JP2003249363A - 有機エレクトロルミネッセント画像表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明電極層の断線がなく、有機エレクトロル
ミネッセンス素子層の安定した発光が得られ、高品質の
画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置と、このような装置を簡便に製造することを可能
とする製造方法を提供する。 【解決手段】 有機エレクトロルミネッセント画像表示
装置を、透明基材上にカラーフィルタ層、色変換蛍光体
層、透明保護層、透明電極層、有機エレクトロルミネッ
センス素子層、および、背面電極層とを順次設けて備え
たものとし、色変換蛍光体層の端部外側に該端部から離
間する方向で所定の間隙を設けて１個以上のダミー薄壁
を有し、このダミー薄壁と色変換蛍光体層とを覆うよう
に透明保護層が透明基材上に設けられ、透明電極は上記
のダミー薄壁が配設された部位において透明基材から色
変換蛍光体層に乗り上げるように帯状に透明保護層上に
配設されたものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有機エレクトロルミ
ネッセント画像表示装置とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機のエレクトロルミネッセンス（Ｅ
Ｌ）素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶デ
ィスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温
度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこ
と等の利点をもっており、近年、画像表示装置の画素等
としての実用化が進んでいる。有機ＥＬ素子を用いた画
像表示装置としては、（１）三原色の有機ＥＬ素子層を
各発光色毎に所定のパターンで形成したもの、（２）白
色発光の有機ＥＬ素子層を使用し、三原色のカラーフィ
ルタを介して表示するもの、（３）青色発光の有機ＥＬ
素子層を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層を
設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原
色表示をするもの等が提案されている。

【０００３】しかし、上記の（１）の有機ＥＬ画像表示
装置では、各発色光の取出し効率は高いものの、各色の
有機ＥＬ素子の特性を均一にすることが難しく、さら
に、微細なパターンで三原色の有機ＥＬ素子層を形成す
る工程が複雑であり、量産化を難しいものとしている。
また、上記の（２）の有機ＥＬ画像表示装置では、白色
光を三原色のカラーフィルタで分解すると、三原色の中
の一色の発光効率が白色光の３分の１に低下して取出し
効率が悪く、このため高効率の白色有機ＥＬ素子が必要
となるが、十分な輝度を安定して得られる白色有機ＥＬ
素子は未だ得られていない。これに対して、上記の
（３）の有機ＥＬ画像表示装置では、色変換蛍光体層の
変換効率が光吸収効率と蛍光効率の積で決定されるた
め、光吸収効率と蛍光効率の高い蛍光色素を使用するこ
とにより、変換効率が非常に高い三原色発光が可能であ
る。

【０００４】ここで、有機ＥＬ素子は、色変換蛍光体層
等から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成
分等のガスにより劣化するため、色変換蛍光体層上に直
接有機ＥＬ素子層を形成することはできず、色変換蛍光
体層を透明保護層で覆って、上記のガスを遮断する必要
がある。そして、この透明保護層上に透明電極を所定の
パターンで形成し、この透明電極上に有機ＥＬ素子層、
背面電極層が形成されることになる。また、各色に対応
する蛍光体の変換性能に差があり、所望の色調を得るた
めに各色毎に色変換蛍光体層の厚みを異にする必要があ
る場合、色変換蛍光体層間に段差が生じる。このような
段差が存在すると、有機ＥＬ素子層の厚みムラが発生
し、安定した発光が得られないことになるが、上記の透
明保護層を形成することにより、このような段差を解消
することができる。しがたって、有機ＥＬ画像表示装置
では、色変換蛍光体層を覆うように形成されている透明
保護層は必須の構成となっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、光吸収効率と
蛍光効率の高い色変換蛍光体層を得るためには、色変換
蛍光体層を厚くする必要があり、色変換蛍光体層が厚く
なるほど、その端部での段差が大きくなる。そして、こ
の段差の大きさは、色変換蛍光体層を覆うように形成さ
れている透明保護層に反映される。一方、周辺の端子部
から画素領域まで透明保護層上に形成される帯状の透明
電極層は、一般に真空成膜法により透明電極膜を形成
し、これをパターンエッチングすることにより形成され
る。このため、上記の色変換蛍光体層の端部に生じてい
る透明保護層の段差箇所では、成膜不良や、エッチング
処理時の応力等による切断が生じ易く、透明電極層に断
線が発生し易いという問題がある。

【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、透明電極層の断線がなく、有機エレクト
ロルミネッセンス素子層の安定した発光が得られ、高品
質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画
像表示装置と、このような装置を簡便に製造することを
可能とする製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の有機エレクトロルミネッセント画像
表示装置は、透明基材と、該透明基材上に順次設けられ
たカラーフィルタ層、色変換蛍光体層、透明保護層、透
明電極層、有機エレクトロルミネッセンス素子層、およ
び、背面電極層とを少なくとも備え、前記色変換蛍光体
層の端部外側に該端部から離間する方向で所定の間隙を
設けて１個以上のダミー薄壁が配設され、前記透明保護
層は前記色変換蛍光体層および前記ダミー薄壁を覆うよ
うに前記透明基材上に設けられ、前記透明電極層は前記
ダミー薄壁が配設された部位において前記透明基材から
前記色変換蛍光体層に乗り上げるように帯状に前記透明
保護層上に配設されているような構成とした。

【０００８】本発明の他の態様として、前記ダミー薄壁
は前記色変換蛍光体層と同じ材質からなり、前記間隙は
２０〜２００μｍの範囲内、前記ダミー薄壁の長さは２
０〜２００μｍの範囲内、前記ダミー薄壁の高さは１．
５〜１５μｍの範囲内、前記ダミー薄壁の厚みは１．５
〜１２μｍの範囲内であるような構成とした。本発明の
他の態様として、前記透明基材と前記カラーフィルタと
の間に、所定の開口パターンを有するブラックマトリッ
クスを備えるような構成とした。さらに、本発明の他の
態様として、前記有機エレクトロルミネッセンス素子層
は青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑色
蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色蛍
光に変換して発光する赤色変換層とを備えているような
構成とした。

