JP2003254905A - Measuring instrument - Google Patents

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JP2003254905A
JP2003254905A JP2002068767A JP2002068767A JP2003254905A JP 2003254905 A JP2003254905 A JP 2003254905A JP 2002068767 A JP2002068767 A JP 2002068767A JP 2002068767 A JP2002068767 A JP 2002068767A JP 2003254905 A JP2003254905 A JP 2003254905A
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JP
Japan
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measurement
measuring
light
light beam
incident
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002068767A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kubo
隆 久保
Toshihito Kimura
俊仁 木村
Hitoshi Shimizu
清水  仁
Nobufumi Mori
信文 森
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To measure a large number of samples in a short time, in a measuring device such as a surface plasmon resonance measuring device. <P>SOLUTION: A plurality of measuring units 10 each of which is provided with a dielectric block, a thin film layer formed on this dielectric block, and a sample holding mechanism are supported by a supporting body 2. An individual or common light beam 30 is forced to enter parallel to each dielectric block of at least two measuring units 10 supported by the supporting body 2 from an optical system comprising optical fibers 34a-34h and the like, and a plurality of light detecting means to measure intensity of the light beam 30 totally reflected by the boundary face of the dielectric block and the thin film layer are provided, with each means made to correspond to the light beam 30. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面プラズモンの
発生を利用して試料中の物質を分析する表面プラズモン
共鳴測定装置等の測定装置に関し、特に詳細には、試料
に接した薄膜層、金属膜あるいはクラッド層と誘電体ブ
ロックとの界面で光ビームを全反射させてエバネッセン
ト波を発生させ、それにより全反射した光ビームの強度
に表れる変化を測定して試料の分析を行うエバネッセン
ト波を利用した測定装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measuring device such as a surface plasmon resonance measuring device for analyzing a substance in a sample by utilizing the generation of surface plasmon, and more particularly to a thin film layer in contact with the sample, a metal. An evanescent wave is used to analyze a sample by measuring the change in the intensity of the totally reflected light beam by totally reflecting the light beam at the interface between the film or cladding layer and the dielectric block to generate an evanescent wave. The present invention relates to the measuring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属中においては、自由電子が集団的に
振動して、プラズマ波と呼ばれる粗密波が生じる。そし
て、金属表面に生じるこの粗密波を量子化したものは、
表面プラズモンと呼ばれている。
2. Description of the Related Art In a metal, free electrons oscillate collectively to generate compression waves called plasma waves. And, the quantized compression wave generated on the metal surface is
It is called surface plasmon.

【0003】従来より、この表面プラズモンが光波によ
って励起される現象を利用して、試料中の物質を定量分
析する表面プラズモン共鳴測定装置が種々提案されてい
る。そして、それらの中で特に良く知られているものと
して、 Kretschmann配置と称される系を用いるものが挙
げられる(例えば特開平6−167443号参照)。
Conventionally, various surface plasmon resonance measuring devices have been proposed for quantitatively analyzing a substance in a sample by utilizing the phenomenon that the surface plasmon is excited by a light wave. Among them, one that is particularly well known is one that uses a system called Kretschmann arrangement (see, for example, JP-A-6-167443).

【0004】上記の系を用いる表面プラズモン共鳴測定
装置は基本的に、例えばプリズム状に形成された誘電体
ブロックと、この誘電体ブロックの一面に形成されて試
料に接触させられる金属膜と、光ビームを発生させる光
源と、上記光ビームを誘電体ブロックに対して、該誘電
体ブロックと金属膜との界面で全反射条件となり、か
つ、表面プラズモン共鳴条件を含む種々の入射角が得ら
れるように入射させる光学系と、上記界面で全反射した
光ビームの強度を測定して表面プラズモン共鳴の状態を
検出する光検出手段とを備えてなるものである。
A surface plasmon resonance measuring apparatus using the above system basically comprises, for example, a dielectric block formed in a prism shape, a metal film formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, and a light beam. A light source for generating a beam and a dielectric block that directs the light beam to the dielectric block at the interface between the dielectric block and the metal film so that various incident angles including the surface plasmon resonance condition can be obtained. And an optical system for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface to detect the state of surface plasmon resonance.

【0005】なお上述のように種々の入射角を得るため
には、比較的細い光ビームを偏向させて上記界面に入射
させてもよいし、あるいは光ビームに種々の角度で入射
する成分が含まれるように、比較的太い光ビームを上記
界面で集束するように入射させてもよい。前者の場合
は、光ビームの偏向にともなって反射角が変化する光ビ
ームを、光ビームの偏向に同期移動する小さな光検出器
によって検出したり、反射角の変化方向に沿って延びる
エリアセンサによって検出することができる。一方後者
の場合は、種々の反射角で反射した各光ビームを全て受
光できる方向に延びるエリアセンサによって検出するこ
とができる。
As described above, in order to obtain various incident angles, a relatively thin light beam may be deflected to be incident on the interface, or a component which is incident on the light beam at various angles may be included. As described above, a relatively thick light beam may be incident so as to be focused at the interface. In the former case, a light beam whose reflection angle changes with the deflection of the light beam can be detected by a small photodetector that moves synchronously with the deflection of the light beam, or by an area sensor extending along the direction of change of the reflection angle. Can be detected. On the other hand, in the latter case, each light beam reflected at various reflection angles can be detected by an area sensor extending in a direction in which all the light beams can be received.

【0006】上記構成の表面プラズモン共鳴測定装置に
おいて、光ビームを金属膜に対して全反射角以上の特定
入射角θSPで入射させると、該金属膜に接している試
料中に電界分布をもつエバネッセント波が生じ、このエ
バネッセント波によって金属膜と試料との界面に表面プ
ラズモンが励起される。エバネッセント光の波数ベクト
ルが表面プラズモンの波数と等しくて波数整合が成立し
ているとき、両者は共鳴状態となり、光のエネルギーが
表面プラズモンに移行するので、誘電体ブロックと金属
膜との界面で全反射した光の強度が鋭く低下する。この
光強度の低下は、一般に上記光検出手段により暗線とし
て検出される。
In the surface plasmon resonance measuring apparatus having the above structure, when a light beam is incident on the metal film at a specific incident angle θ SP which is equal to or greater than the total reflection angle, an electric field distribution is generated in the sample in contact with the metal film. An evanescent wave is generated, and the surface plasmon is excited at the interface between the metal film and the sample by the evanescent wave. When the wave vector of the evanescent light is equal to the wave number of the surface plasmon and the wave number matching is established, both are in a resonance state and the energy of the light is transferred to the surface plasmon, so that at the interface between the dielectric block and the metal film. The intensity of the reflected light sharply decreases. This decrease in light intensity is generally detected as a dark line by the light detecting means.

【0007】なお上記の共鳴は、入射ビームがp偏光の
ときにだけ生じる。したがって、光ビームがp偏光で入
射するように予め設定しておく必要がある。
The above resonance occurs only when the incident beam is p-polarized. Therefore, it is necessary to set in advance that the light beam is incident as p-polarized light.

【0008】この全反射減衰(ATR)が生じる入射角
θSPより表面プラズモンの波数が分かると、試料の誘
電率が求められる。すなわち表面プラズモンの波数をK
SP、表面プラズモンの角周波数をω、cを真空中の光
速、εとεをそれぞれ金属、試料の誘電率とす
ると、以下の関係がある。
When the wave number of the surface plasmon is known from the incident angle θ SP at which this attenuated total reflection (ATR) occurs, the dielectric constant of the sample can be obtained. That is, the wave number of the surface plasmon is K
Let SP be the angular frequency of the surface plasmons be ω, c be the speed of light in a vacuum, ε m and ε s be the metal, and the permittivity of the sample respectively, and the following relationships are established.

【0009】[0009]

【数1】 試料の誘電率εが分かれば、所定の較正曲線等に基
づいて試料中の特定物質の濃度が分かるので、結局、上
記反射光強度が低下する入射角(全反射減衰角)θSP
を知ることにより、試料中の特定物質を定量分析するこ
とができる。
[Equation 1] If the permittivity ε s of the sample is known, the concentration of the specific substance in the sample can be known based on a predetermined calibration curve or the like, so that the incident angle (total reflection attenuation angle) θ SP at which the reflected light intensity eventually decreases.
By knowing, the specific substance in the sample can be quantitatively analyzed.

【0010】また、全反射減衰(ATR)を利用する類
似のセンサーとして、例えば「分光研究」第47巻 第
1号(1998)の第21〜23頁および第26〜27
頁に記載がある漏洩モードセンサーも知られている。こ
の漏洩モードセンサーは基本的に、例えばプリズム状に
形成された誘電体ブロックと、この誘電体ブロックの一
面に形成されたクラッド層と、このクラッド層の上に形
成されて、試料に接触させられる光導波層と、光ビーム
を発生させる光源と、上記光ビームを上記誘電体ブロッ
クに対して、該誘電体ブロックとクラッド層との界面で
全反射条件が得られ、かつ光導波層での導波モードの励
起による全反射減衰が生じ得るように種々の角度で入射
させる光学系と、上記界面で全反射した光ビームの強度
を測定して導波モードの励起状態、つまり全反射減衰状
態を検出する光検出手段とを備えてなるものである。
As a similar sensor utilizing the attenuated total reflection (ATR), for example, "Spectroscopic Research" Vol. 47, No. 1 (1998), pages 21 to 23 and 26 to 27.
Leakage mode sensors described on the page are also known. This leaky mode sensor is basically formed by, for example, a dielectric block formed in a prism shape, a clad layer formed on one surface of the dielectric block, and formed on the clad layer and brought into contact with a sample. An optical waveguide layer, a light source for generating a light beam, and the light beam with respect to the dielectric block, a total reflection condition is obtained at the interface between the dielectric block and the cladding layer, and the light guide layer is used. The optical system that is incident at various angles so that the attenuation of the total reflection due to the excitation of the wave mode may occur, and the intensity of the light beam totally reflected at the interface is measured to determine the excited state of the guided mode, that is, the attenuated total reflection state. And a light detecting means for detecting.

【0011】上記構成の漏洩モードセンサーにおいて、
光ビームを誘電体ブロックを通してクラッド層に対して
全反射角以上の入射角で入射させると、このクラッド層
を透過した後に光導波層においては、ある特定の波数を
有する特定入射角の光のみが導波モードで伝搬するよう
になる。こうして導波モードが励起されると、入射光の
ほとんどが光導波層に取り込まれるので、上記界面で全
反射する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じる。
そして導波光の波数は光導波層の上の試料の屈折率に依
存するので、全反射減衰が生じる上記特定入射角を知る
ことによって、試料の屈折率や、それに関連する試料の
特性を分析することができる。
In the leak mode sensor having the above structure,
When a light beam is incident on the cladding layer through the dielectric block at an angle of incidence equal to or more than the total reflection angle, only light with a specific incident angle having a specific wave number is transmitted in the optical waveguide layer after passing through the cladding layer. It propagates in the guided mode. When the guided mode is excited in this manner, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer, so that the total reflection attenuation occurs in which the intensity of the light totally reflected at the interface sharply decreases.
Since the wave number of the guided light depends on the refractive index of the sample on the optical waveguide layer, the refractive index of the sample and the related characteristics of the sample are analyzed by knowing the above-mentioned specific incident angle at which attenuation of total reflection occurs. be able to.

【0012】また、上述した表面プラズモン共鳴測定装
置や漏洩モードセンサーは、創薬研究分野等において、
所定のセンシング物質に結合する特定物質を見いだすラ
ンダムスクリーニングに使用されることがある。この場
合には前記薄膜層(表面プラズモン共鳴測定装置の場合
は金属膜であり、漏洩モード測定装置の場合はクラッド
層および光導波層)上に被測定物質としてセンシング物
質を固定し、該センシング物質上に被検体を含む試料液
を滴下し、所定時間が経過する毎に前述の全反射減衰角
θSPを測定している。
The surface plasmon resonance measuring device and the leaky mode sensor described above are used in the field of drug discovery research, etc.
It may be used for random screening to find a specific substance that binds to a given sensing substance. In this case, a sensing substance is fixed as a substance to be measured on the thin film layer (a metal film in the case of a surface plasmon resonance measuring device, a clad layer and an optical waveguide layer in the case of a leaky mode measuring device), and the sensing substance is fixed. The sample solution containing the test substance is dropped on the sample, and the above-described attenuated total reflection angle θ SP is measured every time a predetermined time elapses.

【0013】試料液中の被検体がセンシング物質と結合
するものであれば、この結合によりセンシング物質の屈
折率が時間経過に伴って変化する。したがって、所定時
間経過毎に全反射減衰角θSPを測定し、その値に基づ
いて被検体とセンシング物質の結合状態を測定し、その
結果に基づいて被検体がセンシング物質と結合する特定
物質であるか否かを判定することができる。このような
特定物質とセンシング物質との組み合わせとしては、例
えば抗原と抗体とが挙げられ、そのようなものに関する
具体的な測定としては、一例として、センシング物質を
ウサギ抗ヒトIgG抗体とし、被検体中のヒトIgG抗
体との結合の有無検出とその定量をする測定が挙げられ
る。
If the analyte in the sample liquid binds to the sensing substance, this binding causes the refractive index of the sensing substance to change over time. Therefore, the attenuated total reflection angle θ SP is measured every time a predetermined time elapses, the binding state between the analyte and the sensing substance is measured based on the value, and the specific substance that the analyte binds to the sensing substance based on the result is measured. It can be determined whether or not there is. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance include, for example, an antigen and an antibody. As a specific measurement relating to such a substance, for example, a rabbit anti-human IgG antibody is used as the sensing substance, There is a measurement for detecting the presence / absence of binding to the human IgG antibody and quantifying it.

【0014】なお、被検体とセンシング物質の結合状態
を測定するためには、必ずしも全反射減衰角θSPの角
度そのものを検出する必要はない。例えばセンシング物
質に試料液を添加し、その後の全反射減衰角θSPの角
度変化量を測定して、その角度変化量の大小に基づいて
結合状態を測定することもできる。
It should be noted that the angle itself of the attenuated total reflection angle θ SP does not necessarily have to be detected in order to measure the binding state between the analyte and the sensing substance. For example, it is also possible to add a sample solution to the sensing substance, measure the angle change amount of the total reflection attenuation angle θ SP after that, and measure the binding state based on the magnitude of the angle change amount.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来提供さ
れている上記表面プラズモン共鳴測定装置や漏洩モード
センサー等の測定装置においては、多数の試料について
測定する場合、測定に長時間を要するという問題が認め
られる。特に、例えば抗原抗体反応や化学反応等に伴う
試料性状の変化を検出するために、1つの試料について
時間間隔をおいて何回か測定を行なう場合には、その1
つの試料に関する測定が終了しなければ新しい試料の測
定に入れず、試料全体の測定に非常に長い時間を要して
しまう。
By the way, in the conventional measuring apparatus such as the surface plasmon resonance measuring apparatus and the leak mode sensor, there is a problem that it takes a long time to measure a large number of samples. Is recognized. In particular, in the case of performing several measurements at a time interval for one sample in order to detect changes in sample properties associated with, for example, an antigen-antibody reaction or a chemical reaction,
If the measurement of one sample is not completed, the measurement of a new sample cannot be started, and it takes a very long time to measure the entire sample.

【0016】本発明は上記の事情に鑑みて、多数の試料
についての測定を短時間で行なうことができる、測定装
置を提供することを目的とする。
In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a measuring device capable of measuring a large number of samples in a short time.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明による1つの測定
装置は、前述したとような誘電体ブロック、この誘電体
ブロックの一面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層
の表面上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる複
数の測定ユニットと、これら複数の測定ユニットを支持
した支持体と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビ
ームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロック
と前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる入射角で
入射させる入射光学系と、前記界面で全反射した光ビー
ムの強度を測定する光検出手段とを備えてなる測定装置
において、前記光学系が、前記支持体に支持された少な
くとも2つの測定ユニットの各誘電体ブロックに対して
並列的に前記光ビームを入射させるように構成され、前
記光検出手段が、前記誘電体ブロックに入射する光ビー
ムにそれぞれ1つずつ対応させて合計で少なくとも2つ
設けられていることを特徴とするものである。
One measuring device according to the present invention comprises a dielectric block as described above, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block, and a sample on the surface of the thin film layer. A plurality of measurement units having a sample holding mechanism for holding the support, a support supporting the plurality of measurement units, a light source for generating a light beam, and a dielectric block for the light beam to the dielectric block. In a measuring device comprising an incident optical system that makes an incident angle at which the total reflection condition is obtained at the interface between the block and the thin film layer, and a light detection unit that measures the intensity of the light beam totally reflected at the interface, The optical system is configured to make the light beam incident in parallel on each of the dielectric blocks of at least two measurement units supported by the support, and the photodetection means, Serial and is characterized in that at least two are provided in total in correspondence to each one in the light beam incident on the dielectric block.

【0018】また、本発明による別の測定装置は、誘電
体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された薄
膜層、この薄膜層の表面上に配されて試料中の特定成分
と相互作用を生じるセンシング物質、およびこのセンシ
ング物質の表面上に試料を保持する試料保持機構を備え
てなる複数の測定ユニットと、これら複数の測定ユニッ
トを支持した支持体と、光ビームを発生させる光源と、
前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる
入射角で入射させる入射光学系と、前記界面で全反射し
た光ビームの強度を測定する光検出手段とを備えてなる
測定装置において、前記光学系が、前記支持体に支持さ
れた少なくとも2つの測定ユニットの各誘電体ブロック
に対して並列的に前記光ビームを入射させるように構成
され、前記光検出手段が、前記誘電体ブロックに入射す
る光ビームにそれぞれ1つずつ対応させて合計で少なく
とも2つ設けられていることを特徴とするものである。
Another measuring device according to the present invention is a dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block, and a thin film layer disposed on the surface of the thin film layer to interact with a specific component in a sample. A sensing substance generated, and a plurality of measurement units provided with a sample holding mechanism for holding a sample on the surface of the sensing substance, a support supporting the plurality of measurement units, a light source for generating a light beam,
An incident optical system that causes the light beam to enter the dielectric block at an angle of incidence at which the total reflection condition is obtained at the interface between the dielectric block and the thin film layer, and the intensity of the light beam totally reflected at the interface. In the measuring device, the optical system is configured to make the light beam incident on the dielectric blocks of the at least two measuring units supported by the support body in parallel. It is characterized in that at least two photodetecting means are provided in total, one for each light beam incident on the dielectric block.

