JP2003220050A - 振動を減少させた高磁場開放型磁気共鳴マグネット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 開放型ＭＲＩシステムにおいて、望ましいシ
ステムの開放性を維持しながら撮像に悪影響を及ぼす振
動を減少させる。 【解決手段】 マグネット・アセンブリ・システムは、
長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にある第１
のアセンブリ（１４）と第２のアセンブリ（２６）を備
える。第１及び第２のアセンブリは撮像のための静磁場
を発生させる。第１と第２のアセンブリの間には、第１
と第２のアセンブリの間で開放撮像ボリュームを維持
し、さらに構造的支持を提供するために複数の支持ポス
ト（４２）を設けている。支持ポストの各々は、第１の
支持要素（３１０）と、撮像ボリューム（６６）から離
れた表面上で第１の支持要素に取り付けた第２の支持要
素（３２０）を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、全般的には、開放
型磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）のマグネット・シス
テムに関し、さらに詳細には、開放型マグネット・アセ
ンブリ内に包含される支持構造に関する。

【０００２】

【発明の背景】開放型ＭＲＩマグネットは一般に、厚い
円盤形状をした２つの磁極片を用いて製作されている。
水平開放型のマグネットでは、その磁極片は上側の水平
極と下側の水平極を有するように配列させる。撮像対象
はこれらの極の間のギャップに挿入する。別の配置で
は、磁極片（「２重ドーナツ」と呼ぶことが多い）から
なる面を有しており、患者は磁極片の中心にある穴
（「ドーナツ穴」）を通るように挿入している。この配
置では、医師その他の介助者がこのドーナツの間に立つ
ことができ、これにより患者にアクセスすることができ
る。

【０００３】典型的には、磁極片間には強い磁気力が存
在しており、また水平マグネット配置の場合では、その
上側磁極片はかなりの重さがあり支持しなければならな
い。磁極片の間には強靱でありかつ剛性がなかり大きい
支持ポストがあると都合がよい。スキャナの開放性を高
めるためには、そのポストをできるだけ狭い角度領域に
押し込めることが望ましい。しかし、狭いポストは振動
を起こしやすく、振動が起こると撮像に悪影響を及ぼ
す。

【０００４】０．７テスラ（Ｔ）やこれ以上の高磁場の
マグネット・システムでは、支持ポストの振動が撮像中
に高速スピンエコーのシーケンスにより検出されること
がある。この影響は、ＭＲＩシステムの機械系による共
鳴を発生させるような撮像傾斜の周期的印加に起因す
る。支持ポストが若干曲がると、撮像ボリューム内の磁
場が乱される。

【０００５】開放型ＭＲＩシステムにおいて、望ましい
システムの開放性を維持しながら撮像に悪影響を及ぼす
振動を減少させるようなマグネット配置が必要である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】第１の態様では、開放型
磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）システムで使用するた
めのマグネット・アセンブリ・システムであって、長手
方向に離間した関係で互いに反対の位置にある第１のア
センブリと第２のアセンブリを備えるマグネット・アセ
ンブリ・システムを提供する。この第１及び第２のアセ
ンブリによって撮像の際に使用する静磁場を発生させて
いる。さらに、第１と第２のアセンブリの間には、第１
と第２のアセンブリの間の開放撮像ボリュームを維持し
さらに構造的支持を提供するための複数の支持ポストを
設けている。この支持ポストの各々は、第１の支持要素
と、撮像ボリュームから離れた表面上でこの第１の支持
要素に取り付けた第２の支持要素と、を備えている。

【０００７】第２の態様では、開放型ＭＲＩシステムの
振動の減少方法であって、撮像ボリュームから離れた表
面上で支持ポストの各々に第２の支持要素を取り付ける
ことを含む振動減少方法を提供する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の特徴及び利点は、本発明
の以下の詳細な説明を添付の図面と共に読むことによっ
て明らかとなろう。

