JP2003266079A - 二酸化塩素水注入装置及び注入方法 - Google Patents
二酸化塩素水注入装置及び注入方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、処理対象水に対する二酸化塩素の
注入率を安定させ、また、揮発した二酸化塩素を清浄水
に溶解させた二酸化塩素水を利用するための二酸化塩素
水注入装置及び注入方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明による二酸化塩素水注入装置は、
第１貯留手段(1)内の上部空間に溜まる二酸化塩素ガス
を誘導して貯留する第２貯留手段(11)と、第２貯留手段
(11)内の上方から清浄水を供給する清浄水散布手段(12)
と、清浄水散布手段(12)から供給された清浄水に二酸化
塩素ガスが溶解・吸収されることにより生成される二酸
化塩素水を処理対象水に注入するための第２注入手段(1
4)とを備える。
注入率を安定させ、また、揮発した二酸化塩素を清浄水
に溶解させた二酸化塩素水を利用するための二酸化塩素
水注入装置及び注入方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明による二酸化塩素水注入装置は、
第１貯留手段(1)内の上部空間に溜まる二酸化塩素ガス
を誘導して貯留する第２貯留手段(11)と、第２貯留手段
(11)内の上方から清浄水を供給する清浄水散布手段(12)
と、清浄水散布手段(12)から供給された清浄水に二酸化
塩素ガスが溶解・吸収されることにより生成される二酸
化塩素水を処理対象水に注入するための第２注入手段(1
4)とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水道水、工業用水
の殺菌・消毒剤および製紙工場の紙パルプ漂白剤などに
用いられる二酸化塩素水の製造方法に関する。更に詳し
くは二酸化塩素水生成装置で生成された二酸化塩素水か
ら揮発する二酸化塩素ガスを回収して再利用し、水道
水、工業用水等の造水設備あるいは紙パルプ漂白設備へ
注入する方法に関する。
の殺菌・消毒剤および製紙工場の紙パルプ漂白剤などに
用いられる二酸化塩素水の製造方法に関する。更に詳し
くは二酸化塩素水生成装置で生成された二酸化塩素水か
ら揮発する二酸化塩素ガスを回収して再利用し、水道
水、工業用水等の造水設備あるいは紙パルプ漂白設備へ
注入する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】二酸化塩素は常温でガス状の強い酸化力
と殺菌性を有する物質であり、融点は−５９℃、沸点は
１１℃である。また、常温常圧下では水に対し約３，０
００ｍｇ／Ｌの溶解度を持ち、空気中ではガス濃度１０
％以上で爆発性を有している。
と殺菌性を有する物質であり、融点は−５９℃、沸点は
１１℃である。また、常温常圧下では水に対し約３，０
００ｍｇ／Ｌの溶解度を持ち、空気中ではガス濃度１０
％以上で爆発性を有している。
【０００３】二酸化塩素は、塩素に匹敵する消毒効果や
酸化力を有し、塩素と有機物の化合物である有害なトリ
ハロメタンを生成しないことから、塩素に代わる消毒剤
として注目されている。また、二酸化塩素は上述したよ
うにそれ自体爆発の危険性が高く化学的に不安定なた
め、運搬が困難である。このため、使用する場所で製造
する必要がある。
酸化力を有し、塩素と有機物の化合物である有害なトリ
ハロメタンを生成しないことから、塩素に代わる消毒剤
として注目されている。また、二酸化塩素は上述したよ
うにそれ自体爆発の危険性が高く化学的に不安定なた
め、運搬が困難である。このため、使用する場所で製造
する必要がある。
【０００４】一般的な二酸化塩素の製造方法としては、
亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）を出発原料とし
て、（ａ）亜塩素酸ナトリウムと塩酸（ＨＣｌ）の各水
溶液をポンプで反応容器へ送り、混合反応させる酸分解
法、（ｂ）流入水中に塩素ガス（Ｃ１２）を吹き込み、
この塩素水に亜塩素酸ナトリウムを混合し二酸化塩素を
生成する二液法、（ｃ）次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣ
ｌＯ）に塩酸（ＨＣｌ）を加え塩素ガスを発生させ、こ
の塩素ガスと亜塩素酸ナトリウムとを反応させ生成する
三液法などがある。
亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）を出発原料とし
て、（ａ）亜塩素酸ナトリウムと塩酸（ＨＣｌ）の各水
溶液をポンプで反応容器へ送り、混合反応させる酸分解
法、（ｂ）流入水中に塩素ガス（Ｃ１２）を吹き込み、
この塩素水に亜塩素酸ナトリウムを混合し二酸化塩素を
生成する二液法、（ｃ）次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣ
ｌＯ）に塩酸（ＨＣｌ）を加え塩素ガスを発生させ、こ
の塩素ガスと亜塩素酸ナトリウムとを反応させ生成する
