JP2003272408A - Optical axis adjustment device and method of discharge lamp - Google Patents
Optical axis adjustment device and method of discharge lampInfo
- Publication number
- JP2003272408A JP2003272408A JP2002076984A JP2002076984A JP2003272408A JP 2003272408 A JP2003272408 A JP 2003272408A JP 2002076984 A JP2002076984 A JP 2002076984A JP 2002076984 A JP2002076984 A JP 2002076984A JP 2003272408 A JP2003272408 A JP 2003272408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge lamp
- optical axis
- axis
- illuminance
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は平行光を必要とする
各種プロジェクタ装置に用いられる超高圧水銀ランプな
どの放電ランプの光軸調整装置と光軸調整方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical axis adjusting device and an optical axis adjusting method for a discharge lamp such as an ultra-high pressure mercury lamp used in various projector devices that require parallel light.
【0002】[0002]
【従来の技術】放電ランプを組み込んだ光源装置の構造
は、特開2000−260214号公報に開示されるよ
うにリフレクタの焦点位置に放電ランプの発光点が位置
するように固定されている。2. Description of the Related Art The structure of a light source device incorporating a discharge lamp is fixed such that the light emitting point of the discharge lamp is located at the focal position of the reflector as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-260214.
【0003】リフレクタの焦点位置に放電ランプの発光
点Pを位置せしめる従来の光軸調整を図19及び図20
に基づいて説明する。尚、図19は従来の光軸調整装置
の作用を説明した図、図20は図19のC方向から見た
図である。従来にあっては、リフレクタ100に対し放
電ランプ101を相対的に位置調整可能とした状態で保
持し、この状態で放電ランプ101を点灯し、反射光を
インテグレータレンズ102を介してスクリーン103
に投影し、スクリーン103上の照度が最大になるよう
にX軸(光軸と直交する軸)、Y軸(光軸及びX軸と直
交する軸)及びZ軸(光軸と平行な軸)に沿って位置調
整している。尚、スクリーン103は、実際1m2程度
の大きなものであるが、図では、説明のため模式的に記
載している。また、同様に、インテグレータレンズ10
2を通過した光は、通常、投影レンズ等の光学系を介し
て、スクリーン103に投影されるが、省略している。FIGS. 19 and 20 show the conventional optical axis adjustment for positioning the light emitting point P of the discharge lamp at the focal point of the reflector.
It will be described based on. Incidentally, FIG. 19 is a diagram for explaining the operation of the conventional optical axis adjusting device, and FIG. 20 is a diagram viewed from the direction C in FIG. Conventionally, the discharge lamp 101 is held in a state in which the position of the discharge lamp 101 can be adjusted relative to the reflector 100, the discharge lamp 101 is turned on in this state, and the reflected light is passed through the integrator lens 102 to the screen 103.
X axis (axis orthogonal to the optical axis), Y axis (axis orthogonal to the optical axis and X axis), and Z axis (axis parallel to the optical axis) so that the illuminance on the screen 103 is maximized. The position is adjusted along. The screen 103 is actually a large one of about 1 m 2 , but is schematically shown in the figure for the sake of explanation. In addition, similarly, the integrator lens 10
The light passing through 2 is normally projected on the screen 103 via an optical system such as a projection lens, but is omitted.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の光軸調
整方法では、リフレクタの形状及びサイズに応じてイン
テグレータレンズ102を用意しなければならず、コス
トがかかるとともに汎用性に劣る。In the above-described conventional optical axis adjusting method, the integrator lens 102 must be prepared according to the shape and size of the reflector, which is costly and inferior in versatility.
【0005】さらに、従来の光軸調整方法では、1m2
程度の大きさのスクリーンに実際に光を照射する必要が
有り大きな場所を必要としていた。Further, according to the conventional optical axis adjusting method, 1 m 2
It was necessary to irradiate light on a screen of a certain size, which required a large area.
【0006】また、リフレクタ、放電ランプ及びインテ
グレータレンズの光軸がずれた状態でも、その状態でス
クリーン上の照度が最大となるポイントが存在するの
で、実際にリフレクタ及び放電ランプの光軸が一致して
いるかの確認ができない。Even when the optical axes of the reflector, the discharge lamp and the integrator lens are deviated, there is a point where the illuminance on the screen becomes maximum in that state, so that the optical axes of the reflector and the discharge lamp actually coincide with each other. I cannot confirm that
【0007】同様に、ランプの熱によってインテグレー
タレンズが変形、変質し、光の屈折率が変化する場合が
ある。この場合でもスクリーン上の照度が最大となるポ
イントが存在するので、前記同様の問題がある。Similarly, the integrator lens may be deformed or deteriorated by the heat of the lamp, and the refractive index of light may change. Even in this case, there is a point where the illuminance on the screen becomes maximum, and therefore there is the same problem as described above.
【0008】さらに、従来の光軸調整装置ではインテグ
レータレンズの熱による変形、変質が経時的に起こるの
で、リフレクタ及び放電ランプの光軸も経時的にずれて
いく。このため、従来の光軸調整装置では定期的なメン
テナンスや補正を行わなければならず、不便であった。Further, in the conventional optical axis adjusting device, since the integrator lens is deformed and deteriorated due to heat with time, the optical axes of the reflector and the discharge lamp are also displaced with time. Therefore, the conventional optical axis adjusting device is inconvenient because it requires periodic maintenance and correction.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る放電ランプの光軸調整装置は、リフレクタの
焦点位置に放電ランプの発光点を位置せしめる光軸調整
装置において、この光軸調整装置は放電ランプの反射光
と平行なZ軸、このZ軸に直交するX軸およびY軸に沿
って位置調整するランプホルダを移動自在に配置し、前
記リフレクタの前面側に、リフレクタの所定の反射点か
らの平行な反射光を通過させる複数のスリット穴を形成
したスリット板と、このスリット穴を通過した光の照度
を測定する照度計を配置したことを特徴とする放電ラン
プの光軸調整装置とした。In order to solve the above-mentioned problems, an optical axis adjusting device for a discharge lamp according to the present invention is an optical axis adjusting device for locating a light emitting point of a discharge lamp at a focal position of a reflector. The adjusting device movably arranges a lamp holder for position adjustment along a Z-axis parallel to the reflected light of the discharge lamp, and an X-axis and a Y-axis orthogonal to the Z-axis, and a predetermined reflector is provided on the front side of the reflector. The optical axis of the discharge lamp, which is characterized in that a slit plate having a plurality of slit holes for passing the parallel reflected light from the reflection points of and a illuminance meter for measuring the illuminance of the light passing through the slit holes are arranged. Adjusting device.
【0010】スリット板に形成されるスリット穴は光軸
を中心にした円上にX軸方向及びY軸方向にそれぞれ少
なくとも2ケの計4ケ設けることを特徴とする。リフレ
クタの反射点からの平行な反射光の照度の変化を各軸の
位置の情報として把握できるため、ランプの発光点位置
を光軸位置に調整可能となる。The slit plate is characterized in that at least two slit holes are provided in each of the X-axis direction and the Y-axis direction on a circle centered on the optical axis, that is, a total of four slit holes. Since the change in the illuminance of the parallel reflected light from the reflection point of the reflector can be grasped as the information of the position of each axis, the light emitting point position of the lamp can be adjusted to the optical axis position.
