JP2002277390A - Measuring chip - Google Patents

Measuring chip

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JP2002277390A
JP2002277390A JP2001081968A JP2001081968A JP2002277390A JP 2002277390 A JP2002277390 A JP 2002277390A JP 2001081968 A JP2001081968 A JP 2001081968A JP 2001081968 A JP2001081968 A JP 2001081968A JP 2002277390 A JP2002277390 A JP 2002277390A
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JP
Japan
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measuring
measurement
dielectric block
light beam
sample
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JP2001081968A
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Japanese (ja)
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Takashi Kubo
隆 久保
Katsuaki Muraishi
勝明 村石
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make positional precision and handlability excellent, in a measuring chip used for a measuring instrument such as a surface plasmon resonance measuring instrument using total reflectance attenuation. SOLUTION: Measuring units 10 of which each comprises a dielectric block 11 and a thin film layer 12 formed in one face of the block 11 to contact with a sample are plurally arrayed integratedly in one line to constitute a measuring unit-coupled body 8.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面プラズモンの
発生を利用して試料中の物質を定量分析する表面プラズ
モン共鳴測定装置等に用いられる測定チップに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a measurement chip used for a surface plasmon resonance measuring device for quantitatively analyzing a substance in a sample by utilizing the generation of surface plasmon.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属中においては、自由電子が集団的に
振動して、プラズマ波と呼ばれる粗密波が生じる。そし
て、金属表面に生じるこの粗密波を量子化したものは、
表面プラズモンと呼ばれている。
2. Description of the Related Art In a metal, free electrons vibrate collectively to generate a compression wave called a plasma wave. And, the quantization of this compression wave generated on the metal surface is
It is called surface plasmon.

【0003】従来より、この表面プラズモンが光波によ
って励起される現象を利用して、試料中の物質を定量分
析する表面プラズモン共鳴測定装置が種々提案されてい
る。そして、それらの中で特に良く知られているものと
して、 Kretschmann配置と称される系を用いるものが挙
げられる(例えば特開平6−167443号参照)。
Conventionally, there have been proposed various surface plasmon resonance measuring apparatuses for quantitatively analyzing a substance in a sample by utilizing the phenomenon that surface plasmons are excited by light waves. Among them, a particularly well-known one uses a system called a Kretschmann configuration (see, for example, JP-A-6-167443).

【0004】上記の系を用いる表面プラズモン共鳴測定
装置は基本的に、例えばプリズム状に形成された誘電体
ブロックと、この誘電体ブロックの一面に形成されて試
料に接触させられる金属膜と、光ビームを発生させる光
源と、上記光ビームを誘電体ブロックに対して、該誘電
体ブロックと金属膜との界面で全反射条件となり、か
つ、表面プラズモン共鳴条件を含む種々の入射角が得ら
れるように入射させる光学系と、上記界面で全反射した
光ビームの強度を測定して表面プラズモン共鳴の状態を
検出する光検出手段とを備えてなるものである。
A surface plasmon resonance measuring apparatus using the above-mentioned system basically includes, for example, a dielectric block formed in a prism shape, a metal film formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, A light source for generating a beam, and the light beam is applied to a dielectric block so that various incident angles including a surface plasmon resonance condition can be obtained under a condition of total reflection at an interface between the dielectric block and the metal film. And an optical detection means for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface to detect the state of surface plasmon resonance.

【0005】なお上述のように種々の入射角を得るため
には、比較的細い光ビームを偏向させて上記界面に入射
させてもよいし、あるいは光ビームに種々の角度で入射
する成分が含まれるように、比較的太い光ビームを上記
界面に収束光あるいは発散光の状態で入射させてもよ
い。前者の場合は、光ビームの偏向にともなって反射角
が変化する光ビームを、光ビームの偏向に同期移動する
小さな光検出器によって検出したり、反射角の変化方向
に沿って延びるエリアセンサによって検出することがで
きる。一方後者の場合は、種々の反射角で反射した各光
ビームを全て受光できる方向に延びるエリアセンサによ
って検出することができる。
In order to obtain various angles of incidence as described above, a relatively narrow light beam may be deflected and incident on the interface, or a component which is incident on the light beam at various angles may be included. As described above, a relatively thick light beam may be made to enter the interface in a state of convergent light or divergent light. In the former case, the light beam whose reflection angle changes with the deflection of the light beam is detected by a small photodetector that moves synchronously with the deflection of the light beam, or by an area sensor extending along the direction of the change in the reflection angle. Can be detected. On the other hand, the latter case can be detected by an area sensor extending in a direction in which all light beams reflected at various reflection angles can be received.

【0006】上記構成の表面プラズモン共鳴測定装置に
おいて、光ビームを金属膜に対して全反射角以上の特定
入射角θSPで入射させると、該金属膜に接している試
料中に電界分布をもつエバネッセント波が生じ、このエ
バネッセント波によって金属膜と試料との界面に表面プ
ラズモンが励起される。エバネッセント光の波数ベクト
ルが表面プラズモンの波数と等しくて波数整合が成立し
ているとき、両者は共鳴状態となり、光のエネルギーが
表面プラズモンに移行するので、誘電体ブロックと金属
膜との界面で全反射した光の強度が鋭く低下する。この
光強度の低下は、一般に上記光検出手段により暗線とし
て検出される。
[0006] In the surface plasmon resonance measurement device with the above structure, has when a light beam impinges the total reflection angle or more specific angle of incidence theta SP the metal film, the electric field distribution in the sample in contact with the metal film An evanescent wave is generated, and surface plasmon is excited at the interface between the metal film and the sample by the evanescent wave. When the wave number vector of the evanescent light is equal to the wave number of the surface plasmon and the wave number matching is established, both are in a resonance state, and the energy of light is transferred to the surface plasmon. The intensity of the reflected light drops sharply. This decrease in light intensity is generally detected as a dark line by the light detection means.

【0007】なお上記の共鳴は、入射ビームがp偏光の
ときにだけ生じる。したがって、光ビームがp偏光で入
射するように予め設定しておく必要がある。
[0007] The above resonance occurs only when the incident beam is p-polarized. Therefore, it is necessary to set in advance so that the light beam is incident as p-polarized light.

【0008】この全反射減衰(ATR)が生じる入射角
θSPより表面プラズモンの波数が分かると、試料の誘
電率が求められる。すなわち表面プラズモンの波数をK
SP、表面プラズモンの角周波数をω、cを真空中の光
速、εとεをそれぞれ金属、試料の誘電率とす
ると、以下の関係がある。
When the wave number of the surface plasmon is known from the incident angle θ SP at which the attenuated total reflection (ATR) occurs, the dielectric constant of the sample is obtained. That is, the wave number of the surface plasmon is K
When SP and the angular frequency of the surface plasmon are ω, c is the speed of light in vacuum, ε m and ε s are the metal and the dielectric constant of the sample, respectively, there is the following relationship.

【0009】[0009]

【数1】 試料の誘電率εが分かれば、所定の較正曲線等に基
づいて試料中の特定物質の濃度が分かるので、結局、上
記反射光強度が低下する入射角θSPを知ることによ
り、試料中の特定物質を定量分析することができる。
(Equation 1) If the dielectric constant ε s of the sample is known, the concentration of the specific substance in the sample can be determined based on a predetermined calibration curve or the like, so that by knowing the incident angle θ SP at which the reflected light intensity decreases, the A specific substance can be quantitatively analyzed.

【0010】上記の系を用いる従来の表面プラズモン共
鳴測定装置において、実用上は、試料に接触させる金属
膜を測定毎に交換する必要がある。そこで従来、この金
属膜を誘電体ブロックに固定してチップ化された1つの
測定ユニットを構成し、この測定ユニットを試料毎に使
い捨てすることが考えられている(例えば本出願人によ
る特願2000−016633号参照)。
In a conventional surface plasmon resonance measuring apparatus using the above system, it is practically necessary to change a metal film to be brought into contact with a sample every measurement. Therefore, conventionally, it has been considered that a single measurement unit is formed as a chip by fixing the metal film to a dielectric block, and this measurement unit is disposable for each sample (for example, Japanese Patent Application No. 2000-210). 016633).

【0011】また、全反射減衰(ATR)を利用する類
似の測定装置として、例えば「分光研究」第47巻 第
1号(1998)の第21〜23頁および第26〜27
頁に記載がある漏洩モードセンサーも知られている。こ
の漏洩モードセンサーは基本的に、例えばプリズム状に
形成された誘電体ブロックと、この誘電体ブロックの一
面に形成されたクラッド層と、このクラッド層の上に形
成されて、試料に接触させられる光導波層と、光ビーム
を発生させる光源と、上記光ビームを上記誘電体ブロッ
クに対して、該誘電体ブロックとクラッド層との界面で
全反射条件が得られるように種々の角度で入射させる光
学系と、上記界面で全反射した光ビームの強度を測定し
て導波モードの励起状態、つまり全反射減衰状態を検出
する光検出手段とを備えてなるものである。
Further, as a similar measuring device utilizing the attenuated total reflection (ATR), for example, "Spectroscopy", Vol. 47, No. 1 (1998), pp. 21-23 and 26-27.
A leak mode sensor described on the page is also known. This leak mode sensor is basically formed of, for example, a dielectric block formed in a prism shape, a clad layer formed on one surface of the dielectric block, and formed on the clad layer and brought into contact with a sample. An optical waveguide layer, a light source for generating a light beam, and the light beam entering the dielectric block at various angles so as to obtain a total reflection condition at an interface between the dielectric block and the cladding layer. The optical system comprises an optical system and light detecting means for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface to detect the excited state of the waveguide mode, that is, the attenuated total reflection state.

【0012】上記構成の漏洩モードセンサーにおいて、
光ビームを誘電体ブロックを通してクラッド層に対して
全反射角以上の入射角で入射させると、このクラッド層
を透過した後に光導波層においては、ある特定の波数を
有する特定入射角の光のみが導波モードで伝搬するよう
になる。こうして導波モードが励起されると、入射光の
ほとんどが光導波層に取り込まれるので、上記界面で全
反射する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じる。
そして導波光の波数は光導波層の上の試料の屈折率に依
存するので、全反射減衰が生じる上記特定入射角を知る
ことによって、試料の屈折率や、それに関連する試料の
特性を分析することができる。
In the leakage mode sensor having the above configuration,
When the light beam is incident on the cladding layer through the dielectric block at an incident angle equal to or greater than the total reflection angle, only light having a specific wave number at a specific incident angle is transmitted through the cladding layer. The light propagates in a guided mode. When the waveguide mode is excited in this way, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer, so that total reflection attenuation occurs in which the intensity of light totally reflected at the interface sharply decreases.
Since the wave number of the guided light depends on the refractive index of the sample on the optical waveguide layer, the refractive index of the sample and the characteristics of the sample related thereto are analyzed by knowing the specific incident angle at which the total reflection attenuation occurs. be able to.

