JP2003243157A - 有機el素子の駆動方法および有機el素子を含む発光装置 - Google Patents

有機el素子の駆動方法および有機el素子を含む発光装置

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pulse voltage
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Yutaka Omori
裕 大森
Hiromu Kajii
博武 梶井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機EL素子を高速で駆動するための駆動方
法、および有機EL素子を用いた高速で駆動が可能な発
光装置を提供する。 【解決手段】 バイアス電圧とパルス電圧とを重畳した
電圧を有機EL素子110に印加することによって有機
EL素子を駆動する方法を用いる。また、本発明の発光
装置は、バイアス電圧とパルス電圧とを重畳した電圧を
有機EL素子110に印加するための駆動回路120を
備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL素子の駆
動方法および有機EL素子を含む発光装置に関し、特に
たとえば、有機EL素子を高速で駆動させる方法および
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、IT(Information
Technology)革命が急速に進展する中で、情
報処理を高速に行うことが可能な光情報処理回路の開発
が進められている。光情報処理回路を用いた製品のさら
なる小型・軽量化、および取り扱い易さの向上のために
は、可撓性を有する光情報処理回路を実現することが有
効である。
【0003】このような可撓性を有する光情報処理回路
を実現するため、ポリマー光導波路フィルムが提案され
ている(疋田:「有機光導波路素子」、電子情報通信学
会誌,Vol.81, No.1, pp.37-40, (1998))。しかし、発
光素子や受光素子などの能動素子が無機の半導体からな
る場合には、能動素子を形成する際に基板を高温に加熱
する必要があるため、ポリマー光導波路フィルム上にこ
れらの能動素子を直接形成することが困難であった。
【0004】このような問題を解決するため、可撓性を
有するポリマー光導波路上に、低温で形成が可能な有機
EL素子を光源とする光集積回路を作製する試みがなさ
れている(Y. Ohmori, M. Hikita, H. Kajii, T. Tsuka
gawa, K. Yoshino, M. Ozaki, A. Fujii, S. Tomaru, "
Organic EL diode with waveguide devices"、S. Imamu
ra, H. Takenaka, J. Kobayashi, and F. Yamamoto, "O
rganic electroluminescent diodes as a light source
for polymeric waveguides: toward organicintegrate
d optical devices, Thin Solid Films, vol. 393, pp.
267-272, (2001)参照)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】光情報処理回路の光源
は高速応答が必要とされるが、従来の駆動方法では有機
EL素子を高速で駆動することが困難であった。また、
有機EL素子は主にディスプレー用に開発されてきたた
め、有機EL素子を駆動する従来の電源はパルス周波数
が遅いという問題があった。さらに、無機の半導体の発
光ダイオードなどで使用される電源は、周波数は高いが
高い電圧を発生させることができず、これを用いても駆
動電圧が高い有機EL素子を高速で駆動できない場合が
あった。
【0006】本発明者らは、このような状況に鑑みて鋭
意検討した結果、バイアス電圧とパルス電圧とを重畳し
た電圧を有機EL素子に印加することによって高速応答
を実現できることを新たに見出した。この新たな知見に
基づき、本発明は、有機EL素子を高速で駆動するため
の駆動方法、および有機EL素子を用いた高速で駆動が
可能な発光装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の有機EL素子の駆動方法は、バイアス電圧
とパルス電圧とを重畳した電圧を前記有機EL素子に印
加することを特徴とする。
【0008】また、本発明の発光装置は、有機EL素子