【０００９】本発明の有機エレクトロルミネッセント画
像表示装置の製造方法は、透明基材上に複数色の着色層
を色毎に帯状に形成してカラーフィルタ層を設ける工
程、前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を帯状に
形成すると同時に、色変換蛍光体層の帯状形成領域の端
部外側に該端部から離間する方向で所定の間隙を設けて
１個以上のダミー薄壁を形成する工程、前記色変換蛍光
体層と前記ダミー薄壁を覆うように前記透明基材上に透
明保護層を形成する工程、前記ダミー薄壁が配設された
部位にて前記透明基材から前記色変換蛍光体層に乗り上
げるように帯状に透明電極層を形成する工程、該透明電
極層と交差するように有機エレクトロルミネッセンス素
子層を帯状に形成し、該有機エレクトロルミネッセンス
素子層上に背面電極層を形成する工程、とを有するよう
な構成とした。

【００１０】上記のような本発明では、ダミー薄壁と色
変換蛍光体層端部との間に存在する間隙部分に、さら
に、ダミー薄壁相互間に存在する間隙部分に、ダミー薄
壁と色変換蛍光体層とを覆うように形成されている透明
保護層の構成材料が入り込み、その分、ダミー薄壁が配
設された部位の透明保護層の高さが色変換蛍光体層上の
透明保護層の表面よりも低くなり、これによって、色変
換蛍光体層端部における透明保護層の段差が緩和され、
透明電極層の断線発生が防止される。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながら説明する。有機エレクトロルミネッセント画像表示装置 図１は、本発明の有機エレクトロルミネッセント（Ｅ
Ｌ）画像表示装置の一実施形態を示す部分平面図であ
り、図２は図１に示される有機ＥＬ画像表示装置のII−
II線における縦断面図であり、図３は図１に示される有
機ＥＬ画像表示装置のIII−III線における縦断面図であ
る。尚、図１では、後述する補助電極８、透明電極層９
を示すために、青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１
１の一部を切り欠いた状態で示している。図１〜図３に
おいて、有機ＥＬ画像表示装置１は、透明基材２と、こ
の透明基材２上に所定の開口パターンを備えたブラック
マトリックス３を介して帯状の赤色着色層４Ｒ、緑色着
色層４Ｇ、青色着色層４Ｂからなるカラーフィルタ層４
が設けられている。

【００１２】このカラーフィルタ層４上には、赤色変換
蛍光体層５Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇと青色変換ダミー
層５Ｂからなる色変換蛍光体層５が形成されている。色
変換蛍光体層５を構成する各層は、赤色着色層４Ｒ上に
赤色変換蛍光体層５Ｒが、緑色着色層４Ｇ上に緑色変換
蛍光体層５Ｇが、青色着色層４Ｂ上に青色変換ダミー層
５Ｂがそれぞれ帯状に配設されている。このような色変
換蛍光体層５の厚みは、赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑
色変換蛍光体層５Ｇが後述する青色有機ＥＬ素子層１０
で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能
が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色
素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することがで
き、例えば、２〜１５μｍ程度とすることができる。ま
た、青色変換ダミー層５Ｂの厚みは、赤色変換蛍光体層
５Ｒや緑色変換蛍光体層５Ｇとほぼ同じ厚みとすること
ができる。尚、赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体
層５Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。

【００１３】上記の色変換蛍光体層５の端部５ａ外側
（図２を参照）には、この端部５ａから離間する方向
（図２に矢印ａで示される方向）で所定の間隙ｐを設け
て２個のダミー薄壁６が配設されている。このようなダ
ミー薄壁６と色変換蛍光体層５との位置関係を図４に示
す。但し、図４では、ブラックマトリックス３、カラー
フィルタ層４の状態を示すために、色変換蛍光体層５の
一部を切り欠いた状態で示している。このようなダミー
薄壁６の高さｈは色変換蛍光体層５の厚みと同じ、また
は、それ以下であり、例えば、１．５〜１５μｍの範囲
内とすることができ、ダミー薄壁６の厚みｔは１．５〜
１２μｍの範囲内とすることが好ましい。また、色変換
蛍光体層５の端部５ａとダミー薄壁６との間隙ｐ、およ
び、ダミー薄壁６相互の間隙ｐは２０〜２００μｍの範
囲内とすることができ、ダミー薄壁６の長さＬは２０〜
２００μｍμｍの範囲内とすることが好ましい。ダミー
薄壁６の寸法および配設間隙は、後述する透明保護層７
の構成材料の量が間隙に入り込み、その分、ダミー薄壁
６が配設された部位の透明保護層７の高さが、色変換蛍
光体層５上の透明保護層７の表面の高さよりも低くなる
ように、透明保護層構成材料等を考慮して上記の範囲内
で適宜設定することができる。

【００１４】尚、図４に示される例では、色変換蛍光体
層５の端部５ａとダミー薄壁６との間隙ｐと、ダミー薄
壁６相互の間隙ｐとが同じとなるように設定されている
が、これに限定されるものではなく、例えば、ダミー薄
壁６相互の間隙ｐがより大きくなるように設定してもよ
い。また、図示例では、ダミー薄壁６の長さＬ（図４参
照）が色変換蛍光体層５の各帯状パターン幅と同じであ
り、２個のダミー薄壁６の厚みｔが等しくなるように設
定されているが、これに限定されるものではない。さら
に、ダミー薄壁６の配設個数は２個に限定されるもので
はない。

【００１５】このようなダミー薄壁６と色変換蛍光体層
５とを覆うように透明保護層７が透明基材２上に設けら
れ、この透明保護層７上に補助電極８および透明電極層
９が形成されている。図５は、このように補助電極８と
透明電極層９が透明保護層７上に形成されている状態を
示す部分平面図である。図５に示されるように、補助電
極８と透明電極層９は周辺の端子部から中央の画素領域
まで透明保護層７上に帯状に配設され、ダミー薄壁６が
配設された部位において透明基材２（周辺端子部）から
色変換蛍光体層５（画素領域）に乗り上げている。

