JP2003260426A

JP2003260426A - スリットダイ先端洗浄装置及びスリットダイ先端洗浄方法

Info

Publication number: JP2003260426A
Application number: JP2002068082A
Authority: JP
Inventors: Hideo Awakawa; 英生淡河; Hideki Mori; 秀樹森; Masanori Ikuma; 正典生熊; Masaki Kono; 正樹河野; Takashi Yamaguchi; 剛史山口
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2002-03-13
Filing date: 2002-03-13
Publication date: 2003-09-16

Abstract

(57)【要約】【課題】効率良くスリットダイ先端の洗浄が可能で、洗
浄動作に起因する薬液のロスもなく、環境に配慮したス
リットダイ先端の洗浄装置及び洗浄方法を提供すること
を目的とする。【解決手段】スリットダイ先端に付着した液・乾燥物の
除去に用いられるスリットダイ先端洗浄装置において、
アシストガスに混合されたドライアイス微粒子をスリッ
トダイ先端に噴射するドライアイス噴射手段と、該噴射
されたガス及びスリットダイ先端から取れた付着物を吸
引するガス吸引手段とを備えることを特徴とするスリッ
トダイ先端洗浄装置を提供する。また、前記ドライアイ
ス噴射手段において、ドライアイス微粒子とアシストガ
スが噴射直前で合流するスリットダイ先端洗浄装置を提
供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はスリットダイコート
方式に用いられるスリットダイ先端洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】スリットダイコート方式において製品歩
留向上のために、ある一定の頻度でスリットダイ先端に
付着した薬液を洗浄によって除去する必要がある。（図
３参照）スリットダイ洗浄の代表的な方法としてダイ
先端に溶剤を噴射する方法や溶剤とガスを混合噴射する
方法などが行われ、前述の方法でも除去不可能な場合は
人手による拭き取り作業も行われている。

【０００３】しかしながら溶剤噴射を行う方法では、あ
くまで付着した薬液の溶解及び希釈による洗浄方法のた
め、固着した汚れに関しては洗浄液の調査・テーブルテ
ストを行った上で溶解力が高くかつ薬液との相性の良い
ものを選択的に使用することや噴射時間を延ばすこと、
洗浄頻度を短くすることで固着防止の対処を行ってい
る。溶解力の高い洗浄液はｋｇ単価が高いものも多く、
また噴射時間を延ばすこと、洗浄頻度を短くすることで
多量の溶剤を使用するため、コストがかかる。当然、廃
液処理も問題となり、環境への負荷も大きい。さらには
作業者の洗浄液補充頻度が高くなり完全自動化の妨げと
なっている。

【０００４】また、洗浄装置で固着物が除去できない場
合は、手作業でウェス等により溶剤を染み込ませて拭き
あげ作業を行うが、作業中に溶剤蒸気を吸い込むことも
あり、環境衛生上好ましくない。また、溶剤洗浄の１つ
である洗浄液と窒素等の混合流体による洗浄方法は、確
かに洗浄液使用量の削減になるが、ダイ先端の表面荒れ
部に入り込んだ付着物をとることは難しく、精密洗浄に
は不向きである。溶剤洗浄を行った後はスリットダイ先
端に溶剤が残留したり、ダイ内部に洗浄液が浸透して薬
液が希釈されてしまいコート時にムラが発生する。この
ため必ず噴射後にスリットダイから薬液のダミーディス
ペンス（吐出）が必要となるため薬液ロスも問題となっ
ている。

【０００５】また、スリットダイを用いて間欠コーティ
ングを行った場合、コーティング開始時の盛り上がりが
問題となるが、溶剤洗浄の場合は必ず薬液のダミーディ
スペンスが必須であり、ダミーディスペンスをした後は
ダイ先端に液が回り込んでいるため、洗浄後のコーティ
ング開始時に膜の盛り上がりが増大してしまうという問
題が発生する。（図４参照）

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点に
鑑みなされたものであり、その目的とするところは、効
率良くスリットダイ先端の洗浄が可能で、洗浄動作に起
因する薬液のロスもなく、環境に配慮したスリットダイ
先端の洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決しようとする手段】上記課題を解決するた
めの本発明の第１の発明は、スリットダイ先端に付着し
た液・乾燥物の除去に用いられるスリットダイ先端洗浄
装置において、アシストガスに混合されたドライアイス
微粒子をスリットダイ先端に噴射するドライアイス噴射
手段と、該噴射されたガス及びスリットダイ先端から取
れた付着物を吸引するガス吸引手段とを備えることを特
徴とするスリットダイ先端洗浄装置である。