【0019】上記のような測定装置としては、金属膜を
上記薄膜層として用いる前述の表面プラズモン測定装置
や、誘電体ブロックの一面に形成されたクラッド層と、
このクラッド層の上に形成された光導波層とからなる層
を上記薄膜層として用いる前述の漏洩モード測定装置等
がある。
As the above-mentioned measuring device, the above-mentioned surface plasmon measuring device using a metal film as the above-mentioned thin film layer, a clad layer formed on one surface of the dielectric block,
There is the above-mentioned leaky mode measuring device which uses a layer composed of an optical waveguide layer formed on the clad layer as the thin film layer.

【0020】本発明による測定装置において、光検出手
段により前記界面で全反射した光ビームの強度を測定し
て試料の分析を行うには種々の方法があり、例えば、光
ビームを前記界面で全反射条件が得られる種々の入射角
で入射させ、各入射角に対応した位置毎に前記界面で全
反射した光ビームの強度を測定して、全反射減衰により
発生した暗線の位置(角度)を検出することにより試料
分析を行ってもよいし、D.V.Noort,K.johansen,C.-F.Ma
ndenius, Porous Gold in Surface Plasmon Resonance
Measurement, EUROSENSORS XIII, 1999, pp.585-588 に
記載されているように、複数の波長の光ビームを前記界
面で全反射条件が得られる入射角で入射させ、各波長毎
に前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して、各
波長毎の全反射減衰の程度を検出することにより試料分
析を行ってもよい。
In the measuring device according to the present invention, there are various methods for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface by the light detecting means to analyze the sample. For example, the light beam is totally reflected at the interface. The intensity of the light beam totally reflected by the interface is measured at each position corresponding to each incident angle, and the position (angle) of the dark line generated by the attenuated total reflection is measured. Sample analysis may be carried out by detecting, DVNoort, K.johansen, C.-F.Ma.
ndenius, Porous Gold in Surface Plasmon Resonance
As described in Measurement, EUROSENSORS XIII, 1999, pp.585-588, light beams with a plurality of wavelengths are made incident at an incident angle at which total reflection conditions are obtained at the interface, and total wavelength is obtained at the interface for each wavelength. The sample analysis may be performed by measuring the intensity of the reflected light beam and detecting the degree of attenuation of total reflection for each wavelength.

【0021】また、P.I.Nikitin,A.N.Grigorenko,A.A.B
eloglazov,M.V.Valeiko,A.I.Savchuk,O.A.Savchuk, Sur
face Plasmon Resonance Interferometry for Micro-Ar
rayBiosensing, EUROSENSORS XIII, 1999, pp.235-238
に記載されているように、光ビームを前記界面で全反射
条件が得られる入射角で入射させるとともに、この光ビ
ームの一部を、この光ビームが前記界面に入射する前に
分割し、この分割した光ビームを、前記界面で全反射し
た光ビームと干渉させて、その干渉後の光ビームの強度
を測定することにより試料分析を行ってもよい。
Also, PINikitin, ANGrigorenko, AAB
eloglazov, MVValeiko, AISavchuk, OASavchuk, Sur
face Plasmon Resonance Interferometry for Micro-Ar
rayBiosensing, EUROSENSORS XIII, 1999, pp.235-238
The light beam is incident at an angle of incidence such that total internal reflection conditions are obtained at the interface, and a portion of the light beam is split before the light beam enters the interface; The sample analysis may be performed by causing the divided light beam to interfere with the light beam totally reflected at the interface and measuring the intensity of the light beam after the interference.

【0022】また、上記の光学系は、前記支持体に支持
された全ての測定ユニットの誘電体ブロックに対して並
列的に前記光ビームを入射させるように構成されるのが
望ましい。
Further, it is preferable that the above optical system is constructed so that the light beams are incident in parallel on the dielectric blocks of all the measurement units supported by the support.

【0023】またこの光学系は、1つまたは複数設けら
れた前記光源の各々から発せられた1本の光ビームを複
数に分岐させて、分岐後の光ビームをそれぞれ前記誘電
体ブロックに入射させるように構成されることが望まし
い。例えば光ビームを並列的に入射させる測定ユニット
の数が8である場合、1つの光源から発せられた1本の
光ビームを8本に分岐させたり、2つの光源からそれぞ
れ発せられた1本の光ビームを4本に分岐して合計で8
本の光ビームを得るようなことが可能である。
Further, this optical system splits a single light beam emitted from each of the one or a plurality of the light sources provided, and makes the split light beams respectively enter the dielectric block. It is desirable to be configured as follows. For example, when the number of measurement units that make light beams incident in parallel is eight, one light beam emitted from one light source is branched into eight, or one light beam emitted from each of two light sources is divided into eight. Divide the light beam into 4 and total 8
It is possible to obtain a light beam of a book.

【0024】またこの光学系は、1つまたは複数設けら
れた光源の各々から発せられた光ビームを扁平化させ
て、扁平化した光ビームを誘電体ブロックの複数に入射
させるように構成されてもよい。例えば光ビームを並列
的に入射させる測定ユニットの数が8である場合、1つ
の光源から発せられた1本の光ビームを8つの測定ユニ
ットに同時入射させるように扁平化したり、2つの光源
からそれぞれ発せられた1本の光ビームを4つの測定ユ
ニットに同時入射させるように扁平化する等の構成を採
用することができる。
Further, the optical system is configured to flatten the light beams emitted from each of the one or more light sources provided and make the flattened light beams incident on the plurality of dielectric blocks. Good. For example, when the number of measurement units for making light beams incident in parallel is eight, one light beam emitted from one light source is flattened so as to be made incident on eight measurement units at the same time, or from two light sources. A configuration such as flattening so that one light beam emitted from each of them can be simultaneously incident on four measurement units can be adopted.

【0025】あるいは、上述のように光ビームを分岐さ
せたり扁平化することはしないで、光ビームを入射させ
る複数の測定ユニットと同数だけ前記光源が設けられた
上で、光学系が、これらの光源の各々から発せられた光
ビームをそれぞれ前記誘電体ブロックに入射させるよう
に構成されてもよい。
Alternatively, as described above, the light beams are not branched or flattened, and the same number of the light sources as the plurality of measurement units that make the light beams incident are provided, and the optical system is provided with these light sources. A light beam emitted from each of the light sources may be configured to be incident on each of the dielectric blocks.

【0026】また、本発明による測定装置においては、
前記支持体と前記光学系および光検出手段とを相対移動
させて、各測定ユニットを、その誘電体ブロックに前記
光ビームが入射する測定位置および、入射しない待機位
置のいずれかに選択的に配置する駆動手段を備えている
こと望ましい。なお、上記の待機位置は、1つだけ設定
されてもよいし、あるいは複数設定されてもよい。
In the measuring device according to the present invention,
By moving the support, the optical system, and the light detection means relatively, each measurement unit is selectively arranged at either a measurement position where the light beam is incident on the dielectric block or a standby position where the light beam is not incident. It is desirable to have a driving means to operate. It should be noted that only one standby position may be set, or a plurality of standby positions may be set.

【0027】そのような駆動手段が設けられる場合、前
記支持体としては、複数の測定ユニットを直線的に1列
に並べて支持するものが用いられる一方、駆動手段とし
て、この支持体と前記光学系および光検出手段とを複数
の測定ユニットの並び方向に直線的に相対移動させるも
のが用いられること望ましい。
When such a driving means is provided, as the supporting body, one that supports a plurality of measurement units linearly arranged in a line is used, while as the driving means, this supporting body and the optical system are used. It is desirable to use one that moves the light detection means and the light detection means linearly relative to each other in the arrangement direction of the plurality of measurement units.

【0028】あるいは、上述のような駆動手段が設けら
れる場合、支持体として、複数の測定ユニットを円周上
に並べて支持するものが用いられる一方、駆動手段とし
て、この支持体と前記光学系および光検出手段とを、複
数の測定ユニットの並び方向に円周に沿って相対移動さ
せるものが用いられてもよい。
Alternatively, in the case where the driving means as described above is provided, a supporting body that supports a plurality of measurement units arranged side by side on the circumference is used, while the supporting means and the optical system and It is also possible to use one that relatively moves the light detection means along the circumference in the direction in which the plurality of measurement units are arranged.

【0029】また、上述のような駆動手段が設けられる
場合は、例えば前記光学系および光検出手段が静止状態
に保たれるものとされて、駆動手段が前記支持体を移動
させるように構成される。あるいはそれと反対に、支持
体が静止状態に保たれるものとされて、駆動手段が前記
光学系および光検出手段を移動させるように構成されて
もよい。
When the driving means as described above is provided, for example, the optical system and the light detecting means are kept stationary, and the driving means is configured to move the support. It Alternatively, conversely, the support may be kept stationary and the drive means may be arranged to move the optical system and the light detection means.

【0030】なお、上記の駆動手段が設けられる場合
は、支持体に支持される測定ユニットの数と前記光学系
から発せられる光ビームの本数とは、必ずしも一致して
いなくてもよい。例えば、支持体に支持される測定ユニ
ットの数が8個である場合、光学系から4本の光ビーム
が発せられるようにし、まず4個の測定ユニットに光ビ
ームを照射して測定を行なった後、駆動手段を駆動させ
て残りの4個の測定ユニットを光ビームが照射される測
定位置に設定し、その状態でそれらの4個の測定ユニッ
トに光ビームを照射して測定を行なうようにしてもよ
い。
When the above driving means is provided, the number of measurement units supported by the support and the number of light beams emitted from the optical system do not necessarily match. For example, when the number of measurement units supported by the support is eight, four light beams are emitted from the optical system, and the four measurement units are first irradiated with the light beams to perform the measurement. After that, the driving means is driven to set the remaining four measuring units to the measurement positions where the light beams are irradiated, and in that state, the four measuring units are irradiated with the light beams to perform the measurement. May be.

【0031】また、本発明による測定装置においては、
前記待機位置に設定された測定ユニットを支持体から取
り外すとともに、取り外された測定ユニットを再度この
支持体に支持させる測定ユニット給排手段が設けられる
のが望ましい。
In the measuring device according to the present invention,
It is desirable to provide a measuring unit feeding / discharging means for removing the measuring unit set to the standby position from the support and supporting the removed measuring unit again on the support.

【0032】また、本発明による測定装置においては、
前記支持体が、それぞれに並列的に前記光ビームが入射
するように複数の測定ユニットを一方向に並べて支持す
るとともに、この一方向と交わる他方向にも複数の測定
ユニットを並べて支持するように構成された上で、この
支持体と前記光学系および光検出手段とを相対的に上記
他方向に移動させて、この他方向に並んでいる複数の測
定ユニットを順次前記光ビームが入射する位置に配する
測定ユニット送り手段が設けられるのが望ましい。
In the measuring device according to the present invention,
The support supports a plurality of measurement units arranged side by side in one direction so that the light beams are incident in parallel to each other, and also supports a plurality of measurement units side by side in another direction intersecting with the one direction. After being configured, the support, the optical system, and the light detection means are relatively moved in the other direction, and the plurality of measurement units arranged in the other direction are sequentially incident to the light beam. It is desirable to provide a measuring unit feeding means arranged in the.

【0033】また、本発明による測定装置においては、
前記誘電体ブロックと支持体とが一体的に形成されても
よい。
In the measuring device according to the present invention,
The dielectric block and the support may be integrally formed.

【0034】また、本発明による測定装置においては、
前記待機位置に、測定ユニットを温度管理下で保管する
保管手段を備えているのが望ましい。
In the measuring device according to the present invention,
It is desirable that a storage means for storing the measurement unit under temperature control is provided at the standby position.

【0035】また、本発明による測定装置においては、
前記待機位置に、測定ユニットの状態を検出する状態検
出手段を備えていることが望ましい。
In the measuring device according to the present invention,
It is desirable that the standby position is provided with a state detecting means for detecting the state of the measuring unit.

【0036】測定ユニットに試料を分注後しばらくは上
記測定装置により検出される信号にドリフトが生じる。
この検出信号のドリフトの主な原因は、分注した試料が
測定ユニットになじむまでに時間を要し、その間に測定
ユニットに温度変動等が生じるためである。上記状態検
出手段は、上述のような過渡応答状態を検出するための
ものであって、例えば、温度センサにより測定ユニット
(試料)の温度を検出してもよいし、エバネッセント波
を利用したセンサにより試料の屈折率の変化を検出して
もよい。
For a while after the sample is dispensed to the measuring unit, the signal detected by the measuring device drifts.
The main cause of the drift of the detection signal is that it takes time for the dispensed sample to adapt to the measurement unit, and during that time, temperature fluctuations or the like occur in the measurement unit. The state detection means is for detecting the transient response state as described above. For example, the temperature of the measurement unit (sample) may be detected by a temperature sensor, or a sensor using an evanescent wave may be used. A change in the refractive index of the sample may be detected.

【0037】また、本発明による測定装置においては、
光検出手段の検出動作のタイミングを指示するタイミン
グ指示手段を備えていてもよい。
In the measuring device according to the present invention,
A timing instruction means for instructing the timing of the detection operation of the light detection means may be provided.

【0038】さらに、本発明による測定装置において
は、光学系が複数設けられ、光検出手段が、複数の光学
系に対応して複数設けられていること、すなわち、複数
の系で同時に測定を行えるように構成されていることが
望ましい。
Further, in the measuring device according to the present invention, a plurality of optical systems are provided and a plurality of photodetection means are provided corresponding to the plurality of optical systems, that is, the measurement can be performed simultaneously by the plurality of systems. It is desirable that it is configured as follows.

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明の測定装置は、前述した通りの誘
電体ブロック、薄膜層(表面プラズモン共鳴を利用する
ものにあっては金属膜であり、導波モードの励起を利用
するものにあってはクラッド層および光導波層である)
および、試料保持機構を備えてなる複数の測定ユニット
を支持体に支持させた上で、それらの測定ユニットの少
なくとも2つの誘電体ブロックに対して光学系から並列
的に光ビームを入射させるとともに、それらの誘電体ブ
ロックに入射する光ビームにそれぞれ1つずつ対応させ
て光検出手段を設けているので、上記少なくとも2つの
測定ユニットによる測定を相並行して実行可能となる。
それにより、本発明の測定装置によれば、多数の試料に
ついての測定を短時間で行なうことが可能になる。
As described above, the measuring device of the present invention is a dielectric block, a thin film layer (a metal film in the case of utilizing surface plasmon resonance, and a metal film in the case of utilizing excitation of a guided mode). Are the cladding layer and the optical waveguide layer)
And, after supporting a plurality of measurement units provided with a sample holding mechanism on a support, and making a light beam enter in parallel from at least two dielectric blocks of these measurement units from an optical system, Since the light detection means is provided in correspondence with each of the light beams incident on these dielectric blocks, the measurement by the at least two measurement units can be performed in parallel.
As a result, according to the measuring apparatus of the present invention, it is possible to measure a large number of samples in a short time.

【0040】特に上記の光学系が、光源から発せられた
1本の光ビームを複数に分岐したりあるいは扁平化する
ことにより、前記支持体に支持された全ての測定ユニッ
トの誘電体ブロックに対して並列的に前記光ビームを入
射させるように構成されている場合は、支持体に支持さ
れた複数の測定ユニットによる測定を全て並行して実行
可能となり、多数の試料についての測定をより短時間で
行なうことが可能になる。
In particular, the above optical system splits or flattens one light beam emitted from the light source into a plurality of beams or flattens the light beams, so that the dielectric blocks of all the measurement units supported by the support are supported. In the case where the light beams are incident in parallel with each other, it is possible to carry out all the measurements by a plurality of measurement units supported by the support in parallel, and to measure a large number of samples in a shorter time. Can be done in.

【0041】なお本発明の測定装置のうち、特に薄膜層
の表面上に試料中の特定成分と相互作用を生じるセンシ
ング物質を配し、このセンシング物質の表面上に試料を
保持する構成としたものにおいては、上記相互作用によ
って表面プラズモン共鳴の状態あるいは導波モードの励
起状態、つまり全反射減衰の状態が変化するので、この
変化を捕えることによって、試料中の特定成分とセンシ
ング物質との特異反応を検出することができる。
In the measuring apparatus of the present invention, a sensing substance which interacts with a specific component in the sample is arranged on the surface of the thin film layer, and the sample is held on the surface of the sensing substance. In the above, since the state of surface plasmon resonance or the excited state of the guided mode, that is, the state of attenuated total reflection changes due to the above interaction, by capturing this change, the specific reaction between the specific component in the sample and the sensing substance. Can be detected.

【0042】また、前記支持体と前記光学系および光検
出手段とを相対移動させて、各測定ユニットを、その誘
電体ブロックに前記光ビームが入射する測定位置およ
び、入射しない待機位置のいずれかに選択的に配置する
駆動手段が設けられている場合は、待機位置において支
持体に対する測定ユニットの装着および取外しや、試料
の点着等を行なえるようになり、測定作業の能率を高め
ることができる。
Further, the support, the optical system and the light detecting means are moved relative to each other, and each measuring unit is placed at either a measurement position where the light beam is incident on the dielectric block or a standby position where the light beam is not incident. If a drive means for selectively arranging the measurement unit is provided, it becomes possible to attach and detach the measurement unit to and from the support at the standby position, and to spot the sample, thereby improving the efficiency of the measurement work. it can.

