JP2003257638A - 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法およびこの製造方法により得られた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素発光部からの発光が良好であるととも
に、熱転写に用いるレーザー源を１本で済ますことがで
き、生産コストの低下に寄与することのできる有機エレ
クトロルミネッセンス表示パネルの製造方法を提供す
る。 【解決手段】 素子構成が基板／第１電極／少なくとも
発光層を含む複数層からなる有機物層／第２電極である
有機エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部に用い
て、複数層からなる有機物層の全体を熱転写により第１
電極上に形成する。ここで、第１電極の上に、第１〜３
発光色のそれぞれの画素発光部となる領域を熱転写によ
り形成し、続いて、他の領域にはみ出した第１〜３発光
色の薄膜をそれぞれ除去して、第１〜３発光色の画素発
光部となる領域にそれぞれ第２電極を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】この発明は、素子構成が基板／第１電極／
少なくとも発光層を含む有機物層／第２電極である有機
エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部に用いる有
機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法と、
この製造方法により得られた有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルとに関する。

【０００２】

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子と
は、素子構成が基板／第１電極／少なくとも発光層を含
む有機物層／第２電極である発光素子である。そして、
有機エレクトロルミネッセンス素子は、薄型、全固体
型、面状自発光、高速応答といった特徴を有し、ディス
プレイパネルへの応用が期待されることから、近年、各
方面で盛んに研究が行われている。

【０００３】この有機エレクトロルミネッセンス素子の
２つの電極間に電圧を印加すると、有機物層の発光層に
は一方の電極から電子が注入されるとともに他方の電極
からホ−ルが注入され、これらの電子とホ−ルとの再結
合により、発光層から面状発光が得られる。

【０００４】画素発光部に用いる有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の基板上に形成する第１電極としては、液
晶表示パネルでも用いられるＩＴＯ（酸化インジウム
錫）が、パターンニングの容易性や透明性や伝導度の点
から広く用いられており、公知のフォトリソグラフィ法
を適用することが可能である。

【０００５】一方、第１電極上に形成する少なくとも発
光層を含む有機物層は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
型フルカラー表示パネルを作製する場合には、塗り分け
る必要がある。

【０００６】そして、耐性の低い有機物層には、公知の
フォトリソグラフィ法を適用することができず、一般的
には、シャドウマスクを用いた抵抗加熱蒸着法や、イン
クジェット法、印刷法、スピンコート法などが用いられ
ている。しかし、これらの方法は、いずれもファインパ
ターンを形成することが難しく、高精細の表示パネルを
作製する場合の大きなネックとなっている。

【０００７】そこで、有機エレクトロルミネッセンス素
子の新たな成膜方法として、エネルギー源（熱源）を用
いた転写法が注目されている。すなわち、熱転写を用い
た方法が、特開平９−１６７４８４号、特開平１０−２
０８８８１号、特開平１１−２３７５０４号、特開平１
１−２６０５４９号、特開２０００−１２２１６号、特
開２０００−７７１８２号、特開２００１−１３０１４
号、特開２００１−１９５０１２号の各公報に開示され
ている。

【０００８】これらの公報に記載された熱転写法は、Ｐ
ＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムなどから
構成されるドナー基板上に、蒸着法やスピンコート法や
印刷法などで転写すべき薄膜層を形成し、この薄膜層を
成膜すべき基板に取り付けた後に、ドナー基板側からレ
ーザー光や熱などのエネルギーを加え、次いで、薄膜層
の一部もしくは全部を残してドナー基板を剥離すること
により、ドナー基板側に形成されている薄膜層を基板側
に転写するというものである。

【０００９】この熱転写法の利点は、ドナー基板上に形
成された積層状薄膜がそのまま逆構成で基板上に形成さ
れるので、一括して基板上に成膜できることである。ま
た、ドナー基板上に薄膜層を形成するときには特にパタ
ーンニングの必要がなく、ドナー基板の全面に薄膜層を
形成すればよいことである。

【００１０】そして、転写時に熱源の照射された部分だ
けがドナー基板から基板に転写されることになり、蒸着
法のようなシャドウマスクを用いることなく高精細なパ
ターンを形成することができる。したがって、熱転写法
は、有機エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部に
用いる表示パネルを作製する上で有効な方法である。

【００１１】有機エレクトロルミネッセンス素子を転写
法で作製する場合には、ＰＥＴフィルムなどからなるド
ナー基板上に少なくとも発光層を含む有機物層を形成し
たものを、第１電極が形成された基板上に熱源を用いて
転写し、その転写後に有機物層上に第２電極を形成すれ
ばよい。