【０００９】ここで図面を参照すると、図面全体にわた
って同じ参照番号は同じ要素を表しており、図１〜２は
本発明のマグネット１０の実施の一形態を表している。
ある用途では、マグネット１０は、医学的診断に使用す
る磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）システム（図示せ
ず）向けの静磁場を提供する。本発明の記載にあたり、
あるマグネットが１つのコイル、１つの磁極片、１つの
デュワーなど１つの構成要素を含むように記述している
場合、そのマグネットには少なくとも１つのコイル、少
なくとも１つの磁極片、少なくとも１つのデュワー、な
どを含むことを意味していると理解すべきであることに
留意されたい。

【００１０】第１の実施形態では、超伝導マグネット１
０は、長手方向に延びる軸１２及び第１のアセンブリ１
４を含む。この第１のアセンブリ１４は、超伝導主コイ
ル１６及び磁化可能な磁極片１８を含む。この主コイル
１６は、軸１２と概して同軸状に整列し、第１の主電流
を第１の方向に流し、かつ軸１２から第１の放射方向距
離に配置される。この第１の方向は、電流方向の僅かな
長手方向成分を無視すると、軸１２の周りの時計廻りあ
るいは反時計廻りのいずれかの円周方向と規定される。
磁極片１８は軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１
のアセンブリ１４の主コイル１６から離間している。第
１のアセンブリ１４の磁極片１８の大部分は、第１のア
センブリ１４の主コイル１６の放射方向内側に配置され
る。第１のアセンブリ１４の磁極片１８は軸１２から放
射方向外側に第１の放射方向距離の少なくとも７５パー
セントに等しい距離だけ延びている。マグネット１０の
動作時には、第１のアセンブリ１４の磁極片１８は第１
のアセンブリ１４の主コイル１６の温度と概して等しい
温度を有する。第１のアセンブリ１４はテーブル・マグ
ネット（図示せず）として単独で用いられることがあ
り、あるいは（図に示すような）開放型マグネットの２
つのアセンブリの一方になることがあることに留意され
たい。マグネット１０の動作時には、第１のアセンブリ
１４の主コイル１６及び磁極片１８はクライオクーラの
コールドヘッド（図示せず）及び／または極低温流体そ
の他により冷却される。

【００１１】第２の実施形態では、超伝導マグネット１
０は長手方向に延びる軸１２及び第１のアセンブリ１４
を含む。この第１のアセンブリ１４は、超伝導主コイル
１６、磁化可能な磁極片１８及び極低温流体用デュワー
２０を含む。この超伝導主コイル１６は、軸１２と概し
て同軸状に整列し、かつ第１の主電流を第１の方向に流
している。この磁極片１８は、軸１２と概して同軸状に
整列し、主コイル１６から離間しており、かつ表面部分
２２を有する。磁極片１８の大部分は、主コイル１６の
放射方向内側に配置される。デュワー２０は主コイル１
６を囲繞し、かつ磁極片１８の表面部分２２によりその
一部が画定されるような内部表面２４を有する。

【００１２】具体的なマグネット設計では、当業者には
周知のように、その超伝導コイルで使用している超伝導
体の臨界電流密度を超えないようにマグネットの撮像ボ
リューム内に大きな磁場強度を実現するために、第１の
アセンブリ１４内に追加的な超伝導主コイル（図示せ
ず）を必要とすることがある。超伝導主コイル１６用の
超伝導体の一例はニオブ・チタンである。磁極片１８用
の素材の一例は鉄である。

【００１３】一例では、マグネット１０はまた、第１の
アセンブリ１４から長手方向に離間させた第２のアセン
ブリ２６を含む。この第２のアセンブリ２６は、超伝導
主コイル２８、磁化可能な磁極片３０及び極低温流体用
デュワー３２を含む。超伝導主コイル２８は、軸１２と
概して同軸状に整列し、かつ第１の主電流を上述の第１
の方向に流している。磁極片３０は、軸１２と概して同
軸状に整列し、主コイル２８から離間しており、かつ表
面部分３４を有する。この磁極片３０の大部分は、主コ
イル２８の放射方向内側に配置される。デュワー３２
は、主コイル２８を囲繞し、かつ磁極片３０の表面部分
３４によりその一部が画定されるような内部表面３６を
有する。図１及び２に示す例では、その磁極片１８はデ
ュワー２０の内部表面２４の画定に寄与していない別の
表面部分２３を含み、またその磁極片３０はデュワー３
２の内部表面３６の画定に寄与していない別の表面部分
３５を含む。