【０００８】本発明の第１の発明の特徴は次のような働
きをする。すなわち、ドライアイス噴射手段では、ドラ
イアイス等の常温で昇華する微粒子がスリットダイ先端
に高圧・低温で噴射することによってスリットダイ先端
と付着物にサーマルショックを発生させ、付着した薬液
・薬液乾燥皮膜を短時間で除去する。またガス化する際
の急激な体積膨張によりダイ表面の荒れ（凹部）に至る
まで付着物が除去されるため、精密な洗浄が可能であ
る。また、ガス吸引手段は、噴射によって除去された付
着した薬液・薬液乾燥皮膜の舞い上がりを防止し、パー
ティクル浮遊を防止する。

【０００９】また、本発明の第２の発明は、前記ドライ
アイス噴射手段において、ドライアイス微粒子とアシス
トガスは、噴射直前で合流することを特徴とする請求項
１に記載のスリットダイ先端洗浄装置である。

【００１０】本発明の第２の発明の特徴は次のような働
きをする。すなわち、ドライアイス微粒子とアシストガ
スを噴射直前で合流させることで、配管途中での乱流発
生を極力防止でき、ダイ先端へ微粒子の衝突エネルギー
を増加させ洗浄能力を強化することができる。

【００１１】また、本発明の第３の発明は、スリットダ
イ先端に付着した液・乾燥物の除去に用いられるスリッ
トダイ先端を洗浄する方法において、アシストガスに混
合されたドライアイス微粒子をスリットダイ先端に噴射
し、噴射されたガスとスリットダイ先端から取れた付着
物を吸引することを特徴とするスリットダイ先端洗浄方
法である。

【００１２】また、本発明の第４の発明は、前記ドライ
アイス微粒子をスリットダイ先端に噴射する際に、ドラ
イアイス微粒子とアシストガスは、噴射直前で合流させ
ることを特徴とする請求項３に記載のスリットダイ先端
洗浄方法である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
一態様に係るスリットダイ先端洗浄装置について説明す
る。図１は、本発明に係わるスリットダイ先端洗浄装置
の一例の断面を示す説明図であり、図２は、図１のスリ
ットダイ先端洗浄装置の全体の構成例を示す説明図であ
る。スリットダイ１先端に沿うように形成された相対す
る１組の洗浄噴射ブロック２の水平方向供給口３からド
ライアイス等の常温で昇華する微粒子を供給し、水平方
向と鋭角に合流するよう設けられた供給口４に窒素等の
アシストガスを供給し、微粒子と混合させて噴射する。
アシストガスの合流は配管途中で乱流を発生させないた
めに極力噴射直前に合流するのが望ましい。

【００１４】ダイ１と洗浄噴射ブロック２の位置合わせ
はエアシリンダ等の昇降機構１５が上昇した際にスリッ
トダイ１両側面に取付けた位置決めピン９によって洗浄
噴射ユニット側のサイドプレート１３に設けられたくさ
びに案内される。洗浄ユニットのサイドプレート１３は
支持ブロック１２の両側から圧縮スプリング１０とリニ
アシャフト１１によって均衡が保たれており、ダイ１と
洗浄噴射ブロック２が位置決めピン９によって、ダイ１
と洗浄噴射ブロック２の位置再現性を良好にし、安定し
た洗浄を行うことができるようになっている。

【００１５】蛇腹ホース取付ブロック５はパッキンシー
トを介して洗浄噴射ブロック２と固定されている。蛇腹
ホース取付ブロック５には蛇腹ホース取付用配管が付い
ており、蛇腹ホース８が取付られている。ガス吸引手段
としては、蛇腹ホース８に、図示しない真空発生器など
を接続して、洗浄噴射ブロック２の間隙に負圧を発生さ
せ、ガス及びダイ先端から除去された付着物の吸引を行
う。複数列ある各洗浄噴射ブロック２・蛇腹ホース取付
ブロック５が連結アングル６で全て連結されている。連
結アングル６とガイド付シリンダ等７はサイドプレート
１３に固定されておりこれにより複数列並んだ洗浄噴射
ユニット全体のスキャンを行うしくみとなっている。洗
浄噴射ブロック２を複数列設置し、ノズル幅方向に揺動
させながら洗浄を行うことで洗浄ムラなく、かつ短時間
での洗浄が可能となる。

【００１６】ドライアイス微粒子はペレット状を直接噴
射する手段と液化炭酸ガスから微小オリフィスを通過す
る時に生じる断熱膨張により雪状のドライアイスを噴射
する手段とがある。ドライアイスの粒径は数μｍ〜数十
μｍでドライアイス噴射手段とノズル形状に依存する。
本発明はこれらと接続し、噴射口より窒素等のアシスト
ガスと混合させて洗浄を行うものである。この洗浄噴射
ブロック２をスリットダイ１の幅方向に噴射させながら
スキャンさせることで洗浄を行う。

