間隔を隔てて埋設されているから、内部電極
数に応じた積層数を持つセラミック電子部品、特に、積
層セラミックコンデンサを得ることができる。
As described above, the ceramic electronic component according to the present invention includes the ceramic base and the plurality of internal electrodes, and each of the internal electrodes is embedded inside the ceramic base at a distance. Thus, it is possible to obtain a ceramic electronic component having a number of laminated layers corresponding to the number of internal electrodes, particularly a laminated ceramic capacitor.

【0025】セラミック基体は、第1のセラミック層
と、第2のセラミック層と、第3のセラミック層とを含
む。第1のセラミック層は、内部電極の一面側に隣接し
ており、第2のセラミック層は、前記第1のセラミック
層の隣接しない他の内部電極の一面に隣接しており、第
3のセラミック層は、第2のセラミック層の隣接する他
の内部電極の他面に隣接している。第1及び第3のセラ
ミック層、及び、内部電極は、第1のセラミック層を最
下層とし、第3のセラミック層を最上層とする積層グル
ープを構成する。
The ceramic substrate includes a first ceramic layer, a second ceramic layer and a third ceramic layer. The first ceramic layer is adjacent to one surface of the internal electrode, the second ceramic layer is adjacent to one surface of another internal electrode that is not adjacent to the first ceramic layer, and the third ceramic layer is adjacent to the third ceramic layer. The layer is adjacent to the other surface of the adjacent other internal electrode of the second ceramic layer. The first and third ceramic layers and the internal electrodes form a laminated group in which the first ceramic layer is the lowermost layer and the third ceramic layer is the uppermost layer.

【0026】したがって、積層グループ毎に、第1乃至
第3のセラミック層、及び、内部電極数に依存した積層
数を有するセラミック電子部品、特に、積層セラミック
コンデンサを得ることができる。
Therefore, it is possible to obtain a ceramic electronic component, especially a laminated ceramic capacitor, having the first to third ceramic layers and the number of laminated layers depending on the number of internal electrodes for each laminated group.

【0027】積層グループは複数であり、それぞれは、
積層される。このため、積層グループ数に依存した積層
数を有するセラミック電子部品、特に、積層セラミック
コンデンサを得ることができる。
There are a plurality of laminated groups, each of which is
Stacked. Therefore, it is possible to obtain a ceramic electronic component having a number of laminated layers depending on the number of laminated groups, particularly a laminated ceramic capacitor.

【0028】しかも、積層グループのそれぞれは、第1
のセラミック層及び第3のセラミック層が互いに隣接す
る関係で積層される。この構造により、各積層グループ
の相互間に、緻密で、充填密度の高い第1のセラミック
層が介在することになるから、短絡不良率、及び耐電圧
不良率を低減することができる。
Moreover, each of the stacked groups has a first
The ceramic layer and the third ceramic layer are laminated in a relationship of being adjacent to each other. With this structure, since the dense and highly packed first ceramic layers are interposed between the respective laminated groups, the short-circuit failure rate and the withstand voltage failure rate can be reduced.

【0029】第1のセラミック層のセラミック平均粒径
α1、第2のセラミック層のセラミック平均粒径α2、
及び、第3のセラミック層のセラミック平均粒径α3
は、 α1≦α2、α3 を満たすから、ピンホール及び耐電圧不良等の構造的欠
陥を、さらに効果的に回避し得る。
Average ceramic particle size α1 of the first ceramic layer, average ceramic particle size α2 of the second ceramic layer,
And the average ceramic particle size α3 of the third ceramic layer
Since α1 ≦ α2 and α3 are satisfied, structural defects such as pinholes and defective withstand voltage can be more effectively avoided.

【0030】また、第1のセラミック層のセラミック平
均粒径α1は、 0.05<α1≦0.35μm を満たす。この条件を満たすことにより、製造工程にお
けるシートアタックを軽減し、短絡不良率、及び耐電圧
不良率を低減することができる。
Further, the average ceramic particle size α1 of the first ceramic layer satisfies 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm. By satisfying this condition, it is possible to reduce the sheet attack in the manufacturing process and reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate.

【0031】更に、第1のセラミック層の層厚T1、第
2のセラミック層の層厚T2、第3のセラミック層の層
厚T3は、 T1<T2、T3 を満たすから、第1のセラミック層の層厚T1による厚
み増大を極力回避し、例えば、積層セラミックコンデン
サにおける取得容量等の電気的特性を確保できる。
Further, since the layer thickness T1 of the first ceramic layer, the layer thickness T2 of the second ceramic layer, and the layer thickness T3 of the third ceramic layer satisfy T1 <T2, T3, the first ceramic layer It is possible to avoid an increase in the thickness due to the layer thickness T1 as much as possible, and for example, to secure the electrical characteristics such as the acquisition capacitance in the multilayer ceramic capacitor.

【0032】第1のセラミック層の層厚T1は 0<T1<1.5μm を満たす。この範囲であれば、製造工程におけるシート
アタックによる短絡不良率、及び、耐電圧不良率を低減
することができる。第1のセラミック層の層厚T1が
1.5μm以上になると、短絡不良率は低減するもの
の、耐電圧不良率が高くなる。層厚T1は、焼成前セラ
ミック塗料層の厚みである。焼成した場合は、収縮する
ので、上述した厚み条件を必ず満たすことになる。
The layer thickness T1 of the first ceramic layer satisfies 0 <T1 <1.5 μm. Within this range, it is possible to reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate due to the sheet attack in the manufacturing process. When the layer thickness T1 of the first ceramic layer is 1.5 μm or more, the short circuit defect rate is reduced but the withstand voltage defect rate is increased. The layer thickness T1 is the thickness of the ceramic coating layer before firing. When fired, it contracts, so that the above-mentioned thickness condition is always satisfied.

【0033】2.セラミック電子部品の製造方法 次に、本発明に係るセラミック電子部品の製造方法で
は、まず、支持体の表面に第1のセラミック塗料層を形
成し、次に、前記第1のセラミック塗料層の表面に、内
部電極を印刷し、次に、前記第1のセラミック塗料層の
表面に、前記内部電極を覆うように、第2のセラミック
塗料層を形成する。
2. Method for Manufacturing Ceramic Electronic Component Next, in the method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention, first, a first ceramic coating layer is formed on the surface of a support, and then the surface of the first ceramic coating layer. Then, an internal electrode is printed, and then a second ceramic paint layer is formed on the surface of the first ceramic paint layer so as to cover the internal electrode.

【0034】次に、次に、前記第2のセラミック塗料層
の表面に、その上の前記内部電極を覆うように、第3の
セラミック塗料層を形成して、積層体を構成する。
Next, a third ceramic paint layer is formed on the surface of the second ceramic paint layer so as to cover the internal electrodes thereon, to form a laminated body.

【0035】次に、前記支持体から前記積層体を剥離
し、剥離して得られた前記積層体の複数枚を、隣接する
2つの積層体において、一方の積層体に含まれる前記第
1のセラミック塗料層が、他方の積層体に含まれる前記
第3のセラミック塗料層に隣接する関係で、順次に積層
する。
Next, the laminated body is peeled from the support, and a plurality of the laminated bodies obtained by peeling the laminated body are included in one of the adjacent two laminated bodies. The ceramic paint layer is sequentially laminated so as to be adjacent to the third ceramic paint layer included in the other laminated body.

【0036】前記第1のセラミック塗料層のセラミック
平均粒径をα1とし、その層厚をT1とし、前記第2の
セラミック塗料層のセラミック平均粒径をα2とし、層
厚をT2とし、前記第3のセラミック塗料層のセラミッ
ク平均粒径をα3とし、層厚をT3としたとき、 α1≦α2、α3 0.05<α1≦0.35μm、 T1<T2、T3、及び 0<T1<1.5μm を満たす。
The ceramic average particle size of the first ceramic coating layer is α1, its layer thickness is T1, the ceramic average particle size of the second ceramic coating layer is α2, and the layer thickness is T2. 3 has a ceramic average particle diameter of α3 and a layer thickness of T3, α1 ≦ α2, α3 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, T1 <T2, T3, and 0 <T1 <1. 5 μm is satisfied.

