JP2003218497A - Substrate processing apparatus - Google Patents

Substrate processing apparatus

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JP2003218497A
JP2003218497A JP2002017967A JP2002017967A JP2003218497A JP 2003218497 A JP2003218497 A JP 2003218497A JP 2002017967 A JP2002017967 A JP 2002017967A JP 2002017967 A JP2002017967 A JP 2002017967A JP 2003218497 A JP2003218497 A JP 2003218497A
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JP
Japan
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wiring board
printed wiring
processing apparatus
substrate processing
board material
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002017967A
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Japanese (ja)
Inventor
Kisaburo Niiyama
喜三郎 新山
Seiji Sugawara
清司 菅原
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Tokyo Kakoki Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Kakoki Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing apparatus which have a first function to prevent scratched damages or the like, a second function to prevent attaching of contaminations or the like, a third function of uniform processing for an injected processing liquid, further, these processes are realized simply, easily, surely, and automatically. <P>SOLUTION: The substrate processing apparatus 1 is employed in the process of manufacturing a printed wiring board, holds the printed wiring board E with a conveyer 2 having a group of vertically grooved wheels 5, and executes each process by conveying the board without the printed circuit formed face J contacting with the wheels. Further; the group of vertically grooved wheels 5 can be adjusted in vertical distance; and right and left side injection nozzles 3 can be adjusted for injection angle in symmetrically facing arrangement, in vertical position N or slanting position, and at, deviated point from a right- angle position Q. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
する。すなわち、プリント配線基板の製造工程で用いら
れ、プリント配線基板材を搬送しつつ各種処理する、基
板処理装置に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a substrate processing apparatus. That is, the present invention relates to a substrate processing apparatus that is used in a manufacturing process of a printed wiring board and performs various processing while conveying a printed wiring board material.

【0002】[0002]

【従来の技術】《技術的背景》電子機器の高性能化,高
機能化,小型軽量化に伴い、プリント配線基板も高精度
化,ファイン化,極薄化が進み、その外表面に形成され
る回路の高密度化,微細化の進展が著しい。そして、こ
のようなプリント配線基板の製造工程の各工程では、搬
送されるプリント配線基板材に対し、次の各種処理が行
われていた。例えば、現像液,→エッチング液,→剥離
液等の処理液が順次噴射され、もって、感光性レジスト
の現像処理、→銅箔のエッチング処理、→感光性レジス
トの剥離処理等が順次行われることにより、回路が形成
されていた。又例えば、無電解銅メッキ液への浸漬,→
現像液の噴射,→電解銅メッキ液への浸漬、→剥離液の
噴射,→クイックエッチング液の噴射等が順次行われ、
もって、化学銅メッキ処理,→感光性レジストの現像処
理,→電気銅メッキ処理,→感光性レジストの剥離処
理,→無電解銅メッキのクイックエッチング処理等が順
次行われることにより、回路が形成されていた。更に例
えば、これらの各処理の前後処理として、搬送されるプ
リント配線基板材に対し、水洗液や薬液等の処理液が噴
射され、もって、洗浄処理が行われていた。
2. Description of the Related Art << Technical Background >> As electronic equipment becomes higher in performance, higher in functionality, smaller in size and lighter in weight, printed wiring boards are also becoming more precise, finer, and extremely thin, and are formed on the outer surface thereof. The progress of high density and miniaturization of circuits is remarkable. Then, in each step of the manufacturing process of such a printed wiring board, the following various processes are performed on the conveyed printed wiring board material. For example, processing solutions such as a developing solution, an etching solution, and a stripping solution are sequentially sprayed, so that the developing process of the photosensitive resist, the etching process of the copper foil, and the stripping process of the photosensitive resist are sequentially performed. The circuit was formed by. For example, dipping in electroless copper plating solution, →
Spraying of developing solution, → immersion in electrolytic copper plating solution, → spraying of stripping solution, → spraying of quick etching solution, etc.
Therefore, a circuit is formed by sequentially performing a chemical copper plating process, a photosensitive resist development process, an electrolytic copper plating process, a photosensitive resist stripping process, and an electroless copper plating quick etching process. Was there. Further, for example, as a pre-treatment and a post-treatment of each of these treatments, a treatment liquid such as a washing liquid or a chemical liquid is sprayed on the conveyed printed wiring board material, so that the cleaning treatment is performed.

【0003】《従来技術》さて、このようなプリント配
線基板の製造工程の各工程において、プリント配線基板
材は従来、それぞれの基板処理装置に供給され、もって
コンベヤにて水平姿勢で搬送されつつ、各種処理が行わ
れていた。すなわち、上述した現像工程,エッチング工
程,剥離工程,更には化学銅メッキ工程,電気メッキ工
程,クイックエッチング工程,洗浄工程等にあっては、
それぞれの基板処理装置において、→プリント配線基板
材を、搬送ローラーやホイールにて水平姿勢(横姿勢)
で搬送しつつ、→上下に対向配設された多数のノズルか
ら各処理液を噴射したり、液槽のメッキ液中に浸漬し、
→もって、所定の処理が行われていた。
<< Prior Art >> Now, in each step of the manufacturing process of such a printed wiring board, the printed wiring board material is conventionally supplied to each substrate processing apparatus and thus conveyed in a horizontal posture by a conveyor. Various processes were being performed. That is, in the above-mentioned developing step, etching step, peeling step, chemical copper plating step, electroplating step, quick etching step, cleaning step, etc.,
In each substrate processing device, → Printed wiring board material is horizontally (horizontally) oriented by the transport rollers and wheels.
While transporting with →, each processing solution is jetted from a large number of nozzles arranged facing each other, or immersed in the plating solution in the solution tank,
→ As a result, the prescribed processing was being performed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】《第1の問題点につい
て》ところで、このような従来例にあっては、次の問題
が指摘されていた。第1に、搬送されるプリント配線基
板材の回路形成面に、傷等が発生するトラブルが頻発す
る、という問題が指摘されていた。すなわち、この種従
来例の基板処理装置では、プリント配線基板材(例え
ば、表裏両面に回路形成面を備えた両面基板)を、搬送
ローラーやホイールに載せて(多くの場合は上下から挟
んで)、水平姿勢で搬送しつつ、各種処理が行われてい
た。そこで、プリント配線基板材外表面の処理対象面つ
まり回路形成面に、搬送ローラーやホイールとの接触,
圧力により、接触傷や擦り傷等が発生しやすかった。す
なわち、回路形成面の感光性レジスト,銅箔,メッキ,
回路等に、潰れ,凹み,変形,その他の傷等が、不可避
的に発生しやすかった。特に、両面基板の裏面・下面側
について、これらが顕著となっていた。そして、このよ
うな傷等の発生は、処理のバラツキ原因,均一性阻害原
因,不良原因等となり、回路の高密度化,微細化が進む
プリント配線基板にとって、致命的な欠陥となりやす
く、歩留まりも悪かった。
<Problem to be Solved by the Invention><FirstProblem> The following problems have been pointed out in such a conventional example. First, it has been pointed out that there is a frequent problem that scratches and the like frequently occur on the circuit forming surface of the printed wiring board material that is transported. That is, in this type of conventional substrate processing apparatus, a printed wiring board material (for example, a double-sided board having circuit forming surfaces on both front and back surfaces) is placed on a transport roller or a wheel (in many cases, sandwiched from above and below). , Various processing was performed while being transported in a horizontal posture. Therefore, the outer surface of the printed wiring board material to be processed, that is, the circuit formation surface, contacts the transport roller or wheel,
The pressure was likely to cause contact scratches and abrasions. That is, the photosensitive resist on the circuit formation surface, copper foil, plating,
Crushing, denting, deformation, and other scratches on the circuit were unavoidable. These were particularly noticeable on the back and bottom surfaces of the double-sided board. The occurrence of such scratches causes variations in processing, causes of impediment to uniformity, causes of defects, etc., and is likely to be a fatal defect for a printed wiring board in which circuit densification and miniaturization are progressing, and the yield is also increased. It was bad.

【0005】《第2の問題点について》第2に、搬送さ
れるプリント配線基板材の回路形成面に、ゴミ等が付着
するトラブルが発生する、という問題が指摘されてい
た。すなわち、プリント配線基板の製造工程では、ま
ず、絶縁基材に銅箔が張り付けられた銅張り積層板が、
ワークサイズに切断されるが、このように準備されたプ
リント配線基板材にあっては、切断箇所(周端縁)に、
切断時に生じた切断粉,ゴミ,周囲の塵等が付着してい
る。そして、この種従来例の基板処理装置では、プリン
ト配線基板材(例えば、表裏両面に回路形成面を備えた
両面基板)を、→搬送ローラーやホイールに載せて(多
くの場合は上下から挟んで)、水平姿勢で搬送するの
で、→このようなゴミ等が、プリント配線基板材の切断
箇所(周端縁)から、→一旦、搬送ローラーやホイール
に付着した後、→そのプリント配線基板材の回路形成面
に再付着したり、→次に搬送されてくるプリント配線基
板材の回路形成面に再付着してしまう、という指摘があ
った。つまり、回路形成面の感光性レジスト,銅箔,メ
ッキ,回路等に、ゴミ等が付着しやすかった。特に、両
面基板の裏面(下面)側について、これらが顕著となっ
ていた。そして、このようなゴミ等の付着は、前述した
傷等の発生の原因となると共に、処理のバラツキ原因,
均一性阻害原因,不良原因等となり、回路の高密度化,
微細化が進むプリント配線基板にとって、致命的な欠陥
となりやすく、歩留まりも悪かった。
<Regarding Second Problem> Secondly, it has been pointed out that there is a problem that dust or the like adheres to the circuit forming surface of the printed wiring board material being conveyed. That is, in the manufacturing process of a printed wiring board, first, a copper-clad laminate in which a copper foil is pasted on an insulating base material,
Although it is cut to the work size, in the printed wiring board material prepared in this way, at the cutting point (peripheral edge),
Cutting powder, dust, surrounding dust, etc., generated during cutting are attached. In this type of conventional substrate processing apparatus, a printed wiring board material (for example, a double-sided board having circuit forming surfaces on both front and back surfaces) is placed on a carrying roller or a wheel (in many cases, sandwiched from above and below). ), Because it is conveyed in a horizontal position, → such dust, etc. → from the cutting point (peripheral edge) of the printed wiring board material → once adheres to the transfer roller or wheel, → It has been pointed out that it may be reattached to the circuit forming surface, or may be reattached to the circuit forming surface of the printed wiring board material to be conveyed next. That is, it was easy for dust to adhere to the photosensitive resist, copper foil, plating, circuits, etc. on the circuit formation surface. In particular, these were remarkable on the back surface (lower surface) side of the double-sided substrate. The adhesion of dust and the like causes the above-mentioned scratches and the like, and also causes the variation in processing,
The density of the circuit is increased due to the cause of non-uniformity, the cause of defects, etc.
For a printed wiring board that is becoming more and more miniaturized, it is likely to cause a fatal defect and the yield is low.

【0006】《第3の問題点について》第3に、処理液
を噴射する各工程については、搬送されるプリント配線
基板材の回路形成面に液溜まりが発生し、液の持ち出し
も多い、という問題が指摘されていた。すなわち、この
種従来例の基板処理装置では、プリント配線基板材を、
搬送ローラーやホイールにて水平姿勢で搬送するので、
ノズルから噴射される処理液が、回路形成面上の中央部
に液溜まりとなって滞溜しやすく、処理液の更新が妨げ
られていた。両表基板の場合は、表面(上面)につい
て、液溜まりが顕著となっていた。そして、このような
液溜まりの発生は、処理の遅速・過不足箇所の発生原
因、そして処理のバラツキ原因,均一性阻害原因,不良
原因等となり、回路の高密度化,微細化が進むプリント
配線基板にとって、致命的な欠陥となりやすく、歩留ま
りも悪かった。又、このような液溜まりの発生により、
処理液の持ち出しが多くなり、処理液の無駄・ロスが顕
著化する、という問題も指摘されていた。
<Third Problem> Thirdly, regarding each step of injecting the processing liquid, a liquid pool is generated on the circuit forming surface of the printed wiring board material being conveyed, and the liquid is often taken out. The problem was pointed out. That is, in this type of conventional substrate processing apparatus, the printed wiring board material,
Since it is transported horizontally with the transport rollers and wheels,
The treatment liquid ejected from the nozzles is likely to accumulate in the central portion on the circuit forming surface and accumulate, which hinders the renewal of the treatment liquid. In the case of both front substrates, liquid pool was remarkable on the surface (upper surface). The occurrence of such liquid pools causes the processing speed to be slow / excessive or insufficient, and causes the processing to be uneven, hinders uniformity, causes defects, etc., resulting in higher density and finer circuit wiring. For the substrate, it was likely to be a fatal defect and the yield was low. Also, due to the occurrence of such a liquid pool,
It has also been pointed out that the amount of processing liquid taken out becomes large and the waste and loss of processing liquid becomes remarkable.

【0007】《第4の問題点について》第4に、このよ
うな状況に鑑み、プリント配線基板材を縦姿勢や斜め姿
勢で搬送しつつ、各種処理を行うようにした基板処理装
置も、最近開発されていた。そして、この最近開発され
た縦姿勢や斜め姿勢で搬送する基板処理装置は、プリン
ト配線基板材の表裏両面を、左右のローラーコンベヤ群
で左右から挟んで搬送する方式や、傾いたプリント配線
基板材の裏面(下面)側と下端側を、ローラーコンベヤ
群で保持して搬送する方式や、プリント配線基板材の上
下端を、それぞれ左右のベルトコンベヤで挟持したり、
上下のクリップ等の係止部材付コンベヤで係止して搬送
する方式、等々よりなっていた。しかしながら、これら
の方式の基板処理装置については、まず、搬送されるプ
リント配線基板材の回路形成面に、ローラーコンベヤが
接触するので、依然として傷等が発生すると共にゴミ等
が付着するという問題、又、ベルトコンベヤではプリン
ト配線基板材の挟持・保持が安定的でなく、搬送が不確
実化しやすく回路形成面に接触してしまうこともあると
いう問題、更に、クリップ等の係止部材付コンベヤでは
係止手動操作が面倒であり、工程の連続化・自動化にも
反するという問題が、それぞれ指摘されていた。
<Regarding Fourth Problem> Fourthly, in view of such a situation, a substrate processing apparatus which carries out various kinds of processing while conveying a printed wiring board material in a vertical posture or an oblique posture has recently been proposed. Was being developed. The recently developed substrate processing device for transporting in a vertical posture or a diagonal posture is a method in which the front and back sides of the printed wiring board material are sandwiched between the left and right roller conveyor groups from the left and right, and the inclined printed wiring board material is transported. A method of holding and conveying the back side (lower surface) side and the lower end side of the roller conveyor group, or sandwiching the upper and lower ends of the printed wiring board material by the left and right belt conveyors,
It consisted of a method of locking and conveying with a conveyor with locking members such as upper and lower clips, and so on. However, in these types of substrate processing apparatuses, first, since the roller conveyor comes into contact with the circuit forming surface of the printed wiring board material to be conveyed, the problem that scratches and the like still occur and dust and the like adhere, In the belt conveyor, the clamping and holding of the printed wiring board material is not stable, and the transport may be uncertain, and the circuit forming surface may come into contact with the belt conveyor. It has been pointed out that the manual operation is troublesome and it is against the continuation and automation of the process.

