JP2003234066A - Method for manufacturing shadow mask and apparatus for coating etching-resistant layer for manufacturing shadow mask - Google Patents
Method for manufacturing shadow mask and apparatus for coating etching-resistant layer for manufacturing shadow maskInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、帯状金属薄板に耐
エッチング層を形成するシャドウマスクの製造方法およ
びシャドウマスク製造用耐エッチング層塗布装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask manufacturing method for forming an etching resistant layer on a strip-shaped thin metal plate and an etching resistant layer coating apparatus for manufacturing a shadow mask.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、カラーディスプレイ管に用いるシ
ャドウマスクでは高精細化および高品質化が強く要求さ
れているが、デジタル放送の開始により同様にカラー受
像管に用いるシャドウマスクでも高精細化および高品質
化が強く要求され、シャドウマスクの開孔寸法の微細化
および開孔寸法ばらつきの低減化が図られている。2. Description of the Related Art In recent years, there has been a strong demand for higher definition and higher quality in shadow masks used in color display tubes, but with the start of digital broadcasting, shadow masks used in color picture tubes similarly have higher definition and higher quality. There is a strong demand for quality improvement, and miniaturization of the aperture size of the shadow mask and reduction of the aperture size variation are being pursued.
【0003】また、シャドウマスクは、文字や図形など
を表示するカラーディスプレイ管では開孔形状が円形状
であり、一般家庭で使用されるカラー受像管では開孔形
状が矩形状である。Further, the shadow mask has a circular aperture shape in a color display tube for displaying characters and figures, and has a rectangular aperture shape in a color picture tube used at home.
【0004】そして、シャドウマスクの開孔は、フォト
エッチング法により形成され、高精細および高品質が要
求されるシャドウマスクは、主に、2段エッチング法に
より形成されている。The openings of the shadow mask are formed by the photo etching method, and the shadow mask which requires high definition and high quality is mainly formed by the two-step etching method.
【0005】この2段エッチングでは、帯状金属薄板の
第1の主面となる一方の主面に、エッチングにより電子
銃側の小孔に対応する凹部を形成する。この小孔に対応
する凹部が形成された面上に耐エッチング層を形成す
る。その後、第2の主面となる一方の主面とは反対側の
他方の主面を大孔に対応するパターンでエッチングし、
大孔側から小孔に対応する凹部を貫通させて開孔を形成
する。なお、これら開孔の開孔径は小孔側で制御されて
いる。In this two-step etching, a concave portion corresponding to a small hole on the electron gun side is formed by etching on one main surface which is the first main surface of the strip-shaped metal thin plate. An etching resistant layer is formed on the surface on which the concave portion corresponding to the small hole is formed. After that, the other main surface opposite to the one main surface which becomes the second main surface is etched in a pattern corresponding to the large holes,
An opening is formed by penetrating a recess corresponding to the small hole from the large hole side. The aperture diameter of these apertures is controlled on the small aperture side.
【0006】なお、小孔と大孔とを両面より同時にエッ
チングする両面エッチング法では、レジストの開孔寸法
に比べてエッチングで得られた凹部の開孔寸法が大きく
なるサイドエッチング現象の制御が難しく、小孔と大孔
とが連結した以降にも、小孔のエッチングが進むため、
開孔径の制御が難しい。これに対し、2段エッチング法
では、第2エッチング工程においては小孔は再度のエッ
チングがされないように、小孔側の凹部に耐エッチング
層を充填し、最初のエッチング工程における精確な小孔
パターンを維持できるようにし、金属薄板厚よりも小さ
い開孔を可能としている。In the double-sided etching method in which small holes and large holes are simultaneously etched from both sides, it is difficult to control the side etching phenomenon in which the opening size of the recess obtained by etching is larger than the opening size of the resist. Since the etching of the small holes proceeds even after the small holes and the large holes are connected,
It is difficult to control the aperture size. On the other hand, in the two-step etching method, in order to prevent the small holes from being etched again in the second etching step, the recesses on the small hole side are filled with the etching resistant layer, and the accurate small hole pattern in the first etching step is formed. Is maintained, and an opening smaller than the thin metal plate thickness is possible.
【0007】そして、カラーディスプレイ管用のシャド
ウマスクの2段エッチングにおいては、紫外線硬化型樹
脂とグラビアロールを用いるグラビアコータを組合せた
耐エッチング層形成方法が耐エッチング層塗布液の充填
性能が高く、省エネルギーも可能で、工程コストも安い
ことから注目されている。In the two-stage etching of a shadow mask for a color display tube, a method of forming an etching resistant layer combining an ultraviolet curable resin and a gravure coater using a gravure roll has a high filling performance of the etching resistant layer coating liquid and saves energy. It is also possible and the process cost is low, so it is attracting attention.
【0008】ところが、カラーディスプレイ管用のシャ
ドウマスクに比べてカラー受像管用のシャドウマスクは
板厚が厚く、最初のエッチングにおける小孔に対応する
凹部の深さも深く、開孔形状が等方的な円形ではなく異
方性を有する矩形となっており耐エッチング層形成工程
において塗布のし易さに異方性がある。However, a shadow mask for a color picture tube has a thicker thickness than a shadow mask for a color display tube, the depth of a recess corresponding to a small hole in the first etching is deep, and the shape of the opening is an isotropic circle. Rather, it has a rectangular shape with anisotropy, and thus is easy to apply in the etching resistant layer forming step.
【0009】このため、グラビアロールは直径約20m
mないし60mmの小径のものを用いて、シャドウマス
クの凹部への耐エッチング層の形成の押し込み力を増
し、容易にシャドウマスクの凹部内の空気と置換し、凹
部に確実に耐エッチング層塗布液を充填している。Therefore, the gravure roll has a diameter of about 20 m.
A small diameter of m to 60 mm is used to increase the pushing force for forming the etching resistant layer in the concave portion of the shadow mask and easily replace the air in the concave portion of the shadow mask to ensure that the concave portion of the shadow mask is coated with the etching resistant layer coating solution. Is filled.
【0010】一方、シャドウマスクを形成する帯状金属
薄板の板厚が厚く、走行のテンションも高くなるため、
グラビアロールの消耗が激しく、グラビアロールが消耗
すると帯状金属薄板に傷をつけるおそれがあり、グラビ
アロールの寿命が非常に短くなってしまう。On the other hand, since the strip-shaped metal thin plate forming the shadow mask is thick and the running tension is high,
The wear of the gravure roll is severe, and the wear of the gravure roll may damage the strip-shaped metal thin plate, resulting in a very short life of the gravure roll.