【0037】本発明に係る製造方法では、支持体の表面
に第1のセラミック塗料層を形成し、次に、第1のセラ
ミック塗料層の表面に、内部電極を印刷し、次に第1の
セラミック塗料層の表面に内部電極を覆うように、第2
のセラミック塗料層を形成する。次に、第2のセラミッ
ク塗料層の表面に、内部電極を印刷し、次に、第2のセ
ラミック塗料層の表面に、その上の内部電極を覆うよう
に、第3のセラミック塗料層を形成して、積層体を構成
する。次に、支持体から積層体を剥離する。このため、
破綻等を生じにくい積層体としてハンドリングし、破綻
によるデラミネーション、ピンホール及び耐電圧不良等
の構造的欠陥を、極力、回避し得る。
In the manufacturing method according to the present invention, the first ceramic coating layer is formed on the surface of the support, the internal electrodes are printed on the surface of the first ceramic coating layer, and then the first ceramic coating layer is printed. Second, cover the internal electrodes on the surface of the ceramic paint layer.
To form a ceramic paint layer. Next, an internal electrode is printed on the surface of the second ceramic paint layer, and then a third ceramic paint layer is formed on the surface of the second ceramic paint layer so as to cover the internal electrode thereon. Then, a laminated body is formed. Next, the laminate is peeled from the support. For this reason,
It can be handled as a laminated body that is unlikely to cause failure, and structural defects such as delamination, pinholes, and poor withstand voltage due to failure can be avoided as much as possible.

【0038】また、支持体の表面に第1のセラミック塗
料層を形成し、次に、第1のセラミック塗料層の表面
に、内部電極を印刷するから、支持体から剥離した場
合、第1のセラミック塗料層の剥離面と、内部電極の剥
離面が、面一の平坦な平面になる。したがって、この平
坦な剥離面を積層面として用いることにより、段差によ
るデラミネーション、ピンホール及び耐電圧不良等の構
造的欠陥を回避し得る。
Further, since the first ceramic paint layer is formed on the surface of the support and then the internal electrodes are printed on the surface of the first ceramic paint layer, when the first ceramic paint layer is peeled from the support, the first ceramic paint layer is formed. The peeling surface of the ceramic coating layer and the peeling surface of the internal electrode are flush with each other. Therefore, by using this flat release surface as a laminated surface, structural defects such as delamination due to steps, pinholes, and withstand voltage defects can be avoided.

【0039】しかも、支持体の表面に第1のセラミック
塗料層を形成し、次に、第1のセラミック塗料層の表面
に、内部電極を印刷するから、支持体の上に剥離剤を塗
布して、第1のセラミック塗料層の剥離を容易にし、数
μmのごく薄い第1のセラミック塗料層であっても、破
綻を生じさせることなく、支持体から確実に剥離し得
る。このため、剥離時の第1のセラミック塗料層の破綻
に起因するデラミネーション、ピンホール及び耐電圧不
良等の構造的欠陥を、極力、回避し得る。
Moreover, since the first ceramic coating layer is formed on the surface of the support and then the internal electrodes are printed on the surface of the first ceramic coating layer, the release agent is applied on the support. Thus, the first ceramic paint layer can be easily peeled off, and even a very thin first ceramic paint layer of several μm can be surely peeled off from the support without causing breakage. Therefore, structural defects such as delamination, pinholes, and poor withstand voltage due to the breakage of the first ceramic coating layer during peeling can be avoided as much as possible.

【0040】内部電極は第1のセラミック塗料層の上に
形成されるので、剥離剤の表面に内部電極を印刷する場
合と異なって、内部電極形状が、その表面張力によって
崩れてしまうこともない。
Since the internal electrodes are formed on the first ceramic paint layer, unlike the case where the internal electrodes are printed on the surface of the release agent, the shape of the internal electrodes is not destroyed by the surface tension. .

【0041】剥離して得られた前記積層体の複数枚を、
隣接する2つの積層体において、一方の積層体に含まれ
る第1のセラミック塗料層が、他方の積層体に含まれる
第3のセラミック塗料層に隣接する関係で、順次に積層
する。このため、各積層グループの相互間に、緻密で、
充填密度の高い第1のセラミック層が内部電極間に介在
することになるから、短絡不良率、及び耐電圧不良率を
低減することができる。
A plurality of the laminates obtained by peeling are
In two adjacent laminated bodies, the first ceramic paint layer included in one laminated body is sequentially laminated in a relationship of adjoining the third ceramic paint layer included in the other laminated body. For this reason, it is very
Since the first ceramic layer having a high packing density is interposed between the internal electrodes, it is possible to reduce the short circuit defect rate and the withstand voltage defect rate.

【0042】また、第1のセラミック塗料層のセラミッ
ク平均粒径α1、第2のセラミック塗料層のセラミック
平均粒径α2、及び、第3のセラミック塗料層のセラミ
ック平均粒径α3は、 α1≦α2、α3 を満たすから、ピンホール及び耐電圧不良等の構造的欠
陥を、さらに効果的に回避し得る。
The ceramic average particle size α1 of the first ceramic coating layer, the ceramic average particle size α2 of the second ceramic coating layer, and the ceramic average particle size α3 of the third ceramic coating layer are α1 ≦ α2. , Α 3 are satisfied, structural defects such as pinholes and defective withstand voltage can be more effectively avoided.

【0043】また、第1のセラミック層のセラミック平
均粒径α1は、 0.05<α1≦0.35μm を満たす。この条件を満たすことにより、製造工程にお
けるシートアタックを軽減し、短絡不良率、及び耐電圧
不良率を低減することができる。
The average ceramic grain size α1 of the first ceramic layer satisfies 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm. By satisfying this condition, it is possible to reduce the sheet attack in the manufacturing process and reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate.

【0044】更に、第1のセラミック塗料層の層厚T
1、第2のセラミック塗料層の層厚T2、及び、第3の
セラミック塗料層の層厚T3は、 T1<T2、T3 を満たすから、第1のセラミック塗料層の層厚T1によ
る厚み増大を極力回避し、例えば、積層セラミックコン
デンサにおける取得容量等の電気的特性を確保できる。
Furthermore, the layer thickness T of the first ceramic coating layer
Since the layer thickness T2 of the first and second ceramic coating layers and the layer thickness T3 of the third ceramic coating layer satisfy T1 <T2 and T3, the thickness increase by the layer thickness T1 of the first ceramic coating layer is By avoiding as much as possible, it is possible to secure the electrical characteristics such as the acquisition capacity of the monolithic ceramic capacitor.

【0045】第1のセラミック塗料層の層厚T1は 0<T1<1.5μm を満たす。この範囲であれば、製造工程におけるシート
アタックによる短絡不良率、及び、耐電圧不良率を低減
することができる。短絡不良及び耐電圧不良を招くこと
がない。第1のセラミック塗料層の層厚T1が1.5μ
m以上になると、短絡不良率は低減するものの、耐電圧
不良率が高くなることが分かった。層厚T1は、焼成前
セラミック塗料層の厚みである、焼成した場合は、収縮
するので、上述した厚み条件を必ず満たすことになる。
The layer thickness T1 of the first ceramic coating layer satisfies 0 <T1 <1.5 μm. Within this range, it is possible to reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate due to the sheet attack in the manufacturing process. Short circuit failure and withstand voltage failure will not occur. The layer thickness T1 of the first ceramic coating layer is 1.5μ
It was found that when the length was m or more, the short-circuit defect rate was reduced, but the withstand voltage defect rate was increased. The layer thickness T1 is the thickness of the ceramic coating layer before firing. When fired, the layer thickness T1 contracts, so that the thickness condition described above is always satisfied.

【0046】好ましくは、セラミック塗料は、押し出し
式塗布ヘッドを使用して塗布される。セラミック塗料の
供給量は、質量流量計及び定量ポンプにより制御するこ
とが望ましい。本発明に係る製造方法は、特に、積層セ
ラミックコンデンサを製造するのに適している。
Preferably, the ceramic coating is applied using an extrusion coating head. It is desirable to control the amount of ceramic paint supplied by a mass flow meter and a metering pump. The manufacturing method according to the present invention is particularly suitable for manufacturing a laminated ceramic capacitor.

【0047】本発明の他の特徴及びそれによる作用効果
は、添付図面を参照して更に詳しく説明する。図は単な
る例示にすぎない。
Other features of the present invention and the effects thereof will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The figures are merely examples.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】1.セラミック電子部品 図1は積層セラミックコンデンサとして具体化された本
発明に係るセラミック電子部品の断面図を示す。詳細な
説明は省略するが、圧電素子等のセラミック電子部品の
製造にも、本発明は適用可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION 1. Ceramic Electronic Component FIG. 1 shows a cross-sectional view of a ceramic electronic component according to the present invention embodied as a monolithic ceramic capacitor. Although detailed description is omitted, the present invention can be applied to the manufacture of ceramic electronic components such as piezoelectric elements.

【0049】図示された積層セラミックコンデンサは、
セラミック誘電体でなるセラミック基体1と、複数の内
部電極21、22とを含む。内部電極21、22のそれ
ぞれは、セラミック基体1の内部に間隔を隔てて埋設さ
れている。図は、積層セラミックコンデンサを示してい
るので、隣接する内部電極21、22は、相反する一端
が、セラミック基体1の相反する両端に付与された端子
電極31、32に、それぞれ導通接続されている。
The illustrated monolithic ceramic capacitor is
It includes a ceramic base 1 made of a ceramic dielectric and a plurality of internal electrodes 21 and 22. Each of the internal electrodes 21 and 22 is embedded inside the ceramic substrate 1 with a space therebetween. Since the figure shows a monolithic ceramic capacitor, adjacent internal electrodes 21 and 22 are electrically connected at opposite ends to terminal electrodes 31 and 32 provided at opposite ends of the ceramic substrate 1, respectively. .