【0008】《本発明について》本発明の基板処理装置
は、このような実情に鑑み、上記従来例の課題を解決す
べく、発明者の鋭意研究努力の結果なされたものであ
る。そして、プリント配線基板の製造工程の各工程にお
いて、上下の溝型ホイール群を備えたコンベヤにて、プ
リント配線基板材の上下端を保持し、回路形成面に無接
触状態で搬送しつつ各種処理を行うこと、を特徴とす
る。更に、上下の溝型ホイール群間の上下間隔を変更設
定可能としたり、左右に噴射ノズル部を列設すると共に
対称的に対向位置させたり、直立姿勢と傾斜姿勢に姿勢
を変更設定可能としたり、直角位置と偏向位置に噴射角
度を変更設定可能としたこと、を特徴とする。又、化学
銅メッキ工程や電気銅メッキ工程において、メッキ液の
液槽に浸漬しつつ搬送すること、を特徴とする。もって
本発明は、第1に、傷等の発生が防止され、第2に、ゴ
ミ等の付着も防止され、第3に、噴射された処理液に
て、均一化された処理が実現され、第4に、しかもこれ
らが簡単,容易,確実,かつ自動的に実現される、基板
処理装置を提案することを目的とする。
<Regarding the Present Invention> The substrate processing apparatus of the present invention has been made as a result of earnest research efforts by the inventor in order to solve the above-mentioned problems of the conventional example in view of the above circumstances. Then, in each step of the manufacturing process of the printed wiring board, the conveyor equipped with the upper and lower groove type wheel groups holds the upper and lower ends of the printed wiring board material and conveys them to the circuit formation surface in a non-contact manner while performing various treatments. Is performed. Furthermore, it is possible to change and set the vertical spacing between the upper and lower groove type wheel groups, to arrange the injection nozzles on the left and right and to symmetrically oppose each other, and to change and set the posture between upright and inclined postures. The injection angle can be changed and set between the right angle position and the deflection position. In addition, in the chemical copper plating process or the electrolytic copper plating process, it is carried while being immersed in a bath of a plating solution. Therefore, the present invention firstly prevents the occurrence of scratches and the like, secondly, prevents the adhesion of dust and the like, and thirdly, realizes a uniform treatment with the jetted treatment liquid, Fourthly, it is an object of the present invention to propose a substrate processing apparatus which realizes these simply, easily, surely and automatically.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】《各請求項について》こ
のような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のと
おりである。まず、請求項1については次のとおり。請
求項1の基板処理装置は、プリント配線基板の製造工程
で用いられ、プリント配線基板材を各種処理する。そし
て該プリント配線基板材は、コンベヤにて縦姿勢で搬送
されつつ処理され、該コンベヤは、該プリント配線基板
材の上下端を保持し、回路形成面に無接触状態で搬送す
ること、を特徴とする。請求項2については次のとお
り。請求項2の基板処理装置は、請求項1において、該
プリント配線基板材は、表裏両面に該回路形成面を備え
てなり、該コンベヤは、上下にそれぞれ、搬送方向に列
設された溝型ホイール群を備えている。そして、上下の
該溝型ホイール群は、該プリント配線基板材の上下端を
それぞれ保持すると共に、回転により該プリント配線基
板材を搬送すること、を特徴とする。請求項3について
は次のとおり。請求項3の基板処理装置は、請求項2に
おいて、該コンベヤの上下の溝型ホイール群は、上下逆
方向に対称的に昇降動可能、かつ位置決め固定可能であ
る。もって、相互間の上下間隔を変更設定可能となって
おり、該プリント配線基板材の各種サイズに対応できる
こと、を特徴とする。
<< About Each Claim >> The technical means of the present invention for solving such a problem are as follows. First, claim 1 is as follows. The substrate processing apparatus according to claim 1 is used in a manufacturing process of a printed wiring board, and variously processes the printed wiring board material. The printed wiring board material is processed while being conveyed vertically by a conveyor, and the conveyor holds the upper and lower ends of the printed wiring board material and conveys the printed wiring board material in a non-contact state to a circuit forming surface. And Claim 2 is as follows. According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first aspect, the printed wiring board material is provided with the circuit forming surfaces on both front and back surfaces, and the conveyor is a groove type vertically arranged in the transport direction. It has a group of wheels. The upper and lower groove type wheel groups hold the upper and lower ends of the printed wiring board material, respectively, and convey the printed wiring board material by rotation. Claim 3 is as follows. According to a third aspect of the substrate processing apparatus of the second aspect, the upper and lower groove type wheel groups of the conveyor can be vertically moved symmetrically in the opposite directions and can be positioned and fixed. Therefore, it is possible to change and set the vertical interval between them, and to cope with various sizes of the printed wiring board material.

【0010】請求項4については次のとおり。請求項4
の基板処理装置は、請求項2において、該基板処理装置
は、該プリント配線基板材の感光性レジストの現像工
程、銅箔のエッチング工程、感光性レジストの剥離工
程、無電解銅メッキのクイックエッチング工程、又は前
後処理用の洗浄工程等にて用いられ、噴射ノズル部を備
えてなる。そして該噴射ノズル部は、搬送される該プリ
ント配線基板材の左右に対向配設されており、その表裏
の回路形成面に対し処理液、つまり現像液,エッチング
液,剥離液,洗浄液たる水洗液,又は洗浄液たる薬液等
の処理液を、噴射すること、を特徴とする。請求項5に
ついては次のとおり。請求項5の基板処理装置は、請求
項4において、該噴射ノズル部は、搬送される該プリン
ト配線基板材の左右にそれぞれ、前後間隔を存しつつ多
数列設されると共に、左右のものが対称的に対向位置し
ていること、を特徴とする。
Claim 4 is as follows. Claim 4
3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus comprises a photosensitive resist developing step of the printed wiring board material, a copper foil etching step, a photosensitive resist peeling step, and an electroless copper plating quick etching step. It is used in a process or a cleaning process for pre-processing and post-processing, and is provided with an injection nozzle unit. The spray nozzles are disposed opposite to each other on the left and right of the printed wiring board material to be conveyed, and a processing liquid, that is, a developing liquid, an etching liquid, a stripping liquid, and a cleaning liquid that is a cleaning liquid are provided on the front and back circuit forming surfaces. , Or a treatment liquid such as a chemical liquid as a cleaning liquid is sprayed. Claim 5 is as follows. According to a fifth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the fourth aspect, the ejection nozzle portions are arranged in a large number on the left and right sides of the printed wiring board material to be conveyed, with a front-rear spacing therebetween. It is characterized in that they are symmetrically opposed to each other.

【0011】請求項6については次のとおり。請求項6
の基板処理装置は、請求項5において、該噴射ノズル部
は、縦長のスリット状噴射口を備えてなり、もって該ス
リット状噴射口から該処理液を膜状に噴射するか、又
は、縦に列設された孔状噴射口を備えてなり、もって各
該孔状噴射口から該処理液を拡散噴射すること、特徴と
する。請求項7については次のとおり。請求項7の基板
処理装置は、請求項6において、該噴射ノズル部は垂直
面において、垂直な直立姿勢と、垂直から搬送方向に沿
って前後に傾斜した傾斜姿勢との間で、姿勢を変更設定
可能となっていること、特徴とする。請求項8について
は次のとおり。請求項8の基板処理装置は、請求項6に
おいて、該噴射ノズル部は、該プリント配線基板材の回
路形成面に対峙した直角位置と、前側向き又は後側向き
に角度が付いた偏向位置との間で、その縦軸を中心に回
動可能かつ位置決め固定可能であり、噴射角度を変更設
定可能となっていること、特徴とする。
Claim 6 is as follows. Claim 6
In the substrate processing apparatus according to claim 5, the injection nozzle portion is provided with a vertically long slit-shaped injection port, and thus the processing liquid is ejected in a film form from the slit-shaped ejection port, or vertically. The present invention is characterized in that it is provided with a row of hole-shaped jetting ports, so that the treatment liquid is diffused and jetted from each of the hole-shaped jetting ports. Claim 7 is as follows. In the substrate processing apparatus of claim 7, in the injection nozzle part according to claim 6, the posture is changed between a vertical upright posture and a tilted posture which is inclined forward and backward along the transport direction in a vertical plane. The feature is that it can be set. Claim 8 is as follows. A substrate processing apparatus according to claim 8 is the substrate processing apparatus according to claim 6, wherein the injection nozzle portion has a right angle position facing the circuit forming surface of the printed wiring board material, and a deflection position angled frontward or rearward. It is characterized in that the injection angle can be changed and set, and the injection angle can be changed and set.

【0012】請求項9については次のとおり。請求項9
の基板処理装置は、請求項2において、該基板処理装置
は、該プリント配線基板材のメッキ工程にて用いられ、
メッキ液の液槽を備えてなる。そして、該コンベヤの溝
型ホイール群は、該液槽のメッキ液中に配設され、該プ
リント配線基板材を該メッキ液に浸漬しつつ搬送するこ
と、特徴とする。請求項10については次のとおり。請
求項10の基板処理装置は、請求項9において、該基板
処理装置は、該プリント配線基板材の化学銅メッキ工程
にて用いられ、該液槽には、無電解銅メッキ液が収納さ
れている。そして該プリント配線基板材は、絶縁層の外
表面に無電解銅メッキが施されること、特徴とする。請
求項11については次のとおり。請求項11の基板処理
装置は、請求項9において、該基板処理装置は、該プリ
ント配線基板材の電気銅メッキ工程にて用いられ、該液
槽には、陽極が配設されると共に、銅イオンを含む電解
銅メッキ液が収納されている。そして、予め無電解銅メ
ッキが施されていた該プリント配線基板材は、該コンベ
ヤの溝型ホイール群を介し陰極に接続され、通電によ
り、該無電解銅メッキの外表面に電解銅メッキが施され
ること、特徴とする。
Claim 9 is as follows. Claim 9
The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus is used in a step of plating the printed wiring board material,
It is equipped with a bath of plating liquid. Further, the groove type wheel group of the conveyor is arranged in the plating solution in the solution tank and conveys the printed wiring board material while being immersed in the plating solution. Claim 10 is as follows. According to a tenth aspect of the present invention, in the substrate treatment apparatus according to the ninth aspect, the substrate treatment apparatus is used in a chemical copper plating step of the printed wiring board material, and the liquid bath contains an electroless copper plating solution. There is. The printed wiring board material is characterized in that the outer surface of the insulating layer is plated with electroless copper. Claim 11 is as follows. The substrate processing apparatus according to claim 11 is the substrate processing apparatus according to claim 9, wherein the substrate processing apparatus is used in an electrolytic copper plating step of the printed wiring board material, and an anode is provided in the liquid tank and copper is provided. An electrolytic copper plating solution containing ions is stored. Then, the printed wiring board material which has been subjected to electroless copper plating in advance is connected to the cathode through the groove type wheel group of the conveyor, and by applying electricity, the outer surface of the electroless copper plating is subjected to electrolytic copper plating. Being featured.

【0013】《作用について》本発明は、このようにな
っているので、次のようになる。 この基板処理装置は、プリント配線基板の製造工程に
おいて用いられ、プリント配線基板材を、各種処理す
る。 この基板処理装置では、例えば表裏両面に回路形成面
を備えたプリント配線基板材を、コンベヤの上下の溝型
ホイール群が上下端を保持しつつ回転することにより、
縦姿勢で回路形成面に無接触状態で搬送する。 この上下の溝型ホイール群は、相互の上下間隔を変更
設定可能であり、プリント配線基板材の各種サイズに対
応可能である。
<Regarding Operation> Since the present invention has such a configuration, it is as follows. This substrate processing apparatus is used in a manufacturing process of a printed wiring board, and variously processes a printed wiring board material. In this substrate processing apparatus, for example, a printed wiring board material having circuit forming surfaces on both front and back sides is rotated by the upper and lower groove type wheel groups of the conveyor being rotated,
It is conveyed in a vertical position without contacting the circuit formation surface. The upper and lower groove type wheel groups can be set by changing the vertical distance between them, and can correspond to various sizes of printed wiring board materials.

【0014】そして、現像工程,エッチング工程,剥
離工程,クイックエッチング工程,洗浄工程等に適用さ
れる場合、この基板処理装置は噴射ノズル部を備えてな
り、プリント配線基板材の回路形成面に対し、現像液,
エッチング液,剥離液,洗浄液等の処理液を噴射する。
このように、縦姿勢のプリント配線基板材に処理液が噴
射されるので、その回路形成面に処理液が液溜まりとな
って滞留することはない。 又、この噴射ノズル部は、プリント配線基板材の左右
に多数列設されると共に、左右で対称的に対向位置して
いる。そこでプリント配線基板材が、処理液の噴射圧に
て左右から保持されており、撓み・湾曲・飛ばされ等の
虞はない。 そして噴射ノズル部は、スリット状噴射口や列設され
た孔状噴射口から、処理液を噴射するが、直立姿勢と傾
斜姿勢との間で、姿勢を変更設定可能であると共に、回
路形成面に対峙する直角位置と前側や後側向きの偏向位
置との間で、噴射角度を変更設定可能である。プリント
配線基板材の回路形成面の回路は、縦横に形成されるこ
とが多いが、その場合は、噴射ノズル部を傾斜姿勢や偏
向位置に変更設定することにより、処理液は、回路形成
面に対し傾斜して角度を付け、もって縦横の回路に対し
均一に噴射される。
When applied to a developing process, an etching process, a peeling process, a quick etching process, a cleaning process, etc., this substrate processing apparatus is equipped with an injection nozzle portion, and is applied to a circuit forming surface of a printed wiring board material. , Developer,
A processing liquid such as an etching liquid, a peeling liquid, or a cleaning liquid is sprayed.
In this way, since the processing liquid is sprayed onto the printed wiring board material in the vertical position, the processing liquid does not stay as a liquid pool on the circuit formation surface. Further, the injection nozzle portions are provided in a large number of rows on the left and right of the printed wiring board material and are symmetrically opposed to each other on the left and right. Therefore, the printed wiring board material is held from the left and right by the jetting pressure of the treatment liquid, and there is no fear of bending, bending, or flying. The injection nozzle section injects the treatment liquid from a slit-shaped injection port or a row-shaped injection port, but the posture can be changed between the upright posture and the inclined posture, and the circuit formation surface can be set. The injection angle can be changed and set between the right-angled position facing the front and the deflection position facing the front side or the rear side. The circuit on the circuit forming surface of the printed wiring board material is often formed vertically and horizontally. In that case, by changing the setting of the injection nozzle part to the inclined posture or the deflected position, the processing liquid can be formed on the circuit forming surface. It is tilted and angled, so that it is uniformly ejected to the vertical and horizontal circuits.

【0015】メッキ工程に適用される場合、この基板
処理装置は液槽を備え、コンベヤは、液槽のメッキ液中
に配設されており、プリント配線基板材は、メッキ液に
浸漬されつつ搬送される。そして、化学銅メッキ工程の
場合、液槽には、無電解銅メッキ液が収納されており、
プリント配線基板材は、絶縁層に無電解銅メッキが施さ
れる。電気銅メッキ工程の場合、液槽には陽極が配設さ
れ電解銅メッキ液が収納されており、無電解銅メッキが
施されていたプリント配線基板材は、コンベヤの溝型ホ
イール群を介し陰極に接続され、通電により無電解銅メ
ッキに電解銅メッキが施される。
When applied to the plating process, this substrate processing apparatus is provided with a liquid tank, the conveyor is arranged in the plating liquid of the liquid tank, and the printed wiring board material is conveyed while being immersed in the plating liquid. To be done. And in the case of the chemical copper plating process, the liquid bath contains the electroless copper plating liquid,
The printed wiring board material has an insulating layer plated with electroless copper. In the case of the electrolytic copper plating process, the electrolytic bath is filled with an electrolytic copper plating solution, and the printed wiring board material that had been electroless copper plated is the cathode via the grooved wheel group of the conveyor. And electroless copper plating is applied to the electroless copper plating by energization.