三液法などがある。
【０００５】反応容器で生成した二酸化塩素を水道水な
どの清浄水供給ポンプの下流で清浄水に溶解・吸収さ
せ、濃度が数百〜数千ｍｇ／Ｌの二酸化塩素水とする。
この二酸化塩素水を直接注入点に注入するか、または、
一旦二酸化塩素水貯留槽へ貯留した後、水道水、工業用
水の造水設備あるいは紙パルプ漂白設備の注入点へ注入
ポンプで注入している。
どの清浄水供給ポンプの下流で清浄水に溶解・吸収さ
せ、濃度が数百〜数千ｍｇ／Ｌの二酸化塩素水とする。
この二酸化塩素水を直接注入点に注入するか、または、
一旦二酸化塩素水貯留槽へ貯留した後、水道水、工業用
水の造水設備あるいは紙パルプ漂白設備の注入点へ注入
ポンプで注入している。
【０００６】上述したように二酸化塩素水を一旦二酸化
塩素水貯留槽に貯留する場合は、図２に示すように、二
酸化塩素水貯留槽１の上限レベルＨＬまで二酸化塩素水
を貯留した時点で二酸化塩素水の生成を停止し、下限レ
ベルＬＬまで二酸化塩素水を消費したら二酸化塩素水の
生成を再開するバッチ式の生成方法を採っている。
塩素水貯留槽に貯留する場合は、図２に示すように、二
酸化塩素水貯留槽１の上限レベルＨＬまで二酸化塩素水
を貯留した時点で二酸化塩素水の生成を停止し、下限レ
ベルＬＬまで二酸化塩素水を消費したら二酸化塩素水の
生成を再開するバッチ式の生成方法を採っている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の二酸化塩素水貯
留槽を用いる二酸化塩素水注入装置及び方法は上述のよ
うに構成されていたため、次のような課題が存在してい
た。すなわち、二酸化塩素水生成装置２では一定濃度の
二酸化塩素水を製造し、二酸化塩素水貯留槽１に浄水設
備３への数時間分の注入量を貯留しておき、二酸化塩素
水貯留槽１内の二酸化塩素水の水位がある程度下降する
まで（下限レベルＬＬまで）は二酸化塩素水生成装置２
の運転を停止し、二酸化塩素水生成装置２から二酸化塩
素水貯留槽１への二酸化塩素水の補給を行わない。しか
し、上述したように二酸化塩素は常温では非常に揮発し
やすい物質であるので、時間の経過と共に二酸化塩素水
貯留槽１に貯留された二酸化塩素水中の二酸化塩素濃度
が徐々に低下してくる。
留槽を用いる二酸化塩素水注入装置及び方法は上述のよ
うに構成されていたため、次のような課題が存在してい
た。すなわち、二酸化塩素水生成装置２では一定濃度の
二酸化塩素水を製造し、二酸化塩素水貯留槽１に浄水設
備３への数時間分の注入量を貯留しておき、二酸化塩素
水貯留槽１内の二酸化塩素水の水位がある程度下降する
まで（下限レベルＬＬまで）は二酸化塩素水生成装置２
の運転を停止し、二酸化塩素水生成装置２から二酸化塩
素水貯留槽１への二酸化塩素水の補給を行わない。しか
し、上述したように二酸化塩素は常温では非常に揮発し
やすい物質であるので、時間の経過と共に二酸化塩素水
貯留槽１に貯留された二酸化塩素水中の二酸化塩素濃度
が徐々に低下してくる。
【０００８】発明者らの実験によれば、雰囲気温度２５
℃で初期二酸化塩素濃度が５００ｍｇ／Ｌの二酸化塩素
水１ｍ３を二酸化塩素水表面積０．８ｍ２で二酸化塩素
水貯留槽１に貯留した場合、６時間経過すると二酸化塩
素水中の二酸化塩素が二酸化塩素の水面より揮発し、濃
度４００ｍｇ／Ｌにまで減少し（この場合の揮発率は約
２０，０００ｍｇ／ｍ２ｈｒであり）、雰囲気温度が１
５℃の場合は、同じく６時間経過すると濃度が４５０ｍ
ｇ／Ｌに減少することを確認した（この場合の揮発率は
約１０，０００ｍｇ／ｍ２ｈｒである）。
℃で初期二酸化塩素濃度が５００ｍｇ／Ｌの二酸化塩素
水１ｍ３を二酸化塩素水表面積０．８ｍ２で二酸化塩素
水貯留槽１に貯留した場合、６時間経過すると二酸化塩
素水中の二酸化塩素が二酸化塩素の水面より揮発し、濃
度４００ｍｇ／Ｌにまで減少し（この場合の揮発率は約
２０，０００ｍｇ／ｍ２ｈｒであり）、雰囲気温度が１
５℃の場合は、同じく６時間経過すると濃度が４５０ｍ
ｇ／Ｌに減少することを確認した（この場合の揮発率は
約１０，０００ｍｇ／ｍ２ｈｒである）。
【０００９】したがって、上述の実験では、図３に実線
で示すように時間の経過と共に徐々に処理対象水に対す
る二酸化塩素の注入率が低下し、二酸化塩素の注入率を
一定に維持できなくなることが分かった（図３中におけ
る斜線部は二酸化塩素の揮発分を示している）。さらに
は二酸化塩素の揮発分は大気放出するか、二酸化塩素水
貯留槽１に接続された排ガス処理装置４で薬剤により中
和処理してから排気するので、利用効率が低下すると云
った課題があった。
で示すように時間の経過と共に徐々に処理対象水に対す
る二酸化塩素の注入率が低下し、二酸化塩素の注入率を
一定に維持できなくなることが分かった（図３中におけ
る斜線部は二酸化塩素の揮発分を示している）。さらに
は二酸化塩素の揮発分は大気放出するか、二酸化塩素水
貯留槽１に接続された排ガス処理装置４で薬剤により中
和処理してから排気するので、利用効率が低下すると云
った課題があった。
【００１０】本発明は、上述のような課題を解決するた
めになされたものであり、特に、処理対象水に対する二
