JP2003270091A - 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置 - Google Patents

光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置

Info

Publication number
JP2003270091A
JP2003270091A JP2002075903A JP2002075903A JP2003270091A JP 2003270091 A JP2003270091 A JP 2003270091A JP 2002075903 A JP2002075903 A JP 2002075903A JP 2002075903 A JP2002075903 A JP 2002075903A JP 2003270091 A JP2003270091 A JP 2003270091A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
lens
inspected
wavefront aberration
measured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002075903A
Other languages
English (en)
Inventor
Minokichi Ban
箕吉 伴
Hideo Yokota
秀夫 横田
Makoto Taniguchi
谷口  誠
Toru Matsuda
融 松田
Masaharu Suzuki
正治 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2002075903A priority Critical patent/JP2003270091A/ja
Publication of JP2003270091A publication Critical patent/JP2003270091A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シャックハルトマン法による波面収差測定に
おいて、放送用ズームレンズのように多くの倍率および
被写体距離などの多様な条件で使用される被検光学系の
光学性能を、簡便に測定できる方法及び装置を提供する
こと。 【解決手段】 点光源からの光束を照射光学系により被
検光学系に照射した後、折り返しミラーでもと来た光路
を逆行させ、該被検光学系から該照射光学系中のマッチ
ングレンズを戻って広がった光束をマイクロレンズアレ
イに導き、該マイクロレンズの焦点面に配置した撮像素
子により検出する光束位置より該被検光学系の波面収差
を算出するシャックハルトマン法による光学系の波面収
差測定方法及び装置において、該マッチングレンズの前
記被検光学系に対する光束の拡がり該被検光学系の有効
光束の状態に合わせて可変であることを特徴とする波面
収差測定方法及び装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光学系の波面収差測
定方法及び波面収差測定装置に関するもので、特にシャ
ックハルトマン法を用いて高精度、かつ簡便に多様な光
学系の波面収差を測定することができ、更にこれらの方
法及び装置により検査、製造あるいは性能保証される光
学系に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】光学系の収差測定には古くから様々な方
法が知られているが、光線収差を直接測定するハルトマ
ン法は最もよく知られた方法の一つである。ハルトマン
法で測定精度を向上させるために被検光学系(検査され
る光学系)の波面の分割数を上げようとすると、細い光
線を使用する必要があり、微弱な光の検出を行うことが
必須となる。レーザーを用いた干渉計の普及により、一
時期ハルトマン法は使用されることが少なくなってい
た。しかしながら近年、複数の微小なレンズアレーと高
感度な撮像素子を用いて、この方法は新たにシャックハ
ルトマン法として利用されてきている。シャックハルト
マン法には波長に特別な制限がないこと、大掛かりな干
渉計を組まずに簡単な系で測定できること等の特長があ
る。
【0003】日本の国立天文台がハワイ島に作ったすば
る望遠鏡にはシャックハルトマン法が採用されている。
図2(文献:「超精密生産技術体系 第3巻 計測・制
御技術」864ページ、小林昭 監修、(株)フジ・テク
ノシステムより1995年7月15日発行)はすばる望遠鏡の
測定光学系を示したもので、カセグレン型の天体望遠鏡
の焦点に置かれたシャックハルトマン式の鏡面検査装置
を示している。
【0004】すばる望遠鏡では天体の星の追尾を、望遠
鏡の方向を姿勢制御しながら行う。したがって口径8m
の大型主鏡の姿勢が変化していくことになるが、追尾に
よる姿勢変化は主鏡の表面すなわち鏡面の変形を引き起
こす。図2のシャックハルトマン式の鏡面検査装置は該
鏡面の変形を測定するもので、該測定結果に基づいて正
しい面になるように、主鏡の裏に設けた能動支持機構で