【0011】そこで、たとえば特開2001−1048
52号公報に記載のように、セラミックス製のグラビア
ロールを用い、このセラミックス製のグラビアロールで
耐エッチング層を形成する構成が知られている。Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-1048
As described in Japanese Patent Laid-Open No. 52-52, there is known a structure in which a ceramic gravure roll is used and an etching resistant layer is formed by the ceramic gravure roll.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開2
001−104852号公報に記載のようにセラミック
ス製のグラビアロールを用いても、硬度によってはあま
り寿命が長くすることができなかったり、空孔率によっ
てはグラビアロールに欠けが生じてかえって寿命が短く
なるおそれがある問題を有している。[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
Even when a ceramic gravure roll is used as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 001-104852, the life of the gravure roll cannot be extended depending on the hardness, or the gravure roll is chipped depending on the porosity, and the life is rather short. It has a problem that may occur.
【0013】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、グラビアロールを長寿命化したシャドウマスクの製
造方法およびシャドウマスク製造用耐エッチング層塗布
装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a shadow mask in which a gravure roll has a long life and an etching resistant layer coating apparatus for manufacturing a shadow mask.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は、エッチングに
より複数の凹部が形成された第1の主面およびこの第1
の主面と反対側の面で複数の開口をもつレジスト層が形
成された第2の主面を有する帯状金属薄板に、少なくと
も周囲がビッカース硬度が1000以上で空孔率5%以
下のセラミックス材で形成され、このセラミックス材の
表面に彫刻部が形成されたグラビアロールを用い、この
グラビアロールの表面に耐エッチング層塗布液を塗布
し、このグラビアロールの表面を第1の主面に接触させ
て耐エッチング層塗布液を塗布して第1の主面に耐エッ
チング層を形成するもの、あるいは、エッチングにより
複数の凹部が形成された第1の主面およびこの第1の主
面と反対側の面で複数の開口をもつレジスト層が形成さ
れた第2の主面を有する帯状金属薄板の第1の主面の凹
部に耐エッチング層塗布液を塗布するシャドウマスク製
造用耐エッチング層塗布装置において、少なくとも周囲
がビッカース硬度1000以上で空孔率5%以下のセラ
ミックス材で形成され、このセラミックス材の表面に形
成され耐エッチング層塗布液を保持する彫刻部を有し、
第1の主面に耐エッチング層を形成するグラビアロール
を具備したのもので、グラビアロールの少なくとも周囲
のセラミックス材のビッカース硬度を1000以上とす
ることによりセラミックス材が帯状金属薄板に接触して
回転することによる摩耗を抑制するとともに、空孔率を
5%以下とすることによりセラミックス材が帯状金属薄
板に接触して回転する際に欠けが生ずることを防止し
て、グラビアロールの長寿命化を図る。According to the present invention, there is provided a first main surface having a plurality of recesses formed by etching, and the first main surface.
Of the strip-shaped metal thin plate having a second main surface on which a resist layer having a plurality of openings is formed on the surface opposite to the main surface of the ceramic material having a Vickers hardness of 1000 or more and a porosity of 5% or less. The gravure roll having the engraved portion formed on the surface of the ceramic material is applied to the surface of the gravure roll by applying the etching resistant layer coating liquid, and the surface of the gravure roll is brought into contact with the first main surface. To form an etching resistant layer on the first main surface by applying an etching resistant layer coating solution, or the first main surface having a plurality of recesses formed by etching and the side opposite to the first main surface. Etching-resistant layer for producing a shadow mask for applying a coating solution for etching-resistant layer to the concave portion of the first principal surface of the strip-shaped metal thin plate having the second principal surface on which the resist layer having a plurality of openings is formed. In the cloth device, at least around it is formed by pores of 5% or less of the ceramic material in the Vickers hardness of 1000 or more, has an engraving unit that holds the ceramic material etching resistant layer-coating solution is formed on the surface of,
A gravure roll that forms an etching resistant layer on the first main surface is provided, and the ceramics material is brought into contact with the strip-shaped metal thin plate to rotate by setting the Vickers hardness of the ceramics material at least around the gravure roll to 1000 or more. The wear of the ceramic material is suppressed to 5% or less, and when the ceramic material comes into contact with the strip-shaped thin metal plate and is prevented from chipping when rotating, the life of the gravure roll is extended. Try.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照して説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0016】まず、カラー受像管1について、図4を参
照して説明する。First, the color picture tube 1 will be described with reference to FIG.
【0017】このカラー受像管1は、図4に示すよう
に、内部を真空に保つ真空外囲器としてのガラスバルブ
2を有し、このガラスバルブ2の基端側には3つの電子
ビームを形成、変調および収束させる電子銃3が配設さ
れ、ガラスバルブ2の先端側にはガラスバルブ2の一部
を構成するパネル4が設けられている。また、このパネ
ル4の内面側には、3本の電子ビームがそれぞれ射突す
ることにより赤、緑および青の3色をそれぞれ発光する
蛍光体層を有した蛍光スクリーン5が配設されている。
また、この電子銃3および蛍光スクリーン5の間には、
電子ビームの位置をコントロールし画面全体に電子ビー
ムを走査する図示しない偏向ヨークが配設されている。
さらに、蛍光スクリーン5から所定間隔離れて対向し、
全面に多数の矩形状の開孔が所定の大きさ、ピッチで配
列されている色選別電極としてのシャドウマスク6が配
設されている。なお、シャドウマスク6は、これら開孔
により電子銃3から放出された3本の電子ビームを選別
しそれぞれ対応する蛍光耐層に幾何学的に1対1で対応
させる電子銃3から放出された電子ビームがそれぞれ所
定の蛍光体層に正確に射突させる。As shown in FIG. 4, the color picture tube 1 has a glass bulb 2 as a vacuum envelope for keeping the inside vacuum, and three electron beams are provided on the base end side of the glass bulb 2. An electron gun 3 for forming, modulating and converging is provided, and a panel 4 forming a part of the glass bulb 2 is provided at the tip end side of the glass bulb 2. Further, on the inner surface side of the panel 4, a fluorescent screen 5 having a phosphor layer that emits three colors of red, green, and blue by being hit by three electron beams is disposed. .
Further, between the electron gun 3 and the fluorescent screen 5,
A deflection yoke (not shown) for controlling the position of the electron beam and scanning the electron beam over the entire screen is provided.