【0043】また、本発明による測定装置において、前
記待機位置に設定された測定ユニットを支持体から取り
外すとともに、取り外された測定ユニットを再度この支
持体に支持させる測定ユニット給排手段が設けられてい
る場合は、前述したランダムスクリーニングのように、
1つの試料に関して複数回測定を行なう際に、その測定
作業の能率を高めることができる。すなわちその場合
は、支持体に支持されている測定ユニットの試料に関し
て一度測定を行なったならば、それらの測定ユニットを
待機位置に設定して支持体から取り外し、支持体に別の
複数の測定ユニットを支持させてそれらの測定ユニット
の試料に関して測定を行ない、その後それら別の測定ユ
ニットを待機位置に設定して支持体から取り外し、次い
で既に一度測定を行なった測定ユニットを支持体に再度
支持させてそれらの測定ユニットの試料に関して次の測
定を行なう………という操作を繰り返すことにより、1
つの試料に関する複数回の測定の合間の時間を有効利用
して別の試料に関する測定を行なうことができ、より短
い時間でより多くの試料について測定が可能となる。
Further, in the measuring apparatus according to the present invention, a measuring unit feeding / discharging means for removing the measuring unit set at the standby position from the support and supporting the removed measuring unit again on the support is provided. If so, like the random screening described above,
It is possible to improve the efficiency of the measurement work when the measurement is performed a plurality of times for one sample. That is, in that case, once the measurement is performed on the sample of the measurement unit supported by the support, the measurement units are set to the standby position and removed from the support, and another plurality of measurement units are attached to the support. To perform measurement on the samples of those measurement units, then set the other measurement units to the standby position and remove them from the support, and then re-support the measurement unit that has already measured once. The next measurement is performed on the samples of those measurement units.
The time between a plurality of measurements for one sample can be effectively used to perform the measurement for another sample, and more samples can be measured in a shorter time.

【0044】さらに本発明による測定装置において、前
記支持体が、それぞれに並列的に光ビームが入射するよ
うに複数の測定ユニットを一方向に並べて支持するとと
もに、この一方向と交わる他方向にも複数の測定ユニッ
トを並べて支持するように構成された上で、この支持体
と前記光学系および光検出手段とを相対的に上記他方向
に移動させて、この他方向に並んでいる複数の測定ユニ
ットを順次光ビームが入射する位置に配する測定ユニッ
ト送り手段が設けられた場合は、測定の作業能率をさら
に向上させることができる。すなわち、このような構成
が採用された場合は、上記一方向に並んでいる複数の測
定ユニットに並列的に光ビームを入射させて測定を行な
った後、支持体と光学系および光検出手段とを相対的に
上記他方向に移動させれば、直ちに、上記一方向に並ん
でいる別の複数の測定ユニットを用いた測定を行なうこ
とができるから、多数の測定ユニットによる測定を極め
て短時間内に済ませることが可能となる。
Further, in the measuring apparatus according to the present invention, the support supports a plurality of measuring units arranged in one direction so that the light beams are incident in parallel to each other, and also in the other direction intersecting with the one direction. A plurality of measurement units are arranged so as to support a plurality of measurement units side by side, and the support, the optical system, and the light detection means are relatively moved in the other direction, and a plurality of measurements arranged in the other direction. When the measuring unit feeding means for arranging the units at the positions where the light beams are sequentially incident is provided, the work efficiency of the measurement can be further improved. That is, when such a configuration is adopted, after the light beam is incident in parallel to the plurality of measurement units arranged in the one direction to perform measurement, the support, the optical system, and the light detection unit are By relatively moving in the other direction, it is possible to immediately perform the measurement using a plurality of other measuring units arranged in the one direction, so that the measurement by a large number of measuring units can be performed within an extremely short time. It is possible to complete.

【0045】また、本発明による測定装置において、前
記誘電体ブロックと支持体とが一体的に形成されている
場合は、誘電体ブロックを1つ1つ支持体に支持させる
作業が不要になるから、測定の作業能率をより一層高め
ることができる。
Further, in the measuring apparatus according to the present invention, when the dielectric block and the support are integrally formed, the work of supporting each dielectric block on the support becomes unnecessary. The measurement work efficiency can be further improved.

【0046】[0046]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態による表面プラズモン共鳴測定装置の全体形状
を示す平面図であり、また図2はこの装置の要部の斜視
形状を示している。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing an overall shape of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a perspective shape of a main part of this apparatus.

【0047】図1および図2に示す通りこの表面プラズ
モン共鳴測定装置は、後述する測定ユニット10を支持す
る支持体として、互いに平行に配された2本のガイドロ
ッド1,1に摺動自在に係合し、それらに沿って図中の
矢印Y方向(後述する測定ユニット連結体8の長手方
向)に直線移動自在とされたスライドブロック2を有し
ている。そしてこのスライドブロック2には、上記ガイ
ドロッド1,1と平行に配された精密ねじ3が螺合さ
れ、この精密ねじ3はそれとともに支持体駆動手段を構
成するパルスモータ4によって正逆回転されるようにな
っている。
As shown in FIGS. 1 and 2, this surface plasmon resonance measuring device is slidable on two guide rods 1, 1 arranged in parallel with each other, as a support for supporting a measuring unit 10 described later. The slide block 2 is engaged with the slide block 2 and is linearly movable along the arrow Y direction (longitudinal direction of the measuring unit connecting body 8 to be described later) in the drawing. A precision screw 3 arranged in parallel with the guide rods 1, 1 is screwed into the slide block 2, and the precision screw 3 is rotated in the forward and reverse directions by a pulse motor 4 which constitutes a support driving means. It has become so.

【0048】このパルスモータ4の駆動は、モータコン
トローラ5によって制御される。すなわちモータコント
ローラ5には、スライドブロック2内に組み込まれてガ
イドロッド1,1の長手方向における該スライドブロッ
ク2の位置を検出するリニアエンコーダ(図示せず)の
出力信号S10が入力され、モータコントローラ5はこの
信号S10に基づいてパルスモータ4の駆動を制御する。
The drive of the pulse motor 4 is controlled by the motor controller 5. That is, the motor controller 5 receives the output signal S10 of a linear encoder (not shown) which is incorporated in the slide block 2 and detects the position of the slide block 2 in the longitudinal direction of the guide rods 1, 1 to input the motor controller 5 to the motor controller 5. Reference numeral 5 controls the drive of the pulse motor 4 based on this signal S10.

【0049】ここで本実施の形態においては、一例とし
て8個の測定ユニット10を連結固定してなるスティック
状の測定ユニット連結体8が用いられ、測定ユニット10
は8個一列に並べた状態でスライドブロック2にセット
されるようになっている。図3は、この測定ユニット連
結体8の構造を詳しく示すものである。ここに示される
通り測定ユニット連結体8は、測定ユニット10が8個、
連結部材9により連結されてなるものである。
In this embodiment, as an example, a stick-shaped measuring unit connecting body 8 formed by connecting and fixing eight measuring units 10 is used.
Are arranged on the slide block 2 in a state where they are arranged in a line. FIG. 3 shows in detail the structure of the measuring unit linked body 8. As shown here, the measurement unit connected body 8 includes eight measurement units 10,
It is connected by a connecting member 9.

【0050】測定ユニット10は図3に示される通り、例
えば外形が概略直方体状に形成された透明誘電体ブロッ
ク11と、この誘電体ブロック11の上面から掘り下げた形
に設けられた穴11bの底面上に形成された例えば金、
銀、銅、アルミニウム等からなる金属膜12とを有してい
る。誘電体ブロック11の上記穴11bの周囲部分は、金属
膜12の上に、つまり穴11bの中に試料を保持する試料保
持枠11cを構成している。この穴11bの中には、後述の
ようにして例えば液体の試料が貯えられる。
As shown in FIG. 3, the measuring unit 10 includes, for example, a transparent dielectric block 11 whose outer shape is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and a bottom surface of a hole 11b which is formed by digging down from the upper surface of the dielectric block 11. Gold, for example, formed on
It has a metal film 12 made of silver, copper, aluminum or the like. A portion of the dielectric block 11 around the hole 11b constitutes a sample holding frame 11c for holding the sample on the metal film 12, that is, in the hole 11b. A liquid sample, for example, is stored in the hole 11b as described later.

【0051】上記誘電体ブロック11は、例えば透明樹脂
等を射出成形してなるものであり、スライドブロック2
に対して交換可能な測定チップを構成している。なお本
例では、金属膜12の上にセンシング物質14が固定されて
いるが、それについては後に詳述する。
The dielectric block 11 is formed by injection molding a transparent resin, for example, and the slide block 2
A measuring chip that can be exchanged with respect to is configured. In this example, the sensing substance 14 is fixed on the metal film 12, which will be described later in detail.

【0052】また上記測定ユニット連結体8は例えば図
4に示すように、複数(本例では12個)まとめてプレ
ート40にセットされ、この状態で運搬および取扱いがな
される。つまりこの1枚のプレート40によって、測定ユ
ニット10は96個単位で運搬され、かつ取り扱われる。
Further, as shown in FIG. 4, for example, a plurality (12 in this example) of the measuring unit linked bodies 8 are collectively set on the plate 40, and transported and handled in this state. In other words, with this single plate 40, the measuring units 10 are transported and handled in units of 96 units.

【0053】なお、このように測定ユニット10を複数ま
とめて測定ユニット連結体8として取り扱う場合は、測
定ユニット10に液体試料を供給する手段として、図5に
示すような分注機45を使用するのが望ましい。この分注
機45は、測定ユニット連結体8における測定ユニット10
の数と同数の分注ノズル46が、これらの測定ユニット10
の配置ピッチと同じピッチで支持部材47に支持されてな
るものであり、1つの測定ユニット連結体8の複数の測
定ユニット10に同時に液体試料を分注可能であるので、
試料供給作業の能率を高めることができる。
When a plurality of measuring units 10 are collectively treated as the measuring unit connecting body 8 as described above, a dispenser 45 as shown in FIG. 5 is used as a means for supplying a liquid sample to the measuring unit 10. Is desirable. This dispenser 45 is provided with the measuring unit 10 in the measuring unit connecting body 8.
As many dispensing nozzles 46 as these measuring units 10
Since it is supported by the support member 47 at the same pitch as the arrangement pitch of, the liquid sample can be simultaneously dispensed to the plurality of measurement units 10 of one measurement unit connected body 8.
The efficiency of sample supply work can be improved.

【0054】図1、2の装置に戻ると、図6に側面形状
を示すように前記ガイドロッド1,1の側上方には、そ
れに沿って移動するスライドブロック2をそれぞれ左右
から挟む形で、マイクロレンズアレイ6と8個の光検出
器7a、7b、7c、7d、7e、7f、7gおよび7
hとが配設されている。マイクロレンズアレイ6は、ス
ライドブロック2にセットされた8個の測定ユニット10
に各々整合する8個の凸レンズ6a〜hを有するもので
ある。一方8個の光検出器7a〜hも、スライドブロッ
ク2にセットされた8個の測定ユニット10に各々整合す
る状態に配設されている。光検出器7a〜hの各々は、
多数の受光素子が1列に配されてなるラインセンサーか
ら構成されており、受光素子の並び方向が図6中の矢印
X方向となるように配されている。
Returning to the apparatus of FIGS. 1 and 2, as shown in the side view of FIG. 6, above the guide rods 1 and 1, slide blocks 2 which move along the guide rods 1 are sandwiched from the left and right sides, respectively. Microlens array 6 and eight photodetectors 7a, 7b, 7c, 7d, 7e, 7f, 7g and 7
and h are provided. The microlens array 6 comprises eight measuring units 10 set on the slide block 2.
And eight convex lenses 6a to 6h, which are respectively matched with. On the other hand, the eight photodetectors 7a to 7h are also arranged so as to be aligned with the eight measurement units 10 set on the slide block 2. Each of the photodetectors 7a-h
It is composed of a line sensor in which a large number of light receiving elements are arranged in one row, and the light receiving elements are arranged so that they are arranged in the direction of arrow X in FIG.

【0055】上記マイクロレンズアレイ6の各凸レンズ
6a〜hの光軸上には、それぞれ光ファイバー34a〜h
が配され、それらから発散光状態で発せられた光ビーム
30が各々凸レンズ6a〜hに入射するようになってい
る。図7は、この光ファイバー34a〜hを含む光学系
と、それに組み合わされた光源とを示すものである。以
下、この図7の構成について説明する。
Optical fibers 34a-h are respectively provided on the optical axes of the convex lenses 6a-6h of the microlens array 6.
The light beams emitted from them in a divergent light state
30 is incident on each of the convex lenses 6a to 6h. FIG. 7 shows an optical system including the optical fibers 34a to 34h and a light source combined with the optical system. The configuration of FIG. 7 will be described below.

【0056】本例では光源として、例えば波長が赤外域
にある光ビーム(レーザビーム)30を発する半導体レー
ザ31が用いられている。この半導体レーザ31から発散光
状態で前方側(図中の右方側)に発せられた光ビーム30
は、コリメーターレンズ32によって平行光とされ、次い
で集光レンズ33により集光されて、光ファイバー34mに
入射させられる。光ファイバー34mは光カップラーユニ
ット35に接続されている。光カップラーユニット35は、
入力光を分岐比50:50で2系統に分岐する光カップ
ラーが3段に設けられてなるものであり、それにより、
光ファイバー34mに入力された光ビーム30が互いに等光
量にして8系統に分岐され、分岐された各光ビーム30が
それぞれ光ファイバー34a、34b、34c、34d、34e、
34f、34gおよび34hに導かれる。
In this example, a semiconductor laser 31 that emits a light beam (laser beam) 30 having a wavelength in the infrared region is used as the light source. A light beam 30 emitted from the semiconductor laser 31 in a divergent state to the front side (right side in the figure)
Is collimated by the collimator lens 32, then condensed by the condenser lens 33 and made incident on the optical fiber 34m. The optical fiber 34m is connected to the optical coupler unit 35. The optical coupler unit 35 is
An optical coupler that splits the input light into two systems with a splitting ratio of 50:50 is provided in three stages.
The light beams 30 input to the optical fiber 34m are divided into eight systems with equal light amounts, and the branched light beams 30 are respectively divided into optical fibers 34a, 34b, 34c, 34d, 34e,
Guided to 34f, 34g and 34h.

【0057】なお、これらの光ファイバー34a〜hおよ
び34mの端面を含む、半導体レーザ31の前方側に配され
た光学部品の光通過面には、該半導体レーザ31の発振波
長に対するAR(無反射)コートが施されている。それ
により、それらの面で反射した光が戻り光となって半導
体レーザ31に入射して、雑音を発生させる等の問題が生
じることが防止される。
The optical passage surface of the optical component arranged on the front side of the semiconductor laser 31 including the end faces of the optical fibers 34a to 34h and 34m is AR (non-reflective) with respect to the oscillation wavelength of the semiconductor laser 31. It has a coat. As a result, it is possible to prevent the problem that the light reflected on those surfaces becomes the return light and is incident on the semiconductor laser 31 to generate noise, or the like.

【0058】また半導体レーザ31の素子端面は、前方側
端面もまた後方側端面もLR(低反射)コートが施され
たものとされ、したがって該半導体レーザ31からは後方
側にも光ビームが出射する。この後方側に発散光状態で
出射した光ビーム、いわゆる後方出射光30Rは、コリメ
ーターレンズ36によって平行光とされ、次いで集光レン
ズ37により集光される。この集光レンズ37による後方出
射光30Rの収束位置にはミラー38が配置されており、後
方出射光30Rはこのミラー38で反射して半導体レーザ31
にフィードバックする。
Further, the element end face of the semiconductor laser 31 is such that both the front end face and the rear end face are LR (low reflection) coated, so that a light beam is emitted from the semiconductor laser 31 to the rear side. To do. The light beam emitted to the rear side in a divergent state, so-called rear emission light 30R is collimated by the collimator lens 36 and then condensed by the condenser lens 37. A mirror 38 is arranged at a position where the backward emitted light 30R is converged by the condenser lens 37, and the backward emitted light 30R is reflected by the mirror 38 and is reflected by the semiconductor laser 31.
Give feedback to.

【0059】このとき、コリメーターレンズ36と集光レ
ンズ37との間に挿入されている狭帯域バンドパスフィル
ター39によって、そこを通過する光の波長が選択される
ので、半導体レーザ31にはこの波長選択された後方出射
光30Rがフィードバックすることになる。そこで半導体
レーザ31の発振波長がこの選択波長にロックされ、発振
波長が安定化される。
At this time, the wavelength of the light passing therethrough is selected by the narrow-band bandpass filter 39 inserted between the collimator lens 36 and the condenser lens 37. The backward emission light 30R whose wavelength is selected is fed back. Therefore, the oscillation wavelength of the semiconductor laser 31 is locked to this selected wavelength, and the oscillation wavelength is stabilized.

【0060】以下、上記構成の表面プラズモン共鳴測定
装置による試料分析について説明する。試料分析する際
には、まずスライドブロック2が図1に矢印W1で示す
第1待機位置に設定され、このスライドブロック2のユ
ニットセット部2aに、プレート40(図4参照)から1
つの測定ユニット連結体8がセットされる。なお、この
測定ユニット連結体8の各測定ユニット10の穴10bに
は、予め測定対象の液体試料15(図6参照)が貯えられ
ている。この測定ユニット連結体8のセットは、測定ユ
ニット給排機構70によってなされる。
The sample analysis by the surface plasmon resonance measuring apparatus having the above-mentioned structure will be described below. When analyzing a sample, first, the slide block 2 is set to the first standby position shown by the arrow W1 in FIG. 1, and the unit set portion 2a of this slide block 2 is placed on the plate 40 (see FIG. 4) to
One measuring unit connection 8 is set. The liquid sample 15 (see FIG. 6) to be measured is previously stored in the hole 10b of each measuring unit 10 of the measuring unit linked body 8. The set of the measurement unit connected body 8 is made by the measurement unit feeding / discharging mechanism 70.

