JP2003252620A - 層状ケイ酸塩及びその製造方法 - Google Patents
層状ケイ酸塩及びその製造方法Info
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Abstract
体及びその製造方法を提供することにある。 【解決手段】 クリストバライト含有量が体積分率で5
%以下、且つリヒテライト含有量が体積分率で5%以下
であり、且つ粉体の平均粒子径が15μm以上であるこ
とを特徴とする層状ケイ酸塩粉体及び、熔融合成法によ
る層状ケイ酸塩粉体の製造方法において、目的とする層
状ケイ酸塩の化学組成に応じて配合される原料を急速に
融解させることを特徴とする層状ケイ酸塩粉体の製造方
法。
Description
びその製造方法、特に純度の改良に関する。
熔融法が知られており、この方法では目的とする層状ケ
イ酸塩の化学組成に応じて配合した原料を内熱もしくは
外熱によって融かし、生成した熔融体を耐熱容器の中に
取り出した後、冷却過程で結晶化させて層状ケイ酸塩を
合成する。そして、実験レベルでの合成には外熱式の電
気炉を用い、配合原料を炉内に入れた後、室温から加熱
し、通常2時間以上かけて配合原料を完全に融解して合
成している。
配合原料をあらかじめ炉内に入れて一度に融かすため、
例えば熱効率のよい内熱式融解炉を用いたとしても30
分以上かけて原料の融解を行っている。
うな従来の方法では熔融体中の揮発成分が抜けて組成が
くずれてしまったり、熔融体に組成的不均一が生じたり
してクリストバライトやリヒテライトなどの夾雑鉱物が
生成し、純度の高い層状ケイ酸塩の鉱塊を得ることはで
きなかった。このため、純度の高い層状ケイ酸塩を得る
ために、鉱塊を粉砕後水に分散させ遠心分級により夾雑
鉱物を除去する方法が一般的にとられている。しかし、
この方法ではコストがかかる上にクリストバライトのよ
うな微細な結晶を除去することができなかった。
載されているようにAlやLiを添加して純度を上げる
方法が考えられているが、この方法ではクリストバライ
トの生成は抑えられるものの、リヒテライトの生成を抑
えることができなかった。本発明は前記従来技術の課題
に鑑み為されたものであり、その目的は純度の高い層状
ケイ酸塩粉体及びその製造方法を提供することにある。
解決するために鋭意検討を行った結果、熔融合成法によ
る層状ケイ酸塩粉体の製造方法において、目的とする層
状ケイ酸塩の化学組成に応じて配合される原料を急速に
融解させることでクリストバライトやリヒテライト等の
夾雑鉱物の生成を減らし、層状ケイ酸塩の純度を向上さ
せ得ることを見出し、また、従来得られなかったクリス
トバライト及びリヒテライト含有量が極めて少ない層状
ケイ酸塩粉体が得られることを見出し本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明の層状ケイ酸塩粉体は、ク
リストバライト含有量が体積分率で5%以下、且つリヒ
テライト含有量が体積分率で5%以下であり、且つ粉体
の平均粒子径が15μm以上であることを特徴とする。
は、熔融合成法による層状ケイ酸塩の製造方法におい
て、目的とする層状ケイ酸塩の化学組成に応じて配合さ
れる原料を急速に融解させることを特徴とする。また、
前記方法において、前記融解を20分以内に行うことが
好適である。また、前記方法において、前記融解に高周
波誘導加熱を用いることが好適である。
る。本発明の方法により製造される合成層状ケイ酸塩は
次式で表される。 X1/3〜1Y2〜3Z4O10F2 (上記式中、X、Y、Zの位置に置換可能な元素をイオ
ンの形で示すと次の通りである。 X;Na+、Li+、K+、Ca2+、Sr2+、Ba
2+ Y;Mg2+、Li+、Ni2+、B3+、Co3+、
Zn2+、Mn3+、Al3+、Cr3+、Fe2+、
Fe3+ Z;Al3+、Si4+、Ge4+、B3+、F
e3+、Ti4+)
製造する際に使用する原料としては、従来公知の内熱式