を含む発光装置であって、バイアス電圧とパルス電圧と
が重畳された電圧を前記有機EL素子に印加するための
電圧印加手段を備えることを特徴とする。
【0009】また、別の観点によれば、本発明は、光導
波路を備えるポリマー製の基板と、その基板上に形成さ
れた上記本発明の発光装置とを備える光インターコネク
ション装置に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
【0011】(実施形態1)実施形態1では、有機EL
(Electroluminescence)素子を駆
動するための本発明の方法について説明する。
【0012】本発明の方法では、バイアス電圧とパルス
電圧とを重畳した電圧を有機EL素子に印加することに
よって有機EL素子を駆動する。有機EL素子には、以
下の実施形態で説明するような一般的な有機EL素子を
用いることができる。
【0013】有機EL素子にパルス電圧のみを印加して
も高速で駆動させることができない。このため、本発明
では、バイアス電圧とパルス電圧とを重畳した電圧を有
機EL素子に印加することによって有機EL素子を高速
で駆動することを可能にする。
【0014】有機EL素子が発光を開始する電圧をA
(V)とし、上記バイアス電圧をB(V)とし、上記パ
ルス電圧をC(V)とすると、(A−C)<B<Aを満
たすことが好ましい。B<Aとすることによって、有機
EL素子の寿命が短くなることを抑制できる。ただし、
素子の寿命は短くなるがB≧Aの条件で駆動することも
可能であり、この場合には高い発光強度と高い応答速度
が得られる。なお、パルス電圧C(V)の値は、用いる
パルス電源によって異なるが、半導体発光装置用のパル
ス電源の場合には、通常、2V〜3V程度である。バイ
アス電圧Bの値は、パルス電源によって発生可能な電圧
Cと、有機EL素子に印加する電圧(B+C)とを考慮
して決定される。バイアス電圧Bの値は、たとえば(A
−1.5)ボルト〜(A−0.5)ボルトの範囲内であ
る。有機EL素子に印加する電圧(B+C)ボルトは、
印加電圧に対して発光強度が急激に増加する領域内(図
1の素子では、約8.6V以上)であることが好まし
い。
【0015】有機EL素子の発光強度と印加電圧(定電
圧)との関係を図1に示す。図1の素子では、約5Vで
発光が開始している。また、印加電圧が一定値以上にな
ると、発光強度が急激に増加している。発光強度がほぼ
リニアに急激に増加している部分の接線とX軸との交点
の電圧は、約8.6V程度である。図1の素子では、パ
ルス電圧に重畳するバイアス電圧を5V以下とすること
によって素子の寿命が短くなることを抑制できる。ま
た、バイアス電圧とパルス電圧との合計を8.6Vより
も大きくすることによって、高い発光強度が得られる。
たとえば、3.5Vのバイアス電圧と8Vのパルス電圧
とを重畳した電圧を有機EL素子に印加して駆動すれば
よい。
【0016】バイアス電圧は、直流電源を用いて発生さ
せることができ、特に、安定化された直流電源を用いて
発生させることが好ましい。パルス電圧のパルス幅は特
に限定がなく、有機EL素子を駆動させたい時間に応じ
て変化する。パルス電圧のパルス幅は、たとえば50n
s以下である。有機EL素子を光情報処理回路の光源に
用いる場合には、パルス幅は、10ns以下であること
が好ましい。
【0017】実施形態1の駆動方法によれば、有機EL
素子を高速で駆動することができる。実施形態1の駆動
方法は、実施形態2で説明する駆動回路を用いることに
よって容易に実施できる。
【0018】(実施形態2)実施形態2では、本発明の
発光装置について一例を説明する。実施形態2の発光装
置100を図2に示す。
【0019】図2を参照して、発光装置100は、有機
EL素子110と、有機EL素子110を駆動する駆動
回路120とを備える。有機EL素子110は、基板1
01上に形成される。
【0020】基板101は、特に限定はない。発光装置
100を可撓性を有する光情報処理回路の光源に用いる
場合には、基板101として、ポリマー製のコア部(光
導波路)とポリマー製のクラッド層とを備えるポリマー
基板を用いることができる。
【0021】有機EL素子110には、一般的な有機E
L素子を用いることができ、図2に示している有機EL
素子110の構造は一例である。有機EL素子110
は、基板101側から順に積層された透明電極111、
正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114お
よび対向電極115を備える。
【0022】透明電極111は、有機分子層に正孔を注
入するための電極である。発光装置100では、発光層