Furthermore, facing the fluorescent screen 5 at a predetermined interval,
A shadow mask 6 is arranged as a color selection electrode in which a large number of rectangular openings are arranged on the entire surface at a predetermined size and pitch. In addition, the shadow mask 6 is emitted from the electron gun 3 which selects three electron beams emitted from the electron gun 3 through these holes and geometrically makes a one-to-one correspondence with the corresponding fluorescent resistant layers. Each of the electron beams accurately strikes a predetermined phosphor layer.
【0018】シャドウマスク6はカラー受像管1の製造
工程において蛍光スクリーン5を形成する際のフォトマ
スクとして使用されるため,シャドウマスク6の開孔径
のばらつきやむらの品位は、そのまま、蛍光スクリーン
5のストライプ径やむらの品位に出てしまう。このた
め、カラー受像管1の表示品位を上げるためには、シャ
ドウマスク6の品位を上げる必要がある。Since the shadow mask 6 is used as a photomask when forming the fluorescent screen 5 in the manufacturing process of the color picture tube 1, the quality of the variation and unevenness of the aperture diameter of the shadow mask 6 remains the same. Will appear in the stripe diameter and unevenness of. Therefore, in order to improve the display quality of the color picture tube 1, it is necessary to improve the quality of the shadow mask 6.
【0019】この実施の形態の製造方法および製造装置
により得られたシャドウマスク6は、開孔の形状および
径にばらつきがなく、むら品位が良好であるため、表示
品位の良好なカラー受像管1を得ることができる。The shadow mask 6 obtained by the manufacturing method and the manufacturing apparatus of this embodiment has no variation in the shape and diameter of the apertures and has good uneven quality, so that the color picture tube 1 with good display quality is obtained. Can be obtained.
【0020】次に、図1を参照してこのシャドウマスク
6を製造するシャドウマスク製造用耐エッチング層塗布
装置について説明する。Next, with reference to FIG. 1, an etching resistant layer coating apparatus for manufacturing the shadow mask 6 for manufacturing the shadow mask 6 will be described.
【0021】このシャドウマスク製造用耐エッチング層
塗布装置は、図1に示すように、2段の塗布装置10,11
を有しており、これら塗布装置10,11には連続してシャ
ドウマスクの基材であるたとえば36重量%のニッケル
を含有する鉄ニッケル合金のアンバー材の帯状金属薄板
12が掛け渡されている。すなわち、それぞれの塗布装置
10,11は、図示しない駆動装置によって上下方向の移動
が可能な2個の展張ロール13,14を有しており、これら
展張ロール13,14の下面に帯状金属薄板12が配設され、
これら展張ロール13,14により下方に向けて付勢された
状態で搬送され、これら塗布装置10,11の部分では帯状
金属薄板12は略水平に走行している。As shown in FIG. 1, this etching-resistant layer coating apparatus for producing a shadow mask is a two-stage coating apparatus 10, 11
These coating apparatuses 10 and 11 are continuously provided with a strip-shaped metal thin plate of an amber material of an iron-nickel alloy containing, for example, 36% by weight of nickel, which is a base material of a shadow mask.
12 have been passed over. That is, each coating device
10 and 11 have two spreading rolls 13 and 14 which can be moved in the vertical direction by a driving device (not shown), and a strip-shaped metal thin plate 12 is arranged on the lower surfaces of these spreading rolls 13 and 14,
The spreading rolls 13 and 14 convey the strip-shaped metal thin plate 12 in a state in which it is urged downward, and the strip-shaped metal thin plate 12 runs substantially horizontally in the portions of the coating devices 10 and 11.
【0022】また、展張ロール13,14間の帯状金属薄板
12の下方には、約20mmないし約60mmの直径のグ
ラビアロール16が設けられている。このグラビアロール
16は、図2および図3に示すように、中心に金属ロール
17を有し、この金属ロール17の周囲に必要に応じ下地処
理をし、この金属ロール17の周囲にビッカース硬度10
00以上、好適には1100以上、空孔率5%以下、好
適には3.5%以下の酸化クロムのセラミックス材18が
溶射させ、表面を研磨させて形成されている。さらに、
セラミックス材18の外周には耐エッチング層塗布液を充
填する彫刻部19がレーザ加工により形成されている。そ
して、上流側の塗布装置10のグラビアロール16の彫刻部
19には、ピッチが略0.35mmないし0.50mm、
深さが略0.15mmないし0.3mmでグラビアロー
ル16の中心軸に対し略45°ないし70°傾斜した溝が
らせん状に設けられている。一方、下流側の塗布装置11
のグラビアロール16の彫刻部19には、ピッチが略0.1
5mmないし0.20mm、深さが略0.04mmない
し0.08mmでグラビアロール16の中心軸に対し略4
5°ないし70°傾斜した溝がらせん状に設けられてい
る。Further, a strip-shaped metal thin plate between the spreading rolls 13 and 14
Below the 12 is a gravure roll 16 having a diameter of about 20 mm to about 60 mm. This gravure roll
16 is a metal roll at the center, as shown in FIG. 2 and FIG.
The metal roll 17 is provided with a Vickers hardness of 10 on the periphery of the metal roll 17 by subjecting the periphery of the metal roll 17 to a base treatment as required.
The ceramic material 18 of chromium oxide having a porosity of 00 or more, preferably 1100 or more and a porosity of 5% or less, preferably 3.5% or less is sprayed and the surface is polished to form. further,
On the outer periphery of the ceramic material 18, an engraved portion 19 for filling the coating liquid for the etching resistant layer is formed by laser processing. Then, the engraving part of the gravure roll 16 of the coating device 10 on the upstream side
19 has a pitch of about 0.35 mm to 0.50 mm,
A groove having a depth of about 0.15 mm to 0.3 mm and inclined at about 45 ° to 70 ° with respect to the central axis of the gravure roll 16 is provided in a spiral shape. On the other hand, the coating device 11 on the downstream side
The engraving part 19 of the gravure roll 16 has a pitch of about 0.1.
5mm to 0.20mm, depth about 0.04mm to 0.08mm, about 4 to the center axis of the gravure roll 16.
The grooves inclined 5 ° to 70 ° are provided spirally.
【0023】そして、グラビアロール16は、図示しない
駆動モータにより直接または間接的に、高速で帯状金属
薄板12の走行方向と逆方向に回転される。グラビアロー
ル16の周速度は帯状金属薄板12の走行速度の4〜25倍
であることが望ましい。The gravure roll 16 is rotated directly or indirectly by a drive motor (not shown) at a high speed in the direction opposite to the traveling direction of the strip-shaped metal sheet 12. The peripheral speed of the gravure roll 16 is preferably 4 to 25 times the running speed of the strip-shaped metal sheet 12.