【0011】平行光を得るためのリフレクタの鏡面形状
は一般的に放物線であり、その式をy=P×x2で表す
と、光軸を中心にした円上に形成されるスリット板上の
スリット穴の中心からの距離を(2×P)−1とするこ
とを特徴とする。スリット板上のスリット穴の中心から
の距離が(2×P)−1であれば、Z軸の調整も可能と
なる。The mirror surface shape of the reflector for obtaining parallel light is generally a parabola, and if the formula is expressed as y = P × x2, the slit on the slit plate formed on a circle centered on the optical axis It is characterized in that the distance from the center of the hole is (2 × P) −1 . If the distance from the center of the slit hole on the slit plate is (2 × P) −1 , the Z axis can be adjusted.
【0012】また、前記スリット穴を通過する光に他の
スリット穴からの光が入射しないよう遮蔽手段を設ける
ことで、他のスリット穴から斜め方向に入ってくる可能
性のある光を遮蔽し、リフレクタから反射される平行光
のみの照度を計測できる。Further, by providing a shielding means so that the light passing through the slit holes does not enter the light from the other slit holes, the light which may enter obliquely from the other slit holes is shielded. , The illuminance of only the parallel light reflected from the reflector can be measured.
【0013】遮蔽手段としては、複数配置されるスリッ
ト板によることを特徴とする。平行光を得るために、少
なくとも2枚のスリット板を用いる場合、2枚の場合、
平行光以外の斜めの光成分もスリット穴を通過してしま
う可能性がある。この斜めの光成分をカットするため、
もう1枚のスリット板が必要となる。4枚以上のスリッ
ト板を使用しても構わないが、スリット板を増やした効
果は特に得られない。最も効果的に斜めの光成分をカッ
トするためには3枚のスリット板を等間隔に並べること
が望ましい。As the shielding means, a plurality of slit plates are arranged. When using at least two slit plates to obtain parallel light, when two slit plates are used,
Oblique light components other than parallel light may also pass through the slit holes. In order to cut this diagonal light component,
Another slit plate is required. Although it is possible to use four or more slit plates, the effect of increasing the number of slit plates cannot be obtained. In order to most effectively cut oblique light components, it is desirable to arrange three slit plates at equal intervals.
【0014】本発明に係る放電ランプの光軸調整方法
は、リフレクタに対し放電ランプを相対的に位置調整可
能とした状態で点灯し、複数のスリット穴を通過した光
の照度が最大になるように放電ランプを光軸に直交する
X軸およびY軸方向に位置調整した後、Z軸方向に放電
ランプを移動させることにより得られる2つの照度のピ
ーク間の中心もしくはピーク間の照度の極小の位置に放
電ランプが位置されるようZ軸の調整を行うことを特徴
とする。In the method of adjusting the optical axis of the discharge lamp according to the present invention, the discharge lamp is lit in a state where the position of the discharge lamp can be adjusted relative to the reflector, and the illuminance of the light passing through the plurality of slit holes is maximized. After the position of the discharge lamp is adjusted in the X-axis and Y-axis directions orthogonal to the optical axis, the discharge lamp is moved in the Z-axis direction to obtain the center of the two illuminance peaks or the minimum of the illuminance between the peaks. It is characterized in that the Z-axis is adjusted so that the discharge lamp is positioned at the position.
【0015】リフレクタに対し放電ランプを相対的に位
置調整可能とした状態で点灯し、複数のスリット穴を通
過した光を照度計にて、照度が最大になるように放電ラ
ンプを光軸に直交するX軸及びY軸方向に位置調整した
後、Z軸方向に放電ランプを移動させることにより得ら
れる2つの照度のピーク間の照度の極小の位置に放電ラ
ンプが位置されるようZ軸の調整を行うことを特徴とす
る放電ランプの光軸調整方法とする。The discharge lamp is lit in a state where the position of the discharge lamp can be adjusted relative to the reflector, and the light passing through the plurality of slit holes is measured by an illuminometer so that the discharge lamp is orthogonal to the optical axis so as to maximize the illuminance. After adjusting the X-axis and Y-axis positions, move the discharge lamp in the Z-axis direction and adjust the Z-axis so that the discharge lamp is located at the minimum illuminance position between the two illuminance peaks. The optical axis adjusting method of the discharge lamp is characterized by performing
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図1は本発明に係る
光軸調整装置の正面図、図2は同光軸調整装置の側面
図、図3はスリット板Sを示す図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 1 is a front view of the optical axis adjusting device according to the present invention, FIG. 2 is a side view of the optical axis adjusting device, and FIG. 3 is a view showing a slit plate S.
【0017】光軸調整装置は、垂直に設置されたベース
Bに保持具1〜7を係合している。ベースBは垂直に設
置されているが、これは放電ランプとリフレクタを固定
用接着剤で固定するのに便利なため垂直に設置したもの
であり、光軸を調整する上においては垂直である必要は
無く、場合によっては水平であっても良い。また保持具
1〜7は全て同一の形状でも良く、あるいは全て異なら
せてもよい。放電ランプAを点灯させると、光はリフレ
クタRにより反射される。この反射光の方向をZ軸と
し、Z軸に直交し且つベースBと放電ランプAを結ぶ方
向をY軸、Z軸及びY軸と直交する方向をX軸とする。In the optical axis adjusting device, holders 1 to 7 are engaged with a base B installed vertically. Base B is installed vertically, but it is installed vertically because it is convenient to fix the discharge lamp and reflector with a fixing adhesive, and it is necessary to be vertical to adjust the optical axis. However, it may be horizontal in some cases. Also a holder
1 to 7 may have the same shape, or may have different shapes. When the discharge lamp A is turned on, the light is reflected by the reflector R. The direction of this reflected light is the Z axis, the direction orthogonal to the Z axis and connecting the base B and the discharge lamp A is the Y axis, and the direction orthogonal to the Z axis and the Y axis is the X axis.
【0018】保持具1にはランプホルダ10を固定して
いる。このランプホルダ10はX方向移動ステージ1
1、Y方向移動ステージ12、Z方向移動ステージ1
3、X方向回転ステージ14、Y方向回転ステージ15
及びチャック16を備え、チャック16で放電ランプA
を保持し、リフレクタR内に保持される。A lamp holder 10 is fixed to the holder 1. This lamp holder 10 is an X-direction moving stage 1
1, Y-direction moving stage 12, Z-direction moving stage 1
3, X-direction rotary stage 14, Y-direction rotary stage 15
And a chuck 16, and the chuck 16 discharges the discharge lamp A.
Is held in the reflector R.
【0019】保持具2にはリフレクタRを固定してい
る。リフレクタRは焦点位置から発せられた光の反射光
が平行になるように設計されており、その反射面はy=
P×x 2で表せる放物線となっている。この場合焦点位
置すなわちリフレクタ底面から焦点までの距離は(4×
P)−1となる。A reflector R is fixed to the holder 2.
It The reflector R is the reflected light of the light emitted from the focus position.