113で発生した光を矢印130の向きに出射させるた
め、透光性の材料で透明電極111を形成する。透明電
極111には、酸化スズと酸化インジウムの混合物であ
るITO(Indium−Tin Oxide:インジ
ウム・スズ酸化物)を用いることができる。
【0023】正孔輸送層112は、正孔の伝導性が高い
有機分子層であり、透明電極111から注入された正孔
を発光層113に輸送する。また、電子輸送層114
は、電子の伝導性が高い有機分子層であり、対向電極1
15から注入された電子を発光層113に輸送する。
【0024】対向電極115は、有機分子層に電子を注
入するための電極である。対向電極115から注入され
た電子は、電子輸送層114を介して発光層113に注
入される。発光層113では、注入された電子と正孔と
が発光再結合して光を発生する。透明電極111および
対向電極115は、たとえばスパッタリング法、電子ビ
ーム蒸着法、または真空蒸着法で形成できる。また、各
有機分子層は、有機分子線蒸着法によって形成できる。
【0025】発光層113に注入された電子−正孔の再
結合の時間は、電子および正孔が電極から注入される時
間およびそれらが有機分子層を通過する時間に比べて十
分に短く、無視できる。したがって、高周波の光パルス
を発生させるためには、透明電極111および対向電極
115から高速に電子と正孔とを有機分子層に注入する
ことが必要である。
【0026】駆動回路120は、バイアス電圧とパルス
電圧とが重畳された電圧を有機EL素子110に印加す
るための電圧印加手段として機能する。駆動回路120
は、バイアス電圧発生手段121とパルス電圧発生手段
122とパルス電圧発生手段を制御する制御回路123
とを備える。なお、本発明の発光装置は、バイアス電圧
とパルス電圧とが重畳された電圧を印加する電圧印加手
段を備えればよく、図2の構成には限定されない。ま
た、本発明の発光装置は、有機EL素子の電流−電圧特
性(発光強度と印加電圧との関係に関連する特性)か
ら、有機EL素子に印加すべきバイアス電圧とパルス電
圧とを検出する検出回路を備えてもよい。
【0027】バイアス電圧発生手段121は、所定のバ
イアス電圧を発生する。バイアス電圧発生手段には、安
定化された直流電源を用いることができる。パルス電圧
発生手段122は、制御回路123から送られる電気信
号に応じて、パルス幅が50ns以下(目的によっては
10ns以下)のパルス電圧を発生する。パルス電圧発
生手段122には、半導体発光素子の駆動に用いられる
パルス電源を用いることができる。バイアス電圧発生手
段121からの定電圧と、パルス電圧発生手段122か
らのパルス電圧とは、重畳されて有機EL素子110に
印加される。
【0028】有機EL素子110に印加されるバイアス
電圧およびパルス電圧は、実施形態1で説明した範囲で
設定される。具体的には、有機EL素子110の特性、
たとえば図1に示すような印加電圧と発光強度との関係
を測定することによって決定できる。
【0029】実施形態2の発光装置100では、実施形
態1で説明した方法によって有機EL素子110を駆動
できる。このため、従来の駆動回路では困難であった有
機ELの高速応答を実現できる。
【0030】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
する。
【0031】(実施例1)実施例1では、図2の発光装
置を製造して駆動した一例について説明する。
【0032】まず、基板101上に、透明電極111を
形成した。透明電極111は、たとえば厚さが100n
m〜300nmの範囲のITOからなり、電子ビーム蒸
着法によって形成できる。実施例1では、透明電極11
1として膜厚300nmのITO膜を用いた。
【0033】次に、有機分子層を有機分子線蒸着法によ
って形成した。具体的には、10-5Pa程度の高真空中
で有機分子を加熱して蒸発させ、有機分子層を堆積させ
た。有機分子層の厚さは、物理的なシャッターで有機分
子線を遮蔽することによって調整した。
【0034】正孔輸送層112には、正孔の輸送性が高
いジアミン誘導体を用いることができ、たとえば、4,
4’−bis[N−(1−naphthyl)−N−p
henyl−amino]−biphenyl(α−N
PD)、またはN,N’−diphenyl−N,N’
−bis(3−methylphenyl)−1,1’
−biphenyl−4,4’−diamine(TP
D)を用いることができる。正孔輸送層112の厚さ
は、たとえば10nm〜200nmの範囲内である。実
施例1では、正孔輸送層112として、厚さ30nmの
α−NPDを用いた。
【0035】発光層113には、たとえば、キノリノー