【００１４】ある構造では、マグネット１０はまた、磁
極片１８に取り付けられると共に第１のアセンブリ１４
の主コイル１６を支持する概して磁化されないコイルサ
ポート３８を含み、またさらに磁極片３０に取り付けら
れると共に第２のアセンブリ２６の主コイル２８を支持
する概して磁化されないコイルサポート４０を含む。こ
こで「磁化されない」とは、非磁性のステンレス鋼と同
程度にしか磁化できないことを意味する。コイルサポー
ト３８及び４０用の素材の一例は、非磁性のステンレス
鋼またはガラス繊維である。

【００１５】あるマグネット設計では、マグネット１０
はまた、第１のアセンブリ１４の磁極片１８に構造上取
り付けた（例えば、溶着させた）第１の端部を有し、第
２のアセンブリ２６の磁極片３０に構造上取り付けた
（例えば、溶着させた）第２の端部を有し、かつ表面部
分４４を有するような、概して磁化されない（第１の）
支持ポスト４２を含む。この（第１の）支持ポスト４２
用の素材の一例は非磁性のステンレス鋼である。この設
計では、マグネット１０はさらに、第１のアセンブリ１
４のデュワー２０及び第２のアセンブリ２６のデュワー
３２と流体連通する（第１の）デュワー・コンジット４
６を含む。この（第１の）デュワー・コンジット４６は
（第１の）支持ポスト４２の表面部分４４によりその一
部が画定されるような内部表面４８を有する。ここで、
プレート・アセンブリ５０は、第１のアセンブリ１４の
デュワー２０の内部表面の一部を画定している第１の部
分５２と、第２のアセンブリ２６のデュワー３２の内部
表面の一部を画定している第２の部分５４と、（第１
の）デュワー・コンジット４６の内部表面の一部を画定
している第３の部分５６とを含むような内部表面を有す
る。この例では、マグネット１０はさらに、熱シールド
５８及び真空容器６０を含む。熱シールド５８は、第１
及び第２のアセンブリ１４及び２６に関する磁極片１８
及び３０とデュワー２０及び３２、（第１の）支持ポス
ト４２、並びに（第１の）デュワー・コンジット４６か
ら離間していると共に、これらを全体的に囲繞してい
る。真空容器６０は、熱シールド５８から離間させると
共にこれをハーメチックに囲繞している。プレート・ア
センブリ５０、熱シールド５８及び真空容器６０用の素
材の一例は非磁性のステンレス鋼である。この例におい
て、上述した「離間」は、従来のスペーサ６２を用いて
達成できることに留意されたい。

【００１６】動作時には、マグネット１０は、第１及び
第２のアセンブリ１４及び２６のデュワー２０及び３２
内、並びに（第１の）デュワー・コンジット４６内に配
置された極低温流体６４を含むことになる。極低温流体
の一例は液体ヘリウムである。クライオクーラのコール
ドヘッド（図示せず）は、コールドヘッドの第１段を熱
シールド５８と接触させ、かつコールドヘッドの第２段
をデュワー２０及び３２の最高点近くでデュワーの無効
空間内に貫通させることにより、気化した液体ヘリウム
を再凝縮させるために使用することができる。本発明の
マグネットの別の実施形態（図示せず）では、第１及び
第２のアセンブリ１４及び２６はそれぞれ、自己完結型
のデュワー、熱シールド及び真空容器を有することにな
る。この際、支持ポストにより真空容器を相互接続させ
るか、あるいは２つのアセンブリ１４及び２６は「Ｃ」
字形アーム、床及び／または壁に対するボルト留め、ま
たはその他の手段によって離隔させた関係で支持される
ことになる。図示しないこの実施形態では、その極低温
流体６４は（第１の）デュワー・コンジット４６がない
ため、第１及び第２のアセンブリ１４及び２６のデュワ
ー２０及び３２内のみに配置されることになる。図１及
び２に示す実施形態では、マグネット１０はまた、全体
として軸１２上で第１アセンブリ１４及び第２のアセン
ブリ２６の間の長手方向に等距離に位置させた中心を有
する磁気共鳴撮像ボリューム６６を含む。撮像ボリュー
ム６６の形状の１つは球形である。第２のアセンブリ２
６は通常、軸１２と垂直でありかつ第１アセンブリ１４
と第２のアセンブリ２６間で全体として等距離に配置さ
れる面（図示せず）に関して、全体として第１のアセン
ブリ１４の鏡像となることに留意されたい。