【0050】図2は図1に示した積層セラミックコンデ
ンサの内部構造を模式的に示す拡大断面図である。図示
の都合上、中間部は、省略して示してある。セラミック
基体1は、第1のセラミック層110と、第2のセラミ
ック層120と、第3のセラミック層130とを含んで
いる。
FIG. 2 is an enlarged sectional view schematically showing the internal structure of the monolithic ceramic capacitor shown in FIG. For convenience of illustration, the intermediate portion is omitted. The ceramic base 1 includes a first ceramic layer 110, a second ceramic layer 120, and a third ceramic layer 130.

【0051】第1のセラミック層110は、内部電極2
1の一面側に隣接する。第2のセラミック層120は、
第1のセラミック層110の隣接しない他の内部電極2
2に隣接する。
The first ceramic layer 110 is the inner electrode 2
Adjacent to one surface side of 1. The second ceramic layer 120 is
Other internal electrodes 2 that are not adjacent to the first ceramic layer 110
Adjacent to 2.

【0052】第3のセラミック層130は、第2のセラ
ミック層120の隣接する他の内部電極22の他面に隣
接している。
The third ceramic layer 130 is adjacent to the other surface of another internal electrode 22 adjacent to the second ceramic layer 120.

【0053】第1及び第3のセラミック層110〜13
0、及び、内部電極21、22は、第1のセラミック層
110を最下層とし、第3のセラミック層130を最上
層とする積層グループC1、C2、...Cnを構成す
る。
First and third ceramic layers 110-13
0 and the internal electrodes 21 and 22 are laminated groups C1, C2, ... Having the first ceramic layer 110 as the lowermost layer and the third ceramic layer 130 as the uppermost layer. . . Configure Cn.

【0054】積層グループC1〜Cnは複数nである。
積層グループC1〜Cnの数nは任意である。積層グル
ープC1〜Cnのそれぞれは第1のセラミック層110
と、第3のセラミック層130とが互いに隣接する関係
で積層されている。
The laminated groups C1 to Cn are a plurality of n.
The number n of the stacked groups C1 to Cn is arbitrary. Each of the laminated groups C1 to Cn has a first ceramic layer 110.
And the third ceramic layer 130 are laminated so as to be adjacent to each other.

【0055】第1のセラミック層110と、第2及び第
3のセラミック層120、130とは、同一材料でなる
が、セラミック平均粒径、及び、厚みが互いに異なる。
即ち、第1のセラミック層110のセラミック平均粒径
α1、層厚T1、第2のセラミック層120のセラミッ
ク平均粒径α2、層厚T2、及び、第3のセラミック層
130のセラミック平均粒径α3、層厚T3は、 α1≦α2、α3 0.05<α1≦0.35μm、 T1<T2、T3、及び 0<T1<1.5μm を満たす。
The first ceramic layer 110 and the second and third ceramic layers 120 and 130 are made of the same material, but have different ceramic average particle diameters and thicknesses.
That is, the average ceramic grain size α1 of the first ceramic layer 110, the layer thickness T1, the average ceramic grain size α2 of the second ceramic layer 120, the layer thickness T2, and the average ceramic grain size α3 of the third ceramic layer 130. , The layer thickness T3 satisfies α1 ≦ α2, α3 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, T1 <T2, T3, and 0 <T1 <1.5 μm.

【0056】上述したように、本発明に係るセラミック
電子部品において、セラミック基体1と、複数の内部電
極21、22とを含んでおり、内部電極21、22のそ
れぞれは、セラミック基体1の内部に間隔を隔てて埋設
されているから、内部電極数に応じた積層数を持つセラ
ミック電子部品、特に、積層セラミックコンデンサを得
ることができる。
As described above, the ceramic electronic component according to the present invention includes the ceramic base 1 and the plurality of internal electrodes 21 and 22, and each of the internal electrodes 21 and 22 is provided inside the ceramic base 1. Since they are embedded at intervals, it is possible to obtain a ceramic electronic component having a number of laminated layers corresponding to the number of internal electrodes, particularly a laminated ceramic capacitor.

【0057】セラミック基体1は、第1のセラミック層
110と、第2のセラミック層120と、第3のセラミ
ック層130とを含んでいる。第1のセラミック層11
0は内部電極21の一面側に隣接する。第2のセラミッ
ク層120は第1のセラミック層110の隣接しない他
の内部電極22の一面に隣接する。図示実施例では、第
2のセラミック層120は、第1のセラミック層110
の隣接する内部電極21の他面に隣接している。第3の
セラミック層130は、第2のセラミック層120の隣
接する内部電極22の他面に隣接している。
The ceramic substrate 1 includes a first ceramic layer 110, a second ceramic layer 120, and a third ceramic layer 130. First ceramic layer 11
0 is adjacent to one surface side of the internal electrode 21. The second ceramic layer 120 is adjacent to one surface of another internal electrode 22 that is not adjacent to the first ceramic layer 110. In the illustrated embodiment, the second ceramic layer 120 is the first ceramic layer 110.
Is adjacent to the other surface of the adjacent internal electrode 21. The third ceramic layer 130 is adjacent to the other surface of the adjacent internal electrode 22 of the second ceramic layer 120.

【0058】第1及び第3のセラミック層110〜13
0、及び、内部電極21、22は、第1のセラミック層
110を最下層とし、第3のセラミック層130を最上
層とする積層グループC1〜Cnを構成する。
First and third ceramic layers 110 to 13
0 and the internal electrodes 21 and 22 form a laminated group C1 to Cn in which the first ceramic layer 110 is the lowermost layer and the third ceramic layer 130 is the uppermost layer.

【0059】したがって、積層グループC1〜Cn毎
に、第1乃至第3のセラミック層110〜130、及
び、内部電極21、22の積層数に依存した積層数を有
するセラミック電子部品、特に、積層セラミックコンデ
ンサを得ることができる。
Therefore, in each of the laminated groups C1 to Cn, a ceramic electronic component having a number of laminated layers depending on the number of laminated layers of the first to third ceramic layers 110 to 130 and the internal electrodes 21 and 22, especially a laminated ceramic. Capacitor can be obtained.

【0060】積層グループC1〜Cnは複数nであり、
それぞれは、積層される。このため、積層グループ数に
依存した積層数を有するセラミック電子部品、特に、積
層セラミックコンデンサを得ることができる。
The laminated groups C1 to Cn are a plurality of n,
Each is stacked. Therefore, it is possible to obtain a ceramic electronic component having a number of laminated layers depending on the number of laminated groups, particularly a laminated ceramic capacitor.

【0061】しかも、積層グループC1〜Cnのそれぞ
れは、第1のセラミック層110及び第3のセラミック
層130が互いに隣接する関係で積層される。この構造
により、各積層グループC1〜Cnの相互間に、緻密
で、充填密度の高い第1のセラミック層110が介在す
ることになるから、短絡不良率、及び耐電圧不良率を低
減することができる。
Moreover, in each of the laminated groups C1 to Cn, the first ceramic layer 110 and the third ceramic layer 130 are laminated in a relationship of adjoining each other. With this structure, the first ceramic layer 110 that is dense and has a high packing density is interposed between each of the stacked groups C1 to Cn, so that the short-circuit failure rate and the withstand voltage failure rate can be reduced. it can.

【0062】第1乃至第3のセラミック層110〜13
0のセラミック平均粒径α1〜α3は、 α1≦α2、α3 を満たす。この構成によれば、ピンホール及び耐電圧不
良等の構造的欠陥を、さらに効果的に回避し得る。
The first to third ceramic layers 110 to 13
Ceramic average particle diameters α1 to α3 of 0 satisfy α1 ≦ α2 and α3. According to this configuration, structural defects such as pinholes and defective withstand voltage can be more effectively avoided.

【0063】また、第1のセラミック層110のセラミ
ック平均粒径α1は、 0.05<α1≦0.35μm を満たす。この条件を満たすことにより、製造工程にお
けるシートアタックを軽減し、短絡不良率、及び耐電圧
不良率を低減することができる。
Further, the average ceramic particle size α1 of the first ceramic layer 110 satisfies 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm. By satisfying this condition, it is possible to reduce the sheet attack in the manufacturing process and reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate.