熔融法で使用されるものを用いることができる。例え
ば、SiO2、MgO、Al2O3、K2CO3、Na
2CO3、Li2CO3及びフッ化物(NaF、Li
F、KF、MgF2、Na2SiF6、K2SiF6、
Li2SiF6等)を、目的とする化学組成に応じて混
合使用すればよい。また、長石、かんらん石、タルク等
の天然鉱物をSi、Al、Mg源として使用しても差し
支えない。前記X、Y、Zを他の元素で置換する場合に
は、上記に例示した化合物等の混合物に、置換する元素
の酸化物、フッ化物、炭酸塩等を配合して熔融すればよ
い。
な配合原料を急速に融解させることとした点である。本
発明者らは、融解に要する時間を短くすることにより、
従来の製法で得られたものに比してクリストバライトや
リヒテライト等の夾雑鉱物の生成が抑えられ、大幅に純
度が向上した層状ケイ酸塩の鉱塊が得られることを見出
した。特に、配合原料を20分以内で融解させることに
より、夾雑鉱物の生成抑制に関して明らかな効果が得ら
れる。
は、一般的な内熱式熔融炉、外熱式熔融炉、高周波誘導
加熱炉等が挙げられ、中でも高周波誘導加熱炉が好適に
用いられる。内熱式熔融炉及び高周波誘導加熱炉を使用
する場合、規格投入量よりも実際の原料投入量を減らす
ことで融解に要する加熱時間が短時間となるように調整
する。また、外熱式熔融炉では、室温下で炉内に配合原
料を入れるのではなく、あらかじめ炉内を加熱しておき
炉内温度が1200℃以上になった時点で配合原料を投
入することで融解に要する加熱時間を短時間に調整す
る。
800℃、好ましくは1400℃〜1600℃である。
加熱した熔融体は、鉄、セラミックス等で作られた耐熱
容器に移され、0.01℃/分〜50℃/分の冷却速度
で冷却し、結晶化させて合成層状ケイ酸塩を得る。得ら
れた鉱塊を粉砕後、水に分散させ遠心分級により平均粒
子径が15μm以上の粉体を得る。
クリストバライト含有量が体積分率で5%以下であり、
且つリヒテライト含有量が体積分率で5%以下、更に望
ましくはそれぞれの含有量が体積分率で3%以下と、そ
の含有量が極めて少なく、且つ平均粒子径が15μm以
上の層状ケイ酸塩粉体を得ることができる。そして、こ
のような本発明の合成層状ケイ酸塩をガスバリア性フィ
ルムにコーティングした場合、層状ケイ酸塩の純度が非
常に高く、且つ十分な大きさの平均粒子径をもつため、
従来のものをコーティングした場合に比して、良好なガ
スバリア性が得られる。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例1 Na型四珪素雲母の化学組成に配合した熔融原料100
gを白金坩堝に入れ、電気炉の炉内温度が1400℃に
なった時点で炉内に坩堝を入れた。その後も加温を続け
1450℃まで昇温した後保持した。坩堝を炉内に入れ
てから15分後に炉内の温度を下げ始め、1000℃に
なった時点で炉内から坩堝を取り出し、その後は自然冷
却で室温まで冷却して結晶化させた。このようにして得
られた実施例1の試料を陽イオン交換容量(CEC)、
膨潤力(日本ベントナイト工業会標準試験方法準拠)、
B型粘度(10質量%懸濁液を東京計器(株)製B型粘
度計により6rpmで測定)により評価した。その結果
を表1に示す。
式粒度分布測定装置を使用)についても評価し、さらに
内部標準法でリヒテライトとクリストバライトの体積分
率を求めた。その結果を表2に示す。
0gを白金坩堝に入れ、電気炉の炉内温度が1400℃
になった時点で炉内に坩堝を入れた。その後も加温を続
け1450℃まで昇温した後保持した。坩堝を炉内に入
れてから15分後に炉内の温度を下げ始め、1000℃
になった時点で炉内から坩堝を取り出し、その後は自然
冷却で室温まで冷却して結晶化させた。このようにして
得られた実施例2の試料について、実施例1の場合と同
様の評価を行った。その結果を表1,2に示す。
gを容量200kgの内熱式電気炉を用いて融解した。