【００１７】第３の例示的な実施形態では、開放型超伝
導マグネット１０は長手方向に延びる軸１２と、第１の
アセンブリ１４と、第１のアセンブリ１４と長手方向に
離間した第２のアセンブリ２６とを含む。第１のアセン
ブリ１４は、超伝導主コイル１６と、超伝導シールドコ
イル６８と、磁化可能であり概して円筒形の磁極片１８
と、極低温流体用デュワー２０とを含む。超伝導主コイ
ル１６は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第１の
主電流を第１の方向に流している。超伝導シールドコイ
ル６８は、軸１２と概して同軸状に整列し、主コイル１
６から長手方向外側に配置され、かつ第１のシールド電
流を上述の第１の方向と反対方向に流している。磁極片
１８は、軸１２と概して同軸状に整列しかつこれと交差
し、主コイル１６及びシールドコイル６８から離間して
おり、かつ表面部分２２を有する。磁極片１８の大部分
は、長手方向で主コイル１６とシールドコイル６８の間
にあり、かつこれらの放射方向内側に配置されている。
デュワー２０は主コイル１６及びシールドコイル６８を
囲繞し、かつ磁極片１８の表面部分２２によりその一部
が画定されるような内部表面２４を有する。第２のアセ
ンブリ２６は、超伝導主コイル２８と、超伝導シールド
コイル７０と、磁化可能であり概して円筒形の磁極片３
０と、極低温流体用デュワー３２とを含む。超伝導主コ
イル２８は、軸１２と概して同軸状に整列し、かつ第２
の主電流を上述の第１の方向に流している。超伝導シー
ルドコイル７０は、軸１２と概して同軸状に整列し、主
コイル２８より長手方向外側に配置され、かつ第２のシ
ールド電流を上述の反対方向に流している。磁極片３０
は、軸１２と概して同軸状に整列しかつこれと交差し、
主コイル２８及びシールドコイル７０から離間してお
り、かつ表面部分３４を有する。磁極片３０の大部分
は、長手方向で主コイル２８とシールドコイル７０の間
にあり、かつこれらの放射方向内側に配置させている。
デュワー３２は主コイル２８及びシールドコイル７０を
囲繞し、かつ磁極片３０の表面部分３４によりその一部
が画定されるような内部表面３６を有する。