【００１６】本発明の有機ＥＬ画像表示装置１では、上
記のように配設された帯状の透明電極層９と直角に交差
し、ブラックマトリックス３の開口部上に位置するよう
に帯状の青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１１とが
透明保護層７上に形成されている。また、帯状の透明電
極層９と直角に交差し、ブラックマトリックス３の遮光
部上に位置するように、絶縁層１３を介して隔壁部１５
が透明保護層７上に形成されている。この隔壁部１５の
上部平面にはダミーの有機ＥＬ素子層１０′と背面電極
層１１′とが形成されており、これらは、隔壁部１５を
パターニング手段として利用した青色有機ＥＬ素子層１
０および背面電極層１１の形成において、帯状のパター
ンを形成するために、形成材料を透明電極層９上に到達
しないよう隔壁部１５に付着させて排除した結果形成さ
れたものである。尚、図示例では、絶縁層１３は隔壁部
１５の形成部位のみにストライプ状に設けられている
が、これに限定されるものではなく、透明電極層９と背
面電極層１１とが青色有機ＥＬ素子層１０を介して交差
する各部位（絵素）に開口をもつような格子形状のパタ
ーンからなる絶縁層１３であってもよい。

【００１７】上述のような本発明の有機ＥＬ画像表示装
置１では、青色有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光
が、赤色変換蛍光体層５Ｒにて赤色蛍光とされ、緑色変
換蛍光体層５Ｇにて緑色蛍光とされ、青色変換ダミー層
５Ｂでは青色光がそのまま透過し、その後、各色の光は
カラーフィルタ層４にて色補正されて三原色表示がなさ
れる。そして、透明保護層７の構成材料がダミー薄壁６
により形成されている上記の間隙に入り込むこととな
り、ダミー薄壁６と色変換蛍光体層５とを覆うように形
成されている透明保護層７は、ダミー薄壁６が配設され
た部位の高さが色変換蛍光体層５上の透明保護層７の表
面よりも低いものとなっている。このため、色変換蛍光
体層５の端部における透明保護層７に生じる段差が緩和
され、透明保護層７上に形成されている帯状の透明電極
層９は、透明基材２から色変換蛍光体層５に乗り上げる
段差部位での断線がなく、信頼性が高く、高品質の画像
表示が可能である。

【００１８】尚、上述の実施形態では、ブラックマトリ
ックス３を介してカラーフィルタ４等の各構成層が設け
られているが、ブラックマトリックス３を備えない形態
であってもよい。また、色変換蛍光体層５は、青色有機
ＥＬ素子層１０からの青色発光を赤色蛍光、緑色蛍光に
変換する赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層５Ｇ
を備えているが、これに限定されるものではなく、発光
（青色）波長よりも長波長の蛍光へ変換できる色変換蛍
光体層を備えるものであればよい。そして、色変換蛍光
体層５からの各色の光を色補正して色純度を高めるカラ
ーフィルタ層４との組み合わせを適正なものに設定する
ことにより、三原色表示を行うことができる。

【００１９】次に、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１の
各構成部材について説明する。有機ＥＬ画像表示装置１
を構成する透明基材２は、光透過性を有するガラス材
料、樹脂材料、これらの複合材料からなるものを使用す
ることができる。透明基材２の厚みは、材料、画像表示
装置の使用状況等を考慮して設定することができ、例え
ば、０．２〜２．０ｍｍ程度とすることができる。ま
た、カラーフィルタ層４は、色変換蛍光体層５からの各
色の光を色補正して色純度を高めるものである。カラー
フィルタ層４を構成する青色着色層４Ｂ、赤色着色層４
Ｒ、緑色着色層４Ｇは、青色有機ＥＬ素子層１０からの
青色発光、赤色変換蛍光体層５Ｒからの赤色蛍光、およ
び、緑色変換蛍光体層５Ｇからの緑色蛍光の特性に応じ
て適宜材料を選択して形成することができ、例えば、ア
ゾ系、フタロシアニン系、アントラキノン系等の顔料の
１種または複数種を感光性樹脂に分散して調製した樹脂
組成物を用いて形成することができる。

【００２０】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する色変換
蛍光体層５のうち、赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変
換蛍光体層５Ｇは、樹脂中に蛍光色素を含有した層であ
る。青色発光を赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層５
Ｒに使用する蛍光色素としては、４−ジシアノメチレン
−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−
４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−
［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタ
ジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン
色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系
色素、オキサジン系色素等が挙げられる。また、青色発
光を緑色蛍光に変換する緑色変換蛍光体層５Ｇに使用す
る蛍光色素としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テ
トラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，
９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾ
リル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２′−ベ
ンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマ
リン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のク
マリン色素系染料、ソルベントイエロー１１、ソルベン
トイエロー１１６等のナフタルイミド色素等が挙げられ
る。さらに、直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染
料等の各種染料も蛍光性があれば使用することができ
る。上述のような蛍光色素は単独、あるいは、２種以上
の組み合わせで使用することができる。赤色変換蛍光体
層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素
を含有したものである場合、蛍光色素の含有量は、使用
する蛍光色素、色変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜
設定することができるが、例えば、使用する樹脂に対し
０．１〜１０重量％程度とすることができる。また、青
色変換ダミー層５Ｂは、青色有機ＥＬ素子層１０で発光
された青色光をそのまま透過してカラーフィルタ層４に
送るものであり、赤色変換蛍光体層５Ｒ、緑色変換蛍光
体層５Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹脂層とすることができ
る。

【００２１】赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光
体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したものである場
合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹
脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マ
レイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光透過率
５０％以上）樹脂を使用することができる。また、色変
換蛍光体層５のパターン形成をフォトリソグラフィー法
により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸
系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル
基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用することができ
る。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換ダミー層
５Ｂに使用することができる。

【００２２】有機ＥＬ画像表示装置１を構成するダミー
薄壁６は、色変換蛍光体層５の端部５ａ外側に設けられ
ており、上述の色変換蛍光体層５と同様の材質で形成す
ることができる。例えば、緑色変換蛍光体層５Ｇの端部
外側に配設されたダミー薄壁６（６Ｇ）は、緑色変換蛍
光体層５Ｇと同様の材質であり、赤色変換蛍光体層５Ｒ
の端部外側に配設されたダミー薄壁６（６Ｒ）は、赤色
変換蛍光体層５Ｒと同様の材質であり、青色変換ダミー
層５Ｂの端部外側に配設されたダミー薄壁６（６Ｂ）
は、青色変換ダミー層５Ｂと同様の材質であってよい。
図示例では、ダミー薄壁６はブラックマトリックス３上
に設けられているが、これに限定されるものではなく、
透明基材２上に設けられていてもよく、また、複数のダ
ミー薄壁６のうちの一部はブラックマトリックス３上
に、他（色変換蛍光体層５の端部５ａからより離間した
ダミー薄壁）は透明基材２上に設けられていてもよい。