Are designed to be parallel, and the reflection surface is y =
P × x TwoIt is a parabola that can be expressed as. Focus position in this case
The distance from the bottom of the reflector to the focal point is (4 ×
P)-1Becomes
【0020】保持具3〜5にはスリット板Sを固定して
いる。使用するスリット板は3枚であり、それぞれのス
リット板Sの間隔及びリフレクタRからスリット板Sま
での距離は任意であるが、間隔及び距離が近すぎると光
軸調整の精度が低くなり、間隔及び距離が長すぎるとリ
フレクタRと3枚のスリット板SのZ軸を合わせること
が困難になる。本実施例では、リフレクタRからスリッ
ト板Sまでの距離を70mmとし、それぞれのスリット
板Sの間隔を200mmとした。またスリット板Sに設
けられるスリット穴31の径は、大きくなると光軸調整
の精度が低くなり、小さくなるとスリット板Sを通過す
る光の量が少なくなり、誤差を生じ易くなる。本実施例
ではスリット板Sに設けられるスリット穴31の径をφ
2mmとした。A slit plate S is fixed to the holders 3-5. The number of slit plates used is three, and the distance between each slit plate S and the distance from the reflector R to the slit plate S are arbitrary, but if the distance and the distance are too short, the accuracy of the optical axis adjustment becomes low, If the distance is too long, it becomes difficult to align the Z axis of the reflector R with the three slit plates S. In this embodiment, the distance from the reflector R to the slit plate S is 70 mm, and the distance between the slit plates S is 200 mm. Further, if the diameter of the slit hole 31 provided in the slit plate S is large, the accuracy of the optical axis adjustment is low, and if it is small, the amount of light passing through the slit plate S is small and an error is likely to occur. In this embodiment, the diameter of the slit hole 31 provided in the slit plate S is φ.
It was set to 2 mm.
【0021】保持具6にはレンズLを固定している。ス
リット板SからレンズLまでの距離は任意であり、本実
施例では70mmとした。A lens L is fixed to the holder 6. The distance from the slit plate S to the lens L is arbitrary, and is 70 mm in this embodiment.
【0022】保持具7には照度計Mを固定している。保
持具7はZ軸方向に30mm程度可変になっており、レ
ンズLにより集光された光の集光点に、照度計Mを設置
している。尚、レンズは、複数のスリット穴を通過した
光を集光させて一つの照度計で計測できるので、望まし
い形態とあるが、複数のスリット穴に対向する照度計を
複数設けることで、レンズを利用しないことも可能であ
る。An illuminometer M is fixed to the holder 7. The holder 7 is variable about 30 mm in the Z-axis direction, and an illuminance meter M is installed at the condensing point of the light condensed by the lens L. It should be noted that the lens has a desirable form because it can collect light passing through the plurality of slit holes and measure it with one illuminometer. However, by providing a plurality of illuminometers facing the plurality of slit holes, the lens can be It is also possible not to use.
【0023】本発明に係る光軸調整方法は放電ランプの
電極間の照度分布を測定することにより光軸を調整す
る。まず以上の構成からなる光軸調整装置を用いること
により、電極間の照度分布を測定することが可能である
ことを図面を用い説明する。The optical axis adjusting method according to the present invention adjusts the optical axis by measuring the illuminance distribution between the electrodes of the discharge lamp. First, it will be described with reference to the drawings that the illuminance distribution between the electrodes can be measured by using the optical axis adjusting device having the above configuration.
【0024】図4は発光点の位置によりリフレクタRに
よる反射光がどのような角度を持つか示したものであ
る。発光点41がリフレクタRの焦点位置Fより底面側
に在る場合(a)は、反射光は光軸より外側に広がる。
また発光点41がリフレクタRの焦点位置Fに在る場合
(b)は、反射光は光軸に平行となる。さらに発光点4
1がリフレクタRの焦点位置Fより開口側に在る場合
(c)は、反射光は光軸の内側に集光される。FIG. 4 shows what angle the light reflected by the reflector R has depending on the position of the light emitting point. When the light emitting point 41 is located on the bottom surface side of the focal point position F of the reflector R (a), the reflected light spreads outside the optical axis.
When the light emitting point 41 is at the focal position F of the reflector R (b), the reflected light is parallel to the optical axis. Further light emission point 4
When 1 is located on the opening side of the focal position F of the reflector R (c), the reflected light is condensed inside the optical axis.
【0025】図4は理想的な点光源の場合の説明である
が、実際の放電ランプは図5に示すように一対の電極5
1の間に形成される長さを持ったアークから光が発せら
れている。電極間距離は放電ランプの種類によって様々
であり、1mm程度のものから数mmになるものもあ
る。このように理想上の点光源では無く長さを持った光
源すなわちアーク61の場合、リフレクタRによる反射
光がどのような角度を持つのかを図6に示す。図6には
光軸に平行な位置にスリット穴31を持つ2枚のスリッ
ト板Sを反射光がどのように通過するのかも合わせて示
した。FIG. 4 is an explanation of the case of an ideal point light source, but an actual discharge lamp has a pair of electrodes 5 as shown in FIG.
Light is emitted from an arc having a length formed between 1. The distance between the electrodes varies depending on the type of discharge lamp, and the distance between the electrodes is about 1 mm to several mm. FIG. 6 shows what kind of angle the light reflected by the reflector R has in the case of the light source having a length, that is, the arc 61, rather than the ideal point light source. FIG. 6 also shows how the reflected light passes through the two slit plates S having the slit holes 31 at positions parallel to the optical axis.
【0026】アーク61の両端がいずれもリフレクタR
の焦点位置Fより底面側に在る場合(a)はすべての光
は光軸より外側に広がり、2枚のスリット板Sを通過す
る光は得られない。アーク61の片側端がリフレクタR
の焦点位置Fより底面側に在り他端がリフレクタRの焦
点位置Fより開口側に在る場合(b)は光軸より外側に
広がる光と集光される光が混在し、その一部は2枚のス
リット板Sを通過する。アーク61の両端がいずれもリ
フレクタRの焦点位置Fより開口側に在る場合(c)は
すべての光は集光され、2枚のスリット板Sを通過する
光は得られない。以上のようにアーク61をリフレクタ
Rの底面側から開口側へ移動させながら、2枚のスリッ
ト板Sを通過する光の照度を測定することにより、アー
クの長さ方向の照度分布を見ることが可能である。Both ends of the arc 61 are reflectors R.
In the case (a) on the bottom side of the focal point position F, all the light spreads outside the optical axis, and the light passing through the two slit plates S cannot be obtained. One end of the arc 61 is a reflector R
In the case (b), which is on the bottom side of the focal point position F and the other end is on the opening side of the focal point position F of the reflector R, the light that spreads outside the optical axis and the condensed light are mixed, and some of them are It passes through two slit plates S. When both ends of the arc 61 are both on the opening side of the focal point position F of the reflector R (c), all the light is condensed and the light passing through the two slit plates S cannot be obtained. As described above, by measuring the illuminance of light passing through the two slit plates S while moving the arc 61 from the bottom surface side of the reflector R to the opening side, the illuminance distribution in the length direction of the arc can be seen. It is possible.
【0027】スリット板Sが2枚の場合、図7(a)に
示すように、光軸に平行でない成分の光もスリット板S
を通過してしまう場合がある。そこで図7(b)に示す
ように2枚のスリット板Sの真ん中にもう1枚スリット
板Sを設置することで光軸に平行でない成分の光をカッ
トすることが可能となる。尚、カット手段として、光軸
に平行な位置に配置した遮蔽板で構成することもでき
る。When the number of the slit plates S is two, as shown in FIG. 7 (a), the light of the component not parallel to the optical axis is also included in the slit plates S.