【0013】なおこの漏洩モードセンサーを用いる場合
も、前述の表面プラズモン共鳴測定装置を用いる場合と
同様に、クラッド層および光導波層を誘電体ブロックに
固定してチップ化された1つの測定ユニットを構成し、
この測定ユニットを試料毎に使い捨てすることが可能で
ある。
In the case of using this leaky mode sensor, as in the case of using the above-mentioned surface plasmon resonance measuring apparatus, one measuring unit chip-fixed by fixing the cladding layer and the optical waveguide layer to the dielectric block is used. Make up,
This measurement unit can be disposable for each sample.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来の測定チップを用いる場合は、表面プラズモン共鳴
測定装置等の測定装置上での位置精度が出し難いという
問題が認められている。全反射減衰を利用した測定装置
において、再現性の良い高精度の測定を実現するために
は、光ビームを誘電体ブロックと薄膜層(表面プラズモ
ン共鳴を利用するものにあっては金属膜であり、導波モ
ードの励起を利用するものにあってはクラッド層であ
る)との界面に対して所定の入射角範囲で入射させる必
要があるが、測定装置上で測定チップの位置精度が出し
難いと、当然、この入射角範囲がまちまちになって測定
精度が損なわれる。
However, when the conventional measuring chip as described above is used, a problem has been recognized that it is difficult to obtain positional accuracy on a measuring device such as a surface plasmon resonance measuring device. In order to achieve highly reproducible and highly accurate measurement in a measuring device using attenuated total reflection, the light beam must be converted into a dielectric block and a thin film layer (a metal film in the case of using surface plasmon resonance). , It is necessary to make the light incident on the interface with the cladding layer in a predetermined incident angle range, but it is difficult to obtain the position accuracy of the measuring chip on the measuring device. Naturally, the incident angle range varies, and measurement accuracy is impaired.

【0015】また、上述のような従来の測定チップを用
いる場合は、そのハンドリング性が悪くて、測定処理の
能率を上げるのが難しいという問題も認められている。
Further, when the conventional measuring chip as described above is used, there is also a problem that the handling property is poor and it is difficult to improve the efficiency of the measuring process.

【0016】本発明は上記の事情に鑑みて、表面プラズ
モン共鳴測定装置等の測定装置上での位置精度が出しや
すく、また、ハンドリング性にも優れた測定チップを提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a measurement chip which can easily obtain positional accuracy on a measuring device such as a surface plasmon resonance measuring device and has excellent handling properties.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明による1つの測定
チップは、前述したような誘電体ブロックと、この誘電
体ブロックの一面に形成されて試料に接触させられる薄
膜層と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビームを
前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記
薄膜層との界面で全反射条件となり、かつ、種々の入射
角成分を含むようにして入射させる光学系と、前記界面
で全反射した光ビームの強度を測定して全反射減衰の状
態を検出する光検出手段とを備えてなる、全反射減衰を
利用した測定装置に用いられる測定チップであって、前
記誘電体ブロックおよび薄膜層からなる測定ユニットが
複数、1列に並べて一体化されてなることを特徴とする
ものである。
One measuring chip according to the present invention comprises a dielectric block as described above, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample, and a light beam generator. An optical system for causing the light beam to enter the dielectric block so as to be totally reflected at the interface between the dielectric block and the thin film layer, and to include various incident angle components; A light detection means for measuring the intensity of the light beam totally reflected at the interface to detect the state of attenuated total reflection, a measuring chip used in a measuring device utilizing attenuated total reflection, wherein the dielectric A plurality of measurement units each composed of a block and a thin film layer are arranged in a line and integrated.

【0018】また本発明による別の測定チップは、特に
前述の表面プラズモン共鳴測定装置を対象として構成さ
れたものであり、誘電体ブロックと、この誘電体ブロッ
クの一面に形成されて試料に接触させられる金属膜から
なる薄膜層と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビ
ームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロック
と前記金属膜との界面で全反射条件となり、かつ、種々
の入射角成分を含むようにして入射させる光学系と、前
記界面で全反射した光ビームの強度を測定して、表面プ
ラズモン共鳴による全反射減衰の状態を検出する光検出
手段とを備えてなる表面プラズモン共鳴測定装置に用い
られる測定チップにおいて、前記誘電体ブロックおよび
金属膜からなる測定ユニットが複数、1列に並べて一体
化されてなることを特徴とするものである。
Another measuring chip according to the present invention is designed especially for the above-mentioned surface plasmon resonance measuring apparatus, and includes a dielectric block and a sample formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample. A thin film layer made of a metal film, a light source for generating a light beam, and the light beam with respect to the dielectric block, under the condition of total reflection at an interface between the dielectric block and the metal film, and various A surface plasmon resonance device comprising: an optical system for causing incidence so as to include an incident angle component; and light detection means for measuring the intensity of a light beam totally reflected at the interface and detecting a state of attenuated total reflection by surface plasmon resonance. In a measurement chip used in a measurement device, a plurality of measurement units each including the dielectric block and the metal film are integrated in a line. It is an feature.

【0019】また本発明によるさらに別の測定チップ
は、特に前述の漏洩モードセンサーを対象として構成さ
れたものであり、誘電体ブロックと、この誘電体ブロッ
クの一面に形成されたクラッド層、およびその上に形成
されて試料に接触させられる光導波層からなる薄膜層
と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビームを前記
誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記クラ
ッド層との界面で全反射条件となり、かつ、種々の入射
角成分を含むようにして入射させる光学系と、前記界面
で全反射した光ビームの強度を測定して、前記光導波層
での導波モードの励起による全反射減衰の状態を検出す
る光検出手段とを備えてなる漏洩モードセンサーに用い
られる測定チップにおいて、前記誘電体ブロック、クラ
ッド層および光導波層からなる測定ユニットが複数、1
列に並べて一体化されてなることを特徴とするものであ
る。
Still another measuring chip according to the present invention is designed especially for the above-mentioned leaky mode sensor, and includes a dielectric block, a cladding layer formed on one surface of the dielectric block, and a dielectric layer. A thin film layer formed of an optical waveguide layer formed thereon and brought into contact with a sample, a light source for generating a light beam, and applying the light beam to the dielectric block with respect to an interface between the dielectric block and the cladding layer. The total reflection condition is satisfied, and an optical system that is incident so as to include various incident angle components, and the intensity of the light beam totally reflected at the interface is measured, and the total intensity is measured by exciting the waveguide mode in the optical waveguide layer. A measuring chip used for a leaky mode sensor comprising: a light detecting means for detecting a state of reflection attenuation; wherein the dielectric block, the cladding layer, and the optical waveguide layer are provided. Ranaru measurement unit is more than 1 1
It is characterized by being integrated in a line.

【0020】なお、上記構成を有する本発明の測定チッ
プにおいて、一体化された複数の測定ユニットの各誘電
体ブロックは互いに別体に形成され、これらの誘電体ブ
ロックが連結部材により連結されて一体化されてもよ
い。あるいは、一体化された複数の測定ユニットの各誘
電体ブロックが共通の1つの部材から形成されても構わ
ない。
In the measuring chip of the present invention having the above-described configuration, the dielectric blocks of the plurality of integrated measuring units are formed separately from each other, and these dielectric blocks are connected by a connecting member to form an integrated body. May be used. Alternatively, the dielectric blocks of the plurality of integrated measurement units may be formed from one common member.

【0021】また、これらの本発明による測定チップに
おいては、前記薄膜層の上に試料を保持する試料保持機
構が設けられることが望ましい。
In the measuring chip according to the present invention, it is preferable that a sample holding mechanism for holding a sample is provided on the thin film layer.

【0022】また上記誘電体ブロックを形成するのに好
適な材料としては、例えばガラスや透明樹脂を挙げるこ
とができる。透明樹脂を用いる場合は、上記試料保持機
構も該誘電体ブロックと一体的に成形するのが望まし
い。
Materials suitable for forming the dielectric block include, for example, glass and transparent resin. When a transparent resin is used, it is desirable that the sample holding mechanism is also formed integrally with the dielectric block.

【0023】一方前記薄膜層の上には、試料中の特定物
質と結合反応を示すセンシング媒体が固定されているこ
とが望ましい。
On the other hand, it is preferable that a sensing medium which shows a binding reaction with a specific substance in a sample is fixed on the thin film layer.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明による測定チップは、誘電体ブロ
ックおよび薄膜層(表面プラズモン共鳴を利用するもの
にあっては金属膜であり、導波モードの励起を利用する
ものにあってはクラッド層および光導波層である)から
なる測定ユニットが複数、1列に並べて一体化されてな
るものであるので、このような構成の測定ユニットが単
独で測定チップとされている場合と比較すると全体でよ
り大きなものとなり、それにより、測定装置上での位置
精度が出しやすく、そしてハンドリング性にも優れたも
のとなる。
The measuring chip according to the present invention comprises a dielectric block and a thin film layer (a metal film when using surface plasmon resonance, and a cladding layer when using waveguide mode excitation). And the optical waveguide layer) are integrated in a line in a row, so that the entire measurement unit is compared with the case where the measurement unit having such a configuration is used alone as a measurement chip. It becomes larger, whereby the positional accuracy on the measuring device is easily obtained, and the handleability is excellent.

【0025】測定チップの測定装置上での位置精度が出
しやすくなっていれば測定精度が向上し、また測定チッ
プのハンドリング性が優れていれば、測定作業の能率が
向上する。
If the position accuracy of the measuring chip on the measuring device is easily obtained, the measuring accuracy is improved, and if the measuring chip is excellent in handleability, the efficiency of the measuring operation is improved.

【0026】また本発明による測定チップは、1つで複
数の測定ユニットを備えていることにより、測定装置に
対する1回のチップ供給あるいは排出動作で複数の測定
ユニットを供給あるいは排出させることが可能になり、
この点からも測定作業の能率向上に寄与できるものとな
る。
Further, since the measuring chip according to the present invention has a plurality of measuring units, it is possible to supply or discharge a plurality of measuring units by a single chip supplying or discharging operation to the measuring device. Become
This also contributes to the improvement of the efficiency of the measurement operation.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明による測定
チップを用いる一つの表面プラズモン共鳴測定装置の全
体形状を示す平面図であり、図2はこの装置の要部の斜
視形状を示している。そして図3は、本発明の第1の実
施の形態による測定チップである測定ユニット連結体8
を示すものである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing the overall shape of one surface plasmon resonance measurement device using a measurement chip according to the present invention, and FIG. 2 shows a perspective view of a main part of the device. FIG. 3 shows a measurement unit connected body 8 which is a measurement chip according to the first embodiment of the present invention.
It is shown.

【0028】図3に示されるように測定ユニット連結体
8は、測定ユニット10が一例として8個、連結部材9に
より連結されてなるものである。測定ユニット10は、例
えば外形が概略直方体状に形成された透明誘電体ブロッ
ク11と、この誘電体ブロック11の上面から掘り下げた形
に設けられた穴11bの底面上に形成された例えば金、
銀、銅、アルミニウム等からなる金属膜12とを有してい
る。誘電体ブロック11の上記穴11bの周囲部分は、金属
膜12の上に、つまり穴11bの中に試料を保持する試料保
持枠11cを構成している。この穴11bの中には、後述の
ようにして例えば液体の試料が貯えられる。
As shown in FIG. 3, the linked measuring unit 8 comprises eight measuring units 10 connected by a connecting member 9 as an example. The measurement unit 10 is, for example, a transparent dielectric block 11 whose outer shape is formed in a substantially rectangular parallelepiped, and, for example, gold formed on the bottom surface of a hole 11b provided in a shape dug from the upper surface of the dielectric block 11,
And a metal film 12 made of silver, copper, aluminum, or the like. A portion around the hole 11b of the dielectric block 11 forms a sample holding frame 11c that holds a sample on the metal film 12, that is, in the hole 11b. A liquid sample, for example, is stored in the hole 11b as described later.