【００２３】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明保
護層７は、色変換蛍光体層５等から発生する水蒸気、酸
素、有機モノマー、低分子成分等のガスを遮断して青色
有機ＥＬ素子層１０が劣化するのを防止する保護作用
と、色変換蛍光体層５以下の構成により段差（表面凹
凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図
り、青色有機ＥＬ素子層１０の厚みムラ発生を防止する
平坦化作用をなすものである。このような透明保護層７
は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成す
ることができる。具体的には、アクリレート系、メタク
リレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱
硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂と
して、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、
ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、
ポリアミド樹脂等を使用することができる。透明保護層
７は、青色有機ＥＬ素子層１０と色変換蛍光体層５との
ギャップによる発光漏れを防止する点から、上記の保護
作用、平坦化作用を発現できる範囲で膜厚は薄い方が好
ましく、例えば、０．５〜１０μｍの範囲とすることが
できる。

【００２４】本発明では、上記の透明保護層７上に絶縁
性の透明バリアー層として無機酸化物膜を設けることが
好ましい。この無機酸化物膜は、酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニ
ウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化ホウ素、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化
鉛、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化リチウ
ム、酸化カリウム等の１種あるいは２種以上の酸化物を
用いて形成することができ、特に酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化チタンが好適に使用できる。無機酸化物膜
の厚みは、バリアー性と透明性とを考慮して０．０１〜
２００μｍの範囲で適宜設定することができる。このよ
うな無機酸化物膜は２層以上の多層構成であってもよ
く、また、窒化珪素等の窒化物を副成分として含有した
ものであってもよい。

【００２５】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する補助電
極８は、一般には、金属材料が用いられ、金、銀、銅、
マグネシウム合金（ＭｇＡｇ等）、アルミニウム合金
（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、金属カルシウム
等を挙げることができる。このような補助電極８は、周
辺の端子部から中央の画素領域までブラックマトリック
ス３の遮光部分上に位置するように配設されている。

【００２６】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明電
極層９の材料としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以
上）金属、合金、これらの混合物を使用することがで
き、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化イン
ジウム、酸化亜鉛、酸化第二スズ等の導電材料を挙げる
ことができる。この透明電極層９は、周辺の端子部から
中央の画素領域までブラックマトリックス３の開口部分
上および上記補助電極８上に位置するように帯状に配設
されている。このような透明電極層９はシート抵抗が数
百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層
９の厚みは、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１
０〜２００ｎｍ程度とすることができる。

【００２７】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する青色有
機ＥＬ素子層１０は、発光層単独からなる構造、発光層
の透明電極層９側に正孔注入層を設けた構造、発光層の
背面電極層１１側に電子注入層を設けた構造、発光層の
透明電極層９側に正孔注入層を設け、背面電極層１１側
に電子注入層を設けた構造等とすることができる。

【００２８】青色有機ＥＬ素子層１０を構成する発光層
は、以下の機能を併せ持つものである。 ・注入機能：電界印加時に陽極または正孔注入層より正
孔を注入することができ、陰極または電子注入層より電
子を注入することができる機能 ・輸送機能：注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で
移動させる機能 ・発光機能：電子と正孔の再結合の場を提供し、これを
発光につなげる機能

【００２９】このような機能をもつ発光層の材料として
は、例えば、特開平８−２７９３９４号公報に開示され
ているベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベ
ンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オ
キシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチ
リルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等
を挙げることができる。

【００３０】具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレン
ジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾ
ール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリ
ル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２
−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾ
ール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，
７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−
１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７
−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベ
ン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト
［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系
等の蛍光増白剤を挙げることができる。また、上記の金
属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８
−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノー
ル）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノ
ール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体やジ
リチウムエピントリジオン等を挙げることができる。

【００３１】また、上記のスチリルベンゼン系化合物と
しては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、
１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチ
リルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベ
ンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼ
ン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチル
ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−
エチルベンゼン等を挙げることができる。

【００３２】また、上記のジスチリルピラジン誘導体と
しては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジ
ン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、
２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジ
ン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、
２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジ
ン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラ
ジン等を挙げることができる。また、上記の芳香族ジメ
チリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメ
チリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，
５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメ
チリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、
１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０
−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビ
ス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニ
ル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフ
ェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。

【００３３】さらに、発光層の材料として、特開平５−
２５８８６２号公報に記載されている一般式（Ｒｓ−
Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることが
できる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６
〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位
子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、
Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位
子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ば
れた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、
ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェ
ニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−
メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）ア
ルミニウム（III）等が挙げられる。発光層の厚みは特
に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすること
ができる。

【００３４】正孔注入層の材料としては、従来より光伝
導材料の正孔注入材料として使用されているものや有機
ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中
から任意のものを選択して使用することがでる。正孔注
入層の材料は、正孔の注入、電子の障壁性のいずれかを
有するものであり、有機物あるいは無機物のいずれであ
ってもよい。具体的には、トリアゾール誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリール
アルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導
体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導
体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、
スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒ
ドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、
ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴ
マー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることがで
きる。

【００３５】さらに、正孔注入層の材料として、ポリフ
ィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルア
ミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン
化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−
テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（I
I）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタ
メチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、
芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物
としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，
４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフ
ェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリル
アミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリ
ル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１
−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，
４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ
−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げること
ができる。正孔注入層の厚みは特に制限はなく、例え
ば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。

【００３６】また、電子注入層の材料としては、陰極よ
り注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれ
ばよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任
意のものを選択して使用することができる。具体的に
は、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタ
ン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキ
シド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカル
ボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタ
ン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導
体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール
環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導
体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有
したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）
アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、
フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラ
ジン誘導体等を挙げることができる。電子注入層の厚み
は特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とする
ことができる。