【００１２】熱転写法に用いる熱源としては、局所的に
高エネルギーを供給できる点から、レーザーが好適に用
いられる。また、レーザービームの径を５０μｍにまで
絞り込んでスキャンすると、そのまま５０μｍのライン
パターンを形成することができ、高精細化が可能とな
る。レーザービームの径は、用いるレーザーの波長にも
依存するが、１０μｍ程度に絞り込むことも可能であ
る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】熱転写法の熱源に用い
るレーザーは、常時一定の出力を発振しているのではな
く、出力が時間の経過とともに変動する。このときのレ
ーザーの出力分布はガウシアン分布（正規分布）であ
る。

【００１４】このような理由で、レーザーを走査したと
きに出力が変動すると、熱転写されるラインパターンの
幅に変動が生じることになる。例えば、幅５０μｍの転
写薄膜を形成した場合、レーザーの出力変動に起因し
て、転写幅が最小４５μｍから最大５５μｍ程度にな
り、±５μｍ程度の変動が見られる。

【００１５】このため、有機エレクトロルミネッセンス
素子の画素発光部の画素幅が５０μｍであるときに５０
μｍ幅の転写薄膜を形成すると、転写幅が５０μｍ未満
になる領域が発生するおそれがある。そして、このと
き、第１電極上で有機物層が形成されない領域が生じ、
これがリーク電流やショートの発生する原因となる。

【００１６】また、レーザーが通る位置と基板上の第１
電極ラインパターンとの位置合わせ精度についても、±
３μｍ程度の誤差が存在し、レーザーが画素発光部の中
央を縦貫するように位置合わせしても、左右どちらかに
３μｍ振れると、有機物層の形成されない領域が生じ、
リーク電流やショートの発生するおそれが大きくなる。

【００１７】したがって、画素幅が５０μｍの第１電極
の上に確実に転写膜を形成するには、転写膜の設定値を
画素発光部の画素幅よりも大きくする必要がある。

【００１８】しかし、表示パネルの高精細化が進み、例
えば、有機エレクトロルミネッセンス素子における画素
発光部の画素幅が５０μｍ、ピッチが６０μｍになる場
合、転写膜の設定値を大きくして画素発光部の第１電極
がむき出しにならないようにした場合は、転写膜が隣り
の画素発光部にかぶさってしまうことがある。

【００１９】この問題を解決する方法として、レーザー
源を１本から複数本に増やして、出力を平均化すること
により、出力変動の幅を小さくすることが考えられる。

【００２０】すなわち、ライン幅５０μｍの転写薄膜を
形成した場合に、転写幅が例えば最小４９μｍから最大
５１μｍまでの程度にできるという手法である。この程
度の変動であれば、位置合わせ精度がずれても、隣りの
画素にまで転写膜が形成されることは防がれる。

【００２１】しかしながら、高価なレーザー源を複数本
使用すると、複数本のレーザーを集光するための光学設
計が必要となることから、生産コストの増大につなが
る。

【００２２】この発明は、このような実情に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、画素発光部からの発光が
良好であるとともに、熱転写に用いるレーザー源を１本
で済ますことができ、生産コストの低下に寄与すること
のできる有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製
造方法およびこの方法により製造された有機エレクトロ
ルミネッセンス表示パネルを提供することにある。

【００２３】

【課題を解決するための手段】この発明の１つの観点に
よれば、素子構成が基板／第１電極／少なくとも発光層
を含む複数層からなる有機物層／第２電極である有機エ
レクトロルミネッセンス素子を画素発光部に用いたＲ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）フルカラー型有機エレクト
ロルミネッセンス表示パネルを得ることからなる有機エ
レクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法であっ
て、複数層からなる有機物層を熱転写により第１電極上
に形成するステップとして、基板上の第１電極の上に、
Ｒ、Ｇ、Ｂのうちのいずれか１つの発光色である第１発
光色の画素発光部となる領域を熱転写により形成し、続
いて、第１発光色以外の発光色の画素発光部となる領域
にはみ出した第１発光色の薄膜を除去して、第１発光色
の画素発光部となる領域に第２電極を形成するステッ
プ、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの第１発光色以外の発光色のいず
れか１つの発光色である第２発光色の画素発光部となる
領域を熱転写により形成し、続いて、第２発光色以外の
発光色の画素発光部となる領域にはみ出した第２発光色
の薄膜を除去して、第２発光色の画素発光部となる領域
に第２電極を形成するステップ、および、Ｒ、Ｇ、Ｂの
うちの第１発光色および第２発光色以外の発光色である
第３発光色の画素発光部となる領域を熱転写により形成
し、続いて、第３発光色の画素発光部となる領域に第２
電極を形成するステップを備えてなり、これら３つのス
テップにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの塗り分けを実施することを
特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
の製造方法が提供される。