【0029】上記誘電体ブロック11は、例えば透明樹脂
等を射出成形してなるものである。なお本例では、金属
膜12の上にセンシング物質14が固定されているが、それ
については後に詳述する。
The dielectric block 11 is formed by, for example, injection molding a transparent resin or the like. In this example, the sensing substance 14 is fixed on the metal film 12, which will be described later in detail.

【0030】図1および図2に示す表面プラズモン共鳴
測定装置は、測定ユニット10を支持する支持体として、
互いに平行に配された2本のガイドロッド1,1に摺動
自在に係合し、それらに沿って図中の矢印Y方向に直線
移動自在とされたスライドブロック2を有している。こ
のスライドブロック2には、上記ガイドロッド1,1と
平行に配された精密ねじ3が螺合され、この精密ねじ3
はそれとともに支持体駆動手段を構成するパルスモータ
4によって正逆回転されるようになっている。そしてこ
のスライドブロック2に上記測定ユニット連結体8がセ
ットされ、それにより、測定ユニット10は8個一列に並
べた状態でスライドブロック2に支持されるようになっ
ている。
The surface plasmon resonance measurement apparatus shown in FIGS. 1 and 2 uses a support for supporting the measurement unit 10 as a support.
It has a slide block 2 slidably engaged with two guide rods 1, 1 arranged in parallel with each other and capable of linearly moving along the two in the direction of arrow Y in the figure. A precision screw 3 arranged in parallel with the guide rods 1, 1 is screwed into the slide block 2.
Is rotated forward and backward by a pulse motor 4 constituting a support driving means. Then, the measurement unit connected body 8 is set on the slide block 2, whereby the measurement units 10 are supported by the slide block 2 in a state where eight measurement units 10 are arranged in a line.

【0031】上記パルスモータ4の駆動は、モータコン
トローラ5によって制御される。すなわちモータコント
ローラ5には、スライドブロック2内に組み込まれてガ
イドロッド1,1の長手方向における該スライドブロッ
ク2の位置を検出するリニアエンコーダ(図示せず)の
出力信号S10が入力され、モータコントローラ5はこの
信号S10に基づいてパルスモータ4の駆動を制御する。
The driving of the pulse motor 4 is controlled by a motor controller 5. That is, an output signal S10 of a linear encoder (not shown) which is incorporated in the slide block 2 and detects the position of the slide block 2 in the longitudinal direction of the guide rods 1, 1 is input to the motor controller 5, and the motor controller 5 Reference numeral 5 controls the driving of the pulse motor 4 based on the signal S10.

【0032】また上記測定ユニット連結体8は例えば図
4に示すように、複数(本例では12個)まとめてプレ
ート40にセットされ、この状態で運搬および取扱いがな
される。つまりこの1枚のプレート40によって、測定ユ
ニット10は96個単位で運搬され、かつ取り扱われる。
As shown in FIG. 4, for example, a plurality (12 in this example) of the linked measuring unit bodies 8 are set together on the plate 40, and transported and handled in this state. In other words, the measuring unit 10 is transported and handled in 96 units by this one plate 40.

【0033】なお、このように測定ユニット10を複数ま
とめて測定ユニット連結体8として取り扱う場合は、測
定ユニット10に液体試料を供給する手段として、図5に
示すような分注機45を使用するのが望ましい。この分注
機45は、測定ユニット連結体8における測定ユニット10
の数と同数の分注ノズル46が、これらの測定ユニット10
の配置ピッチと同じピッチで支持部材47に支持されてな
るものであり、1つの測定ユニット連結体8の複数の測
定ユニット10に同時に液体試料を分注可能であるので、
試料供給作業の能率を高めることができる。
When a plurality of measurement units 10 are collectively handled as the measurement unit connected body 8 as described above, a dispenser 45 as shown in FIG. 5 is used as a means for supplying a liquid sample to the measurement unit 10. It is desirable. The dispenser 45 is connected to the measuring unit 10
The number of dispensing nozzles 46 equal to the number of
Since the liquid sample can be simultaneously dispensed to a plurality of measurement units 10 of one measurement unit connected body 8,
The efficiency of the sample supply operation can be improved.

【0034】図1、2の装置に戻ると、図6に側面形状
を示すように前記ガイドロッド1,1の側上方には、そ
れに沿って移動するスライドブロック2をそれぞれ左右
から挟む形で、マイクロレンズアレイ6と8個の光検出
器7a、7b、7c、7d、7e、7f、7gおよび7
hとが配設されている。マイクロレンズアレイ6は、ス
ライドブロック2にセットされた8個の測定ユニット10
に各々整合する8個の凸レンズ6a〜hを有するもので
ある。一方8個の光検出器7a〜hも、スライドブロッ
ク2にセットされた8個の測定ユニット10に各々整合す
る状態に配設されている。光検出器7a〜hの各々は、
多数の受光素子が1列に配されてなるラインセンサーか
ら構成されており、受光素子の並び方向が図6中の矢印
X方向となるように配されている。
Returning to the apparatus of FIGS. 1 and 2, a slide block 2 moving along the guide rods 1, 1 is sandwiched from above and below the guide rods 1, 1 as shown in a side view in FIG. Microlens array 6 and eight photodetectors 7a, 7b, 7c, 7d, 7e, 7f, 7g and 7
h. The microlens array 6 includes eight measurement units 10 set on the slide block 2.
Has eight convex lenses 6a to 6h, respectively. On the other hand, the eight photodetectors 7a to 7h are also arranged so as to be aligned with the eight measurement units 10 set on the slide block 2, respectively. Each of the photodetectors 7a to 7h
It is composed of a line sensor in which a large number of light receiving elements are arranged in one line, and the light receiving elements are arranged such that the arrangement direction of the light receiving elements is the direction of arrow X in FIG.

【0035】上記マイクロレンズアレイ6の各凸レンズ
6a〜hの光軸上には、それぞれ光ファイバー34a〜h
が配され、それらから発散光状態で発せられた光ビーム
30が各々凸レンズ6a〜hに入射するようになってい
る。図7は、この光ファイバー34a〜hを含む光学系
と、それに組み合わされた光源とを示すものである。以
下、この図7の構成について説明する。
On the optical axis of each convex lens 6a-h of the micro lens array 6, optical fibers 34a-h are provided, respectively.
Light beams emitted from them in a divergent light state
30 enter the convex lenses 6a to 6h, respectively. FIG. 7 shows an optical system including the optical fibers 34a to 34h and a light source combined with the optical system. Hereinafter, the configuration of FIG. 7 will be described.

【0036】本例では光源として、例えば波長が赤外域
にある光ビーム(レーザビーム)30を発する半導体レー
ザ31が用いられている。この半導体レーザ31から発散光
状態で前方側(図中の右方側)に発せられた光ビーム30
は、コリメーターレンズ32によって平行光とされ、次い
で集光レンズ33により集光されて、光ファイバー34mに
入射させられる。光ファイバー34mは光カップラーユニ
ット35に接続されている。光カップラーユニット35は、
入力光を分岐比50:50で2系統に分岐する光カップ
ラーが3段に設けられてなるものであり、それにより、
光ファイバー34mに入力された光ビーム30が互いに等光
量にして8系統に分岐され、分岐された各光ビーム30が
それぞれ光ファイバー34a、34b、34c、34d、34e、
34f、34gおよび34hに導かれる。
In this embodiment, a semiconductor laser 31 that emits a light beam (laser beam) 30 having a wavelength in the infrared region, for example, is used as a light source. A light beam 30 emitted forward (to the right in the drawing) from the semiconductor laser 31 in a divergent light state
Are collimated by a collimator lens 32, then condensed by a condenser lens 33, and made incident on an optical fiber 34m. The optical fiber 34m is connected to the optical coupler unit 35. The optical coupler unit 35
An optical coupler that splits input light into two systems at a split ratio of 50:50 is provided in three stages, whereby
The light beam 30 input to the optical fiber 34m is branched into eight systems with the same light intensity as each other, and the branched light beams 30 are respectively divided into optical fibers 34a, 34b, 34c, 34d, 34e,
It is led to 34f, 34g and 34h.

【0037】なお、これらの光ファイバー34a〜hおよ
び34mの端面を含む、半導体レーザ31の前方側に配され
た光学部品の光通過面には、該半導体レーザ31の発振波
長に対するAR(無反射)コートが施されている。それ
により、それらの面で反射した光が戻り光となって半導
体レーザ31に入射して、雑音を発生させる等の問題が生
じることが防止される。
The light passing surfaces of the optical components disposed on the front side of the semiconductor laser 31, including the end faces of the optical fibers 34a to 34h and 34m, have an AR (non-reflection) with respect to the oscillation wavelength of the semiconductor laser 31. Coat is given. As a result, it is possible to prevent the light reflected by those surfaces from returning to the semiconductor laser 31 and causing a problem such as generation of noise.

【0038】また半導体レーザ31の素子端面は、前方側
端面もまた後方側端面もLR(低反射)コートが施され
たものとされ、したがって該半導体レーザ31からは後方
側にも光ビームが出射する。この後方側に発散光状態で
出射した光ビーム、いわゆる後方出射光30Rは、コリメ
ーターレンズ36によって平行光とされ、次いで集光レン
ズ37により集光される。この集光レンズ37による後方出
射光30Rの収束位置にはミラー38が配置されており、後
方出射光30Rはこのミラー38で反射して半導体レーザ31
にフィードバックする。
The element end face of the semiconductor laser 31 is coated with an LR (low reflection) coat on both the front end face and the rear end face, so that the semiconductor laser 31 emits a light beam also to the rear side. I do. The light beam emitted in the diverging light state on the rear side, that is, the backward emitted light 30R is converted into parallel light by the collimator lens 36, and then collected by the condenser lens 37. A mirror 38 is disposed at a position where the rear emission light 30R is converged by the condenser lens 37. The rear emission light 30R is reflected by the mirror 38 and reflected by the semiconductor laser 31R.
Feedback to

【0039】このとき、コリメーターレンズ36と集光レ
ンズ37との間に挿入されている狭帯域バンドパスフィル
ター39によって、そこを通過する光の波長が選択される
ので、半導体レーザ31にはこの波長選択された後方出射
光30Rがフィードバックすることになる。そこで半導体
レーザ31の発振波長がこの選択波長にロックされ、発振
波長が安定化される。
At this time, the wavelength of the light passing therethrough is selected by the narrow band-pass filter 39 inserted between the collimator lens 36 and the condenser lens 37. The rear-emitted light 30R whose wavelength is selected is fed back. Therefore, the oscillation wavelength of the semiconductor laser 31 is locked to the selected wavelength, and the oscillation wavelength is stabilized.

【0040】以下、上記構成の表面プラズモン共鳴測定
装置による試料分析について説明する。試料分析する際
には、まずスライドブロック2が図1に矢印W1で示す
第1待機位置に設定され、このスライドブロック2のユ
ニットセット部2aに、プレート40(図4参照)から1
つの測定ユニット連結体8がセットされる。なお、この
測定ユニット連結体8の各測定ユニット10の穴10bに
は、予め測定対象の液体試料15(図6参照)が貯えられ
ている。この測定ユニット連結体8のセットは、測定ユ
ニット給排機構70によってなされる。
Hereinafter, a sample analysis by the surface plasmon resonance measuring apparatus having the above configuration will be described. When performing the sample analysis, first, the slide block 2 is set to the first standby position indicated by the arrow W1 in FIG. 1, and the unit 40a of the slide block 2 is moved from the plate 40 (see FIG. 4) to the first set position.
The two measurement unit connected bodies 8 are set. Note that a liquid sample 15 (see FIG. 6) to be measured is stored in advance in the hole 10b of each measuring unit 10 of the linked measuring unit 8. The setting of the linked measuring unit assembly 8 is performed by the measuring unit supply / discharge mechanism 70.