【００３７】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する背面電
極層１１の材料としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以
下）金属、合金、これらの混合物で形成される。具体的
には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネ
シウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシ
ウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、
マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化
アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物、インジウム、リチウ
ム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。
電子注入性および電極としての酸化等に対する耐久性を
考えると、電子注入性金属と、これより仕事関数の値が
大きく安定な金属である第二金属との混合物が好まし
く、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／
アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合
物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合
物、リチウム／アルミニウム混合物等が挙げられる。こ
のような背面電極層１１はシート抵抗が数百Ω／□以下
が好ましく、このため、背面電極層１１の厚みは、例え
ば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍ程
度とすることができる。

【００３８】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する絶縁層
１３は、ブラックマトリックス３の遮光部上に位置する
ように形成されている。この絶縁層１３は、例えば、上
述の透明保護層７と同様の感光性樹脂、ポリイミド樹脂
等の感光性樹脂を用いて形成することができ、厚みは
０．３〜２．０μｍ程度とすることができる。

【００３９】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する隔壁部
１５は、後述する本発明の製造方法において、帯状の透
明電極層９と直角に交差するように青色有機ＥＬ素子層
１０と背面電極層１１とを帯状に形成するための隔壁パ
ターンである。このような隔壁部１５は、上述の透明保
護層７と同様の感光性樹脂、または、上記感光性樹脂に
染料、顔料、カーボンブラック等を添加した感光性樹脂
を使用してフォトリソグラフィー法により形成すること
ができ、隔壁部１５の高さは２．０〜１０．０μｍ程
度、幅はブラックマトリックス３の遮光部の幅等に応じ
て設定することができ、通常、１０〜１００μｍ程度と
することができる。

【００４０】有機エレクトロルミネッセント画像表示装
置の製造方法 次に、本発明の有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）
画像表示装置の製造方法の一実施形態を、上述の有機Ｅ
Ｌ画像表示装置１を例として図面を参照しながら説明す
る。

【００４１】（１） 本発明の製造方法の最初の工程で
は、図６に示すように、透明基材２上にブラックマトリ
ックス３を介してカラーフィルタ層４を形成する。尚、
図６では、ブラックマトリックス３の状態を示すため
に、赤色着色層４Ｒの一部を切り欠いた状態で示してい
る。ブラックマトリックス３は所定のパターンで開口部
３ａと遮光部３ｂを備えている。このようなブラックマ
トリックス３は、スパッタリング法、真空蒸着法等によ
り厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の金属薄
膜、または、酸化クロム等の金属酸化物薄膜を形成し、
この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微
粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂
層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子、
金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を
形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成した
もの等、いずれであってもよい。

【００４２】また、カラーフィルタ層４は、赤色着色層
４Ｒ、緑色着色層４Ｇおよび青色着色層４Ｂがそれぞれ
ブラックマトリックス３の開口部３ａを覆うように帯状
に配列されており、所望の着色材を含有した感光性樹脂
を使用した顔料分散法により形成することができ、さら
に、印刷法、電着法、転写法等の公知の方法により形成
することができる。このようなカラーフィルタ層４の厚
みは、各着色層の材料、色変換蛍光体層５から発光され
る蛍光等に応じて適宜設定することができ、例えば、
１．０〜２．０μｍ程度の範囲で設定することができ
る。

【００４３】（２） 本発明の製造方法の次の工程で
は、カラーフィルタ層４上に帯状の赤色変換蛍光体層５
Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇと青色変換ダミー層５Ｂから
なる色変換蛍光体層５を形成するとともに、上記の図４
に示されるように、この色変換蛍光体層５の帯状形成領
域Ａの端部Ａ′外側に、端部Ａ′から離間する方向（図
４の矢印ａ方向）に間隙ｐを設けて２個のダミー薄壁６
を形成する。色変換蛍光体層５の形成では、赤色変換蛍
光体層５Ｒが赤色着色層４Ｒ上に配設され、緑色変換蛍
光体層５Ｇが緑色着色層４Ｇ上に配設され、青色変換ダ
ミー層５Ｂが青色着色層４Ｂ上に配設されるようにす
る。色変換蛍光体層５を構成する赤色変換蛍光体層５Ｒ
と緑色変換蛍光体層５Ｇは、例えば、蛍光色素と樹脂と
を分散、または可溶化させた塗布液をスピンコート、ロ
ールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜
し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする
方法、上記の塗布液をスクリーン印刷法等でパターン印
刷する方法等により赤色変換蛍光体層５Ｒや緑色変換蛍
光体層５Ｇを形成することができる。また、青色変換ダ
ミー層５Ｂは、所望の感光性樹脂塗料をスピンコート、
ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜
し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングする
方法、所望の樹脂塗布液をスクリーン印刷法等でパター
ン印刷する方法等により形成することができる。

【００４４】このような色変換蛍光体層５の形成と同時
に、色変換蛍光体層５の帯状形成領域Ａの端部Ａ′外側
に、端部Ａ′から離間する方向（図４の矢印ａ方向）に
間隙ｐを設けて２個のダミー薄壁６を形成する。例え
ば、緑色変換蛍光体層５Ｇの形成と同時に、緑色変換蛍
光体層５Ｇの端部外側にダミー薄壁６Ｇを形成し、赤色
変換蛍光体層５Ｒの形成と同時に、赤色変換蛍光体層５
Ｒの端部外側にダミー薄壁６Ｒを形成し、青色変換ダミ
ー層５Ｂの形成と同時に、青色変換ダミー層５Ｂの端部
外側にダミー薄壁６Ｂを形成することができる。

【００４５】（３） 本発明の製造方法の次の工程で
は、色変換蛍光体層５とダミー薄壁６を覆うように透明
基材２上に透明保護層７を形成する。この透明保護層７
の形成は、上述の使用材料をスピンコート、ロールコー
ト、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化
型樹脂は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬
化型樹脂は成膜後そのまま硬化させる。このように色変
換蛍光体層５とダミー薄壁６を覆うように透明基材２上
に形成された透明保護層７は、構成材料がダミー薄壁６
と色変換蛍光体層５の端部との間隙、および、ダミー薄
壁６相互間の間隙に入り込み、その分、ダミー薄壁６が
配設された部位の透明保護層７の高さが色変換蛍光体層
５上の透明保護層７の表面よりも低いものとなる。した
がって、ダミー薄壁６が形成されている部位における透
明保護層７に生じる段差は小さいものとなる。