【００２４】ここで、有機エレクトロルミネッセンス素
子は、その素子構成が、基板と、この基板の上に形成さ
れた第１電極と、この第１電極の上に形成された有機物
層と、この有機物層の上に形成された第２電極とからな
る。また、その有機物層は少なくとも発光層を含む複数
層からなるものである。

【００２５】このような有機エレクトロルミネッセンス
素子を有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの画素
発光部に用いる。そして、複数層からなる有機物層の全
体を熱転写により第１電極上に形成する。

【００２６】熱転写に用いるドナー基板は、フレキシブ
ルな材料からなるのが好ましく、ＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）やＰＣ（ポリカーボネート）などの高
分子材料が好ましく用いられる。ドナー基板の厚さは１
０〜６００μｍ程度であるのが好ましい。

【００２７】熱転写の熱源としてレーザーを用いる場合
には、転写の効率を高めるために、光―熱変換層や熱伝
播層を適宜挿入することができる。

【００２８】転写法のエネルギー源としては、ドナー基
板側に構成された透明な第２電極を、また、場合によっ
てはこのような第２電極と有機物層とを、基板側に転写
できるものであれば、その種類は特に限定されないが、
高精細なパターンを得るために局所的に強いエネルギー
を与えることのできるものであるが好ましく、レーザー
光、特にＹＡＧレーザー光を好ましく用いることができ
る。

【００２９】このとき用いるレーザー光を連続発振のも
のにすることにより、完全なラインパターン状を得るこ
とができる。

【００３０】ドナー基板に形成された層は、熱転写によ
り基板に転写される。また、有機物層は多くの場合、単
層ではなく、発光層、ホール輸送層、ホール注入層、電
子輸送層、電子注入層などからなる積層体になってい
る。したがって、基板とドナー基板に形成する薄膜構成
としては、積層状構成にする場合、ドナー基板には逆構
成で積層すればよい。

【００３１】すなわち、基板／第１電極と、少なくとも
発光層を含む有機物層／ドナー基板とを貼り合わせて、
熱転写し、ドナー基板を引き剥がすと、基板／第１電極
／少なくとも発光層を含む有機物層という構成を得るこ
とができる。そして、この有機物層の上に第２電極を形
成すると、基板／第１電極／少なくとも発光層を含む有
機物層／第２電極という有機エレクトロルミネッセンス
素子を作製することができる。

【００３２】ほとんどの場合に、有機物層は発光層以外
の電荷輸送層や電荷注入層を含む積層状構成であるの
で、その有機物層の積層状構成とは逆構成で各層を形成
する。有機エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部
に用いるフルカラーのディスプレイパネルを作製する場
合には、発光層をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に塗り
分ける必要があり、３枚のドナー基板を、それぞれＲ
用、Ｇ用、Ｂ用として形成する。

【００３３】有機物層の形成方法としては公知の方法に
よることが可能であり、真空蒸着法、電子ビーム法、Ｍ
ＢＥ法などのドライプロセスや、スピンコート法、ドク
ターブレード法、インクジェット法、印刷法（凸版法、
凹版法、スクリーン法）、スプレー法、マイクログラビ
アコート法などのウエットプロセスを用いて、ドナー基
板上に有機物層を形成することになる。

【００３４】発光材料としては、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の公知材料を使用することが可能である。

【００３５】低分子材料としては、例えば、４，４‘−
ビス（２，２‘ジフェニルビニル）−ビフェニル（ＤＰ
ＶＢｉ）などの芳香族ジメチリディエン化合物、５−メ
チル−２−（２−（４−（５−メチル−２−ベンゾオキ
サジリル）フェニル）ビニル）ベンゾオキサゾールなど
のオキサジアゾール化合物、３−（４−ビフェニリル）
−４−フェニル−５−ｔ−ブチルフェニル−１，２，４
−トリアゾール（ＴＺＡ）などのトリアゾール化合物、
１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼンなどのス
チリルベンゼン化合物、チオビラジンジオキシド誘導
体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アント
ラキノン誘導体などの蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛
錯体、（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯
体（Ａｌｑ３）などの蛍光性有機金属化合物などが挙げ
られる。