面補正が行われる。
【0005】図2の系では参照光源21に近接しておか
れたピンホール22の像を、レンズ23を用いて基準と
なる天体望遠鏡の焦点位置に投影し、点光源像を形成す
る。参照として該点光源像をコリメータ24、マイクロ
レンズ25とCCD26とで予め測定しておく。然る後
に天体望遠鏡の波面を測定し、予め測定しておいた点光
源像の値を差し引けば、天体望遠鏡の波面収差が決定で
きる。決定された収差を分析して補正可能な鏡面変形量
に換算し、前記能動支持機構で補正が行われる。
【0006】しかしながら図2に示した方法、装置は、
測定対象が口径8mの大型主鏡のみであるため、コリメ
ータは決まった焦点距離となっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】シャックハルトマン法
は簡便で、高精度な測定ができるにもかかわらず、従来
はすばる望遠鏡のような特殊な用途でしか用いられてこ
なかった。現状では、コリメータレンズが固定である等
の限定された構成しか知られていない。ズームレンズの
ように多くの倍率および物体距離などの多様な条件で使
用される被検光学系の光学性能は高価な干渉計を用意
し、各条件に対する干渉計用の光学素子を個別に用意す
るなどして対応しており、汎用性に富む検査装置とはな
っていなかった。本発明はシャックハルトマン法の特徴
を生かしつつ、該方法の適用範囲を伸ばし、多様な条件
で使用される光学系を簡便な波面収差測定方法及び波面
収差測定装置の提供を目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、請求項1の発明は光学系の波面収差測定装置では光
源と、該光源からの光束を照射光学系により被検光学系
に照射した後、折り返しミラーでもと来た光路を逆行さ
せ、前記被検光学系から前記照射光学系中のマッチング
レンズを戻って広がった光束をマイクロレンズアレイに
導き、前記マイクロレンズの焦点面に配置した撮像素子
により検出する光束の位置より前記被検光学系の波面収
差を算出する際、前記マッチングレンズの前記被検光学
系に対する光束の広がりが可変であることを特徴として
いる。
【0009】請求項2の発明の波面収差測定装置では請
求項1記載の発明で前記マッチングレンズがズームレン
ズであることを特徴としている。
【0010】請求項3の発明の波面収差測定装置では請
求項1記載の発明で前記マッチングレンズが交換式のレ
ンズ群であることを特徴としている。
【0011】請求項4の発明の波面収差測定装置では請
求項2、3記載の発明で前記マッチングレンズが前記被
検光学系のFnoの値にマッチするように光束の広がり
状態を制御することを特徴としている。
【0012】請求項5の発明の波面収差測定装置では請
求項4記載の発明で前記被検レンズの代わりに既知の収
差量を持つ校正用光学系の測定を行い、該校正用光学系
の測定値から前記被検レンズの収差量を校正することを
特徴としている。
【0013】請求項6の発明の波面収差測定装置では請
求項1〜5記載の発明で前記照射光学系の状態を検出す
るシャッター及びモニタ光学系を設けたことを特徴とし
ている。
【0014】請求項7の発明の光学系の波面収差測定方
法では光源と、該光源からの光束を照射光学系により被
検光学系に照射した後、折り返しミラーでもと来た光路
を逆行させ、前記被検光学系から前記照射光学系中のマ
ッチングレンズを戻って広がった光束をマイクロレンズ
アレイに導き、前記マイクロレンズの焦点面に配置した
撮像素子により検出する光束の位置より前記被検光学系
の波面収差を算出する際、前記マッチングレンズの前記
被検光学系に対する光束の広がりを、前記被検光学系の
有効光束の状態に合わせて調整することを特徴としてい
る。
【0015】請求項8の発明の波面収差測定方法では請
求項7記載の発明で前記マッチングレンズが前記被検光
学系のFnoの値にマッチするように光束の広がり状態
を制御することを特徴としている。
【0016】請求項9の発明の波面収差測定方法では請
求項8記載の発明で前記被検レンズの代わりに既知の収
差量を持つ校正用光学系の測定を行い、該校正用光学系
の測定値から前記被検レンズの収差量を校正することを
特徴としている。
【0017】請求項10の発明の波面収差測定方法では
請求項7記載の発明で前記照射光学系の状態を前記モニ
タ光学系で検出することを特徴としている。
【0018】請求項11の発明の前記被検光学系は請求
項1〜10記載の発明の装置また方法を用いて検査、製
造、性能保証したことを特徴としている。
【0019】本発明のシャックハルトマン法による波面
収差測定においては、被検光学系への照射光学系内に可
変光学系を設けたことにより、被検光学系に有効に光束
を導くことができ、多様な光学系の検査を簡便な構成で
高精度に測定することを可能にした。
【0020】
【発明の実施の形態】図1は本発明のシャックハルトマ
ン法を利用した波面収差測定装置の実施形態1の要部概
略図を示したものである。
【0021】光源1から出た光束は集光レンズ2でピン
ホール3に集光され点光源を形成する。ピンホール3を