May pass through. Therefore, as shown in FIG. 7B, by arranging another slit plate S in the middle of the two slit plates S, it becomes possible to cut the light of the component that is not parallel to the optical axis. The cutting means may be a shield plate arranged in a position parallel to the optical axis.
【0028】図3に示すスリット板Sのスリット穴31
の位置は、光軸を中心とした円上にX軸及びY軸方向に
それぞれ2ケの計4ケ設けている。光軸を中心とした円
の半径は(2×P)−1とした。これはリフレクタRの
反射面がy=P×x2で表せる放物線の場合、焦点位置
Fに存在する発光点41から光軸に垂直に発せられた光
がリフレクタにより反射され、光軸に平行になる場合、
図8(a)に示すように焦点位置Fは(4×P)−1で
あり、光軸から反射面までの距離は(2×P) −1とな
る。スリット穴31が光軸を中心とした半径(2×P)
−1の円上にあれば、発光点41から光軸に対し垂直に
発せられた光がリフレクタにより直角に反射され、スリ
ット穴31を通過することになる。スリット穴31が光
軸を中心とした半径(2×P)−1の円からずれていれ
ば、図8(b)、(c)のように、スリット穴31を通
過する光は発光点41から光軸に対し垂直で無い角度を
持った光が、リフレクタにより直角で無い角度に反射さ
れた光である。このような場合、電極間の照度分布を正
しく測定することが困難となる。The slit hole 31 of the slit plate S shown in FIG.
The position of is in the X-axis and Y-axis directions on a circle centered on the optical axis.
There are 4 in total, 2 for each. Circle around the optical axis
Radius is (2 x P)-1And This is the reflector R
The reflective surface is y = P × xTwoIn the case of a parabola that can be expressed by
Light emitted perpendicular to the optical axis from the light emitting point 41 existing in F
Is reflected by the reflector and is parallel to the optical axis,
As shown in FIG. 8A, the focus position F is (4 × P)-1so
Yes, the distance from the optical axis to the reflecting surface is (2 x P) -1Tona
It Slit hole 31 has a radius around the optical axis (2 x P)
-1If it is on the circle of,
The emitted light is reflected at a right angle by the reflector,
It will pass through the hole 31. The slit hole 31 is light
Radius around the axis (2 x P)-1Deviate from the circle
For example, as shown in FIGS.
The passing light has an angle that is not perpendicular to the optical axis from the light emitting point 41.
The light you have is reflected by the reflector at an angle that is not a right angle.
It is the reflected light. In such a case, correct the illuminance distribution between the electrodes.
It becomes difficult to measure accurately.
【0029】上記説明のように本光軸調整装置を用い、
放電ランプの電極間の照度分布を測定することが可能で
あることを実際に放電ランプを点灯させて確認した。そ
の結果を図を用い説明する。Using the optical axis adjusting device as described above,
It was confirmed by actually lighting the discharge lamp that it was possible to measure the illuminance distribution between the electrodes of the discharge lamp. The result will be described with reference to the drawings.
【0030】本光軸調整装置を用い交流放電ランプを点
灯させると、真ん中のスリット板Sには図9に示すよう
な電極とアークの投影像が映し出される。スリット穴3
1の方向すなわちX方向及びY方向にそれぞれ電極とア
ークが放射状に見える。図9(a)はX方向、Y方向と
もに放電ランプがリフレクタの焦点位置からずれている
例である。また(b)はZ方向に放電ランプがリフレク
タの焦点位置からずれている例である。(c)は放電ラ
ンプがリフレクタの焦点位置に位置する場合の図であ
る。まず保持具1のX方向移動ステージにより、照度が
最大になるようX方向に調整する。同様に保持具1のY
方向移動ステージにより、照度が最大になるようY方向
に調整する。X方向、Y方向の操作の順序はどちらが先
でも良く、繰り返し行えばさらに良い。この操作によ
り、リフレクタに対する放電ランプのX及びY方向の位
置が決定される。When the AC discharge lamp is turned on by using this optical axis adjusting device, projected images of the electrodes and the arc as shown in FIG. 9 are projected on the slit plate S in the middle. Slit hole 3
Electrodes and arcs appear radial in one direction, the X direction and the Y direction, respectively. FIG. 9A shows an example in which the discharge lamp is displaced from the focus position of the reflector in both the X and Y directions. Further, (b) is an example in which the discharge lamp is displaced from the focal position of the reflector in the Z direction. (C) is a figure when a discharge lamp is located in a focal position of a reflector. First, the X-direction moving stage of the holder 1 adjusts the X-direction so that the illuminance becomes maximum. Similarly, Y of holder 1
The direction moving stage adjusts the illuminance in the Y direction so as to maximize the illuminance. Either the X-direction operation or the Y-direction operation may be performed first, and it is more preferable to repeat the operation. By this operation, the position of the discharge lamp in the X and Y directions with respect to the reflector is determined.
【0031】次に保持具1のZ方向移動ステージによ
り、Z方向に放電ランプを移動させる。Z方向にランプ
を移動させながら照度を測定した結果を図10に示す。Next, the discharge lamp is moved in the Z direction by the Z-direction moving stage of the holder 1. The result of measuring the illuminance while moving the lamp in the Z direction is shown in FIG.
【0032】この図より、Z方向へ放電ランプを移動さ
せると、2つのピークを持った照度分布が得られた。こ
の結果について説明する。交流放電ランプの電極間のア
ークの様子は一般的に図11に示すようになっていると
考えられている。この図よりアーク61は電極51の近
傍で最も細くなっている。このことは電極51の近傍で
光束が最も高く、単位面積当たりの照度すなわち輝度も
最も高いと言える。一方電極間の中心ではアーク61が
もっとも広がっている。このことは電極間の中心で光束
が最も低く、単位面積当たりの照度すなわち輝度も最も
低いと言える。本発明に係る光軸調整装置は図12に示
すように電極間のアーク61の微小面積部分をスリット
により通過させ照度を測定するものであるので、放電ラ
ンプをZ方向に移動させた場合、電極間中心がリフレク
タの焦点位置に来た時(A)に照度は極小となる。一方
電極間中心がリフレクタの焦点位置からずれた場合照度
は次第に高くなるが、ずれが大きい場合(B)はスリッ
ト穴に電極51が映り込むようになり照度は低下する。
このため図10に示すように2つのピークを持ちその外
側で照度は急速に低下する。From this figure, when the discharge lamp was moved in the Z direction, an illuminance distribution having two peaks was obtained. The result will be described. It is generally considered that the state of the arc between the electrodes of the AC discharge lamp is as shown in FIG. From this figure, the arc 61 is thinnest in the vicinity of the electrode 51. This means that the luminous flux is highest near the electrode 51 and the illuminance per unit area, that is, the luminance is also highest. On the other hand, the arc 61 spreads most at the center between the electrodes. This means that the luminous flux is the lowest at the center between the electrodes, and the illuminance per unit area, that is, the luminance is also the lowest. As shown in FIG. 12, the optical axis adjusting device according to the present invention measures the illuminance by passing a small area portion of the arc 61 between the electrodes through a slit. Therefore, when the discharge lamp is moved in the Z direction, When the center of the space reaches the focal point of the reflector (A), the illuminance becomes minimum. On the other hand, when the center between the electrodes deviates from the focal position of the reflector, the illuminance gradually increases, but when the deviation is large (B), the electrodes 51 are reflected in the slit holes and the illuminance decreases.