【００３６】高分子材料としては、例えば、ポリ（２−
デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−ＰＰ
Ｐ）、ポリ（２，５−ビス−（２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
エチルアンモニウム）エトキシ）−１，４−フェニル−
オルト−１，４−フェニルレン）ジブロマイド（ＰＰＰ
−ＮＥｔ３＋）、ポリ（２−（２‘−エチルヘキシルオ
キシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレビニレン）
（（ＭＥＨ−ＰＰＶ）などが挙げられる。

【００３７】発光効率の向上や色度改善のために、発光
層にドーピングすることも可能である。ドーパントとし
ては、キナクリドン、ルブレン、４−ジシアノメチレン
−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスリチル）−
４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、クマリン誘導体などを適宜用
いることができる。

【００３８】ホール注入材料、ホール輸送材料、電子注
入材料および電子輸送材料についても、公知の材料を用
いることが可能である。

【００３９】ホール注入材料やホール輸送材料として
は、例えば、ポルフィリン化合物、Ｎ‘Ｎ−ビス−（３
−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）−
ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ、Ｎ‘−ジ（ナフタレン−１
−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰ
Ｄ）などの芳香族第３級アミン化合物、ヒドラゾン化合
物、キナクリドン化合物、スチルアミン化合物などの低
分子材料、ポリアニリン、３，４−ポリエチレンジオキ
シチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（ＰＥＤＴ
／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミン誘導体）、ポリ
ビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）などの高分子材料が挙
げられる。

【００４０】電子注入材料や電子輸送材料としては、例
えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、
ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、フルオレノ
ン誘導体などの低分子材料、ポリ（オキサジアゾール）
などの高分子材料が挙げられる。

【００４１】また、これらの有機物層の膜厚としては、
一般的な有機エレクトロルミネッセンス素子で採用され
ている程度の膜厚とすることができ、例えば、約１０ｎ
ｍから１μｍまでの程度にすることができる。

【００４２】基板としては、ガラス基板やＰＥＴなどの
プラスチック基板を用いることができる。

【００４３】基板上に形成する第１電極については、Ｉ
ＴＯ（酸化インジウム錫）、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｚ
ｎＯ系材料）、金、白金が好適に用いられる。第１電極
の成膜方法としては、公知の手法が適用可能であり、蒸
着法、スパッタ法、電子ビーム法、メッキ法などが挙げ
られる。また、パターンニングの方法に関しても、特に
限定されるものではなく、公知のシャドウマスク法、フ
ォトリソグラフィ法などを適用することが可能である。
第１電極の膜厚は、用いる金属材料にもよるが、通常５
０ｎｍ〜１μｍ程度である。

【００４４】少なくとも発光層を含む有機物層上に形成
する第２電極としては、公知の電極材料を用いることが
可能である。

【００４５】すなわち、第１電極を陰極とする場合に
は、有機物層への電子注入を容易にするために、仕事関
数の小さい金属を含有するもの（カルシウム、セシウ
ム、セレン、ルビジウム、バリウム、アルミニウム：フ
ッ化リチウム、アルミニウム、マグネシウム、マグネシ
ウム：銀合金、アルミニウム：リチウム合金）などを用
いることができる。

【００４６】また、第１電極を陽極とする場合には、有
機物層へのホール注入を容易にするために、仕事関数の
大きい金属（金、白金、ニッケル、銅など）や透明電極
（ＩＴＯ、ＩＤＩＸＯ、ＳｎＯ₂など）を用いることが
できる。

【００４７】この発明の１つの観点に係る有機エレクト
ロルミネッセンス表示パネルの製造方法は、次のような
点を特徴とするものである。

【００４８】すなわち、基板上の第１電極の上に、Ｒ、
Ｇ、Ｂのうちのいずれか１つの発光色である第１発光色
の画素発光部となる領域を熱転写により形成し、続い
て、第１発光色以外の発光色の画素発光部となる領域に
はみ出した第１発光色の薄膜を除去して、第１発光色の
画素発光部となる領域に第２電極を形成するステップ、
Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの第１発光色以外の発光色のいずれか
１つの発光色である第２発光色の画素発光部となる領域
を熱転写により形成し、続いて、第２発光色以外の発光
色の画素発光部となる領域にはみ出した第２発光色の薄
膜を除去して、第２発光色の画素発光部となる領域に第
２電極を形成するステップ、および、Ｒ、Ｇ、Ｂのうち
の第１発光色および第２発光色以外の発光色である第３
発光色の画素発光部となる領域を熱転写により形成し、
続いて、第３発光色の画素発光部となる領域に第２電極
を形成するステップを備えてなり、これら３つのステッ
プにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの塗り分けを実施することを特徴
とする。