【0041】上記測定ユニット給排機構70は例えば、ガ
イドロッド1,1の並び方向と直角な方向つまり図1の
矢印H方向、および上下方向つまり図1の紙面に垂直な
方向に移動自在とされて、左右端部にそれぞれ測定ユニ
ット連結体8の左右端部を吸着保持するサクションカッ
プを有するものである。この測定ユニット給排機構70
は、プレート40の上の取出し対象の測定ユニット連結体
8の上方位置に移動した後に降下し、そこで測定ユニッ
ト連結体8を吸着保持して上昇し、次いで第1待機位置
にあるスライドブロック2の真上まで移動し、そこで下
降してスライドブロック2のユニットセット部2aに測
定ユニット連結体8を組み込み、次いで上記吸着保持を
解除して上昇する、という動作によって測定ユニット連
結体8をスライドブロック2にセットする。
The measuring unit supply / discharge mechanism 70 is movable, for example, in a direction perpendicular to the direction in which the guide rods 1, 1 are arranged, that is, in the direction indicated by the arrow H in FIG. 1, and in the vertical direction, that is, in a direction perpendicular to the plane of FIG. The left and right ends have suction cups for holding the left and right ends of the linked measuring unit assembly 8 by suction. This measuring unit supply / discharge mechanism 70
Moves down to a position above the measurement unit linked body 8 to be taken out on the plate 40, and then descends while holding the measurement unit linked body 8 by suction, and then moves down the slide block 2 at the first standby position. The measuring unit linked body 8 is moved to a position directly above, and then descends to incorporate the measuring unit linked body 8 into the unit setting portion 2a of the slide block 2, and then releases the suction holding and moves up to move the measuring unit linked body 8 to the slide block 2. Set to.

【0042】以上のようにして測定ユニット連結体8が
セットされると、モータコントローラ5によって制御さ
れてパルスモータ4が駆動し、スライドブロック2は図
1に実線で示す測定位置に設定される。以下、この測定
位置においてなされる表面プラズモン共鳴測定につい
て、図6も参照して説明する。なおここでは、測定ユニ
ット連結体8の8つの測定ユニット10のうち、光ファイ
バー34aおよび光検出器7aに整合する状態とされた1
つの測定ユニット10を例に取って説明を行なうが、その
他の測定ユニット10においても測定は同様になされるも
のである。
When the linked measuring unit assembly 8 is set as described above, the pulse motor 4 is driven under the control of the motor controller 5, and the slide block 2 is set to the measuring position indicated by the solid line in FIG. Hereinafter, the surface plasmon resonance measurement performed at this measurement position will be described with reference to FIG. Here, of the eight measuring units 10 of the linked measuring unit 8, one is set to match the optical fiber 34a and the photodetector 7a.
The description will be made by taking one measurement unit 10 as an example, but the measurement is similarly performed in the other measurement units 10.

【0043】表面プラズモン共鳴測定を行なう際には、
図7に示した半導体レーザ31が駆動される。そこで、図
6に示される通り光ファイバー34aの先端から、光ビー
ム30が発散光の状態で出射する。この光ビーム30はマイ
クロレンズアレイ6の凸レンズ6aによって集光され、
収束光状態で誘電体ブロック11に入射し、誘電体ブロッ
ク11と金属膜12との界面11aに対して種々の入射角成分
を含む状態で入射する。この入射角θの範囲は、上記界
面11aにおいて光ビーム30の全反射条件が得られ、か
つ、表面プラズモン共鳴が生じ得る角度範囲を含む範囲
とされる。
When performing surface plasmon resonance measurement,
The semiconductor laser 31 shown in FIG. 7 is driven. Then, as shown in FIG. 6, the light beam 30 is emitted in the state of divergent light from the tip of the optical fiber 34a. This light beam 30 is collected by the convex lens 6a of the micro lens array 6,
The light enters the dielectric block 11 in a convergent light state, and enters the interface 11a between the dielectric block 11 and the metal film 12 while containing various incident angle components. The range of the incident angle θ is a range including an angle range in which the condition of total reflection of the light beam 30 at the interface 11a is obtained and surface plasmon resonance can occur.

【0044】なお光ビーム30は、界面11aに対してp偏
光で入射させる。そのようにするためには、予め半導体
レーザ31をその偏光方向が所定方向となるように配設す
るとともに、光ファイバー34mおよび34a〜34hとして
偏波面保存ファイバーを用いる等して、光ファイバー34
a〜34hから出射する光ビーム30の偏光方向を制御すれ
ばよい。あるいはその他に、波長板や偏光板で光ビーム
30の偏光の向きを制御してもよい。
The light beam 30 is incident on the interface 11a as p-polarized light. In order to do so, the semiconductor laser 31 is disposed in advance so that the polarization direction thereof becomes a predetermined direction, and the optical fiber 34m and the optical fibers 34a to 34h use polarization plane preserving fibers.
What is necessary is just to control the polarization direction of the light beam 30 emitted from a to 34h. Alternatively, use a wave plate or polarizing plate to
The direction of the 30 polarizations may be controlled.

【0045】上記界面11aに入射した光ビーム30は該界
面11aで全反射し、全反射した光ビーム30は光検出器7
aによって検出される。光ビーム30は、上述の通り界面
11aに対して種々の入射角成分を含む状態で入射するか
ら、全反射した光ビーム30にも、種々の反射角で反射し
た成分が含まれることになる。
The light beam 30 incident on the interface 11a is totally reflected at the interface 11a, and the light beam 30 totally reflected is
a. The light beam 30 is at the interface as described above.
Since the light beam 11a is incident on the light beam 11a with various incident angle components, the light beam 30 totally reflected includes components reflected at various reflection angles.

【0046】このように光ビーム30が全反射するとき、
界面11aから金属膜12側にエバネッセント波がしみ出
す。そして、光ビーム30が界面11aに対してある特定の
入射角θSPで入射した場合は、このエバネッセント波
が金属膜12の表面に励起する表面プラズモンと共鳴する
ので、この光については反射光強度Iが鋭く低下する。
この反射光強度の低下は、全反射した光ビーム30の中で
暗線Dとして観察される。なお図8には、この全反射減
衰現象が生じた際の入射角θと反射光強度Iとの関係を
概略的に示してある。
As described above, when the light beam 30 is totally reflected,
An evanescent wave exudes from the interface 11a to the metal film 12 side. When the light beam 30 enters the interface 11a at a specific incident angle θ SP , the evanescent wave resonates with the surface plasmon excited on the surface of the metal film 12, so that the reflected light intensity I drops sharply.
This decrease in reflected light intensity is observed as a dark line D in the totally reflected light beam 30. FIG. 8 schematically shows the relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I when this total reflection attenuation phenomenon occurs.

【0047】そこで、光検出器7aが出力する光量検出
信号Sから各受光素子毎の検出光量を調べ、暗線を検出
した受光素子の位置に基づいて上記入射角(全反射減衰
角)θSPを求め、予め求めておいた反射光強度Iと入
射角θとの関係曲線に基づけば、試料15中の特定物質を
定量分析することができる。信号処理部61は、以上の原
理に基づいて試料15中の特定物質を定量分析し、その分
析結果が表示部62に表示される。
Therefore, the detected light amount of each light receiving element is checked from the light amount detection signal S output by the light detector 7a, and the incident angle (total reflection attenuation angle) θ SP is determined based on the position of the light receiving element where the dark line is detected. The specific substance in the sample 15 can be quantitatively analyzed based on the obtained relationship curve between the reflected light intensity I and the incident angle θ obtained in advance. The signal processing unit 61 quantitatively analyzes the specific substance in the sample 15 based on the above principle, and the analysis result is displayed on the display unit 62.

【0048】なおスライドブロック2は図2に示される
通り、左右方向に貫通した開口2bを有する枠状の部材
からなるので、光ビーム30はスライドブロック2に遮ら
れることなく、セットされた測定ユニット10に照射され
得る。また、測定ユニット10の誘電体ブロック11と金属
膜12との界面で全反射した光ビーム30が、スライドブロ
ック2に遮られることなく光検出器7a〜hによって検
出され得る。
As shown in FIG. 2, since the slide block 2 is formed of a frame-shaped member having an opening 2b penetrating in the left-right direction, the light beam 30 is not interrupted by the slide block 2 and the measurement unit set therein. 10 can be irradiated. Further, the light beam 30 totally reflected at the interface between the dielectric block 11 and the metal film 12 of the measurement unit 10 can be detected by the photodetectors 7a to 7h without being blocked by the slide block 2.

【0049】金属膜12の表面に固定されているセンシン
グ物質14は、試料15中の特定物質と結合するものであ
る。このような特定物質とセンシング物質14との組合せ
としては、例えば抗原と抗体とが挙げられる。その場合
は、全反射減衰角θSPに基づいて抗原抗体反応を検出
することができる。つまりこの場合は、上記特定物質と
センシング物質14との結合状態に応じてセンシング物質
14の屈折率が変化して、図8の特性曲線が左右方向に移
動する形に変化するので、全反射減衰角θSPに応じて
抗原抗体反応を検出することができる。なおこの場合
は、試料15およびセンシング物質14の双方が、分析対象
の試料となる。
The sensing substance 14 fixed on the surface of the metal film 12 binds to a specific substance in the sample 15. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance 14 include an antigen and an antibody. In that case, the antigen-antibody reaction can be detected based on the total reflection attenuation angle θ SP . In other words, in this case, the sensing substance depends on the binding state between the specific substance and the sensing substance 14.
Since the refractive index of 14 changes and the characteristic curve of FIG. 8 moves in the left-right direction, the antigen-antibody reaction can be detected according to the attenuated total reflection angle θ SP . In this case, both the sample 15 and the sensing substance 14 are samples to be analyzed.

【0050】以上の測定操作は他の7個の測定ユニット
10に対しても並行して同様になされ、8個の測定ユニッ
ト10に貯えられている試料15に対する測定が同時になさ
れる。なお、8個の測定ユニット10に対する光ビーム30
の照射および全反射減衰角θ SPの検出は、互いに厳密
に同時に行なう必要はなく、開始あるいは終了の時間が
互いに多少ずれていても構わない。
The above measuring operation is performed for the other seven measuring units.
The same is done for 10 measurement units in parallel.
The measurement for the sample 15 stored in the
It is. Note that the light beams 30 for the eight measurement units 10 are
Irradiation and total reflection attenuation angle θ SPDetection is strict with each other
Need not be done at the same time
They may be slightly offset from each other.

【0051】上述の通り本装置によれば、8個の測定ユ
ニット10の各試料15に対する測定を互いに並行して、同
時あるいはそれに近い状態で実行できるので、多数の試
料についての測定を短時間で行なうことが可能になる。
As described above, according to the present apparatus, the measurements on the respective samples 15 of the eight measurement units 10 can be performed in parallel with each other, simultaneously or in a state close to each other, so that the measurement on a large number of samples can be performed in a short time. It is possible to do.