ル錯体である8−hydroxquinoline a
luminum(Alq3)中に、ルブレン(Rubr
ene)または4−(dicyano methyle
ne)−2−methyl−6−(p−dimethy
l aminostyryl)−4H−pyran(D
CM)の分子を体積分率0.1%〜10%の範囲で分散
させた有機分子層を用いることができる。このような有
機分子層を用いることによって、中心波長が550nm
〜610nmの範囲内の黄色発光が得られる。発光層1
13の膜厚は、たとえば0.1nm〜100nmの範囲
内であるが、10nm〜20nmの範囲内であることが
好ましい。膜厚が0.1nmより薄いと十分な発光効率
が得られず、100nmより厚いと十分な応答速度が得
られない。10nm〜20nmの範囲であれば、発光効
率および応答速度ともに十分な特性が実現できる。ま
た、分散させる色素分子の体積分率は、1%〜10%の
範囲内であることが好ましい。0.01%より小さいと
十分な発光効率が得られず、30%より大きいと高濃度
による消光によって十分な発光効率が得られない。最適
な体積分率は、色素分子によっても異なるが、上記の色
素分子の場合は、1%〜10%の範囲であれば十分な発
光効率が得られる。実施例1では、膜厚10nmのキノ
リノールアルミ(Alq3)層中に、体積分率7%のル
ブレン(Rubrene)を分散させて発光層113を
作製した。この発光層によって、発光波長560nmの
黄色発光が得られた。
【0036】電子輸送層114との電位障壁を小さくす
るために、対向電極115には、たとえばリチウムを原
子比率で0.1〜2%の割合で混合したアルミニウムか
らなる電極(膜厚:50nm〜300nm)を用いるこ
とができる。リチウムを混合したアルミニウムからなる
金属膜の上にさらにアルミニウム膜(膜厚200nm〜
500nm)を積層した多層膜を陰極として用いる場合
もある。実施例1では、リチウム原子を1原子%混合し
たアルミニウム膜(膜厚:200nm)を対向電極5と
して用いた。
【0037】以上のように作製した実施例1の有機EL
素子に14Vの定電圧を印加したところ、輝度50,0
00cd/m2の発光が得られた。この有機EL素子
(電極面積:0.01mm2)に、周期10ns(周波
数:100MHz)、パルス幅5ns、5Vのパルス電
圧と3Vの定電圧とを畳重したパルス電圧を印加した。
印加した電圧を図3に模式的に示す。なお、図3では、
模式的に方形波を示しているが、実際の電圧は方形波で
はなく角が丸まっている。上記電圧を印加した結果、パ
ルス電圧に対応した発光が得られ、100MHz以上の
応答速度が実現可能となった。
【0038】バイアス電圧を伴わないパルス電圧を印加
したところ、8Vのパルス電圧(周波数:100MH
z)を印加しても、有機EL素子がパルス電圧に応答せ
ず10MHz程度のパルス光しか得られなかった。ま
た、この場合には、発光強度も弱かった。さらにパルス
電圧の電圧を増加しても、10数MHzのパルス光しか
得られず、100MHzのパルス光は得られなかった。
【0039】(実施例2)実施例2では、本発明の発光
装置を製造して駆動した他の一例について説明する。実
施例2で作製した発光装置200を図4に示す。なお、
発光装置200は、実施例1で作製した発光装置と比較
して有機EL素子210の構成のみが異なるため、重複
する説明は省略する。
【0040】以下、発光装置200の有機EL素子21
0の形成方法について説明する。有機EL素子の有機層
は、実施例1と同様に有機分子線蒸着法によって形成し
た。なお、実施例1で説明した有機層の材料は、実施例
2の有機EL素子にも適用できる。
【0041】まず、基板101上に、ITOからなる透
明電極211(膜厚:300nm)を電子ビーム蒸着法
によって形成した。次に、α−NPDからなり正孔輸送
層を兼ねる発光層212(膜厚:60nm)を形成し
た。
【0042】次に、4,4’−bis(carbazo
l−9−yl)−biphenyl(CBP)からなる
第1の正孔ブロック層213(膜厚5nm)を形成し
た。さらに、2,9−dimethyl−4,7−di
phenyl−1,10−phenanthrolin
e(BCP)からなる第2の正孔ブロック層214を形
成した。有機EL素子210では、2種類の正孔ブロッ
ク層を設けて発光層212に正孔を効果的に閉じ込め、
発光効率の向上を図った。
【0043】次に、キノリノールアルミ:8−hydr
oxquinoline aluminum(Al
3)からなる電子輸送層215(膜厚:15nm)を
形成した。次に、銀を含むマグネシウム、またはリチウ