【0061】上記測定ユニット給排機構70は例えば、ガ
イドロッド1,1の並び方向と直角な方向つまり図1の
矢印H方向、および上下方向つまり図1の紙面に垂直な
方向に移動自在とされて、左右端部にそれぞれ測定ユニ
ット連結体8の左右端部を吸着保持するサクションカッ
プを有するものである。この測定ユニット給排機構70
は、プレート40の上の取出し対象の測定ユニット連結体
8の上方位置に移動した後に降下し、そこで測定ユニッ
ト連結体8を吸着保持して上昇し、次いで第1待機位置
にあるスライドブロック2の真上まで移動し、そこで下
降してスライドブロック2のユニットセット部2aに測
定ユニット連結体8を組み込み、次いで上記吸着保持を
解除して上昇する、という動作によって測定ユニット連
結体8をスライドブロック2にセットする。
The measuring unit feeding / discharging mechanism 70 is movable, for example, in the direction perpendicular to the direction in which the guide rods 1, 1 are arranged, that is, in the direction of arrow H in FIG. 1, and in the vertical direction, that is, in the direction perpendicular to the plane of FIG. In addition, suction cups for sucking and holding the left and right end portions of the measurement unit connecting body 8 are respectively provided at the left and right end portions. This measuring unit 70
Moves to a position above the measuring unit connecting body 8 to be taken out on the plate 40, and then descends, whereupon the measuring unit connecting body 8 is suction-held and rises, and then the slide block 2 in the first standby position is moved. The measuring unit connecting body 8 is moved to a position right above and descends there, and the measuring unit connecting body 8 is incorporated in the unit setting portion 2a of the slide block 2, and then the suction holding is released and the measuring unit connecting body 8 is raised to move the measuring unit connected body 8 to the slide block Set to.

【0062】以上のようにして測定ユニット連結体8が
セットされると、モータコントローラ5によって制御さ
れてパルスモータ4が駆動し、スライドブロック2は図
1に実線で示す測定位置に設定される。このとき、スラ
イドブロック2は測定ユニット連結体8の長手方向に移
動されて測定位置に設定されるため、移動の際に生じる
測定ユニット連結体8の傾きを小さくできるため、測定
精度に与える影響を小さくすることができる。
When the measuring unit connecting body 8 is set as described above, the pulse motor 4 is driven by the motor controller 5 and the slide block 2 is set to the measuring position shown by the solid line in FIG. At this time, since the slide block 2 is moved in the longitudinal direction of the measuring unit connecting body 8 to be set at the measurement position, the inclination of the measuring unit connecting body 8 that occurs during the movement can be reduced, which may affect the measurement accuracy. Can be made smaller.

【0063】以下、この測定位置においてなされる表面
プラズモン共鳴測定について、図6も参照して説明す
る。なおここでは、測定ユニット連結体8の8つの測定
ユニット10のうち、光ファイバー34aおよび光検出器7
aに整合する状態とされた1つの測定ユニット10を例に
取って説明を行なうが、その他の測定ユニット10におい
ても測定は同様になされるものである。
The surface plasmon resonance measurement performed at this measurement position will be described below with reference to FIG. Here, of the eight measurement units 10 of the measurement unit connection body 8, the optical fiber 34a and the photodetector 7 are included.
The description will be given taking one measurement unit 10 in a state of being matched with a as an example, but the measurement is similarly performed in the other measurement units 10.

【0064】表面プラズモン共鳴測定を行なう際には、
図7に示した半導体レーザ31が駆動される。そこで、図
6に示される通り光ファイバー34aの先端から、光ビー
ム30が発散光の状態で出射する。この光ビーム30はマイ
クロレンズアレイ6の凸レンズ6aによって集光され、
収束光状態で誘電体ブロック11に入射し、誘電体ブロッ
ク11と金属膜12との界面11aに対して種々の入射角成分
を含む状態で入射する。この入射角θの範囲は、上記界
面11aにおいて光ビーム30の全反射条件が得られ、か
つ、表面プラズモン共鳴が生じ得る角度範囲を含む範囲
とされる。
When performing surface plasmon resonance measurement,
The semiconductor laser 31 shown in FIG. 7 is driven. Therefore, as shown in FIG. 6, the light beam 30 is emitted in a divergent state from the tip of the optical fiber 34a. This light beam 30 is condensed by the convex lens 6a of the microlens array 6,
The light enters the dielectric block 11 in the converged light state and enters the interface 11a between the dielectric block 11 and the metal film 12 in a state including various incident angle components. The range of the incident angle θ is a range including the angle range where the total reflection condition of the light beam 30 is obtained at the interface 11a and the surface plasmon resonance can occur.

【0065】なお光ビーム30は、界面11aに対してp偏
光で入射させる。そのようにするためには、予め半導体
レーザ31をその偏光方向が所定方向となるように配設す
るとともに、光ファイバー34mおよび34a〜34hとして
偏波面保存ファイバーを用いる等して、光ファイバー34
a〜34hから出射する光ビーム30の偏光方向を制御すれ
ばよい。あるいはその他に、波長板や偏光板で光ビーム
30の偏光の向きを制御してもよい。
The light beam 30 is incident on the interface 11a as p-polarized light. In order to do so, the semiconductor laser 31 is arranged in advance such that its polarization direction is a predetermined direction, and polarization maintaining fibers are used as the optical fibers 34m and 34a to 34h.
The polarization direction of the light beam 30 emitted from a to 34h may be controlled. Alternatively, the light beam may be converted by a wave plate or polarizing plate.
The orientation of the 30 polarizations may be controlled.

【0066】上記界面11aに入射した光ビーム30は該界
面11aで全反射し、全反射した光ビーム30は光検出器7
aによって検出される。光ビーム30は、上述の通り界面
11aに対して種々の入射角成分を含む状態で入射するか
ら、全反射した光ビーム30にも、種々の反射角で反射し
た成分が含まれることになる。
The light beam 30 incident on the interface 11a is totally reflected by the interface 11a, and the totally reflected light beam 30 is detected by the photodetector 7.
detected by a. The light beam 30 is at the interface as described above.
Since the light beam is incident on 11a in a state including various incident angle components, the totally reflected light beam 30 also includes components reflected at various reflection angles.

【0067】このように光ビーム30が全反射するとき、
界面11aから金属膜12側にエバネッセント波がしみ出
す。そして、光ビーム30が界面11aに対してある特定の
入射角θSPで入射した場合は、このエバネッセント波
が金属膜12の表面に励起する表面プラズモンと共鳴する
ので、この光については反射光強度Iが鋭く低下する。
この反射光強度の低下は、全反射した光ビーム30の中で
暗線Dとして観察される。なお図8には、この全反射減
衰現象が生じた際の入射角θと反射光強度Iとの関係を
概略的に示してある。
When the light beam 30 is totally reflected in this way,
An evanescent wave seeps out from the interface 11a toward the metal film 12 side. When the light beam 30 is incident on the interface 11a at a specific incident angle θ SP , the evanescent wave resonates with the surface plasmon excited on the surface of the metal film 12, and therefore the reflected light intensity of this light is increased. I sharply decreases.
This decrease in the reflected light intensity is observed as a dark line D in the totally reflected light beam 30. Note that FIG. 8 schematically shows the relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I when the attenuation phenomenon of total reflection occurs.

【0068】そこで、光検出器7aが出力する光量検出
信号Sから各受光素子毎の検出光量を調べ、暗線を検出
した受光素子の位置に基づいて上記入射角(全反射減衰
角)θSPを求め、予め求めておいた反射光強度Iと入
射角θとの関係曲線に基づけば、試料15中の特定物質を
定量分析することができる。信号処理部61は、以上の原
理に基づいて試料15中の特定物質を定量分析し、その分
析結果が表示部62に表示される。
Therefore, the amount of light detected for each light receiving element is checked from the light amount detection signal S output from the photodetector 7a, and the above incident angle (total reflection attenuation angle) θ SP is determined based on the position of the light receiving element that detected the dark line. The specific substance in the sample 15 can be quantitatively analyzed based on the relationship curve of the reflected light intensity I and the incident angle θ that has been obtained and obtained in advance. The signal processing unit 61 quantitatively analyzes the specific substance in the sample 15 based on the above principle, and the analysis result is displayed on the display unit 62.

【0069】なおスライドブロック2は図2に示される
通り、左右方向に貫通した開口2bを有する枠状の部材
からなるので、光ビーム30はスライドブロック2に遮ら
れることなく、セットされた測定ユニット10に照射され
得る。また、測定ユニット10の誘電体ブロック11と金属
膜12との界面で全反射した光ビーム30が、スライドブロ
ック2に遮られることなく光検出器7a〜hによって検
出され得る。
As shown in FIG. 2, the slide block 2 is composed of a frame-shaped member having an opening 2b penetrating in the left-right direction. Therefore, the light beam 30 is not blocked by the slide block 2 and the measuring unit is set. 10 can be illuminated. Further, the light beam 30 totally reflected at the interface between the dielectric block 11 and the metal film 12 of the measurement unit 10 can be detected by the photodetectors 7a to 7h without being blocked by the slide block 2.

【0070】金属膜12の表面に固定されているセンシン
グ物質14は、試料15中の特定物質と結合するものであ
る。このような特定物質とセンシング物質14との組合せ
としては、例えば抗原と抗体とが挙げられる。その場合
は、全反射減衰角θSPに基づいて抗原抗体反応を検出
することができる。つまりこの場合は、上記特定物質と
センシング物質14との結合状態に応じてセンシング物質
14の屈折率が変化して、図8の特性曲線が左右方向に移
動する形に変化するので、全反射減衰角θSPに応じて
抗原抗体反応を検出することができる。なおこの場合
は、試料15およびセンシング物質14の双方が、分析対象
の試料となる。
The sensing substance 14 fixed on the surface of the metal film 12 binds to a specific substance in the sample 15. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance 14 include an antigen and an antibody. In that case, the antigen-antibody reaction can be detected based on the total reflection attenuation angle θ SP . That is, in this case, depending on the binding state between the specific substance and the sensing substance 14, the sensing substance
Since the refractive index of 14 changes and the characteristic curve of FIG. 8 changes to move to the left and right, the antigen-antibody reaction can be detected according to the attenuated total reflection angle θ SP . In this case, both the sample 15 and the sensing substance 14 are the samples to be analyzed.

【0071】以上の測定操作は他の7個の測定ユニット
10に対しても並行して同様になされ、8個の測定ユニッ
ト10に貯えられている試料15に対する測定が同時になさ
れる。なお、8個の測定ユニット10に対する光ビーム30
の照射および全反射減衰角θ SPの検出は、互いに厳密
に同時に行なう必要はなく、開始あるいは終了の時間が
互いに多少ずれていても構わない。
The above measurement operation is performed using the other seven measurement units.
The same is done for 10 in parallel, and 8 measurement units are used.
The measurement of the sample 15 stored in the
Be done. In addition, the light beam 30 for the eight measurement units 10
Irradiation and total reflection attenuation angle θ SPDetection of each other is strict
Need not be done at the same time, the start or end time
It may be offset from each other.

【0072】上述の通り本装置によれば、8個の測定ユ
ニット10の各試料15に対する測定を互いに並行して、同
時あるいはそれに近い状態で実行できるので、多数の試
料についての測定を短時間で行なうことが可能になる。
As described above, according to the present apparatus, the measurement of each sample 15 of the eight measurement units 10 can be performed in parallel with each other, simultaneously or in a state close thereto, so that the measurement of a large number of samples can be performed in a short time. It becomes possible to do.

【0073】なお信号処理部61は、8個の光検出器7a
〜hに対してそれぞれ専用のものを設けてもよいし、あ
るいは8個の光検出器7a〜hに対して共用のものを1
個だけ設けて、それらの光検出器7a〜hが出力した光
量検出信号Sを順次処理するようにしても構わない。
The signal processing section 61 includes eight photodetectors 7a.
~ H may be provided with a dedicated one, or one shared with eight photodetectors 7a ~ h
It is also possible to provide only a single number and sequentially process the light amount detection signals S output by the photodetectors 7a to 7h.

【0074】測定を1つの試料15に対して1回だけ行な
う場合は、以上の操作で測定が完了するので、パルスモ
ータ4が前述の場合とは逆方向に回転されてスライドブ
ロック2が(つまりは測定ユニット10が)図1の矢印W
1で示す第1待機位置に戻される。そして測定ユニット
給排機構70により該スライドブロック2から測定ユニッ
ト連結体8が取り外され、それが例えば排出用プレート
41の上に排出される。
When the measurement is performed only once for one sample 15, the measurement is completed by the above operation, so the pulse motor 4 is rotated in the opposite direction to the above-mentioned case and the slide block 2 (that is, Is the measuring unit 10) The arrow W in FIG.
It is returned to the first standby position indicated by 1. Then, the measuring unit feeding / discharging mechanism 70 removes the measuring unit connecting body 8 from the slide block 2, which is, for example, a discharging plate.
Discharged over 41.

【0075】次いで測定ユニット給排機構70により、前
述と同様にしてプレート40の上の別の測定ユニット連結
体8がスライドブロック2のユニットセット部2aにセ
ットされ、その測定ユニット連結体8の8個の測定ユニ
ット10に貯えられている試料15に対する測定が、これも
前述と同様にしてなされる。
Next, another measuring unit connecting body 8 on the plate 40 is set on the unit setting portion 2a of the slide block 2 by the measuring unit supplying / discharging mechanism 70 in the same manner as described above, and the measuring unit connecting body 8 of the measuring unit connecting body 8 is moved. The measurement for the sample 15 stored in each measuring unit 10 is also performed in the same manner as described above.

【0076】他方、測定を1つの試料15に対して複数回
行なう場合は、以上の操作が終了すると、パルスモータ
4が前述の場合とは逆方向に回転されてスライドブロッ
ク2が図1の矢印W2で示す第2待機位置に設定され
る。そして、前述の測定ユニット給排機構70と同様に形
成された測定ユニット給排機構71により該スライドブロ
ック2から測定ユニット連結体8が取り外され、それ
が、ガイドロッド1,1の左右両側に1つずつ配された
載置台42、42のいずれかの上に載置される。
On the other hand, when the measurement is performed a plurality of times on one sample 15, when the above operation is completed, the pulse motor 4 is rotated in the opposite direction to the case described above, and the slide block 2 is moved to the arrow in FIG. It is set to the second standby position indicated by W2. Then, the measuring-unit connecting / disconnecting mechanism 71 formed similarly to the above-described measuring-unit supplying / discharging mechanism 70 removes the measuring-unit connecting body 8 from the slide block 2, and the measuring-unit connecting body 8 is attached to both left and right sides of the guide rods 1, 1. They are placed on either of the placing tables 42, 42 arranged one by one.

【0077】次いで、パルスモータ4が再度回転され
て、スライドブロック2が図1の矢印W1で示す第1待
機位置に戻される。そして測定ユニット給排機構70によ
り、前述と同様にしてプレート40の上の別の測定ユニッ
ト連結体8がスライドブロック2のユニットセット部2
aにセットされ、その測定ユニット連結体8の8個の測
定ユニット10に貯えられている試料15に対する測定が、
これも前述と同様にしてなされる。
Next, the pulse motor 4 is rotated again, and the slide block 2 is returned to the first standby position shown by the arrow W1 in FIG. Then, by the measuring unit feeding / discharging mechanism 70, another measuring unit connecting body 8 on the plate 40 is moved to the unit setting portion 2 of the slide block 2 in the same manner as described above.
The measurement for the sample 15 set in a and stored in the eight measurement units 10 of the measurement unit connection body 8 is
This is also done in the same manner as described above.

【0078】この2番目の測定ユニット連結体8の測定
ユニット10を用いた測定が終了すると、パルスモータ4
が回転されてスライドブロック2が上記第2待機位置に
設定される。そして、測定ユニット給排機構71により該
スライドブロック2から測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the measurement using the measuring unit 10 of the second measuring unit connected body 8 is completed, the pulse motor 4
Is rotated and the slide block 2 is set to the second standby position. Then, the measuring-unit feeding / discharging mechanism 71 removes the measuring-unit connecting body 8 from the slide block 2, and the measuring-unit connecting body 8 is placed on the vacant table 42.

【0079】次いで、別の載置台42の上に載置されてい
る測定ユニット連結体8、つまり1番目の測定ユニット
連結体8が測定ユニット給排機構71によりスライドブロ
ック2のユニットセット部2aにセットされ、その測定
ユニット連結体8の8個の測定ユニット10に貯えられて
いる試料15に対する測定が前回と同様にしてなされる。
このとき、この1番目の測定ユニット連結体8を用いた
1回目の測定が終了してから所定の時間が経過していな
い場合は、スライドブロック2を図1に実線で示す測定
位置に設定してから、若干の時間そのままの状態で待機
し、それから測定に入るようにすればよい。
Next, the measuring unit connecting body 8 placed on another mounting table 42, that is, the first measuring unit connecting body 8 is attached to the unit setting portion 2a of the slide block 2 by the measuring unit feeding / discharging mechanism 71. The measurement of the sample 15 set and stored in the eight measurement units 10 of the measurement unit connection body 8 is performed in the same manner as the previous time.
At this time, if the predetermined time has not elapsed since the first measurement using the first measurement unit connected body 8 is completed, the slide block 2 is set to the measurement position shown by the solid line in FIG. After that, wait for a while for a while, and then start the measurement.

【0080】この1番目の測定ユニット連結体8に対す
る2回目の測定が終了すると、パルスモータ4が回転さ
れてスライドブロック2が上記第2待機位置に設定され
る。そして、測定ユニット給排機構71により該スライド
ブロック2から1番目の測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the second measurement of the first measuring unit assembly 8 is completed, the pulse motor 4 is rotated and the slide block 2 is set to the second standby position. Then, the measurement unit feeding / discharging mechanism 71 removes the first measurement unit connected body 8 from the slide block 2 and mounts it on the empty mounting table 42.

【0081】次いで、別の載置台42の上に載置されてい
る測定ユニット連結体8、つまり2番目の測定ユニット
連結体8が測定ユニット給排機構71によりスライドブロ
ック2のユニットセット部2aにセットされ、その測定
ユニット連結体8の8個の測定ユニット10に貯えられて
いる試料15に対する測定が前回と同様にしてなされる。
Next, the measuring unit connecting body 8 placed on another mounting table 42, that is, the second measuring unit connecting body 8 is attached to the unit setting portion 2a of the slide block 2 by the measuring unit feeding / discharging mechanism 71. The measurement of the sample 15 set and stored in the eight measurement units 10 of the measurement unit connection body 8 is performed in the same manner as the previous time.