【0052】なお信号処理部61は、8個の光検出器7a
〜hに対してそれぞれ専用のものを設けてもよいし、あ
るいは8個の光検出器7a〜hに対して共用のものを1
個だけ設けて、それらの光検出器7a〜hが出力した光
量検出信号Sを順次処理するようにしても構わない。
The signal processing section 61 has eight photodetectors 7a.
To h, or a common one for the eight photodetectors 7a to 7h.
The light amount detection signals S output from the photodetectors 7a to 7h may be sequentially processed.

【0053】測定を1つの試料15に対して1回だけ行な
う場合は、以上の操作で測定が完了するので、パルスモ
ータ4が前述の場合とは逆方向に回転されてスライドブ
ロック2が(つまりは測定ユニット10が)図1の矢印W
1で示す第1待機位置に戻される。そして測定ユニット
給排機構70により該スライドブロック2から測定ユニッ
ト連結体8が取り外され、それが例えば排出用プレート
41の上に排出される。
When the measurement is performed only once for one sample 15, the above operation completes the measurement, so that the pulse motor 4 is rotated in the opposite direction to the above-mentioned case, and the slide block 2 is rotated (ie, Is the measurement unit 10) Arrow W in FIG.
It is returned to the first standby position indicated by 1. Then, the measuring unit connecting body 8 is detached from the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 70, and this is, for example, a discharging plate.
Discharged above 41.

【0054】次いで測定ユニット給排機構70により、前
述と同様にしてプレート40の上の別の測定ユニット連結
体8がスライドブロック2のユニットセット部2aにセ
ットされ、その測定ユニット連結体8の8個の測定ユニ
ット10に貯えられている試料15に対する測定が、これも
前述と同様にしてなされる。
Next, another measuring unit connected body 8 on the plate 40 is set in the unit setting section 2a of the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 70 in the same manner as described above. The measurement on the sample 15 stored in the individual measurement units 10 is also performed in the same manner as described above.

【0055】他方、測定を1つの試料15に対して複数回
行なう場合は、以上の操作が終了すると、パルスモータ
4が前述の場合とは逆方向に回転されてスライドブロッ
ク2が図1の矢印W2で示す第2待機位置に設定され
る。そして、前述の測定ユニット給排機構70と同様に形
成された測定ユニット給排機構71により該スライドブロ
ック2から測定ユニット連結体8が取り外され、それ
が、ガイドロッド1,1の左右両側に1つずつ配された
載置台42、42のいずれかの上に載置される。
On the other hand, when the measurement is performed a plurality of times on one sample 15, when the above operation is completed, the pulse motor 4 is rotated in the opposite direction to the above case, and the slide block 2 is moved in the direction indicated by the arrow in FIG. The second standby position indicated by W2 is set. Then, the measuring unit connecting body 8 is detached from the slide block 2 by the measuring unit supplying / discharging mechanism 71 formed in the same manner as the above-mentioned measuring unit supplying / discharging mechanism 70, and is attached to the left and right sides of the guide rods 1, 1. It is mounted on one of the mounting tables 42 arranged one by one.

【0056】次いで、パルスモータ4が再度回転され
て、スライドブロック2が図1の矢印W1で示す第1待
機位置に戻される。そして測定ユニット給排機構70によ
り、前述と同様にしてプレート40の上の別の測定ユニッ
ト連結体8がスライドブロック2のユニットセット部2
aにセットされ、その測定ユニット連結体8の8個の測
定ユニット10に貯えられている試料15に対する測定が、
これも前述と同様にしてなされる。
Next, the pulse motor 4 is rotated again, and the slide block 2 is returned to the first standby position indicated by the arrow W1 in FIG. Then, another measuring unit connecting body 8 on the plate 40 is connected to the unit setting section 2 of the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 70 in the same manner as described above.
a, and the measurement on the sample 15 stored in the eight measurement units 10 of the measurement unit connection body 8 is
This is also performed in the same manner as described above.

【0057】この2番目の測定ユニット連結体8の測定
ユニット10を用いた測定が終了すると、パルスモータ4
が回転されてスライドブロック2が上記第2待機位置に
設定される。そして、測定ユニット給排機構71により該
スライドブロック2から測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the measurement using the measuring unit 10 of the second connected measuring unit 8 is completed, the pulse motor 4
Is rotated to set the slide block 2 at the second standby position. Then, the measurement unit connecting body 8 is removed from the slide block 2 by the measurement unit supply / discharge mechanism 71, and is mounted on the vacant mounting table 42.

【0058】次いで、別の載置台42の上に載置されてい
る測定ユニット連結体8、つまり1番目の測定ユニット
連結体8が測定ユニット給排機構71によりスライドブロ
ック2のユニットセット部2aにセットされ、その測定
ユニット連結体8の8個の測定ユニット10に貯えられて
いる試料15に対する測定が前回と同様にしてなされる。
このとき、この1番目の測定ユニット連結体8を用いた
1回目の測定が終了してから所定の時間が経過していな
い場合は、スライドブロック2を図1に実線で示す測定
位置に設定してから、若干の時間そのままの状態で待機
し、それから測定に入るようにすればよい。
Next, the measuring unit connected body 8 mounted on another mounting table 42, that is, the first measuring unit connected body 8 is moved to the unit setting section 2a of the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 71. The measurement is performed on the samples 15 that are set and stored in the eight measurement units 10 of the connected measurement unit assembly 8 in the same manner as the previous time.
At this time, if a predetermined time has not elapsed after the first measurement using the first measurement unit connected body 8 is completed, the slide block 2 is set to a measurement position indicated by a solid line in FIG. After that, it is only necessary to wait for a while for a while and then start the measurement.

【0059】この1番目の測定ユニット連結体8に対す
る2回目の測定が終了すると、パルスモータ4が回転さ
れてスライドブロック2が上記第2待機位置に設定され
る。そして、測定ユニット給排機構71により該スライド
ブロック2から1番目の測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the second measurement of the first connected measurement unit 8 is completed, the pulse motor 4 is rotated to set the slide block 2 to the second standby position. Then, the first measurement unit connected body 8 is removed from the slide block 2 by the measurement unit supply / discharge mechanism 71, and is mounted on the empty mounting table 42.

【0060】次いで、別の載置台42の上に載置されてい
る測定ユニット連結体8、つまり2番目の測定ユニット
連結体8が測定ユニット給排機構71によりスライドブロ
ック2のユニットセット部2aにセットされ、その測定
ユニット連結体8の8個の測定ユニット10に貯えられて
いる試料15に対する測定が前回と同様にしてなされる。
Next, the measuring unit connected body 8 mounted on another mounting table 42, that is, the second measuring unit connected body 8 is moved to the unit setting section 2a of the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 71. The measurement is performed on the samples 15 that are set and stored in the eight measurement units 10 of the connected measurement unit assembly 8 in the same manner as the previous time.

【0061】この2番目の測定ユニット連結体8を用い
た2回目の測定が終了すると、パルスモータ4が回転さ
れてスライドブロック2が上記第2待機位置に設定され
る。そして、測定ユニット給排機構71により該スライド
ブロック2から2番目の測定ユニット連結体8が取り外
され、それが、空いている方の載置台42の上に載置され
る。
When the second measurement using the second connected measuring unit 8 is completed, the pulse motor 4 is rotated, and the slide block 2 is set to the second standby position. Then, the second measurement unit connected body 8 is removed from the slide block 2 by the measurement unit supply / discharge mechanism 71, and is mounted on the vacant mounting table 42.

【0062】以下同様の操作が繰り返されることによ
り、1番目の測定ユニット連結体8による測定と2番目
の測定ユニット連結体8による測定とが交互になされ
る。このようにすれば、一方の測定ユニット連結体8に
よる測定の待ち時間を有効利用して、その間に他方の測
定ユニット連結体8による測定を行なうことができ、測
定作業の能率が向上する。
Thereafter, the same operation is repeated, so that the measurement by the first connected measuring unit 8 and the measurement by the second connected measuring unit 8 are alternately performed. By doing so, the measurement waiting time of one of the connected measuring units 8 can be effectively used, and the measurement by the other connected measuring unit 8 can be performed during that time, thereby improving the efficiency of the measuring operation.

【0063】1つの測定ユニット連結体8の測定ユニッ
ト10に保持された試料15について所定回の測定が終了し
たならば、その測定ユニット連結体8がセットされてい
るスライドブロック2は前記第1待機位置に戻される。
そして測定ユニット給排機構70により該スライドブロッ
ク2から測定ユニット連結体8が取り外され、それが排
出用プレート41の上に排出される。
When a predetermined number of measurements are completed on the sample 15 held in the measuring unit 10 of one measuring unit connected body 8, the slide block 2 on which the measuring unit connected body 8 is set is placed in the first standby state. Returned to position.
Then, the measurement unit connecting body 8 is detached from the slide block 2 by the measurement unit supply / discharge mechanism 70, and is discharged onto the discharge plate 41.

【0064】次いで測定ユニット給排機構70により、プ
レート40の上の別の測定ユニット連結体8、つまり3番
目の測定ユニット連結体8がスライドブロック2のユニ
ットセット部2aにセットされ、引き続きその測定ユニ
ット連結体8の測定ユニット10に貯えられている試料15
に対する測定がなされる。以下同様にして、プレート40
に収められている測定ユニット連結体8を次々と測定に
供することができる。
Next, another measuring unit connected body 8 on the plate 40, that is, the third measuring unit connected body 8 is set on the unit setting section 2a of the slide block 2 by the measuring unit supply / discharge mechanism 70, and the measurement is continued. Sample 15 stored in measurement unit 10 of unit connected body 8
Is measured. In the same manner, the plate 40
The connected measurement unit bodies 8 stored in the storage unit can be successively used for measurement.

【0065】以上の通り本実施の形態では、試料保持枠
11cを有する誘電体ブロック11、金属膜12およびセンシ
ング物質14を一体化して測定ユニット10を構成し、この
測定ユニット10の集合体である測定ユニット連結体8を
測定チップとしてスライドブロック2に対して交換可能
としているので、測定が終了した試料15を保持している
測定ユニット連結体8をスライドブロック2から取り外
して新しい測定ユニット連結体8を該スライドブロック
2に支持させることにより、新しい試料15を次々と測定
に供することができ、多数の試料15についての測定をよ
り一層短時間で行なうことが可能になる。
As described above, in the present embodiment, the sample holding frame
The dielectric block 11 having 11c, the metal film 12, and the sensing substance 14 are integrated to form a measurement unit 10, and the measurement unit connected body 8, which is an aggregate of the measurement units 10, is used as a measurement chip for the slide block 2. Since the replacement is possible, the measurement unit connected body 8 holding the sample 15 for which measurement has been completed is removed from the slide block 2 and the new measurement unit connected body 8 is supported by the slide block 2 so that the new sample 15 is transferred. Measurement can be performed one after another, and measurement of a large number of samples 15 can be performed in a shorter time.

【0066】なお、スライドブロック2を前述の第2待
機位置に設定して、そこで該スライドブロック2にセッ
トする測定ユニット連結体8を取り替え可能とすること
は、必ずしも必要ではない。しかしそのようにすれば、
前述した通り、ある測定ユニット連結体8による測定の
待ち時間を有効利用して別の測定ユニット連結体8によ
る測定を行なうことができ、測定作業の能率が向上する
ので、特に好ましいと言える。
It is not always necessary to set the slide block 2 to the above-mentioned second standby position, and to make it possible to replace the linked measuring unit 8 set on the slide block 2 there. But if you do so,
As described above, it can be said that measurement can be performed by another measurement unit connected body 8 by effectively utilizing the waiting time of measurement by one measurement unit connected body 8, and the efficiency of the measurement operation is improved.