【0064】更に、第1乃至第3のセラミック層110
の層厚T1〜T3とは、 T1<T2、T3 を満たす。この条件によれば、第1のセラミック層11
0の層厚T1による厚み増大を極力回避し、例えば、積
層セラミックコンデンサにおける取得容量等の電気的特
性を確保できる。
Further, the first to third ceramic layers 110
And the layer thicknesses T1 to T3 of the above satisfy T1 <T2 and T3. According to this condition, the first ceramic layer 11
An increase in thickness due to the layer thickness T1 of 0 can be avoided as much as possible, and for example, electrical characteristics such as the acquisition capacitance of the laminated ceramic capacitor can be secured.

【0065】第1のセラミック層110の層厚T1は 0<T1<1.5μm を満たす。この範囲であれば、製造工程におけるシート
アタックによる短絡不良率、及び、耐電圧不良率を低減
することができる。短絡不良及び耐電圧不良を招くこと
がない。第1のセラミック層110の層厚T1が1.5
μm以上になると、短絡不良率は低減するものの、耐電
圧不良率が高くなることが分かった。層厚T1は、焼成
前セラミック塗料層の厚みである、焼成した場合は、収
縮するので、上述した厚み条件を必ず満たすことにな
る。
The layer thickness T1 of the first ceramic layer 110 satisfies 0 <T1 <1.5 μm. Within this range, it is possible to reduce the short-circuit defect rate and the withstand voltage defect rate due to the sheet attack in the manufacturing process. Short circuit failure and withstand voltage failure will not occur. The layer thickness T1 of the first ceramic layer 110 is 1.5
It has been found that when the thickness is more than μm, the short-circuit failure rate decreases, but the withstand voltage failure rate increases. The layer thickness T1 is the thickness of the ceramic coating layer before firing. When fired, the layer thickness T1 contracts, so that the thickness condition described above is always satisfied.

【0066】図3は図1に示した積層セラミックコンデ
ンサの別の内部構造を模式的に示す拡大断面図である。
図において、図1及び図2に現れた構成部分と同一の構
成部分については、同一の参照符号を付してある。実施
例の特徴は、第2のセラミック層120及び内部電極2
1または22の組み合わせを、複数としたことである。
図示実施例では、第2のセラミック層120及び内部電
極22、21の組み合わせは2つであるが、更に増すこ
ともできる。この図3に示した実施例の場合も、図2に
示した実施例と同様の作用効果が得られる。
FIG. 3 is an enlarged sectional view schematically showing another internal structure of the monolithic ceramic capacitor shown in FIG.
In the figure, the same components as those shown in FIGS. 1 and 2 are designated by the same reference numerals. The feature of the embodiment is that the second ceramic layer 120 and the internal electrode 2 are
That is, the combination of 1 or 22 is plural.
In the illustrated embodiment, the number of combinations of the second ceramic layer 120 and the internal electrodes 22 and 21 is two, but the number can be further increased. Also in the case of the embodiment shown in FIG. 3, the same effect as that of the embodiment shown in FIG. 2 can be obtained.

【0067】2.セラミック電子部品の製造方法 次に、図4〜図16を参照して本発明に係るセラミック
電子部品の製造方法について説明する。
2. Method for Manufacturing Ceramic Electronic Component Next, a method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0068】まず、図4〜図6に示すように、塗布装置
5を用い、支持体6の表面にセラミック塗料を塗布し
て、層厚T1(図6参照)を持つ第1のセラミック塗料
層110を形成する。
First, as shown in FIGS. 4 to 6, the coating device 5 is used to apply a ceramic coating on the surface of the support 6 to form a first ceramic coating layer having a layer thickness T1 (see FIG. 6). 110 is formed.

【0069】層厚T1は0<T1<1.5μmを満たす
ように形成する。第1のセラミック層110の層厚T1
が1.5μm以上になると、短絡不良率は低減するもの
の、耐電圧不良率が高くなる。
The layer thickness T1 is formed so as to satisfy 0 <T1 <1.5 μm. Layer thickness T1 of the first ceramic layer 110
Is 1.5 μm or more, the short-circuit failure rate is reduced, but the withstand voltage failure rate is increased.

【0070】支持体6は可撓性のある有機樹脂フィル
ム、具体的には、ポリエチレン.テレフタレート.フィ
ルム(PETフィルム)を用いる。
The support 6 is made of a flexible organic resin film, specifically polyethylene. Terephthalate. A film (PET film) is used.

【0071】支持体6は、第1のセラミック塗料層11
0の剥離を考慮し、セラミック塗料層成形面に剥離処理
を施しておくのがよい。剥離処理は、支持体6の1面上
に例えばSi等でなる剥離用膜を薄くコートすることに
よって実行することができる。このような剥離処理を施
しておくことにより支持体6の上に成形される第1のセ
ラミック塗料層110を支持体6から容易に剥離するこ
とができる。
The support 6 is made up of the first ceramic coating layer 11
Considering the peeling of 0, it is preferable to subject the ceramic coating layer molding surface to a peeling treatment. The peeling treatment can be performed by thinly coating one surface of the support 6 with a peeling film made of Si or the like. By performing such a peeling treatment, the first ceramic coating layer 110 formed on the support 6 can be easily peeled from the support 6.

【0072】セラミック塗料は、アクリル樹脂やブチラ
ール樹脂等の有機バインダ、有機溶剤、可塑剤及びセラ
ミック粉末を混合して塗料化したものを用いることがで
きる。
As the ceramic paint, a paint prepared by mixing an organic binder such as an acrylic resin or a butyral resin, an organic solvent, a plasticizer and ceramic powder can be used.

【0073】第1のセラミック塗料層110を構成する
ためのセラミック塗料に含まれるセラミック粒子の平均
粒径α1は、 0.05μm<α1≦0.35μm の範囲である。
The average particle size α1 of the ceramic particles contained in the ceramic paint for forming the first ceramic paint layer 110 is in the range of 0.05 μm <α1 ≦ 0.35 μm.

【0074】平均粒径α1が0.05μmよりも小さく
なると、セラミック塗料を作る時のセラミック塗料の分
散性が悪化し、均一なセラミック塗料層を形成すること
ができなくなる。
If the average particle size α1 is smaller than 0.05 μm, the dispersibility of the ceramic paint when making the ceramic paint is deteriorated, and it becomes impossible to form a uniform ceramic paint layer.

【0075】第1のセラミック層110を構成するセラ
ミック粒子の平均粒径α1は、更に、 α1≦0.35μm を満たす。このような範囲であれば、短絡不良及び耐電
圧不良を低減でき、セラミック平均粒径α1が0.35
μmを超えると短絡不良及び耐電圧不良が発生し易くな
ることが分かった。これは、セラミック平均粒径α1が
0.35μmとなる付近に、シートアタックによる影響
を軽減できる臨界点があることを意味する。平均粒径α
1、α2は、焼成の前後で、ほぼ一定と見ることができ
る。
The average particle size α1 of the ceramic particles forming the first ceramic layer 110 further satisfies α1 ≦ 0.35 μm. Within such a range, short circuit defects and withstand voltage defects can be reduced, and the average ceramic particle size α1 is 0.35.
It has been found that when the thickness exceeds μm, short circuit failure and withstand voltage failure easily occur. This means that there is a critical point where the influence of the sheet attack can be reduced in the vicinity of the average ceramic particle size α1 of 0.35 μm. Average particle size α
It can be seen that 1 and α2 are almost constant before and after firing.

【0076】第1のセラミック塗料層110の塗布形成
に当たっては、塗布装置5として、押し出し式塗布ヘッ
ド、ドクターブレード法またはリバースロール法等を用
いることができる。このうちでも、押し出し式塗布ヘッ
ドが特に好ましい。
In forming the first ceramic coating layer 110 by coating, an extrusion type coating head, a doctor blade method, a reverse roll method or the like can be used as the coating device 5. Of these, the extrusion coating head is particularly preferable.

【0077】図示実施例は、塗布装置5として、押し出
し式塗布ヘッドを用いた例を示している。押し出し式塗
布ヘッドでなる塗布装置5を用いると、面精度が非常に
よく、かつ、厚みバラツキの少ない均一な第1のセラミ
ック塗料層110を得ることができる。
The illustrated embodiment shows an example in which an extrusion type coating head is used as the coating device 5. When the coating device 5 including the extrusion coating head is used, it is possible to obtain a uniform first ceramic coating layer 110 with very good surface accuracy and less variation in thickness.

【0078】図示された押し出し式塗布ヘッド5は、セ
ラミック塗料排出用スリット51、上流側ノズル52、
下流側ノズル53、セラミック塗料だまり54、セラミ
ック塗料54だまりへの供給口55等を備える。このよ
うな押し出し式塗布ヘッドは公知である。図4におい
て、参照符号F1は支持体6の走行方向を示している。
The extrusion type coating head 5 shown in the figure has a slit 51 for discharging ceramic paint, an upstream nozzle 52,
A downstream nozzle 53, a ceramic paint pool 54, a supply port 55 to the ceramic paint 54 pool, and the like are provided. Such extrusion type coating head is known. In FIG. 4, reference numeral F1 indicates the traveling direction of the support 6.