【００４９】このような有機エレクトロルミネッセンス
表示パネルの製造方法によれば、画素発光部からの発光
が良好であるとともに、熱転写に用いるレーザー源を１
本で済ませることができ、生産コストの低下に寄与する
ことができる。また、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）型
フルカラー表示パネルを作製する場合に塗り分ける必要
のある、少なくとも発光層を含む有機物層を、効率よ
く、かつ好適な発光が行なわれるように形成することが
できる。

【００５０】この発明に係る有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルの製造方法は、レーザーのビーム径の設
定値として、基板上に形成される第１電極のライン幅よ
りも５μｍ以上大きいものを用いるのがいっそう好まし
い。

【００５１】このような設定値に設定されたビーム径を
有するレーザーを用いると、幅が５０μｍ程度の転写薄
膜を形成した場合に熱転写されるラインパターンの幅に
±５μｍ程度の変動が生じても、転写幅が５０μｍ程度
未満になるおそれを防止することができる。

【００５２】この発明に係る有機エレクトロルミネッセ
ンス表示パネルの製造方法は、複数層からなる有機物層
の全体を熱転写で形成するためのレーザーと、除去する
ためのレーザーとが、同一のものであるのがいっそう好
ましい。

【００５３】このようにレーザーを共通化した場合に
は、より低コストで有機エレクトロルミネッセンス表示
パネルを製造することができる。

【００５４】この発明の別の観点によれば、この発明の
１つの観点に係る有機エレクトロルミネッセンス表示パ
ネルの製造方法により得られた有機エレクトロルミネッ
センス表示パネルが提供される。

【００５５】このような有機エレクトロルミネッセンス
表示パネルによれば、画素発光部からの発光が良好であ
るとともに、熱転写に用いるレーザー源を１本で済ませ
ていることから、コストの低い表示パネルを得ることが
できる。

【００５６】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態に係
る有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法
を図面に基づいて詳しく説明する。なお、これによって
この発明が限定されるものではない。

【００５７】

【実施例】（その１） ドナー基板を作製する。

【００５８】ドナー基板として、厚さ１５０μｍのＰＥ
Ｔフィルムを用いた。転写の熱源としてＹＡＧレーザー
を用いるので、転写効率を高めるために、ＰＥＴフィル
ム上に光−熱変換層としてのカーボンブラックを厚さ４
μｍに形成した。

【００５９】（その２） ドナー基板上に少なくとも発
光層を含む有機物層を形成する。ここで、以下に説明す
る（その２−１）、（その２−２）、（その２−３）の
順序は問わない。

【００６０】（その２−１） ドナー基板上に少なくと
もＲ（赤）発光層を含む有機物層を形成する。

【００６１】ドナー基板上に少なくとも発光層を含む有
機物層を形成した。すなわち、ドナー基板を抵抗加熱蒸
着装置にセットし、ホール注入層としての銅フタロシア
ニンを膜厚２００Åに、ホール輸送層としてのＮＰＤを
膜厚４００Åに、続いてＲ（赤）発光層としてのＡｌｑ
３をドーパントの１％ＤＣＭ２とともに膜厚５００Åに
抵抗加熱蒸着法でそれぞれ形成した。これを第１発光色
からなる層〔１〕とする。

【００６２】なお、有機物層の形成時にシャドウマスク
は不要であり、ドナー基板の全面にベタで有機物層を形
成することが可能である。

【００６３】（その２−２） ドナー基板上に少なくと
もＧ（緑）発光層を含む有機物層を形成する。

【００６４】ドナー基板上に少なくとも発光層を含む有
機物層を形成した。すなわち、ドナー基板を抵抗加熱蒸
着装置にセットし、ホール注入層としての銅フタロシア
ニンを膜厚２００Åに、ホール輸送層としてのＮＰＤを
膜厚４００Åに、続いてＧ（緑）発光層としてのＡｌｑ
３をドーパントの１％キナクリドンとともに膜厚５００
Åに蒸着法でそれぞれ形成した。これを第２発光色から
なる層〔２〕とする。