【0082】この2番目の測定ユニット連結体8を用い
た2回目の測定が終了すると、パルスモータ4が回転さ
れてスライドブロック2が上記第2待機位置に設定され
る。そして、測定ユニット給排機構71により該スライド
ブロック2から2番目の測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the second measurement using the second coupling unit 8 of measurement units is completed, the pulse motor 4 is rotated and the slide block 2 is set to the second standby position. Then, the second measurement unit connection body 8 is removed from the slide block 2 by the measurement unit feeding / discharging mechanism 71, and the second measurement unit connection body 8 is placed on the empty mounting table 42.

【0083】以下同様の操作が繰り返されることによ
り、1番目の測定ユニット連結体8による測定と2番目
の測定ユニット連結体8による測定とが交互になされ
る。このようにすれば、一方の測定ユニット連結体8に
よる測定の待ち時間を有効利用して、その間に他方の測
定ユニット連結体8による測定を行なうことができ、測
定作業の能率が向上する。
By repeating the same operation thereafter, the measurement by the first measurement unit connection body 8 and the measurement by the second measurement unit connection body 8 are alternately performed. In this way, the waiting time for the measurement by the one measurement unit connection body 8 can be effectively used, and the measurement by the other measurement unit connection body 8 can be performed during that time, and the efficiency of the measurement work is improved.

【0084】1つの測定ユニット連結体8の測定ユニッ
ト10に保持された試料15について所定回の測定が終了し
たならば、その測定ユニット連結体8がセットされてい
るスライドブロック2は前記第1待機位置に戻される。
そして測定ユニット給排機構70により該スライドブロッ
ク2から測定ユニット連結体8が取り外され、それが排
出用プレート41の上に排出される。
When the measurement of the sample 15 held in the measuring unit 10 of one measuring unit connecting body 8 is completed a predetermined number of times, the slide block 2 on which the measuring unit connecting body 8 is set is placed in the first waiting state. Returned to position.
Then, the measuring unit connecting / discharging mechanism 70 removes the measuring unit connecting body 8 from the slide block 2 and discharges it onto the discharging plate 41.

【0085】次いで測定ユニット給排機構70により、プ
レート40の上の別の測定ユニット連結体8、つまり3番
目の測定ユニット連結体8がスライドブロック2のユニ
ットセット部2aにセットされ、引き続きその測定ユニ
ット連結体8の測定ユニット10に貯えられている試料15
に対する測定がなされる。以下同様にして、プレート40
に収められている測定ユニット連結体8を次々と測定に
供することができる。
Then, another measuring unit connecting body 8 on the plate 40, that is, the third measuring unit connecting body 8 is set on the unit setting portion 2a of the slide block 2 by the measuring unit feeding / discharging mechanism 70, and the measurement is continued. Sample 15 stored in the measurement unit 10 of the unit connection body 8
Is measured. Repeat for plate 40
It is possible to successively provide the measurement unit connected body 8 housed in 1) for measurement.

【0086】以上の通り本実施の形態では、試料保持枠
11cを有する誘電体ブロック11、金属膜12およびセンシ
ング物質14を一体化して測定ユニット10を構成し、この
測定ユニット10の集合体である測定ユニット連結体8を
測定チップとしてスライドブロック2に対して交換可能
としているので、測定が終了した試料15を保持している
測定ユニット連結体8をスライドブロック2から取り外
して新しい測定ユニット連結体8を該スライドブロック
2に支持させることにより、新しい試料15を次々と測定
に供することができ、多数の試料15についての測定をよ
り一層短時間で行なうことが可能になる。
As described above, in the present embodiment, the sample holding frame
The dielectric block 11 having 11c, the metal film 12 and the sensing substance 14 are integrated to form the measuring unit 10, and the measuring unit connecting body 8 which is an assembly of the measuring units 10 is used as the measuring chip for the slide block 2. Since it is exchangeable, the measurement unit connected body 8 holding the sample 15 for which the measurement has been completed is removed from the slide block 2 and a new measurement unit connected body 8 is supported on the slide block 2, whereby the new sample 15 is It is possible to perform the measurements one after another, and it becomes possible to perform measurements on a large number of samples 15 in a shorter time.

【0087】なお、スライドブロック2を前述の第2待
機位置に設定して、そこで該スライドブロック2にセッ
トする測定ユニット連結体8を取り替え可能とすること
は、必ずしも必要ではない。しかしそのようにすれば、
前述した通り、ある測定ユニット連結体8による測定の
待ち時間を有効利用して別の測定ユニット連結体8によ
る測定を行なうことができ、測定作業の能率が向上する
ので、特に好ましいと言える。
It is not always necessary to set the slide block 2 to the above-mentioned second standby position so that the measuring unit connecting body 8 set on the slide block 2 can be replaced. But if you do that,
As described above, it can be said that it is particularly preferable because the waiting time for measurement by one measurement unit connection body 8 can be effectively used to perform the measurement by another measurement unit connection body 8 and the efficiency of the measurement work is improved.

【0088】また、上述のような第2待機位置を設定す
る場合、前述した固定の載置台42を設ける代わりに、所
定角度ずつ間欠的に回動するターンテーブルを設け、そ
の上に測定ユニット連結体8が排出される毎に該ターン
テーブルを回動させるようにすれば、より多数の測定途
中の測定ユニット連結体8を該ターンテーブルの上に一
時的に載置しておくことが可能となる。
In addition, when setting the second standby position as described above, instead of providing the fixed mounting table 42 described above, a turntable that intermittently rotates by a predetermined angle is provided, and the measurement unit is connected thereto. If the turntable is rotated each time the body 8 is discharged, it is possible to temporarily mount a larger number of measurement unit connected bodies 8 during measurement on the turntable. Become.

【0089】さらに、スライドブロック2等を用いて測
定ユニット連結体8つまり測定ユニット10を待機位置と
測定位置との間で移動させることも、必ずしも必要では
ない。すなわち、複数の測定ユニット10を支持する支持
体を固定しておき、その支持体に測定ユニット10をセッ
トしたならば、そこでそのまま該測定ユニット10に測定
用の光ビームが照射され得る状態となるようにしてもよ
い。ただし、そのようにする場合は、上記支持体が必然
的に光学系および光検出手段とかなり近接した状態に配
設されることになるので、この支持体に対する測定ユニ
ット10のセットおよび取外しを自動手段で行なう場合
は、その自動手段として、光学系および光検出手段との
干渉が確実に避けられる構造のものを採用する必要があ
る。
Further, it is not always necessary to use the slide block 2 or the like to move the measuring-unit connected body 8, that is, the measuring unit 10, between the standby position and the measuring position. That is, if a support that supports a plurality of measurement units 10 is fixed and the measurement unit 10 is set on the support, the measurement unit 10 is ready to be irradiated with a measurement light beam. You may do it. However, in such a case, the support is inevitably arranged in a state of being considerably close to the optical system and the light detection means, so that the setting and removal of the measurement unit 10 with respect to the support are automatically performed. When it is carried out by means, it is necessary to adopt, as the automatic means, one having a structure capable of surely avoiding interference with the optical system and the light detecting means.

【0090】そして支持体を移動させる場合も、その移
動の仕方は上記実施の形態における直線移動に限られる
ものではなく、支持体として所定角度ずつ間欠的に回動
するターンテーブルを用い、その回動軸を中心とする円
周上に複数の測定ユニットを支持させ、該ターンテーブ
ルを回動させることにより測定ユニットを上記円周に沿
って移動させてもよい。そうする場合、例えばターンテ
ーブル上に16個の測定ユニットを支持させ、そのうち
の半数の8個の測定ユニットに対して光ビームを一斉照
射し、それらに対する測定が終了したならターンテーブ
ルを180°回動させて残りの8個の測定ユニットに対
して光ビームを一斉照射するような構成を採用すること
ができる。
Also when moving the support, the way of moving is not limited to the linear movement in the above-described embodiment, and a turntable that intermittently rotates by a predetermined angle is used as the support, and the rotation is performed. A plurality of measuring units may be supported on the circumference around the moving shaft, and the turntable may be rotated to move the measuring units along the circumference. When doing so, for example, 16 measurement units are supported on the turntable, and half of them, 8 measurement units are simultaneously irradiated with a light beam, and when the measurement for them is completed, the turntable is rotated 180 °. It is possible to employ a configuration in which the remaining eight measurement units are moved and the light beams are simultaneously emitted.

【0091】また、以上説明した測定ユニット連結体8
の代わりに、図9あるいは図10に示すような測定ユニ
ット連結体を用いることも可能である。図9に示す測定
ユニット連結体80は、例えば図3に示した誘電体ブロッ
ク11と同様の材料を用いて1本の角柱状の誘電体バー81
が形成され、ここに複数の有底の穴82が形成されてその
周囲のバー81の部分が試料保持部とされ、そして上記穴
82の底面上に金属膜12およびセンシング物質14が形成さ
れてなるものである。つまりこの測定ユニット連結体80
においては、1つの穴82毎に測定ユニットが構成されて
いる。
Further, the measuring unit connecting body 8 described above is used.
Instead of, it is also possible to use a connecting unit of measuring units as shown in FIG. 9 or 10. The measurement unit connection body 80 shown in FIG. 9 is made of, for example, the same material as the dielectric block 11 shown in FIG.
Is formed, a plurality of bottomed holes 82 are formed therein, the portion of the bar 81 around the bottomed holes 82 is used as a sample holding portion, and the holes are formed.
The metal film 12 and the sensing substance 14 are formed on the bottom surface of 82. That is, this measuring unit connection body 80
In, a measurement unit is configured for each hole 82.

【0092】上述のような構成の測定ユニット連結体80
は、図3に示した測定ユニット連結体8のように測定ユ
ニット10を1個ずつ形成した後、それらを複数連結して
構成するものと比べれば、より容易に製造可能で、コス
トダウンを実現できる。
Measuring unit connection body 80 having the above-mentioned configuration
Is easier to manufacture and realizes cost reduction compared to a structure in which one measurement unit 10 is formed one by one like the measurement unit connection body 8 shown in FIG. it can.

【0093】一方、図10に示す測定ユニット連結体90
は、ユニット支持板91に形成された複数のユニット支持
孔92に、それぞれ測定ユニット95が嵌合支持されてなる
ものである。測定ユニット95は、基本的には図3に示し
た測定ユニット10と同様のものであるが、四角錘の一部
を切り取った外形形状とされてテーパ状の上記ユニット
支持孔92に嵌合し、該ユニット支持孔92を通り抜けない
ようになっている。
On the other hand, the measuring unit connecting body 90 shown in FIG.
The measurement unit 95 is fitted and supported in a plurality of unit support holes 92 formed in the unit support plate 91. The measuring unit 95 is basically the same as the measuring unit 10 shown in FIG. 3, but has an outer shape in which a part of a quadrangular pyramid is cut out and is fitted into the tapered unit supporting hole 92. It does not pass through the unit support hole 92.

【0094】このような測定ユニット連結体90を適用す
る場合は、予め1枚のユニット支持板91にそれぞれ複数
の測定ユニット95を支持させ、そのようにしたユニット
支持板91を複数、例えば図4のプレート40にセットして
取り扱うようにしてもよい。あるいは、1枚のユニット
支持板91を例えば図2の装置のスライドブロック2に固
定しておき、該ユニット支持板91に複数の測定ユニット
95を1個ずつ供給し、測定が終了したならばそれらの測
定ユニット95をユニット支持板91から取り外して、新し
い複数の測定ユニット95をユニット支持板91に供給する
ようにしてもよい。
In the case of applying such a measuring unit linked body 90, a plurality of measuring units 95 are respectively supported by one unit supporting plate 91 in advance, and a plurality of such unit supporting plates 91, for example, FIG. The plate 40 may be set and handled. Alternatively, one unit support plate 91 is fixed to, for example, the slide block 2 of the apparatus shown in FIG. 2, and a plurality of measurement units are attached to the unit support plate 91.
Alternatively, the measuring units 95 may be supplied one by one, and when the measurement is completed, the measuring units 95 may be removed from the unit supporting plate 91 and a plurality of new measuring units 95 may be supplied to the unit supporting plate 91.

【0095】なお上述の測定ユニット連結体90と比べる
と、図3の測定ユニット連結体8や図9の測定ユニット
連結体80は、複数の測定ユニットが互いに分離不可能に
固定されていることから、表面プラズモン共鳴測定装置
上での位置精度が出しやすく、また、小さな測定ユニッ
トを把持する必要が無いことからハンドリング性に優れ
て、測定処理の能率向上に寄与できるものとなる。
Compared to the above-mentioned measuring unit connecting body 90, in the measuring unit connecting body 8 of FIG. 3 and the measuring unit connected body 80 of FIG. 9, a plurality of measuring units are fixed inseparably from each other. Positional accuracy on the surface plasmon resonance measuring device is easy to obtain, and since it is not necessary to hold a small measuring unit, the handling property is excellent, and the efficiency of the measurement process can be improved.

【0096】次に、図11を参照して本発明の第2の実
施の形態について説明する。図11は、この第2の実施
の形態の表面プラズモン共鳴測定装置の要部の側面形状
を示している。なおこの図11において、図6中の要素
と同等の要素には同番号を付し、それらについての説明
は特に必要のない限り省略する(以下、同様)。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 11 shows a side surface shape of an essential part of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the second embodiment. In FIG. 11, elements that are the same as the elements in FIG. 6 are given the same numbers, and descriptions thereof will be omitted unless otherwise necessary (the same applies below).

【0097】この表面プラズモン共鳴測定装置は、図6
に示したものと比較すると、測定ユニットの構成が異な
るものである。すなわち、ここで用いられている測定ユ
ニット10’は、図6に示した測定ユニット10からセンシ
ング物質14が除かれた形のものである。それ以外の構成
は、図6に示した表面プラズモン共鳴測定装置と基本的
に同様である。
This surface plasmon resonance measuring apparatus is shown in FIG.
The configuration of the measurement unit is different from that shown in FIG. That is, the measuring unit 10 'used here is in a form in which the sensing substance 14 is removed from the measuring unit 10 shown in FIG. The other configuration is basically the same as that of the surface plasmon resonance measuring apparatus shown in FIG.

【0098】上述のような測定ユニット10’を用いる場
合も、金属膜12と接する試料15の誘電率つまり屈折率に
応じて前述の全反射減衰角θSPが変化するので、検出
したこの全反射減衰角θSPに基づいて、試料15中の特
定物質を定量分析することができる。
Even when the above-described measuring unit 10 'is used, the above-mentioned total reflection attenuation angle θ SP changes according to the dielectric constant of the sample 15 in contact with the metal film 12, that is, the refractive index, so that the detected total reflection is detected. The specific substance in the sample 15 can be quantitatively analyzed based on the attenuation angle θ SP .

【0099】本実施の形態の表面プラズモン共鳴測定装
置も、複数の測定ユニット10’をスライドブロック2に
支持させ、それらの測定ユニット10’に光ビーム30を一
斉照射して、それらの測定ユニット10’による測定を相
並行して行なえるように構成されているので、この表面
プラズモン共鳴測定装置によれば、多数の試料15につい
ての測定を短時間で行なうことが可能になる。
Also in the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment, a plurality of measuring units 10 'are supported on the slide block 2 and the measuring units 10' are irradiated with the light beam 30 all at once, and the measuring units 10 'are measured. Since the measurement is performed in parallel with each other, the surface plasmon resonance measuring apparatus can measure a large number of samples 15 in a short time.

【0100】次に、本発明の第3の実施の形態について
説明する。図12は、本発明の第3の実施の形態によ
る、測定装置の要部の側面形状を示すものである。本実
施の形態の測定装置は、先に説明した漏洩モードセンサ
ーであり、本例でも測定チップ化された測定ユニット11
0を用いるように構成されている。この測定ユニット110
を構成する誘電体ブロック11の一面(穴11bの底面)に
はクラッド層111が形成され、さらにその上には光導波
層112が形成されている。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 12 shows a side surface shape of a main part of the measuring device according to the third embodiment of the present invention. The measuring device of the present embodiment is the leak mode sensor described above, and the measuring unit 11 is also a measurement chip in this example.
It is configured to use 0. This measuring unit 110
The cladding layer 111 is formed on one surface (bottom surface of the hole 11b) of the dielectric block 11 constituting the above, and the optical waveguide layer 112 is further formed thereon.

【0101】誘電体ブロック11は、例えば合成樹脂やB
K7等の光学ガラスを用いて形成されている。一方クラ
ッド層111は、誘電体ブロック11よりも低屈折率の誘電
体や、金等の金属を用いて薄膜状に形成されている。ま
た光導波層112は、クラッド層111よりも高屈折率の誘電
体、例えばPMMAを用いてこれも薄膜状に形成されて
いる。クラッド層111の膜厚は、例えば金薄膜から形成
する場合で36.5nm、光導波層112の膜厚は、例えばPM
MAから形成する場合で700nm程度とされる。
The dielectric block 11 is made of synthetic resin or B, for example.
It is formed using an optical glass such as K7. On the other hand, the clad layer 111 is formed into a thin film using a dielectric material having a lower refractive index than the dielectric block 11 or a metal such as gold. The optical waveguide layer 112 is also formed in a thin film shape by using a dielectric material having a higher refractive index than the cladding layer 111, for example, PMMA. The thickness of the clad layer 111 is 36.5 nm when formed from a gold thin film, and the thickness of the optical waveguide layer 112 is PM, for example.
When formed from MA, it is about 700 nm.

【0102】上記構成の漏洩モードセンサーにおいて、
収束光状態の光ビーム30を誘電体ブロック11を通してク
ラッド層111に対して全反射角以上の入射角で入射させ
ると、該光ビーム30が誘電体ブロック11とクラッド層11
1との界面11aで全反射するが、クラッド層111を透過し
て光導波層112に特定入射角で入射した特定波数の光
は、該光導波層112を導波モードで伝搬するようにな
る。こうして導波モードが励起されると、入射光のほと
んどが光導波層112に取り込まれるので、上記界面11a
で全反射する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じ
る。
In the leaky mode sensor having the above structure,
When the light beam 30 in the convergent light state is made incident on the cladding layer 111 through the dielectric block 11 at an incident angle of not less than the total reflection angle, the light beam 30 is made into the dielectric block 11 and the cladding layer 11.
Light having a specific wave number, which is totally reflected at the interface 11a with 1 but is transmitted through the cladding layer 111 and is incident on the optical waveguide layer 112 at a specific incident angle, propagates through the optical waveguide layer 112 in a guided mode. . When the waveguide mode is excited in this way, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer 112, so that the interface 11a
At this point, the total reflection attenuation occurs in which the intensity of the totally reflected light sharply decreases.