【0016】さて、,,,の各工程におい
て、基板処理装置は、,のようにコンベヤの上下の
溝型ホイール群が、回路形成面には無接触状態で、プリ
ント配線基板材を搬送する。そこで、プリント配線基板
材の回路形成面について、潰れ,凹み,変形,その他の
接触傷や擦り傷等が発生しないと共に、切断箇所に付着
していた切断粉,ゴミ,周囲の塵等が再付着することも
ない。 更に、プリント配線基板材は、コンベヤの溝型ホイー
ル群間に上下端が保持されるので、その搬送は確実で安
定的である。又、上下の溝型ホイール群間にプリント配
線基板材を供給するだけでよく、操作が簡略化され、工
程の連続化・自動化が容易である。しかも、この基板処
理装置は、溝型ホイール群を備えたコンベヤを噴射ノズ
ルや液槽と組み合わせた、簡単な構成よりなる。
In each of the steps ,,,,, in the substrate processing apparatus, the upper and lower groove type wheel groups of the conveyor convey the printed wiring board material in a non-contact state with the circuit forming surface as in. Therefore, the circuit forming surface of the printed wiring board material is not crushed, dented, deformed, or otherwise contacted or scratched, and the cutting powder, dust, surrounding dust, etc. adhering to the cutting location is reattached. Nothing. Further, since the printed wiring board material is held at the upper and lower ends between the groove type wheel groups of the conveyor, the conveyance thereof is reliable and stable. Further, it suffices to supply the printed wiring board material between the upper and lower groove type wheel groups, which simplifies the operation and facilitates the continuation and automation of the process. Moreover, this substrate processing apparatus has a simple structure in which a conveyor equipped with a grooved wheel group is combined with an injection nozzle and a liquid tank.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】《図面について》以下本発明を、
図面に示す発明の実施の形態に基づいて、詳細に説明す
る。図1,図2,図3,図4,図5等は、本発明に係る
基板処理装置の実施の形態の説明に供する。そして、図
1は正面図である。図2の(1)図は側面図、(2)図
は要部の平面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
A detailed description will be given based on an embodiment of the invention shown in the drawings. 1, FIG. 2, FIG. 3, FIG. 4, FIG. 5 and the like are provided for explaining the embodiment of the substrate processing apparatus according to the present invention. And FIG. 1 is a front view. 2 (1) is a side view, and FIG. 2 (2) is a plan view of a main part.

【0018】図3の(1)図は、プリント配線基板材が
大サイズの場合の溝型ホイールの正面図、(2)図は、
プリント配線基板材が小サイズの場合の溝型ホイールの
正面図である。図3の(3)図は、後側向き偏向位置の
噴射ノズル部の正面図、(4)図は、直角位置の噴射ノ
ズル部の正面図、(5)図は、前側向き偏向位置の噴射
ノズル部の正面図である。(6)図は、後側向き偏向位
置の噴射ノズル部の要部側面図、(7)図は、直角位置
の噴射ノズル部の要部側面図、(8)図は、前側向き偏
向位置の噴射ノズル部の要部側面図である。図4は、噴
射ノズル部の1例の側面図であり、(1)図は、前傾斜
姿勢の状態を、(2)図は、直立姿勢の状態を、(3)
図は、後傾斜姿勢の状態を示す。図5は、噴射ノズル部
の他の例の側面図であり、(1)図は、前傾斜姿勢の状
態を、(2)図は、直立姿勢の状態を、(3)図は、後
傾斜姿勢の状態を示す。図6の(1)図は、化学メッキ
工程の側面図であり、(2)図は、電気メッキ工程の側
面図である。
FIG. 3 (1) is a front view of the groove type wheel when the printed wiring board material is a large size, and FIG. 3 (2) is
It is a front view of a groove type wheel when a printed wiring board material is a small size. FIG. 3 (3) is a front view of the injection nozzle portion at the rearward deflection position, FIG. 4 (4) is a front view of the injection nozzle portion at a right angle position, and FIG. It is a front view of a nozzle part. (6) is a side view of the main portion of the injection nozzle portion at the rearward deflection position, (7) is a side view of the main portion of the injection nozzle portion at a right angle position, and (8) is a front side deflection position. It is a principal part side view of an injection nozzle part. FIG. 4 is a side view of an example of the injection nozzle unit. FIG. 4 (1) shows a front tilted posture, FIG. 2 (2) shows an upright posture, and FIG.
The figure shows the state of the rearward tilted posture. 5A and 5B are side views of another example of the injection nozzle portion. FIG. 5A is a front tilted posture, FIG. 5B is an upright posture, and FIG. Indicates the posture state. FIG. 6A is a side view of the chemical plating step, and FIG. 6B is a side view of the electroplating step.

【0019】図7は、プリント配線基板の製造工程の1
例を示す、要部の断面説明図である。そして(1)図
は、準備されたプリント配線基板材を、(2)図は、感
光性レジスト膜が形成された状態を、(3)図は、現像
工程後の状態を、(4)図は、エッチング工程後の状態
を、(5)図は、剥離工程後の状態を、それぞれ示す。
図8は、プリント配線基板の製造工程の他の例を示す、
要部の断面説明図である。そして(1)図は、化学銅メ
ッキ工程後のプリント配線基板材を、(2)図は、感光
性レジスト膜が形成された状態を、(3)図は、現像工
程後の状態を、(4)図は、電気銅メッキ工程後の状態
を、(5)図は、剥離工程後の状態を、(6)図は、ク
イックエッチング工程後の状態を、それぞれ示す。図9
は、プリント配線基板(材)の平面説明図である。
FIG. 7 shows a first step of manufacturing a printed wiring board.
It is a section explanatory view of the important section which shows an example. Then, (1) is a prepared printed wiring board material, (2) is a state where a photosensitive resist film is formed, (3) is a state after a developing step, and (4) is a state. Shows the state after the etching step, and FIG. 5 (5) shows the state after the peeling step.
FIG. 8 shows another example of the manufacturing process of the printed wiring board,
It is sectional explanatory drawing of a principal part. Then, (1) is the printed wiring board material after the chemical copper plating step, (2) is the state where the photosensitive resist film is formed, and (3) is the state after the developing step ( 4) shows the state after the electrolytic copper plating step, (5) shows the state after the stripping step, and (6) shows the state after the quick etching step. Figure 9
[FIG. 3] is a plan view of a printed wiring board (material).

【0020】《プリント配線基板Aについて》この基板
処理装置1は、プリント配線基板Aの製造工程で用いら
れる。そこでまず、前提となるプリント配線基板Aにつ
いて、図9を参照しつつ、その概略を説明しておく。電
子回路板とも称されるプリント配線基板Aは、広く各種
のOA機器用の基板、その他の電子機器用の基板として
用いられており、片面基板,両面基板,多層基板(含、
最近のビルドアップ法のもの)等、各種のものがあり、
その一環として、半導体部品が一体的に積み込まれた半
導体チップ・パッケージ絡みのCSP,PBGAも出現
している。そしてプリント配線基板Aは、電子機器の高
性能化,高機能化,小型軽量化に伴い、近年ますます高
精度化,ファイン化,極薄化,多層化等が進み、外表面
(表面,裏面の一方又は双方)に形成される回路Bの高
密度化,微細化が著しい。プリント配線基板Aは、例え
ば縦横が、500mm×500mm程度から、330m
m×250mm程度の寸法よりなり、その肉厚は、樹脂
やガラスクロスよりなる絶縁層部分が1.0mm〜60
μm程度、回路B部分が75μm〜35μm、昨今では
25μm〜10μm前後程度まで極薄化されており、多
層基板の場合でも、全体の肉厚が1.0mm〜0.4m
m程度まで極薄化されつつある。そして、回路B幅や回
路B間スペース(間隔)も、0.1mm以下から、35
μm〜25μm程度と微細化傾向にある。プリント配線
基板Aは、概略このようになっている。
<< Regarding Printed Wiring Board A >> This substrate processing apparatus 1 is used in the manufacturing process of the printed wiring board A. Therefore, first, the outline of the premised printed wiring board A will be described with reference to FIG. The printed wiring board A, which is also called an electronic circuit board, is widely used as a board for various OA equipments and a board for other electronic equipments, such as a single-sided board, a double-sided board, and a multilayer board (including,
There are various types such as the latest build-up method),
As part of this, CSP and PBGA related to semiconductor chip packages in which semiconductor components are integrally loaded have also appeared. The printed wiring board A has become more and more precise, finer, ultra-thin, multi-layered, etc. in recent years as the performance, functionality, and size and weight of electronic equipment have increased. The circuit B formed on one or both of them) is remarkably increased in density and size. The printed wiring board A has a length and width of, for example, from about 500 mm × 500 mm to 330 m
It has a size of about m × 250 mm, and the thickness of the insulating layer portion made of resin or glass cloth is 1.0 mm to 60 mm.
.mu.m, the circuit B portion is 75 .mu.m to 35 .mu.m, and in recent years it has been extremely thinned to about 25 .mu.m to 10 .mu.m.
It is becoming extremely thin to about m. The width of the circuit B and the space (distance) between the circuits B are also 0.1 mm or less,
There is a tendency for miniaturization to be about 25 μm to 25 μm. The printed wiring board A is roughly as described above.

【0021】《図7に示した製造方法について》次に、
この基板処理装置1が用いられる、プリント配線基板A
の製造方法について述べる。プリント配線基板Aは、例
えば図7に示したステップを辿って、製造される。ま
ず、図7の(1)図に示したように、樹脂やガラスクロ
ス製の絶縁層C(絶縁基材)の外表面に、銅箔Dが熱プ
レス等により張り付けられた後、銅箔D表面を粗化する
ソフトエッチングが行われ、ワークサイズに切断され
る。それから、このように準備された銅張り積層板たる
プリント配線基板材Eについて、多くの場合、スルホー
ル用の多数の孔あけ加工が、レーザ等を使用して実施さ
れる。スルホールは、貫通ビアホール,バイアホールと
も称され、プリント配線基板材Eの両外表面(表裏両
面)にそれぞれ両面が開放された貫通孔よりなり、1枚
のプリント配線基板材E(プリント配線基板A)につい
て、極小径のものが数百,数千個にも及ぶ程度、多数形
成され、その径は、0.5mm〜0.2mm程度以下の
ものが多くなっている。そしてスルホールは、両外表面
(表裏両面)の回路B間の接続用や、回路Bに実装され
る(薄形)部品の基部挿着・取り付け用、として使用さ
れる。
<< Manufacturing Method Shown in FIG. 7 >> Next,
Printed wiring board A in which this substrate processing apparatus 1 is used
The manufacturing method of is described. The printed wiring board A is manufactured by following the steps shown in FIG. 7, for example. First, as shown in FIG. 7 (1), after the copper foil D is attached to the outer surface of the insulating layer C (insulating base material) made of resin or glass cloth by hot pressing or the like, the copper foil D is The surface is roughened by soft etching and cut into a work size. Then, with respect to the printed wiring board material E which is the copper clad laminate prepared in this way, in many cases, a large number of through holes for through holes are carried out by using a laser or the like. The through hole is also referred to as a through via hole or a via hole, and is formed by a through hole having both open surfaces on both outer surfaces (both front and back surfaces) of the printed wiring board material E. ), A large number of ultra-small diameters are formed to the extent of hundreds or thousands, and the diameters are often 0.5 mm to 0.2 mm or less. The through holes are used for connection between the circuits B on both outer surfaces (both front and back surfaces) and for mounting / attaching the base of a (thin type) component mounted on the circuit B.

【0022】さてしかる後、図7の(2)図に示したよ
うに、プリント配線基板材Eの銅箔Dの外表面につい
て、保護皮膜たる感光性レジストFが、膜状に塗布又は
張り付けられる。感光性レジストFの肉厚・膜厚は、従
来の35μm程度から、最近は25μm〜10μm程度
に極薄化されつつある。なお、最近のプリント配線基板
材Eは、図示例のように、両外表面(表裏両面)に回路
Bが形成された両面基板よりなることが多く、両面銅張
り積層板が用いられることが多いが、片方の外表面のみ
に回路Bが形成された片面基板よりなり、片面銅張り積
層板にも勿論、本発明は適用可能である。それから、こ
のようなプリント配線基板材Eに対し、回路Bのネガフ
ィルムである回路写真をあてて、露光する。もって、プ
リント配線基板材Eの外表面を被覆していた感光性レジ
ストFは、露光されて硬化した回路B形成部分を残し、
他の不要部分が、図7の(3)図に示したように、現像
液の噴射により溶解除去される。
Then, as shown in FIG. 7 (2), a photosensitive resist F as a protective film is applied or attached in a film form on the outer surface of the copper foil D of the printed wiring board material E. . The thickness / thickness of the photosensitive resist F has been reduced to about 25 μm to about 10 μm from the conventional thickness of about 35 μm. It should be noted that the recent printed wiring board material E is often a double-sided board having circuits B formed on both outer surfaces (both front and back surfaces) as in the illustrated example, and a double-sided copper-clad laminate is often used. However, the present invention is also applicable to a single-sided copper-clad laminate, which is a single-sided board in which the circuit B is formed only on one outer surface. Then, a circuit photograph, which is a negative film of the circuit B, is applied to the printed wiring board material E and exposed. Accordingly, the photosensitive resist F that has covered the outer surface of the printed wiring board material E leaves the portion where the circuit B is exposed and cured,
Other unnecessary portions are dissolved and removed by spraying the developing solution, as shown in FIG. 7 (3).

【0023】しかる後、このようなプリント配線基板材
Eの外表面の銅箔Dは、感光性レジストFが硬化して被
覆,保護された回路B形成部分を残し、上述した現像に
より感光性レジストFが溶解除去された不要部分が、エ
ッチング液(腐食液)の噴射により、図7の(4)図に
示したように、溶解除去・エッチングされる。それか
ら、残っていた硬化した回路B形成部分の感光性レジス
トFが、剥離液の噴射により剥離除去されるので、図7
の(5)図に示したように、残った回路B形成部分の銅
箔Dにて、プリント配線基板材Eの外表面に所定の回路
Bが形成され、もってプリント配線基板Aが製造され
る。なお、上述した現像工程,エッチング工程,剥離工
程には、それぞれ、後処理用として水洗液や薬液を噴射
する洗浄工程が付設されており、もって、プリント配線
基板材Eの外表面に付着していた現像液,エッチング
液,剥離液等が、洗浄,除去される。又、最後に、炉や
熱風噴射により、水洗液や薬液を乾燥させる乾燥工程も
設けられている。図7に示したプリント配線基板Aの製
造方法は、このようになっている。
Thereafter, the copper foil D on the outer surface of the printed wiring board material E is left with the portion of the circuit B formed which is covered with and protected by the photosensitive resist F and is protected by the above-described development. The unnecessary portion from which F has been dissolved and removed is dissolved and removed / etched by spraying an etching solution (corrosion solution) as shown in FIG. 7 (4). Then, the remaining photosensitive resist F of the cured circuit B forming portion is peeled and removed by the spray of the peeling liquid, and therefore, FIG.
As shown in FIG. 5 (5), a predetermined circuit B is formed on the outer surface of the printed wiring board material E by the remaining copper foil D on which the circuit B is formed, and thus the printed wiring board A is manufactured. . The developing process, the etching process, and the peeling process described above are each provided with a cleaning process for spraying a washing liquid or a chemical liquid for post-treatment, and therefore, the cleaning process is performed on the outer surface of the printed wiring board material E. The developing solution, etching solution, stripping solution, etc. are washed and removed. Finally, there is also provided a drying process for drying the washing liquid or the chemical liquid by using a furnace or hot air jet. The method of manufacturing the printed wiring board A shown in FIG. 7 is as described above.

【0024】《図8に示した製造方法について》次に、
図8に示したプリント配線基板Aの製造方法について述
べる。まず、前述した図7のプリント配線基板Aの製造
方法が、従来より代表的であったが、最近は、この図8
に示した製造方法が注目されつつある。この図8の製造
方法は、セミアディティブ法とも呼ばれ、形成される回
路Bの断面が、角型・方形(四角形や長方形)に近い理
想形をなし、高密度化,微細化が進む回路Bに適してい
るとされている。つまり、図7の製造方法にて得られた
回路Bの断面が、頂部分ほど先細りとなったいわゆる富
士山型となりやすい弱点を克服し、もって歩留まりが向
上したものと言える。
<< Regarding the Manufacturing Method Shown in FIG. 8 >> Next,
A method of manufacturing the printed wiring board A shown in FIG. 8 will be described. First, the manufacturing method of the printed wiring board A of FIG. 7 described above has been more typical than before, but recently, the manufacturing method of FIG.
The manufacturing method shown in FIG. The manufacturing method of FIG. 8 is also called a semi-additive method, and the cross section of the formed circuit B has an ideal shape close to a square or a square (quadrangle or rectangle), and the circuit B is becoming higher in density and finer. It is said to be suitable for. In other words, it can be said that the cross section of the circuit B obtained by the manufacturing method of FIG. 7 overcomes a weak point that tends to be a so-called Mt. Fuji type in which the top portion is tapered, and thus the yield is improved.