【0024】また、このグラビアロール16の下方には、
図示しない基台上に載置された耐エッチング層塗布液の
オーバーフロー分を受ける容器21が固定されている。Below the gravure roll 16,
A container 21 that receives an overflow of the etching-resistant layer coating liquid placed on a base (not shown) is fixed.
【0025】そして、この容器21上には、グラビアロー
ル16にたとえば無溶剤タイプのUV硬化型樹脂の耐エッ
チング層塗布液22を供給する塗布液供給ノズル23が配設
されている。また、この塗布液供給ノズル23には、グラ
ビアロール16の彫刻部19上の塗布液供給ノズル23より供
給された耐エッチング層塗布液22が帯状金属薄板12に移
動する直前の位置に、余剰の耐エッチング層塗布液22を
掻き取るドクターブレード24がドクターブレード押さえ
25により押さえられて設けられている。一方、塗布液供
給ノズル23の下部には、耐エッチング層塗布液22の供給
量を規制するとともに液だれすることを防止するナイロ
ンブレード26が取り付けられている。On the container 21, a coating liquid supply nozzle 23 for supplying the gravure roll 16 with, for example, a solvent-free type UV-curable resin anti-etching layer coating liquid 22 is provided. In addition, the coating liquid supply nozzle 23 is provided with a surplus at a position immediately before the etching-resistant layer coating liquid 22 supplied from the coating liquid supply nozzle 23 on the engraving portion 19 of the gravure roll 16 moves to the strip-shaped metal thin plate 12. The doctor blade 24, which scrapes off the coating liquid 22 for the etching resistant layer, holds down the doctor blade.
It is held down by 25. On the other hand, below the coating liquid supply nozzle 23, a nylon blade 26 is attached that regulates the supply amount of the etching resistant layer coating liquid 22 and prevents dripping.
【0026】また、耐エッチング層塗布液22の塗布時に
は、展張ロール13,14の下面は、グラビアロール16と接
している帯状金属薄板12の上側表面より下方に位置する
ようになっており、グラビアロール16と帯状金属薄板12
のなす角度および接触面積を規制し、帯状金属薄板12の
上方のグラビアロール16に対向する部分にはバックロー
ルなどの支持部材が配設されていないため、走行してい
る帯状金属薄板12の第2の主面は自由状態である。一
方、耐エッチング層塗布液22の非塗布時には、展張ロー
ル13,14は上側に移動し、帯状金属薄板12の下面をグラ
ビアロール16から離している。When the coating liquid 22 for etching resistant layer is applied, the lower surfaces of the spreading rolls 13 and 14 are positioned below the upper surface of the strip-shaped metal sheet 12 which is in contact with the gravure roll 16. Roll 16 and strip 12
The angle formed by and the contact area are regulated, and since a supporting member such as a back roll is not disposed in a portion facing the gravure roll 16 above the strip-shaped metal thin plate 12, the first strip of the strip-shaped metal thin plate 12 that is running. The main surface of 2 is a free state. On the other hand, when the etching-resistant layer coating liquid 22 is not applied, the spreading rolls 13 and 14 move upward and separate the lower surface of the strip-shaped metal thin plate 12 from the gravure roll 16.
【0027】次に、上記実施の形態のシャドウマスク製
造用耐エッチング層塗布装置の動作について図5ないし
図13を参照して説明する。Next, the operation of the etching resistant layer coating apparatus for manufacturing a shadow mask according to the above embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 13.
【0028】まず、帯状金属薄板12の表面に付着する圧
延油や防錆油を脱脂、洗浄し、乾燥する。その後、図5
に示すように、帯状金属薄板12の下面の第1の主面およ
びこの第1の主面と反対側の上面である第2の主面の両
面にたとえばカゼインおよび重クロム酸塩を主成分とす
る水溶性の感光剤を所定の厚さで塗布し乾燥することに
より、厚さ数μmの感光膜31,32を形成する。First, rolling oil or rust preventive oil adhering to the surface of the strip-shaped metal thin plate 12 is degreased, washed, and dried. After that, FIG.
As shown in, the main components of the lower surface of the strip-shaped metal sheet 12 are, for example, casein and dichromate as main components on both the first main surface and the second main surface which is the upper surface opposite to the first main surface. By applying a water-soluble photosensitizer having a predetermined thickness and drying, the photosensitive films 31 and 32 having a thickness of several μm are formed.
【0029】次に、シャドウマスク6の開孔の電子銃3
側の凹部である小孔33に対応するパターンが形成された
原版34および蛍光スクリーン5側の大孔35に対応するパ
ターンが形成された原版36を有する一対のフォトマスク
を用い、図6に示すように、両面の感光膜31,32に原版
34,36を各々密着して露光し、これら原版34,36のパタ
ーンを焼き付ける。Next, the electron gun 3 having the aperture of the shadow mask 6 is formed.
FIG. 6 shows a pair of photomasks having an original plate 34 having a pattern corresponding to the small holes 33 which are concave portions on the side and an original plate 36 having a pattern corresponding to the large holes 35 on the fluorescent screen 5 side. To the photosensitive film 31, 32 on both sides
34 and 36 are closely contacted and exposed, and the patterns of these original plates 34 and 36 are printed.
【0030】その後、それぞれのパターンが焼き付けら
れた感光膜31,32を水で現像し、未感光部を除去して帯
状金属薄板12の表面の一部を露出させ、図7に示すよう
に、一対の原版34,36のパターンに対応するレジストパ
ターン37,38を形成する。After that, the photosensitive films 31 and 32 having the respective patterns printed thereon are developed with water to remove the unexposed portions to expose a part of the surface of the strip-shaped metal thin plate 12, and as shown in FIG. Resist patterns 37 and 38 corresponding to the patterns of the pair of original plates 34 and 36 are formed.
【0031】さらに、図8に示すように、レジストパタ
ーン38の形成された第2の主面側に、CPPなどの耐エ
ッチング性樹脂フィルムに粘着材を塗布した構成を有す
る保護フィルム41を粘着する。一方、第1のエッチング
としてレジストパターン37の形成された第1の主面側に
は、塩化第2鉄溶液をエッチング液としてスプレーして
エッチングし、このエッチングによりこのレジストパタ
ーン37の形成された第1の主面側の金属露出部分に、シ
ャドウマスク6の電子銃3側の小孔33を形成する。Further, as shown in FIG. 8, a protective film 41 having a structure in which an adhesive material is applied to an etching resistant resin film such as CPP is adhered to the second main surface side where the resist pattern 38 is formed. . On the other hand, the first main surface side where the resist pattern 37 is formed as the first etching is etched by spraying a ferric chloride solution as an etching solution, and the etching is performed on the first main surface side where the resist pattern 37 is formed. A small hole 33 on the electron gun 3 side of the shadow mask 6 is formed in the metal exposed portion on the main surface side of 1.