【0079】積層セラミックコンデンサまたは圧電素子
などのセラミック電子部品を得る場合は、セラミック粉
体として、誘電体セラミック材料または圧電セラミック
材料の何れか一種を用いる。
When a ceramic electronic component such as a monolithic ceramic capacitor or a piezoelectric element is obtained, either one of a dielectric ceramic material or a piezoelectric ceramic material is used as the ceramic powder.

【0080】次に、第1のセラミック塗料層110を乾
燥させるための乾燥工程等、必要な工程を経た後、図
7、図8に示すように、第1のセラミック塗料層110
の表面に、内部電極21、22を印刷する。内部電極2
1、22のための内部電極ペーストは、従来より知られ
ているものを用いることができる。具体的には、有機バ
インダを有機溶剤によって溶解させたビヒクルを用い、
このビヒクル中にAg、Pd、NiまたはCu等の導電
性金属粉末を分散させ、場合によっては、粘度調整用希
釈剤を加えて調製される。ビヒクル中の有機溶剤として
は、テルピオーネやメチルエチケトン等が用いられ、バ
インダとしては、エチルセルロースもしくは二トロセル
ロース等のせるロース系樹脂、または、ブチルメタクリ
レートもしくはメチルメタクリレート等のアクリル系樹
脂が用いられる。また、希釈剤としては、芳香族炭化水
素や脂肪酸炭化水素等が使用される。
Next, after passing through necessary steps such as a drying step for drying the first ceramic coating layer 110, as shown in FIGS. 7 and 8, the first ceramic coating layer 110 is formed.
The internal electrodes 21 and 22 are printed on the surface of the. Internal electrode 2
As the internal electrode pastes for Nos. 1 and 22, those conventionally known can be used. Specifically, using a vehicle in which an organic binder is dissolved in an organic solvent,
It is prepared by dispersing a conductive metal powder such as Ag, Pd, Ni or Cu in this vehicle and adding a viscosity adjusting diluent in some cases. As the organic solvent in the vehicle, terpione, methyl etiketone, or the like is used, and as the binder, a cellulose resin such as ethyl cellulose or nitrocellulose, or an acrylic resin such as butyl methacrylate or methyl methacrylate is used. Further, as the diluent, aromatic hydrocarbon, fatty acid hydrocarbon or the like is used.

【0081】本発明の場合、上述した組成の内部電極ペ
ーストを、第1のセラミック塗料層110に塗布して内
部電極21、22を形成しても、第1のセラミック塗料
層110が内部電極ペーストに含まれているテルピオー
ネやメチルエチケトン等でなる有機溶剤によるシートア
タックを受けにくい。これは、第1のセラミック塗料層
110を構成するためのセラミック塗料に含まれるセラ
ミック粒子の平均粒径α1を、 0.05μm<α1≦0.35μm の範囲にしたために、シートアタックがブロックされる
ためと推測される。
In the case of the present invention, even if the internal electrodes 21 and 22 are formed by applying the internal electrode paste having the above-mentioned composition to the first ceramic coating layer 110, the first ceramic coating layer 110 still has the internal electrode paste. Less susceptible to sheet attack by organic solvents such as terpione and methyl etiketone contained in. This is because the average particle size α1 of the ceramic particles contained in the ceramic paint for forming the first ceramic paint layer 110 is set in the range of 0.05 μm <α1 ≦ 0.35 μm, so that the sheet attack is blocked. It is supposed to be because.

【0082】したがって、本発明によれば、第1のセラ
ミック塗料層110を支持体から剥離することが困難に
なることもないし、第1のセラミック塗料層110に穴
やしわが発生することもない。このため、短絡不良及び
耐電圧不良を回避するともに、所定の静電容量を確保し
得る。
Therefore, according to the present invention, it is not difficult to separate the first ceramic coating layer 110 from the support, and no holes or wrinkles are formed in the first ceramic coating layer 110. . Therefore, short circuit failure and withstand voltage failure can be avoided and a predetermined capacitance can be secured.

【0083】内部電極21、22は、一群のパターンと
して形成する。内部電極21、22は、例えば30cm
×30cmの領域GR1〜GR3(図6参照)内に数千
個が規則的に配列されるようなパターンで形成すること
ができる。印刷手段としては、通常のスクリーン印刷が
適用される他、グラビア印刷等も適用できる。
The internal electrodes 21, 22 are formed as a group of patterns. The internal electrodes 21, 22 are, for example, 30 cm
It can be formed in a pattern such that thousands are regularly arranged in the regions GR1 to GR3 (see FIG. 6) of x30 cm. As the printing means, not only ordinary screen printing but also gravure printing or the like can be applied.

【0084】上述したように、内部電極21、22は第
1のセラミック塗料層110の上に形成されるので、剥
離剤の表面に内部電極21、22を印刷する場合と異な
って、内部電極21、22形状が、その表面張力によっ
て崩れてしまうこともない。
As described above, since the internal electrodes 21 and 22 are formed on the first ceramic paint layer 110, unlike the case where the internal electrodes 21 and 22 are printed on the surface of the release agent, the internal electrodes 21 and 22 are different. , 22 shape does not collapse due to the surface tension.

【0085】次に、内部電極乾燥工程等を経た後、図1
0及び図11に示すように、第1のセラミック塗料層1
10の表面に、内部電極21、22を覆うように、第2
のセラミック塗料層120を形成する。第2のセラミッ
ク塗料層120も、押し出し式塗布ヘッドによる塗布装
置5を用いて形成することができる。
Next, after the internal electrode drying step and the like, FIG.
0 and FIG. 11, the first ceramic paint layer 1
The second electrode on the surface of 10 so as to cover the internal electrodes 21 and 22.
The ceramic coating layer 120 is formed. The second ceramic coating layer 120 can also be formed by using the coating device 5 with an extrusion coating head.

【0086】第2のセラミック塗料層120を構成する
セラミック塗料は、その組成は第1のセラミック塗料層
110を構成するセラミック塗料と同じでもよいし、異
なっていてもよい。
The composition of the ceramic coating material forming the second ceramic coating material layer 120 may be the same as or different from that of the ceramic coating material forming the first ceramic coating material layer 110.

【0087】第2のセラミック塗料層120を構成する
セラミック塗料に含まれるセラミック粒子の平均粒径α
2は、第1のセラミック塗料層110を構成するための
セラミック塗料に含まれるセラミック粒子の平均粒径α
1に対して、 α1≦α2 を満たすように選定する。
The average particle size α of the ceramic particles contained in the ceramic paint which constitutes the second ceramic paint layer 120.
2 is the average particle size α of the ceramic particles contained in the ceramic paint for forming the first ceramic paint layer 110.
1 is selected so as to satisfy α1 ≦ α2.

【0088】条件α1≦α2を満たすことにより、緻密
で、充填密度の高い第1のセラミック塗料層110を形
成し、ピンホール及び耐電圧不良等の構造的欠陥を、極
力、回避し得る。
By satisfying the condition α1 ≦ α2, it is possible to form the first ceramic paint layer 110 which is dense and has a high packing density, and to avoid structural defects such as pinholes and defective withstand voltage as much as possible.

【0089】既に述べたように、第1のセラミック塗料
層110の平均粒径α1は、0.05μm以下になるよ
うに選定されている。シートアタックをブロックすると
いう観点、及び、第2のセラミック塗料層120に生じ
るピンホールA1を、第1のセラミック塗料層110を
構成する平均粒径α1の小さなセラミック粒子b1によ
って埋め、耐電圧を向上させるという観点からを見れ
ば、平均粒径α1は小さい方がよいであろうが、平均粒
径α1が0.05μmよりも小さくなると、セラミック
塗料を作る時の分散性が悪化し、均一なセラミック塗料
層を形成することができなくなる。
As described above, the average particle size α1 of the first ceramic coating layer 110 is selected to be 0.05 μm or less. The viewpoint of blocking the sheet attack and the pinhole A1 generated in the second ceramic paint layer 120 is filled with the ceramic particles b1 having a small average particle size α1 that compose the first ceramic paint layer 110 to improve the withstand voltage. From the viewpoint of making it possible, it is better that the average particle size α1 is smaller, but if the average particle size α1 is smaller than 0.05 μm, the dispersibility at the time of producing the ceramic paint is deteriorated and the uniform ceramic paint is obtained. The layer cannot be formed.