【0025】そして、この図8の製造方法において、プ
リント配線基板Aは、次のステップを辿って製造され
る。まず、図8の(1)図に示したように、既にスルホ
ール用の多数の孔あけ加工が施された絶縁層C、つまり
プリント配線基板材Eの外表面(図示例では両外表面・
表裏両面)に対し、無電解銅メッキGが施されると共
に、ワークサイズに切断される。この無電解銅メッキG
は、事後に行われる電解銅メッキHの下地(下付けメッ
キ)として機能し、肉厚4μm〜2μm程度で薄付けさ
れ、絶縁層Cの外表面を全面的に導通化する。それか
ら、図8の(2)図に示したように、このようなプリン
ト配線基板材Eの無電解銅メッキGの外表面に、感光性
レジストF(ドライフィルム)が、膜状に塗布又は張り
付けられる。次に、このようなプリント配線基板材Eに
対し、回路Bのフィルムである回路写真をあてて、露光
する。もって、プリント配線基板材Eの外表面を被覆し
ていた感光性レジストFは、露光されて硬化した部分を
残し、他の部分つまり回路B形成部分が、図8の(3)
図に示したように、現像液の噴射により溶解除去され
る。
In the manufacturing method of FIG. 8, the printed wiring board A is manufactured by following the steps below. First, as shown in FIG. 8 (1), the outer surface of the insulating layer C, that is, the printed wiring board material E which has already been subjected to a large number of holes for through holes (in the illustrated example, both outer surfaces.
Electroless copper plating G is applied to both sides (front and back sides), and the work size is cut. This electroless copper plating G
Functions as a base (undercoating) of the electrolytic copper plating H performed after the fact, is thinned with a thickness of about 4 μm to 2 μm, and makes the entire outer surface of the insulating layer C conductive. Then, as shown in FIG. 8 (2), the photosensitive resist F (dry film) is applied or adhered in a film form on the outer surface of the electroless copper plating G of the printed wiring board material E. To be Next, a circuit photograph which is a film of the circuit B is applied to the printed wiring board material E and exposed. As a result, the photosensitive resist F covering the outer surface of the printed wiring board material E leaves the exposed and hardened portion, and the other portion, that is, the portion where the circuit B is formed is (3) in FIG.
As shown in the figure, the developer is dissolved and removed by spraying.

【0026】しかる後、図8の(4)図に示したよう
に、プリント配線基板材Eの回路B形成部分、つまり現
像により感光性レジストFが溶解除去されたメッキパタ
ーン部分、つまり前述により下地として施されていた無
電解銅メッキGが露光した部分に対し、電解銅メッキH
が施される。このようにパターンメッキされた電解銅メ
ッキHの肉厚は、35μm〜25μm程度である。それ
から、図8の(5)図に示したように、残っていた硬化
した回路B形成部分以外の感光性レジストFが、剥離液
の噴射により剥離除去される。そして、図8の(6)図
に示したように、このように感光性レジストFが剥離除
去されて露出した無電解銅メッキGが、薬液の噴射によ
り融解除去される(エッチング液の噴射によりクイック
エッチングされる)。勿論、このような各工程の後処理
用として、洗浄工程や乾燥工程が付設されている。洗浄
工程や乾燥工程については、図7の例において前述した
ところに準じる。さて、このようにして絶縁層C上に無
電解銅メッキGを介し、電解銅メッキHにて回路Bが形
成され、もってプリント配線基板Aが製造される。図8
に示したプリント配線基板Aの製造方法は、このように
なっている。
Thereafter, as shown in FIG. 8 (4), the circuit B forming portion of the printed wiring board material E, that is, the plating pattern portion in which the photosensitive resist F has been dissolved and removed by the development, that is, the base layer as described above. Electroless copper plating H is applied to the exposed portion of electroless copper plating G
Is applied. The thickness of the electrolytic copper plating H pattern-plated in this manner is about 35 μm to 25 μm. Then, as shown in FIG. 8 (5), the remaining photosensitive resist F other than the cured circuit B forming portion is peeled and removed by spraying a peeling liquid. Then, as shown in FIG. 8 (6), the electroless copper plating G exposed by peeling and removing the photosensitive resist F is melted and removed by spraying the chemical liquid (by spraying the etching liquid, as shown in FIG. 8 (6)). Quick etched). Of course, a cleaning process and a drying process are additionally provided for post-processing of each of these processes. The washing process and the drying process are the same as those described above in the example of FIG. 7. In this way, the circuit B is formed on the insulating layer C by the electrolytic copper plating H through the electroless copper plating G, and thus the printed wiring board A is manufactured. Figure 8
The method of manufacturing the printed wiring board A shown in FIG.

【0027】《基板処理装置1の概要について》以下、
本発明の基板処理装置1について、図1〜図6を参照し
て、詳細に説明する。まず、この基板処理装置1の用
途,適用範囲について述べる。この基板処理装置1は、
上述したプリント配線基板Aの製造工程の各工程に適用
され、それぞれの工程用の基板処理装置1が用いられる
が、各基板処理装置1は、それぞれプリント配線基板材
Eを搬送しつつ、それぞれの処理を行う。
<< Outline of Substrate Processing Apparatus 1 >>
The substrate processing apparatus 1 of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. First, the use and application range of the substrate processing apparatus 1 will be described. This substrate processing apparatus 1 is
It is applied to each step of the manufacturing process of the printed wiring board A described above, and the substrate processing apparatus 1 for each step is used. Each substrate processing apparatus 1 conveys the printed wiring board material E, and Perform processing.

【0028】すなわち、この基板処理装置1は、例えば
図7に示した製造方法の各製造工程、つまり、その現像
工程,エッチング工程,剥離工程,洗浄工程、等におい
て用いられる。そして、これらの各工程において、各基
板処理装置1の処理室6は、いずれも共通に図1〜図5
に示したように、コンベヤ2と噴射ノズル部3とを備え
ている。又、この基板処理装置1は、例えば図8に示し
た製造方法の各製造工程、つまり化学銅メッキ工程,現
像工程,電気銅メッキ工程,剥離工程,クイックエッチ
ング工程、等において用いられる。そして、化学銅メッ
キ工程,電気銅メッキ工程において、基板処理装置1の
処理室6は、図6に示したように、コンベヤ2と液槽4
とを備えている。これに対し現像工程,剥離工程,クイ
ックエッチング工程等において、基板処理装置1の処理
室6は、図1〜図5に示したように、コンベヤ2と噴射
ノズル部3とを、備えてなる。基板処理装置1の概要
は、このようになっている。
That is, the substrate processing apparatus 1 is used, for example, in each manufacturing step of the manufacturing method shown in FIG. 7, that is, in its developing step, etching step, peeling step, cleaning step, and the like. In each of these steps, the processing chamber 6 of each substrate processing apparatus 1 is commonly shown in FIGS.
As shown in FIG. 3, the conveyor 2 and the injection nozzle unit 3 are provided. The substrate processing apparatus 1 is used, for example, in each manufacturing step of the manufacturing method shown in FIG. 8, that is, in a chemical copper plating step, a developing step, an electrolytic copper plating step, a peeling step, a quick etching step, and the like. Then, in the chemical copper plating step and the electrolytic copper plating step, the processing chamber 6 of the substrate processing apparatus 1 has a conveyor 2 and a liquid tank 4 as shown in FIG.
It has and. On the other hand, in the developing process, the peeling process, the quick etching process, etc., the processing chamber 6 of the substrate processing apparatus 1 is provided with the conveyor 2 and the injection nozzle portion 3 as shown in FIGS. The outline of the substrate processing apparatus 1 is as described above.

【0029】《コンベヤ2について》まず、この基板処
理装置1のコンベヤ2について述べる。図1,図2,図
6等に示したように、このコンベヤ2は、プリント配線
基板材Eを縦姿勢で搬送する。すなわちコンベヤ2は、
プリント配線基板材Eの上下端を挟み込んで保持し、そ
の回路形成面J(図9を参照)に無接触状態で搬送す
る。図示例のプリント配線基板材Eは、表裏両面に回路
形成面Jを備えてなる。そしてコンベヤ2は、上下にそ
れぞれ、搬送方向に列設された溝型ホイール5群を備え
ており、上下の溝型ホイール5群は、プリント配線基板
材Eの上下端を保持すると共に、回転によりプリント配
線基板材Eを搬送する。
<< Regarding Conveyor 2 >> First, the conveyor 2 of the substrate processing apparatus 1 will be described. As shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 6, etc., this conveyor 2 conveys the printed wiring board material E in a vertical posture. That is, the conveyor 2
The upper and lower ends of the printed wiring board material E are sandwiched and held, and conveyed to the circuit forming surface J (see FIG. 9) in a non-contact state. The printed wiring board material E in the illustrated example includes circuit forming surfaces J on both front and back surfaces. The conveyor 2 is provided with a group of groove type wheels 5 vertically arranged in the transport direction. The group of groove type wheels 5 on the upper and lower sides hold the upper and lower ends of the printed wiring board material E and rotate by rotation. The printed wiring board material E is conveyed.

【0030】このようなコンベヤ2について、更に詳述
する。上下の溝型ホイール5群は、基板処理装置1の処
理室6の上部空間内において、プリント配線基板材Eの
上下サイズに見合った上下間隔で、上下に配設されてい
る。そして、上下の溝型ホイール5群は、それぞれ、軸
を左右方向に向けると共に、搬送方向Kに多数個が1列
に列設された溝型ホイール5の集合体よりなる。各溝型
ホイール5は、断面形状が略V字型,U字型,凹字型,
その他の溝が、外周面に形成されており、この溝にて、
プリント配線基板材Eの上下端、つまり回路形成面Jの
外周面のエッジ部L(図9を参照)を、上下から挟み込
んで保持している。
The conveyor 2 will be described in more detail. The upper and lower groove-type wheel groups 5 are vertically arranged in the upper space of the processing chamber 6 of the substrate processing apparatus 1 at a vertical interval corresponding to the vertical size of the printed wiring board material E. The upper and lower groove type wheel groups 5 are each composed of a group of groove type wheels 5 with their axes oriented in the left-right direction and a large number of which are arranged in a row in the transport direction K. Each groove type wheel 5 has a substantially V-shaped cross section, a U-shaped cross section, a concave shape,
Other grooves are formed on the outer peripheral surface, and in this groove,
The upper and lower ends of the printed wiring board material E, that is, the edge portions L (see FIG. 9) of the outer peripheral surface of the circuit forming surface J are sandwiched and held from above and below.

【0031】これと共に、上下の溝型ホイール5群のう
ちの少なくとも一方、つまり上側の溝型ホイール5群又
は下側の溝型ホイール5群のうち少なくとも一方、又は
双方は、回転駆動されるようになっており、もってプリ
ント配線基板材Eを搬送方向Kに搬送する。図1におい
て7は駆動軸であり、この駆動軸7は、駆動用のモータ
(図示せず)に接続されると共に、ねじ歯車その他の駆
動歯車8対を介し、各溝型ホイール5用の横シャフト9
に接続されており、もって、各溝型ホイール5を回転駆
動する。図示例では、上下の溝型ホイール5群は共に回
転駆動される。なお、プリント配線基板材Eは、このよ
うな上下の溝型ホイール5群を備えたコンベヤ2にて縦
姿勢で搬送されるが、この縦姿勢は、搬送方向Kに沿い
正確に垂直である必要はなく、左右に若干傾斜した姿勢
をも包含する。
At the same time, at least one of the upper and lower groove-type wheel groups 5, that is, at least one of the upper groove-type wheel group 5 and the lower groove-type wheel group 5, or both, is driven to rotate. Therefore, the printed wiring board material E is transported in the transport direction K. In FIG. 1, reference numeral 7 denotes a drive shaft, which is connected to a drive motor (not shown) and which is provided with a transverse gear for each groove type wheel 5 via a pair of drive gears 8 such as a screw gear. Shaft 9
Is connected to each of the groove type wheels 5 to rotate the groove type wheels 5. In the illustrated example, the upper and lower groove type wheel groups 5 are both rotationally driven. It should be noted that the printed wiring board material E is conveyed in a vertical posture by the conveyor 2 having such a group of upper and lower groove type wheels 5, but this vertical posture needs to be exactly vertical along the conveyance direction K. However, it also includes postures that are slightly inclined to the left and right.

【0032】更に、この上下の溝型ホイール5群は、上
下逆方向に対称的に昇降動可能かつ位置決め固定可能で
あり、相互間の上下間隔を変更設定可能となっており、
プリント配線基板材Eの各種サイズに対応可能となって
いる。すなわち、図1中10は昇降用のモータであり、
この昇降用のモータ10の駆動は、縦横に配された伝達
シャフト11や、ねじ歯車その他の伝達歯車12対、そ
して各横シャフト9等を介し、コンベヤ2の上下の各溝
型ホイール5に伝達される。そして、各伝達シャフト1
1から横シャフト9へと駆動を伝達する伝達歯車12対
のねじの方向が、上位の横シャフト9用のものと、下位
の横シャフト9用のものとで、逆に設定されている。そ
こで、モータ10を駆動させると、上下の溝型ホイール
5群は、上位のものと下位のものとが、上下方向に接近
又は離反すべく逆方向に対称的に、昇降動する。もっ
て、プリント配線基板材Eの各種サイズに対応し、大サ
イズの場合は、図3の(1)図に示したように、上下の
溝型ホイール5群が離反して、位置決め固定される。小
サイズの場合は、図3の(2)図に示したように、上下
の溝型ホイール5群は接近して、位置決め固定される。
このコンベヤ2は、このようにして、上下の溝型ホイー
ル5群間相互の上下間隔を変更設定可能であり、プリン
ト配線基板材Eの各種上下サイズに、容易に対応可能と
なっている。図1,図2の(2)図中13は、横シャフ
ト9を所定高さ位置に保持する、穴付のホルダーであ
る。コンベヤ2は、このようになっている。
Further, the upper and lower groove type wheel groups 5 can be symmetrically moved up and down in the opposite directions and can be positioned and fixed, and the vertical distance between them can be changed and set.
It is possible to correspond to various sizes of the printed wiring board material E. That is, reference numeral 10 in FIG. 1 is a lifting motor,
The drive of the motor 10 for raising and lowering is transmitted to the groove wheels 5 above and below the conveyor 2 via a transmission shaft 11 arranged vertically and horizontally, a pair of transmission gears 12 such as a screw gear and other horizontal gears 9 and the like. To be done. And each transmission shaft 1
The directions of the screws of the pair of transmission gears 12 that transmit the drive from 1 to the horizontal shaft 9 are set to be opposite for the upper horizontal shaft 9 and the lower horizontal shaft 9. Then, when the motor 10 is driven, the upper and lower groove-type wheel groups 5 move up and down symmetrically in opposite directions so as to approach or separate in the vertical direction. Therefore, in the case of a large size corresponding to various sizes of the printed wiring board material E, the upper and lower groove type wheel groups 5 are separated and positioned and fixed as shown in FIG. In the case of a small size, as shown in FIG. 3B, the upper and lower groove type wheel groups 5 approach each other and are positioned and fixed.
In this way, the conveyor 2 can change and set the vertical gap between the upper and lower groove type wheel groups 5 and can easily cope with various vertical sizes of the printed wiring board material E. Reference numeral 13 in FIGS. 1 and 2 (2) denotes a holder with a hole for holding the lateral shaft 9 at a predetermined height position. The conveyor 2 has such a structure.