ムを1原子%混合したアルミニウムからなる対向電極2
16(膜厚:200nm)を形成した。
【0044】このようにして形成された有機EL素子2
10は、約3Vの印加電圧で発光が開始し、中心波長が
435nmの青色発光が得られた。この有機EL素子2
10(電極面積:0.01mm2)に、周期10ns、
パルス幅5ns、3Vのパルス電圧と3Vの定電圧とを
畳重したパルス電圧を印加したところ100MHz以上
の応答速度が実現できた。一方、バイアス電圧を伴わな
いパルス電圧を印加したところ、8Vのパルス電圧(周
波数:100MHz)を印加しても、10MHz程度の
パルス光しか得られなかった。また、この場合には発光
強度が弱かった。さらに電圧を増加しても、数10MH
zのパルス光しか得られず、100MHzのパルス光は
得られなかった。
【0045】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、
本発明の技術的思想に基づき他の実施形態に適用でき
る。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の駆動方法
によれば、有機EL素子を従来よりも高速で駆動するこ
とができる。また、本発明の発光装置によれば、ポリマ
ー基板上に形成できる発光装置であって、簡易な駆動回
路で高速に駆動することができる発光装置が得られる。
従来、低い印加電圧を用いて有機EL素子で実現された
応答速度は数MHz程度であった。これに対し、本発明
によって有機EL素子を駆動することにより数100M
Hz程度の応答速度が実現できる。
【0047】本発明によれば、簡易な作製プロセスによ
って作製できる有機EL素子を光集積回路の光源として
使用できる。有機EL素子を用いて光集積回路を形成す
ることによって、可撓性を有する光集積回路を実現でき
る。
【0048】本発明の発光装置は、CPUや画像処理チ
ップなどの演算処理回路素子、演算処理回路素子を搭載
したボードおよび光ファイバーなどを接続する光インタ
ーコネクション装置の光源として好適である。本発明の
発光装置を用いることによって、CPU間、各種処理ボ
ード間および光ファイバー間などを高速に接続し、デー
タ伝送や演算処理をより高速に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 有機EL素子への印加電圧と発光強度との関
係について一例を示す図である。
【図2】 本発明の発光装置について一例を示す図であ
る。
【図3】 本発明の駆動方法について印加する電圧の一
例を示す図である。
【図4】 本発明の発光装置について他の一例を示す図
である。
【符号の説明】
100、200 発光装置 101 基板 110、210 有機EL素子 111、211 透明電極 112 正孔輸送層 113、212 発光層 114、215 電子輸送層 115、216 対向電極 120 駆動回路 121 バイアス電圧発生手段 122 パルス電圧発生手段 123 制御回路 213 第1の正孔ブロック層 214 第2の正孔ブロック層

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機EL素子を駆動する方法であって、 バイアス電圧とパルス電圧とを重畳した電圧を前記有機
    EL素子に印加することを特徴とする有機EL素子の駆
    動方法。
  2. 【請求項2】 前記有機EL素子が発光を開始する電圧
    をA(V)とし、前記バイアス電圧をB(V)とし、前
    記パルス電圧をC(V)としたときに、(A−C)<B
    <Aを満たす請求項1に記載の有機EL素子の駆動方
    法。
  3. 【請求項3】 前記パルス電圧のパルス幅が10ns以
    下である請求項1または2に記載の有機EL素子の駆動
    方法。
  4. 【請求項4】 有機EL素子を含む発光装置であって、 バイアス電圧とパルス電圧とが重畳された電圧を前記有
    機EL素子に印加するための電圧印加手段を備えること
    を特徴とする発光装置。
  5. 【請求項5】 前記電圧印加手段は、前記バイアス電圧
    を発生させるための安定化された直流電源と、前記パル
    ス電圧を発生させるためのパルス電源とを備える発光装
    置。
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JP2007180277A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
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