通過した光束はコリメータレンズ4と色フィルター5
で、所定の波長で平行な光束に変換される。変換された
光束はハーフミラー6で半分だけ反射され、マッチング
レンズ7に入射する。また、ハーフミラー6を透過した
光束は平面ミラー8に導かれ、反射して元に戻るモニタ
光路になる。モニタ光路は被検レンズ(被検光学系)9
の測定の時にはシャッター10で遮光されているが、後
述するように必要に応じてシャッターを開いて光を導
き、光源1からハーフミラー6にいたる集光光学系2〜
5の異常をチェックするのに用いられる。
【0022】次に被検レンズ(被検光学系)9に光束を
導く光路について説明する。ハーフミラー6を反射した
光束はマッチングレンズ7に入射して被検レンズ9の前
側焦点位置に集光される。マッチングレンズ7は入射光
束を該被検レンズ9に有効に入射させる役目をするもの
で、具体的には被検レンズ9のFno(Fナンバー)に
合わせるように光束を変換する。様々な被検レンズの状
態に対応するため、図1ではマッチングレンズ7として
ズームレンズが使われている。光源1からマッチングレ
ンズ7にいたる光学系は被検レンズ9への照射光学系と
考えることができる。
【0023】被検レンズ9は前側焦点をマッチングレン
ズ7の後側焦点と一致する位置に配置する。また、被検
レンズ9として放送用レンズ11を対象とする場合に
は、被検レンズとマッチングレンズの間に検査用のダミ
ーガラス11を挿入する。放送用レンズは使用時、プリ
ズムで構成される色分解光学系を介して撮像素子に導か
れるからである。検査用のダミーガラスの光学特性は厚
み、硝材、面精度などが色分解光学系と収差の観点で等
価なものとする。
【0024】マッチングレンズ7から被検レンズ9を通
過して出射した光束は、折り返しミラー12で反射され
て、もと来た光路に戻される。被検レンズ9の検査条件
で距離が無限遠の場合、折り返しミラー12は平面、有
限距離の場合は凸面ミラーとなる。
【0025】折り返しミラー12から戻ってきた光束
は、もと来た光路を逆進して前記ハーフミラー6までも
どり、該ハーフミラー6を透過後、マイクロレンズアレ
イ13に入射する。マイクロレンズアレイ13の焦点位
置には2次元撮像素子14が配置され、各マイクロレン
ズ13による光束のスポット位置を検出し、検出された
複数個の光束の位置より被検レンズ9の波面収差が測定
される。
【0026】被検レンズ9を他のズーム状態で波面を測
定する場合は、マッチングレンズ7のズーム状態を測定
条件に応じて変化させれば、同じ構成を保ったままで測
定が可能となる。また、マッチングレンズ7は被検レン
ズ9のFnoに合わせるようにセットするので、必ずし
もズームレンズである必要はなく、予め用意されたレン
ズ群の交換方式であっても良い。しかしながら、被検レ
ンズを測定するときの光学系の構成で変化するのはマッ
チングレンズのみで、他の構成要素は不変である。従っ
て、図1のシャックハルトマン法の構成は被検レンズの
様々な状況に同じ測定配置で対応できる極めてフレキシ
ブルかつ簡単な測定方法および測定装置である。
【0027】本実施形態は測定光が折り返しミラー12
を介した反射により被検レンズを2回透過するので、1
回の透過を用いる従来の手法に比べ2倍の感度を持つ。
【0028】本測定方法では被検レンズ9の測定前又は
測定後に、マッチングレンズ7の後に既知の収差を持つ
校正用光学系15を用いて波面収差計測を行うキャリブ
レーション作業を行うことによってオフセット補正を
し、より高精度な測定を行うことができる。
【0029】図1ではマッチングレンズ7の直後の光路
に校正用光学系15が挿入可能となっている。校正用光
学系15は被検レンズ9の状態に応じて単純な凹面ある
いは凸面ミラーで構成することができる。スペースの関
係からは図に示すようにいったんミラーで光路を折り曲
げて校正用の凹面あるいは凸面ミラーに導く配置もあり
うる。挿入される校正用光学系15が本装置に内蔵され
ておれば、キャリブレーション機能を操作性良く行うこ
とができる。
【0030】実際に2次元撮像素子14で検出される収
差にはマッチングレンズ7の収差も含まれている。従っ
てマッチングレンズ7を可変にしたことに伴うマッチン
グレンズ自体の収差の影響は校正用光学系によって除去
することができる。逆に、マッチングレンズと校正用光
学系を介した光学系の波面収差測定から、マッチングレ
ンズ自体の波面収差を測定することもできる。
【0031】図1の構成では高精度化や装置状態のチェ
ック機能を設けるため、様々なシャッター10が設けら
れている。ピンホール3の直後に設けられたシャッター
16は光源1からの光を遮光してしまうので、2次元撮
像素子14に光が入射せず、2次元撮像素子14の暗電
流補正に用いられる。
【0032】マッチングレンズ7の前のシャッター10
aを閉じ、ハーフミラー6の下のシャッター10bを開
けて平面ミラー8からの反射光束の波面収差を測定すれ
ば、光源1から集光レンズ2、ピンホール3、コリメー
タレンズ4、色フィルター5そしてハーフミラー6にい
たる集光光学系の収差が測定できる。上記のシャッター