【0033】《噴射ノズル部3について》次に、この基
板処理装置1の噴射ノズル部3について述べる。図1,
図2の(1)図に示したように、プリント配線基板材E
の感光性レジストFの現像工程、銅箔Dのエッチング工
程、感光性レジストFの剥離工程、無電解銅メッキGの
クイックエッチング工程、又は前後処理用の洗浄工程等
にて用いられる場合、この基板処理装置1の処理室6
は、上述したコンベヤ2と共に、噴射ノズル部3を備え
てなる。そして噴射ノズル部3は、搬送されるプリント
配線基板材Eの左右に対向配設されており、その表裏両
面の回路形成面Jに対し処理液M、つまり現像液,エッ
チング液,剥離液,洗浄液たる水洗液,又は洗浄液たる
薬液等の処理液Mを、噴射する。なお、このような図示
例、つまり表裏両面に回路形成面Jが存する両面基板に
よらず、プリント配線基板材Eが片面基板の場合にも、
この基板処理装置1は適用可能であるが、その場合の噴
射ノズル部3は、左右両側に配設されるか(例えば、2
枚の片面基板を背中合わせで搬送する場合)、又は、左
右いずれか側のみに配設される(例えば、1枚の片面基
板のみを搬送する場合)。
<< Injection Nozzle Unit 3 >> Next, the injection nozzle unit 3 of the substrate processing apparatus 1 will be described. Figure 1,
As shown in FIG. 2A, the printed wiring board material E
When used in the developing process of the photosensitive resist F, the etching process of the copper foil D, the removing process of the photosensitive resist F, the quick etching process of the electroless copper plating G, or the cleaning process for pre-processing and post-processing, this substrate Processing chamber 6 of processing apparatus 1
Comprises an injection nozzle section 3 together with the conveyor 2 described above. The jet nozzle portions 3 are disposed on the left and right sides of the conveyed printed wiring board material E so as to face the circuit forming surfaces J on both front and back surfaces thereof, that is, a developing solution, an etching solution, a stripping solution, and a cleaning solution. A treatment liquid M such as a rinsing water washing liquid or a cleaning liquid chemical is sprayed. In addition, even in such an illustrated example, that is, in the case where the printed wiring board material E is a single-sided board, regardless of the double-sided board having the circuit forming surfaces J on both front and back surfaces,
This substrate processing apparatus 1 is applicable, but in that case, the jet nozzle portions 3 are arranged on both left and right sides (for example, 2
A single-sided substrate is conveyed back to back), or it is arranged on either the left or right side (for example, when only one single-sided substrate is conveyed).

【0034】このような噴射ノズル部3について、更に
詳述する。まず、図示例の噴射ノズル部3は、前述した
ようにコンベヤ2にて搬送されるプリント配線基板材E
の左右にそれぞれ、前後間隔を存しつつ多数列設される
と共に、左右のものが、対称的に対向位置している。す
なわち、この噴射ノズル部3は、縦姿勢で搬送されるプ
リント配線基板材Eの左右に、それぞれ、相互間に搬送
方向Kに沿った前後間隔を存しつつ、多数列設されてい
る(図2の(1)図を参照)。そして、左右の噴射ノズ
ル部3は、それぞれ、間に介在位置するプリント配線基
板材Eを中心に、左右方向に等距離を存しつつ、同じ高
さレベル・方向・大きさで対向位置し、対称的に配設さ
れている(図1を参照)。
The injection nozzle section 3 will be described in more detail. First, the injection nozzle unit 3 in the illustrated example is provided with the printed wiring board material E conveyed by the conveyor 2 as described above.
A large number of rows are provided on the left and right sides of the left and right sides, respectively, and the left and right sides are symmetrically opposed to each other. That is, the injection nozzle units 3 are arranged in a large number on the left and right sides of the printed wiring board material E which is conveyed in a vertical position, with a front-rear interval therebetween along the conveyance direction K (FIG. (See Figure 2 (1)). Then, the left and right injection nozzle portions 3 are located at the same height level, direction, and size, with the same distance in the left-right direction, centering on the printed wiring board material E interposed therebetween. They are arranged symmetrically (see Figure 1).

【0035】又、この噴射ノズル部3は、図4(更には
図1,図2,図3)に示したように、縦長のスリット状
噴射口14を備えてなり、このスリット状噴射口14か
ら処理液Mを膜状に噴射するか、又は、図5に示したよ
うに、縦に列設された多数の孔状噴射口15を備えてな
り、各孔状噴射口15から処理液Mを拡散噴射する。す
なわち、この噴射ノズル部3は縦長の角管状をなし、プ
リント配線基板材Eに対向する面に、図4等の例では、
スリット状噴射口14が、細い前後幅にて縦長に穿設さ
れている。そして処理液Mを、搬送されてきたプリント
配線基板材Eの回路形成面Jに向け、縦の幕状にストレ
ートに噴射する。又、図5の例では、多数の孔状噴射口
15が縦に列設されている。そして処理液Mを、搬送さ
れてきたプリント配線基板材Eの回路形成面Jに向け、
それぞれ噴霧状に拡散しつつ、全体的には縦の幅を持っ
た略幕状に噴射する。更に、噴射ノズル部3は、このよ
うな図示のスリット状噴射口14や孔状噴射口15以外
にも、その他各種のノズル・噴射口を採用可能である。
As shown in FIG. 4 (further, FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3), the injection nozzle portion 3 is provided with a vertically long slit-shaped injection port 14, and the slit-shaped injection port 14 is provided. The treatment liquid M is ejected in a film form from the above, or as shown in FIG. 5, it is provided with a large number of hole-like ejection ports 15 which are vertically arranged, and the treatment liquid M is ejected from each hole-like ejection port 15. Diffuse injection. That is, the ejection nozzle portion 3 has a vertically long rectangular tube shape, and on the surface facing the printed wiring board material E, in the example of FIG.
The slit-shaped jet port 14 is vertically elongated with a narrow front-rear width. Then, the treatment liquid M is sprayed straight toward the circuit forming surface J of the conveyed printed wiring board material E in a vertical curtain shape. In addition, in the example of FIG. 5, a large number of hole-shaped injection ports 15 are vertically arranged. Then, the treatment liquid M is directed toward the circuit forming surface J of the printed wiring board material E that has been conveyed,
While spraying in the form of sprays, they are sprayed in a generally curtain shape having a vertical width as a whole. Further, in addition to the slit-shaped ejection port 14 and the hole-shaped ejection port 15 shown in the drawing, various other nozzles / injection ports can be adopted as the ejection nozzle unit 3.

【0036】図1,図2の(1)図において、16は、
処理液Mの液槽である。すなわち、この基板処理装置1
の処理室6は、区画壁17にて上部と下部に区画されて
おり、下部に液槽16が配設されている。液槽16は、
処理液Mにて満たされており、液槽16内の処理液M
は、ポンプ18や配管19を介し、上部の各噴射ノズル
部3へと、汲み上げられて供給される。又、上部の各噴
射ノズル部3にて噴射された処理液Mは、配管(図示せ
ず)等を介し、下部の液槽16へと回収され、もって循
環使用される。図中20は、噴射ノズル部3の保持部材
であり、噴射ノズル部3を処理室6内の上部に取付け保
持している。噴射ノズル部3は、このようになってい
る。
In FIG. 1 and FIG. 2 (1), 16 is
It is a liquid tank for the processing liquid M. That is, this substrate processing apparatus 1
The processing chamber 6 is divided into an upper part and a lower part by a partition wall 17, and a liquid tank 16 is arranged in the lower part. The liquid tank 16 is
The treatment liquid M in the liquid tank 16 is filled with the treatment liquid M.
Is pumped up and supplied to each of the upper injection nozzle portions 3 via a pump 18 and a pipe 19. Further, the processing liquid M sprayed by each of the spray nozzles 3 on the upper side is recovered to the liquid tank 16 on the lower side through a pipe (not shown) or the like, and is thus circulated and used. In the figure, reference numeral 20 denotes a holding member for the jet nozzle unit 3, which holds the jet nozzle unit 3 in the upper part of the processing chamber 6 and holds it. The injection nozzle unit 3 has such a configuration.

【0037】《噴射ノズル部3の姿勢変更と角度変更に
ついて》この噴射ノズル部3は垂直面において、垂直な
直立姿勢Nと、垂直から搬送方向Kの前後に向け傾斜し
た傾斜姿勢Pとの間で、姿勢を変更設定可能となってい
る。すなわち図3,図4,図5等に示したように、噴射
ノズル部3の上端は、調整ネジ21にてプレート22に
取付けられ、プレート22は、上位の止めネジ23にて
上位の保持部材20(図1を参照)に取付けられてい
る。噴射ノズル部3の下端は、調整ネジ21にてアング
ル24に取付けられ、アングル24は、下位の止めネジ
23にて下位の保持部材20(図1を参照)に取付けら
れている。そしてプレート22には、若干湾曲した横長
のガイド穴25が形成されており、上位の止めネジ23
は、このガイド穴25中を左右(つまり搬送方向Kの前
後方向)に、相対変位可能となっている。そこで噴射ノ
ズル部3は、上位の止めネジ23を緩めることにより、
垂直面で下位の止めネジ23を中心に図面上では左右
(搬送方向Kの前後方向)に揺動可能となり、両止めネ
ジ23を締めることにより、所望姿勢で位置決め固定可
能となっている。
<< Regarding Posture Change and Angle Change of Jet Nozzle Unit 3 >> This jet nozzle unit 3 is between a vertical upright posture N and a tilted posture P inclined from the vertical direction to the front and rear in the carrying direction K in a vertical plane. The posture can be changed and set. That is, as shown in FIG. 3, FIG. 4, FIG. 5, etc., the upper end of the injection nozzle unit 3 is attached to the plate 22 by the adjusting screw 21, and the plate 22 is attached by the upper set screw 23 to the upper holding member. 20 (see FIG. 1). The lower end of the injection nozzle unit 3 is attached to the angle 24 by the adjusting screw 21, and the angle 24 is attached to the lower holding member 20 (see FIG. 1) by the lower set screw 23. The plate 22 is formed with a slightly curved laterally long guide hole 25, and the upper set screw 23
Can be relatively displaced in the guide hole 25 left and right (that is, in the front-back direction of the transport direction K). Therefore, the injection nozzle unit 3 can be loosened by loosening the upper set screw 23.
In the drawing, the lower set screw 23 on the vertical plane can be swung to the left and right (front and rear direction in the transport direction K) in the drawing, and by tightening both set screws 23, positioning and fixing can be performed in a desired posture.

【0038】これにより噴射ノズル部3は、姿勢を変更
設定可能となっている。すなわち、図4の(2)図や図
5の(2)図に示したように、垂直の直立姿勢Nと、図
4の(1)図,図5の(1)図に示したように、その上
部が垂直から搬送方向Kの前側に向け傾斜した傾斜姿勢
Pと、図4の(3)図,図5の(3)図,図2の(1)
図等に示したように、その上部が垂直から搬送方向Kの
後側に向け傾斜した傾斜姿勢Pとの間で、姿勢を自在に
変更設定可能となっている。つまり噴射ノズル部3は、
垂直から例えば30度程度まで図面上では左右(搬送方
向Kの前後方向)に傾斜した角度の間で、自在な角度の
所望姿勢にて位置決め固定,変更設定可能となってい
る。そして所望姿勢から、搬送されるプリント配線基板
材Eの回路形成面Jに対し、処理液Mを噴射可能となっ
ている。このように噴射ノズル部3は、姿勢変更可能と
なっている。
As a result, the injection nozzle unit 3 can change its posture. That is, as shown in FIG. 4 (2) and FIG. 5 (2), as shown in FIG. 4 (1) and FIG. , An inclined posture P whose upper part is inclined from the vertical to the front side in the transport direction K, and FIG. 4 (3), FIG. 5 (3), and FIG. 2 (1).
As shown in the drawings and the like, the posture can be freely changed and set between an inclined posture P in which the upper portion is inclined from the vertical toward the rear side in the transport direction K. That is, the injection nozzle unit 3 is
It is possible to set, fix, and change the position in a desired posture at any angle between the angles inclined to the left and right (front and rear direction of the transport direction K) in the drawing from the vertical to about 30 degrees. The processing liquid M can be jetted from the desired posture onto the circuit forming surface J of the printed wiring board material E being conveyed. In this way, the posture of the injection nozzle unit 3 can be changed.

【0039】これと共に、この噴射ノズル部3は、角度
変更可能となっている。この噴射ノズル部3は、プリン
ト配線基板材Eの回路形成面Jに対し処理液Mを、対峙
して噴射する直角位置Qと、前側向き又は後側向きに角
度を付けて噴射する偏向位置Rとの間で、その縦軸を中
心に回動可能かつ位置決め固定可能であり、噴射角度を
変更設定可能となっている。すなわち、図3,図4,図
5等について前述したように、噴射ノズル部3は上端
が、調整ネジ21にてプレート22に取付けられ、下端
が、調整ネジ21にてアングル24に取付けられてい
る。そこで噴射ノズル部3は、上下の調整ネジ21を共
に緩めることにより、その縦軸を中心に軸廻わりで回動
可能となり、調整ネジ21を締めることにより、所望角
度で位置決め固定可能となっている。
At the same time, the angle of the jet nozzle portion 3 can be changed. The jet nozzle portion 3 jets the treatment liquid M to the circuit forming surface J of the printed wiring board material E in a confronting manner at a right angle position Q and at a deflecting position R for jetting the treatment liquid M at an angle to the front side or the rear side. , And the position can be fixed by rotation about the vertical axis, and the injection angle can be changed and set. That is, as described above with reference to FIG. 3, FIG. 4, FIG. 5, etc., the injection nozzle unit 3 has its upper end attached to the plate 22 with the adjusting screw 21 and its lower end attached to the angle 24 with the adjusting screw 21. There is. Therefore, the injection nozzle unit 3 can be rotated around the axis about the vertical axis by loosening the upper and lower adjusting screws 21, and by tightening the adjusting screw 21, positioning and fixing can be performed at a desired angle. There is.

【0040】これにより噴射ノズル部3は、噴射角度を
変更設定可能となっている。すなわち、図3の(4)
図,(7)図,図1等に示したように、搬送されるプリ
ント配線基板材Eの回路形成面Jに対し、処理液Mを真
正面から対峙して噴射する直角位置Q(噴射された処理
液Mと回路形成面Jとは、水平面において直角をなす)
と、図3の(3)図,(6)図や図3の(5)図,
(8)図に示したように、処理液Mを後側向きや前側向
きに角度を付けて噴射する偏向位置R(噴射された処理
液Mと回路形成面Jとは、水平面において、直角から前
側又は後側に角度が存している)との間で、噴射角度を
自在に変更設定可能となっている。
As a result, the injection nozzle unit 3 can change and set the injection angle. That is, (4) in FIG.
As shown in FIG. 7, (7), FIG. 1, etc., the treatment liquid M is jetted to the circuit forming surface J of the conveyed printed wiring board material E from the front side in a right-angled position Q (jetted). The treatment liquid M and the circuit forming surface J form a right angle in the horizontal plane.)
And (3) and (6) in FIG. 3 and (5) in FIG.
(8) As shown in the figure, the deflection position R at which the treatment liquid M is ejected at an angle in the rearward direction or the frontward direction (the ejected treatment liquid M and the circuit forming surface J are perpendicular to each other in a horizontal plane). (There is an angle on the front side or the rear side), the injection angle can be freely changed and set.

【0041】なお、このような噴射ノズル部3の角度変
更は、前述した姿勢変更と併用して実施可能である。つ
まり、この噴射ノズル部3は、前述した直立姿勢Nと傾
斜姿勢P間で設定された姿勢と、この直角位置Qと偏向
位置R間で設定された噴射角度とを、各種組み合わせて
採用可能である。因に図1の例は、直立姿勢Nと直角位
置Qとが組み合わされており、図2の例は、傾斜姿勢P
と直角位置Qとが組み合わされており、図3の(3)
図,(4)図,(5)図,(6)図,(7)図,(8)
図の各例は、直立姿勢Nと直角位置Qや各偏向位置Rと
が組み合わされており、図4,図5の各例は、直立姿勢
Nや傾斜姿勢Pと直角位置Qとが組み合わされている。
噴射ノズル部3は、このように、姿勢変更と角度変更と
が可能となっている。
Incidentally, such an angle change of the injection nozzle portion 3 can be carried out in combination with the above-mentioned posture change. That is, the jet nozzle unit 3 can employ various combinations of the posture set between the upright posture N and the inclined posture P and the jet angle set between the right angle position Q and the deflection position R described above. is there. Incidentally, in the example of FIG. 1, the upright posture N and the right angle position Q are combined, and in the example of FIG.
And the right-angled position Q are combined, and (3) in FIG.
Figure, (4) Figure, (5) Figure, (6) Figure, (7) Figure, (8)
In each example of the drawings, the upright posture N and the right angle position Q and each deflection position R are combined, and in each of the examples of FIGS. 4 and 5, the upright posture N and the inclined position P and the right angle position Q are combined. ing.
In this way, the injection nozzle unit 3 can change the posture and the angle.