【００１８】ある構造では、その開放型マグネット１０
はまた、磁極片１８に取り付けられると共に第１のアセ
ンブリ１４の主コイル１６及びシールドコイル６８を支
持する概して磁化されないコイルサポート３８及び７２
を含み、またさらに磁極片３０に取り付けられると共に
第２のアセンブリ２６の主コイル２８及びシールドコイ
ル７０を支持する概して磁化されないコイルサポート４
０及び７４を含む。あるマグネット設計では、その開放
型マグネット１０はまた、その各々が第１のアセンブリ
１４の磁極片１８に構造上取り付けられた第１の端部を
有し、その各々が第２のアセンブリ２６の磁極片３０に
構造上取り付けられた第２の端部を有し、かつその各々
が表面部分４４を有するような、概して磁化されない第
１の支持ポスト４２及び第２の支持ポスト（図示しない
が第１の支持ポスト４２と同一である）を含む。この設
計では、その開放型マグネット１０はさらに、それぞれ
第１のアセンブリ１４のデュワー２０及び第２のアセン
ブリ２６のデュワー３２と流体連通する第１のデュワー
・コンジット４６及び第２のデュワー・コンジット（図
示しないが第１のデュワー・コンジット４６と同一であ
る）を含む。第１のデュワー・コンジット４６は、第１
の支持ポスト４２の表面部分４４によりその一部が画定
されるような内部表面４８を有し、また第２のデュワー
・コンジットは、第２の支持ポストの表面部分によりそ
の一部が画定されるような内部表面を有する。この例で
は、その開放型マグネット１０はさらに、熱シールド５
８及び真空容器６０を含む。熱シールド５８は、第１及
び第２のアセンブリ１４及び２６の磁極片１８及び３０
とデュワー２０及び３２、第１の支持ポスト４２及び第
２の支持ポスト、並びに第１のデュワー・コンジット４
６及び第２のデュワー・コンジットから離間させると共
に全体としてこれらを囲繞している。真空容器６０は、
熱シールド５８から離間させると共にこれをハーメチッ
クに囲繞している。第１の支持ポスト４２及び第１のデ
ュワー・コンジット４６は真空容器６０の第１の部分７
６の内部に配置されること、第２の支持ポスト及び第２
のデュワー・コンジットはこの真空容器の第２の部分７
８の内部に配置されること、並びに真空容器６０のこれ
ら第１及び第２の部分７６及び７８は図１に示している
ことに留意されたい。動作時には、マグネット１０は、
上述の極低温流体６４及び磁気共鳴撮像ボリューム（単
に「撮像ボリューム」とも言う）６６を含むことにな
る。ある構造では、第１の支持ポスト４２及び第２の支
持ポストは（図１に示す真空容器６０の第１及び第２の
部分７６及び７８を囲繞することから分かるように）軸
１２の周りに概ね１１０〜１５０度の角度離隔をもた
せ、かつ撮像ボリューム６６から放射方向外側に配置さ
せている。一例では、概ね１３０度の角度離隔を設け
て、撮像ボリューム６６内に患者（図示せず）を都合よ
く配置できる。

【００１９】ある用途では、その開放型マグネット１０
はその撮像ボリューム６６内に概ね１．４〜１．５テス
ラの磁場を有する。開放型マグネット１０がある向きに
ある場合、その真空容器６０の第１及び第２の部分７６
及び７８は（図１に示すように）水平方向に整列させ、
また患者は通常、撮像ボリューム６６内で立った姿勢を
とることになる。開放型マグネット１０が別の向きにあ
る場合（図示せず）には、真空容器６０の第１及び第２
の部分７６及び７８は垂直方向に整列させ、また患者は
通常、撮像ボリューム６６内で患者用寝台に横たえられ
ることになる。磁極片１８及び３０によりコイル１６、
２８、６８及び７０、並びにデュワー２０及び３２を含
むマグネット１０の主構造サポートが提供されること、
並びに磁極片１８及び３０は撮像ボリューム６６内によ
り均一な磁場を提供するような形状とする（例えば、リ
ング状ステップを有する）ことに留意されたい。磁場不
均一性に対する別の補正を、当業者の技術範囲内にある
ような能動型シミングにより達成させることがある。図
面に示す例において、マグネット１０は、アセンブリ１
４及び２６のそれぞれについて一対の分離させた平坦な
シールド型傾斜／ＲＦコイルに関して真空容器６０内で
撮像ボリューム６６に対面した１つのくぼみ８０を有す
るように設計されること、その際、磁極片１８及び３０
の磁極面は、当業者であれば理解するように、積層させ
ないことにも留意されたい。