【0090】第2のセラミック塗料層120は、その層
厚T2は、第1のセラミック塗料層110の層厚T1に
対して、 T1<T2 を満たすように形成する。この関係を満たすことによ
り、第1のセラミック塗料層110の層厚T1を制限
し、第1のセラミック塗料層110の層厚T1による厚
み増大を極力回避し、例えば、積層セラミックコンデン
サにおける容量層の厚み増大を極力回避し、取得容量等
の電気的特性を確保できる。
The second ceramic paint layer 120 is formed so that its layer thickness T2 satisfies T1 <T2 with respect to the layer thickness T1 of the first ceramic paint layer 110. By satisfying this relationship, the layer thickness T1 of the first ceramic coating layer 110 is limited, and the thickness increase due to the layer thickness T1 of the first ceramic coating layer 110 is avoided as much as possible. It is possible to avoid an increase in thickness as much as possible, and to secure electrical characteristics such as acquisition capacity.

【0091】次に、第2のセラミック塗料層120を乾
燥させるための乾燥工程等、必要な工程を経た後、図1
2、図13に示すように、第2のセラミック塗料層12
0の表面に、内部電極21、22を印刷する。内部電極
21、22のための内部電極ペーストは、先に例示した
ものを用いる。図13は、第1のセラミック塗料層11
0に形成された2つの内部電極21、22(図10、図
11参照)のうち、内部電極21の上で切断した拡大断
面図である。以下の図面においても、同様の表示に従う
ものとする。
Next, after performing necessary steps such as a drying step for drying the second ceramic coating layer 120, as shown in FIG.
2, as shown in FIG. 13, the second ceramic paint layer 12
The internal electrodes 21 and 22 are printed on the surface of 0. As the internal electrode paste for the internal electrodes 21 and 22, the one exemplified above is used. FIG. 13 shows the first ceramic paint layer 11
FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view taken on the internal electrode 21 of the two internal electrodes 21 and 22 (see FIGS. 10 and 11) formed in 0. The same notation is used in the following drawings.

【0092】次に、内部電極乾燥工程等を経た後、図1
4に示すように、第2のセラミック塗料層120の表面
に、内部電極21、22を覆うように、第3のセラミッ
ク塗料層130を形成する。第3のセラミック塗料層1
30を構成するセラミック塗料は、第1及び第2のセラ
ミック塗料層110、120のためのセラミック塗料と
同じであってもよいし、異なっていてもよい。
Next, after the internal electrode drying step and the like, FIG.
As shown in FIG. 4, the third ceramic paint layer 130 is formed on the surface of the second ceramic paint layer 120 so as to cover the internal electrodes 21 and 22. Third ceramic paint layer 1
The ceramic paint that constitutes 30 may be the same as or different from the ceramic paint for the first and second ceramic paint layers 110, 120.

【0093】図3に示したように、第2のセラミック層
と内部電極の組み合わせを複数とする場合は、第3のセ
ラミック塗料層130を形成する前に、第2のセラミッ
ク塗料層120及び内部電極22(または21)の組み
合わせを、複数回形成する。実際には、第2のセラミッ
ク塗料層120が、2〜3層程度となるようにするの
が、段差解消の観点から好ましい。
As shown in FIG. 3, when there are a plurality of combinations of the second ceramic layer and the internal electrodes, before forming the third ceramic coating layer 130, the second ceramic coating layer 120 and the internal electrode are formed. The combination of the electrodes 22 (or 21) is formed multiple times. In practice, it is preferable that the second ceramic coating layer 120 has about 2 to 3 layers from the viewpoint of eliminating steps.

【0094】第3のセラミック塗料層130を構成する
セラミック塗料に含まれるセラミック粒子の平均粒径α
3は、第1のセラミック塗料層110を構成するための
セラミック塗料に含まれるセラミック粒子の平均粒径α
1に対して、 α1≦α3 を満たすように選定する。平均粒径α3は、第2のセラ
ミック塗料層120に含まれるセラミック塗料の平均粒
径α2と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
The average particle diameter α of the ceramic particles contained in the ceramic coating material forming the third ceramic coating layer 130.
3 is the average particle size α of the ceramic particles contained in the ceramic paint for forming the first ceramic paint layer 110.
1 is selected so as to satisfy α1 ≦ α3. The average particle size α3 may be the same as or different from the average particle size α2 of the ceramic paint contained in the second ceramic paint layer 120.

【0095】第3のセラミック塗料層130は、その層
厚T3は、第1のセラミック塗料層110の層厚T1に
対して、 T1<T3 を満たすように形成する。層厚T3は、第2のセラミッ
ク塗料層120の層厚T2と同じであってもよいし、異
なっていてもよい。
The third ceramic coating layer 130 is formed so that its layer thickness T3 satisfies T1 <T3 with respect to the layer thickness T1 of the first ceramic coating layer 110. The layer thickness T3 may be the same as or different from the layer thickness T2 of the second ceramic paint layer 120.

【0096】第1のセラミック塗料層110に対する第
3のセラミック塗料層130の関係において、平均粒径
α1に対して平均粒径α3が満たすべき条件、及び、層
厚T1に対して層厚T3が満たすべき条件は、第2のセ
ラミック塗料層120の平均粒径平均粒径α2、層厚T
2の満たすべき条件と同様の目的から設定されたもので
ある。
In the relationship of the third ceramic coating layer 130 to the first ceramic coating layer 110, the conditions that the average grain size α3 should satisfy for the average grain size α1 and the layer thickness T3 for the layer thickness T1 are set. The conditions to be satisfied are the average particle size of the second ceramic coating layer 120, the average particle size α2, and the layer thickness T.
It is set for the same purpose as the condition 2 to be satisfied.

【0097】次に、乾燥工程等の必要な工程を経た後、
第1のセラミック塗料層110、内部電極21、第2の
セラミック塗料層120、内部電極22及び第3のセラ
ミック塗料層130の組み合わせになる積層体を一組と
して、これを、支持体6から剥離する。図15は剥離し
た後の積層体を示している。図示は省略してあるが、内
部電極21の形成面に内部電極22が併存(図7参照)
しており、内部電極22の形成面に、内部電極21が併
存(図12参照)している。
Next, after passing through necessary steps such as a drying step,
A laminated body, which is a combination of the first ceramic coating layer 110, the internal electrode 21, the second ceramic coating layer 120, the internal electrode 22, and the third ceramic coating layer 130, is set as a set and is peeled from the support 6. To do. FIG. 15 shows the laminated body after peeling. Although illustration is omitted, the internal electrode 22 is also present on the formation surface of the internal electrode 21 (see FIG. 7).
The internal electrode 21 is also present on the surface on which the internal electrode 22 is formed (see FIG. 12).

【0098】ここで、第1のセラミック塗料層110、
内部電極21、第2のセラミック塗料層120、内部電
極22及び第3のセラミック塗料層130の組み合わせ
になる積層体を一組として、これを、支持体6(図14
参照)から剥離することができるから、破綻等を生じに
くい積層体としてハンドリングし、破綻によるデラミネ
ーション、ピンホール及び耐電圧不良等の構造的欠陥
を、極力、回避し得る。
Here, the first ceramic coating layer 110,
A set of laminated bodies that are a combination of the internal electrode 21, the second ceramic coating layer 120, the internal electrode 22, and the third ceramic coating layer 130 is taken as a set, and this is used as the support 6 (FIG. 14).
Since it can be peeled off, it can be handled as a laminated body that is unlikely to cause failure and the like, and structural defects such as delamination, pinholes and withstand voltage failure due to failure can be avoided as much as possible.

【0099】また、支持体の表面に第1のセラミック塗
料層110を形成し、次に、第1のセラミック塗料層1
10の表面に、内部電極21、22を印刷するから、支
持体6から剥離した場合、第1のセラミック塗料層11
0の剥離面と、内部電極21、22の剥離面が、面一の
平坦な平面になる。
Further, the first ceramic paint layer 110 is formed on the surface of the support, and then the first ceramic paint layer 1 is formed.
Since the internal electrodes 21 and 22 are printed on the surface of 10, the first ceramic paint layer 11 when peeled from the support 6
The peeling surface of 0 and the peeling surfaces of the internal electrodes 21 and 22 are flush with each other.

【0100】次に、図12の領域GR1〜GR3毎に打
ち抜き、打ち抜かれた積層体を、図16に示すように、
第1のセラミック塗料層110、内部電極21、第2の
セラミック塗料層120、内部電極22及び第3のセラ
ミック塗料層130の組み合わせになる積層体を一組と
して、受け台7の上に必要組み数だけ順次に積層する。
各組の積層に当たっては、隣接する組の積層体におい
て、第1のセラミック塗料層110と第3のセラミック
塗料層130とが隣接する関係で、順次に積層する。
Next, as shown in FIG. 16, the punched laminated body is punched for each of the regions GR1 to GR3 in FIG.
A necessary combination on the pedestal 7 as a set of laminated bodies which are a combination of the first ceramic coating layer 110, the internal electrode 21, the second ceramic coating layer 120, the internal electrode 22 and the third ceramic coating layer 130. The number of layers is sequentially laminated.
When laminating each set, in the laminated body of the adjacent set, the first ceramic coating layer 110 and the third ceramic coating layer 130 are sequentially laminated in such a relationship that they are adjacent to each other.