For this reason, as shown in FIG. 10, it has two peaks and the illuminance is rapidly reduced outside thereof.
【0033】交流放電ランプの場合、Z方向に移動させ
た場合、照度が極小となる位置とピーク間の中心位置は
一致している。すなわち、照度が極小となる位置もしく
はピーク間の中心の位置に交流放電ランプのZ方向の位
置を調整させることにより、電極間の中心をリフレクタ
の焦点位置に合わせることが可能となる。In the case of an AC discharge lamp, when moved in the Z direction, the position where the illuminance becomes the minimum and the center position between the peaks coincide. That is, by adjusting the position of the AC discharge lamp in the Z direction to the position where the illuminance becomes the minimum or the position between the peaks, the center between the electrodes can be aligned with the focal position of the reflector.
【0034】次に直流放電ランプの場合について説明す
る。直流放電ランプも上記交流放電ランプの場合と同様
にX方向及びY方向の調整を行い、Z方向へ放電ランプ
を移動させ照度分布を測定した。その結果を図13に示
す。Next, the case of a DC discharge lamp will be described. The DC discharge lamp was also adjusted in the X and Y directions in the same manner as the AC discharge lamp, and the discharge lamp was moved in the Z direction to measure the illuminance distribution. The result is shown in FIG.
【0035】この結果直流放電ランプの照度分布から1
つの大きなピークと1つの小さなピークが確認される。
またピーク間の中心と、照度の極小位置はずれているこ
とも判る。このことを図14を用いて説明する。As a result, from the illuminance distribution of the DC discharge lamp, 1
Two large peaks and one small peak are identified.
Also, it can be seen that the center of the peaks is deviated from the minimum position of the illuminance. This will be described with reference to FIG.
【0036】直流放電ランプの場合、一般に対をなす電
極の大きさが異なっている。小さい電極が陰極52であ
り、大きい電極が陽極53である。陰極52の近傍と、
陽極53の近傍では陰極52の近傍の方がアーク61が
細くなっているため、陰極52の近傍で照度は大きなピ
ークを持ち、陽極53の近傍で照度は小さなピークとな
る。またアーク61の形状は電極間中心からの対称形状
とならずに、アーク61の最も広がっている場所は陽極
53の側にずれる。このため照度の極小は電極間中心か
ら陽極53の側にずれることになる。従って照度が極小
となる位置に直流放電ランプをの位置を調整しても、電
極間の中心がリフレクタの焦点には合っていないことに
なる。ところで、ピークの外側はスリット穴に電極が映
り込むために照度が低下するものである。したがって、
ピーク間の中心は電極間の中心と一致するはずである。
直流放電ランプの場合、ピーク間の中心の位置にZ方向
の位置を調整させることにより、電極間の中心をリフレ
クタの焦点位置に合わせることが可能となる。In the case of a DC discharge lamp, the size of the paired electrodes is generally different. The small electrode is the cathode 52 and the large electrode is the anode 53. Near the cathode 52,
In the vicinity of the anode 53, since the arc 61 is thinner in the vicinity of the cathode 52, the illuminance has a large peak in the vicinity of the cathode 52, and the illuminance has a smaller peak in the vicinity of the anode 53. Further, the shape of the arc 61 is not symmetrical with respect to the center between the electrodes, and the place where the arc 61 spreads most is shifted to the anode 53 side. Therefore, the minimum illuminance shifts from the center between the electrodes to the anode 53 side. Therefore, even if the position of the DC discharge lamp is adjusted to a position where the illuminance becomes the minimum, the center between the electrodes does not match the focal point of the reflector. By the way, outside the peak, the illuminance is lowered because the electrode is reflected in the slit hole. Therefore,
The center between the peaks should coincide with the center between the electrodes.
In the case of a DC discharge lamp, the center between the electrodes can be adjusted to the focal position of the reflector by adjusting the position in the Z direction to the position between the peaks.
【0037】本光軸調整装置は放電ランプの光軸を調整
する目的以外に、アーク間の照度分布を測定する目的に
も使用できる。アークの長さ方向(Z方向)の照度分布
については前述したとおりである。一方アークの幅方向
(X方向及びY方向)についても同様に可能である。こ
の場合のスリット板Sの形状は図15に示すように、光
軸を中心とした半径(2×P)−1の円上にX方向ある
いはY方向に2ケのスリット穴31を設けている。X方
向の照度分布を見る時はY方向に2ケのスリット穴31
を設け、Y方向の照度分布を見る時はX方向に2ケのス
リット穴31を設けている。照度分布を見る方法はX方
向、Y方向同様であるので、ここではX方向の照度分布
を見る方法について説明する。The present optical axis adjusting device can be used not only for adjusting the optical axis of the discharge lamp but also for measuring the illuminance distribution between arcs. The illuminance distribution in the arc length direction (Z direction) is as described above. On the other hand, the same can be applied to the width direction of the arc (X direction and Y direction). The shape of the slit plate S in this case is, as shown in FIG. 15, provided with two slit holes 31 in the X direction or the Y direction on a circle having a radius (2 × P) −1 centered on the optical axis. . When viewing the illuminance distribution in the X direction, there are two slit holes 31 in the Y direction.
And two slit holes 31 are provided in the X direction when viewing the illuminance distribution in the Y direction. Since the method of viewing the illuminance distribution is the same as the X and Y directions, a method of viewing the illuminance distribution in the X direction will be described here.
【0038】光軸調整の場合と同様に、放電ランプを点
灯させ、Z方向にランプを移動させ、照度分布を見たい
Z位置に放電ランプ位置を調整する。このままX方向に
ランプを移動させるとX方向の照度分布が確認できる。As in the case of adjusting the optical axis, the discharge lamp is turned on, the lamp is moved in the Z direction, and the position of the discharge lamp is adjusted to the Z position where the illuminance distribution is desired to be viewed. If the lamp is moved in the X direction as it is, the illuminance distribution in the X direction can be confirmed.