【００６５】なお、有機物層の形成時にシャドウマスク
は不要であり、ドナー基板の全面にベタで有機物層を形
成することが可能である。

【００６６】（その２−３） ドナー基板上に少なくと
もＢ（青）発光層を含む有機物層を形成する。

【００６７】ドナー基板上に少なくとも発光層を含む有
機物層を形成した。すなわち、ドナー基板を抵抗加熱蒸
着装置にセットし、ホール注入層としての銅フタロシア
ニンを膜厚２００Åに、ホール輸送層としてのＮＰＤを
膜厚４００Åに、続いてＢ（青）発光層としてのＢＡｌ
ｑを膜厚５００Åに蒸着法でそれぞれ形成した。これを
第３発光色からなる層〔３〕とする。

【００６８】なお、有機物層の形成時にシャドウマスク
は不要であり、ドナー基板の全面にベタで有機物層を形
成することが可能である。

【００６９】（その３） 基板上に第１電極を形成する
（図１参照）。

【００７０】基板（１０１）としては、一般的な板厚
０．７ｍｍのホウケイ酸ガラスを用いた。ＩＰＡ（イソ
プロパノール）で超音波洗浄と蒸気洗浄とを行ない、第
１電極としてのＩＴＯ（１０２）を公知のスパッタ法で
膜厚１５００Åに形成した。

【００７１】続いて、公知のフォトリソグラフィ法で、
幅６０μｍ、ピッチ７０μｍのストライプラインパター
ンを形成した。併せて、基板（１０１）の周辺部に、位
置合わせ用のアライメントマーク（１０３）を形成し
た。

【００７２】なお、配線抵抗をより小さくする必要があ
れば、補助電極を適宜形成することができる。

【００７３】（その４） 第１電極上に、絶縁膜を用い
て画素開口部を形成する（図２参照）。

【００７４】絶縁膜（２０４）として感光性アクリル系
の樹脂を用いて、第１電極のストライプラインパターン
上に、幅方向へ５０μｍ、ライン方向へ１００μｍで、
ピッチ１１０μｍの画素開口部（２０５）を形成した。

【００７５】（その５） 少なくともＲ（赤）発光層を
含む有機物層〔１〕を形成したドナー基板と基板とを貼
り合わせて熱転写し、ドナー基板を剥離する（図３参
照）。

【００７６】少なくとも発光層を含む有機物層を形成し
たドナー基板と、第１電極まで形成した基板とを、有機
物層と第１電極が接するよう基板を上に、ドナー基板を
下にして貼り合わせた。ここでは、発光層にＲ（赤）を
形成した基板〔１〕を用いた。

【００７７】貼り合わせ部に気泡が残らないように、ロ
ーラーなどで圧着して脱気した。真空ラミネート法を用
いても気泡除去を有効に行なうことができる。

【００７８】そして、ＹＡＧレーザーを用いて、ドナー
基板側から、基板上に形成した第１電極のストライプラ
インパターンと直交する向きにレーザーを走査し、Ｒ
（赤）発光層を含む有機物層を第１電極上に転写した。
レーザーは、ビーム径が１１５μｍになるように設定し
た。また、狙った画素発光部上に良好に形成されるよう
に、基板上の位置合わせマークを用いた。

【００７９】転写後にドナー基板を剥離することによ
り、第１電極が形成された基板の上に、Ｒ（赤）発光層
〔１〕を含む有機物層が転写された（３０６）。このと
き、両隣りの、Ｇ（緑）発光層〔２〕となる領域および
Ｂ（青）発光層〔３〕となる領域には、余分な転写膜
（３０７）が形成されている。

【００８０】（その６） 隣りの画素発光部、すなわち
Ｇ（緑）、Ｂ（青）に転写されたＲ（赤）発光層〔１〕
を含む有機物層を除去する（図４参照）。

【００８１】レーザーのビーム径を５０μｍに絞った。
次に、Ｒ（赤）発光層〔１〕を含む有機物層が形成され
た両隣り、すなわちＧ（緑）発光層〔２〕、Ｂ（青）発
光層〔３〕となる領域にレーザーを照射した。位置合わ
せには、基板上に形成したアライメントマークを用い
た。レーザーを照射することにより、はみ出したＲ
（赤）発光層〔１〕を含む有機物層が除去され、リフレ
ッシュされた画素部（４０８）となった。