【0103】光導波層112における導波光の波数は、該
光導波層112の上の試料15の屈折率に依存するので、全
反射減衰が生じる上記特定入射角を知ることによって、
試料15の屈折率や、それに関連する試料15の特性を分析
することができる。信号処理部61は、以上の原理に基づ
いて試料15中の特定物質を定量分析し、その分析結果が
表示部62に表示される。
Since the wave number of guided light in the optical waveguide layer 112 depends on the refractive index of the sample 15 on the optical waveguide layer 112, by knowing the specific incident angle at which attenuation of total reflection occurs,
The refractive index of the sample 15 and the characteristics of the sample 15 related thereto can be analyzed. The signal processing unit 61 quantitatively analyzes the specific substance in the sample 15 based on the above principle, and the analysis result is displayed on the display unit 62.

【0104】本実施の形態の漏洩モードセンサーも、複
数の測定ユニット110をスライドブロック2に支持さ
せ、それらの測定ユニット110に光ビーム30を一斉照射
して、それらの測定ユニット110による測定を相並行し
て行なえるように構成されているので、この漏洩モード
センサーによれば、多数の試料15についての測定を短時
間で行なうことが可能になる。
Also in the leak mode sensor of this embodiment, a plurality of measuring units 110 are supported on the slide block 2, the measuring unit 110 is irradiated with the light beam 30 all at once, and the measuring units 110 perform measurement. Since the leak mode sensors are configured so that they can be performed in parallel, it is possible to measure a large number of samples 15 in a short time.

【0105】次に本発明の第4の実施の形態について説
明する。図13は、本発明の第4の実施の形態による、
測定装置の要部の側面形状を示すものである。本実施の
形態の測定装置も漏洩モードセンサーであり、測定チッ
プ化された測定ユニット110’を用いるように構成され
ている。この測定ユニット110’は図12に示された測
定ユニット110と比べると、光導波層112の上にセンシン
グ物質14が固定されている点のみが異なるものである。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 13 shows a fourth embodiment of the present invention.
It is a side view of the main part of the measuring device. The measuring device according to the present embodiment is also a leaky mode sensor, and is configured to use a measuring unit 110 ′ that is a measurement chip. The measurement unit 110 ′ is different from the measurement unit 110 shown in FIG. 12 only in that the sensing substance 14 is fixed on the optical waveguide layer 112.

【0106】センシング物質14は、図6の測定ユニット
10におけるセンシング物質14と同様に、試料15中の特定
物質と結合するものである。このような特定物質とセン
シング物質14との組合せとしては、本例でも例えば抗原
と抗体とを挙げることができる。その場合は、全反射減
衰角θSPに基づいて抗原抗体反応を検出することがで
きる。
The sensing substance 14 is the measuring unit of FIG.
Like the sensing substance 14 in 10, it binds to a specific substance in the sample 15. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance 14 also include an antigen and an antibody in this example. In that case, the antigen-antibody reaction can be detected based on the total reflection attenuation angle θ SP .

【0107】つまりこの場合も、光ビーム30の界面11a
に対する入射角θと反射光強度Iとの関係は基本的に図
8のものと同様となるが、上記特定物質とセンシング物
質14との結合状態に応じてセンシング物質14の屈折率が
変化して光導波層112の実効屈折率が変化し、それによ
ってこの関係が変化するので、全反射減衰角θSPに応
じて抗原抗体反応を検出することができる。
That is, also in this case, the interface 11a of the light beam 30
The relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I is basically the same as that in FIG. 8, but the refractive index of the sensing substance 14 changes depending on the binding state between the specific substance and the sensing substance 14. Since the effective refractive index of the optical waveguide layer 112 changes and this relationship changes accordingly, the antigen-antibody reaction can be detected according to the attenuated total reflection angle θ SP .

【0108】次に本発明の第5の実施の形態について説
明する。図14と図15はそれぞれ、本発明の第5の実
施の形態による表面プラズモン共鳴測定装置の平面形
状、側面形状を示すものである。本実施の形態において
は、試料15を保持する複数のウェル(液溜め)201を有
するパレット200が用いられる。このパレット200は、測
定ユニットの誘電体ブロックおよび試料保持機構を構成
するとともに、測定ユニットを支持する支持体も兼ねて
いる。
Next explained is the fifth embodiment of the invention. 14 and 15 show a plane shape and a side surface shape of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the fifth embodiment of the present invention, respectively. In the present embodiment, a pallet 200 having a plurality of wells (reservoir) 201 holding the sample 15 is used. This pallet 200 constitutes a dielectric block and a sample holding mechanism of the measurement unit, and also serves as a support for supporting the measurement unit.

【0109】すなわちこのパレット200は図16に拡大
して示す通り、図6の透明誘電体ブロック11と同様の材
料から形成され、円錘の一部を切り取った形状とされた
ウェル201の底面上に、これも図6に示したものと同様
の金属膜12およびセンシング物質14がこの順に固定され
てなる。また上記ウェル201の各々の下方に突出した誘
電体ブロック部202が形成され、この誘電体ブロック部2
02と上記金属膜12との界面に測定用光ビーム30が入射さ
れるようになっている。そして上記ウェル201は、図1
4に示されるように横方向(矢印P方向)、縦方向(矢
印Q方向)にそれぞれ複数並べて形成されている。
That is, as shown in the enlarged view of FIG. 16, this pallet 200 is formed of the same material as the transparent dielectric block 11 of FIG. 6, and is on the bottom surface of the well 201 formed by cutting out a part of the cone. In addition, the same metal film 12 and sensing substance 14 as those shown in FIG. 6 are also fixed in this order. In addition, a dielectric block portion 202 protruding downward from each of the wells 201 is formed.
The measurement light beam 30 is made incident on the interface between 02 and the metal film 12. The well 201 is shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a plurality of them are formed side by side in the horizontal direction (arrow P direction) and in the vertical direction (arrow Q direction).

【0110】上記パレット200は、測定ユニット送り台2
10の上の所定位置にセットされる。この測定ユニット送
り台210は、矢印P方向に延びる状態に配設された1対
のレール211、211上に載置され、搭載している駆動手段
212により、これらのレール211、211に沿って移動可能
とされている。なお本実施の形態では、これらの測定ユ
ニット送り台210、レール211および駆動手段212により
測定ユニット送り手段が構成されている。
The pallet 200 is the measuring unit feed table 2
Set in place above 10. The measuring unit feed base 210 is placed on a pair of rails 211, 211 arranged in a state of extending in the direction of the arrow P, and the driving means installed therein.
It is possible to move along these rails 211 and 211 by 212. In the present embodiment, the measurement unit feed base 210, the rail 211, and the driving means 212 constitute the measurement unit feed means.

【0111】パレット200において矢印P方向に並んだ
複数(本例では5個)のウェル201の底面には、それぞ
れ光ビーム30が並列的に入射する。すなわち、1つのレ
ーザ光源220から発散光状態で発せられた光ビーム30は
コリメーターレンズ221で平行光とされた後、ハーフミ
ラー222、223、224および225とミラー226とによって5
本に分岐され、分岐された5本の光ビーム30が各々ウェ
ル201の底面、つまり誘電体ブロック部202と金属膜12と
の界面に入射する。
The light beams 30 are incident in parallel on the bottom surfaces of a plurality (five in this example) of wells 201 arranged in the direction of arrow P in the pallet 200. That is, the light beam 30 emitted from one laser light source 220 in a divergent light state is collimated by the collimator lens 221, and then converted into a parallel light beam by the half mirrors 222, 223, 224 and 225 and the mirror 226.
The five branched light beams 30 are incident on the bottom surface of the well 201, that is, the interface between the dielectric block portion 202 and the metal film 12.

【0112】このとき、分岐された各光ビーム30は、そ
れぞれシリンドリカルビームエキスパンダ231、232、23
3、234および235により図15に示される面内のみで径
が拡大され、それぞれミラー241、242、243、244および
245で反射して進行方向を変えた後、それぞれシリンド
リカルレンズ251、252、253、254および255により図1
5に示される面内のみで集光される。それにより各光ビ
ーム30は、それぞれ誘電体ブロック部202と金属膜12と
の界面に対して、種々の入射角成分を持った状態で入射
する。なおレーザ光源220は、直線偏光である光ビーム3
0がp偏光状態で上記界面に入射するようになる向きに
配設されている。
At this time, the branched light beams 30 are respectively separated by the cylindrical beam expanders 231, 232, 23.
The diameter is enlarged only in the plane shown in FIG. 15 by 3, 234 and 235, and mirrors 241, 242, 243, 244 and
After being reflected by 245 to change the traveling direction, the cylindrical lenses 251, 252, 253, 254, and 255 are used to change the traveling direction, respectively, as shown in FIG.
The light is collected only in the plane indicated by 5. As a result, each light beam 30 enters the interface between the dielectric block portion 202 and the metal film 12 with various incident angle components. The laser light source 220 uses a linearly polarized light beam 3
It is arranged in such a direction that 0 enters the interface in the p-polarized state.

【0113】上記界面で全反射した各光ビーム30はそれ
ぞれ、図6に示した第1の実施の形態における光検出器
7a〜hと同様の5個の光検出器7a〜eによって検出
される。それらの光検出器7a〜eの出力は、第1の実
施の形態におけるのと同様に処理され、試料15中の特定
物質が定量分析される。
Each of the light beams 30 totally reflected at the interface is detected by five photodetectors 7a to 7e similar to the photodetectors 7a to 7h in the first embodiment shown in FIG. . The outputs of the photodetectors 7a to 7e are processed in the same manner as in the first embodiment, and the specific substance in the sample 15 is quantitatively analyzed.

【0114】本実施の形態においては、以上のようにし
て、5つのウェル201に貯えられている試料15に関する
測定を相並行して行なうことができる。そして、これら
の測定が終了したならば、一旦レーザ光源220の駆動が
停止され、次に駆動手段212が作動して測定ユニット送
り台210が(つまりパレット200が)図14、図15中の
矢印Q方向に、ウェル201の配置ピッチ分だけ送られ
る。その状態になるとレーザ光源220が再度駆動され、
それにより、新たな5つの試料15に関する測定がなされ
る。このようにして本実施の形態においては、多数の試
料に関する測定を極めて能率良く、短時間内に行なうこ
とが可能となっている。
In the present embodiment, as described above, the measurement of the sample 15 stored in the five wells 201 can be performed in parallel. Then, when these measurements are completed, the driving of the laser light source 220 is once stopped, and then the driving means 212 is actuated so that the measuring unit feed base 210 (that is, the pallet 200) is indicated by an arrow in FIGS. It is sent by the arrangement pitch of the wells 201 in the Q direction. In that state, the laser light source 220 is driven again,
As a result, measurement is performed on five new samples 15. As described above, in the present embodiment, it is possible to perform measurement on a large number of samples with extremely high efficiency within a short time.

【0115】なお本実施の形態では、光源としてレーザ
光源220を1つだけ用いているが、例えば光源を2個設
け、1つの光源からの光ビームを2本に分岐し、別の光
源からの光ビームを3本に分岐して、合計で5本の光ビ
ームを得るようにしても構わない。
Although only one laser light source 220 is used as a light source in this embodiment, for example, two light sources are provided, and a light beam from one light source is branched into two light beams from another light source. The light beam may be branched into three to obtain a total of five light beams.

【0116】次に本発明の第6の実施の形態について説
明する。図17と図18はそれぞれ、本発明の第6の実
施の形態による表面プラズモン共鳴測定装置の平面形
状、側面形状を示すものである。本実施の形態において
は、上記第5の実施の形態で用いられたものと同様のパ
レット200が用いられる。そしてこのパレット200をウェ
ル201の配置ピッチずつ送るための測定ユニット送り台2
10、レール211および駆動手段212が設けられている点
も、上記第5の実施の形態と同じである。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. 17 and 18 show a plane shape and a side surface shape of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a sixth embodiment of the present invention, respectively. In the present embodiment, the same pallet 200 as that used in the fifth embodiment is used. Then, the measuring unit feed table 2 for feeding the pallet 200 by the arrangement pitch of the wells 201
The point that the 10, rails 211 and drive means 212 are provided is also the same as in the fifth embodiment.

【0117】パレット200において矢印P方向に並んだ
複数(本例では5個)のウェル201の底面には、扁平化
された1本の光ビーム30Fが同時に入射する。すなわ
ち、1つのレーザ光源220から発散光状態で発せられた
光ビーム30はシリンドリカルビームエキスパンダ300に
より図17に示される面内のみで径が拡大され、上記5
個のウェル201の底面に同時入射可能なサイズまで扁平
化される。
In the pallet 200, one flattened light beam 30F is simultaneously incident on the bottom surfaces of a plurality (five in this example) of wells 201 arranged in the direction of arrow P. That is, the diameter of the light beam 30 emitted from one laser light source 220 in a divergent state is expanded only by the cylindrical beam expander 300 within the plane shown in FIG.
It is flattened to a size such that it can be simultaneously incident on the bottom surface of each well 201.

【0118】そしてこの扁平化された光ビーム30Fは、
次にシリンドリカルビームエキスパンダ301により図1
8に示される面内のみで径が拡大され、大きなミラー30
2で反射して進行方向を変えた後、シリンドリカルレン
ズ303により図18に示される面内のみで集光される。
それにより光ビーム30Fは、5個のウェル201の中の金
属膜12と誘電体ブロック部202との界面に対して、種々
の入射角成分を持った状態で入射する。なおレーザ光源
220は、直線偏光である光ビーム30Fがp偏光状態で上
記界面に入射するようになる向きに配設されている。
Then, the flattened light beam 30F is
Then, using the cylindrical beam expander 301,
The diameter is enlarged only in the plane shown in 8, and the large mirror 30
After being reflected by 2 and changing the traveling direction, it is condensed by the cylindrical lens 303 only within the plane shown in FIG.
Accordingly, the light beam 30F is incident on the interface between the metal film 12 in the five wells 201 and the dielectric block portion 202 with various incident angle components. Laser light source
220 is arranged so that the linearly polarized light beam 30F enters the interface in the p-polarized state.

【0119】上記界面で全反射した光ビーム30Fは、2
次元の光検出面を有する例えばCCD素子からなる光検
出器305によって検出される。この光検出器305の前側に
は、図19に正面形状を示すように5つの光通過開口31
0a、310b、310c、310dおよび310eを有するマスク3
04が配設されている。そこで、全反射した光ビーム30F
のうち、5個のウェル201における上記界面で反射した
成分が、互いに別の光通過開口310a、310b、310c、3
10dおよび310eを通過して、光検出器305の光検出面の
互いに異なる5つの固有領域で検出されるようになる。
それら5つの固有領域の出力は、各々独立して図6に示
した第1の実施の形態におけるのと同様に処理され、試
料15中の特定物質が定量分析される。
The light beam 30F totally reflected at the interface is 2
It is detected by a photodetector 305 having, for example, a CCD element having a dimensional photodetection surface. On the front side of this photodetector 305, as shown in the front view of FIG.
Mask 3 with 0a, 310b, 310c, 310d and 310e
04 is installed. Therefore, the totally reflected light beam 30F
Of the five wells 201, the components reflected at the interfaces are different from the light passing openings 310a, 310b, 310c, 3 which are different from each other.
After passing through 10d and 310e, it is detected in five different unique regions of the photodetection surface of the photodetector 305.
The outputs of these five unique regions are independently processed in the same manner as in the first embodiment shown in FIG. 6, and the specific substance in the sample 15 is quantitatively analyzed.

【0120】本実施の形態においても、以上のようにし
て、5つのウェル201に貯えられている試料15に関する
測定を相並行して行なうことができる。またその測定が
終了したならば第5実施の形態と同様にしてパレット20
0がウェル201の配置ピッチ分だけ送られ、新たな5つの
試料15に関する測定がなされる。このようにして本実施
の形態においても、多数の試料に関する測定を極めて能
率良く、短時間内に行なうことが可能となっている。
Also in the present embodiment, as described above, the measurement of the sample 15 stored in the five wells 201 can be performed in parallel. When the measurement is completed, the pallet 20 is used as in the fifth embodiment.
0 is sent by the arrangement pitch of the wells 201, and measurement is performed on five new samples 15. As described above, also in the present embodiment, it is possible to perform measurement on a large number of samples with extremely high efficiency in a short time.

【0121】なお本実施の形態では、光源としてレーザ
光源220を1つだけ用いているが、例えば光源を2個設
け、1つの光源からの光ビームを2つのウェル201の底
面に入射し得る幅まで扁平化し、別の光源からの光ビー
ムを3つのウェル201の底面に入射し得る幅まで扁平化
するようにしても構わない。
Although only one laser light source 220 is used as a light source in this embodiment, for example, two light sources are provided, and the width of a light beam from one light source can be incident on the bottom surfaces of the two wells 201. Alternatively, the light beams from the other light sources may be flattened to such a width that they can be incident on the bottom surfaces of the three wells 201.

【0122】次に本発明の第7の実施の形態について説
明する。図20は本実施の形態による表面プラズモン共
鳴測定装置の全体形状を示す平面図である。本実施の形
態の表面プラズモン共鳴測定装置は、上記第1の実施の
形態の表面プラズモン共鳴測定装置と比べ、第2待機位
置に保管手段を設けた点が異なる。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described. FIG. 20 is a plan view showing the overall shape of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to this embodiment. The surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment is different from the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the first embodiment described above in that a storage means is provided at a second standby position.