【0042】《メッキ工程で用いられる場合について》
次に、図6に示したメッキ工程において、基板処理装置
1が用いられる場合について述べる。メッキ工程で用い
られる場合、その基板処理装置1の処理室6は、コンベ
ヤ2と共に、メッキ液S,Tの液槽4を備えてなる。そ
して、この基板処理装置1では、コンベヤ2の溝型ホイ
ール5群が液槽4のメッキ液S,T中に配設され、プリ
ント配線基板材Eをメッキ液S,Tの液体プールに浸漬
しつつ搬送し、もって通過中にプリント配線基板材Eが
メッキ処理される。なお、このプリント配線基板材E
は、図示例では両面基板よりなるが、片面基板の場合に
も勿論適用可能である。
<< When used in plating process >>
Next, a case where the substrate processing apparatus 1 is used in the plating process shown in FIG. 6 will be described. When used in the plating process, the processing chamber 6 of the substrate processing apparatus 1 comprises a conveyor 2 and a liquid tank 4 for the plating liquids S and T. Then, in this substrate processing apparatus 1, the groove type wheel group 5 of the conveyor 2 is disposed in the plating liquids S and T of the liquid tank 4, and the printed wiring board material E is immersed in the liquid pool of the plating liquids S and T. While being conveyed, the printed wiring board material E is plated during passage. In addition, this printed wiring board material E
In the example shown in the figure, a double-sided board is used, but it is of course applicable to a single-sided board.

【0043】このようなメッキ工程について、更に詳述
する。まず、図6の(1)図の例については、次のとお
り。図6の(1)図の基板処理装置1は、プリント配線
基板材Eの化学銅メッキ工程にて用いられており、液槽
4には、無電解銅メッキ液Sが収納されている。そし
て、コンベヤ2にて縦姿勢で搬送されるプリント配線基
板材Eは、絶縁層Cの外表面に無電解銅メッキGが施さ
れる。このような化学銅メッキ工程について、更に詳述
する。無電解銅メッキ液Sは、銅イオン源としての硫酸
銅等に、ホルマリン等の還元剤等が添加された組成より
なり、浸漬されたプリント配線基板材Eの非導電性の絶
縁層Cの外表面に、化学還元反応で銅を析出させて、無
電解銅メッキGを施し、もって導電性を付与する。そし
て無電解銅メッキ液Sは、その貯槽(図示せず)から、
ポンプ26や配管27を介し液槽4に汲み上げられて配
給され、事後、再び配管27を介し貯槽に回収されて、
循環使用される。化学銅メッキ工程や無電解銅メッキG
については、図7の製造方法において、その(1)図に
ついて前述したところを参照。
The plating process will be described in more detail. First, the example of FIG. 6 (1) is as follows. The substrate processing apparatus 1 of FIG. 6 (1) is used in the chemical copper plating process of the printed wiring board material E, and the liquid bath 4 stores the electroless copper plating liquid S. The outer surface of the insulating layer C of the printed wiring board material E, which is conveyed vertically in the conveyor 2, is electroless copper-plated G. The chemical copper plating process will be described in more detail. The electroless copper plating solution S has a composition in which a reducing agent or the like such as formalin is added to copper sulfate or the like as a copper ion source, and is placed outside the non-conductive insulating layer C of the immersed printed wiring board material E. Copper is deposited on the surface by a chemical reduction reaction, electroless copper plating G is applied, and conductivity is thereby imparted. Then, the electroless copper plating solution S is supplied from its storage tank (not shown).
It is pumped up and distributed to the liquid tank 4 via the pump 26 and the pipe 27, and after that, it is collected again in the storage tank via the pipe 27,
Used in circulation. Chemical copper plating process and electroless copper plating G
Regarding the manufacturing method of FIG. 7, refer to the above-mentioned description of FIG.

【0044】次に、図6の(2)図の例については、次
のとおり。図6の(2)図の基板処理装置1は、プリン
ト配線基板材Eの電気銅メッキ工程にて用いられてお
り、液槽4には、陽極28の電極29が配設されると共
に、銅イオンを含む電解銅メッキ液Tが収納されてい
る。そして、上述した図6の(1)図の化学銅メッキ工
程で予め無電解銅メッキGが施されていたプリント配線
基板材Eは、コンベヤ2の溝型ホイール5群を介し陰極
30に接続され、搬送されつつ通電により電解銅メッキ
Hが施されて、回路Bが形成される。
Next, the example of FIG. 6B is as follows. The substrate processing apparatus 1 of FIG. 6 (2) is used in the electrolytic copper plating process of the printed wiring board material E, and the electrode 29 of the anode 28 is arranged in the liquid bath 4 and the copper An electrolytic copper plating solution T containing ions is stored. Then, the printed wiring board material E, which has been subjected to the electroless copper plating G in advance in the chemical copper plating step shown in FIG. 6A, is connected to the cathode 30 via the groove type wheel group 5 of the conveyor 2. Electrolytic copper plating H is applied by energization while being conveyed, and a circuit B is formed.

【0045】このような電気銅メッキ工程について、更
に詳述する。電解銅メッキ液Tは、その生成槽(図示せ
ず)にて、銅を電気分解することにより、析出した銅イ
オンを含んで生成され、貯槽(図示せず)に循環供給さ
れた後、ポンプ26,配管27等を介し、液槽4に汲み
上げられて供給され、事後、再び配管27を介し貯槽に
回収されて、循環使用される。電解セル槽たる液槽4で
は、プリント配線基板材Eが、陰極30に接続されたコ
ンベヤ2の溝型ホイール5群にて、電解銅メッキ液Tに
浸漬されつつ、縦姿勢で搬送される。液槽4には、不溶
性の陽極28の電極29が配設されており、もって通電
により、マイナスに帯電したプリント配線基板材Eの無
電解銅メッキGの露出部分(回路B形成部分)につい
て、電解銅メッキ液T中の銅イオンが放電して銅が析出
し、もって電解銅メッキHが施されて、回路Bが形成さ
れる。電気銅メッキ工程や電解銅メッキHについては、
図7の製造方法において、その(4)図について前述し
たところを参照。メッキ工程において、この基板処理装
置1はこのように用いられる。
The electrolytic copper plating process will be described in more detail. The electrolytic copper plating solution T is generated by electrolyzing copper in the generation tank (not shown) containing the precipitated copper ions, and is circulated and supplied to the storage tank (not shown), and then the pump. It is pumped up and supplied to the liquid tank 4 via 26, the pipe 27, etc., and after that, it is collected again in the storage tank via the pipe 27 and is circulated and used. In the liquid tank 4, which is an electrolytic cell tank, the printed wiring board material E is conveyed in a vertical posture while being immersed in the electrolytic copper plating solution T by the groove type wheel group 5 of the conveyor 2 connected to the cathode 30. An electrode 29 of an insoluble anode 28 is arranged in the liquid tank 4, and an exposed portion (circuit B forming portion) of the electroless copper plating G of the printed wiring board material E which is negatively charged by energization is provided. Copper ions in the electrolytic copper plating solution T are discharged to deposit copper, and electrolytic copper plating H is applied to form a circuit B. For electrolytic copper plating process and electrolytic copper plating H,
In the manufacturing method of FIG. 7, refer to the above description regarding the diagram (4). In the plating process, the substrate processing apparatus 1 is used in this way.

【0046】《作用等について》本発明に係る基板処理
装置1は、以上説明したように構成されている。そこ
で、以下のようになる。この基板処理装置1は、プリン
ト配線基板Aの製造工程で用いられ、プリント配線基板
材Eを、次のステップを辿って各種処理する。 まず前提として、この基板処理装置1は、プリント配
線基板Aの製造工程において、プリント配線基板材Eを
対象とした、次の各種工程に適用され、それぞれの工程
用の基板処理装置1が用いられる。例えば、a.感光性
レジストFの現像工程(図7の(3)図,図8の(3)
図を参照)、銅箔Dのエッチング工程(図7の(4)図
を参照)、感光性レジストFの剥離工程(図7の(5)
図,図8の(5)図を参照)、無電解銅メッキGのクイ
ックエッチング工程(図8の(6)図を参照)、等にお
いて用いられる。又、例えばb.メッキ工程(図8の
(1)図,図8(4)図を参照)において用いられる。
更に例えばc.これらの前後処理用の洗浄工程において
用いられる。
<< Regarding Operation and the Like >> The substrate processing apparatus 1 according to the present invention is configured as described above. Therefore, it becomes as follows. The substrate processing apparatus 1 is used in the manufacturing process of the printed wiring board A, and variously processes the printed wiring board material E by following the steps below. First, as a premise, this substrate processing apparatus 1 is applied to the following various steps for the printed wiring board material E in the manufacturing process of the printed wiring board A, and the substrate processing apparatus 1 for each step is used. . For example, a. Step of developing photosensitive resist F (FIG. 7 (3), FIG. 8 (3))
(See the figure), the etching process of the copper foil D (see FIG. 7 (4)), and the peeling process of the photosensitive resist F ((5) of FIG. 7).
8 and FIG. 8 (see FIG. 8), the electroless copper plating G quick etching step (see FIG. 8 (6)), and the like. Also, for example, b. It is used in the plating process (see FIG. 8 (1) and FIG. 8 (4)).
Further, for example, c. It is used in these pre- and post-treatment cleaning steps.

【0047】そして、基板処理装置1に供給されたプ
リント配線基板材Eは、例えば表裏両面に回路形成面J
を備えた両面基板よりなり、コンベヤ2にて縦姿勢で搬
送される(図1,図2の(1)図,図6を参照)。すな
わち、この基板処理装置1のコンベヤ2は、プリント配
線基板材Eの上下端を保持し、回路形成面Jに無接触状
態で搬送する。このコンベヤ2は、上下にそれぞれ、搬
送方向Kに列設された溝型ホイール5群を備えており、
上下の溝型ホイール5群は、プリント配線基板材Eの上
下端をそれぞれ保持すると共に、回転によりプリント配
線基板材Eを搬送する。 なお、このコンベヤ2の上下の溝型ホイール5群は、
上下逆方向に対称的に昇降動可能、かつ位置決め固定可
能となっており、もって、相互間の上下間隔を変更設定
可能となっている(図3の(1)図,(2)図を参
照)。そこで、この基板処理装置1は、プリント配線基
板材Eの大小サイズに対応して、溝型ホイール5群の上
下間隔を変更設定することにより、プリント配線基板材
Eの各種サイズに対応して使用可能である。
The printed wiring board material E supplied to the substrate processing apparatus 1 has a circuit forming surface J on both front and back surfaces.
It is composed of a double-sided board provided with and is conveyed by the conveyor 2 in a vertical posture (see FIGS. 1 and 2 (1) and FIG. 6). That is, the conveyor 2 of the substrate processing apparatus 1 holds the upper and lower ends of the printed wiring board material E and conveys it to the circuit forming surface J in a non-contact state. The conveyor 2 is provided with a group of groove type wheels 5 arranged in the transport direction K at the top and bottom, respectively.
The upper and lower groove type wheel groups 5 hold the upper and lower ends of the printed wiring board material E, respectively, and convey the printed wiring board material E by rotation. In addition, the upper and lower groove type wheel groups 5 of the conveyor 2 are
It is possible to move up and down symmetrically in the opposite direction, and to position and fix it. Therefore, it is possible to change and set the vertical interval between them (see (1) and (2) in FIG. 3). ). Therefore, the substrate processing apparatus 1 is used in correspondence with various sizes of the printed wiring board material E by changing and setting the vertical interval of the groove type wheel group 5 corresponding to the size of the printed wiring board material E. It is possible.

【0048】さて、a.現像工程,エッチング工程,
剥離工程,クイックエッチング工程に適用される場合
や、c.洗浄工程に適用される場合、この基板処理装置
1は、コンベヤ2と共に噴射ノズル部3を、備えている
(図1,図2の(1)図を参照)。そして、コンベヤ2
にて搬送されるプリント配線基板材Eの表裏の回路形成
面Jに対し、左右に対向配設された噴射ノズル部3か
ら、現像液,エッチング液,剥離液,洗浄液たる水洗
液,洗浄液たる薬液、等の処理液Mが噴射される。この
ように、この基板処理装置1において、プリント配線基
板材Eは、縦姿勢で搬送されつつ処理液Mが噴射される
ので、噴射された処理液Mが、その回路形成面Jに液溜
まりとなって滞留することはない。噴射ノズル部3から
噴射された処理液Mは、縦姿勢のプリント配線基板材E
の回路形成面Jについて、所定の処理を行った後、滞留
することなく流下,回収される。
Now, a. Development process, etching process,
When applied to a peeling process or a quick etching process, or c. When applied to the cleaning step, the substrate processing apparatus 1 includes the conveyor 2 and the injection nozzle unit 3 (see FIGS. 1 and 2 (1)). And conveyor 2
With respect to the circuit forming surfaces J on the front and back of the printed wiring board material E conveyed by, the developing solution, the etching solution, the stripping solution, the washing solution as the washing solution, and the chemical solution as the washing solution from the jet nozzle section 3 which is disposed on the left and right sides. , Etc. are sprayed. As described above, in the substrate processing apparatus 1, the printed wiring board material E is jetted with the treatment liquid M while being conveyed in a vertical posture, and thus the jetted treatment liquid M forms a liquid pool on the circuit formation surface J thereof. It doesn't stay. The processing liquid M sprayed from the spray nozzle unit 3 is a printed wiring board material E in a vertical posture.
After performing a predetermined process on the circuit forming surface J, the circuit forming surface J is flowed down and collected without staying.

【0049】ところで、この基板処理装置1の噴射ノ
ズル部3は、搬送されるプリント配線基板材Eの左右
に、それぞれ、前後間隔を存しつつ多数列設されると共
に、左右のものが対称的に対向位置している(図1,図
2の(1)図を参照)。そこで、極薄化が進むプリント
配線基板材Eではあるが、噴射ノズル部3から噴射され
る処理液Mの噴射圧により、左右両側から保持され釣り
合った状態となっており、撓み・湾曲・飛ばされ等の虞
はない。
By the way, the jet nozzle portions 3 of the substrate processing apparatus 1 are arranged in a large number on the left and right sides of the printed wiring board material E to be conveyed, with a front-rear spacing therebetween, and the left and right ones are symmetrical. (See FIG. 1 and FIG. 2 (1)). Therefore, although the printed wiring board material E is becoming extremely thin, the jetting pressure of the treatment liquid M jetted from the jet nozzle portion 3 holds and balances it from both left and right sides, and causes bending, bending, and flying. There is no risk of being cut.