動作を必要に応じて行うことにより集光光学系の異常が
検知される。
【0033】以上に述べてきた手法により、本実施形態
の測定装置はオフセット補正や、装置自体の変化、異常
等を測定できるため、精度向上の達成とともに測定機自
体の保証も可能となる。
【0034】本実施形態ではズームレンズや被写体距離
といった測定条件が変化する被検レンズの波面測定にお
いても、被検レンズと照射光学系、マイクロレンズアレ
イ、2次元撮像素子の相対関係がハーフミラーを介して
全く変化していない。各種の条件で測定を行っても光束
の量が変化せず、いつもほぼ同光量が2次元撮像素子に
入射するため、安定した出力が得られる。この結果、安
定した測定精度を得ることができる。
【0035】本実施形態の波面測定装置は汎用性に富み
様々な測定条件に対応できるので、放送用レンズに代表
される多くのズーム条件や被写体距離という多様な使用
条件で使用される光学系の測定も、一つの基本構成でま
かなうことができる。また特別高価な素子を使う構成で
はないため、安価な測定装置を実現することが可能であ
る。従って、本実施形態の波面測定装置により検査、製
造、性能保証を行うことにより、多種の光学系を効率よ
く提供することが可能となる。
【0036】いままではわかり易く、光源をピンホール
板に集光し点光源としたが、実際には、点でなく有限な
円形やドーナッツ形状またまた三角形の光源などでも、
2次元撮像素子14で光の分布の変位が測定できるので
あれば、光源の形状やサイズは構わない。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では点光源
からの光束を照射光学系により被検光学系に照射した
後、折り返しミラーでもと来た光路を逆行させ、該被検
光学系から該照射光学系中のマッチングレンズを戻って
広がった光束をマイクロレンズアレイに導き、該マイク
ロレンズの焦点面に配置した撮像素子で検出する光束位
置より該被検光学系の波面収差を算出するシャックハル
トマン法による光学系の波面収差の測定において、該マ
ッチングレンズの前記被検光学系に対する光束の広がり
を該被検光学系の有効光束の状態に合わせて可変として
いる。マッチングレンズの状態を可変とすることによ
り、一つの波面収差測定装置で多様な光学系の波面収差
測定が可能となる。又、光学系の構成から測定光が被検
光学系を2回通過するため、収差検出の感度も増大して
いる。
【0038】本発明では、別に各種のシャッター機能や
キャリブレーション機能を搭載することにより、高精度
で、自己保証が容易、かつ安定した波面収差の測定がで
きる。
【0039】また本発明の波面測定装置を用いれば多様
な光学系を簡便に検査、製造、性能保証して、効率よく
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態1を示す概略図。
【図2】 すばる望遠鏡に適用されている従来の波面測
定装置の概略図。
【符号の説明】
1 光源 2 集光レンズ 3 ピンホール 4 コリメータレンズ 5 色フィルター 6 ハーフミラー 7 マッチングレンズ 8 平面ミラー 9 被検レンズ(被検光学系) 10 シャッター 11 放送用レンズ 12 折り返しミラー 13 マイクロレンズアレイ 14 2次元撮像素子 15 校正用光学系 16 シャッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 誠 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 松田 融 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 鈴木 正治 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2G086 HH06

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光源と、該光源からの光束を照射光学系に
    より被検光学系に照射した後、折り返しミラーでもと来
    た光路を逆行させ、前記被検光学系から前記照射光学系
    中のマッチングレンズを戻って広がった光束をマイクロ
    レンズアレイに導き、前記マイクロレンズの焦点面に配
    置した撮像素子により検出する光束の位置より前記被検
    光学系の波面収差を算出する光学系の波面収差測定装置
    において、前記マッチングレンズの前記被検光学系に対
    する光束の広がりが可変であることを特徴とする光学系
    の波面収差測定装置。
  2. 【請求項2】前記マッチングレンズがズームレンズであ
    ることを特徴とする請求項1記載の波面収差測定装置。
  3. 【請求項3】前記マッチングレンズが交換式のレンズ群
    であることを特徴とする請求項1記載の波面収差測定装
    置。
  4. 【請求項4】前記マッチングレンズが前記被検光学系の
    Fnoの値にマッチするように光束の広がり状態を制御
    することを特徴とする請求項2、3記載の波面収差測定