【0039】実際に交流放電ランプを用い測定した結果
を図によって説明する。図16に測定したZ位置を示
す。Z1はランプをZ方向に移動させた時の照度のピー
ク間の中心である。またZ3は照度のピーク位置であ
る。Z1〜Z4までのX方向の照度分布を図17に示
す。同時にピーク高さすなわち最高照度および半値幅も
示す。この結果、照度のピーク間の中心から照度のピー
クに向けて、最高照度が高くなり、半値幅が小さくなっ
ていくことが判る。またこの間においてピークの面積
(半値幅×最高照度)は略一定になっている。すなわち
照度のピーク間においては、アークのどのZ位置におい
ても光束量は一定と考えられる。そしてアーク幅が小さ
くなるに従って、光束密度が高くなり輝度も高くなると
考えられる。Z4は照度のピーク位置(Z3)よりも電
極先端に近い位置である。ここではアーク幅はZ3より
小さくなっているが、照度もZ3より小さくなってい
る。このことから、Z4ではZ3より輝度は高くなって
いるものの、電極先端がスリットに映り込むために、本
装置で測定される照度が低下するものと考えられる。Results of actual measurement using an AC discharge lamp will be described with reference to the drawings. FIG. 16 shows the measured Z position. Z1 is the center between peaks of the illuminance when the lamp is moved in the Z direction. Z3 is the peak position of illuminance. FIG. 17 shows the illuminance distribution in the X direction from Z1 to Z4. At the same time, the peak height, that is, the maximum illuminance and the half width are also shown. As a result, it can be seen that the maximum illuminance increases and the half-value width decreases from the center between the illuminance peaks toward the illuminance peak. Further, during this period, the area of the peak (half-value width × maximum illuminance) is substantially constant. That is, between the peaks of the illuminance, the luminous flux amount is considered to be constant at any Z position of the arc. It is considered that as the arc width becomes smaller, the luminous flux density becomes higher and the brightness also becomes higher. Z4 is a position closer to the electrode tip than the illuminance peak position (Z3). Here, the arc width is smaller than Z3, but the illuminance is also smaller than Z3. From this, it is considered that although the brightness of Z4 is higher than that of Z3, the illuminance measured by this device is lowered because the tip of the electrode is reflected in the slit.
【0040】以上のことから、本光軸調整装置を用い
て、X方向やY方向の照度分布も見ることができる。そ
して図17の結果は、図10〜図12で説明した電極間
のアークの様子を裏付けていると言える。From the above, the illuminance distribution in the X direction and the Y direction can be viewed by using the present optical axis adjusting device. It can be said that the result of FIG. 17 supports the state of the arc between the electrodes described in FIGS.
【0041】X方向やY方向の照度分布を見るために、
図15に示すような、光軸を中心とした半径(2×P)
−1の円上にX方向あるいはY方向に2ケのスリット穴
31を設けたスリット板Sを用いた。本光軸調整装置に
おいて光軸調整をする場合、X方向及びY方向の調整を
行う際、図15のスリット板Sを用いても行える。しか
し、1種類のスリット板を用いX方向、Y方向及びZ方
向の調整を行うためには、図3に示すような光軸を中心
とした半径(2×P)−1の円上にX方向及びY方向に
それぞれ2ケの計4ケのスリット穴31を設けたスリッ
ト板Sが必要になる。To see the illuminance distribution in the X and Y directions,
Radius around optical axis (2 x P) as shown in Fig. 15
A slit plate S having two slit holes 31 in the X direction or the Y direction on the -1 circle was used. When adjusting the optical axis in the present optical axis adjusting device, the slit plate S of FIG. 15 can be used when adjusting the X direction and the Y direction. However, in order to adjust the X-direction, the Y-direction and the Z-direction using one kind of slit plate, the X-axis is formed on a circle having a radius (2 × P) −1 centered on the optical axis as shown in FIG. A slit plate S having two slit holes 31 in each of the Y direction and the Y direction is required.
【0042】1種類のスリット板のみを用いて、X方
向、Y方向及びZ方向の調整をすべて行うためには、ス
リット板の光軸を中心にしたX方向及びY方向に対称な
位置にスリット穴を設けることが望ましい。すなわち最
低でも4ケ必要となる。X方向及びY方向に対称な位置
を考えると、スリット穴は8ケ、12ケ、16ケなど4
の倍数にすることが考えられるが、スリット穴を多くす
ればするほど、X方向及びY方向の調整を行う際、照度
の変化量が小さくなり調整を行うのが困難になる。In order to carry out all the adjustments in the X, Y and Z directions using only one type of slit plate, slits are placed at symmetrical positions in the X and Y directions about the optical axis of the slit plate. It is desirable to provide a hole. That is, at least four are required. Considering symmetrical positions in the X and Y directions, there are 8 slit holes, 12 slit holes, 16 slit holes, etc.
However, the more slit holes are provided, the smaller the amount of change in illuminance becomes when performing adjustment in the X and Y directions, and the more difficult it is to make the adjustment.
【0043】本光軸調整装置及び光軸調整方法により光
軸調整されたランプと、従来技術により光軸調整された
ランプとの比較を行う。そこで同一ランプを用い、従来
技術により光軸調整されたランプのスクリーン照度を1
00とした場合、本光軸調整装置及び光軸調整方法によ
り光軸調整されたランプのスクリーン照度がどのように
なったか図18に示す。この結果、本光軸調整装置及び
光軸調整方法により光軸調整されたランプは、従来技術
により光軸調整されたランプと、同等かやや上回るスク
リーン照度となった。このことから、本光軸調整装置及
び光軸調整方法により放電ランプとリフレクタの光軸を
合わせることが可能であることが確認された。更に、ス
クリーン照度のバラツキは、本光軸調整装置及び光軸調
整方法のものの方が少なく品質の安定したものを提供で
きた。A lamp whose optical axis is adjusted by the optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method of the present invention is compared with a lamp whose optical axis is adjusted by the conventional technique. Therefore, the same lamp is used, and the screen illuminance of the lamp whose optical axis is adjusted by the conventional technique is set to 1
When 00 is set, FIG. 18 shows how the screen illuminance of the lamp whose optical axis is adjusted by the optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method is. As a result, the lamp whose optical axis was adjusted by the optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method had a screen illuminance equal to or slightly higher than that of the lamp whose optical axis was adjusted by the conventional technique. From this, it was confirmed that it is possible to align the optical axes of the discharge lamp and the reflector by the optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method. Further, the variation in screen illuminance was smaller than that of the optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method of the present invention, and a stable quality could be provided.
【0044】[0044]
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
リフレクタと放電ランプとの光軸調整を行うにあたり、
インテグレータレンズアレイを用いる必要がないので、
汎用性に優れ、コスト的に有利である。As described above, according to the present invention,
When adjusting the optical axis of the reflector and the discharge lamp,
Since it is not necessary to use an integrator lens array,
It is highly versatile and cost effective.
【0045】さらに、従来の光軸調整方法では、1m2
程度の大きさのスクリーンに実際に光を照射する必要が
有り大きな場所を必要としていたが、本発明によりスク
リーンや大きな場所を必要とせず非常に便利である。Further, according to the conventional optical axis adjusting method, 1 m 2
Although it is necessary to actually irradiate light on a screen of a size of about a large amount of space, the present invention is very convenient because no screen or large space is required.
【0046】また、従来にあっては、リフレクタと放電
ランプとの光軸がずれた状態でも、スクリーンの照度が
最大となる個所があったので、光軸がずれたまま放電ラ
ンプをリフレクタに固定してしまうおそれがあったが、
本発明によれば正確且つ簡単に光軸を一致させることが
できる。Further, in the prior art, even if the optical axes of the reflector and the discharge lamp were deviated, there was a portion where the illuminance of the screen was maximum. Therefore, the discharge lamp was fixed to the reflector with the optical axis deviated. There was a risk that
According to the present invention, the optical axes can be matched accurately and easily.
【0047】同様に、従来技術ではランプの熱によって
インテグレータレンズが変形、変質し、光の屈折率が変
化する場合があり、前記同様の問題があったが、本発明
により熱による影響を無くし正確に放電ランプとリフレ
クタの光軸を一致させることができる。Similarly, in the prior art, the integrator lens may be deformed or deteriorated by the heat of the lamp and the refractive index of the light may be changed, and there is the same problem as described above. The optical axes of the discharge lamp and the reflector can be aligned with each other.