【0032】そして、この第1のエッチングの終了後に
工業用水を帯状金属薄板12に散布し、図9に示すよう
に、帯状金属薄板12の第1の主面、特に小孔33内に残存
するエッチング液を均一かつ高速に置換洗浄し、小孔33
内に残存するエッチング液を除去する。After the completion of the first etching, industrial water is sprinkled on the strip-shaped metal sheet 12, and as shown in FIG. 9, it remains on the first main surface of the strip-shaped metal sheet 12, particularly in the small holes 33. The etching solution is uniformly and rapidly replaced and cleaned, and small holes 33
The etching liquid remaining inside is removed.
【0033】次に、第1のエッチングが終了した第1の
主面側のレジスト層としてのレジストパターン37を水酸
化ナトリウムを主体とする高温の水溶液で剥離除去し、
工業用水および純水でスプレー水洗および乾燥させた
後、レジストパターン38側に形成された保護フィルム41
を取り除き、図10に示すように、小孔33内に塗布装置
10、11を用いて、耐エッチング層塗布液22を塗布して、
耐エッチング層塗布液22に図示しないUV硬化ランプに
より紫外線を照射し、耐エッチング層42を形成する。Next, the resist pattern 37 serving as the resist layer on the first main surface side after the first etching is peeled off with a high temperature aqueous solution containing sodium hydroxide as a main component,
A protective film 41 formed on the resist pattern 38 side after spray washing with industrial water and pure water and drying.
And remove the coating device inside the small hole 33 as shown in FIG.
Using 10 and 11, apply the etching resistant layer coating liquid 22,
The etching resistant layer coating liquid 22 is irradiated with ultraviolet rays by a UV curing lamp (not shown) to form the etching resistant layer 42.
【0034】この耐エッチング層42を形成するに際して
は、上流側の塗布装置10により第1の主面の小孔33内に
余剰の耐エッチング層塗布液22を押し込みながら小孔33
内の空気と十分に置換し、この後に下流側の塗布装置11
で耐エッチング層塗布液22の膜厚を制御できる。また、
このように2つの塗布装置10,11を用いると、小孔33の
深い凹部、より高精細マスクの細かく深い凹部、有効部
外の面積の大きい深い凹部、さらには、レジストが残っ
た状態の小孔33にも、耐エッチング層塗布液22の十分な
充填が可能となる。なお、上流側の塗布装置10のグラビ
アロール16の彫刻部19の方が下流側の塗布装置11の塗布
装置11のグラビアロール16の彫刻部19より粗く、より多
くの耐エッチング層塗布液22を保持できるようになって
いるため、上流側の塗布装置10のグラビアロール16で耐
エッチング層塗布液22を十分に供給し、下流側の塗布装
置11のグラビアロール16で耐エッチング層塗布液22の膜
厚を制御している。In forming the etching resistant layer 42, the excess coating material 22 for etching resistant layer is pushed into the small holes 33 on the first main surface by the coating device 10 on the upstream side while the small holes 33 are formed.
The air inside is sufficiently replaced, and after this, the downstream coating device 11
Thus, the film thickness of the etching resistant layer coating liquid 22 can be controlled. Also,
When the two coating devices 10 and 11 are used in this manner, the deep recesses of the small holes 33, the fine and deep recesses of a finer mask, the deep recesses having a large area outside the effective portion, and the small remaining resist The holes 33 can also be sufficiently filled with the etching resistant layer coating liquid 22. The engraved portion 19 of the gravure roll 16 of the coating device 10 on the upstream side is rougher than the engraved portion 19 of the gravure roll 16 of the coating device 11 of the coating device 11 on the downstream side, and a larger amount of the etching resistant layer coating liquid 22 is provided. Since it can be held, the etching-resistant layer coating liquid 22 is sufficiently supplied by the gravure roll 16 of the coating device 10 on the upstream side, and the etching-resistant layer coating liquid 22 of the gravure roll 16 of the coating device 11 on the downstream side is supplied. The film thickness is controlled.
【0035】その後、耐エッチング層42上に、必要に応
じて保護フィルム43を貼着する。Thereafter, a protective film 43 is attached on the etching resistant layer 42, if necessary.
【0036】また、図11に示すように、レジストパタ
ーン38が形成されている第2の主面側を、塩化第2鉄溶
液のエッチング液をスプレーすることにより第2のエッ
チングし、レジストパターン38が形成されている第2の
主面側に、シャドウマスク6の蛍光スクリーン5側の大
孔35を形成し、小孔33と貫通させて開孔44を形成する。Further, as shown in FIG. 11, the second main surface side on which the resist pattern 38 is formed is second-etched by spraying an etching solution of a ferric chloride solution to form the resist pattern 38. A large hole 35 on the side of the fluorescent screen 5 of the shadow mask 6 is formed on the side of the second main surface on which is formed, and an opening 44 is formed so as to penetrate the small hole 33.
【0037】そして、この第2のエッチングの終了後、
帯状金属薄板12に工業用水を散布し、図12に示すよう
に、帯状金属薄板12の表面、特に大孔35内に残存するエ
ッチング液22を工業用水で均一にかつ高速で置換し、エ
ッチング液22を除去する。After completion of this second etching,
Industrial water is sprinkled on the strip-shaped metal sheet 12, and as shown in FIG. 12, the etching solution 22 remaining on the surface of the strip-shaped metal sheet 12, particularly in the large holes 35 is uniformly and rapidly replaced with industrial water. Remove 22.
【0038】この後、帯状金属薄板12の第1の主面側に
貼着された保護フィルム43を取り除き、その後、図示し
ない剥離装置で水酸化ナトリウムを主体とする高温の水
溶液により、大孔35の形成された第2の主面側のレジス
トパターン38および小孔33が形成された第1の主面側の
耐エッチング層42を剥離除去する。さらに、帯状金属薄
板12を水洗し、乾燥することにより、図13に示すよう
に、小孔33および大孔35が連通した複数の矩形状の開孔
44が帯状金属薄板12に形成される。After that, the protective film 43 attached to the first main surface side of the strip-shaped metal thin plate 12 is removed, and then a large hole 35 is formed by a high temperature aqueous solution mainly containing sodium hydroxide by a peeling device (not shown). The resist pattern 38 formed on the second main surface side and the etching resistant layer 42 on the first main surface side where the small holes 33 are formed are peeled off. Further, by washing the strip-shaped metal thin plate 12 with water and drying the strip-shaped metal thin plate 12, as shown in FIG. 13, a plurality of rectangular apertures communicating with the small holes 33 and the large holes 35 are formed.