【００４６】（４） 本発明の製造方法の次の工程で
は、ダミー薄壁６が配設された部位にて透明基材２から
色変換蛍光体層５に乗り上げるように、透明保護層７上
に補助電極８と透明電極層９を形成する（上記の図５参
照）。補助電極８および透明電極層９は、上述の材料を
用いて真空蒸着法、スパッタリング法により薄膜を形成
し、これをフォトリソグラフィー法を用いたパターンエ
ッチングで所望の形状とすることができる。上述のよう
にダミー薄壁６によって透明保護層７の段差が小さいも
のとなっているので、補助電極８や透明電極層９の形成
時の成膜不良（段差部分での材料付着不良）、および、
パターンエッチング時の応力等による断線の発生を防止
することができる。したがって、信頼性が高く、高品質
の画像表示が可能な有機ＥＬ画像表示装置を良好な製造
歩留りで製造することができる。

【００４７】（５） 本発明の製造方法の次の工程で
は、まず、帯状の透明電極層９と直角に交差し、ブラッ
クマトリックス３の遮光部上に位置するようにストライ
プ状の絶縁層１３を形成し、この絶縁層１３上に障壁部
１５を形成する。そして、透明電極層９と交差するよう
に青色有機ＥＬ素子層１０を帯状に形成し、この青色有
機ＥＬ素子層１０上に背面電極層１１を形成する。上記
の絶縁層１３は、上述の絶縁材料を用いて真空蒸着法、
スパッタリング法等により薄膜を形成し、これをフォト
リソグラフィー法を用いたパターンエッチングで所望の
形状とすることができる。

【００４８】また、障壁部１５は、青色有機ＥＬ素子層
１０と背面電極層１１とを帯状に形成するための隔壁パ
ターンであり、上述の感光性樹脂材料をスピンコート、
ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜
し、これをフォトリソグラフィー法でパターニングして
形成することができる。このように形成された障壁部１
５は、ブラックマトリックス３の遮光部上に位置する。
したがって、ブラックマトリックス３の開口部３ａに位
置している透明電極層９は、障壁部１５が形成されずに
露出しているものとなる。

【００４９】また、青色有機ＥＬ素子層１０の形成は、
上述した発光層材料を用いて真空蒸着法、インクジェッ
ト等の印刷法等により成膜して形成することができる。
この方法では、画像表示領域に相当する開口部を備えた
フォトマスク（周辺部の補助電極８や透明電極層９から
なる電極端子への成膜を防止するためのマスク）を介し
て成膜することによって、隔壁部１５がマスクパターン
となり、各隔壁部１５間のみを発光層材料が通過して透
明電極層９に到達することができる。これにより、フォ
トリソグラフィー法等のパターニングを行うことなく、
帯状の青色有機ＥＬ素子層１０を形成することができ
る。上記のような隔壁部１５を用いた青色有機ＥＬ素子
層１０の形成では、図１および図２に示されるように、
複数配列している障壁部１５のうち、最も周辺部に位置
している隔壁部１５の上部平面に、上記の画像表示領域
の端部が位置しており、幅方向の約半分（画像表示領域
側）のみにダミーの有機ＥＬ素子層１０′が形成されて
いる。

【００５０】また、青色有機ＥＬ素子層１０が発光層単
独からなる構造ではなく、発光層の透明電極層９側に正
孔注入層を備えた構造、発光層の背面電極層１１側に電
子注入層を備えた構造、発光層の透明電極層９側に正孔
注入層を備え背面電極層１１側に電子注入層を備えた構
造とする場合、それぞれ上述の正孔注入層材料、電子注
入層材料を用いて真空蒸着法、インクジェット等の印刷
法等により成膜することにより、上記の発光層と同様
に、帯状パターンを形成することができる。また、背面
電極層１１は、上述した電極材料を用いて真空蒸着法、
スパッタリング法等により成膜して形成することができ
る。ここでも、隔壁部１５がマスクパターンとなり、各
隔壁部１５間のみを電極材料が通過して青色有機ＥＬ素
子層１０上に到達することができる。そして、フォトリ
ソグラフィー法等のパターニングを行う必要がないの
で、青色有機ＥＬ素子層１０の特性を劣化させることが
ない。

【００５１】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 ［実施例］

【００５２】ブラックマトリックスの形成 透明基材として、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ、厚み０．７
ｍｍのソーダガラス（旭硝子（株）製 ＳｉＯ₂付ソー
ダガラス）を準備した。この透明基材を定法にしたがっ
て洗浄した後、透明基材の片側全面にスパッタリング法
によりクロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、この
クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、
現像、クロム薄膜のエッチングを行って、７０μｍ×２
７０μｍの長方形状の開口部を１００μｍピッチでマト
リックス状に備えたブラックマトリックスを形成した。

【００５３】カラーフィルタ層の形成 次に、下記組成の３種の着色層用感光性塗料を用いて各
色の着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリック
スが形成された上記の透明基材全面に、緑色着色層用の
感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク
（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の着色層
用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液
（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、
ポストベーク（２００℃、６０分間）を行って、ブラッ
クマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅
８０μｍ）の緑色着色層（厚み２．０μｍ）を形成し
た。

【００５４】同様に、赤色着色層の感光性塗料を用い
て、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置
に帯状（幅８０μｍ）の赤色着色層（厚み２．０μｍ）
を形成した。さらに、青色着色層の感光性塗料を用い
て、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置
に帯状（幅８０μｍ）の青色着色層（厚み２．０μｍ）
を形成した。 （赤色着色層感光性塗料） ・ジアントラキノニルレッド（Ｒｅｄ−１７７） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５５】 （緑色着色層感光性塗料） ・フタロシアニングリーン（Ｇｒｅｅｎ−７） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５６】 （青色着色層感光性塗料） ・フタロシアニンブルー（α）（Ｂｌｕｅ−１５：１） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５７】色変換蛍光体層とダミー薄壁の形成 次に、下記組成の感光性の青色変換ダミー層用塗布液、
緑色変換蛍光体層用塗布液、および、赤色変換蛍光体層
用塗布液を調製した。そして、カラーフィルタ層が形成
された上記の透明基材全面に、青色変換ダミー層用塗布
液をスピンコート法により塗布し、プリベーク（１００
℃、５分間）を行った。その後、所定の色変換蛍光体層
用フォトマスクを用いて露光した。この色変換蛍光体層
用フォトマスクは、色変換蛍光体層用の帯状開口部（幅
８０μｍ）とともに、色変換蛍光体層の帯状形成領域の
端部外側にダミー薄壁用の開口部（８０μｍ×１００μ
ｍの長方形開口）を間隙１００μｍで２個備えたものと
した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて
現像を行い、ポストベーク（２００℃、６０分間）を行
った。これにより、青色着色層上に帯状（幅８０μｍ）
の青色変換ダミー層（厚み１５μｍ）を形成し、同時
に、この青色変換ダミー層の形成領域の端部外側に、高
さｈが１５μｍ、厚みｔが１０μｍ、長さＬが８０μｍ
であるダミー薄壁を間隙１００μｍで２個形成した。