【0050】又、この基板処理装置1の噴射ノズル部
3は、縦長のスリット状噴射口14を備え(図4等を参
照)、もって処理液Mを膜状・直線状にストレートに噴
射するか、又は、縦に列設された孔状噴射口15を備え
(図5を参照)、もって処理液Mをトータルで略膜状・
略直線状に拡散噴射する。そして噴射ノズル部3は、垂
直面において垂直な直立姿勢Nと、垂直から搬送方向K
の前後に傾斜した傾斜姿勢Pとの間で、姿勢を変更設定
可能となっている(図4,図5を参照)。又、プリント
配線基板材Eの回路形成面Jに対し処理液Mを、対峙し
て噴射する直角位置Qと、前側向き又は後側向きに角度
を付けて噴射する偏向位置Rとの間で、噴射角度を変更
設定可能となっている(図3の(4)図,(5)図,
(6)図,(7)図,(8)図,(9)図等を参照)。
プリント配線基板材Eの回路形成面Jの回路Bは、縦横
に形成されることが多いが(図9を参照)、その場合
は、噴射ノズル部3の姿勢や噴射角度を、傾斜姿勢Pや
偏向位置Rに変更設定する。すると処理液Mは、回路B
の頂面や回路間スペースに対峙しては噴射されなくなる
ので、回路形成面Jにおいて飛散,偏在,直流下するこ
となく、回路Bの側面や回路B間スペースに向け、傾斜
し,角度を付けて噴射されるので、縦横の回路Bに万遍
なく均一に噴射されるようになる。
Further, the jet nozzle unit 3 of the substrate processing apparatus 1 is provided with a vertically long slit-like jet port 14 (see FIG. 4 etc.), and is the process liquid M jetted straight in a film form or in a straight line form? Alternatively, it is provided with the hole-shaped injection holes 15 arranged in a line in a vertical direction (see FIG. 5), and thus the treatment liquid M is formed into a substantially film-like shape in total.
Diffuse injection in a substantially straight line. The jet nozzle unit 3 has a vertical upright posture N on a vertical plane and a transport direction K from the vertical.
The posture can be changed and set between the inclined posture P that is inclined to the front and the rear (see FIGS. 4 and 5). Further, between the right-angled position Q at which the treatment liquid M is jetted to the circuit forming surface J of the printed wiring board material E in a confronting manner and the deflection position R at which the treatment liquid M is jetted at an angle to the front side or the rear side, It is possible to change and set the injection angle (Fig. 3 (4), (5),
See (6), (7), (8), (9), etc.).
The circuit B on the circuit forming surface J of the printed wiring board material E is often formed vertically and horizontally (see FIG. 9). In that case, the attitude and the injection angle of the injection nozzle unit 3 are set to the inclined attitude P and The deflection position R is changed and set. Then, the processing liquid M is the circuit B
Since it will not be jetted against the top surface of the circuit or the space between the circuits, it is inclined and angled toward the side surface of the circuit B or the space between the circuits B without scattering, uneven distribution, or direct current flow on the circuit forming surface J. Since it is ejected as a result, it is evenly and uniformly ejected to the vertical and horizontal circuits B.

【0051】これらに対し、メッキ工程に適用される
場合、この基板処理装置1は液槽4を備えてなる(図6
を参照)。すなわち、上述した,,のa.現像工
程,エッチング工程,剥離工程,クイックエッチング工
程に適用される場合や、c.洗浄工程に適用される場合
とは異なり、b.このメッキ工程に適用される場合、こ
の基板処理装置1は、メッキ液S,Tの液槽4を備えて
いる。そして、コンベヤ2の溝型ホイール5群は、液槽
4のメッキ液S,T中に配設されており、プリント配線
基板材Eは、縦姿勢でメッキ液S,Tに浸漬されつつ搬
送される。そして、まず化学銅メッキ工程で用いられる
場合(図6の(1)図を参照)、基板処理装置1の液槽
4には、無電解銅メッキ液Sが収納されており、プリン
ト配線基板材Eは、絶縁層Cの外表面に無電解銅メッキ
Gが施される(図8の(1)図も参照)。次に、電気銅
メッキ工程で用いられる場合(図6の(2)図を参
照)、基板処理装置1の液槽4には、陽極28の電極2
9が配設されると共に、銅イオンを含む電解銅メッキ液
Tが収納されており、予め無電解銅メッキGが施された
プリント配線基板材Eは、コンベヤ2の溝型ホイール5
群を介し陰極30に接続され、通電により電解銅メッキ
Hが施される(図8の(4)図を参照)。
On the other hand, when applied to the plating process, the substrate processing apparatus 1 comprises a liquid tank 4 (see FIG. 6).
See). That is, a. When applied to development process, etching process, peeling process, quick etching process, and c. Unlike when applied to the cleaning step, b. When applied to this plating process, the substrate processing apparatus 1 includes a liquid bath 4 for the plating liquids S and T. The groove type wheel group 5 of the conveyor 2 is disposed in the plating liquids S and T in the liquid tank 4, and the printed wiring board material E is conveyed while being immersed in the plating liquids S and T in a vertical posture. It When used in the chemical copper plating step (see FIG. 6 (1)), the electroless copper plating solution S is stored in the liquid bath 4 of the substrate processing apparatus 1, and the printed wiring board material is used. For E, electroless copper plating G is applied to the outer surface of the insulating layer C (see also FIG. 8 (1)). Next, when used in the electrolytic copper plating step (see FIG. 6 (2)), the electrode 2 of the anode 28 is provided in the liquid bath 4 of the substrate processing apparatus 1.
9 is provided, the electrolytic copper plating solution T containing copper ions is stored therein, and the printed wiring board material E preliminarily subjected to the electroless copper plating G is the groove type wheel 5 of the conveyor 2.
It is connected to the cathode 30 through the group and electrolytic copper plating H is applied by energization (see FIG. 8 (4)).

【0052】さて、上述した,,,のa.現
像工程,エッチング工程,剥離工程、b.メッキ工程、
c.洗浄工程等の場合、それぞれの処理に際し、それぞ
れの基板処理装置1は、上述した,のように、コン
ベヤ2の上下の溝型ホイール5群が、プリント配線基板
材Eを縦姿勢で上下端を保持し、回路形成面Jには無接
触状態で搬送する(図1,図2の(1)図,図6を参
照)。そこで、プリント配線基板材Eの回路形成面Jの
感光性レジストF,銅箔D,メッキG,H,回路B等
に、接触傷や擦り傷、例えば潰れ,凹み,変形,その他
の傷等が発生することは、回避される(図7や図8も参
照)。又、プリント配線基板材Eの切断箇所(周端縁)
に付着していた切断粉,ゴミ,周囲の塵等が、コンベヤ
2を介して、プリント配線基板材Eの回路形成面Jの感
光性レジストF,銅箔D,メッキG,H,回路B等に、
再付着することもなくなる(図7や図8も参照)。
By the way, a. Developing step, etching step, peeling step, b. Plating process,
c. In the case of a cleaning step or the like, in each processing, in each substrate processing apparatus 1, as described above, the upper and lower groove type wheel groups 5 of the conveyor 2 vertically move the printed wiring board material E to the upper and lower ends. It is held and conveyed without contacting the circuit forming surface J (see FIGS. 1 and 2 (1) and FIG. 6). Therefore, contact scratches and abrasions such as crush, dent, deformation, and other scratches occur on the photosensitive resist F, the copper foil D, the platings G, H, the circuit B, etc. on the circuit forming surface J of the printed wiring board material E. Doing so is avoided (see also FIGS. 7 and 8). In addition, the cut portion (peripheral edge) of the printed wiring board material E
Cutting powder, dust, surrounding dust, etc. adhering to the surface of the printed wiring board material E on the circuit forming surface J of the printed wiring board material E, copper foil D, plating G, H, circuit B, etc. To
It is not redeposited (see also FIGS. 7 and 8).

【0053】更に、この基板処理装置1において、プ
リント配線基板材Eは、コンベヤ2の回転する上下の溝
型ホイール5群間に、その上下端を保持されつつ搬送さ
れるので、その搬送は確実で安定的である(図1,図2
の(1)図,図6を参照)。又、この基板処理装置1で
は、コンベヤ2の上下の溝型ホイール5群間に、プリン
ト配線基板材Eを供給するだけでよく、操作が簡略化さ
れ、工程の連続化・自動化が容易である。しかも、この
基板処理装置1は、上下の溝型ホイール5群を備えたコ
ンベヤ2を、処理液Mの噴射ノズル部3やメッキ液S,
Tの液槽4と組み合わせた、簡単な構成よりなる(図
1,図2の(1)図,図6を参照)。
Further, in this substrate processing apparatus 1, the printed wiring board material E is conveyed between the upper and lower groove type wheel groups 5 of the conveyor 2 which are rotated while holding the upper and lower ends thereof, so that the conveyance is reliable. And stable (Figs. 1 and 2
(See (1) figure and FIG. 6). Further, in this substrate processing apparatus 1, it is sufficient to supply the printed wiring board material E between the upper and lower groove type wheel groups 5 of the conveyor 2, the operation is simplified, and the continuation and automation of the steps are easy. . Moreover, the substrate processing apparatus 1 includes the conveyor 2 having the upper and lower groove type wheel groups 5, the injection nozzle portion 3 of the processing liquid M, the plating liquid S,
It has a simple configuration in combination with the T liquid tank 4 (see FIGS. 1 and 2 (1) and FIG. 6).

【0054】《その他》なお、この基板処理装置1は、
プリント配線基板Aの製造工程の全工程にわたって適用
可能である。すなわち、回路Bの高密度化,微細化が進
むプリント配線基板Aの製造工程において、この基板処
理装置1は、プリント配線基板材Eの回路形成面Jに無
接触状態の縦姿勢で搬送しつつ処理を行うので、その作
用効果は大なるものがある。そこで、前述した現像工
程,エッチング工程,剥離工程,メッキ工程,洗浄工程
以外の各工程においても、その適用が望まれる。例え
ば、洗浄工程の後の乾燥工程においても、この基板処理
装置1を適用し、その処理室6内でプリント配線基板材
Eを無接触状態の縦姿勢で搬送しつつ、噴射ノズル部3
から温風や熱風を噴射したり、処理室6に炉を使用して
乾燥させることも考えられる。又、このように基板処理
装置1を、プリント配線基板Aの各製造工程に共通に適
用すると、プリント配線基板材Eの姿勢を途中で変更す
ることを要しない、という利点もある。つまり、プリン
ト配線基板材Eを途中で水平姿勢から縦姿勢に姿勢変更
することを要せず、全工程にわたって縦姿勢で搬送で
き、全体構造が簡略化される、という利点もある。この
基板処理装置1は、このように、プリント配線基板Aの
全製造工程にわたって、適用可能である。
<< Others >> The substrate processing apparatus 1 is
It is applicable to all the steps of manufacturing the printed wiring board A. That is, in the manufacturing process of the printed wiring board A in which the circuit B is highly densified and miniaturized, the substrate processing apparatus 1 conveys the printed wiring board material E to the circuit formation surface J in a vertical position in a non-contact state. Since the processing is performed, its action and effect are great. Therefore, its application is desired also in each process other than the developing process, etching process, peeling process, plating process, and cleaning process described above. For example, also in the drying process after the cleaning process, the substrate processing apparatus 1 is applied, and the printed wiring board material E is conveyed in the processing chamber 6 in a vertical position in a non-contact state while the ejection nozzle unit 3 is being used.
It is also conceivable to inject hot air or hot air from the above or to dry the processing chamber 6 by using a furnace. Further, when the substrate processing apparatus 1 is commonly applied to each manufacturing process of the printed wiring board A as described above, there is also an advantage that it is not necessary to change the posture of the printed wiring board material E on the way. In other words, there is also an advantage that the printed wiring board material E can be conveyed in the vertical posture over the entire process without changing the posture from the horizontal posture to the vertical posture in the middle, and the entire structure is simplified. The substrate processing apparatus 1 is thus applicable to all the manufacturing steps of the printed wiring board A.

【0055】[0055]

【発明の効果】《本発明の特徴》本発明に係る基板処理
装置は、以上説明したように、プリント配線基板の製造
工程の各工程において、上下の溝型ホイール群を備えた
コンベヤにて、プリント配線基板材の上下端を保持し、
回路形成面に無接触状態で搬送しつつ、噴射ノズル部に
て処理液を噴射したりメッキ液の液槽に浸漬して、各種
処理を行うこと、を特徴とする。
<Characteristics of the present invention> As described above, the substrate processing apparatus according to the present invention, in each step of the manufacturing process of the printed wiring board, by the conveyor provided with the upper and lower groove type wheel group, Hold the upper and lower ends of the printed wiring board material,
Various features are characterized in that the treatment liquid is ejected from the ejection nozzle portion or dipped in a bath of the plating liquid while being conveyed in a non-contact state to the circuit formation surface to perform various treatments.

【0056】《第1の効果について》第1に、回路形成
面における傷等の発生は、防止される。この基板処理装
置によると、コンベヤの溝型ホイール群がプリント配線
基板材を、回路形成面に無接触状態で搬送するので、回
路形成面に傷等は発生しない。すなわち、この種従来例
の水平姿勢で搬送する基板処理装置や、ローラーコンベ
ヤやベルトコンベヤを用いて縦姿勢で搬送する基板処理
装置のように、コンベヤの搬送ローラーやホイールが回
路形成面に接触して、接触傷や擦り傷等が発生するトラ
ブルは、回避される。例えば両面基板の場合は、表裏両
面の回路形成面共に、傷等の発生が防止される。電気銅
メッキ工程で用いられた場合は、傷等の発生が防止され
ることにより、通電のバラツキが回避され、電解銅メッ
キ処理のバラツキが回避される。このように、処理が均
一化され処理のバラツキが回避されるので、回路の高密
度化,微細化が進むプリント配線基板にとって、その意
義は大なるものがある。勿論、歩留まりも向上する。
<< Regarding the First Effect >> First, the occurrence of scratches or the like on the circuit formation surface is prevented. According to this substrate processing apparatus, since the grooved wheel group of the conveyor conveys the printed wiring board material in a non-contact state with the circuit forming surface, the circuit forming surface is not damaged. That is, the conveyor rollers and wheels of the conveyor are in contact with the circuit formation surface, as in the substrate processing apparatus of this type that conveys in a horizontal posture and the substrate processing apparatus that conveys in a vertical posture using a roller conveyor or a belt conveyor. Therefore, troubles such as contact scratches and abrasions can be avoided. For example, in the case of a double-sided substrate, the occurrence of scratches or the like is prevented on both the front and back circuit forming surfaces. When it is used in the electrolytic copper plating step, the occurrence of scratches and the like is prevented, so that the variation in the energization is avoided and the variation in the electrolytic copper plating process is avoided. As described above, since the processing is uniformized and the processing variation is avoided, the significance is great for a printed wiring board in which the circuit density and miniaturization are advanced. Of course, the yield is also improved.

【0057】《第2の効果について》第2に、回路形成
面へのゴミ等の付着も防止される。この基板処理装置に
よると、コンベヤの溝型ホイール群が、プリント配線基
板材を、回路形成面に無接触状態で搬送するので、回路
形成面へのゴミ等の付着は、回避される。すなわち、こ
の種従来例の水平姿勢で搬送する基板処理装置や、ロー
ラーコンベヤやベルトコンベヤを用いて縦姿勢で搬送す
る基板処理装置のように、プリント配線基板材の切断箇
所(周端縁)に付着していた切断粉,ゴミ,周囲の塵等
が、コンベヤを介して、プリント配線基板材の回路形成
面に、再付着することはなくなる。両面基板について
は、表裏両面共にゴミ等の付着が回避される。もって、
これらによりゴミ等の付着に起因した傷等の発生が回避
されると共に、処理が均一化され処理のバラツキが回避
されるので、回路の高密度化,微細化が進むプリント配
線基板にとって、その意義は大なるものがある。勿論、
歩留まりも向上する。
<< Regarding the Second Effect >> Secondly, dust and the like are prevented from adhering to the circuit formation surface. According to this substrate processing apparatus, the groove type wheel group of the conveyor conveys the printed wiring board material in a non-contact state with the circuit forming surface, so that adhesion of dust or the like to the circuit forming surface is avoided. That is, as in the substrate processing apparatus of this type that conveys in a horizontal posture, or the substrate processing apparatus that conveys in a vertical posture by using a roller conveyor or a belt conveyor, the printed wiring board material is cut at a cutting point (peripheral edge). The attached cutting powder, dust, and surrounding dust will not be reattached to the circuit forming surface of the printed wiring board material via the conveyor. With respect to the double-sided substrate, dust and the like are prevented from adhering to both front and back surfaces. So,
These prevent the occurrence of scratches and the like due to the attachment of dust and the like, and also make the processing uniform and avoid the processing variations, which is of significance to printed wiring boards in which circuit density and miniaturization are progressing. Has a great deal. Of course,
Yield is also improved.