酸化塩素の注入率を安定させ、また、揮発した二酸化塩
素を清浄水に溶解させた二酸化塩素水を利用することか
ら揮発分を薬液処理する必要がなく、さらに当然ながら
大気を汚染することのない二酸化塩素水注入装置及び注
入方法を提供することを目的とする。
めになされたものであり、特に、処理対象水に対する二
酸化塩素の注入率を安定させ、また、揮発した二酸化塩
素を清浄水に溶解させた二酸化塩素水を利用することか
ら揮発分を薬液処理する必要がなく、さらに当然ながら
大気を汚染することのない二酸化塩素水注入装置及び注
入方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の二酸化塩素水注
入装置は、二酸化塩素水生成手段で生成された二酸化塩
素水を貯留する第１貯留手段と、前記二酸化塩素水で処
理対象水を殺菌・消毒するために、前記第１貯留手段か
ら供給される二酸化塩素水を前記処理対象水に注入する
第１注入手段と、前記第１貯留手段内の上部空間に溜ま
る二酸化塩素ガスを誘導して貯留する第２貯留手段と、
前記第２貯留手段内の上方から清浄水を散布する清浄水
散布手段と、前記清浄水散布手段から散布された清浄水
に前記二酸化塩素ガスが溶解・吸収されることにより生
成される二酸化塩素水を前記処理対象水に注入するため
の第２注入手段とを備える構成である。
入装置は、二酸化塩素水生成手段で生成された二酸化塩
素水を貯留する第１貯留手段と、前記二酸化塩素水で処
理対象水を殺菌・消毒するために、前記第１貯留手段か
ら供給される二酸化塩素水を前記処理対象水に注入する
第１注入手段と、前記第１貯留手段内の上部空間に溜ま
る二酸化塩素ガスを誘導して貯留する第２貯留手段と、
前記第２貯留手段内の上方から清浄水を散布する清浄水
散布手段と、前記清浄水散布手段から散布された清浄水
に前記二酸化塩素ガスが溶解・吸収されることにより生
成される二酸化塩素水を前記処理対象水に注入するため
の第２注入手段とを備える構成である。
【００１２】また、前記第２貯留手段内に充填材充填手
段を備え、前記清浄水散布手段から散布される清浄水で
前記第１貯留手段から誘導される二酸化塩素ガスを溶解
・吸収し、前記第２注入手段を通じて前記処理対象水に
注入するための二酸化塩素水を生成する構成である。
段を備え、前記清浄水散布手段から散布される清浄水で
前記第１貯留手段から誘導される二酸化塩素ガスを溶解
・吸収し、前記第２注入手段を通じて前記処理対象水に
注入するための二酸化塩素水を生成する構成である。
【００１３】また、前記第２貯留手段は、前記処理対象
水に二酸化塩素水を注入する注入位置より高所に配設さ
れており、前記第２注入手段は、前記第２貯留手段内で
生成される二酸化塩素水を前記注入位置に自然に流下さ
せることができるように構成されている。
水に二酸化塩素水を注入する注入位置より高所に配設さ
れており、前記第２注入手段は、前記第２貯留手段内で
生成される二酸化塩素水を前記注入位置に自然に流下さ
せることができるように構成されている。
【００１４】さらに、前記第２注入手段は、前記第１注
入手段が前記処理対象水に二酸化塩素水を供給する系統
とは別系統で前記処理対象水に二酸化塩素水を注入する
構成である。
入手段が前記処理対象水に二酸化塩素水を供給する系統
とは別系統で前記処理対象水に二酸化塩素水を注入する
構成である。
【００１５】本発明の二酸化塩素水注入方法は、上述の
いずれかの二酸化塩素水注入装置により前記処理対象水
に二酸化塩素水を注入する構成である。
いずれかの二酸化塩素水注入装置により前記処理対象水
に二酸化塩素水を注入する構成である。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明による二
酸化塩素水注入装置及び注入方法の好適な実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお、従来装置と同一または同
等部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
酸化塩素水注入装置及び注入方法の好適な実施の形態に
ついて詳細に説明する。なお、従来装置と同一または同
等部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
【００１７】本発明の二酸化塩素水注入装置及び注入方
法では、二酸化塩素水生成手段で生成された二酸化塩素
水を一旦第１貯留手段に貯留し、続いて第１貯留手段内
の二酸化塩素水の水面から揮発した二酸化塩素ガスを該
第１貯留手段から第２貯留手段に誘導し、該第２貯留手
段に清浄水を散布して、揮発した二酸化塩素ガスを清浄
水に溶解・吸収させる。そして第１貯留手段内の二酸化
塩素水と前記第２貯留手段内で溶解・吸収させて生成し
た二酸化塩素水とを浄水設備の注入位置に注入する。ま
た、第２貯留手段内で揮発した二酸化塩素ガスを溶解・
吸収させた二酸化塩素水は、第２注入手段を通じて第２
貯留手段から自然流下で浄水設備内の処理対象水へ注入
される。
法では、二酸化塩素水生成手段で生成された二酸化塩素