【００５８】次いで、緑色変換蛍光体層用塗布液をスピ
ンコート法により塗布し、プリベーク（１００℃、５分
間）を行った。上記の色変換蛍光体層用フォトマスクを
用いて露光し、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて
現像を行い、ポストベーク（２００℃、６０分間）を行
った。これにより、緑色着色層上に帯状（幅８０μｍ）
の緑色変換蛍光体層（厚み１５μｍ）を形成し、同時
に、この緑色変換蛍光体層の形成領域の端部外側に、高
さｈが１５μｍ、厚みｔが１０μｍ、長さＬが８０μｍ
であるダミー薄壁を間隙１００μｍで２個形成した。同
様に、赤色変換蛍光体層用塗布液を用いて、赤色着色層
上に帯状（幅８０μｍ）の赤色変換蛍光体層（厚み１５
μｍ）を形成し、同時に、この赤色変換蛍光体層の形成
領域の端部外側に、高さｈが１５μｍ、厚みｔが１０μ
ｍ、長さＬが８０μｍであるダミー薄壁を間隙１００μ
ｍで２個形成した。

【００５９】以上により、青色変換ダミー層、緑色変換
蛍光体層、赤色変換蛍光体層からなる色変換蛍光体層
と、ダミー薄壁を形成した。 （青色変換ダミー層用塗布液） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … １９重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６０】 （緑色変換蛍光体層用塗布液） ・ベーシックイエロー５１ … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … １８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６１】 （赤色変換蛍光体層用塗布液） ・ローダミンＢ … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … １８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６２】透明保護層の形成 次いで、下記組成の透明保護層用塗布液を使用し、スピ
ンコート法により透明基材上に塗布した後、ベーク（２
００℃、６０分間）を行った。これにより、上記の色変
換蛍光体層とダミー薄壁を覆うように透明保護層（厚み
１０μｍ）を形成した。次に、上記の透明保護層上にス
パッタリング法により酸化珪素膜（厚み０．２μｍ）を
形成した。 （透明保護層用塗布液） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … １８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … ２重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６３】補助電極の形成 次に、上記の透明保護層上の全面にスパッタリング法に
よりアルミニウム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、こ
のアルミニウム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マス
ク露光、現像、アルミニウム薄膜のエッチングを行っ
て、補助電極を形成した。この補助電極は、上記のダミ
ー薄壁が存在する箇所において、透明基材上から色変換
蛍光体層上に乗り上げるようなストライプ状のパターン
であり、色変換蛍光体層上では幅１５μｍでブラックマ
トリックスの遮光部上に位置し、透明基材周縁部の端子
部では幅が８０μｍのものとした。

【００６４】透明電極層の形成 次いで、上記の補助電極を覆うように透明保護層上にス
パッタリング法により膜厚２００ｎｍの酸化インジウム
スズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に
感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電
極膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。こ
の透明電極層は、上記のダミー薄壁が存在する箇所にお
いて、透明基材上から色変換蛍光体層上に乗り上げるよ
うな幅８０μｍの帯状パターンであり、色変換蛍光体層
上ではカラーフィルタ層の各着色層上に位置するととも
に、上記の補助電極に重なるものであった。上述の補助
電極および透明電極層の形成では、色変換蛍光体層の端
部位置に存在する透明保護層に生じる段差がダミー薄壁
によって緩和されているため、透明保護層上への補助電
極や透明電極層の形成時の成膜不良、および、パターン
エッチング時の応力等による断線は発生しなかった。

【００６５】絶縁層と隔壁部の形成 次いで、上記の透明電極層を覆うように下記組成の絶縁
層用塗料をスピンコート法により全面に塗布し、プリベ
ーク（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の絶
縁層用フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５
％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベー
ク（２００℃、６０分間）を行って、透明保護層上に絶
縁層（厚み２μｍ）を形成した。この絶縁層は、ブラッ
クマトリックスと同一のパターンであり、ブラックマト
リックスの遮光部上に位置するものとした。 （絶縁層用塗料） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ９重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６６】次に、下記組成の隔壁部用塗料をスピンコ
ート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベ
ーク（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の隔
壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５
％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベー
ク（２００℃、６０分間）を行って、絶縁層上に隔壁部
を形成した。この隔壁部は、高さ５μｍ、下部（絶縁層
側）の幅１５μｍ、上部の幅２０μｍである形状を有す
るものであった。 （隔壁部用塗料） ・カーボンブラック … ０．１重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 …１７．９重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … ２重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６７】青色有機ＥＬ素子層の形成 次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法によ
り正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機Ｅ
Ｌ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″
−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニル
アミノ］トリフェニルアミンを２００ｎｍ厚まで蒸着し
て成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチ
ル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚ま
で蒸着して成膜することにより正孔注入層とした。次い
で、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフ
ェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光
層とした。その後、トリス（８−キノリノール）アルミ
ニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電
子注入層とした。このようにして形成された青色有機Ｅ
Ｌ素子層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁
部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様
の層構成でダミーの青色有機ＥＬ素子層が形成された。

【００６８】背面電極層の形成 次に、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により
マグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速
度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎ
ｍ／秒）して、マグネシウム／銀混合物からなる背面電
極層（厚み２００ｎｍ）を形成した。このようにして形
成された背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンと
して青色有機ＥＬ素子層上に存在するものであり、隔壁
部の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。