【００２０】ここで図３を参照すると、本発明の実施形
態を適用できる支持ポスト構成の実施の一形態の断面図
を表している。この実施形態では、開放型マグネット・
システムの支持ポスト（図１では第１の支持ポスト４２
で示しており、また第２の支持ポストは表示されていな
いが第１の支持ポストと同一である）に関する代替的な
実施形態を提供している。さらに図３を参照すると、図
１のマグネット・アセンブリ・システムは、長手方向に
離間した関係で互いに反対の位置にある第１のアセンブ
リ１４と第２のアセンブリ２６を備えている。第１及び
第２のアセンブリは、ＭＲイメージングで使用するため
の静磁場を発生させている。図３では第１のアセンブリ
１４のみを図示しているが、第２のアセンブリ２６も同
一であることを理解されたい。第１のアセンブリ１４の
一方の表面上（並びに、第２のアセンブリ２６の相対す
る表面上）には、典型的には、支持ポスト４２などの構
成要素を取り付けるためのリング３００が存在する。リ
ング３００は典型的には、第１のアセンブリ１４及び第
２のアセンブリ２６の外側表面で、かつ撮像ボリューム
６６に面した表面に付けられている。このマグネット・
システムはさらに、支持ポスト４２（並びに、図３の断
面図では図示していないが第２のポスト）を備えてい
る。本発明の実施の一形態では、支持ポスト４２は、図
１及び２を参照しながら記載したような支持ポストであ
る第１の支持要素３１０と、撮像ボリューム６６から離
れた表面上（以下、「背面（ｂａｃｋ）」という）で、
第１の支持要素３１０に取り付けられている第２の支持
要素３２０と、を備えている。図３に示す実施形態で
は、第２の支持要素３２０及び第１の支持要素３１０に
よって支持ポスト４２を形成している。第２の支持要素
３２０は、第１の支持要素３１０に溶着させると共に、
さらに、支持を高めるためにリング３００にも溶着させ
（すなわち、同様に取り付け）ている。この実施形態は
振動を減少させるように既存の開放型ＭＲＩシステムを
修正するために有用であることを理解されたい。

【００２１】上述した支持ポストは振動を減少させるよ
うに構成されている。支持ポストにかかる曲げモーメン
トＭにより誘導される曲率１／Ｒは、断面の慣性モーメ
ントＩ並びに弾性係数Ｅに依存し、式Ｍ＝ＥＩ／Ｒで与
えられる。高磁場開放型の幾何学構成では、支持ポスト
が曲がることにより、磁極の一番上は撮像で検出される
磁場変動を生成させるような角度θ（ｔｈｅｔａ）だけ
偏向を受ける。支持ポストの中立軸はある距離（典型的
な構成では、３０ｃｍ）だけ中心からずれているため、
この角度により第１のアセンブリ１４間と第２のアセン
ブリ２６間のそれぞれのギャップ間の中心距離の振動振
幅に影響を及ぼす。ポストの長さｄ、曲率半径Ｒ及び角
度は、ｄ＝Ｒθの関係をもつ。図３の支持構造を利用す
ることによって、第２の支持要素３２０の追加的な材料
により外部ポスト境界はｙ方向でＭＲＩシステムの背面
に向かって変位を受ける。加えた撮像傾斜によって磁極
にかかるトルク、磁極内部の慣性モーメント、及びポス
トのばね定数（ｓｐｒｉｎｇ ｃｏｎｓｔａｎｔ）の組
み合わせにより３０Ｈｚの共鳴が生じる。これによりそ
の慣性モーメントが１０倍大きくなりポストが剛性化
（ｓｔｉｆｆｅｎ）される。さらに、これにより共振周
波数が上昇し振動の振幅が小さくなる。

【００２２】開放型ＭＲＩにおいて振動を減少させるた
めの方法に関する実施の一形態は、上述のように、支持
ポストの各々に撮像ボリュームから離れた表面上で第２
の支持要素を取り付けることを含む。この方法は、振動
及び振動の影響を低下させるための一修正形態として既
存の開放型ＭＲＩシステムに適用可能であることを理解
されたい。

【００２３】本発明の好ましい実施形態について図示す
ると共に本明細書に記載してきたが、こうした実施形態
が例としてのみ提供されていることは明らかであろう。
当業者であれば、ここに示した本発明を逸脱することな
く、多くの変形形態、変更形態及び置換形態を生じさせ
るであろう。したがって、本発明は添付の特許請求の範
囲の精神及び趣旨によってのみ限定させようとする意図
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のマグネットの実施の一形態の斜視図で
ある。