水を一旦第１貯留手段に貯留し、続いて第１貯留手段内
の二酸化塩素水の水面から揮発した二酸化塩素ガスを該
第１貯留手段から第２貯留手段に誘導し、該第２貯留手
段に清浄水を散布して、揮発した二酸化塩素ガスを清浄
水に溶解・吸収させる。そして第１貯留手段内の二酸化
塩素水と前記第２貯留手段内で溶解・吸収させて生成し
た二酸化塩素水とを浄水設備の注入位置に注入する。ま
た、第２貯留手段内で揮発した二酸化塩素ガスを溶解・
吸収させた二酸化塩素水は、第２注入手段を通じて第２
貯留手段から自然流下で浄水設備内の処理対象水へ注入
される。
【００１８】以上のように本発明の二酸化塩素水注入装
置及び注入方法は、第１貯留手段から揮発した二酸化塩
素ガスを第２貯留手段内で清浄水に溶解・吸収させて再
び二酸化塩素水とし、第１注入手段を通じて第１貯留手
段内の二酸化塩素水を浄水設備内の処理対象水に注入す
ると共に、第２注入手段を通じて第２貯留手段内の二酸
化塩素水を浄水設備において処理対象水に注入すること
によって二酸化塩素水生成手段で生成した二酸化塩素の
ほとんどを無駄なく浄水設備へ注入することができるも
のである。これにより第２貯留手段のベントロから排気
される排ガスは、大気放出可能な濃度レベル０．１ｍｇ
／Ｌ（空気）以下とすることができ、薬剤による中和処
理の必要もなくなる。
置及び注入方法は、第１貯留手段から揮発した二酸化塩
素ガスを第２貯留手段内で清浄水に溶解・吸収させて再
び二酸化塩素水とし、第１注入手段を通じて第１貯留手
段内の二酸化塩素水を浄水設備内の処理対象水に注入す
ると共に、第２注入手段を通じて第２貯留手段内の二酸
化塩素水を浄水設備において処理対象水に注入すること
によって二酸化塩素水生成手段で生成した二酸化塩素の
ほとんどを無駄なく浄水設備へ注入することができるも
のである。これにより第２貯留手段のベントロから排気
される排ガスは、大気放出可能な濃度レベル０．１ｍｇ
／Ｌ（空気）以下とすることができ、薬剤による中和処
理の必要もなくなる。
【００１９】実施の形態１．以下に本発明の一実施形態
として水道水または工業用水の浄水設備における二酸化
塩素水の注入方法を図面に基づいて具体的かつ例示的に
説明する。図１は、本発明による二酸化塩素水注入装置
を概略的に示す構成図である。二酸化塩素の製造は、上
述した（ａ）、（ｂ）、（ｃ）などで行う。薬品ポンプ
で原料薬品を反応容器に送り込み、反応容器内で混合反
応させて二酸化塩素ガスを生成する。さらに、二酸化塩
素水生成手段である二酸化塩素水生成装置２において二
酸化塩素ガスと清浄水とを合流させて二酸化塩素水を生
成する。こうして生成された二酸化塩素水を第１貯留手
段である二酸化塩素水貯留槽１に貯留する。
として水道水または工業用水の浄水設備における二酸化
塩素水の注入方法を図面に基づいて具体的かつ例示的に
説明する。図１は、本発明による二酸化塩素水注入装置
を概略的に示す構成図である。二酸化塩素の製造は、上
述した（ａ）、（ｂ）、（ｃ）などで行う。薬品ポンプ
で原料薬品を反応容器に送り込み、反応容器内で混合反
応させて二酸化塩素ガスを生成する。さらに、二酸化塩
素水生成手段である二酸化塩素水生成装置２において二
酸化塩素ガスと清浄水とを合流させて二酸化塩素水を生
成する。こうして生成された二酸化塩素水を第１貯留手
段である二酸化塩素水貯留槽１に貯留する。
【００２０】この二酸化塩素の製造に際しては、反応容
器への各原料薬品の量およびその混合比、清浄水の供給
量を予め決定しておき、二酸化塩素水貯留槽１へは一定
量で一定濃度の二酸化塩素水を供給する。ここで挙げる
例では、二酸化塩素水生成装置２の清浄水供給ポンプを
２０Ｌ／ｍｉｎの水量に設定し、この二酸化塩素水生成
装置２で濃度約５００ｍｇ／Ｌの二酸化塩素水を製造
し、二酸化塩素水貯留槽１へ供給している。二酸化塩素
水貯留槽１から浄水設備３の注入位置３Ａにおける二酸
化塩素水の注入量は、０．８Ｌ／ｍｉｎである。したが
って、２０Ｌ／ｍｉｎ−０．８Ｌ／ｍｉｍ＝１９．２Ｌ
／ｍｉｎの流量で二酸化塩素水が二酸化塩素水貯留槽１
へ流入し、貯留される。
器への各原料薬品の量およびその混合比、清浄水の供給
量を予め決定しておき、二酸化塩素水貯留槽１へは一定
量で一定濃度の二酸化塩素水を供給する。ここで挙げる
例では、二酸化塩素水生成装置２の清浄水供給ポンプを
２０Ｌ／ｍｉｎの水量に設定し、この二酸化塩素水生成
装置２で濃度約５００ｍｇ／Ｌの二酸化塩素水を製造
し、二酸化塩素水貯留槽１へ供給している。二酸化塩素
水貯留槽１から浄水設備３の注入位置３Ａにおける二酸
化塩素水の注入量は、０．８Ｌ／ｍｉｎである。したが
って、２０Ｌ／ｍｉｎ−０．８Ｌ／ｍｉｍ＝１９．２Ｌ
／ｍｉｎの流量で二酸化塩素水が二酸化塩素水貯留槽１
へ流入し、貯留される。
【００２１】ここでは二酸化塩素水貯留槽１の上限レベ
ルＨＬが１ｍ３、下限ＬＬ（注入ポンプ７の吸込口７Ａ
より上方に設けてある）が０．２５ｍ３の貯留槽容量位
置に設けてあるので、計算上は（１ｍ３−０．２５
ｍ３）／１９．２Ｌ／ｍｉｎ＝３９ｍｉｎで二酸化塩素
水が二酸化塩素水貯留槽１の上限レベルまで達する。こ