44 is formed on the strip metal sheet 12.
【0039】上記実施の形態によれば、グラビアロール
16を直径約20mmないし約60mmの小径として帯状
金属薄板12との接触面積を小さくするとともに、帯状金
属薄板12の搬送方向に対してグラビアロール16を逆方向
に高速で回転させることにより、大きな剪断力が発生
し、小孔33への耐エッチング層塗布液22の押し込み力を
増大させ、小孔33内の空気と置換を容易にし、凹凸のあ
る帯状金属薄板12を用いても小孔33に容易に耐エッチン
グ層塗布液22を充填できる。According to the above embodiment, the gravure roll
A large shearing force can be obtained by reducing the contact area of the strip-shaped metal sheet 12 with the gravure roll 16 at a high speed in the opposite direction to the conveying direction of the strip-shaped metal sheet 12 by reducing the diameter of the strip 16 to a small diameter of about 20 mm to about 60 mm. A force is generated, the pushing force of the etching resistant layer coating liquid 22 into the small holes 33 is increased, the air in the small holes 33 is easily replaced, and the small holes 33 are formed even if the uneven metal strip 12 is used. The etching resistant layer coating liquid 22 can be easily filled.
【0040】また、グラビアロール16は、表面がビッカ
ース硬度1000以上、空孔率5%以下のセラミックス
材18で形成されているため、グラビアロール16の摩耗を
減少させることができるとともに、欠けの発生を防止
し、また、セラミックス材18の耐エッチング層塗布液22
を保持する彫刻部19がレーザ加工で彫刻されているた
め、帯状金属薄板12へのダメージが少なく、グラビアロ
ール16自体も長寿命する。Further, since the surface of the gravure roll 16 is made of a ceramic material 18 having a Vickers hardness of 1000 or more and a porosity of 5% or less, wear of the gravure roll 16 can be reduced and chipping occurs. And the coating material 22 for the etching resistant layer of the ceramic material 18
Since the engraving portion 19 for holding is engraved by laser processing, damage to the strip-shaped metal thin plate 12 is small, and the gravure roll 16 itself has a long life.
【0041】なお、全ての塗布装置10,11のすべてのグ
ラビアロール16の表面にセラミックス材18を形成する必
要はなく、摩耗の大きいグラビアロール16の表面のみに
セラミックス材18を形成しても良い。Note that it is not necessary to form the ceramic material 18 on the surfaces of all the gravure rolls 16 of all the coating devices 10 and 11, and the ceramic material 18 may be formed only on the surface of the gravure roll 16 which is worn a lot. .
【0042】また、金属ロール17にセラミックス材18を
容易に溶射でき確実に設けられるのであれば、グラビア
ロール16の表面にセラミックス材18を溶射するに先だっ
て、金属ロール17の外周面に下地処理をしなくても良
い。If the ceramic material 18 can be easily sprayed onto the metal roll 17 and the ceramic roll 18 can be surely provided, the outer peripheral surface of the metal roll 17 is subjected to a surface treatment before the ceramic material 18 is sprayed onto the surface of the gravure roll 16. You don't have to.
【0043】さらに、グラビアロール16のセラミックス
材18に酸化クロムを用いることにより、経済性があって
耐磨耗性があるとともにレーザ加工も容易になるが、レ
ーザ加工が可能であれば酸化クロム以外のものも用いる
ことができる。Further, by using chromium oxide for the ceramic material 18 of the gravure roll 16, it is economical, has abrasion resistance and facilitates laser processing. However, if laser processing is possible, other than chromium oxide can be used. The thing of can also be used.
【0044】また、ドクターブレード24により、グラビ
アロール16の彫刻部19上の耐エッチング層塗布液22の厚
さを、常に所定の均一な厚さに調整してから帯状金属薄
板12に供給しているため、安定した膜厚、塗工状態が得
られる。Further, the thickness of the etching resistant layer coating liquid 22 on the engraved portion 19 of the gravure roll 16 is always adjusted to a predetermined uniform thickness by the doctor blade 24 and then supplied to the strip-shaped metal thin plate 12. Therefore, a stable film thickness and coating state can be obtained.
【0045】そして、耐エッチング層塗布液22として
は、無溶剤タイプのUV硬化型樹脂を用いたが、水溶性
の熱乾燥型樹脂、熱硬化型樹脂、溶剤タイプの熱硬化型
樹脂あるいはホットメルト樹脂などいずれのものも用い
ることができる。A solventless type UV-curable resin was used as the etching resistant layer coating liquid 22, but a water-soluble heat-drying resin, thermosetting resin, solvent-type thermosetting resin, or hot-melt resin was used. Any material such as resin can be used.
【0046】次に、他の実施の形態について説明する。Next, another embodiment will be described.
【0047】上記実施の形態では、上流側の塗布装置10
および下流側の塗布装置11のいずれにもドクターブレー
ド24を用いたが、上流側の塗布装置10では、耐エッチン
グ層塗布液22を十分に供給するためにドクターブレード
を設けずに、耐エッチング層塗布液22を帯状金属薄板12
上に過剰に供給させてもよい。In the above embodiment, the coating device 10 on the upstream side is used.
Although the doctor blade 24 is used in both the coating device 11 on the downstream side and the coating device 11 on the downstream side, the coating device 10 on the upstream side does not include a doctor blade to sufficiently supply the etching-resistant layer coating liquid 22, and the etching-resistant layer. Apply the coating liquid 22 to the thin metal strip 12
It may be supplied in excess.
【0048】また、上流側の塗布装置10および下流側の
塗布装置11の2段としたが、小孔33が小径あるいは深く
ない場合、帯状金属薄板12に凹凸が少ない場合には、耐
エッチング層塗布液22の塗布が容易であるため装置を簡
易化するために塗布装置を1つにしてもよい。Although the upstream coating device 10 and the downstream coating device 11 are provided in two stages, the etching resistant layer is used when the small holes 33 are not small in diameter or deep and the thin metal strip 12 has few irregularities. Since the application of the application liquid 22 is easy, the number of application devices may be one in order to simplify the device.