    装置。
  5. 【請求項5】前記被検レンズの代わりに既知の収差量を
    持つ校正用光学系の測定を行い、該校正用光学系の測定
    値から前記被検レンズの収差量を校正することを特徴と
    する請求項4記載の波面収差測定装置。
  6. 【請求項6】前記照射光学系の状態を検出するシャッタ
    ー及びモニタ光学系を設けたことを特徴とする請求項1
    〜5記載の波面収差測定装置。
  7. 【請求項7】光源と、該光源からの光束を照射光学系に
    より被検光学系に照射した後、折り返しミラーでもと来
    た光路を逆行させ、前記被検光学系から前記照射光学系
    中のマッチングレンズを戻って広がった光束をマイクロ
    レンズアレイに導き、前記マイクロレンズの焦点面に配
    置した撮像素子により検出する光束の位置より前記被検
    光学系の波面収差を算出する光学系の波面収差測定方法
    において、前記マッチングレンズの前記被検光学系に対
    する光束の広がりを、前記被検光学系の有効光束の状態
    に合わせて調整することを特徴とする光学系の波面収差
    測定方法。
  8. 【請求項8】前記マッチングレンズが前記被検光学系の
    Fnoの値にマッチするように光束の広がり状態を制御
    することを特徴とする請求項7記載の波面収差測定方
    法。
  9. 【請求項9】前記被検レンズの代わりに既知の収差量を
    持つ校正用光学系の測定を行い、該校正用光学系の測定
    値から前記被検レンズの収差量を校正することを特徴と
    する請求項8記載の波面収差測定方法。
  10. 【請求項10】前記照射光学系の状態を前記モニタ光学
    系で検出することを特徴とする請求項7記載の波面収差
    測定方法。
  11. 【請求項11】請求項1〜10記載の装置また方法を用
    いて検査、製造、性能保証したことを特徴とする前記被
    検光学系。
JP2002075903A 2002-03-19 2002-03-19 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置 Pending JP2003270091A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002075903A JP2003270091A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002075903A JP2003270091A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003270091A true JP2003270091A (ja) 2003-09-25

Family

ID=29204853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002075903A Pending JP2003270091A (ja) 2002-03-19 2002-03-19 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003270091A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008157836A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Seiko Epson Corp 光学系の光学特性評価方法、プロジェクタの光学特性評価方法、光学特性評価装置、およびスクリーン
JP2008257125A (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Seiko Epson Corp プロジェクションシステム、形状測定装置、および光学特性評価装置
JP2011179968A (ja) * 2010-03-01 2011-09-15 Mitsubishi Electric Corp 波面計測装置
JP2012122794A (ja) * 2010-12-07 2012-06-28 Mitsubishi Electric Corp 波面計測装置および波面計測方法
CN105547649A (zh) * 2015-12-05 2016-05-04 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 一种短波红外镜头杂散辐射的检测方法
JP2018040570A (ja) * 2016-09-05 2018-03-15 キヤノン株式会社 計測装置、光学機器の製造方法および光学機器の製造装置
CN113551878A (zh) * 2021-06-24 2021-10-26 中国科学院合肥物质科学研究院 一种基于光纤阵列的激光光束质量测量装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008157836A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Seiko Epson Corp 光学系の光学特性評価方法、プロジェクタの光学特性評価方法、光学特性評価装置、およびスクリーン