の上限レベルまで達した時点で二酸化塩素水生成装置２
の運転を停止する。
ルＨＬが１ｍ３、下限ＬＬ（注入ポンプ７の吸込口７Ａ
より上方に設けてある）が０．２５ｍ３の貯留槽容量位
置に設けてあるので、計算上は（１ｍ３−０．２５
ｍ３）／１９．２Ｌ／ｍｉｎ＝３９ｍｉｎで二酸化塩素
水が二酸化塩素水貯留槽１の上限レベルまで達する。こ
の上限レベルまで達した時点で二酸化塩素水生成装置２
の運転を停止する。
【００２２】すなわち、二酸化塩素水貯留槽１に設けら
れたレベル計（ＬＣ）が二酸化塩素水の水位上限ＨＬを
検知したら制御装置５により原料薬品ポンプ２Ａ〜２Ｃ
及び第１清浄水供給ポンプ２Ｄの運転を停止し、二酸化
塩素水供給弁６を閉成する。二酸化塩素水生成装置２の
運転停止中においても、二酸化塩素水貯留槽１からは注
入ポンプ７により浄水設備３の注入位置３Ａへ二酸化塩
素水を定常的に注入し続けている。このとき二酸化塩素
水貯留槽１内の二酸化塩素水が下限レベルＬＬまで消費
されるまでの所要時間は、計算上０．７５（ｍ３）／
０．８（Ｌ／ｍｉｎ）＝１５．６時間となる。
れたレベル計（ＬＣ）が二酸化塩素水の水位上限ＨＬを
検知したら制御装置５により原料薬品ポンプ２Ａ〜２Ｃ
及び第１清浄水供給ポンプ２Ｄの運転を停止し、二酸化
塩素水供給弁６を閉成する。二酸化塩素水生成装置２の
運転停止中においても、二酸化塩素水貯留槽１からは注
入ポンプ７により浄水設備３の注入位置３Ａへ二酸化塩
素水を定常的に注入し続けている。このとき二酸化塩素
水貯留槽１内の二酸化塩素水が下限レベルＬＬまで消費
されるまでの所要時間は、計算上０．７５（ｍ３）／
０．８（Ｌ／ｍｉｎ）＝１５．６時間となる。
【００２３】二酸化塩素水生成装置２の運転停止中にお
ける二酸化塩素水貯留槽１内の二酸化塩素水の水位は徐
々に低下し、二酸化塩素水からは二酸化塩素ガスが二酸
化塩素水貯留槽１上部空間に揮発し、二酸化塩素水の二
酸化塩素濃度が低下して行く（上述した図３参照）。
ける二酸化塩素水貯留槽１内の二酸化塩素水の水位は徐
々に低下し、二酸化塩素水からは二酸化塩素ガスが二酸
化塩素水貯留槽１上部空間に揮発し、二酸化塩素水の二
酸化塩素濃度が低下して行く（上述した図３参照）。
【００２４】二酸化塩素水貯留槽１の上方と接続管１０
を介して接続された第２貯留手段である二酸化塩素気液
接触吸収槽１１の上方から清浄水散布手段である第２清
浄水供給ポンプ１２により清浄水を散布してラシヒリン
グ、ベルルサドル等の充填材が充填された充填層１３に
供給する。
を介して接続された第２貯留手段である二酸化塩素気液
接触吸収槽１１の上方から清浄水散布手段である第２清
浄水供給ポンプ１２により清浄水を散布してラシヒリン
グ、ベルルサドル等の充填材が充填された充填層１３に
供給する。
【００２５】二酸化塩素水貯留槽１より揮発した二酸化
塩素ガスは空気より比重が大きいので、運転開始当初は
二酸化塩素水貯留槽１内の二酸化塩素水の水面上に揮発
した二酸化塩素ガスが溜まるが、時間経過と共に揮発量
が増大すると、揮発した二酸化塩素ガスの上方の空気層
は、二酸化塩素水貯留槽１と二酸化塩素気液接触吸収槽
１１との接続管１０を経由して二酸化塩素気液接触吸収
槽１１のベントロ１１Ａより排出される。
塩素ガスは空気より比重が大きいので、運転開始当初は
二酸化塩素水貯留槽１内の二酸化塩素水の水面上に揮発
した二酸化塩素ガスが溜まるが、時間経過と共に揮発量
が増大すると、揮発した二酸化塩素ガスの上方の空気層
は、二酸化塩素水貯留槽１と二酸化塩素気液接触吸収槽
１１との接続管１０を経由して二酸化塩素気液接触吸収
槽１１のベントロ１１Ａより排出される。
【００２６】二酸化塩素水貯留槽１内で揮発して生じた
二酸化塩素ガスは、二酸化塩素気液接触吸収槽１１内の
上方から第２清浄水供給ポンプ１２のスプレーノズル１
２Ａで清浄水を散布することにより、スプレーノズル１
２Ａの下方に設けられた充填層１３において、スプレー
ノズル１２Ａから散布されたミスト状の清浄水と接触
し、溶解・吸収される。二酸化塩素が溶解したミストは
二酸化塩素水となり、二酸化塩素気液接触吸収槽１１の
下方に溜まる。この二酸化塩素水１１ａを第２注入手段
である第２注入管１４を通じて自然流下で（ポンプを使
用せずに）処理対象水に注入する。なお、第２注入管１
４は、第１注入管８とは別系統で処理対象水への注入位
置３Ａまで延設されており、第２清浄水供給ポンプ１２
から二酸化塩素気液接触吸収槽１１内に供給されて貯留
する二酸化塩素水を十分に自然流下させることができる
だけの配管抵抗を考慮したものである。
二酸化塩素ガスは、二酸化塩素気液接触吸収槽１１内の
上方から第２清浄水供給ポンプ１２のスプレーノズル１
２Ａで清浄水を散布することにより、スプレーノズル１
２Ａの下方に設けられた充填層１３において、スプレー
ノズル１２Ａから散布されたミスト状の清浄水と接触
し、溶解・吸収される。二酸化塩素が溶解したミストは
二酸化塩素水となり、二酸化塩素気液接触吸収槽１１の
下方に溜まる。この二酸化塩素水１１ａを第２注入手段
である第２注入管１４を通じて自然流下で（ポンプを使
用せずに）処理対象水に注入する。なお、第２注入管１