【００８２】（その７） Ｒ（赤）発光層〔１〕を含む
有機物層が形成された領域に、第２電極を形成する（図
５参照）。

【００８３】本実施例では、陰極にアルミニウム：リチ
ウム合金を用いた。公知方法である抵抗加熱蒸着法を用
いて、シャドウマスクにより、Ｒ（赤）発光層〔１〕を
含む有機物層が形成された領域に、第２電極のアルミニ
ウム：リチウム合金（５０９）を膜厚１５００Åになる
ように形成した。

【００８４】（その８） 少なくともＧ（緑）発光層を
含む有機物層〔２〕を形成したドナー基板と基板とを貼
り合わせて熱転写し、ドナー基板を剥離する（図６参
照）。

【００８５】ステップ（その５）と同様にして、少なく
ともＧ（緑）発光層を含む有機物層〔２〕を形成した。

【００８６】転写後にドナー基板を剥離することによ
り、第１電極が形成された基板上に、Ｇ（緑）発光層を
含む有機物層〔１〕が転写された（６１０）。このと
き、両隣りのＲ（赤）発光層〔１〕、Ｂ（青）発光層
〔３〕となる領域には、余分な転写膜（６１１）が形成
されている。

【００８７】（その９） 隣りの画素発光部即ちＢ
（青）に転写されたＧ（緑）発光層〔２〕を含む有機物
層を除去する（図７参照）。

【００８８】ステップ（その６）と同様にして、ただ
し、Ｒ（赤）発光層〔１〕が形成された領域にはすでに
第２電極が存在するので、有機エレクトロルミネッセン
ス素子の画素として、問題はない。したがって、Ｇ
（緑）発光層〔２〕を含む有機物層を除去するのは、Ｂ
（青）発光層〔３〕を含む有機物層となるべき領域だけ
である。リフレッシュされた画素（７１２）が形成され
た。

【００８９】（その１０） Ｇ（緑）発光層〔２〕を含
む有機物層が形成された領域に、第２電極を形成する
（図８参照）。

【００９０】ステップ（その７）と同様にして、第２電
極のアルミニウム：リチウム合金（８１３）を膜厚１５
００Åになるように形成した。

【００９１】（その１１） 少なくともＢ（青）発光層
を含む有機物層〔３〕を形成したドナー基板と基板とを
貼り合わせて熱転写し、ドナー基板を剥離する（図９参
照）。

【００９２】ステップ（その５）と同様にして、少なく
ともＢ（青）発光層を含む有機物層〔２〕を形成した
（９１４）。転写後にドナー基板を剥離することによ
り、第１電極が形成された基板上に、Ｂ（青）発光層を
含む有機物層〔２〕が転写された。

【００９３】（その１２） Ｂ（青）発光層３を含む有
機物層が形成された領域に、第２電極を形成する（図１
０参照）。

【００９４】ステップ（その７）と同様にして、第２電
極としてのアルミニウム：リチウム合金（１０１５）を
膜厚１５００Åになるように形成した。

【００９５】封止処理の方法としては、中空ガラスを用
いたりフィルムを用いたりする公知の方法を適用するこ
とができる。

【００９６】以上の実施例を通して作製した、画素発光
部に有機エレクトロルミネッセンス素子を用いる表示パ
ネルは、Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光色の画素発光部がいずれも
良好に発光し、フルカラー表示パネルとして充分に用い
ることができるものであった。また、有機物層を熱転写
するために用いるレーザーは１本であり、生産コストの
低下に寄与できるものであった。

【００９７】

【発明の効果】この発明の１つの観点に係る有機エレク
トロルミネッセンス表示パネルの製造方法によれば、第
１電極の上に、前記第１発光色の画素発光部となる領域
を熱転写により形成し、続いて、第１発光色以外の発光
色の画素発光部となる領域にはみ出した第１発光色の薄
膜を除去して、第１発光色の画素発光部となる領域に第
２電極を形成するステップ、前記第２発光色の画素発光
部となる領域を熱転写により形成し、続いて、第２発光
色以外の発光色の画素発光部となる領域にはみ出した第
２発光色の薄膜を除去して、第２発光色の画素発光部と
なる領域に第２電極を形成するステップ、および、前記
第３発光色の画素発光部となる領域を熱転写により形成
し、続いて、第３発光色の画素発光部となる領域に第２
電極を形成するステップを備えてなり、これら３つのス
テップにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの塗り分けを実施することを
特徴とするので、画素発光部からの発光が良好であると
ともに、熱転写に用いるレーザー源を１本で済ませるこ
とができ、生産コストの低下に寄与することができる。
また、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）型フルカラー表示
パネルを作製する場合に塗り分ける必要のある、少なく
とも発光層を含む有機物層を、効率よく、かつ好適な発
光が行なわれるように形成することができる。