【0048】さらに、従来の光軸調整装置ではインテグ
レータレンズの熱による変形、変質が経時的に起こるの
で、リフレクタ及び放電ランプの光軸も経時的にずれて
いくことになり、装置の定期的なメンテナンスや補正が
必要であったが、本発明によりこのような定期的なメン
テナンスを必要とせずに放電ランプリフレクタの光軸を
一致させることができる。Further, in the conventional optical axis adjusting device, since the integrator lens is deformed and deteriorated due to heat with time, the optical axes of the reflector and the discharge lamp are also displaced with time, and the device is regularly used. Although maintenance and correction were required, the present invention allows the optical axes of the discharge lamp reflectors to be aligned without the need for such regular maintenance.
【図1】本発明に係る光軸調整装置の正面図FIG. 1 is a front view of an optical axis adjusting device according to the present invention.
【図2】本発明に係る光軸調整装置の側面図FIG. 2 is a side view of an optical axis adjusting device according to the present invention.
【図3】スリット板を示す図FIG. 3 is a diagram showing a slit plate.
【図4】(a)、(b)及び(c)は発光点の位置によ
りリフレクタによる反射光がどのような角度を持つか示
した模式図4 (a), (b) and (c) are schematic diagrams showing what kind of angle the light reflected by the reflector has according to the position of the light emitting point.
【図5】電極間距離を示す図FIG. 5 is a diagram showing a distance between electrodes.
【図6】(a)、(b)及び(c)は長さを持った光源
の場合、リフレクタによる反射光がどのような角度を持
つのかを示す模式図6 (a), (b) and (c) are schematic diagrams showing what kind of angle the light reflected by the reflector has in the case of a light source having a length.
【図7】(a)及び(b)はスリット板が2枚の場合と
3枚の場合のスリット通過光の違いを示す模式図7 (a) and 7 (b) are schematic diagrams showing a difference in light passing through a slit when two slit plates are used and when three slit plates are used.
【図8】(a)、(b)及び(c)はスリット穴の位置
が違った場合、スリット通過光の反射角度がどのように
なるか示す模式図8A, 8B, and 8C are schematic diagrams showing how the reflection angle of the light passing through the slit becomes when the positions of the slit holes are different.
【図9】(a)、(b)及び(c)はX−Y方向及びZ
方向に光軸にずれが有る場合とずれが無い場合のスリッ
ト板への投映像を示す図9 (a), (b) and (c) are XY directions and Z.
Diagram showing projected images on the slit plate with and without deviation of the optical axis in the direction
【図10】交流放電ランプをZ方向へ移動させた場合の
照度変化を示す図FIG. 10 is a diagram showing changes in illuminance when the AC discharge lamp is moved in the Z direction.
【図11】交流放電ランプの電極間のアークの様子を示
す模式図FIG. 11 is a schematic diagram showing a state of an arc between electrodes of an AC discharge lamp.
【図12】本光軸調整装置により照度を測定される電極
間のアークの微小面積部分を示す模式図FIG. 12 is a schematic diagram showing a minute area portion of an arc between electrodes whose illuminance is measured by the optical axis adjusting device.
【図13】直流放電ランプをZ方向へ移動させた場合の
照度変化を示す図FIG. 13 is a diagram showing a change in illuminance when a DC discharge lamp is moved in the Z direction.
【図14】直流放電ランプの電極間のアークの様子を示
す模式図FIG. 14 is a schematic diagram showing a state of an arc between electrodes of a DC discharge lamp.
【図15】X方向及びY方向の照度分布を測定する際に
用いたスリット板を示す図FIG. 15 is a diagram showing a slit plate used when measuring the illuminance distribution in the X and Y directions.
【図16】X方向の照度分布を測定する際のZ方向の位
置を示す模式図FIG. 16 is a schematic diagram showing positions in the Z direction when measuring an illuminance distribution in the X direction.
【図17】(a)、(b)、(c)及び(d)はZ方向
の位置が図16に示すZ1、Z2、Z3及びZ4の場合
のX方向の照度分布、最高照度及び半値幅を示す図17 (a), (b), (c), and (d) are X-direction illuminance distributions, maximum illuminances, and half widths when the Z-direction position is Z1, Z2, Z3, and Z4 shown in FIG. Showing
【図18】従来技術により光軸調整されたランプと、本
光軸調整装置及び光軸調整方法により光軸調整されたラ
ンプのスクリーン照度を比較した結果を示す図FIG. 18 is a diagram showing a result of comparing screen illuminances of a lamp whose optical axis is adjusted by a conventional technique, and a lamp whose optical axis is adjusted by the present optical axis adjusting device and the optical axis adjusting method.
【図19】従来の光軸調整装置の作用を説明した図FIG. 19 is a diagram illustrating the operation of a conventional optical axis adjusting device.
【図20】図19のC方向から見た図20 is a view seen from the direction C in FIG.
1〜7…保持具、10…ランプホルダ、11…X方向移
動ステージ、12…Y方向移動ステージ、13…Z方向
移動ステージ、14…X方向回転ステージ、15…Y方
向回転ステージ、16…チャック、31…スリット穴、
41…発光点、51…電極、52…陰極、53…陽極、
61…アーク、91…投映像、A…放電ランプ、B…ベ
ース、F…焦点位置、M…照度計、R…リフレクタ、S
…スリット板1 to 7 ... Holder, 10 ... Lamp holder, 11 ... X direction moving stage, 12 ... Y direction moving stage, 13 ... Z direction moving stage, 14 ... X direction rotating stage, 15 ... Y direction rotating stage, 16 ... Chuck , 31 ... slit holes,
41 ... Light emitting point, 51 ... Electrode, 52 ... Cathode, 53 ... Anode,
61 ... Arc, 91 ... Projection image, A ... Discharge lamp, B ... Base, F ... Focus position, M ... Illuminance meter, R ... Reflector, S
... slit plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅本 歩 福岡県北九州市小倉北区中島2丁目1番1 号 東陶機器株式会社内 Fターム(参考) 2K103 BA01 BA09 CA24 CA40 3K013 AA02 BA01 CA12 FA03 3K042 AA01 AC06 BB03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Ayumu Umemoto 2-1-1 Nakajima, Kokurakita-ku, Kitakyushu City, Fukuoka Prefecture No. Totoki Equipment Co., Ltd. F-term (reference) 2K103 BA01 BA09 CA24 CA40 3K013 AA02 BA01 CA12 FA03 3K042 AA01 AC06 BB03
Claims (7)
発光点を位置せしめる光軸調整装置において、この光軸
調整装置は放電ランプの反射光と平行なZ軸、このZ軸
に直交するX軸およびY軸に沿って位置調整するランプ
ホルダを移動自在に配置し、前記リフレクタの前面側
に、リフレクタの所定の反射点からの平行な反射光を通
過させる複数のスリット穴を形成したスリット板と、こ
のスリット穴を通過した光の照度を測定する照度計を配
置したことを特徴とする放電ランプの光軸調整装置。1. An optical axis adjusting device for positioning a light emitting point of a discharge lamp at a focal position of a reflector, wherein the optical axis adjusting device is a Z axis parallel to the reflected light of the discharge lamp, an X axis orthogonal to the Z axis, and A slit plate in which a lamp holder for position adjustment along the Y-axis is movably arranged, and a plurality of slit holes for allowing parallel reflected light from a predetermined reflection point of the reflector to pass through is formed on the front surface side of the reflector, An optical axis adjusting device for a discharge lamp, comprising an illuminometer for measuring the illuminance of light passing through this slit hole.