４は、第１注入管８とは別系統で処理対象水への注入位
置３Ａまで延設されており、第２清浄水供給ポンプ１２
から二酸化塩素気液接触吸収槽１１内に供給されて貯留
する二酸化塩素水を十分に自然流下させることができる
だけの配管抵抗を考慮したものである。
【００２７】二酸化塩素水貯留槽１内で揮発して生じた
二酸化塩素ガスが二酸化塩素気液接触吸収槽１１内で清
浄水に溶解・吸収するので、二酸化塩素気液接触吸収槽
１１のベントロ１１Ａから排気される排ガスは、二酸化
塩素濃度が０．１ｍｇ／Ｌ（空気）以下となり、大気放
出可能なレベルよりも清浄度が大幅に向上し、無害なも
のとなった。従って、従来は、図２に示す排ガス処理装
置４で回収していた二酸化塩素（図３の斜線部に相当す
る量の二酸化塩素）は、本発明の二酸化塩素水注入装置
及び注入方法によれば、従来のように排ガス処理装置を
用いることなく、そのほとんどを回収利用できることに
なる。
二酸化塩素ガスが二酸化塩素気液接触吸収槽１１内で清
浄水に溶解・吸収するので、二酸化塩素気液接触吸収槽
１１のベントロ１１Ａから排気される排ガスは、二酸化
塩素濃度が０．１ｍｇ／Ｌ（空気）以下となり、大気放
出可能なレベルよりも清浄度が大幅に向上し、無害なも
のとなった。従って、従来は、図２に示す排ガス処理装
置４で回収していた二酸化塩素（図３の斜線部に相当す
る量の二酸化塩素）は、本発明の二酸化塩素水注入装置
及び注入方法によれば、従来のように排ガス処理装置を
用いることなく、そのほとんどを回収利用できることに
なる。
【００２８】なお、二酸化塩素気液接触吸収槽１１内で
揮発した二酸化塩素ガスを溶解・吸収させた二酸化塩素
水１１ａを二酸化塩素水貯留槽１に戻して二酸化塩素水
貯留槽１から第１注入管８のみで二酸化塩素水を処理対
象水に注入するように構成すると、二酸化塩素水貯留槽
１内の二酸化塩素濃度と二酸化塩素気液接触吸収槽１１
内の二酸化塩素濃度が異なる（前者の方が格段に濃い）
ことから、処理対象水への二酸化塩素の注入率制御が困
難となるので、上述したように二酸化塩素水貯留槽１と
二酸化塩素気液接触吸収槽１１の二酸化塩素水注入経路
は、本実施の形態で説明したように別々とし、第１注入
管８と第２注入管１４とを注入位置３Ａにまで延設させ
ることが望ましい。
揮発した二酸化塩素ガスを溶解・吸収させた二酸化塩素
水１１ａを二酸化塩素水貯留槽１に戻して二酸化塩素水
貯留槽１から第１注入管８のみで二酸化塩素水を処理対
象水に注入するように構成すると、二酸化塩素水貯留槽
１内の二酸化塩素濃度と二酸化塩素気液接触吸収槽１１
内の二酸化塩素濃度が異なる（前者の方が格段に濃い）
ことから、処理対象水への二酸化塩素の注入率制御が困
難となるので、上述したように二酸化塩素水貯留槽１と
二酸化塩素気液接触吸収槽１１の二酸化塩素水注入経路
は、本実施の形態で説明したように別々とし、第１注入
管８と第２注入管１４とを注入位置３Ａにまで延設させ
ることが望ましい。
【００２９】処理対象水への二酸化塩素注入率にばらつ
きが生じると、二酸化塩素処理による殺菌・消毒効果及
び凝集改善効果が安定しないという弊害が生じる。この
点、本発明のように第１注入管８と第２注入管１４とを
注入位置３Ａにまで延設して別系統とすれば、二酸化塩
素注入率を一定にすることができ、安定した処理対象水
の処理が可能となる。
きが生じると、二酸化塩素処理による殺菌・消毒効果及
び凝集改善効果が安定しないという弊害が生じる。この
点、本発明のように第１注入管８と第２注入管１４とを
注入位置３Ａにまで延設して別系統とすれば、二酸化塩
素注入率を一定にすることができ、安定した処理対象水
の処理が可能となる。
【００３０】
【発明の効果】本発明の二酸化塩素水注入装置は、二酸
化塩素水生成手段で生成された二酸化塩素水を貯留する
第１貯留手段と、前記二酸化塩素水で処理対象水を殺菌
・消毒するために、前記第１貯留手段から供給される二
酸化塩素水を前記処理対象水に注入する第１注入手段
と、前記第１貯留手段内の上部空間に溜まる二酸化塩素
ガスを誘導して貯留する第２貯留手段と、前記第２貯留
手段内の上方から清浄水を散布する清浄水散布手段と、
前記清浄水散布手段から散布された清浄水に前記二酸化
塩素ガスが溶解・吸収されることにより生成される二酸
化塩素水を前記処理対象水に注入するための第２注入手
段とを備えるので、排ガス処理装置を用いることなく二
酸化塩素水の利用効率を向上させることができると共
に、安価な設備で安定的に二酸化塩素水を処理対象水に
注入することができる。
化塩素水生成手段で生成された二酸化塩素水を貯留する
第１貯留手段と、前記二酸化塩素水で処理対象水を殺菌
・消毒するために、前記第１貯留手段から供給される二
酸化塩素水を前記処理対象水に注入する第１注入手段
と、前記第１貯留手段内の上部空間に溜まる二酸化塩素
ガスを誘導して貯留する第２貯留手段と、前記第２貯留
手段内の上方から清浄水を散布する清浄水散布手段と、
前記清浄水散布手段から散布された清浄水に前記二酸化
塩素ガスが溶解・吸収されることにより生成される二酸
化塩素水を前記処理対象水に注入するための第２注入手