【0067】また、上述のような第2待機位置を設定す
る場合、前述した固定の載置台42を設ける代わりに、所
定角度ずつ間欠的に回動するターンテーブルを設け、そ
の上に測定ユニット連結体8が排出される毎に該ターン
テーブルを回動させるようにすれば、より多数の測定途
中の測定ユニット連結体8を該ターンテーブルの上に一
時的に載置しておくことが可能となる。
When setting the second standby position as described above, instead of providing the fixed mounting table 42 described above, a turntable that intermittently rotates by a predetermined angle is provided, and the measuring unit is connected thereto. By rotating the turntable every time the body 8 is ejected, it is possible to temporarily mount a larger number of measurement unit connected bodies 8 in the middle of measurement on the turntable. Become.

【0068】さらに、スライドブロック2等を用いて測
定ユニット連結体8つまり測定ユニット10を待機位置と
測定位置との間で移動させることも、必ずしも必要では
ない。すなわち、複数の測定ユニット10を支持する支持
体を固定しておき、その支持体に測定ユニット10をセッ
トしたならば、そこでそのまま該測定ユニット10に測定
用の光ビームが照射され得る状態となるようにしてもよ
い。ただし、そのようにする場合は、上記支持体が必然
的に光学系および光検出手段とかなり近接した状態に配
設されることになるので、この支持体に対する測定ユニ
ット10のセットおよび取外しを自動手段で行なう場合
は、その自動手段として、光学系および光検出手段との
干渉が確実に避けられる構造のものを採用する必要があ
る。
Furthermore, it is not always necessary to move the linked measuring unit 8, that is, the measuring unit 10, between the standby position and the measuring position by using the slide block 2 or the like. That is, a support that supports the plurality of measurement units 10 is fixed, and if the measurement unit 10 is set on the support, there is a state where the measurement unit 10 can be irradiated with a measurement light beam as it is. You may do so. However, in such a case, since the support is inevitably provided in a state very close to the optical system and the light detecting means, the setting and removal of the measuring unit 10 with respect to the support is automatically performed. In the case of performing this by means, it is necessary to adopt an automatic means having a structure capable of reliably avoiding interference with the optical system and the light detecting means.

【0069】そして支持体を移動させる場合も、その移
動の仕方は上記実施の形態における直線移動に限られる
ものではなく、支持体として所定角度ずつ間欠的に回動
するターンテーブルを用い、その回動軸を中心とする円
周上に複数の測定ユニットを支持させ、該ターンテーブ
ルを回動させることにより測定ユニットを上記円周に沿
って移動させてもよい。そうする場合、例えばターンテ
ーブル上に16個の測定ユニットを支持させ、そのうち
の半数の8個の測定ユニットに対して光ビームを一斉照
射し、それらに対する測定が終了したならターンテーブ
ルを180°回動させて残りの8個の測定ユニットに対
して光ビームを一斉照射するような構成を採用すること
ができる。
When the support is moved, the manner of movement is not limited to the linear movement in the above embodiment, but a turntable that rotates intermittently at a predetermined angle as the support is used. A plurality of measurement units may be supported on a circumference around the moving axis, and the measurement units may be moved along the circumference by rotating the turntable. In this case, for example, 16 measurement units are supported on a turntable, and half of the 8 measurement units are irradiated with a light beam at a time, and when the measurement for them is completed, the turntable is turned 180 °. It is possible to adopt a configuration in which the remaining eight measurement units are moved to irradiate the light beams simultaneously.

【0070】なお、このようなターンテーブルに保持さ
せる測定チップの実施の形態については、後に詳しく説
明する。
An embodiment of the measuring chip held on such a turntable will be described later in detail.

【0071】また本発明による測定チップは、複数の測
定ユニットに光ビームを一斉照射する測定装置に限ら
ず、支持体に複数の測定ユニットを支持させるととも
に、光ビームを照射する光学系は1系統だけ設け、1つ
の測定ユニットに対する測定が終了したなら支持体を移
動させて別の測定ユニットを光ビームの照射を受ける位
置に設定するように構成した測定装置にも適用可能であ
る。
The measuring chip according to the present invention is not limited to a measuring device for simultaneously irradiating a plurality of measuring units with a light beam, but also has a support for supporting a plurality of measuring units and a single optical system for irradiating the light beam. However, the present invention is also applicable to a measuring apparatus configured to move the support when the measurement for one measuring unit is completed and set another measuring unit to a position to receive the light beam irradiation.

【0072】次に、以上説明した測定ユニット連結体8
の代わりに用いられ得る、本発明の別の実施の形態によ
る測定チップについて説明する。
Next, the connected measuring unit 8 described above
A measurement chip according to another embodiment of the present invention, which can be used instead of, will be described.

【0073】図9は、本発明の第2の実施の形態による
測定チップである測定ユニット連結体80を示すものであ
る。この測定ユニット連結体80は、例えば図3に示した
誘電体ブロック11と同様の材料を用いて1本の角柱状の
誘電体バー81が形成され、ここに複数の有底の穴82が形
成されてその周囲のバー81の部分が試料保持部とされ、
そして上記穴82の底面上に金属膜12およびセンシング物
質14が形成されてなるものである。つまりこの測定ユニ
ット連結体80においては、1つの穴82毎に測定ユニット
が構成されている。
FIG. 9 shows a linked measuring unit 80 as a measuring chip according to the second embodiment of the present invention. In this measurement unit connection body 80, for example, one prismatic dielectric bar 81 is formed using the same material as the dielectric block 11 shown in FIG. 3, and a plurality of bottomed holes 82 are formed here. The part of the bar 81 around it is used as a sample holding part,
The metal film 12 and the sensing substance 14 are formed on the bottom surface of the hole 82. That is, in the measurement unit coupling body 80, a measurement unit is configured for each hole 82.

【0074】上述のような構成の測定ユニット連結体80
は、図3に示した測定ユニット連結体8のように測定ユ
ニット10を1個ずつ形成した後、それらを複数連結して
構成するものと比べれば、より容易に製造可能で、コス
トダウンを実現できる。
The connected measuring unit 80 having the above configuration
Is easier to manufacture and reduces costs compared to a configuration in which one measuring unit 10 is formed one by one as in the case of the linked measuring unit 8 shown in FIG. it can.

【0075】また図10は、本発明の第3の実施の形態
による測定チップである測定ユニット連結体90を示すも
のである。この測定ユニット連結体90は、ユニット支持
板91に形成された複数のユニット支持孔92に、それぞれ
測定ユニット95が嵌合固定されてなるものである。測定
ユニット95は、基本的には図3に示した測定ユニット10
と同様のものであるが、四角錘の一部を切り取った外形
形状とされてテーパ状の上記ユニット支持孔92に嵌合
し、該ユニット支持孔92を通り抜けないようになってい
る。なお、ユニット支持孔92に測定ユニット95を嵌合さ
せるだけでなく、ユニット支持板91に測定ユニット95を
接着させたり、あるいは超音波溶着する等して、それら
両者をより強固に固定するのが望ましい。
FIG. 10 shows a linked measuring unit 90 as a measuring chip according to the third embodiment of the present invention. The measurement unit connector 90 has measurement units 95 fitted and fixed in a plurality of unit support holes 92 formed in a unit support plate 91, respectively. The measuring unit 95 is basically the measuring unit 10 shown in FIG.
However, it is fitted in the tapered unit support hole 92 so that it does not pass through the unit support hole 92. In addition to fitting the measurement unit 95 into the unit support hole 92, it is also necessary to adhere the measurement unit 95 to the unit support plate 91 or to ultrasonically weld them so that they are more firmly fixed. desirable.

【0076】以上説明した測定ユニット連結体8、80お
よび90は、複数の測定ユニットが互いに分離不可能に固
定されて、測定ユニット単体で測定チップとされたもの
と比べればより大きく形成されていることから、表面プ
ラズモン共鳴測定装置上での位置精度が出しやすく、ま
た、小さな測定ユニットを把持する必要が無いことから
ハンドリング性に優れて、測定処理の能率向上に寄与で
きるものとなる。また、このような測定ユニット連結体
8、80および90は、1つで複数の測定ユニットを備えて
いることにより、表面プラズモン共鳴測定装置に対する
1回のチップ供給あるいは排出動作で複数の測定ユニッ
トを供給あるいは排出させることが可能になり、この点
からも測定作業の能率向上に寄与できるものとなる。
The above-described connected measuring unit assemblies 8, 80, and 90 are formed so that a plurality of measuring units are fixed inseparably from each other and are larger than a measuring chip formed as a single measuring unit. Therefore, the position accuracy on the surface plasmon resonance measurement device can be easily obtained, and since there is no need to hold a small measurement unit, the handling efficiency is excellent and it can contribute to the improvement of the efficiency of the measurement processing. In addition, since such a measurement unit connected body 8, 80, and 90 includes one plurality of measurement units, a plurality of measurement units can be connected to the surface plasmon resonance measurement apparatus by one chip supply or discharge operation. It becomes possible to supply or discharge, and this also contributes to the improvement of the efficiency of the measurement operation.

【0077】次に、本発明の第4の実施の形態について
説明する。図11は、本発明の第4の実施の形態による
測定ユニット連結体8’と、それを用いる表面プラズモ
ン共鳴測定装置の側面形状を示している。なおこの図1
1において、図6中の要素と同等の要素には同番号を付
し、それらについての説明は特に必要のない限り省略す
る(以下、同様)。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 shows a side view of a linked measuring unit 8 ′ according to the fourth embodiment of the present invention and a surface plasmon resonance measuring apparatus using the same. FIG. 1
In FIG. 1, elements that are the same as the elements in FIG. 6 are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted unless otherwise necessary (the same applies hereinafter).

【0078】この測定ユニット連結体8’は、図3に示
した測定ユニット連結体8と比較すると、測定ユニット
の構成が異なるものである。すなわち、ここで用いられ
ている測定ユニット10’は、上記測定ユニット連結体8
の測定ユニット10からセンシング物質14が除かれた形の
ものである。それ以外の構成は、測定ユニット連結体8
と基本的に同様である。
The linked measuring unit 8 'is different from the linked measuring unit 8 shown in FIG. 3 in the configuration of the measuring unit. That is, the measurement unit 10 ′ used here is the same as the measurement unit linked body 8.
This is a form in which the sensing substance 14 is removed from the measurement unit 10 of FIG. Otherwise, the measurement unit connected body 8
And basically the same.

【0079】上述のような測定ユニット10’を用いる場
合も、金属膜12と接する試料15の誘電率つまり屈折率に
応じて前述の全反射減衰角θSPが変化するので、検出
したこの全反射減衰角θSPに基づいて、試料15中の特
定物質を定量分析することができる。
In the case where the measuring unit 10 ′ described above is used, the above-mentioned total reflection attenuation angle θ SP changes according to the dielectric constant, that is, the refractive index of the sample 15 in contact with the metal film 12. The specific substance in the sample 15 can be quantitatively analyzed based on the attenuation angle θ SP .