【００１７】噴射時にドライアイスはダイ先端１に衝突
した瞬間に昇華してしまうが、薬液・薬液乾燥皮膜等の
付着物は飛散する恐れがあるため、排気によって防止す
る。また洗浄噴射ブロックをある一定間隔で多列化する
ことでさらに洗浄時間の短縮を図ることができる。

【００１８】自動化における動作手順の例としては以下
の通りである。１．ダイ洗浄指令（人手によるもの、塗布回数に閾値を
設けて自動によるもの）２．噴射ユニット（洗浄噴射ブロック２、ドライアイス
等微粒子供給口３、窒素ガス等アシストガス供給口４、
蛇腹ホース取付ブロック５など）の上昇（位置決め）３．排気開始４．ドライアイス微粒子と窒素ガスの噴射５．ガイド付きシリンダ７による正方向スキャン６．ガイド付きシリンダ７による負方向スキャン７．噴射ユニット（洗浄噴射ブロック２、ドライアイス
等微粒子供給口３、窒素ガス等アシストガス供給口４、
蛇腹ホース取付ブロック５など）のダイ塗布幅方向への
揺動８．排気ストップ９．噴射ユニット（洗浄噴射ブロック２、ドライアイス
等微粒子供給口３、窒素ガス等アシストガス供給口４、
蛇腹ホース取付ブロック５など）の下降１０．モニターやスピーカーなどへの洗浄終了指令の出
力

【００１９】

【発明の効果】本発明法ではスリットダイの洗浄に溶剤
を利用しないため、１．噴射後のダミーディスペンスが不要となり、薬液ロ
スをなくすことができた。２．廃液処理負担の軽減・環境衛生上の問題がクリアと
なった。３．ドライアイス等の微粒子をダイに噴射・衝突させる
ことで溶剤で除去できなかった固着した薬液や洗浄表面
の凹部に入り込んだ付着物まで除去可能となり、精密な
洗浄を行うことができた。４．ダイ先端に付着した薬液・薬液乾燥皮膜・固着した
薬液全ての付着状態において洗浄自動化を図ることがで
き、省力化が計れた。５．洗浄後のコーティング開始時の盛り上がりを抑制す
ることができた。といった格別の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わるスリットダイ先端洗浄装置の一
例の断面を示す説明図である。（図２のＡ−Ａ断面図で
ある。）

【図２】本発明に係わるスリットダイ先端洗浄装置全体
の構成例を示す説明図である。

【図３】ダイヘッド先端の薬液付着状態を示す説明図で
ある。

【図４】ダイヘッドを溶剤洗浄した後のコーティングの
課題を示す説明図である。

【符号の説明】

１・・・スリットダイ２・・・洗浄噴射ブロック３・・・ドライアイス等微粒子供給口４・・・窒素ガス等アシストガス供給口５・・・蛇腹ホース取付ブロック６・・・連結アングル７・・・ガイド付シリンダ８・・・蛇腹ホース９・・・位置決めピン１０・・・圧縮スプリング１１・・・リニアシャフト１２・・・支持ブロック１３・・・サイドプレート１４・・・ベースプレート１５・・・エアシリンダ等の昇降機構

フロントページの続き (72)発明者河野正樹東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内 (72)発明者山口剛史東京都台東区台東１丁目５番１号凸版印刷株式会社内Ｆターム(参考） 3B116 AA47 AB03 BA06 BB23 BB34 BB72 4F041 AB01 BA51 BA60 CA02 CA23 4F042 AB00 CC04 CC08 CC12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】スリットダイ先端に付着した液・乾燥物の
除去に用いられるスリットダイ先端洗浄装置において、
アシストガスに混合されたドライアイス微粒子をスリッ
トダイ先端に噴射するドライアイス噴射手段と、該噴射
されたガス及びスリットダイ先端から取れた付着物を吸
引するガス吸引手段とを備えることを特徴とするスリッ
トダイ先端洗浄装置。
【請求項２】前記ドライアイス噴射手段において、ドラ
イアイス微粒子とアシストガスは、噴射直前で合流する
ことを特徴とする請求項１に記載のスリットダイ先端洗
浄装置。
【請求項３】スリットダイ先端に付着した液・乾燥物の
除去に用いられるスリットダイ先端を洗浄する方法にお
いて、アシストガスに混合されたドライアイス微粒子を
スリットダイ先端に噴射し、噴射されたガスとスリット
ダイ先端から取れた付着物を吸引することを特徴とする
スリットダイ先端洗浄方法。
【請求項４】前記ドライアイス微粒子をスリットダイ先
端に噴射する際に、ドライアイス微粒子とアシストガス
は、噴射直前で合流させることを特徴とする請求項３に
記載のスリットダイ先端洗浄方法。