【0049】この場合、グラビアロール16より下流側で
展張ロール14の手前に第2の主面上に上方から帯状金属
薄板12を押圧する補助ロールを設け、小孔33内の空気の
置換あるいは膜厚の制御をより効果的にできるようにし
てもよい。In this case, an auxiliary roll for pressing the strip-shaped metal sheet 12 from above is provided on the second main surface on the downstream side of the gravure roll 16 and in front of the spreading roll 14, and the air in the small hole 33 is replaced or the film is replaced. The thickness may be controlled more effectively.
【0050】また、塗布装置が1つの場合には、耐エッ
チング層塗布液22を過剰に供給するために、塗布装置の
上流側にスリットコータを設け、帯状金属薄板12に耐エ
ッチング層塗布液22を予め塗布するようにしてもよい。
なお、この場合には、塗布装置の上流側で帯状金属薄板
12を裏返すようにし、帯状金属薄板12の状面側にスリッ
トコータを配設し、帯状金属薄板12の上面から耐エッチ
ング層塗布液22を塗布することが好ましい。そして、ス
リットコータにより耐エッチング層塗布液22を帯状金属
薄板12上に過剰に供給し、塗布装置により過剰に供給さ
れた耐エッチング層塗布液22を凹部に押し込みながら、
かつ膜厚を制御して所望の厚さで均一にする。In the case of one coating device, a slit coater is provided on the upstream side of the coating device in order to excessively supply the etching resistant layer coating liquid 22, and the etching resistant layer coating liquid 22 is provided on the strip-shaped metal thin plate 12. May be applied in advance.
In this case, in the upstream side of the coating device, the strip-shaped metal thin plate
It is preferable that the strip coater 12 is turned upside down, a slit coater is arranged on the surface side of the strip metal thin plate 12, and the etching resistant layer coating liquid 22 is applied from the upper surface of the strip metal thin plate 12. Then, the slit coater excessively supplies the etching-resistant layer coating liquid 22 on the strip-shaped metal thin plate 12, while pushing the etching-resistant layer coating liquid 22 excessively supplied by the coating device into the concave portion,
In addition, the film thickness is controlled to make it uniform at a desired thickness.
【0051】ここで、上記実施の形態に基く効果につい
て表1を参照して説明する。Here, the effect based on the above embodiment will be described with reference to Table 1.
【0052】[0052]
【表1】 [Table 1]
【0053】まず、金属ロール17の周囲にビッカース硬
度1250、空孔率3%の酸化クロムからなるセラミッ
クス材18を形成した実施例1、2と、金属ロールの周囲
に硬質クロム(Cr)メッキを施した比較例1、2、3と
を用いた。First, Examples 1 and 2 in which a ceramic material 18 made of chromium oxide having a Vickers hardness of 1250 and a porosity of 3% was formed around the metal roll 17, and hard chromium (Cr) plating around the metal roll. The applied comparative examples 1, 2, and 3 were used.
【0054】そして、比較例1では板厚0.12mmの
帯状金属薄板で形成されるカラーディスプレイ管(CD
T)のシャドウマスクに耐エッチング層塗布液を塗布し
たところ、寿命は600,000mで十分な寿命が得ら
れた。In Comparative Example 1, a color display tube (CD
When the etching-resistant layer coating liquid was applied to the shadow mask of T), the life was 600,000 m, and a sufficient life was obtained.
【0055】次に、実施例1および比較例2では板厚
0.22mmの帯状金属薄板で形成されるカラー受像管
(CPT)のシャドウマスクに耐エッチング層塗布液を塗
布したところ、比較例2の金属ロールに硬質クロムメッ
キを施したグラビアロールの寿命は11,250mに低
下したものの、実施例1の金属ロール17にセラミックス
材18を形成したグラビアロール16の寿命は675,00
0mであり十分な寿命が得られた。Next, in Example 1 and Comparative Example 2, a color picture tube formed of a strip-shaped metal thin plate having a plate thickness of 0.22 mm.
When the etching resistant layer coating liquid was applied to the (CPT) shadow mask, the life of the gravure roll obtained by plating the metal roll of Comparative Example 2 with hard chromium was reduced to 11,250 m, but the metal roll of Example 1 was The life of the gravure roll 16 having the ceramic material 18 formed on it is 675,00
It was 0 m, and a sufficient life was obtained.
【0056】さらに、実施例2および比較例3では板厚
0.25mmの帯状金属薄板で形成されるカラー受像管
のシャドウマスクに耐エッチング層塗布液を塗布したと
ころ、比較例3の金属ロールに硬質クロムメッキを施し
たグラビアロールの寿命は9,000mに低下したもの
の、実施例2の金属ロール17にセラミックス材18を形成
したグラビアロール16の寿命は450,000mであり
十分な寿命が得られた。Furthermore, in Example 2 and Comparative Example 3, when the etching-resistant layer coating liquid was applied to the shadow mask of the color picture tube formed of a strip-shaped metal thin plate having a plate thickness of 0.25 mm, the metal roll of Comparative Example 3 was applied. Although the life of the hard chrome-plated gravure roll was reduced to 9,000 m, the life of the gravure roll 16 in which the ceramic material 18 was formed on the metal roll 17 of Example 2 was 450,000 m, and a sufficient life was obtained. It was
【0057】これらの実験結果から明らかなように、金
属ロール17にセラミックス材18を形成したグラビアロー
ル16では、カラー受像管1に用いる厚さの厚い帯状金属
薄板12に用いても、十分な寿命を得ることができる。As is clear from these experimental results, the gravure roll 16 in which the ceramic material 18 is formed on the metal roll 17 has a sufficient life even if it is used for the belt-shaped thin metal plate 12 having a large thickness used for the color picture tube 1. Can be obtained.
【0058】またセラミックス材18を形成したグラビア
ロール16を用いたテストではいずれもセラミックスの欠
けによるすじなどの欠陥は全く認められなかった。Further, in the test using the gravure roll 16 on which the ceramic material 18 is formed, no defects such as streaks due to chipping of the ceramic were found at all.
【0059】[0059]
【発明の効果】本発明によれば、グラビアロールの少な
くとも周囲のセラミックス材のビッカース硬度を100
0以上とすることによりセラミックス材が帯状金属薄板
に接触して回転することによる摩耗を抑制するととも
に、空孔率を5%以下とすることによりセラミックス材
が帯状金属薄板に接触して回転する際に欠けが生ずるこ
とを防止して、グラビアロールの長寿命化できる。According to the present invention, the Vickers hardness of the ceramic material at least around the gravure roll is 100.