JP4539650B2 (ja) * 2006-12-26 2010-09-08 セイコーエプソン株式会社 光学系の光学特性評価方法、プロジェクタの光学特性評価方法、光学特性評価装置、およびスクリーン
US7834990B2 (en) 2006-12-26 2010-11-16 Seiko Epson Corporation Evaluation method for evaluating optical characteristics of optical system, evaluation method for evaluating projector, evaluation device for evaluating optical characteristics, and screen
JP2008257125A (ja) * 2007-04-09 2008-10-23 Seiko Epson Corp プロジェクションシステム、形状測定装置、および光学特性評価装置
JP2011179968A (ja) * 2010-03-01 2011-09-15 Mitsubishi Electric Corp 波面計測装置
JP2012122794A (ja) * 2010-12-07 2012-06-28 Mitsubishi Electric Corp 波面計測装置および波面計測方法
CN105547649A (zh) * 2015-12-05 2016-05-04 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 一种短波红外镜头杂散辐射的检测方法
JP2018040570A (ja) * 2016-09-05 2018-03-15 キヤノン株式会社 計測装置、光学機器の製造方法および光学機器の製造装置
CN113551878A (zh) * 2021-06-24 2021-10-26 中国科学院合肥物质科学研究院 一种基于光纤阵列的激光光束质量测量装置
CN113551878B (zh) * 2021-06-24 2024-04-02 中国科学院合肥物质科学研究院 一种基于光纤阵列的激光光束质量测量装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4647867B2 (ja) センサの測定用アパーチャーよりも大きなターゲットの評価に用いる装置及び方法
CN100370306C (zh) 高精度光束同轴度调整方法
CN113702000B (zh) 一种光学成像镜头的像差检测系统及像差检测方法
CN102564731A (zh) 一种透镜焦距及波前畸变测量装置
US20140160267A1 (en) Image Pickup Apparatus
KR102052757B1 (ko) 이미징 시스템용 광학 모니터링 디바이스
JP5084327B2 (ja) 偏心検査装置及び偏心調整装置
CN114216659B (zh) 一种大口径长焦距光轴平行度的测量系统及其测量方法
JP2002071513A (ja) 液浸系顕微鏡対物レンズ用干渉計および液浸系顕微鏡対物レンズの評価方法
JP2005098933A (ja) 収差測定装置
JP2003270091A (ja) 光学系の波面収差測定方法及び波面収差測定装置
JP2008215833A (ja) 光学特性測定装置および光学特性測定方法
JP2007078485A (ja) オートコリメータ及びそれを用いた角度測定装置
CN111366088B (zh) 激光共聚焦测高方法
JP2008026049A (ja) フランジ焦点距離測定装置
US9442006B2 (en) Method and apparatus for measuring the shape of a wave-front of an optical radiation field
Xu et al. Measurement of lens focal length with Hartmann–Shack wavefront sensor based on 4F system
JP2007093339A (ja) 検査装置
JP2003121300A (ja) 光学系の波面収差測定方法及び装置
KR101447857B1 (ko) 렌즈 모듈 이물 검사 시스템
JP2008158125A (ja) レンズユニット調芯装置
US20200041350A1 (en) Shack-hartmann wavefront detector for wavefront error measurement of higher numerical aperture optical systems
JP2001166202A (ja) 焦点検出方法及び焦点検出装置
CN112525343A (zh) 一种针对色散型成像光谱仪的检测方法及装置
WO2022123710A1 (ja) 波面測定装置、および波面測定方法