【0080】この表面プラズモン共鳴測定装置も、複数
の測定ユニット10’が一体化されてなる測定ユニット連
結体8’をスライドブロック2に支持させ、それらの測
定ユニット10’に光ビーム30を一斉照射して、それらの
測定ユニット10’による測定を相並行して行なえるよう
に構成されているので、この表面プラズモン共鳴測定装
置によれば、多数の試料15についての測定を短時間で行
なうことが可能になる。
Also in this surface plasmon resonance measuring apparatus, a linked measuring unit 8 ′ in which a plurality of measuring units 10 ′ are integrated is supported by a slide block 2, and the measuring units 10 ′ are simultaneously irradiated with a light beam 30. The surface plasmon resonance measurement apparatus is configured to perform measurement on a large number of samples 15 in a short time because the measurement is performed by the measurement units 10 ′ in parallel. Will be possible.

【0081】次に、本発明の第5の実施の形態について
説明する。図12は、本発明の第4の実施の形態による
測定ユニット連結体108と、それを用いる測定装置の側
面形状を示している。この全反射減衰を利用した測定装
置は、先に説明した漏洩モードセンサーであり、本例で
も測定チップ化された測定ユニット連結体108を用いる
ように構成されている。この測定ユニット連結体108も
前記測定ユニット8および8’と同様に、連結体測定ユ
ニット110が複数一列に並べて一体化されてなるもので
ある。この測定ユニット110を構成する誘電体ブロック1
1の一面(穴11bの底面)にはクラッド層111が形成さ
れ、さらにその上には光導波層112が形成されている。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. FIG. 12 shows a side view of a connected measuring unit 108 according to the fourth embodiment of the present invention and a measuring apparatus using the same. The measuring device using the total reflection attenuation is the leak mode sensor described above, and is configured to use the measuring unit connecting body 108 formed into a measuring chip in this example as well. As in the case of the measuring units 8 and 8 ', the linked measuring unit 108 is formed by integrating a plurality of linked measuring units 110 in a line. Dielectric block 1 that constitutes this measurement unit 110
A cladding layer 111 is formed on one surface (the bottom surface of the hole 11b), and an optical waveguide layer 112 is further formed thereon.

【0082】誘電体ブロック11は、例えば合成樹脂やB
K7等の光学ガラスを用いて形成されている。一方クラ
ッド層111は、誘電体ブロック11よりも低屈折率の誘電
体や、金等の金属を用いて薄膜状に形成されている。ま
た光導波層112は、クラッド層111よりも高屈折率の誘電
体、例えばPMMAを用いてこれも薄膜状に形成されて
いる。クラッド層111の膜厚は、例えば金薄膜から形成
する場合で36.5nm、光導波層112の膜厚は、例えばPM
MAから形成する場合で700nm程度とされる。
The dielectric block 11 is made of, for example, synthetic resin or B
It is formed using an optical glass such as K7. On the other hand, the cladding layer 111 is formed in a thin film using a dielectric material having a lower refractive index than the dielectric block 11 or a metal such as gold. The optical waveguide layer 112 is also formed into a thin film using a dielectric material having a higher refractive index than the cladding layer 111, for example, PMMA. The thickness of the cladding layer 111 is, for example, 36.5 nm when formed from a gold thin film, and the thickness of the optical waveguide layer 112 is, for example, PM.
When formed from MA, the thickness is about 700 nm.

【0083】この漏洩モードセンサーにおいて、収束光
状態の光ビーム30を誘電体ブロック11を通してクラッド
層111に対して全反射角以上の入射角で入射させると、
該光ビーム30が誘電体ブロック11とクラッド層111との
界面11aで全反射するが、クラッド層111を透過して光
導波層112に特定入射角で入射した特定波数の光は、該
光導波層112を導波モードで伝搬するようになる。こう
して導波モードが励起されると、入射光のほとんどが光
導波層112に取り込まれるので、上記界面11aで全反射
する光の強度が鋭く低下する全反射減衰が生じる。
In this leaky mode sensor, when the light beam 30 in the converging light state is made to enter the cladding layer 111 through the dielectric block 11 at an incident angle equal to or larger than the total reflection angle,
Although the light beam 30 is totally reflected at the interface 11a between the dielectric block 11 and the cladding layer 111, the light of a specific wave number transmitted through the cladding layer 111 and incident on the optical waveguide layer 112 at a specific incident angle is reflected by the optical waveguide. The layer 112 propagates in a guided mode. When the waveguide mode is excited in this manner, most of the incident light is taken into the optical waveguide layer 112, and thus the total reflection attenuation occurs in which the intensity of the light totally reflected at the interface 11a sharply decreases.

【0084】光導波層112における導波光の波数は、該
光導波層112の上の試料15の屈折率に依存するので、全
反射減衰が生じる上記特定入射角を知ることによって、
試料15の屈折率や、それに関連する試料15の特性を分析
することができる。信号処理部61は、以上の原理に基づ
いて試料15中の特定物質を定量分析し、その分析結果が
表示部62に表示される。
Since the wave number of the guided light in the optical waveguide layer 112 depends on the refractive index of the sample 15 on the optical waveguide layer 112, by knowing the specific incident angle at which the total reflection attenuation occurs,
The refractive index of the sample 15 and the characteristics of the sample 15 related thereto can be analyzed. The signal processing unit 61 quantitatively analyzes the specific substance in the sample 15 based on the above principle, and the analysis result is displayed on the display unit 62.

【0085】この漏洩モードセンサーも、複数の測定ユ
ニット110が一体化されてなる測定ユニット連結体108を
スライドブロック2に支持させ、それらの測定ユニット
110に光ビーム30を一斉照射して、それらの測定ユニッ
ト110による測定を相並行して行なえるように構成され
ているので、この漏洩モードセンサーによれば、多数の
試料15についての測定を短時間で行なうことが可能にな
る。
In this leak mode sensor, the slide block 2 supports the measurement unit connected body 108 in which a plurality of measurement units 110 are integrated, and the measurement units
The leak mode sensor is configured to irradiate the light beam 30 simultaneously to the measurement units 110 so that the measurement by the measurement units 110 can be performed in parallel. It can be done in time.

【0086】次に本発明の第6の実施の形態について説
明する。図13は、本発明の第6の実施の形態による測
定ユニット連結体108’と、それを用いる測定装置の側
面形状を示している。この測定装置も先に説明した漏洩
モードセンサーであり、本例でも測定チップ化された測
定ユニット連結体108’を用いるように構成されてい
る。この測定ユニット連結体108’も前記測定ユニット
8および8’と同様に、測定ユニット110’が複数一列
に並べて一体化されてなるものである。この測定ユニッ
ト110’は図12に示された測定ユニット110と比べる
と、光導波層112の上にセンシング物質14が固定されて
いる点のみが異なるものである。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. FIG. 13 shows a side view of a linked measuring unit 108 'according to the sixth embodiment of the present invention and a measuring device using the same. This measuring device is also the leak mode sensor described above, and is configured to use the linked measuring unit 108 'formed into a measuring chip in this example as well. As in the case of the measuring units 8 and 8 ', the connecting unit for measuring unit 108' is also formed by integrating a plurality of measuring units 110 'in a line. This measuring unit 110 'is different from the measuring unit 110 shown in FIG. 12 only in that the sensing substance 14 is fixed on the optical waveguide layer 112.

【0087】センシング物質14は、図6の測定ユニット
10におけるセンシング物質14と同様に、試料15中の特定
物質と結合するものである。このような特定物質とセン
シング物質14との組合せとしては、本例でも例えば抗原
と抗体とを挙げることができる。その場合は、全反射減
衰角θSPに基づいて抗原抗体反応を検出することがで
きる。
The sensing substance 14 is the measuring unit shown in FIG.
Like the sensing substance 14 in 10, it binds to a specific substance in the sample 15. Examples of such a combination of the specific substance and the sensing substance 14 also include, for example, an antigen and an antibody in this example. In that case, the antigen-antibody reaction can be detected based on the total reflection attenuation angle θ SP .

【0088】つまりこの場合も、光ビーム30の界面11a
に対する入射角θと反射光強度Iとの関係は基本的に図
8のものと同様となるが、上記特定物質とセンシング物
質14との結合状態に応じてセンシング物質14の屈折率が
変化して光導波層112の実効屈折率が変化し、それによ
ってこの関係が変化するので、全反射減衰角θSPに応
じて抗原抗体反応を検出することができる。
That is, also in this case, the interface 11a of the light beam 30
The relationship between the incident angle θ and the reflected light intensity I is basically the same as that of FIG. 8, but the refractive index of the sensing substance 14 varies depending on the bonding state between the specific substance and the sensing substance 14. Since the effective refractive index of the optical waveguide layer 112 changes, and this changes the relationship, the antigen-antibody reaction can be detected according to the attenuated total reflection angle θ SP .

【0089】以上説明した測定ユニット連結体8’、10
8および108’も、複数の測定ユニットが互いに分離不可
能に固定されて、測定ユニット単体で測定チップとされ
たものと比べればより大きく形成されていることから、
表面プラズモン共鳴測定装置あるいは漏洩モードセンサ
ー上での位置精度が出しやすく、また、小さな測定ユニ
ットを把持する必要が無いことからハンドリング性に優
れて、測定処理の能率向上に寄与できるものとなる。ま
た、このような測定ユニット連結体8’、108および10
8’も、1つで複数の測定ユニットを備えていることに
より、測定装置に対する1回のチップ供給あるいは排出
動作で複数の測定ユニットを供給あるいは排出させるこ
とが可能になり、この点からも測定作業の能率向上に寄
与できるものとなる。
The connected measuring unit 8 ', 10 described above
8 and 108 ′ are also formed such that a plurality of measurement units are fixed so as to be inseparable from each other and are larger than a measurement chip that is a measurement chip by itself.
Position accuracy on a surface plasmon resonance measurement device or a leak mode sensor is easily obtained, and since there is no need to hold a small measurement unit, it is excellent in handling properties and can contribute to improvement in efficiency of measurement processing. In addition, such measuring unit connected bodies 8 ', 108 and 10
8 'is also equipped with a plurality of measurement units, so that it is possible to supply or discharge a plurality of measurement units by a single chip supply or discharge operation to the measurement device. It can contribute to the improvement of work efficiency.

【0090】次に本発明の第7の実施の形態について説
明する。図14は、本発明の第7の実施の形態による測
定チップである測定ユニット連結体200の平面形状を示
している。図示のようにこの測定ユニット連結体200
は、円環状の板を3等分した形のユニット支持板201
に、一例として6個の測定ユニット10が固定されてなる
ものである。これらの測定ユニット10は、図3に示した
測定ユニット10と同様のもので、表面プラズモン共鳴測
定に用いられる。そしてこれらの測定ユニット10は、上
記円環の中心を中心とする円弧に沿って配置されてい
る。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described. FIG. 14 shows a planar shape of a connected measurement unit 200 that is a measurement chip according to the seventh embodiment of the present invention. As shown in FIG.
Is a unit support plate 201 formed by dividing an annular plate into three equal parts.
In addition, as an example, six measurement units 10 are fixed. These measurement units 10 are similar to the measurement unit 10 shown in FIG. 3, and are used for surface plasmon resonance measurement. These measurement units 10 are arranged along an arc centered on the center of the ring.