段とを備えるので、排ガス処理装置を用いることなく二
酸化塩素水の利用効率を向上させることができると共
に、安価な設備で安定的に二酸化塩素水を処理対象水に
注入することができる。
【００３１】また、前記第２貯留手段内に充填材充填手
段を備え、前記清浄水散布手段から散布される清浄水で
前記第１貯留手段から誘導される二酸化塩素ガスを溶解
・吸収し、前記第２注入手段を通じて前記処理対象水に
注入するための二酸化塩素水を生成するので、二酸化塩
素水生成手段で生成した二酸化塩素のほとんどを無駄な
く浄水設備へ注入することができる。
段を備え、前記清浄水散布手段から散布される清浄水で
前記第１貯留手段から誘導される二酸化塩素ガスを溶解
・吸収し、前記第２注入手段を通じて前記処理対象水に
注入するための二酸化塩素水を生成するので、二酸化塩
素水生成手段で生成した二酸化塩素のほとんどを無駄な
く浄水設備へ注入することができる。
【００３２】また、前記第２貯留手段は、前記処理対象
水に二酸化塩素水を注入する注入位置より高所に配設さ
れており、前記第２注入手段は、前記第２貯留手段内で
生成される二酸化塩素水を前記注入位置に自然流下させ
ることができるので、第１貯留手段内で揮発した二酸化
塩素を効率良く処理対象水に注入することができる。
水に二酸化塩素水を注入する注入位置より高所に配設さ
れており、前記第２注入手段は、前記第２貯留手段内で
生成される二酸化塩素水を前記注入位置に自然流下させ
ることができるので、第１貯留手段内で揮発した二酸化
塩素を効率良く処理対象水に注入することができる。
【００３３】さらに、前記第２注入手段は、前記第１注
入手段が前記処理対象水に二酸化塩素水を供給する系統
とは別系統で前記処理対象水に二酸化塩素水を注入する
ので、二酸化塩素注入率を一定として安定した処理を行
うことができる。
入手段が前記処理対象水に二酸化塩素水を供給する系統
とは別系統で前記処理対象水に二酸化塩素水を注入する
ので、二酸化塩素注入率を一定として安定した処理を行
うことができる。
【００３４】本発明の二酸化塩素水注入方法は、上述の
いずれかの二酸化塩素水注入装置により前記処理対象水
に二酸化塩素水を注入するので、排ガス処理装置を用い
ることなく二酸化塩素水の利用効率を向上させることが
できると共に、安価な設備で安定的に二酸化塩素水を処
理対象水に注入することができる。
いずれかの二酸化塩素水注入装置により前記処理対象水
に二酸化塩素水を注入するので、排ガス処理装置を用い
ることなく二酸化塩素水の利用効率を向上させることが
できると共に、安価な設備で安定的に二酸化塩素水を処
理対象水に注入することができる。
【図１】本発明による二酸化塩素水注入装置を概略的に
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】従来の二酸化塩素水注入装置を概略的に示す構
成図である。
成図である。
【図３】従来の二酸化塩素水注入装置の二酸化塩素水貯
留槽内の液相中における二酸化塩素濃度の時間変化を概
略的に示す特性図である。
留槽内の液相中における二酸化塩素濃度の時間変化を概
略的に示す特性図である。
１ 二酸化塩素水貯留槽
２ 二酸化塩素水生成装置
２Ａ〜２Ｃ 原料薬品ポンプ
２Ｄ 第１清浄水供給ポンプ
３ 浄水設備
３Ａ 注入位置
４ 排ガス処理装置
５ 制御装置
６ 二酸化塩素水供給弁
７ 注入ポンプ
７Ａ 注入口
８ 第１注入管
１０ 接続管
１１ 二酸化塩素気液接触吸収槽
１１Ａ ベントロ
１１ａ 二酸化塩素水
１２ 第２清浄水供給ポンプ
１２Ａ スプレーノズル
１３ 充填層
１４ 第２注入管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５５０Ｈ
Ｂ０１Ｄ 53/14 Ｂ０１Ｄ 53/14 Ｚ
Ｃ０１Ｂ 11/02 Ｃ０１Ｂ 11/02 Ａ
Claims (5)
- 【請求項１】 二酸化塩素水生成手段(2)で生成された
二酸化塩素水を貯留する第１貯留手段(1)と、前記二酸
化塩素水で処理対象水を殺菌・消毒するために、前記第
１貯留手段(1)から供給される二酸化塩素水を前記処理
対象水に注入する第１注入手段(8)と、前記第１貯留手
段(1)内の上部空間に溜まる二酸化塩素ガスを誘導して
貯留する第２貯留手段(11)と、前記第２貯留手段(11)内
の上方から清浄水を散布する清浄水散布手段(12)と、前
記清浄水散布手段(12)から散布された清浄水に前記二酸
化塩素ガスが溶解・吸収されることにより生成される二
酸化塩素水を前記処理対象水に注入するための第２注入
手段(14)とを備えることを特徴とする二酸化塩素水注入
装置。 - 【請求項２】 前記第２貯留手段(11)内に充填材充填手
段(13)を備え、前記清浄水散布手段(12)から散布される
清浄水で前記第１貯留手段(1)から誘導される二酸化塩
素ガスを溶解・吸収し、前記第２注入手段(14)を通じて
前記処理対象水に注入するための二酸化塩素水を生成す
ることを特徴とする請求項１記載の二酸化塩素水注入装
置。 - 【請求項３】 前記第２貯留手段(11)は、前記処理対象
水に二酸化塩素水を注入する注入位置(3A)より高所に配