室温から加熱を開始し、融解に要した時間は20分であ
った。その後、同熔融体を黒鉛製の鋳型に注ぎ込み、室
温まで冷却して結晶化させた。このようにして得られた
実施例3の試料について、実施例1の場合と同様の評価
を行った。その結果を表1,2に示す。
を、黒鉛坩堝を発熱体とした高周波誘導加熱炉を用いて
融解した。室温から加熱を開始し、融解に要した時間は
10分であった。その後、同熔融体を黒鉛製の鋳型に注
ぎ込み、室温まで冷却して結晶化させた。このようにし
て得られた実施例4の試料について、実施例1の場合と
同様の評価を行った。その結果を表1,2に示す。
gを白金坩堝に入れ、電気炉中で室温から2時間かけて
1450℃まで昇温し、20分保持した後炉内の温度を
下げ始め、1000℃になった時点で炉内から坩堝を取
り出し、その後は自然冷却で室温まで冷却して結晶化さ
せた。このようにして得られた比較例1の試料につい
て、CEC、膨潤力及びB型粘度の評価を行った。その
結果を表1に示す。
0gを白金坩堝に入れ、電気炉中で室温から2時間かけ
て1450℃まで昇温し、20分保持した後炉内の温度
を下げ始め、1000℃になった時点で炉内から坩堝を
取り出し、その後は自然冷却で室温まで冷却して結晶化
させた。このようにして得られた比較例2の試料につい
て、比較例1の場合と同様の評価を行った。その結果を
表1に示す。
kgを容量200kgの内熱式電気炉を用いて融解し
た。室温から加熱を開始し、融解に要した時間は60分
であった。その後、同熔融体を鉄製の鋳型に注ぎ込み、
室温まで冷却して結晶化させた。このようにして得られ
た比較例3の試料について、比較例1の場合と同様の評
価を行った。その結果を表1に示す。
留水に分散させ、5質量%の懸濁液を調整した。同懸濁
液を24時間静置し、十分に膨潤させた後、2000G
の遠心力で夾雑鉱物を沈降させて精製した。このように
して得られた比較例4の試料について、実施例1の場合
と同様に平均粒子径及び内部標準法によるリヒテライト
とクリストバライトの体積分率を評価した。その結果を
表2に示す。
比較例4と同様にして遠心分級により精製した。このよ
うにして得られた比較例5の試料について、比較例4の
場合と同様の評価を行った。その結果を表2に示す。
較例4と同様にして遠心分級により精製した。このよう
にして得られた比較例6の試料について、比較例4の場
合と同様の評価を行った。その結果を表2に示す。
ープケミカル社製、ME−100)について、比較例4
の場合と同様の評価を行った。その結果を表2に示す。
分以内で急速融解して得られた実施例1〜4の試料で
は、従来の製法で得られた比較例1〜3の試料に比し
て、CEC、膨潤力及びB型粘度が大幅に向上すること
がわかる。このようなCEC、膨潤力及びB型粘度の向
上は、概ね融解に要する加熱時間20分を境にして明ら
かに認められた。
得られた実施例1〜4の試料ではリヒテライト及びクリ
ストバライトの生成が大幅に抑えられ、純度の高い層状
ケイ酸塩が得られることがわかる。そして本実施例で
は、従来得られなかった、クリストバライト含有量が体
積分率で5%以下であり、且つリヒテライト含有量が体
積分率で5%以下と、その含有量が極めて少なく、且つ
平均粒子径が15μm以上のものがられた。
4〜6の試料では、クリストバライトのように粒子径が
細かい鱗片状の粒子は一般的に用いられている遠心分級
ではほとんど除去できず、十分に純度の高い層状ケイ酸
塩が得られなかった。さらに、遠心分級により夾雑鉱物
を除去して精製する過程を含むため、精製過程で平均粒
子径を落としてしまった。また、市販品の固相反応法に
より作製された比較例7では粒子径が小さく、本発明で
得られるような平均粒子径のものは得られない。
たガスバリア性フィルムを作製した。コート液の配合は
ポリビニルアルコールと合成層状ケイ酸塩の比を80:
20とし、2軸延伸ポリプロピレンフィルムの表層に4
%濃度のこのコート液を塗布した。実施例1,4の合成