【００６９】以上により、有機ＥＬ画像表示装置を得
た。この有機ＥＬ画像表示装置の透明電極層と背面電極
層に直流５．０Ｖの電圧を印加することにより、透明電
極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機Ｅ
Ｌ素子層を発光させた。そして、色変換蛍光体層で色変
換、あるいは、そのまま透過し、カラーフィルタ層で色
補正された後、透明基材の反対面側で観測される各色の
発光について、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ ８７０
１）を測定した。その結果、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．
６４、ｙ＝０．３３の赤色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝
０．３０、ｙ＝０．６０の緑色発光、ＣＩＥ色度座標で
ｘ＝０．１５、ｙ＝０．０６の青色発光が確認され、三
原色画像表示が可能であった。

【００７０】［比較例］色変換蛍光体層の形成時にダミ
ー薄壁を形成しない他は、実施例と同様にして、透明電
極層の形成まで行った。しかし、色変換蛍光体層の端部
位置に存在する透明保護層の段差部位で、補助電極や透
明電極層の形成時の成膜不良、および、パターンエッチ
ング時の応力等による断線が生じ、この断線発生率は２
０４／５５２０であった。その後、実施例と同様にして
青色有機ＥＬ素子層、背面電極層を形成して、有機ＥＬ
画像表示装置を得た。この有機ＥＬ画像表示装置に実施
例と同様に電圧を印加して画像表示品質を観察したが、
上記の断線発生による発光不良が見られ、良好な三原色
画像表示は得られなかった。

【００７１】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればダ
ミー薄壁と色変換蛍光体層端部との間に間隙が存在し、
さらに、ダミー薄壁が２個以上配設されている場合には
ダミー薄壁相互間に間隙が存在するので、透明保護層の
構成材料が上記の間隙に入り込むこととなり、ダミー薄
壁と色変換蛍光体層とを覆うように形成されている透明
保護層は、ダミー薄壁が配設された部位の高さが色変換
蛍光体層上の透明保護層の表面よりも低いものとなり、
これによって、色変換蛍光体層端部における透明保護層
の段差が緩和され、この透明保護層上に形成される帯状
の透明電極層は、その形成時の成膜不良やエッチング処
理時の応力等による断線の発生が防止され、これによ
り、信頼性が高く、高品質の画像表示が可能な有機エレ
クトロルミネッセント画像表示装置を良好な製造歩留り
で製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置の一実施形態を示す部分平面図である。

【図２】図１に示される有機エレクトロルミネッセント
画像表示装置のII−II線における縦断面図である。

【図３】図１に示される有機エレクトロルミネッセント
画像表示装置のIII−III線における縦断面図である。

【図４】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置におけるダミー薄壁と色変換蛍光体層との位置関
係を示す部分平面図である。

【図５】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置におけるダミー薄壁と透明電極層との位置関係を
示す部分平面図である。

【図６】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置の製造方法を説明する図であり、ブラックマトリ
ックスとカラーフィルタ層との位置関係を示す部分平面
図である。

【符号の説明】

１…有機エレクトロルミネッセント画像表示装置 ２…透明基材 ３…ブラックマトリックス ４…カラーフィルタ層 ４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…着色層 ５…色変換蛍光体層 ５Ｒ…赤色変換蛍光体層 ５Ｇ…緑色変換蛍光体層 ５Ｂ…青色変換ダミー層 ６（６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ）…ダミー薄壁 ７…透明保護層 ８…補助電極 ９…透明電極層 １０…有機エレクトロルミネッセンス素子層 １１…背面電極層 １３…絶縁層 １５…隔壁部 Ａ…色変換蛍光体層の形成領域 Ａ′…色変換蛍光体層形成領域の端部

フロントページの続き (72)発明者 新井 浩次 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB08 AB11 AB18 BB06 DB03 FA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材と、該透明基材上に順次設けら
   れたカラーフィルタ層、色変換蛍光体層、透明保護層、
   透明電極層、有機エレクトロルミネッセンス素子層、お
   よび、背面電極層とを少なくとも備え、前記色変換蛍光
   体層の端部外側に該端部から離間する方向で所定の間隙
   を設けて１個以上のダミー薄壁が配設され、前記透明保
   護層は前記色変換蛍光体層および前記ダミー薄壁を覆う
   ように前記透明基材上に設けられ、前記透明電極層は前
   記ダミー薄壁が配設された部位において前記透明基材か
   ら前記色変換蛍光体層に乗り上げるように帯状に前記透
   明保護層上に配設されていることを特徴とする有機エレ
   クトロルミネッセント画像表示装置。
2. 【請求項２】 前記ダミー薄壁は前記色変換蛍光体層と
   同じ材質からなり、前記間隙は２０〜２００μｍの範囲
   内、前記ダミー薄壁の長さは２０〜２００μｍの範囲
   内、前記ダミー薄壁の高さは１．５〜１５μｍの範囲
   内、前記ダミー薄壁の厚みは１．５〜１２μｍの範囲内
   であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクト
   ロルミネッセント画像表示装置。
3. 【請求項３】 前記透明基材と前記カラーフィルタとの
   間に、所定の開口パターンを有するブラックマトリック
   スを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に
   記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
4. 【請求項４】 前記有機エレクトロルミネッセンス素子
   層は青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑
   色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色
   蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていること
   を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の
   有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
5. 【請求項５】 透明基材上に複数色の着色層を色毎に帯
   状に形成してカラーフィルタ層を設ける工程、 前記カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を帯状に形成
   すると同時に、色変換蛍光体層の帯状形成領域の端部外
   側に該端部から離間する方向で所定の間隙を設けて１個
   以上のダミー薄壁を形成する工程、 前記色変換蛍光体層と前記ダミー薄壁を覆うように前記
   透明基材上に透明保護層を形成する工程、 前記ダミー薄壁が配設された部位にて前記透明基材から
   前記色変換蛍光体層に乗り上げるように帯状に透明電極
   層を形成する工程、 該透明電極層と交差するように有機エレクトロルミネッ
   センス素子層を帯状に形成し、該有機エレクトロルミネ
   ッセンス素子層上に背面電極層を形成する工程、とを有
   することを特徴とする有機エレクトロルミネッセント画
   像表示装置の製造方法。