【図２】図１のマグネットを図１の線２−２に沿って切
った断面図である。

【図３】本発明の実施形態を適用できる支持ポストの断
面図である。

【符号の説明】 １０ 開放型マグネット １２ 長手方向に延びる軸 １４ 第１のアセンブリ １６ 超伝導主コイル １８ 磁極片 ２０ デュワー ２２ 磁極片の表面部分 ２３ 磁極片の別の表面部分 ２４ デュワーの内部表面 ２６ 第２のアセンブリ ２８ 超伝導主コイル ３０ 磁極片 ３２ デュワー ３４ 磁極片の表面部分 ３５ 磁極片の別の表面部分 ３６ デュワーの内部表面 ３８ 超伝導主コイルのコイルサポート ４０ 超伝導主コイルのコイルサポート ４２ 支持ポスト ４４ 支持ポストの表面部分 ４６ デュワー・コンジット ４８ デュワー・コンジットの内部表面 ５０ プレート・アセンブリ ５２ プレート・アセンブリ内部表面の第１の部分 ５４ プレート・アセンブリ内部表面の第２の部分 ５６ プレート・アセンブリ内部表面の第３の部分 ５８ 熱シールド ６０ 真空容器 ６２ スペーサ ６４ 極低温流体 ６６ 撮像ボリューム ６８ 超伝導シールドコイル ７０ 超伝導シールドコイル ７２ シールドコイル用コイルサポート ７４ シールドコイル用コイルサポート ７６ 真空容器の第１の部分 ７８ 真空容器の第２の部分 ８０ くぼみ ３００ リング ３１０ 第１の支持要素 ３２０ 第２の支持要素

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 開放型磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）
   システムで使用するためのマグネット・アセンブリ・シ
   ステムであって、 長手方向に離間した関係で互いに反対の位置にあるよう
   な、静磁場を生成させるための第１のアセンブリ（１
   ４）及び第２のアセンブリ（２６）と、 前記第１と第２のアセンブリの間に取り付られている、
   前記第１と第２のアセンブリの間に開放撮像ボリューム
   を維持すると共にさらに構造的支持を提供するための複
   数の支持ポスト（４２）であって、該支持ポストの各々
   は第１の支持要素（３１０）と前記撮像ボリューム（６
   ６）から離れた表面上で該第１の支持要素に取り付けた
   第２の支持要素（３２０）とを備えているような複数の
   支持ポスト（４２）と、を備えるマグネット・アセンブ
   リ・システム。
2. 【請求項２】 前記複数の支持ポスト（４２）の各々は
   振動を減少するように構成されている、請求項１に記載
   のシステム。
3. 【請求項３】 前記第１（１４）と第２（２６）のアセ
   ンブリの各々が、１つのマグネット・コイルと、１つの
   磁極片と、１つのデュワーと、を備えている、請求項１
   に記載のシステム。
4. 【請求項４】 静磁場を作成するための相対する一対の
   アセンブリ（１４、２６）と、構造的支持を提供すると
   共に前記一対のアセンブリ間に開放撮像ボリュームを維
   持するための複数の支持ポスト（４２）と、を有する開
   放型ＭＲＩシステムで使用するための振動の減少方法で
   あって、 前記撮像ボリューム（６６）から離れた表面上で前記支
   持ポストの各々に対して第２の支持要素（３２０）を取
   り付けるステップを含む方法。
5. 【請求項５】 前記ＭＲＩシステムが高磁場開放型ＭＲ
   Ｉシステムである、請求項１または４に記載の方法。
6. 【請求項６】 前記相対する一対のアセンブリ（１４、
   ２６）の各々が、１つのマグネット・コイルと、１つの
   磁極片と、デュワーと、を備えている、請求項４に記載
   の方法。
7. 【請求項７】 前記第２の支持要素（３２０）は外部ポ
   スト境界をｙ方向でＭＲＩシステムの背面に向かって変
   位させている、請求項１または４に記載の方法。
8. 【請求項８】 前記第２の支持要素（３２０）は、前記
   支持ポストを剛性化させかつ撮像中の支持ポストの振動
   を減少させるように適合している、請求項４に記載の方
   法。