設されており、前記第２注入手段(14)は、前記第２貯留
手段(11)内で生成される二酸化塩素水を前記注入位置(3
A)に自然に流下させることができるように構成されてい
ることを特徴とする請求項１または２記載の二酸化塩素
水注入装置。 - 【請求項４】 前記第２注入手段(14)は、前記第１注入
手段(8)が前記処理対象水に二酸化塩素水を供給する系
統とは別系統で前記処理対象水に二酸化塩素水を注入す
ることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか記載の
二酸化塩素水注入装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか記載の二酸
化塩素水注入装置により前記処理対象水に二酸化塩素水
を注入することを特徴とする二酸化塩素水注入方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002072546A JP2003266079A (ja) | 2002-03-15 | 2002-03-15 | 二酸化塩素水注入装置及び注入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002072546A JP2003266079A (ja) | 2002-03-15 | 2002-03-15 | 二酸化塩素水注入装置及び注入方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003266079A true JP2003266079A (ja) | 2003-09-24 |
Family
ID=29202511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002072546A Withdrawn JP2003266079A (ja) | 2002-03-15 | 2002-03-15 | 二酸化塩素水注入装置及び注入方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003266079A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006082016A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 余剰汚泥減容方法 |
| JP2010207539A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 室内処理方法及び処理装置 |
| CN102092894A (zh) * | 2010-12-09 | 2011-06-15 | 陕西科技大学 | 一种提高造纸废水可生化性的工艺方法 |
| WO2017204747A1 (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | Mitrol Biologic Pte. Ltd. | System and method of cleaning an environment |
-
2002
- 2002-03-15 JP JP2002072546A patent/JP2003266079A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006082016A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 余剰汚泥減容方法 |
| JP4599955B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2010-12-15 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 余剰汚泥減容方法 |
| JP2010207539A (ja) * | 2009-03-12 | 2010-09-24 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 室内処理方法及び処理装置 |
| CN102092894A (zh) * | 2010-12-09 | 2011-06-15 | 陕西科技大学 | 一种提高造纸废水可生化性的工艺方法 |
| WO2017204747A1 (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | Mitrol Biologic Pte. Ltd. | System and method of cleaning an environment |
| AU2017269086B2 (en) * | 2016-05-23 | 2020-09-10 | Mitrol Technology Pte. Ltd. | System and method of cleaning an environment |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |