JP2003243476A - Unmanned conveying cart - Google Patents

Unmanned conveying cart

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JP2003243476A
JP2003243476A JP2002038345A JP2002038345A JP2003243476A JP 2003243476 A JP2003243476 A JP 2003243476A JP 2002038345 A JP2002038345 A JP 2002038345A JP 2002038345 A JP2002038345 A JP 2002038345A JP 2003243476 A JP2003243476 A JP 2003243476A
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JP
Japan
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holding
wafer
suction
transfer
negative pressure
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Pending
Application number
JP2002038345A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuji Akiyama
収司 秋山
Isao Fukuda
功 福田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Machinery Ltd
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Murata Machinery Ltd
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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  • Platform Screen Doors And Railroad Systems (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To release the suction and holding of a wafer by a transfer means in an emergency of a power failure or the like, in an unmanned conveying cart which comprises the transfer means for transferring a wafer, and a sucking and holding means for sucking and holding the wafer at a support part of the transfer means, the sucking and holding means comprising a suction hole formed in the support part of the transfer means, a negative pressure producing means for producing negative pressure, and a holding valve disposed between the suction hole and the negative pressure producing means. <P>SOLUTION: A releasing means for releasing the suction and holding of a wafer is provided in a sucking and holding means. Specifically, a negative pressure producing device 6 as a negative pressure producing means is constituted by an air compressor 61 and vacuum ejectors 65U, 65L, and the releasing means is constituted by open valves 68U, 68L provided between holding valves 67U, 67L and suction holes of transfer hands 31U, 31L. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハを移載する
移載手段と、該移載手段の支持部でウエハを吸引保持す
る吸引保持手段とを備えた無人搬送車に関し、詳しく
は、停電等の緊急時に、ウエハの吸引・保持を解除する
技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automated guided vehicle provided with a transfer means for transferring a wafer and a suction holding means for holding a wafer by a supporting portion of the transfer means, and more specifically, to a power failure. The present invention relates to a technique of releasing suction / holding of a wafer in an emergency such as.

【0002】[0002]

【従来の技術】塵挨の発生が問題となる半導体製造工場
では、半導体ウエハを搬送するために、ウエハを移載す
る移載手段と、ウエハを一時収納するバッファカセット
と、ウエハの姿勢・方向を揃える姿勢合わせ装置とを搭
載した無人搬送車を自動走行させる技術が検討されてい
る。この搬送車への給電の多くは、非接触給電方式が採
用され、該搬送車は、ウエハを、バッファカセット内に
収納して、所定の処理装置まで搬送し、移載手段により
該バッファカセットからウエハを1枚ずつ取り出して、
姿勢合わせ装置にセットし、所定の姿勢・方向に向けた
上で、該処理装置へ移載する。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing factory where dust generation is a problem, transfer means for transferring a semiconductor wafer, a buffer cassette for temporarily storing the wafer, and a posture / direction of the wafer are used for transferring the semiconductor wafer. A technique for automatically driving an automated guided vehicle equipped with an attitude adjusting device for aligning the vehicle is being studied. Most of the power supply to the transfer vehicle is a non-contact power supply method. The transfer vehicle stores wafers in a buffer cassette, transfers the wafers to a predetermined processing apparatus, and transfers the wafers from the buffer cassette by a transfer unit. Take out the wafers one by one,
The device is set on the posture adjusting device, and after being oriented in a predetermined posture / direction, it is transferred to the processing device.

【0003】ウエハを移載する際に、移載手段の支持部
でウエハをすくい上げて、単に該支持部に載せただけで
は、移載手段を屈伸させるときの遠心力などによって落
とす恐れがあり、そこで、吸引保持手段を作動させて、
ウエハを移載手段の支持部に吸引・保持することが検討
されている。この吸引保持手段は、移載手段の支持部に
形成した吸引孔と、エアコンプレッサと供給バルブと真
空エジェクタとから成る負圧発生手段と、該吸引孔と該
負圧発生手段との間に設けた保持バルブとで構成され、
以下、この吸引保持手段について説明する。
When the wafer is transferred, if the wafer is picked up by the supporting portion of the transferring means and simply placed on the supporting portion, the wafer may be dropped due to a centrifugal force when the transferring means is bent and stretched. Therefore, by operating the suction holding means,
It has been considered to suck and hold the wafer on the supporting portion of the transfer means. The suction holding means is provided between the suction hole formed in the supporting portion of the transfer means, the negative pressure generating means including an air compressor, the supply valve, and the vacuum ejector, and the suction hole and the negative pressure generating means. Holding valve and
The suction holding means will be described below.

【0004】真空エジェクタは高圧口と低圧口とから成
る2つの入口と、1つの出口とを有する構造で、該高圧
口にはエアコンプレッサからの配管が供給バルブを介し
て接続され、該低圧口に移載手段の吸引孔からの配管が
保持バルブを介して接続されている。この供給バルブ、
及び保持バルブは電磁バルブで構成され、電気的に開閉
が行われる。また、各真空エジェクタの出口からは吐出
口へ向けて配管され、エアが外部へ排気される構成とし
ている。
The vacuum ejector has a structure having two inlets consisting of a high pressure port and a low pressure port and one outlet, and a pipe from an air compressor is connected to the high pressure port via a supply valve. The pipe from the suction hole of the transfer means is connected to the via a holding valve. This supply valve,
The holding valve is composed of an electromagnetic valve and is electrically opened and closed. In addition, the air is exhausted to the outside by piping from the outlet of each vacuum ejector toward the discharge port.

【0005】このような構成で、前記供給バルブ、及び
前記保持バルブが開状態で、エアタンクからの高速エア
が真空エジェクタの一方の入口の高圧口から供給され
て、その出口から排出されると、該高速エアに誘引され
て、もう一方の入口である低圧口からもエアが吸引され
る。そして、この低圧口から吸引されたエアと高圧口に
供給された高速エアは、ともに出口から吐出口を経て外
部へ排気される。
With such a structure, when the supply valve and the holding valve are open, high-speed air from the air tank is supplied from the high pressure port at one inlet of the vacuum ejector and discharged from the outlet. The high-speed air is attracted, and the air is also sucked from the low pressure port which is the other inlet. The air sucked from the low pressure port and the high speed air supplied to the high pressure port are both discharged from the outlet to the outside through the discharge port.

【0006】この結果、移載手段の支持部の吸引孔から
エアが吸引されて、該支持部上のウエハが吸引される。
この移載手段の支持部の吸引孔は、該支持部上のウエハ
によって密閉されており、該吸引孔から真空エジェクタ
までの配管が、所定圧以下に減圧されると、前記保持バ
ルブが閉じられ、該保持バルブから該吸引孔までの配管
が負圧に維持されて、該移載手段の支持部にウエハが保
持される。
As a result, air is sucked from the suction holes of the supporting portion of the transfer means, and the wafer on the supporting portion is sucked.
The suction hole of the support portion of the transfer means is sealed by the wafer on the support portion, and when the pipe from the suction hole to the vacuum ejector is depressurized to a predetermined pressure or less, the holding valve is closed. The negative pressure is maintained in the pipe from the holding valve to the suction hole, and the wafer is held by the supporting portion of the transfer means.

【0007】また、この吸引・保持を解除するときに
は、前記供給バルブを閉じ、これにより真空エジェクタ
の高圧口へは高速エアが供給されなくなり、この上で、
前記保持バルブを開放する。この結果、外部と連通する
吐出口と、真空エジェクタと、移載手段の支持部の吸引
孔との間の配管が大気圧まで上昇して、ウエハの吸引・
保持が解除される。
Further, when releasing the suction / holding, the supply valve is closed so that high-speed air is not supplied to the high pressure port of the vacuum ejector.
Open the holding valve. As a result, the piping between the discharge port that communicates with the outside, the vacuum ejector, and the suction hole of the support portion of the transfer unit rises to atmospheric pressure, and suction / suction of the wafer is performed.
The hold is released.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、移載手段の
支持部でウエハを保持している状態で、給電装置が故障
するなどして搬送車への給電が停止すると、前記供給バ
ルブが閉じられるとともに、前記保持バルブは閉じられ
たままとなって、ウエハは移載手段上に吸引・保持され
たままとなる。このとき、該無人搬送車と処理装置との
給電系統が異なって、該処理装置の方は正常に動いてい
ることもあり、この場合は、移載手段上のウエハを手作
業ででも、処理装置へ渡したいものである。しかしなが
ら、この移載手段上に吸引・保持されたウエハは容易に
は取り外すことができず、無理に取り外すとなると、ウ
エハを破損し兼ねない。このため、搬送車への給電が復
旧するまで、徒に待つより仕方がなく、作業性、及びメ
ンテナンス性がよくないという問題があった。
By the way, in the state where the wafer is held by the supporting portion of the transfer means, if the power supply to the carrier is stopped due to a failure of the power supply device, the supply valve is closed. At the same time, the holding valve remains closed, and the wafer remains sucked and held on the transfer means. At this time, the power supply system of the automated guided vehicle and the processing apparatus may be different, and the processing apparatus may be operating normally. In this case, the wafer on the transfer means may be processed manually. I want to give it to the device. However, the wafer sucked and held on the transfer means cannot be easily removed, and if it is forcibly removed, the wafer may be damaged. For this reason, there is a problem that the workability and the maintainability are not good because there is no choice but to wait until the power supply to the carrier is restored, and the workability and the maintainability are poor.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の解決しようとす
る課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するた
めの手段を説明する。まず、請求項1に記載のように、
ウエハを移載する移載手段と、該移載手段の支持部でウ
エハを吸引保持する吸引保持手段とを備え、該吸引保持
手段は、該移載手段の支持部に形成した吸引孔と、負圧
を発生させる負圧発生手段と、該吸引孔と該負圧発生手
段との間に設けた保持バルブとを備えた無人搬送車にお
いて、前記吸引保持手段にウエハの吸引保持を解除する
保持解除手段を設ける。
The problem to be solved by the present invention is as described above, and the means for solving this problem will be described below. First, as described in claim 1,
A transfer means for transferring the wafer; and a suction holding means for sucking and holding the wafer by a support portion of the transfer means, wherein the suction holding means includes a suction hole formed in the support portion of the transfer means. In an automatic guided vehicle having negative pressure generating means for generating a negative pressure and a holding valve provided between the suction hole and the negative pressure generating means, a holding means for releasing the suction holding of the wafer by the suction holding means. A release means is provided.

【0010】また、請求項2に記載のように、ウエハを
移載する複数の移載手段と、各移載手段毎にその支持部
にウエハを吸引保持する吸引保持手段とを備え、該吸引
保持手段は、各移載手段毎にその支持部に形成した吸引
孔と、負圧を発生させる負圧発生手段と、各移載手段毎
にその吸引孔と該負圧発生手段との間に設けた保持バル
ブとで構成される無人搬送車において、前記吸引保持手
段に、各移載手段毎に独立にウエハの吸引保持を解除す
る保持解除手段を設ける。
Further, as described in claim 2, a plurality of transfer means for transferring the wafer and suction holding means for sucking and holding the wafer on the supporting portion of each transfer means are provided, and the suction means is provided. The holding means includes a suction hole formed in the support portion for each transfer means, a negative pressure generation means for generating a negative pressure, and a suction hole for each transfer means and the negative pressure generation means. In the automatic guided vehicle constituted by the provided holding valve, the suction holding means is provided with holding releasing means for independently releasing the suction holding of the wafer for each transfer means.

【0011】そして、請求項3に記載のように、前記負
圧発生手段を、エアコンプレッサと真空エジェクタとで
構成し、前記保持解除手段を、前記保持バルブと前記移
載手段の支持部の吸引孔との間に設けた、開放バルブで
構成する。
According to a third aspect of the present invention, the negative pressure generating means is composed of an air compressor and a vacuum ejector, and the holding releasing means is a suction portion of the holding valve and the supporting portion of the transfer means. It is composed of an open valve provided between the hole and the hole.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】これより、本発明の実施の一形態
を、図面を参照しながら説明する。図1は無人搬送車1
の側面図、図2は枚葉移載装置3の平面図、図3は負圧
発生装置6の配管構成を示す回路図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will now be described with reference to the drawings. Figure 1 shows an automated guided vehicle 1.
Is a side view, FIG. 2 is a plan view of the single wafer transfer device 3, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a piping configuration of the negative pressure generation device 6.

【0013】まず、無人搬送車1の全体構成について説
明する。図1に示す無人搬送車1は、走行レール20・
20上を自動走行する有軌道台車であり、車体本体2が
走行輪9・9・9・9により支持されている。本構成の
搬送車1は、スリップを減らす為に全ての走行輪9・9
・9・9に駆動を伝えるように4輪駆動で構成されてお
り、各走行輪9・9・9・9にはそれぞれ駆動モータが
取り付けられているが、全ての走行輪9・9・9・9に
駆動を伝達する機構は、これに限定することなく、他の
機構でもよい。また、駆動輪は車体前後にそれぞれ設け
られていれば、4輪に限らず、その数は限定しない。
First, the overall structure of the automated guided vehicle 1 will be described. The automated guided vehicle 1 shown in FIG.
20 is a track guided vehicle that automatically travels on the vehicle 20, and the vehicle body 2 is supported by traveling wheels 9.9.9. The transport vehicle 1 of this configuration has all the traveling wheels 9 and 9 in order to reduce slip.
-It is configured by four-wheel drive so as to transmit the drive to 9/9, and a drive motor is attached to each traveling wheel 9/9/9/9, but all traveling wheels 9/9/9 The mechanism for transmitting drive to 9 is not limited to this, and may be another mechanism. The number of drive wheels is not limited to four as long as they are provided in the front and rear of the vehicle body, respectively.

【0014】一方の走行レール20には給電線ホルダが
凸設され、該給電線ホルダの上端に、給電線が保持され
ている。該給電線には、電力供給盤から高周波の電流が
流されており、これにより該給電線周りには磁界が発生
して、搬送車1に固定された受電ユニット25で、該磁
界により発生する誘導起電流を取り出している。そし
て、取り出した電流を増幅し、所定の電圧に変換した
後、整流・平滑して、搬送車1の制御機器や走行輪9・
9・9・9の駆動モータ等へ給電が行われている。ま
た、この走行レール20・20に沿って、処理装置や自
動倉庫等が配置されている。
A feed line holder is provided on one of the traveling rails 20, and the feed line is held at the upper end of the feed line holder. A high-frequency current is applied to the power supply line from a power supply board, which causes a magnetic field to be generated around the power supply line, and the power receiving unit 25 fixed to the carrier 1 generates the magnetic field. Taking out induced electromotive force. Then, the extracted current is amplified, converted into a predetermined voltage, rectified and smoothed, and the control device of the transport vehicle 1 and the traveling wheels 9
Power is being supplied to the drive motor, etc. Further, processing devices, automatic warehouses, and the like are arranged along the traveling rails 20.

【0015】搬送車1の車体本体2には、その中央にウ
エハ10を一枚ずつ移載する枚葉移載装置3が配設さ
れ、その前後に、ウエハ10の姿勢・方向及び中心位置
を揃える姿勢合わせ装置4と、ウエハ10が収納された
バッファカセット50を支持する支持台5とが配設され
ている。このバッファカセット50内には上下に多数段
の棚が設けられ、各棚にウエハ10・10・・・が水平
に収納されるようになっている。
A wafer transfer device 3 for transferring the wafers 10 one by one is arranged in the center of the body 2 of the carrier vehicle 1, and the posture, direction and center position of the wafer 10 are arranged before and after the transfer device 3. An attitude aligning device 4 for aligning and a support base 5 for supporting a buffer cassette 50 accommodating the wafer 10 are provided. A large number of shelves are provided vertically in the buffer cassette 50, and the wafers 10, 10, ... Are horizontally accommodated in each shelf.

【0016】また、枚葉移載装置3と対向する、バッフ
ァカセット50の開口部には、ウエハ10・10・・・
の端縁を押圧する押圧部材としてのストッパロッド55
が立設されている。該ストッパロッド55は、該バッフ
ァカセット50の開口部の一側端位置と、左右中央位置
との間で移動可能に構成され、搬送車1を走行させる際
には、エアシリンダを作動させて、該ストッパロッド5
5をバッファカセット50の開口部の左右中央位置まで
移動させ、該バッファカセット50内に収納されたウエ
ハ10・10・・・の端縁に接触させて、走行中の加減
速による該ウエハ10・10・・・の飛出しを防止して
いる。一方、ウエハ10・10を移載する際には、該ス
トッパロッド55をバッファカセット50の一側端位置
へ退避させ、ウエハ10・10・・・の出し入れの障害
とならないようにしておく。
At the opening of the buffer cassette 50 facing the single wafer transfer device 3, the wafers 10, 10 ...
Rod 55 as a pressing member for pressing the edge of the
Is erected. The stopper rod 55 is configured to be movable between one side end position of the opening portion of the buffer cassette 50 and the left and right center position, and when the transport vehicle 1 travels, an air cylinder is operated, The stopper rod 5
5 is moved to the left and right center position of the opening of the buffer cassette 50 and brought into contact with the edges of the wafers 10, 10 ... Stored in the buffer cassette 50 to accelerate or decelerate the wafer 10. 10 is prevented from popping out. On the other hand, when the wafers 10 are transferred, the stopper rod 55 is retracted to one end position of the buffer cassette 50 so as not to obstruct the loading and unloading of the wafers 10.

【0017】次に、前記枚葉移載装置3について説明す
る。図1及び図2に示すように、前記枚葉移載装置3
は、移載手段としての移載アーム30U・30Lと、基
台38と、ターンテーブル39等から成り、基台38は
車体本体2中央に埋設され、該基台38上にターンテー
ブル39が枢設され、該ターンテーブル39上に一対の
移載アーム30U・30Lが取り付けられている。
Next, the single wafer transfer device 3 will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the single wafer transfer device 3
Is composed of transfer arms 30U and 30L as transfer means, a base 38, a turntable 39, and the like. The base 38 is embedded in the center of the vehicle body 2, and the turntable 39 is pivotally mounted on the base 38. A pair of transfer arms 30U and 30L are mounted on the turntable 39.

【0018】基台38は昇降可能に構成され、また、前
記ターンテーブル39は該基台38に対して相対回転可
能に構成されている。移載アーム30U(30L)は、
移載ハンド31U(31L)と、第1アーム32U(3
2L)と、第2アーム33U(33L)とでリンク機構
が組まれたスカラーアーム式のロボットハンドである。
そして、サーボモータ等から成るアクチュエータによ
り、第一アーム32U(32L)がθ角度回転すると、
第二アーム33U(33L)が第一アーム32U(32
L)の回転と逆方向に2θ角度回転し、さらに移載ハン
ド31U(31L)が第一アーム32U(32L)の回
転と同方向にθ角度回転するように構成されている。こ
のため、移載ハンド31U(31L)は、見かけ上直線
運動するようになっている。
The base 38 is configured to be movable up and down, and the turntable 39 is configured to be rotatable relative to the base 38. The transfer arm 30U (30L) is
The transfer hand 31U (31L) and the first arm 32U (3
2L) and the second arm 33U (33L) is a scalar arm type robot hand in which a link mechanism is assembled.
Then, when the first arm 32U (32L) rotates by an angle of θ by an actuator composed of a servo motor or the like,
The second arm 33U (33L) is replaced by the first arm 32U (32
The rotation of the transfer hand 31U (31L) is performed in the opposite direction to the rotation of L), and the transfer hand 31U (31L) is also rotated in the same direction as the rotation of the first arm 32U (32L) by the θ angle. Therefore, the transfer hand 31U (31L) apparently moves linearly.

【0019】移載ハンド31U(31L)は、平面視、
略「凹」字の板状に形成された、ウエハ10を支持する
部材であり、その二股に分かれた先端部には、吸引孔3
4・34が設けられ、後述する負圧発生装置6によって
吸引が行われる。移載の際には、ウエハ10は、移載ハ
ンド31U(31L)によってすくい上げられるととも
に、吸引孔34・34で吸引され、落ちないように保持
されながら、移載アーム30U(30L)の伸縮、基台
38の昇降およびターンテーブル23の回転によって移
載される。そして、ウエハ10を所定箇所に載置する際
には、吸引孔34・34での吸引が解除される。
The transfer hand 31U (31L) has a plan view,
A member that supports the wafer 10 and is formed in a substantially "concave" plate shape.
4 and 34 are provided, and suction is performed by the negative pressure generating device 6 described later. At the time of transfer, the wafer 10 is picked up by the transfer hand 31U (31L), is sucked by the suction holes 34, 34, and is held so as not to fall, while the transfer arm 30U (30L) is expanded or contracted. It is transferred by raising and lowering the base 38 and rotating the turntable 23. Then, when the wafer 10 is placed at a predetermined position, the suction in the suction holes 34 is released.

【0020】次に、前記姿勢合わせ装置4について説明
する。姿勢合わせ装置4は、ケーシング40、載置台4
1、リニアセンサ42・42、オプティカルキャラクタ
リーダ(以下「OCR」)43等から成り、該ケーシン
グ40は枚葉移載装置3側が開口して、その入口付近に
は2組のリニアセンサ42・42が配設され、それぞれ
天井側に投光器42a、床側に受光器42bを配設して
構成されている。この2組のリニアセンサ42・42
は、外側(ケーシング40の開口入口側)のリニアセン
サ42で12インチのウエハ10のオリフラ位置、又は
ノッチ位置等の切欠位置10aを検出し、内側(ケーシ
ング40の開口奥側)のリニアセンサ42で8インチの
ウエハ10のオリフラ位置、又はノッチ位置等の切欠位
置10aを検出するように構成されている。
Next, the posture adjusting device 4 will be described. The attitude adjusting device 4 includes a casing 40 and a mounting table 4.
1, a linear sensor 42, 42, an optical character reader (hereinafter referred to as "OCR") 43, etc., and the casing 40 has an opening on the single-wafer transfer device 3 side, and two sets of the linear sensor 42, 42 are provided near the entrance thereof. Are arranged, and a light projector 42a is arranged on the ceiling side and a light receiver 42b is arranged on the floor side. These two sets of linear sensors 42
Is a notch position 10a such as an orientation flat position or a notch position of the wafer 10 of 12 inches, which is detected by the linear sensor 42 on the outer side (opening inlet side of the casing 40), and the linear sensor 42 on the inner side (back side of the opening of the casing 40). Is configured to detect the orientation flat position of the 8-inch wafer 10 or the notch position 10a such as the notch position.

【0021】また、ケーシング40の開口の奥側にはO
CR43が埋設され、該ケーシング40内に、IDマー
ク11の付された面を下側にしてウエハ10をセットし
した場合、該IDマーク11を該OCR43で読み取る
ようにするために、ウエハ10の下側に位置させる。ま
た、IDマーク11の付された面を上側にしてウエハ1
0をセットした場合は、OCR43はウエハ10の上側
に位置するようにする。そして、ウエハ10の両側にI
Dマークが付されている場合には、ケーシング40の奥
側に、上下一対のOCR43・43を配置する構成とす
ることが好ましい。
On the inner side of the opening of the casing 40, O
In the case where the CR 43 is embedded and the wafer 10 is set in the casing 40 with the surface having the ID mark 11 facing downward, the wafer 10 is set so that the ID mark 11 can be read by the OCR 43. Position it on the lower side. In addition, the wafer 1 with the surface with the ID mark 11 facing upward
When 0 is set, the OCR 43 is located above the wafer 10. Then, on both sides of the wafer 10, I
When the D mark is attached, it is preferable to arrange a pair of upper and lower OCRs 43 on the inner side of the casing 40.

【0022】また、ケーシング40内には、ウエハ10
を載置する載置台41が設けられている。該載置台41
は円盤状の形状で、その回転中心には吸引孔が設けら
れ、該吸引孔から同心円状、並びに放射線状に複数の吸
着溝が設けられている。このような構成で、ウエハ10
を載置台41上に載置した状態で吸引孔から前記負圧発
生装置6で吸引することによってウエハ10を吸着・保
持し、載置台41を回転させたときに、ウエハ10が遠
心力で位置ズレしないようにしている。
In the casing 40, the wafer 10 is
A mounting table 41 for mounting the is installed. The mounting table 41
Has a disk shape, a suction hole is provided at the center of rotation thereof, and a plurality of suction grooves are provided concentrically and radially from the suction hole. With such a configuration, the wafer 10
The wafer 10 is attracted and held by sucking the negative pressure generating device 6 from the suction hole in a state where the wafer is placed on the mounting table 41, and when the mounting table 41 is rotated, the wafer 10 is positioned by the centrifugal force. I try not to slip.

【0023】次に、前記負圧発生装置6について説明す
る。負圧発生装置6はエアコンプレッサ61と、エアタ
ンク62と、供給バルブ63U・63L・64と、真空
エジェクタ65U・65L・66と、これらを結ぶ配管
などを備え、図1に示すように、該エアコンプレッサ6
1及びエアタンク62等から成る負圧発生装置6の本体
は、バッファカセット50下方の車体本体2内に載置収
納されている。図3に示すように、該エアタンク62の
下流側の配管を分岐させて、それぞれ供給バルブ63U
・63L・64を介して真空エジェクタ65U・65L
・66に接続し、該真空エジェクタ65Uからは移載ハ
ンド30Uの吸着孔34・34に向けて配管し、該真空
エジェクタ65Lからは移載ハンド30Lの吸着孔34
・34に向けて配管し、該真空エジェクタ66からは姿
勢合わせ装置4の載置台41上の吸引孔に向けて配管し
ている。
Next, the negative pressure generator 6 will be described. The negative pressure generator 6 includes an air compressor 61, an air tank 62, supply valves 63U, 63L, 64, vacuum ejectors 65U, 65L, 66, and pipes connecting them, and as shown in FIG. Compressor 6
The main body of the negative pressure generating device 6 including the air tank 1 and the air tank 62 is placed and stored in the vehicle body 2 below the buffer cassette 50. As shown in FIG. 3, the piping on the downstream side of the air tank 62 is branched so that the supply valve 63U
・ Vacuum ejector 65U ・ 65L via 63L ・ 64
66 is connected to the vacuum ejector 65U toward the suction holes 34 of the transfer hand 30U, and the vacuum ejector 65L is connected to the suction hole 34 of the transfer hand 30L.
-Piping toward 34, and from the vacuum ejector 66 toward the suction hole on the mounting table 41 of the posture alignment device 4.

【0024】なお、エアタンク62の下流側で分岐され
た配管は、上記部材以外に、前記バッファカセット50
の開口部に設けられたストッパロッド55をスライドさ
せるエアシリンダ等にも接続されている。
The pipe branched on the downstream side of the air tank 62 is provided with the buffer cassette 50 in addition to the above members.
It is also connected to an air cylinder or the like that slides a stopper rod 55 provided in the opening of the.

【0025】エアタンク62内に貯蔵されたエアはエア
コンプレッサ61によって圧出され、分岐した後、それ
ぞれの供給バルブ63U・63L・64を経て、真空エ
ジェクタ65U・65L・66へと圧送される。この供
給バルブ63U・63L・64は電磁バルブで構成さ
れ、電気的に開閉が行われるものである。図中の符号6
9はエアタンク62と配管されるドレンタンクである。
The air stored in the air tank 62 is squeezed out by the air compressor 61, branched, and then pressure-fed to the vacuum ejectors 65U, 65L, 66 through the respective supply valves 63U, 63L, 64. The supply valves 63U, 63L, 64 are electromagnetic valves, and are electrically opened and closed. Reference numeral 6 in the figure
A drain tank 9 is connected to the air tank 62.

【0026】各真空エジェクタ65U(65L、66)
は高圧口65a(65a、66a)と低圧口65b(6
5b、66b)とから成る2つの入口と、1つの出口6
5c(65c、66c)とを有する構造で、該高圧口6
5a、65a、66aにはエアコンプレッサ61からの
配管が接続され、該低圧口65b、65b、66bには
それぞれ移載ハンド31Uの吸引孔34・34、移載ハ
ンド31Lの吸引孔34・34、載置台41の吸引孔か
らの配管が接続されている。なお、真空エジェクタ65
U(65L)の低圧口と移載ハンド31U(31L)の
吸引孔34・34との間には、保持バルブ67U(67
L)が介設されている。この保持バルブ67U・67L
も電磁バルブで構成されている。また、各真空エジェク
タ65U、65L、66の出口65c、65c、66c
からは吐出口へ向けて配管され、エアが外部空間へ排気
される構成としている。
Each vacuum ejector 65U (65L, 66)
Is a high pressure port 65a (65a, 66a) and a low pressure port 65b (6
5b, 66b) and one outlet 6
5c (65c, 66c) and the high pressure port 6
Pipes from the air compressor 61 are connected to 5a, 65a and 66a, and suction ports 34 and 34 of the transfer hand 31U and suction holes 34 and 34 of the transfer hand 31L are connected to the low pressure ports 65b, 65b and 66b, respectively. The pipe from the suction hole of the mounting table 41 is connected. The vacuum ejector 65
A holding valve 67U (67) is provided between the low pressure port of U (65L) and the suction holes 34, 34 of the transfer hand 31U (31L).
L) is provided. This holding valve 67U / 67L
Is also composed of an electromagnetic valve. Also, the outlets 65c, 65c, 66c of the vacuum ejectors 65U, 65L, 66, respectively.
It is configured to be piped from the outlet to the discharge port, and air is exhausted to the external space.

【0027】前記供給バルブ63U(63L、64)が
開状態で、且つ、枚葉移載装置3にあっては、前記保持
バルブ67U(67L)も開状態で、エアタンク62か
らの高速エアが真空エジェクタ65U(65L、66)
の一方の入口の高圧口65a(65a、66a)から供
給されて、その出口65c(65c、66c)から排出
されると、該高速エアに誘引されて、もう一方の入口で
ある低圧口65b(65b、66b)からもエアが吸引
される。そして、この低圧口65b(65b、66b)
から吸引されたエアと高圧口65a(65a、66a)
に供給された高速エアは、ともに出口65c(65c、
66c)から吐出口を経て外部空間へ排気される。
The supply valve 63U (63L, 64) is open, and in the single wafer transfer device 3, the holding valve 67U (67L) is also open, and the high-speed air from the air tank 62 is vacuumed. Ejector 65U (65L, 66)
When supplied from the high pressure port 65a (65a, 66a) at one inlet and discharged from the outlet 65c (65c, 66c), the high speed air is attracted to the low pressure port 65b (at the other inlet). Air is also sucked from 65b and 66b). And this low pressure port 65b (65b, 66b)
Air sucked from the high pressure port 65a (65a, 66a)
The high-speed air supplied to both the outlets 65c (65c,
The gas is discharged from 66c) to the external space through the discharge port.

【0028】このような構成で、移載ハンド31Uの吸
引孔34・34(移載ハンド31Uの吸引孔34・3
4、載置台41の吸引孔)からエアが吸引されて、該移
載ハンド31U(移載ハンド31L、該載置台41)上
のウエハ10が保持される。枚葉移載装置3について
は、移載ハンド31U(31L)上に載置されたウエハ
10によって吸引孔34・34は密閉された状態で、該
吸引孔34・34から真空エジェクタ65U(65L)
までの配管が、所定圧以下に減圧されると、前記保持バ
ルブ67U(67L)が閉じられ、該保持バルブ67U
(67L)から該吸引孔34・34までの配管が負圧に
維持されて、該移載ハンド31U(移載ハンド31L)
上にウエハ10が保持される。
With such a structure, the suction holes 34, 34 of the transfer hand 31U (the suction holes 34.3 of the transfer hand 31U)
4. Air is sucked from the suction holes of the mounting table 41, and the wafer 10 on the transfer hand 31U (transfer hand 31L, mounting table 41) is held. In the single-wafer transfer device 3, the suction holes 34, 34 are sealed from the suction holes 34, 34 by the wafer 10 placed on the transfer hand 31U (31L).
When the piping up to is reduced to a predetermined pressure or less, the holding valve 67U (67L) is closed, and the holding valve 67U is closed.
The piping from (67L) to the suction holes 34, 34 is maintained at a negative pressure, and the transfer hand 31U (transfer hand 31L)
The wafer 10 is held on top.

【0029】このウエハ10の吸引・保持を解除すると
きには、前記供給バルブ63U(63L)を閉じ、これ
により真空エジェクタ65U(65L)の高圧口65a
へは高速エアが供給されなくなり、この上で、前記保持
バルブ67U(67L)を開放する。この結果、外部空
間と連通する吐出口と、真空エジェクタ65U(65
L)と、移載ハンド31Uの吸引孔34・34(移載ハ
ンド31Uの吸引孔34・34)との間の配管内の圧力
が大気圧まで上昇して、ウエハ10の吸引・保持が解除
される。
When the suction / holding of the wafer 10 is released, the supply valve 63U (63L) is closed so that the high pressure port 65a of the vacuum ejector 65U (65L) is closed.
High-speed air is no longer supplied to and the holding valve 67U (67L) is opened. As a result, the discharge port communicating with the external space and the vacuum ejector 65U (65U
L) and the suction holes 34, 34 of the transfer hand 31U (suction holes 34, 34 of the transfer hand 31U), the pressure in the pipe increases to atmospheric pressure, and the suction / holding of the wafer 10 is released. To be done.

【0030】一方、姿勢合わせ装置4の載置台41は、
その回転中心に吸引孔が設けられるとともに、該吸引孔
から同心円状、並びに放射線状に複数の吸引溝が設けら
れているため、該載置台41上のウエハ10と該吸引孔
との間には、該吸引溝を介して隙間ができて、該吸引孔
から真空エジェクタ66までの配管を負圧には維持でき
ず、常時吸引することにでウエハ10を載置台41上に
吸引・保持している。
On the other hand, the mounting table 41 of the attitude adjusting device 4 is
A suction hole is provided at the center of rotation, and a plurality of suction grooves are provided concentrically and radially from the suction hole. Therefore, between the wafer 10 on the mounting table 41 and the suction hole. Since a gap is formed through the suction groove and the pipe from the suction hole to the vacuum ejector 66 cannot be maintained at a negative pressure, the wafer 10 is sucked and held on the mounting table 41 by always sucking. There is.

【0031】このウエハ10の吸引・保持を解除すると
きには、前記供給バルブ64が閉じられ、これにより真
空エジェクタ66の高圧口66aへは高速エアが供給さ
れなくなって、低圧口66bからもエアが吸引されなく
なり、外部空間と連通する吐出口から載置台41の吸引
孔へかけての配管内の圧力が大気圧まで上昇する結果、
ウエハ10の吸引・保持が解除される。
When the suction / holding of the wafer 10 is released, the supply valve 64 is closed, so that high-speed air is not supplied to the high pressure port 66a of the vacuum ejector 66, and the air is suctioned from the low pressure port 66b. As a result, the pressure in the pipe from the discharge port communicating with the external space to the suction hole of the mounting table 41 rises to atmospheric pressure,
The suction / holding of the wafer 10 is released.

【0032】ところで、移載ハンド31U(31L)で
ウエハ10を保持している状態で、給電装置が故障する
などして搬送車1への給電が停止すると、前記供給バル
ブ63U・63L・64が閉じられるとともに、前記保
持バルブ67U・67Lは閉じられたままとなって、ウ
エハ10は移載手段上に吸引・保持されたままとなる。
このとき、該無人搬送車1と処理装置との給電系統が異
なって、該処理装置の方は正常に動いていることもあ
り、この場合は、移載ハンド31U(31L)上のウエ
ハ10を手作業ででも、処理装置へ渡す必要性が生じる
ときがある。
When the transfer hand 31U (31L) is holding the wafer 10 and the power supply to the transport vehicle 1 is stopped due to a failure of the power supply device, the supply valves 63U, 63L, 64 are turned on. While being closed, the holding valves 67U and 67L remain closed, and the wafer 10 remains sucked and held on the transfer means.
At this time, the power supply system of the automatic guided vehicle 1 and the processing apparatus may be different, and the processing apparatus may be operating normally. In this case, the wafer 10 on the transfer hand 31U (31L) is Sometimes it is necessary to hand it over to the processor even manually.

【0033】しかしながら、この移載ハンド31U(3
1L)上に吸引・保持されたウエハ10は、移載ハンド
31U(31L)の移載動作中に、移載ハンド31U
(31L)上で載置位置がずれないように十分な吸引力
で保持されているため、容易には取り外すことができ
ず、無理に取り外すとなると、ウエハ10を破損し兼ね
ない。このため、搬送車1への給電が復旧するまで、徒
に待つより仕方がなく、作業性、及びメンテナンス性が
よくなかった。
However, this transfer hand 31U (3
The wafer 10 sucked and held on the 1L) is transferred to the transfer hand 31U during the transfer operation of the transfer hand 31U (31L).
Since it is held with a sufficient suction force so that the mounting position does not shift on (31L), it cannot be easily removed, and if it is forcibly removed, the wafer 10 may be damaged. For this reason, there is no choice but to wait unnecessarily until the power supply to the transport vehicle 1 is restored, and workability and maintainability are poor.

【0034】そこで、本発明では、図3に示すように、
前記保持バルブ67U(67L)と前記移載ハンド31
U(31L)の吸引孔34・34との間で、配管を分岐
させて、この分岐させた配管を外部空間へ連通させると
ともに、該分岐させた配管上に開放バルブ68U(68
L)を介設する。この開放バルブ68U・68Lは給電
がなくとも作動するように、機械式バルブで構成するこ
とが好ましい。また、開放バルブ68U・68Lの開閉
スイッチは車体本体2の前方、又は後方などの作業者が
操作しやすい場所に配置しておくことが好ましい。な
お、この開放バルブ68U・68Lは、例えば非常用の
別電源により作動する電磁式バルブで構成することがで
きる。具体的には、該開放バルブ68U・68Lには、
走行レール20に沿って架設された給電線から受電ユニ
ット25によって非接触で取り出される電力を直接用い
ずに、該非接触給電からの電力によって常時充電可能な
二次電池を設け、該二次電池から電力が供給されるよう
に構成しておくことが考えられる。
Therefore, in the present invention, as shown in FIG.
The holding valve 67U (67L) and the transfer hand 31
A pipe is branched between the U (31L) and the suction holes 34, 34, the branched pipe is communicated with the external space, and an open valve 68U (68) is provided on the branched pipe.
L) is installed. It is preferable that the open valves 68U and 68L are mechanical valves so that they can operate without power supply. Further, it is preferable that the opening / closing switches of the opening valves 68U and 68L are arranged at a location such as a front side or a rear side of the vehicle body 2 which is easily operated by an operator. The open valves 68U and 68L may be electromagnetic valves operated by another emergency power source, for example. Specifically, the release valves 68U and 68L include
A secondary battery, which can be constantly charged by the electric power from the contactless power supply, is provided without directly using the electric power extracted by the power receiving unit 25 from the power supply line installed along the traveling rail 20 in a contactless manner. It is conceivable to configure it so that electric power is supplied.

【0035】このような構成で、移載ハンド31U(3
1L)でウエハ10を保持している状態で、搬送車1へ
の給電が停止して、保持バルブ67U(67L)が閉じ
られたままとなり、開放できないときには、前記開閉ス
イッチを操作して開放バルブ68U(68L)を開放し
てやる。これにより、移載ハンド31Uの吸引孔34・
34(移載ハンド31Uの吸引孔34・34)から外部
空間と連通する吐出口までの配管圧が大気圧まで上昇
し、この結果、ウエハ10の吸引・保持が解除される。
With this structure, the transfer hand 31U (3
(1L) holding the wafer 10 and the power supply to the carrier 1 is stopped, the holding valve 67U (67L) remains closed, and when it cannot be opened, the opening / closing switch is operated to open the opening valve. I will open 68U (68L). As a result, the suction holes 34 of the transfer hand 31U
The pipe pressure from 34 (the suction holes 34 of the transfer hand 31U) to the discharge port communicating with the external space rises to the atmospheric pressure, and as a result, the suction / holding of the wafer 10 is released.

【0036】このように、本発明では、移載ハンド31
U・31Lによるウエハ10・10の吸引・保持を所定
のタイミングでいつでも容易に解除することができ、ま
た、この解除は各移載ハンド31U・31L毎に独立に
行うことができて、作業性、及びメンテナンス性が向上
する。
As described above, in the present invention, the transfer hand 31
The suction / holding of the wafers 10/10 by the U / 31L can be easily released at a predetermined timing at any time, and this release can be performed independently for each transfer hand 31U / 31L. , And maintainability is improved.

【0037】なお、本発明は、非接触給電により走行レ
ール20・20上を走行する無人搬送車1だけに限ら
ず、例えば、バッテリを搭載したレーザーや磁気誘導式
の無人搬送車等の、他の無人搬送車についても採用する
ことができる。
The present invention is not limited to the unmanned guided vehicle 1 traveling on the traveling rails 20 and 20 by non-contact power supply, and may be, for example, a laser equipped with a battery or a magnetic guided unmanned guided vehicle. It can also be used for automated guided vehicles.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
以下に示すような効果を奏する。まず、請求項1のよう
に、ウエハを移載する移載手段と、該移載手段の支持部
でウエハを吸引保持する吸引保持手段とを備え、該吸引
保持手段は、該移載手段の支持部に形成した吸引孔と、
負圧を発生させる負圧発生手段と、該吸引孔と該負圧発
生手段との間に設けた保持バルブとを備えた無人搬送車
において、前記吸引保持手段にウエハの吸引保持を解除
する保持解除手段を設けることで、搬送車への給電が停
止するなど、異常が発生した際にも、移載手段の支持部
によるウエハの吸引保持を所定のタイミングでいつでも
容易に解除することができ、作業性、及びメンテナンス
性が向上する。
Since the present invention is constructed as described above,
The following effects are achieved. First, as in claim 1, there is provided a transfer means for transferring the wafer, and a suction holding means for sucking and holding the wafer by a supporting portion of the transfer means, and the suction holding means of the transfer means. A suction hole formed in the support part,
In an automatic guided vehicle having negative pressure generating means for generating a negative pressure and a holding valve provided between the suction hole and the negative pressure generating means, a holding means for releasing the suction holding of the wafer by the suction holding means. By providing the releasing means, the suction holding of the wafer by the supporting portion of the transferring means can be easily released at a predetermined timing at any time even when an abnormality occurs such as power supply to the transport vehicle is stopped, Workability and maintainability are improved.

【0039】また、請求項2のように、ウエハを移載す
る複数の移載手段と、各移載手段毎にその支持部にウエ
ハを吸引保持する吸引保持手段とを備え、該吸引保持手
段は、各移載手段毎にその支持部に形成した吸引孔と、
負圧を発生させる負圧発生手段と、各移載手段毎にその
吸引孔と該負圧発生手段との間に設けた保持バルブとで
構成される無人搬送車において、前記吸引保持手段に、
各移載手段毎に独立にウエハの吸引保持を解除する保持
解除手段を設けることで、搬送車への給電が停止するな
ど、異常が発生した際にも、移載手段の支持部によるウ
エハの吸引保持を所定のタイミングでいつでも容易に解
除することができ、また、この解除は移載手段毎に独立
に行うことができて、作業性、及びメンテナンス性が向
上する。
Further, as in claim 2, a plurality of transfer means for transferring the wafer, and a suction holding means for holding the wafer by suction on a support portion of each transfer means are provided, and the suction holding means. Is a suction hole formed in the support portion for each transfer means,
In an automated guided vehicle composed of negative pressure generating means for generating a negative pressure, and a holding valve provided between the suction hole and the negative pressure generating means for each transfer means, in the suction holding means,
By providing holding release means for independently releasing the suction holding of the wafer for each transfer means, even when an abnormality occurs such as the stop of power supply to the transfer vehicle, the wafer is supported by the support means of the transfer means. The suction holding can be easily released at a predetermined timing at any time, and this releasing can be performed independently for each transfer means, which improves workability and maintainability.

【0040】そして、請求項3のように、前記負圧発生
手段を、エアコンプレッサと真空エジェクタとで構成
し、前記保持解除手段を、前記保持バルブと前記移載手
段の支持部の吸引孔との間に設けた、開放バルブで構成
することで、負圧発生手段をコンパクトに構成すること
ができると共に、保持解除手段を簡単な構成にすること
ができる。このため、無人搬送車本体が大型化すること
を防止できると共に、搬送車への給電が停止するなど、
異常が発生した際には、該開放バルブを手動操作で開放
して、移載手段の支持部によるウエハの吸引保持を所定
のタイミングで容易に解除することで、作業性及びメン
テナンス性を向上させることができる。
According to a third aspect of the invention, the negative pressure generating means is composed of an air compressor and a vacuum ejector, and the holding releasing means is the holding valve and the suction hole of the supporting portion of the transfer means. The negative pressure generating means can be made compact and the holding releasing means can be made simple by constituting the opening valve provided between the two. For this reason, it is possible to prevent the unmanned guided vehicle body from increasing in size and to stop the power supply to the guided vehicle.
When an abnormality occurs, the opening valve is opened manually to easily release the suction holding of the wafer by the supporting portion of the transfer means at a predetermined timing, thereby improving workability and maintainability. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】無人搬送車1の側面図。FIG. 1 is a side view of an automated guided vehicle 1.

【図2】枚葉移載装置3の平面図。FIG. 2 is a plan view of the single-wafer transfer device 3.

【図3】負圧発生装置6の配管構成を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a piping configuration of a negative pressure generator 6.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 搬送車 2 車体本体 3 移載装置 4 姿勢合わせ装置 6 負圧発生装置 21 載置面 31U 移載ハンド 31L 移載ハンド 34 吸引孔 61 エアコンプレッサ 62 エアタンク 63U 供給バルブ 63L 供給バルブ 64 供給バルブ 65U 真空エジェクタ 65L 真空エジェクタ 66 真空エジェクタ 67U 保持バルブ 67L 保持バルブ 68U 開放バルブ 68L 開放バルブ 1 carrier 2 Body 3 Transfer device 4 Positioning device 6 Negative pressure generator 21 Placement surface 31U Transfer Hand 31L transfer hand 34 Suction hole 61 Air compressor 62 air tank 63U supply valve 63L supply valve 64 supply valve 65U vacuum ejector 65L vacuum ejector 66 Vacuum ejector 67U holding valve 67L holding valve 68U release valve 68L open valve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 功 京都市伏見区竹田向代町136番地 村田機 械株式会社本社工場内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA01 FA01 FA11 FA13 GA03 GA08 GA38 GA43 GA50 GA58 KA12 PA06 PA30    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Isao Fukuda             Murata Machine, 136 Takeda Mukoyo-cho, Fushimi-ku, Kyoto             Machine Co., Ltd. Headquarters factory F term (reference) 5F031 CA02 DA01 FA01 FA11 FA13                       GA03 GA08 GA38 GA43 GA50                       GA58 KA12 PA06 PA30

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハを移載する移載手段と、該移載手
段の支持部でウエハを吸引保持する吸引保持手段とを備
え、 該吸引保持手段は、該移載手段の支持部に形成した吸引
孔と、負圧を発生させる負圧発生手段と、該吸引孔と該
負圧発生手段との間に設けた保持バルブとを備えた無人
搬送車において、 前記吸引保持手段にウエハの吸引保持を解除する保持解
除手段を設けたことを特徴とする無人搬送車。
1. A transfer means for transferring a wafer, and a suction holding means for sucking and holding a wafer by a supporting portion of the transferring means, wherein the suction holding means is formed on a supporting portion of the transferring means. In the automatic guided vehicle including the suction holes, the negative pressure generating means for generating a negative pressure, and the holding valve provided between the suction holes and the negative pressure generating means, the suction holding means sucks the wafer. An automatic guided vehicle, which is provided with holding releasing means for releasing holding.
【請求項2】 ウエハを移載する複数の移載手段と、各
移載手段毎にその支持部にウエハを吸引保持する吸引保
持手段とを備え、 該吸引保持手段は、各移載手段毎にその支持部に形成し
た吸引孔と、負圧を発生させる負圧発生手段と、各移載
手段毎にその吸引孔と該負圧発生手段との間に設けた保
持バルブとで構成される無人搬送車において、 前記吸引保持手段に、各移載手段毎に独立にウエハの吸
引保持を解除する保持解除手段を設けたことをたことを
特徴とする無人搬送車。
2. A plurality of transfer means for transferring a wafer, and a suction holding means for sucking and holding a wafer on a support portion of each transfer means, wherein the suction holding means is provided for each transfer means. And a suction valve formed in the support portion, negative pressure generating means for generating a negative pressure, and a holding valve provided between the suction hole and the negative pressure generating means for each transfer means. In the automatic guided vehicle, the suction holding means is provided with a holding release means for independently releasing the suction holding of the wafer for each transfer means.
【請求項3】 前記負圧発生手段を、エアコンプレッサ
と真空エジェクタとで構成し、 前記保持解除手段を、前記保持バルブと前記移載手段の
支持部の吸引孔との間に設けた、開放バルブで構成した
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の無人搬
送車。
3. The negative pressure generating means is composed of an air compressor and a vacuum ejector, and the holding releasing means is provided between the holding valve and a suction hole of a supporting portion of the transfer means, and is opened. The automatic guided vehicle according to claim 1 or 2, wherein the automatic guided vehicle comprises a valve.
JP2002038345A 2002-02-15 2002-02-15 Unmanned conveying cart Pending JP2003243476A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008110852A (en) * 2006-10-31 2008-05-15 Myotoku Ltd Floatingly carrying unit
JP2009290162A (en) * 2008-06-02 2009-12-10 Ueno Seiki Kk Semiconductor device manufacturing equipment

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