【0101】上述のようにして得られた積層体を、図1
6に示すように、プレス8によって加熱圧着する。
The laminate obtained as described above is shown in FIG.
As shown in FIG. 6, a press 8 is used for thermocompression bonding.

【0102】ここで、第1のセラミック塗料層110の
剥離面と、内部電極21、22の剥離面が、面一の平坦
な平面になる。したがって、この平坦な剥離面を積層面
として用いることにより、段差によるデラミネーショ
ン、ピンホール及び耐電圧不良等の構造的欠陥を回避し
得る。
Here, the peeling surface of the first ceramic paint layer 110 and the peeling surfaces of the internal electrodes 21, 22 are flush with each other. Therefore, by using this flat release surface as a laminated surface, structural defects such as delamination due to steps, pinholes, and withstand voltage defects can be avoided.

【0103】この後、切断することにより、積層グリー
ンチップが得られる。得られた積層グリーンチップを、
所定の温度条件で脱バインダ処理した後、焼成し、更
に、端子電極を焼き付け形成する。
Then, by cutting, a laminated green chip is obtained. The obtained laminated green chip,
After the binder removal treatment is performed under a predetermined temperature condition, the binder is fired, and the terminal electrode is baked and formed.

【0104】脱バインダ及び焼成の条件は従来より周知
である。例えば、280℃で12時間脱バインダし、還
元雰囲気中で1300℃にて2時間焼成する。焼成後得
られた積層体に端子電極31、32を形成する。端子電
極31、32の材質及び形成方法も従来よりよく知られ
ている。例えば、銅を主成分とし、N2+H2中で80
0℃にて30分焼き付けし、めっきを行なう。
The conditions for binder removal and firing are well known in the art. For example, the binder is removed at 280 ° C. for 12 hours, and firing is performed at 1300 ° C. for 2 hours in a reducing atmosphere. The terminal electrodes 31 and 32 are formed on the laminated body obtained after firing. The materials and forming methods of the terminal electrodes 31, 32 are also well known in the art. For example, copper as the main component and 80 in N2 + H2
Baking is performed at 0 ° C. for 30 minutes to perform plating.

【0105】次に実験データを参照して、本発明に係る
セラミック電子部品の効果を説明する。
Next, the effects of the ceramic electronic component according to the present invention will be described with reference to experimental data.

【0106】本発明に係る製造方法にしたがい、縦×横
の寸法が3.2×2.5(mm)で、積層数が100層
の積層セラミックコンデンサを製造した。製造におい
て、第1乃至第3のセラミック塗料層110〜130の
厚みT1〜T3を変え、更に、セラミック塗料の平均粒
径α1〜α3を本発明の範囲内で変えて、異なる積層セ
ラミックコンデンサのサンプルを製造した。得られた積
層セラミックコンデンサのサンプルを実施例1〜4とす
る。
According to the manufacturing method of the present invention, a monolithic ceramic capacitor having a length × width of 3.2 × 2.5 (mm) and a number of laminated layers of 100 was manufactured. In manufacturing, different thicknesses T1 to T3 of the first to third ceramic coating layers 110 to 130 and further changing the average particle diameters α1 to α3 of the ceramic coating within the scope of the present invention to obtain different laminated ceramic capacitor samples. Was manufactured. The samples of the obtained monolithic ceramic capacitors are referred to as Examples 1 to 4.

【0107】一方、第1乃至第3のセラミック塗料層1
10〜130の厚みT1〜T3、更はに、セラミック塗
料の平均粒径α1〜α3を本発明の範囲外で変えて、異
なる積層セラミックコンデンサのサンプルを製造した。
得られた積層セラミックコンデンサのサンプルを比較例
1〜3とする。また、支持体の上にセラミック塗料層を
塗布し、その上に内部電極を形成したものを、順次に積
層した従来の一般的製造方法の適用例に係るサンプルを
比較例4とする。
On the other hand, the first to third ceramic coating layers 1
Samples of different monolithic ceramic capacitors were produced by varying the thicknesses T1 to T3 of 10 to 130 and further the average particle diameters α1 to α3 of the ceramic paint outside the scope of the present invention.
The obtained multilayer ceramic capacitor samples are referred to as Comparative Examples 1 to 3. In addition, a sample according to an application example of a conventional general manufacturing method in which a ceramic coating layer is applied on a support and internal electrodes are formed thereon is referred to as Comparative Example 4.

【0108】上述した実施例1〜4、及び、比較例1〜
4について、短絡不良率及び耐電圧不良率を測定した。
耐電圧不良率は、50Vの直流電圧を印加して行った。
実験に供されたサンプル数Nは、各実施例及び各比較例
において100個である。
Examples 1 to 4 described above and Comparative Examples 1 to 1
For 4, the short circuit failure rate and the withstand voltage failure rate were measured.
The withstand voltage defect rate was measured by applying a DC voltage of 50V.
The number N of samples used in the experiment is 100 in each of the examples and the comparative examples.

【0109】実施例1〜4及び比較例1〜4について、
得られた短絡不良率及び耐電圧不良率の測定結果を、セ
ラミック塗料層の厚みT1、T2、平均粒径α1、α2
とともに、示してある。
Regarding Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4,
The obtained measurement results of the short-circuit failure rate and the withstand voltage failure rate are shown as the thicknesses T1 and T2 of the ceramic coating layer and the average particle sizes α1 and α2.
Is also shown.

【0110】表1に示すように、支持体の上にセラミッ
ク塗料層を塗布し、その上に内部電極を形成したもの
を、順次に積層した従来品の比較例4では、短絡不良率
が40%にも達する、耐電圧不良率も17(%)の高い
値を示す。
As shown in Table 1, in the comparative example 4 of the conventional product in which the ceramic coating layer was applied on the support and the internal electrodes were formed thereon, the short circuit failure rate was 40 in the conventional product. The withstand voltage failure rate reaches as high as 17%, which is a high value of 17%.

【0111】第1のセラミック塗料層及び第2のセラミ
ック塗料層を有するが、厚みT1、T2、及び、セラミ
ック粒子の平均粒径α1、α2が本発明で特定する関
係、即ち、 α1≦α2、0.05<α1≦0.35μm、及び、 T1<T2、0<T1<1.5μm の何れかを満たしていない比較例1〜3は、短絡不良率
が13%〜47%の範囲にあり、耐電圧不良率も9〜2
1(%)の高い値を示す。
It has a first ceramic coating layer and a second ceramic coating layer, and the thicknesses T1 and T2 and the average particle diameters α1 and α2 of the ceramic particles are specified by the present invention, that is, α1 ≦ α2, In Comparative Examples 1 to 3 which do not satisfy any of 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, and T1 <T2, 0 <T1 <1.5 μm, the short circuit failure rate is in the range of 13% to 47%. , Withstand voltage failure rate is also 9-2
It shows a high value of 1 (%).

【0112】これに対して、上記関係を満たす本発明に
係る実施例1〜4は短絡不良率が1〜6(%)の範囲内
に、また、耐電圧不良率は1〜5(%)の範囲内に納ま
っており、比較例1〜4との対比において、著しい優位
性を示している。
On the other hand, in Examples 1 to 4 according to the present invention satisfying the above relationships, the short-circuit defect rate was within the range of 1 to 6 (%), and the withstand voltage defect rate was 1 to 5 (%). It falls within the range of, and shows a remarkable superiority in comparison with Comparative Examples 1 to 4.

【0113】[0113]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果を得ることができる。 (a)短絡不良及び耐電圧不良等の構造的欠陥を生じに
くいセラミック電子部品、特に、積層セラミックコンデ
ンサを提供することができる。 (b)セラミック塗料層を薄くしても、剥離の困難性や
製品の特性不良等を生じる確率を著しく小さくし得る高
精度、高信頼性のセラミック電子部品の製造方法を提供
することができる。 (c)電極に起因する積層間段差を著しく小さくし、信
頼性を向上させたセラミック電子部品の製造方法を提供
することができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) It is possible to provide a ceramic electronic component in which structural defects such as a short circuit defect and a withstand voltage defect are less likely to occur, particularly a laminated ceramic capacitor. (B) It is possible to provide a method for manufacturing a ceramic electronic component with high accuracy and high reliability, which can significantly reduce the probability of causing peeling difficulty and defective properties of products even if the ceramic coating layer is thin. (C) It is possible to provide a method for manufacturing a ceramic electronic component in which the step difference between the layers due to the electrodes is significantly reduced and the reliability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るセラミック電子部品(積層セラミ
ックコンデンサ)の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a ceramic electronic component (multilayer ceramic capacitor) according to the present invention.