【００９８】この発明の別の観点に係る有機エレクトロ
ルミネッセンス表示パネルによれば、この発明の１つの
観点に係る有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの
製造方法により得られるので、画素発光部からの発光が
良好であるとともに、熱転写に用いるレーザー源を１本
で済ませていることから、コストの低い表示パネルを得
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、この発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス表示パネルの製造方法に関する実施例のステッ
プ（その３）を示す図である。

【図２】図２は、その実施例のステップ（その４）を示
す図である。

【図３】図３は、その実施例のステップ（その５）を示
す図である。

【図４】図４は、その実施例のステップ（その６）を示
す図である。

【図５】図５は、その実施例のステップ（その７）を示
す図である。

【図６】図６は、その実施例のステップ（その８）を示
す図である。

【図７】図７は、その実施例のステップ（その９）を示
す図である。

【図８】図８は、その実施例のステップ（その１０）を
示す図である。

【図９】図９は、その実施例のステップ（その１１）を
示す図である。

【図１０】図１０は、その実施例のステップ（その１
２）を示す図である。

【符号の説明】

１０１ 基板 １０２ ＩＴＯ １０３ アライメントマーク ２０４ 絶縁膜 ２０５ 絶縁膜開口部（画素発光部） ３０６ Ｒ（赤）発光層を含む有機物層 ３０７ 余分な転写膜 ４０８ リフレッシュされた画素発光部 ５０９ 第２電極（アルミニウム：リチウム合金） ６１０ Ｇ（緑）発光層を含む有機物層 ６１１ 余分な転写膜 ７１２ リフレッシュされた画素発光部 ８１３ 第２電極（アルミニウム：リチウム合金） ９１４ Ｂ（青）発光層を含む有機物層 １０１５ 第２電極（アルミニウム：リチウム合金）

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 素子構成が基板／第１電極／少なくとも
   発光層を含む複数層からなる有機物層／第２電極である
   有機エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部に用い
   たＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）フルカラー型有機エレ
   クトロルミネッセンス表示パネルを得ることからなる有
   機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法であ
   って、 複数層からなる有機物層を熱転写により第１電極上に形
   成するステップとして、 基板上の第１電極の上に、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちのいずれか
   １つの発光色である第１発光色の画素発光部となる領域
   を熱転写により形成し、続いて、第１発光色以外の発光
   色の画素発光部となる領域にはみ出した第１発光色の薄
   膜を除去して、第１発光色の画素発光部となる領域に第
   ２電極を形成するステップ、 Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの第１発光色以外の発光色のいずれか
   １つの発光色である第２発光色の画素発光部となる領域
   を熱転写により形成し、続いて、第２発光色以外の発光
   色の画素発光部となる領域にはみ出した第２発光色の薄
   膜を除去して、第２発光色の画素発光部となる領域に第
   ２電極を形成するステップ、および、 Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの第１発光色および第２発光色以外の
   発光色である第３発光色の画素発光部となる領域を熱転
   写により形成し、続いて、第３発光色の画素発光部とな
   る領域に第２電極を形成するステップを備えてなり、こ
   れら３つのステップにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの塗り分けを実
   施することを特徴とする、有機エレクトロルミネッセン
   ス表示パネルの製造方法。
2. 【請求項２】 熱転写に用いる熱源が、レーザーである
   ことを特徴とする、請求項１に記載の有機エレクトロル
   ミネッセンス表示パネルの製造方法。
3. 【請求項３】 レーザーが、ＹＡＧレーザーであること
   を特徴とする、請求項２に記載の有機エレクトロルミネ
   ッセンス表示パネルの製造方法。
4. 【請求項４】 レーザーのビーム径の設定値として、基
   板上に形成される第１電極のライン幅よりも５μｍ以上
   大きいものを用いることを特徴とする、請求項２に記載
   の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方
   法。
5. 【請求項５】 複数層からなる有機物層の全体を熱転写
   で形成するためのレーザーと、除去するためのレーザー
   とが、同一のものであることを特徴とする、請求項２に
   記載の有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造
   方法。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１つに記載の有
   機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法によ
   り得られた有機エレクトロルミネッセンス表示パネル。