【0091】このような構成の測定ユニット連結体200
は、前述したようにターンテーブルにおいて、その回動
軸を中心とする円周上に複数の測定ユニットを支持さ
せ、該ターンテーブルを所定角度ずつ回動させる構造の
測定装置に適用することができる。その場合、ターンテ
ーブルにこの測定ユニット連結体200を等角度間隔で例
えば3個保持させれば、全体で18個の測定ユニット10
を支持させることができる。
The measuring unit connected body 200 having such a configuration is
As described above, a turntable can be applied to a measuring device having a structure in which a plurality of measurement units are supported on a circumference around the rotation axis and the turntable is rotated by a predetermined angle. . In this case, for example, if three turntables 200 are held at equal angular intervals on the turntable, a total of 18
Can be supported.

【0092】そうする場合、ターンテーブルに保持させ
た複数の測定ユニット10に光ビームを一斉照射させても
よいし、あるいは、ターンテーブルを測定ユニット10の
取付ピッチと同じ角度間隔で間欠的に回動させて、測定
ユニット10の1つずつに順次光ビームを照射させてもよ
い。
In such a case, a plurality of measuring units 10 held on the turntable may be irradiated with a light beam at the same time, or the turntable may be intermittently rotated at the same angular interval as the mounting pitch of the measuring units 10. The light beam may be sequentially applied to each of the measurement units 10 by moving the light source.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の測定チップを用いる表面プラズモン共
鳴測定装置の一例を示す全体平面図
FIG. 1 is an overall plan view showing an example of a surface plasmon resonance measurement device using a measurement chip of the present invention.

【図2】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の要部を示
す一部破断斜視図
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing a main part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG. 1;

【図3】本発明の第1の実施の形態による測定ユニット
連結体を示す斜視図
FIG. 3 is a perspective view showing a linked measuring unit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】図3の測定ユニット連結体を収容する手段を示
す平面図
FIG. 4 is a plan view showing means for accommodating the linked measuring unit of FIG. 3;

【図5】図3の測定ユニット連結体に試料を供給する手
段を示す正面図
FIG. 5 is a front view showing a unit for supplying a sample to the connected measurement unit of FIG. 3;

【図6】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の要部を示
す側面図
FIG. 6 is a side view showing a main part of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG. 1;

【図7】図1の表面プラズモン共鳴測定装置の光学系を
示す平面図
FIG. 7 is a plan view showing an optical system of the surface plasmon resonance measuring apparatus of FIG. 1;

【図8】表面プラズモン共鳴測定装置における光ビーム
入射角と、光検出器による検出光強度との概略関係を示
すグラフ
FIG. 8 is a graph showing a schematic relationship between an incident angle of a light beam in a surface plasmon resonance measuring apparatus and a light intensity detected by a photodetector.

【図9】本発明の第2の実施の形態による測定ユニット
連結体を示す斜視図
FIG. 9 is a perspective view showing a connected measuring unit according to the second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第3の実施の形態による測定ユニッ
ト連結体を示す斜視図
FIG. 10 is a perspective view showing a linked measuring unit according to a third embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第4の実施の形態による測定ユニッ
ト連結体と、それを用いる表面プラズモン共鳴測定装置
の要部を示す側面図
FIG. 11 is a side view showing a connected measurement unit according to a fourth embodiment of the present invention and a main part of a surface plasmon resonance measurement apparatus using the same.

【図12】本発明の第5の実施の形態による測定ユニッ
ト連結体と、それを用いる漏洩モードセンサーの要部を
示す側面図
FIG. 12 is a side view showing a main part of a connected measuring unit according to a fifth embodiment of the present invention and a leak mode sensor using the same.

【図13】本発明の第6の実施の形態による測定ユニッ
ト連結体と、それを用いる漏洩モードセンサーの要部を
示す側面図
FIG. 13 is a side view showing a main part of a connected measuring unit according to a sixth embodiment of the present invention and a leak mode sensor using the same.

【図14】本発明の第7の実施の形態による測定ユニッ
ト連結体を示す平面図
FIG. 14 is a plan view showing a linked measuring unit according to a seventh embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガイドロッド 2 スライドブロック 3 精密ねじ 4 パルスモータ 5 モータコントローラ 6 マイクロレンズアレイ 7a〜h 光検出器 8、8’、108、108’、200 測定ユニット連結体 9 連結部材 10、10’ 測定ユニット 11 誘電体ブロック 11a 誘電体ブロックと薄膜層との界面 12 金属膜 14 センシング物質 30 光ビーム 31 半導体レーザ 32 コリメーターレンズ 33 集光レンズ 34a〜h、34m 光ファイバー 35 光カップラーユニット 36 コリメーターレンズ 37 集光レンズ 38 ミラー 40 プレート 41 排出用プレート 42 載置台 45 分注機 46 分注ノズル 47 支持部材 61 信号処理部 62 表示部 70、71 測定ユニット給排機構 80、90 測定ユニット連結体 81 誘電体バー 91 ユニット支持板 92 ユニット支持孔 95 測定ユニット 110 110’ 測定ユニット 111 クラッド層 112 光導波層 200 ユニット支持板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Guide rod 2 Slide block 3 Precision screw 4 Pulse motor 5 Motor controller 6 Micro lens array 7a-h Photodetector 8, 8 ', 108, 108', 200 Measurement unit connection body 9 Connection member 10, 10 'Measurement unit 11 Dielectric block 11a Interface between dielectric block and thin film layer 12 Metal film 14 Sensing substance 30 Light beam 31 Semiconductor laser 32 Collimator lens 33 Condenser lens 34a-h, 34m Optical fiber 35 Optical coupler unit 36 Collimator lens 37 Condenser Lens 38 Mirror 40 Plate 41 Discharge plate 42 Mounting table 45 Dispenser 46 Dispensing nozzle 47 Support member 61 Signal processing unit 62 Display unit 70, 71 Measuring unit supply / discharge mechanism 80, 90 Measuring unit connector 81 Dielectric bar 91 Unit support plate 92 Unit support hole 95 Measuring unit 110 110 'Measuring unit 111 Cladding layer 112 Optical waveguide layer 200 unit support plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G058 AA09 CC14 CC17 CD01 CD21 CF22 ED16 GA02 2G059 AA01 BB12 CC17 DD12 DD13 EE02 FF11 GG01 GG04 HH01 JJ03 JJ11 JJ17 JJ19 JJ20 KK04 PP01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2G058 AA09 CC14 CC17 CD01 CD21 CF22 ED16 GA02 2G059 AA01 BB12 CC17 DD12 DD13 EE02 FF11 GG01 GG04 HH01 JJ03 JJ11 JJ17 JJ19 JJ20 KK04 PP01

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に接触させ
られる薄膜層と、光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件となり、か
つ、種々の入射角成分を含むようにして入射させる光学
系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して全反射
減衰の状態を検出する光検出手段とを備えてなる、全反
射減衰を利用した測定装置に用いられる測定チップであ
って、 前記誘電体ブロックおよび薄膜層からなる測定ユニット
が複数、1列に並べて一体化されてなることを特徴とす
る測定チップ。
1. A dielectric block; a thin film layer formed on one surface of the dielectric block and brought into contact with a sample; a light source for generating a light beam; An optical system that is totally reflected at the interface between the dielectric block and the thin film layer, and is incident so as to include various incident angle components, and measures the intensity of the light beam totally reflected at the interface to reduce the total reflection attenuation. A measurement chip for use in a measurement device utilizing attenuated total reflection, comprising: a light detection unit for detecting a state, wherein a plurality of measurement units each including the dielectric block and the thin film layer are arranged in a line and integrated. A measuring chip characterized by being made.
【請求項2】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されて試料に接触させ
られる金属膜からなる薄膜層と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記金属膜との界面で全反射条件となり、か
つ、種々の入射角成分を含むようにして入射させる光学
系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して、表面
プラズモン共鳴による全反射減衰の状態を検出する光検
出手段とを備えてなる、全反射減衰を利用した測定装置
に用いられる測定チップであって、 前記誘電体ブロックおよび金属膜からなる測定ユニット
が複数、1列に並べて一体化されてなることを特徴とす
る測定チップ。
2. A dielectric block, a thin film layer formed on one surface of the dielectric block and made of a metal film which is brought into contact with a sample, a light source for generating a light beam, and the light beam is transmitted to the dielectric block. On the other hand, the total reflection condition is satisfied at the interface between the dielectric block and the metal film, and an optical system that is incident so as to include various incident angle components, and the intensity of the light beam totally reflected at the interface is measured. And a light detecting means for detecting a state of attenuated total reflection by surface plasmon resonance. A measuring chip used for a measuring device utilizing attenuated total reflection, the measuring unit comprising the dielectric block and a metal film A plurality of measuring chips are arranged and integrated in a line.
【請求項3】 誘電体ブロックと、 この誘電体ブロックの一面に形成されたクラッド層、お
よびその上に形成されて試料に接触させられる光導波層
からなる薄膜層と、 光ビームを発生させる光源と、 前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体
ブロックと前記クラッド層との界面で全反射条件とな
り、かつ、種々の入射角成分を含むようにして入射させ
る光学系と、 前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して、前記
光導波層での導波モードの励起による全反射減衰の状態
を検出する光検出手段とを備えてなる、全反射減衰を利
用した測定装置に用いられる測定チップであって、 前記誘電体ブロック、クラッド層および光導波層からな
る測定ユニットが複数、1列に並べて一体化されてなる
ことを特徴とする測定チップ。
3. A thin film layer comprising a dielectric block, a cladding layer formed on one surface of the dielectric block, and an optical waveguide layer formed thereon and brought into contact with a sample, and a light source for generating a light beam An optical system that causes the light beam to enter the dielectric block at a total reflection condition at an interface between the dielectric block and the cladding layer, and to include various incident angle components; Measuring the intensity of the totally reflected light beam, and light detecting means for detecting the state of total reflection attenuation due to the excitation of the waveguide mode in the optical waveguide layer, a measuring device utilizing total reflection attenuation A measurement chip to be used, wherein a plurality of measurement units each including the dielectric block, the cladding layer, and the optical waveguide layer are arranged in a line and integrated.
【請求項4】 前記一体化された複数の測定ユニットの
各誘電体ブロックが互いに別体に形成され、 これらの誘電体ブロックが連結部材により連結されて一
体化されていることを特徴とする請求項1から3いずれ
か1項記載の測定チップ。
4. The dielectric blocks of the plurality of integrated measurement units are formed separately from each other, and these dielectric blocks are connected and integrated by a connecting member. Item 4. The measurement chip according to any one of Items 1 to 3.
【請求項5】 前記一体化された複数の測定ユニットの
各誘電体ブロックが共通の1つの部材から形成されてい
ることを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の
測定チップ。
5. The measuring chip according to claim 1, wherein each dielectric block of the plurality of integrated measuring units is formed of one common member.
【請求項6】 前記薄膜層の上に試料を保持する試料保
持機構が設けられていることを特徴とする請求項1から
5いずれか1項記載の測定チップ。
6. The measuring chip according to claim 1, wherein a sample holding mechanism for holding a sample is provided on the thin film layer.
【請求項7】 前記誘電体ブロックが、ガラスおよび透
明樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項1か
ら6いずれか1項記載の測定チップ。
7. The measuring chip according to claim 1, wherein the dielectric block is made of one of glass and transparent resin.
【請求項8】 前記薄膜層の上に、試料中の特定物質と
結合反応を示すセンシング媒体が固定されていることを
特徴とする請求項1から7いずれか1項記載の測定チッ
プ。
8. The measuring chip according to claim 1, wherein a sensing medium that shows a binding reaction with a specific substance in a sample is fixed on the thin film layer.
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