【0123】測定ユニット10に試料15を分注後しばらく
は測定装置により検出される信号にドリフトが生じる。
この検出信号のドリフトの主な原因は、分注した試料15
が測定ユニット10になじむまでに時間を要し、その間に
測定ユニット10に温度変動等が生じるためである。本実
施の形態は、測定ユニット10に試料15を分注後、過渡応
答時間が経過するまでの間所定の温度管理下で保管し、
過渡応答時間中の測定ユニット10を含む測定ユニット連
結体8が測定位置を占有しないようにしたものである。
For a while after the sample 15 is dispensed to the measurement unit 10, a drift occurs in the signal detected by the measurement device.
The main cause of this detection signal drift is the dispensed sample 15
This is because it takes time for the measurement unit 10 to adapt to the measurement unit 10, and during that time, temperature fluctuations or the like occur in the measurement unit 10. In the present embodiment, after dispensing the sample 15 into the measurement unit 10, the sample 15 is stored under predetermined temperature control until the transient response time elapses,
The measurement unit connecting body 8 including the measurement unit 10 during the transient response time is prevented from occupying the measurement position.

【0124】第2待機位置には、温調可能なインキュベ
ータ44(保管手段)が設けられ、このインキュベータ44
内に載置台43が設けられる。
A temperature-adjustable incubator 44 (storage means) is provided at the second standby position.
A mounting table 43 is provided inside.

【0125】また、インキュベータ44内に保管された測
定ユニット10が過渡応答状態であるかを検出するため
に、インキュベータ44内には、図21に示すように、表
面プラズモン共鳴測定部55(状態検出手段)が設けられ
ている。
Further, in order to detect whether the measurement unit 10 stored in the incubator 44 is in a transient response state, the surface plasmon resonance measuring section 55 (state detection) is provided in the incubator 44 as shown in FIG. Means) is provided.

【0126】この表面プラズモン共鳴測定部55は、半導
体レーザ56、マイクロレンズ57および光検出器58からな
り、上記第1の実施例において記載したような表面プラ
ズモン共鳴測定装置の測定部と同様に、表面プラズモン
共鳴を利用して試料15の物性を分析するものである。な
お、通常、測定ユニット連結体8の8個の測定ユニット
10には同時に試料15が分注されるため、表面プラズモン
共鳴測定部55は、載置台43に載置される測定ユニット連
結体8毎に少なくとも一つ以上の測定ユニット10の測定
を行えればよく、そのようにするために、載置台43に載
置される測定ユニット連結体8の数だけ表面プラズモン
共鳴測定部55を設けてもよいし、表面プラズモン共鳴測
定部55を移動可能として各測定ユニット連結体8毎に測
定を行ってもよい。
This surface plasmon resonance measuring section 55 is composed of a semiconductor laser 56, a microlens 57 and a photodetector 58, and like the measuring section of the surface plasmon resonance measuring apparatus as described in the first embodiment, The physical properties of the sample 15 are analyzed by using surface plasmon resonance. In addition, normally, eight measurement units of the measurement unit connection body 8
Since the sample 15 is simultaneously dispensed to 10, the surface plasmon resonance measurement unit 55 is required to measure at least one measurement unit 10 for each measurement unit connected body 8 mounted on the mounting table 43. Of course, in order to do so, the surface plasmon resonance measuring section 55 may be provided by the number of the measurement unit connected bodies 8 mounted on the mounting table 43, or the surface plasmon resonance measuring section 55 can be moved to perform each measurement. The measurement may be performed for each unit connection body 8.

【0127】さらに、保管中に試料15が蒸発するのを
防止する為に、測定ユニット10の上面に蓋16を設けても
よい。
Further, a lid 16 may be provided on the upper surface of the measuring unit 10 in order to prevent the sample 15 from evaporating during storage.

【0128】本実施の形態においては、測定ユニット10
に試料15を分注してから過渡応答時間が経過するまでの
間インキュベータ44内に保管し、表面プラズモン共鳴測
定部55により試料15の過渡応答時間が経過したのを確認
した後に測定位置に移動させるため、測定位置において
測定ユニット連結体8を試料15の過渡応答時間が経過す
るまで待機させる必要がないため、多数の試料に関する
測定を極めて能率良く、かつ正確に行なうことが可能で
ある。
In this embodiment, the measuring unit 10
The sample 15 is stored in the incubator 44 from the time it is dispensed until the transient response time elapses, and after the surface plasmon resonance measurement unit 55 confirms that the transient response time of the sample 15 has elapsed, it moves to the measurement position. Therefore, it is not necessary to wait the transient response time of the sample 15 at the measurement unit connected body 8 at the measurement position, so that it is possible to perform measurement on a large number of samples extremely efficiently and accurately.

【0129】なお、本実施の形態において、試料15の過
渡応答状態を検出するための状態検出手段は、上記に限
るものではなく、例えば、温度センサを用いて試料15の
温度変動を検出するようにしてもよい。
In the present embodiment, the state detecting means for detecting the transient response state of the sample 15 is not limited to the above, and for example, a temperature sensor may be used to detect the temperature fluctuation of the sample 15. You may

【0130】次に本発明の第8の実施の形態について説
明する。図22は本実施の形態による表面プラズモン共
鳴測定装置の全体形状を示す平面図である。本実施の形
態の表面プラズモン共鳴測定装置は、上記第1の実施の
形態の表面プラズモン共鳴測定装置と比べ、光検出器に
タイミング指示手段を設けた点が異なる。
Next, an eighth embodiment of the present invention will be described. FIG. 22 is a plan view showing the overall shape of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to this embodiment. The surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment is different from the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the first embodiment described above in that a timing indicating means is provided in the photodetector.

【0131】本実施の形態の光検出器51a、51b、51
c、51d、51e、51f、51gおよび51hは、タイミング
指示手段50に接続されており、このタイミング指示手段
50から出力されるタイミング指示信号に同期して検出動
作を行うものである。
The photodetectors 51a, 51b, 51 of the present embodiment.
c, 51d, 51e, 51f, 51g and 51h are connected to the timing instructing means 50.
The detection operation is performed in synchronization with the timing instruction signal output from 50.

【0132】なお、タイミング指示信号は、クロック信
号であってもよいし、検出動作時のみ出力されるパルス
信号であってもよい。
The timing instruction signal may be a clock signal or a pulse signal output only during the detecting operation.

【0133】このような構成とすることにより、測定ユ
ニット連結体8の8個の測定ユニット10に貯えられてい
る試料15に対する測定を同時に行うことができるため、
各測定ユニット10間で時間的相関が高いデータを得るこ
とができる。そのため、測定ユニット連結体8の各測定
ユニット10間でデータの比較や補正を行う際に、その精
度を高くすることができる。
With such a structure, it is possible to simultaneously perform the measurement for the sample 15 stored in the eight measurement units 10 of the measurement unit connected body 8.
Data with high temporal correlation can be obtained among the measurement units 10. Therefore, the accuracy can be increased when comparing or correcting the data between the measurement units 10 of the measurement unit connected body 8.

【0134】次に本発明の第9の実施の形態について説
明する。図23は本実施の形態による表面プラズモン共
鳴測定装置の全体形状を示す平面図である。本実施の形
態の表面プラズモン共鳴測定装置は、上記第1の実施の
形態の表面プラズモン共鳴測定装置と比べ測定系を2系
統設けた点が異なる。
Next, a ninth embodiment of the present invention will be described. FIG. 23 is a plan view showing the overall shape of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to this embodiment. The surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment is different from the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the first embodiment described above in that two measuring systems are provided.

【0135】本実施の形態の表面プラズモン共鳴測定装
置は、ガイドロッド1,1、スライドブロック2、精密
ネジ3、パルスモータ4、光検出器7(図1中7a〜7
h)、光ファイバー34(図1中34a〜34h)、光カップ
ラーユニット35、図示しない半導体レーザ31および半導
体レーザ31から出射された光ビームを光カップラーユニ
ット35に入射させる光学系(2組目は部品番号に“´”
を付けて表示)をそれぞれ2組ずつ設け、2系統の測定
系aおよびbを構成したものである。また、測定ユニッ
ト給排機構72および73は、スライドブロック2および2
´の両方にアクセス可能となっている。
The surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment includes guide rods 1, 1, a slide block 2, a precision screw 3, a pulse motor 4, and a photodetector 7 (7a to 7 in FIG. 1).
h), an optical fiber 34 (34a to 34h in FIG. 1), an optical coupler unit 35, a semiconductor laser 31 (not shown), and an optical system for making a light beam emitted from the semiconductor laser 31 incident on the optical coupler unit 35 (the second set is a component. "´" in the number
2), and two sets of measurement systems a and b are configured. In addition, the measuring unit feeding / discharging mechanisms 72 and 73 are the slide blocks 2 and 2
Both are accessible.

【0136】なお、本実施の形態の表面プラズモン共鳴
測定装置においては、2系統の測定系で同じ測定を行っ
てもよいし、以下に記述するように2系統の測定系で異
なる測定を行ってもよい。
In the surface plasmon resonance measuring apparatus according to this embodiment, the same measurement may be performed by two measurement systems, or different measurement may be performed by two measurement systems as described below. Good.

【0137】2系統の測定系aおよびbで異なる測定を
行う場合としては、例えば、測定系aで測定ユニット10
に試料15を分注せずに金属膜12上に固定されたセンシン
グ物質14の量を測定し、測定系bで予め測定系aにより
センシング物質14の固定量が測定された測定ユニット10
に試料15を分注してセンシング物質14と試料15との反応
を測定して、測定系bにより得られた結果を測定系aに
より得られた結果で補正することにより、単位センシン
グ物質量あたりの試料反応量を測定することが可能とな
る。
When different measurement is performed by the two measurement systems a and b, for example, the measurement unit 10 is used in the measurement system a.
The measurement unit 10 in which the amount of the sensing substance 14 fixed on the metal film 12 is measured without dispensing the sample 15 to the sample 15 and the fixed amount of the sensing substance 14 is previously measured by the measuring system b in the measuring system b.
The sample 15 is dispensed into the container, the reaction between the sensing substance 14 and the sample 15 is measured, and the result obtained by the measuring system b is corrected by the result obtained by the measuring system a, thereby It becomes possible to measure the sample reaction amount of.

【0138】なお、このような測定を行う場合、最初に
測定系aで一つ目の測定ユニット連結体8の測定を行
い、次に測定系aでは二つ目の測定ユニット連結体8の
測定を行い、同時に測定系bでは一つ目の測定ユニット
連結体8の測定を行うことにより、効率よく測定を行う
ことができる。
When performing such a measurement, first, the measurement system a measures the first measurement unit connection body 8 and then the measurement system a measures the second measurement unit connection body 8. At the same time, in the measurement system b, the measurement of the first measurement unit linked body 8 is performed, whereby the measurement can be performed efficiently.

【0139】本実施の形態においても、以上のように2
系統の測定系aおよびbで同時に測定を行うことができ
るため、多数の試料に関する測定を極めて能率良く、短
時間内に行なうことが可能となっている。
Also in this embodiment, as described above,
Since the measurement can be performed simultaneously by the system measurement systems a and b, it is possible to perform measurement on a large number of samples in an extremely efficient manner within a short time.

【0140】次に本発明の第10の実施の形態について
説明する。本実施の形態による表面プラズモン共鳴測定
装置の全体形状は、図1に示す第1の実施の形態で示し
た表面プラズモン共鳴測定装置と同様である。本実施の
形態の表面プラズモン共鳴測定装置は、上記第1の実施
の形態の表面プラズモン共鳴測定装置と比べ、試料分析
の方法を変更したものである。
Next explained is the tenth embodiment of the invention. The overall shape of the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment is the same as that of the surface plasmon resonance measuring apparatus shown in the first embodiment shown in FIG. The surface plasmon resonance measuring apparatus according to the present embodiment is different from the surface plasmon resonance measuring apparatus according to the first embodiment in that the method of sample analysis is changed.

【0141】図24に側面形状を示すように、本実施の
形態の表面プラズモン共鳴測定装置の測定位置には、そ
れぞれ左右からスライドブロック2を挟む形で、光ファ
イバー34a〜hとCCD360a〜hとが配設されてお
り、これら光ファイバー34a〜hとCCD360a〜hと
の間には、コリメータレンズ350a〜h、干渉光学系、
集光レンズ355a〜hおよびアパーチャー356a〜hが配
設されている。
As shown in the side view of FIG. 24, at the measurement position of the surface plasmon resonance measuring apparatus of the present embodiment, the optical fibers 34a-h and the CCDs 360a-h are sandwiched between the optical fibers 34a-h and the CCDs 360a-h. The collimator lenses 350a to 350h, the interference optical system, and the optical fibers 34a to h and the CCDs 360a to h are provided.
Condensing lenses 355a-h and apertures 356a-h are provided.

【0142】上記干渉光学系は、偏光フィルタ351a〜
h、ハーフミラー352a〜h、ハーフミラー353a〜hお
よびミラー354a〜hにより構成されている。
The interference optical system includes the polarization filters 351a to 351a.
h, half mirrors 352a-h, half mirrors 353a-h, and mirrors 354a-h.

【0143】さらに、CCD360a〜hは信号処理部361
に接続されており、信号処理部361は表示部62に接続さ
れている。
Further, the CCDs 360a-h are the signal processing units 361.
The signal processing unit 361 is connected to the display unit 62.

【0144】以下、本実施の形態の表面プラズモン共鳴
測定装置における試料の測定について説明する。なおこ
こでは、図1に示す測定ユニット連結体8の8つの測定
ユニット10のうち、光ファイバー34aおよびCCD360
aに整合する状態とされた1つの測定ユニット10を例に
取って説明を行なうが、その他の測定ユニット10におい
ても測定は同様になされるものである。
The measurement of the sample by the surface plasmon resonance measuring apparatus of this embodiment will be described below. In this case, the optical fiber 34a and the CCD 360 among the eight measuring units 10 of the measuring unit connecting body 8 shown in FIG.
The description will be given taking one measurement unit 10 in a state of being matched with a as an example, but the measurement is similarly performed in the other measurement units 10.

【0145】第1の実施の形態で記載の通り半導体レー
ザ31が駆動されて光ファイバー34aの先端から光ビーム
330が発散光の状態で出射される。この光ビーム330はコ
リメータレンズ350aにより平行光化されて偏光フィル
タ351aに入射する。偏光フィルタ351aを透過して界面
11aに対してp偏光で入射するようにされた光ビーム33
0は、ハーフミラー352aにより一部がレファレンス光ビ
ーム330Rとして分割され、ハーフミラー352aを透過し
た残りの光ビーム330Sは界面11aに入射する。界面11
aで全反射した光ビーム330Sおよびミラー354aで反射
したレファレンス光ビーム330Rはハーフミラー353aに
入射して合成される。合成された光ビーム330´は集光
レンズ355aにより集光され、アパーチャー356aを通過
してCCD360aによって検出される。このとき、CC
D360aで検出される光ビーム330´は、光ビーム330S
とレファレンス光ビーム330Rとの干渉の状態に応じて
干渉縞を発生させる。
As described in the first embodiment, the semiconductor laser 31 is driven to drive the optical beam from the tip of the optical fiber 34a.
330 is emitted in the state of divergent light. The light beam 330 is collimated by the collimator lens 350a and enters the polarization filter 351a. Interface through the polarizing filter 351a
Light beam 33 adapted to be incident as p-polarized light on 11a 33
In the case of 0, a part is split as a reference light beam 330R by the half mirror 352a, and the remaining light beam 330S transmitted through the half mirror 352a enters the interface 11a. Interface 11
The light beam 330S totally reflected by a and the reference light beam 330R reflected by the mirror 354a enter the half mirror 353a and are combined. The combined light beam 330 'is condensed by the condenser lens 355a, passes through the aperture 356a, and is detected by the CCD 360a. At this time, CC
The light beam 330 'detected by D360a is the light beam 330S.
Interference fringes are generated according to the state of interference between the reference light beam 330R and the reference light beam 330R.

【0146】ここで、金属膜12の表面に固定されている
センシング物質14は、試料15中の特定物質と結合するも
のである。このような特定物質とセンシング物質14との
組合せとしては、例えば抗原と抗体とが挙げられる。そ
の場合は、試料15分注後から継続的に測定し、CCD36
0aにより検出される干渉縞の変化を検出することによ
り、抗原抗体反応の有無を検出することができる。つま
りこの場合は、上記特定物質とセンシング物質14との結
合状態に応じてセンシング物質14の屈折率が変化する
と、界面11aで全反射した光ビーム330Sおよびレファ
レンス光ビーム330Rがハーフミラー353aにより合成さ
れる際に、干渉の状態が変化するため、上記干渉縞の変
化に応じて抗原抗体反応を検出することができる。なお
この場合は、試料15およびセンシング物質14の双方が、
分析対象の試料となる。
Here, the sensing substance 14 fixed to the surface of the metal film 12 binds to a specific substance in the sample 15. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance 14 include an antigen and an antibody. In that case, measure continuously after dispensing 15 samples and use CCD36
The presence or absence of an antigen-antibody reaction can be detected by detecting the change in the interference fringes detected by 0a. That is, in this case, when the refractive index of the sensing substance 14 changes according to the binding state between the specific substance and the sensing substance 14, the light beam 330S and the reference light beam 330R totally reflected at the interface 11a are combined by the half mirror 353a. When the interference occurs, the state of interference changes, so that the antigen-antibody reaction can be detected according to the change in the interference fringe. In this case, both the sample 15 and the sensing substance 14
It becomes the sample to be analyzed.

【0147】信号処理部361は、以上の原理に基づいて
上記反応の有無を検出し、その結果が表示部62に表示さ
れる。
The signal processing section 361 detects the presence or absence of the above reaction based on the above principle, and the result is displayed on the display section 62.