【図2】図1に示したセラミック電子部品の内部構造を
模式的に示す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing an internal structure of the ceramic electronic component shown in FIG.

【図3】図1に示したセラミック電子部品の内部構造の
別の実施例を模式的に示す図である。
3 is a diagram schematically showing another embodiment of the internal structure of the ceramic electronic component shown in FIG.

【図4】本発明に係るセラミック電子部品の製造方法を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a method for manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention.

【図5】図4に示す製造工程によって得られた第1のセ
ラミック塗料層を示す図である。
5 is a diagram showing a first ceramic paint layer obtained by the manufacturing process shown in FIG. 4. FIG.

【図6】図5に示した第1のセラミック塗料層の構造を
模式的に示す断面図である。
6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the first ceramic paint layer shown in FIG.

【図7】図4に示した工程の後の工程を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIG.

【図8】図7に示した工程を経た後の第1のセラミック
塗料層及び内部電極の構造を概略的に示す断面図であ
る。
8 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a first ceramic coating layer and internal electrodes after undergoing the process shown in FIG.

【図9】図7及び図8に示した工程の後の工程を示す図
である。
9 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIGS. 7 and 8. FIG.

【図10】図9に示す製造工程によって得られた第2の
セラミック塗料層を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a second ceramic coating layer obtained by the manufacturing process shown in FIG. 9.

【図11】図10に示す製造工程によって得られた第2
のセラミック塗料層を示す図である。
FIG. 11 is a second view obtained by the manufacturing process shown in FIG.
It is a figure which shows the ceramic coating layer.

【図12】図11に示した工程の後の工程を示す図であ
る。
12 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIG.

【図13】図12に示した工程の後の工程を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIG.

【図14】図13に示した工程の後の工程を示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIG.

【図15】図14に示した工程を経て得られた積層体を
示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a laminated body obtained through the steps shown in FIG.

【図16】図15に示した工程の後の工程を示す図であ
る。
16 is a diagram showing a step that follows the step shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21、22 内部電極 110 第1のセラミック層または第1のセ
ラミック塗料層 120 第2のセラミック層または第2のセ
ラミック塗料層 130 第3のセラミック層または第3のセ
ラミック塗料層
21, 22 internal electrode 110 first ceramic layer or first ceramic coating layer 120 second ceramic layer or second ceramic coating layer 130 third ceramic layer or third ceramic coating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 泉部 泰 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 石田 一士 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 斎藤 彰 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 5E082 AB03 BC35 BC36 EE04 EE35 FF15 FG04 FG06 FG26 FG46 PP09    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Yasushi Izumibe             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. (72) Inventor Kazushi Ishida             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. (72) Inventor Akira Saito             1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo             -In DC Inc. F-term (reference) 5E082 AB03 BC35 BC36 EE04 EE35                       FF15 FG04 FG06 FG26 FG46                       PP09

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミック基体と、複数の内部電極とを
含むセラミック電子部品であって、 前記内部電極のそれぞれは、前記セラミック基体の内部
に間隔を隔てて埋設されており、 前記セラミック基体は、第1のセラミック層と、第2の
セラミック層と、第3のセラミック層とを含んでおり、 前記第1のセラミック層は、前記内部電極の一面側に隣
接しており、 前記第2のセラミック層は、前記第1のセラミック層の
隣接しない他の内部電極の一面に隣接しており、 前記第3のセラミック層は、前記第2のセラミック層の
隣接する前記他の内部電極の他面に隣接しており、 前記第1及び第3のセラミック層、及び、前記内部電極
は、前記第1のセラミック層を最下層とし、前記第3の
セラミック層を最上層とする積層グループを構成してお
り、 前記積層グループは複数であり、それぞれは前記第1の
セラミック層及び前記第3のセラミック層が互いに隣接
する関係で積層されており、 前記第1のセラミック層のセラミック平均粒径をα1と
し、その層厚をT1とし、前記第2のセラミック層のセ
ラミック平均粒径をα2とし、層厚をT2とし、前記第
3のセラミック層のセラミック平均粒径をα3とし、層
厚をT3としたとき、 α1≦α2、α3 0.05<α1≦0.35μm、 T1<T2、T3、及び、 0<T1<1.5μm を満たすセラミック電子部品。
1. A ceramic electronic component including a ceramic base and a plurality of internal electrodes, wherein each of the internal electrodes is embedded inside the ceramic base at a distance, and the ceramic base is A first ceramic layer, a second ceramic layer, and a third ceramic layer are included, the first ceramic layer is adjacent to one surface side of the internal electrode, and the second ceramic layer is provided. The layer is adjacent to one surface of another internal electrode that is not adjacent to the first ceramic layer, and the third ceramic layer is adjacent to another surface of the other internal electrode of the second ceramic layer. Adjacent to each other, the first and third ceramic layers and the internal electrode form a laminated group in which the first ceramic layer is the lowermost layer and the third ceramic layer is the uppermost layer. Oh And the first ceramic layer and the third ceramic layer are laminated so as to be adjacent to each other, and the average ceramic grain size of the first ceramic layer is α1. , The layer thickness is T1, the ceramic average particle size of the second ceramic layer is α2, the layer thickness is T2, the ceramic average particle size of the third ceramic layer is α3, and the layer thickness is T3. At this time, a ceramic electronic component satisfying α1 ≦ α2, α3 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, T1 <T2, T3, and 0 <T1 <1.5 μm.
【請求項2】 請求項1に記載されたセラミック電子部
品であって、前記第2のセラミック層及び前記他の内部
電極の組み合わせは、複数であるセラミック電子部品。
2. The ceramic electronic component according to claim 1, wherein there are a plurality of combinations of the second ceramic layer and the other internal electrodes.
【請求項3】 請求項1または2に記載されたセラミッ
ク電子部品であって、積層セラミックコンデンサである
セラミック電子部品。
3. The ceramic electronic component according to claim 1, which is a monolithic ceramic capacitor.
【請求項4】 セラミック電子部品の製造方法であっ
て、 支持体の表面に第1のセラミック塗料層を形成し、 次に、前記第1のセラミック塗料層の表面に、内部電極
を印刷し、 次に、前記第1のセラミック塗料層の表面に、前記内部
電極を覆うように、第2のセラミック塗料層を形成し、 次に、前記第2のセラミック塗料層の表面に、内部電極
を印刷し、 次に、前記第2のセラミック塗料層の表面に、その上の
前記内部電極を覆うように、第3のセラミック塗料層を
形成して、積層体を構成し、 次に、前記支持体から前記積層体を剥離し、剥離して得
られた前記積層体の複数枚を、隣接する2つの積層体に
おいて、一方の積層体に含まれる前記第1のセラミック
塗料層が、他方の積層体に含まれる前記第3のセラミッ
ク塗料層に隣接する関係で、順次に積層する工程を含
み、 前記第1のセラミック塗料層のセラミック平均粒径をα
1とし、その層厚をT1とし、前記第2のセラミック塗
料層のセラミック平均粒径をα2とし、層厚をT2と
し、前記第3のセラミック塗料層のセラミック平均粒径
をα3とし、層厚をT3としたとき、 α1≦α2、α3 0.05<α1≦0.35μm、 T1<T2、T3、及び 0<T1<1.5μm を満たすセラミック電子部品の製造方法。
4. A method of manufacturing a ceramic electronic component, comprising forming a first ceramic coating layer on the surface of a support, and then printing an internal electrode on the surface of the first ceramic coating layer, Next, a second ceramic paint layer is formed on the surface of the first ceramic paint layer so as to cover the internal electrodes, and then an internal electrode is printed on the surface of the second ceramic paint layer. Then, a third ceramic paint layer is formed on the surface of the second ceramic paint layer so as to cover the internal electrodes thereon, to form a laminated body, and then the support body is formed. In the two adjacent laminated bodies, the first ceramic coating material layer included in one laminated body is the other laminated body in which two or more laminated bodies obtained by peeling the laminated body from each other are separated. Adjacent to the third ceramic coating layer included in The step of sequentially laminating the first ceramic coating material layer with the average ceramic particle size of α
1, the layer thickness is T1, the ceramic average particle size of the second ceramic coating layer is α2, the layer thickness is T2, the ceramic average particle size of the third ceramic coating layer is α3, and the layer thickness is Is T3, α1 ≦ α2, α3 0.05 <α1 ≦ 0.35 μm, T1 <T2, T3, and 0 <T1 <1.5 μm.
【請求項5】 請求項4に記載された製造方法であっ
て、積層セラミックコンデンサを製造する製造方法。
5. The manufacturing method according to claim 4, wherein the laminated ceramic capacitor is manufactured.
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