When it is 0 or more, wear due to the ceramic material coming into contact with the strip-shaped metal thin plate and rotating is suppressed, and when the porosity is 5% or less, when the ceramic material comes into contact with the strip-shaped metal thin plate and rotates. It is possible to prevent the occurrence of chipping in the gravure roll and extend the life of the gravure roll.
【図1】本発明の一実施の形態のシャドウマスク製造用
耐エッチング層塗布装置を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an etching resistant layer coating apparatus for manufacturing a shadow mask according to an embodiment of the present invention.
【図2】同上グラビアロールの外観を示す斜視図であ
る。FIG. 2 is a perspective view showing an appearance of the same gravure roll.
【図3】同上グラビアロールを示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing the same gravure roll.
【図4】同上カラー受像管を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view showing a color picture tube of the same.
【図5】同上シャドウマスクの一製造工程を示す断面図
である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing one manufacturing process of the above shadow mask.
【図6】同上シャドウマスクの図5の次の製造工程を示
す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing the next manufacturing step of the above shadow mask of FIG. 5;
【図7】同上シャドウマスクの図6の次の製造工程を示
す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing the next manufacturing process of the shadow mask shown in FIG.
【図8】同上シャドウマスクの図7の次の製造工程を示
す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing the next manufacturing step of the above shadow mask of FIG. 7;
【図9】同上シャドウマスクの図8の次の製造工程を示
す断面図である。9 is a cross-sectional view showing the next manufacturing process of the shadow mask shown in FIG. 8 next to FIG.
【図10】同上シャドウマスクの図9の次の製造工程を
示す断面図である。10 is a cross-sectional view showing the next manufacturing step of the shadow mask shown in FIG. 9 following the same.
【図11】同上シャドウマスクの図10の次の製造工程
を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing the next manufacturing step of the above shadow mask of FIG.
【図12】同上シャドウマスクの図11の次の製造工程
を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing the next manufacturing process of the above shadow mask of FIG.
【図13】同上シャドウマスクの図12の次の製造工程
を示す断面図である。13 is a cross-sectional view showing the next manufacturing process of the shadow mask shown in FIG. 12 next to the same.
12 帯状金属薄板 16 グラビアロール 17 金属ロール 18 セラミックス材 19 彫刻部 22 耐エッチング層塗布液 33 凹部である小孔 37 レジスト層としてのレジストパターン 42 耐エッチング層 12 strip metal sheet 16 Gravure roll 17 metal roll 18 Ceramics material 19 Sculpture Department 22 Etching-resistant layer coating liquid 33 Small hole that is a recess 37 Resist pattern as resist layer 42 Etching resistant layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 隈本 健次 兵庫県姫路市余部区上余部50番地 株式会 社東芝姫路工場内 Fターム(参考) 4K057 WA11 WB02 WB03 WC05 WM10 WM18 WN03 5C027 HH11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Kenji Kumamoto Hyogo Prefecture Himeji City Yobu Ward Kamamiyobe 50 Stock Association Company Toshiba Himeji Factory F-term (reference) 4K057 WA11 WB02 WB03 WC05 WM10 WM18 WN03 5C027 HH11
Claims (5)
た第1の主面およびこの第1の主面と反対側の面で複数
の開口をもつレジスト層が形成された第2の主面を有す
る帯状金属薄板に、少なくとも周囲がビッカース硬度1
000以上で空孔率5%以下のセラミックス材で形成さ
れ、このセラミックス材の表面に彫刻部が形成されたグ
ラビアロールを用い、このグラビアロールの表面に耐エ
ッチング層塗布液を塗布し、 このグラビアロールの表面を第1の主面に接触させて耐
エッチング層塗布液を塗布して第1の主面に耐エッチン
グ層を形成することを特徴とするシャドウマスクの製造
方法。1. A first main surface having a plurality of recesses formed by etching, and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings formed on the surface opposite to the first main surface. Vickers hardness of at least 1 on the periphery of a thin metal strip
000 or more and a porosity of 5% or less is used for the ceramic material, and a gravure roll having an engraved portion formed on the surface of the ceramic material is used. A method for producing a shadow mask, characterized in that the surface of the roll is brought into contact with the first main surface to apply an etching resistant layer coating liquid to form an etching resistant layer on the first major surface.
た第1の主面およびこの第1の主面と反対側の面で複数
の開口をもつレジスト層が形成された第2の主面を有す
る帯状金属薄板の第1の主面の凹部に耐エッチング層塗
布液を塗布するシャドウマスク製造用耐エッチング層塗
布装置において、 少なくとも周囲がビッカース硬度1000以上で空孔率
5%以下のセラミックス材で形成され、このセラミック
ス材の表面に形成され耐エッチング層塗布液を保持する
彫刻部を有し、第1の主面に耐エッチング層を形成する
グラビアロールを具備したことを特徴とするシャドウマ
スク製造用耐エッチング層塗布装置。2. A first main surface having a plurality of recesses formed by etching and a second main surface having a resist layer having a plurality of openings formed on the surface opposite to the first main surface. In an etching-resistant layer coating device for manufacturing a shadow mask, which coats an etching-resistant layer coating liquid on the concave portion of the first main surface of a strip-shaped metal thin plate, at least the periphery is made of a ceramic material having a Vickers hardness of 1000 or more and a porosity of 5% or less. And a gravure roll having an engraving portion formed on the surface of the ceramic material for holding an etching resistant layer coating liquid, and a gravure roll for forming an etching resistant layer on the first main surface. Etching-resistant layer coating device.
金属ロールの周囲に形成されこの金属ロールが露出しな
い状態で形成された彫刻部を有するセラミックス材とを
備えたことを特徴とする請求項2記載のシャドウマスク
製造用耐エッチング装置。3. The gravure roll comprises a metal roll and a ceramic material having an engraving portion formed around the metal roll and in a state in which the metal roll is not exposed. An etching resistant apparatus for manufacturing a shadow mask as described above.
とを特徴とする請求項2または3記載のシャドウマスク
製造用耐エッチング装置。4. The etching resistant apparatus for manufacturing a shadow mask according to claim 2, wherein the ceramic material is chromium oxide.
いることを特徴とする請求項2ないし4いずれか記載の
シャドウマスク製造用耐エッチング装置。5. The etching resistant apparatus for manufacturing a shadow mask according to claim 2, wherein the engraved portion is formed by laser processing.
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