層状ケイ酸塩を塗布したガスバリア性フィルム、及び比
較例3,4の合成層状ケイ酸塩を塗布したガスバリア性
フィルムを作製した。作製したガスバリア性フィルムに
ついて、温度20℃、相対湿度80%における酸素透過
度、そして表面粗度を測定した。表面粗度は1mm×1
mmの範囲を各試料10点以上計測し、3μm以上の突
起の平均個数により評価を行った。評価結果を表3に示
す。
酸塩粉体を塗布したフィルムでは、ガスバリア性を発揮
するために十分な大きさの平均粒子径を有し、且つクリ
ストバライト及びリヒテライト含有量が極めて少ないた
めガスバリア性、表面粗さが良好であることが分かる。
4の合成層状ケイ酸塩粉体を塗布したフィルムでは、ガ
スバリア性、表面粗さが劣っていることがわかる。すな
わち、クリストバライト及びリヒテライトを含有するこ
とでガスバリア性、表面粗さが悪化する方向に働き、ま
た、分級によりある程度以下まで平均粒子径を落として
しまうとガスバリア性が低下してしまう。したがって、
本発明の合成層状ケイ酸塩粉体はガスバリア性フィルム
用途に好適であることがわかる。
ば、原料を急速に融解させることとしたので、夾雑鉱物
の生成が抑えられ、純度の高い層状ケイ酸塩を得ること
が可能である。
Claims (4)
- 【請求項1】 クリストバライト含有量が体積分率で5
%以下、且つリヒテライト含有量が体積分率で5%以下
であり、且つ粉体の平均粒子径が15μm以上であるこ
とを特徴とする層状ケイ酸塩粉体。 - 【請求項2】 熔融合成法による層状ケイ酸塩粉体の製
造方法において、 目的とする層状ケイ酸塩の化学組成に応じて配合される
原料を急速に融解させることを特徴とする層状ケイ酸塩
粉体の製造方法。 - 【請求項3】 請求項2記載の方法において、前記融解
を20分以内に行うことを特徴とする層状ケイ酸塩粉体
の製造方法。 - 【請求項4】 請求項2または3記載の方法において、
前記融解に高周波誘導加熱を用いることを特徴とする層
状ケイ酸塩粉体の製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2002055569A JP4216510B2 (ja) | 2002-03-01 | 2002-03-01 | 層状ケイ酸塩及びその製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002055569A JP4216510B2 (ja) | 2002-03-01 | 2002-03-01 | 層状ケイ酸塩及びその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2003252620A true JP2003252620A (ja) | 2003-09-10 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004331460A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Rengo Co Ltd | 膨潤性合成フッ素雲母系鉱物及びこれを用いたガスバリア性積層体 |
-
2002
- 2002-03-01 JP JP2002055569A patent/JP4216510B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004331460A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Rengo Co Ltd | 膨潤性合成フッ素雲母系鉱物及びこれを用いたガスバリア性積層体 |
JP4512321B2 (ja) * | 2003-05-08 | 2010-07-28 | レンゴー株式会社 | 膨潤性合成フッ素雲母系鉱物及びこれを用いたガスバリア性積層体 |
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