【0148】以上の測定操作は他の7個の測定ユニット
10に対しても並行して同様になされ、8個の測定ユニッ
ト10に貯えられている試料15に対する測定が同時になさ
れる。なお、8個の測定ユニット10に対する光ビーム33
0の照射および反応の有無の検出は、互いに厳密に同時
に行なう必要はなく、開始あるいは終了の時間が互いに
多少ずれていても構わない。
The above measurement operation is performed using seven other measurement units.
The same is done for 10 in parallel, and the measurements for the samples 15 stored in the eight measurement units 10 are performed at the same time. In addition, the light beam 33 for the eight measurement units 10
The irradiation of 0 and the detection of the presence or absence of the reaction do not have to be performed at exactly the same time, and the start or end times may be slightly different from each other.

【0149】上述の通り本装置によれば、8個の測定ユ
ニット10の各試料15に対する測定を互いに並行して、同
時あるいはそれに近い状態で実行できるので、多数の試
料についての測定を短時間で行なうことが可能になる。
As described above, according to the present apparatus, the measurement of each sample 15 of the eight measurement units 10 can be performed in parallel with each other, simultaneously or in a state close thereto, so that the measurement of a large number of samples can be performed in a short time. It becomes possible to do.

【0150】なお信号処理部361は、8個のCCD360a
〜hに対してそれぞれ専用のものを設けてもよいし、あ
るいは8個のCCD360a〜hに対して共用のものを1
個だけ設けて、それらのCCD360a〜hが出力した光
量検出信号Sを順次処理するようにしても構わない。
The signal processing unit 361 includes eight CCDs 360a.
~ H may be provided with a dedicated one, or one shared with eight CCDs 360a ~ h
It is also possible to provide only one and sequentially process the light amount detection signals S output from the CCDs 360a to h.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による表面プラズモ
ン共鳴測定装置の全体平面図
FIG. 1 is an overall plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の要部を示
す一部破断斜視図
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing a main part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図3】図1の表面プラズモン共鳴測定装置に用いられ
る測定ユニット連結体を示す斜視図
FIG. 3 is a perspective view showing a measuring unit connected body used in the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG. 1.

【図4】図3の測定ユニット連結体を収容する手段を示
す平面図
4 is a plan view showing a means for accommodating the measuring unit assembly of FIG. 3; FIG.

【図5】図3の測定ユニット連結体に試料を供給する手
段を示す正面図
FIG. 5 is a front view showing a means for supplying a sample to the connected measuring unit in FIG.

【図6】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の要部を示
す側面図
6 is a side view showing a main part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図7】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の光学系を
示す平面図
7 is a plan view showing an optical system of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図8】表面プラズモン共鳴測定装置における光ビーム
入射角と、光検出器による検出光強度との概略関係を示
すグラフ
FIG. 8 is a graph showing a schematic relationship between a light beam incident angle and a light intensity detected by a photodetector in the surface plasmon resonance measuring apparatus.

【図9】本発明の測定装置に用いられる測定ユニット連
結体の別の例を示す斜視図
FIG. 9 is a perspective view showing another example of the connected measuring unit used in the measuring apparatus of the present invention.

【図10】本発明の測定装置に用いられる測定ユニット
連結体のさらに別の例を示す斜視図
FIG. 10 is a perspective view showing still another example of the connected measuring unit used in the measuring apparatus of the present invention.

【図11】本発明の第2の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の要部を示す側面図
FIG. 11 is a side view showing a main part of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第3の実施の形態による漏洩モード
センサーの要部を示す側面図
FIG. 12 is a side view showing a main part of a leaky mode sensor according to a third embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第4の実施の形態による漏洩モード
センサーの要部を示す側面図
FIG. 13 is a side view showing a main part of a leaky mode sensor according to a fourth embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第5の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の平面図
FIG. 14 is a plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

【図15】図14の表面プラズモン共鳴測定装置の一部
破断側面図
15 is a partially cutaway side view of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図16】図14の表面プラズモン共鳴測定装置の一部
を拡大して示す側断面図
16 is an enlarged side sectional view showing a part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図17】本発明の第6の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の平面図
FIG. 17 is a plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.

【図18】図17の表面プラズモン共鳴測定装置の一部
破断側面図
18 is a partially cutaway side view of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図19】図17の表面プラズモン共鳴測定装置の一部
を拡大して示す平面図
19 is an enlarged plan view showing a part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG.

【図20】本発明の第7の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の全体平面図
FIG. 20 is an overall plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.

【図21】図20の表面プラズモン共鳴測定装置の保管
手段の構成図
21 is a configuration diagram of storage means of the surface plasmon resonance measurement apparatus of FIG.

【図22】本発明の第8の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の全体平面図
FIG. 22 is an overall plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to an eighth embodiment of the present invention.

【図23】本発明の第9の実施の形態による表面プラズ
モン共鳴測定装置の全体平面図
FIG. 23 is an overall plan view of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a ninth embodiment of the present invention.

【図24】本発明の第10の実施の形態による表面プラ
ズモン共鳴測定装置の要部を示す側面図
FIG. 24 is a side view showing essential parts of a surface plasmon resonance measuring apparatus according to a tenth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガイドロッド 2 スライドブロック 3 精密ねじ 4 パルスモータ 5 モータコントローラ 6 マイクロレンズアレイ 7a〜h 光検出器 8 測定ユニット連結体 9 連結部材 10、10’ 測定ユニット 11 誘電体ブロック 11a 誘電体ブロックと薄膜層との界面 12 金属膜 14 センシング物質 30 光ビーム 30F 扁平化された光ビーム 31 半導体レーザ 32 コリメーターレンズ 33 集光レンズ 34a〜h、34m 光ファイバー 35 光カップラーユニット 36 コリメーターレンズ 37 集光レンズ 38 ミラー 40 プレート 41 排出用プレート 42 載置台 43 載置台 44 インキュベータ 45 分注機 46 分注ノズル 47 支持部材 50 タイミング指示手段 51a〜h 光検出器 55 表面プラズモン共鳴測定部 61 信号処理部 62 表示部 70、71、72、73 測定ユニット給排機構 80、90 測定ユニット連結体 81 誘電体バー 91 ユニット支持板 92 ユニット支持孔 95 測定ユニット 110 110’ 測定ユニット 111 クラッド層 112 光導波層 200 パレット 201 ウェル 202 パレットの誘電体ブロック部 210 測定ユニット送り台 211 レール 212 駆動手段 220 レーザ光源 221 コリメーターレンズ 222、223、224、225 ハーフミラー 226 ミラー 231、232、233、234、235 シリンドリカルビームエ
キスパンダ 241、242、243、244、245 ミラー 251、252、253、254、255 シリンドリカルレンズ 300、301 シリンドリカルビームエキスパンダ 302 ミラー 303 シリンドリカルレンズ 304 マスク 305 光検出器 330 光ビーム 350a〜h コリメータレンズ 351a〜h 偏光フィルタ 352a〜h ハーフミラー 353a〜h ハーフミラー 354a〜h ミラー 355a〜h 集光レンズ 356a〜h アパーチャー 361 信号処理部
1 guide rod 2 slide block 3 precision screw 4 pulse motor 5 motor controller 6 microlens array 7a to h photodetector 8 measuring unit connecting body 9 connecting member 10, 10 'measuring unit 11 dielectric block 11a dielectric block and thin film layer Interface 12 Metal film 14 Sensing substance 30 Light beam 30F Flattened light beam 31 Semiconductor laser 32 Collimator lens 33 Condenser lenses 34a-h, 34m Optical fiber 35 Optical coupler unit 36 Collimator lens 37 Condenser lens 38 Mirror 40 plate 41 discharge plate 42 mounting table 43 mounting table 44 incubator 45 dispenser 46 dispensing nozzle 47 support member 50 timing indicating means 51a to h photodetector 55 surface plasmon resonance measuring section 61 signal processing section 62 display section 70, 71, 72, 73 Measuring unit feeding / discharging mechanism 80, 90 Measuring unit connecting body 81 Dielectric bar 91 Unit supporting plate 92 Unit Knit support hole 95 Measuring unit 110 110 'Measuring unit 111 Clad layer 112 Optical waveguide layer 200 Pallet 201 Well 202 Pallet dielectric block 210 Measuring unit Sending base 211 Rail 212 Driving means 220 Laser light source 221 Collimator lens 222, 223, 224, 225 Half mirror 226 Mirror 231, 232, 233, 234, 235 Cylindrical beam expander 241, 242, 243, 244, 245 Mirror 251, 252, 253, 254, 255 Cylindrical lens 300, 301 Cylindrical beam expander 302 Mirror 303 Cylindrical lens 304 Mask 305 Photodetector 330 Light beam 350a-h Collimator lens 351a-h Polarizing filter 352a-h Half mirror 353a-h Half mirror 354a-h Mirror 355a-h Condenser lens 356a-h Aperture 361 Signal processing unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 仁 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 森 信文 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2G057 AA02 AB04 AB07 AC01 BA01 BB06 HA02 HA04 2G058 AA08 CC01 CC14 CD11 ED18 GA01 2G059 AA01 BB04 BB12 CC16 DD12 DD13 DD16 EE02 EE05 EE09 FF08 FF09 FF11 GG01 GG04 HH01 JJ02 JJ11 JJ13 JJ17 JJ19 JJ22 KK01 KK03 KK04 LL04 PP04    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hitoshi Shimizu             798 Miyadai, Kaisei-cho, Ashigarakami-gun, Kanagawa Prefecture             Shishi Film Co., Ltd. (72) Inventor Norifumi Mori             798 Miyadai, Kaisei-cho, Ashigarakami-gun, Kanagawa Prefecture             Shishi Film Co., Ltd. F-term (reference) 2G057 AA02 AB04 AB07 AC01 BA01                       BB06 HA02 HA04                 2G058 AA08 CC01 CC14 CD11 ED18                       GA01                 2G059 AA01 BB04 BB12 CC16 DD12                       DD13 DD16 EE02 EE05 EE09                       FF08 FF09 FF11 GG01 GG04                       HH01 JJ02 JJ11 JJ13 JJ17                       JJ19 JJ22 KK01 KK03 KK04                       LL04 PP04

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体ブロック、この誘電体ブロックの
一面に形成された薄膜層、およびこの薄膜層の表面上に
試料を保持する試料保持機構を備えてなる複数の測定ユ
ニットと、 これら複数の測定ユニットを支持する支持体と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる
入射角で入射させる入射光学系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を測定する光検出
手段とを備えてなる測定装置において、 前記光学系が、前記支持体に支持された少なくとも2つ
の測定ユニットの各誘電体ブロックに対して並列的に前
記光ビームを入射させるように構成され、 前記光検出手段が、前記誘電体ブロックに入射する光ビ
ームにそれぞれ1つずつ対応させて合計で少なくとも2
つ設けられていることを特徴とする測定装置。
1. A plurality of measuring units each comprising a dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block, and a sample holding mechanism for holding a sample on the surface of the thin film layer, and a plurality of these measuring units. A support that supports the measurement unit, a light source that generates a light beam, and the light beam with respect to the dielectric block at an angle of incidence at which total reflection conditions are obtained at the interface between the dielectric block and the thin film layer. A measuring apparatus comprising: an incident optical system for making incident light; and a light detecting means for measuring the intensity of a light beam totally reflected at the interface, wherein the optical system comprises at least two measuring units supported by the support. The light beams are configured to be incident on the dielectric blocks in parallel, and the photodetector means corresponds to each of the light beams incident on the dielectric block. Let me give you a total of at least 2
Measuring device characterized by being provided.
【請求項2】 誘電体ブロック、この誘電体ブロックの
一面に形成された薄膜層、この薄膜層の表面上に配され
て試料中の特定成分と相互作用を生じるセンシング物
質、およびこのセンシング物質の表面上に試料を保持す
る試料保持機構を備えてなる複数の測定ユニットと、 これら複数の測定ユニットを支持した支持体と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られる
入射角で入射させる入射光学系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を測定する光検出
手段とを備えてなる測定装置において、 前記光学系が、前記支持体に支持された少なくとも2つ
の測定ユニットの各誘電体ブロックに対して並列的に前
記光ビームを入射させるように構成され、 前記光検出手段が、前記誘電体ブロックに入射する光ビ
ームにそれぞれ1つずつ対応させて合計で少なくとも2
つ設けられていることを特徴とする測定装置。
2. A dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block, a sensing substance disposed on the surface of the thin film layer to interact with a specific component in a sample, and a sensing substance of the sensing substance. A plurality of measurement units provided with a sample holding mechanism for holding a sample on the surface, a support that supports the plurality of measurement units, a light source that generates a light beam, and the light beam to the dielectric block. And an incident optical system that makes an incident angle at which the total reflection condition is obtained at the interface between the dielectric block and the thin film layer, and a light detection unit that measures the intensity of the light beam totally reflected at the interface. In the measuring apparatus, the optical system may cause the optical beam to enter the dielectric blocks of the at least two measuring units supported by the support body in parallel. Made, said light detecting means, said dielectric least 2 in total to correspond one by one each of the light beams incident on the block
Measuring device characterized by being provided.
【請求項3】 前記光学系が、前記支持体に支持された
全ての測定ユニットの誘電体ブロックに対して並列的に
前記光ビームを入射させるように構成されていることを
特徴とする請求項1または2記載の測定装置。
3. The optical system is configured to make the light beam incident on the dielectric blocks of all the measurement units supported by the support body in parallel. 1. The measuring device according to 1 or 2.
【請求項4】 前記光学系が、1つまたは複数設けられ
た前記光源の各々から発せられた1本の光ビームを複数
に分岐させて、分岐後の光ビームをそれぞれ前記誘電体
ブロックに入射させるように構成されていることを特徴
とする請求項1から3いずれか1項記載の測定装置。
4. The optical system splits a single light beam emitted from each of the one or a plurality of light sources provided therein into a plurality of beams, and the branched light beams are respectively incident on the dielectric block. The measuring device according to any one of claims 1 to 3, wherein the measuring device is configured to operate.
【請求項5】 前記光学系が、1つまたは複数設けられ
た前記光源の各々から発せられた光ビームを扁平化させ
て、扁平化した光ビームを前記誘電体ブロックの複数に
入射させるように構成されていることを特徴とする請求
項1から3いずれか1項記載の測定装置。
5. The optical system flattens the light beams emitted from each of the one or more light sources, and makes the flattened light beams incident on a plurality of the dielectric blocks. The measuring device according to claim 1, wherein the measuring device is configured.
【請求項6】 前記支持体と前記光学系および光検出手
段とを相対移動させて、各測定ユニットを、その誘電体
ブロックに前記光ビームが入射する測定位置および、入
射しない待機位置のいずれかに選択的に配置する駆動手
段を備えたことを特徴とする請求項1から5いずれか1
項記載の測定装置。
6. The relative position of the support, the optical system, and the light detection means is moved so that each of the measurement units has either a measurement position at which the light beam is incident on its dielectric block or a standby position at which the light beam is not incident. 6. A driving means selectively arranged on the display device according to any one of claims 1 to 5,
The measuring device according to the item.
【請求項7】 前記支持体が、前記複数の測定ユニット
を直線的に1列に並べて支持するものであり、 前記駆動手段がこの支持体と前記光学系および光検出手
段とを、前記複数の測定ユニットの並び方向に直線的に
相対移動させるものであることを特徴とする請求項6記
載の測定装置。
7. The support body linearly arranges the plurality of measurement units in a line and supports the plurality of measurement units, and the driving unit includes the support body, the optical system, and the light detection unit. The measuring apparatus according to claim 6, wherein the measuring unit is linearly moved relative to the arrangement direction of the measuring units.
【請求項8】 前記支持体が、前記複数の測定ユニット
を円周上に並べて支持するものであり、 前記駆動手段がこの支持体と前記光学系および光検出手
段とを、前記複数の測定ユニットの並び方向に円周に沿
って相対移動させるものであることを特徴とする請求項
6記載の測定装置。
8. The support body supports the plurality of measurement units arranged side by side on a circumference, and the driving unit includes the support body, the optical system, and the light detection unit. 7. The measuring device according to claim 6, wherein the measuring device is relatively moved along the circumference in the arranging direction.
【請求項9】 前記待機位置に設定された前記測定ユニ
ットを前記支持体から取り外すとともに、取り外された
測定ユニットを再度前記支持体に支持させる測定ユニッ
ト給排手段を備えたことを特徴とする請求項6から8い
ずれか1項記載の測定装置。
9. The measuring unit feeding / discharging means for removing the measuring unit set to the standby position from the supporting body and supporting the detached measuring unit again on the supporting body. Item 9. A measuring device according to any one of items 6 to 8.
【請求項10】 前記支持体が、それぞれに並列的に前
記光ビームが入射するように複数の測定ユニットを一方
向に並べて支持するとともに、この一方向と交わる他方
向にも複数の測定ユニットを並べて支持するように構成
された上で、この支持体と前記光学系および光検出手段
とを相対的に前記他方向に移動させて、この他方向に並
んでいる複数の測定ユニットを順次前記光ビームが入射
する位置に配する測定ユニット送り手段が設けられたこ
とを特徴とする請求項1から9いずれか1項記載の測定
装置。
10. The support supports a plurality of measurement units arranged side by side in one direction so that the light beams are incident in parallel to each other, and also supports a plurality of measurement units in another direction intersecting with the one direction. After being configured to support side by side, the support, the optical system, and the light detection means are relatively moved in the other direction, and a plurality of measurement units arranged in the other direction are sequentially moved to the light. 10. The measuring device according to claim 1, further comprising a measuring unit feeding means arranged at a position where the beam is incident.
【請求項11】 前記誘電体ブロックと前記支持体とが
一体的に形成されていることを特徴とする請求項1から
10いずれか1項記載の測定装置。
11. The measuring device according to claim 1, wherein the dielectric block and the support are integrally formed.
【請求項12】 前記待機位置に、前記測定ユニットを
温度管理下で保管する保管手段を備えていることを特徴
とする請求項6から11いずれか1項記載の測定装置。
12. The measuring device according to claim 6, further comprising storage means for storing the measurement unit under temperature control at the standby position.
【請求項13】 前記待機位置に、前記測定ユニットの
状態を検出する状態検出手段を備えていることを特徴と
する請求項6から12いずれか1項記載の測定装置。
13. The measuring apparatus according to claim 6, further comprising a state detecting unit that detects a state of the measuring unit at the standby position.
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