整装置において、スリット板に形成されるスリット穴
は、光軸を中心にした円上にX軸方向及びY軸方向にそ
れぞれ少なくとも2ケの計4ケ設けることを特徴とする
放電ランプの光軸調整装置。2. The optical axis adjusting device for a discharge lamp according to claim 1, wherein the slit holes formed in the slit plate are at least two in a circle centered on the optical axis in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively. An optical axis adjusting device for a discharge lamp, which is provided with a total of four pieces.
光軸調整装置において、前記リフレクタの鏡面形状をy
=P×x2で表すと光軸を中心とする円上に形成される
スリット板上のスリット穴の中心からの距離は、(2×
P)−1とすることを特徴とする放電ランプの光軸調整
装置。3. The optical axis adjusting device for a discharge lamp according to claim 1, wherein the mirror surface shape of the reflector is y.
= P × x 2 , the distance from the center of the slit hole on the slit plate formed on the circle centered on the optical axis is (2 ×
P) -1 . An optical axis adjusting device for a discharge lamp.
整装置において、前記スリット穴を通過する光に他のス
リット穴からの光が入射しないよう遮蔽手段を設けたこ
とを特徴とする放電ランプの光軸調整装置。4. The discharge lamp optical axis adjusting device according to claim 1, wherein a shielding means is provided so that light passing through the slit holes does not enter light from other slit holes. Lamp optical axis adjustment device.
整装置において、前記遮蔽手段は、複数配置されるスリ
ット板によることを特徴とする放電ランプの光軸調整装
置。5. The optical axis adjusting device for a discharge lamp according to claim 4, wherein the shielding means is a plurality of slit plates arranged.
に位置調整可能とした状態で点灯し、複数のスリット穴
を通過した光を照度計にて、照度が最大になるように放
電ランプを光軸に直交するX軸及びY軸方向に位置調整
した後、Z軸方向に放電ランプを移動させることにより
得られる2つの照度のピーク間の中心に放電ランプが位
置されるようZ軸の調整を行うことを特徴とする放電ラ
ンプの光軸調整方法。6. The discharge lamp is lit in a state in which the position of the discharge lamp can be adjusted relative to the reflector, and the light passing through the plurality of slit holes is measured by an illuminometer so that the illuminance of the discharge lamp is maximized. After adjusting the position in the X-axis and Y-axis directions orthogonal to the direction, the Z-axis is adjusted so that the discharge lamp is positioned at the center between the two illuminance peaks obtained by moving the discharge lamp in the Z-axis direction. A method for adjusting an optical axis of a discharge lamp, comprising:
に位置調整可能とした状態で点灯し、複数のスリット穴
を通過した光を照度計にて、照度が最大になるように放
電ランプを光軸に直交するX軸及びY軸方向に位置調整
した後、Z軸方向に放電ランプを移動させることにより
得られる2つの照度のピーク間の照度の極小の位置に放
電ランプが位置されるようZ軸の調整を行うことを特徴
とする放電ランプの光軸調整方法。7. The discharge lamp is lit in a state where the position of the discharge lamp can be adjusted relative to the reflector, and the light passing through the plurality of slit holes is measured by an illuminometer so that the illuminance is maximized. After adjusting the position in the X-axis and Y-axis directions orthogonal to the Z-axis, the Z-axis is positioned so that the discharge lamp is positioned at the minimum position of the illuminance between the two illuminance peaks obtained by moving the discharge lamp in the Z-axis direction. A method for adjusting the optical axis of a discharge lamp, characterized in that
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002076984A JP2003272408A (en) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | Optical axis adjustment device and method of discharge lamp |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002076984A JP2003272408A (en) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | Optical axis adjustment device and method of discharge lamp |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003272408A true JP2003272408A (en) | 2003-09-26 |
Family
ID=29205545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002076984A Pending JP2003272408A (en) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | Optical axis adjustment device and method of discharge lamp |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003272408A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012127966A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 岩崎電気株式会社 | Lamp position adjusting method, lamp position adjusting tool, and illuminating device |
CN107315022A (en) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 中国地质大学(武汉) | A kind of X-ray collimation location adjusting device and system |
-
2002
- 2002-03-19 JP JP2002076984A patent/JP2003272408A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012127966A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 岩崎電気株式会社 | Lamp position adjusting method, lamp position adjusting tool, and illuminating device |
JP2012199488A (en) * | 2011-03-23 | 2012-10-18 | Iwasaki Electric Co Ltd | Lamp position adjusting method, lamp position adjusting tool, and radiation device |
CN107315022A (en) * | 2017-07-21 | 2017-11-03 | 中国地质大学(武汉) | A kind of X-ray collimation location adjusting device and system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20010048514A1 (en) | Projection exposure apparatus and method | |
CN106444257B (en) | Method of adjustment and device, the system of light valve light spot received | |
TW201535065A (en) | Lithographic system | |
US6776510B1 (en) | Light source device, adjusting device therefore and production method therefore, and illuminating device and projection type display device provided with light source device | |
CN110431487B (en) | Illumination apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method | |
JP2003272408A (en) | Optical axis adjustment device and method of discharge lamp | |
JP3928556B2 (en) | Reflector focal position detection apparatus, reflector focal position detection method, light source apparatus manufacturing method, and light source apparatus manufacturing apparatus | |
JPH05283766A (en) | Laser oscillation tube device and mounting method thereof | |
JP2005149996A (en) | Linear lighting device | |
KR20180096720A (en) | Light source device | |
KR20050086755A (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
KR100931714B1 (en) | Laser beam ultraviolet irradiation peripheral exposure apparatus and method | |
US20050094131A1 (en) | Light source apparatus | |
CN101576436B (en) | Optical character testing device for mercury lamp case and testing method thereof | |
KR100931712B1 (en) | Laser beam exposure apparatus and method | |
US6860776B2 (en) | Method for producing high pressure discharge lamp unit and apparatus for producing the same | |
JP2005127970A (en) | Optical system for measuring light of wide dispersion light source, instrument for measuring light of wide dispersion light source, and light measuring method therefor | |
JP3376219B2 (en) | Surface position detecting device and method | |
KR100931713B1 (en) | Ambient Exposure Device and Method | |
TW202032282A (en) | Method for replacing a mirror in a projection exposure apparatus, and position-and orientation data measuring device for carrying out the method | |
JP2006003403A (en) | Position adjusting device and method | |
KR100736485B1 (en) | The apparatus and method for adjusting lamp's situation of the projecting display system | |
JPH1030988A (en) | Automatic focus correcting method and apparatus therefor | |
JP2002365723A (en) | Optical axis regulator and optical axis regulation method for discharge lamp | |
TW200303970A (en) | Light source unit, lighting device, exposure device and exposure method |