【0058】《第3の効果について》第3に、噴射され
た処理液にて、均一化された処理が実現される。この基
板処理装置によると、コンベヤの溝型ホイール群が、プ
リント配線基板材を縦姿勢でするので、噴射ノズル部か
ら噴射された処理液が、回路形成面に液溜まりとなって
滞溜することはない。すなわち、この種従来例の水平姿
勢で搬送する基板処理装置のように、処理液が回路形成
面上の中央部に液溜まりとなって、滞溜することはなく
なる。両面基板については、表裏両面共に液溜まりの発
生は回避される。もって、このような液溜まりの発生回
避により、回路形成面での処理液の更新が促進され、処
理の遅速・過不足箇所発生が防止されるので、この面か
らも、処理が均一化され処理のバラツキが回避される。
従って、回路の高密度化,微細化が進むプリント配線基
板にとって、その意義は大なるものがある。勿論、歩留
まりも向上する。又、液溜まりの発生回避により、処理
液の持ち出しが減少し、処理液が効率的に使用され、処
理液の無駄・ロスが解消される。
<< Third Effect >> Thirdly, uniform treatment is realized by the jetted treatment liquid. According to this substrate processing apparatus, the groove type wheel group of the conveyor makes the printed wiring board material in the vertical posture, so that the processing liquid jetted from the jet nozzle portion accumulates on the circuit forming surface as a liquid pool. There is no. That is, unlike the substrate processing apparatus of this type in which the substrate is conveyed in a horizontal position, the processing liquid does not accumulate in the central portion on the circuit forming surface and does not accumulate. With respect to the double-sided substrate, the occurrence of liquid pool on both the front and back sides is avoided. Therefore, by avoiding the occurrence of such a liquid pool, the renewal of the processing liquid on the circuit formation surface is promoted, and the processing speed is slowed down and the occurrence of excess / deficiency points is prevented. Variation is avoided.
Therefore, it has great significance for a printed wiring board in which circuit density and miniaturization are progressing. Of course, the yield is also improved. Further, since the occurrence of the liquid pool is avoided, the carry-out of the processing liquid is reduced, the processing liquid is efficiently used, and the waste / loss of the processing liquid is eliminated.

【0059】更に、この基板処理装置では、噴射ノズル
部の姿勢を、直立姿勢と傾斜姿勢に変更設定可能とした
り、噴射ノズル部の噴射角度を、直角位置と偏向位置に
変更設定可能としたことにより、次の効果を発揮する。
すなわち、プリント配線基板材の回路形成面の回路は、
縦横に形成されていることが多いが、その場合は、傾斜
姿勢や偏向位置に姿勢や噴射角度を変更設定することに
より、噴射された処理液が万遍なく均一に、プリント配
線基板材の回路形成面の回路に、噴射されるようにな
る。もって、この面からも処理が均一化され、処理のバ
ラツキが回避されるようになる。
Further, in this substrate processing apparatus, the posture of the jet nozzle portion can be changed and set to the upright posture and the inclined posture, and the jet angle of the jet nozzle portion can be changed and set to the right angle position and the deflection position. The following effects are exhibited.
That is, the circuit on the circuit forming surface of the printed wiring board material is
In many cases, it is formed vertically and horizontally, but in this case, by changing and setting the posture and jetting angle to the tilted posture and deflection position, the jetted processing liquid can be evenly and evenly distributed, and the circuit of the printed wiring board material can be made uniform. It will be injected into the circuit on the forming surface. As a result, the processing is made uniform from this aspect as well, and variations in the processing can be avoided.

【0060】《第4の効果について》第4に、しかもこ
れらは、簡単,容易,確実,かつ自動的に実現される。
すなわち、まずこの基板処理装置において、プリント配
線基板材は、コンベヤの上下の溝型ホイールにて搬送さ
れるので、ベルトコンベヤを用いた前述したこの種従来
例の基板処理装置に比し、その搬送は確実で安定的であ
る。又、この基板処理装置では、上下の溝型ホイール群
にプリント配線基板材を供給するだけでよく、クリップ
等の係止部材付コンベヤを用いた前述したこの種従来例
の基板処理装置に比し、操作が簡略化され、工程の連続
化・自動化が実現される。更に、この基板処理装置で
は、コンベヤの上下の溝型ホイール群間の上下間隔を、
変更設定可能となっているので、各種サイズのプリント
配線基板材に対応使用可能である。又、この基板処理装
置においては、噴射ノズル部が左右対称的に対向位置し
ており、処理液の噴射圧により、プリント配線基板材は
左右両側から保持されている。そこで、極薄化が進むプ
リント配線基板材ではあるが、噴射圧により撓み・湾曲
・飛ばされ等の事故発生の危険もない。そして、この基
板処理装置は、溝型ホイール群を備えたコンベヤを、噴
射ノズル部や、液槽と組み合わせた簡単な構成により、
前述した第1,第2,第3の各点が、確実に実現され
る。このように、この種従来例に存した課題がすべて解
決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大な
るものがある。
<Regarding Fourth Effect> Fourthly, and yet, these are easily, easily, surely and automatically realized.
That is, first, in this substrate processing apparatus, the printed wiring board material is conveyed by the groove type wheels above and below the conveyor. Is reliable and stable. Further, in this substrate processing apparatus, it suffices to supply the printed wiring board material to the upper and lower groove type wheel groups, which is more than the conventional substrate processing apparatus of this type using a conveyor with a locking member such as a clip. The operation is simplified and the process is continuous and automated. Further, in this substrate processing apparatus, the vertical spacing between the upper and lower groove type wheel groups of the conveyor is
Since it can be changed and set, it can be used for various sizes of printed wiring board materials. Further, in this substrate processing apparatus, the jet nozzle portions are symmetrically opposed to each other, and the printed wiring board material is held from the left and right sides by the jet pressure of the treatment liquid. Therefore, although it is a printed wiring board material that is becoming extremely thin, there is no danger of accidents such as bending, bending, and flying due to jet pressure. And, this substrate processing apparatus, a conveyor equipped with a groove type wheel group, by a simple configuration combining the injection nozzle unit and the liquid tank,
The above-mentioned first, second, and third points are surely realized. As described above, the effects of the present invention are remarkably large, such that all the problems existing in this type of conventional example are solved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る基板処理装置について、発明の実
施の形態の説明に供する、正面図である。
FIG. 1 is a front view of a substrate processing apparatus according to the present invention, which is used for describing an embodiment of the invention.

【図2】同発明の実施の形態の説明に供し、(1)図
は、側面図であり、(2)図は、要部の平面図である。
2A and 2B are views for explaining the embodiment of the invention, FIG. 1A is a side view, and FIG. 2B is a plan view of a main part.

【図3】同発明の実施の形態の説明に供し、(1)図
は、プリント配線基板材が大サイズの場合の溝型ホイー
ルの正面図、(2)図は、プリント配線基板材が小サイ
ズの場合の溝型ホイールの正面図である。(3)図は、
後側向き偏向位置の噴射ノズル部の正面図、(4)図
は、直角位置の噴射ノズル部の正面図、(5)図は、前
側向き偏向位置の噴射ノズル部の正面図である。(6)
図は、後側向き偏向位置の噴射ノズル部の要部側面図、
(7)図は、直角位置の噴射ノズル部の要部側面図、
(8)図は、前側向き偏向位置の噴射ノズル部の要部側
面図である。
FIG. 3 is a view for explaining the embodiment of the present invention. (1) is a front view of a groove type wheel when the printed wiring board material is large, and (2) is a small printed wiring board material. It is a front view of a groove type wheel in the case of size. (3) The figure shows
FIG. 4 is a front view of the injection nozzle portion at the rearward deflection position, FIG. 4 (4) is a front view of the injection nozzle portion at a right angle position, and FIG. 5 (5) is a front view of the ejection nozzle portion at the frontward deflection position. (6)
The figure is a side view of the main part of the injection nozzle unit in the rearward deflection position,
(7) The figure is a side view of the main part of the injection nozzle section at a right angle position,
(8) FIG. 8 is a side view of the main part of the injection nozzle unit at the frontward deflection position.

【図4】同発明の実施の形態の説明に供し、噴射ノズル
部の1例の側面図であり、(1)図は、前傾斜姿勢の状
態を、(2)図は、直立姿勢の状態を、(3)図は、後
傾斜姿勢の状態を示す。
4A and 4B are side views of an example of the injection nozzle unit, which is used for the description of the embodiment of the present invention. FIG. 4A is a front tilted posture, and FIG. 2B is an upright posture. FIG. 3C shows the state of the rearward tilted posture.

【図5】同発明の実施の形態の説明に供し、噴射ノズル
部の他の例の側面図であり、(1)図は、前傾斜姿勢の
状態を、(2)図は、直立姿勢の状態を、(3)図は、
後傾斜姿勢の状態を示す。
FIG. 5 is a side view of another example of the injection nozzle portion, which is used for the description of the embodiment of the present invention, in which (1) is a front tilted posture and (2) is an upright posture. Figure (3) shows the state
The state of a back inclination posture is shown.

【図6】同発明の実施の形態の説明に供し、(1)図
は、化学銅メッキ工程の側面図であり、(2)図は、電
気銅メッキ工程の側面図である。
6 is a side view of a chemical copper plating step, and FIG. 6 (2) is a side view of an electrolytic copper plating step.

【図7】プリント配線基板の製造工程の1例を示す、要
部の断面説明図である。そして(1)図は、準備された
プリント配線基板材を、(2)図は、感光性レジスト膜
が形成された状態を、(3)図は、現像工程後の状態
を、(4)図は、エッチング工程後の状態を、(5)図
は、剥離工程後の状態を、それぞれ示す。
FIG. 7 is a cross-sectional explanatory view of a main part, showing an example of a manufacturing process of a printed wiring board. Then, (1) is a prepared printed wiring board material, (2) is a state where a photosensitive resist film is formed, (3) is a state after a developing step, and (4) is a state. Shows the state after the etching step, and FIG. 5 (5) shows the state after the peeling step.

【図8】プリント配線基板の製造工程の他の例を示す、
要部の断面説明図である。そして(1)図は、化学銅メ
ッキ工程後のプリント配線基板材を、(2)図は、感光
性レジスト膜が形成された状態を、(3)図は、現像工
程後の状態を、(4)図は、電気銅メッキ工程後の状態
を、(5)図は、剥離工程後の状態を、(6)図は、ク
イックエッチング工程後の状態を、それぞれ示す。
FIG. 8 shows another example of a manufacturing process of a printed wiring board,
It is sectional explanatory drawing of a principal part. Then, (1) is the printed wiring board material after the chemical copper plating step, (2) is the state where the photosensitive resist film is formed, and (3) is the state after the developing step ( 4) shows the state after the electrolytic copper plating step, (5) shows the state after the stripping step, and (6) shows the state after the quick etching step.

【図9】プリント配線基板(材)の平面説明図である。FIG. 9 is an explanatory plan view of a printed wiring board (material).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板処理装置 2 コンベヤ 3 噴射ノズル部 4 液槽 5 溝型ホイール 6 処理室 7 駆動軸 8 駆動歯車 9 横シャフト 10 モータ 11 伝達シャフト 12 伝達歯車 13 ホルダー 14 スリット状噴射口 15 孔状噴射口 16 液槽 17 区画壁 18 ポンプ 19 配管 20 保持部材 21 調整ネジ 22 プレート 23 止めネジ 24 アングル 25 ガイド穴 26 ポンプ 27 配管 28 陽極 29 電極 30 陰極 A プリント配線基板 B 回路 C 絶縁層 D 銅箔 E プリント配線基板材 F 感光性レジスト G 無電解銅メッキ H 電解銅メッキ J 回路形成面 K 搬送方向 L エッジ部 M 処理液 N 直立姿勢 P 傾斜姿勢 Q 直角位置 R 偏向位置 S 無電解銅メッキ液(メッキ液) T 電解銅メッキ液(メッキ液) 1 Substrate processing equipment 2 conveyor 3 injection nozzle 4 liquid tank 5 groove type wheel 6 processing room 7 drive shaft 8 drive gears 9 Horizontal shaft 10 motors 11 Transmission shaft 12 transmission gears 13 holder 14 Slit-shaped injection port 15 hole injection port 16 liquid tank 17 division walls 18 pumps 19 plumbing 20 Holding member 21 Adjustment screw 22 plates 23 Set screw 24 angles 25 guide hole 26 pumps 27 piping 28 Anode 29 electrodes 30 cathode A printed wiring board B circuit C insulating layer D copper foil E Printed wiring board material F Photosensitive resist G Electroless copper plating H electrolytic copper plating J Circuit formation surface K transport direction L edge part M treatment liquid N upright posture P tilt posture Q right angle position R deflection position S Electroless copper plating solution (plating solution) T Electrolytic copper plating solution (plating solution)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/18 H05K 3/18 N 3/26 3/26 A Fターム(参考) 2H096 AA26 GA24 GA26 HA20 5E339 AB02 AD01 AD03 BC02 BD06 BD08 BE13 BE16 CD01 CE12 CE15 CF17 CG04 EE04 EE10 5E343 AA02 AA12 BB16 BB24 BB71 CC62 DD33 DD43 EE04 EE17 ER18 FF09 FF16 FF23 FF28 GG11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/18 H05K 3/18 N 3/26 3/26 AF term (reference) 2H096 AA26 GA24 GA26 HA20 5E339 AB02 AD01 AD03 BC02 BD06 BD08 BE13 BE16 CD01 CE12 CE15 CF17 CG04 EE04 EE10 5E343 AA02 AA12 BB16 BB24 BB71 CC62 DD33 DD43 EE04 EE17 ER18 FF09 FF16 FF23 FF28 GG11

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント配線基板の製造工程で用いら
れ、プリント配線基板材を処理する基板処理装置であっ
て、 該プリント配線基板材は、コンベヤにて縦姿勢で搬送さ
れつつ処理され、該コンベヤは、該プリント配線基板材
の上下端を保持し、回路形成面に無接触状態で搬送する
こと、を特徴とする基板処理装置。
1. A substrate processing apparatus used in a manufacturing process of a printed wiring board, for processing a printed wiring board material, wherein the printed wiring board material is processed while being conveyed in a vertical posture by a conveyor, Holds the upper and lower ends of the printed wiring board material, and conveys the printed wiring board material to the circuit formation surface in a non-contact state.
【請求項2】 請求項1に記載した基板処理装置におい
て、該プリント配線基板材は、表裏両面に該回路形成面
を備えてなり、 該コンベヤは、上下にそれぞれ、搬送方向に列設された
溝型ホイール群を備えており、上下の該溝型ホイール群
は、該プリント配線基板材の上下端をそれぞれ保持する
と共に、回転により該プリント配線基板材を搬送するこ
と、を特徴とする基板処理装置。
2. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the printed wiring board material is provided with the circuit forming surfaces on both front and back surfaces, and the conveyors are vertically arranged in a line in a transfer direction. A substrate processing comprising a groove type wheel group, wherein the upper and lower groove type wheel groups respectively hold the upper and lower ends of the printed wiring board material and convey the printed wiring board material by rotation. apparatus.
【請求項3】 請求項2に記載した基板処理装置におい
て、該コンベヤの上下の溝型ホイール群は、上下逆方向
に対称的に昇降動可能かつ位置決め固定可能であり、相
互間の上下間隔を変更設定可能となっており、該プリン
ト配線基板材の各種サイズに対応できること、を特徴と
する基板処理装置。
3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the upper and lower groove type wheel groups of the conveyor are symmetrically movable up and down in opposite directions and positionally fixed, and a vertical interval between them is set. A substrate processing apparatus, which can be changed and set and can be adapted to various sizes of the printed wiring board material.
【請求項4】 請求項2に記載した基板処理装置におい
て、該基板処理装置は、該プリント配線基板材の感光性
レジストの現像工程、銅箔のエッチング工程、感光性レ
ジストの剥離工程、無電解銅メッキのクイックエッチン
グ工程、又は前後処理用の洗浄工程等にて用いられ、噴
射ノズル部を備えてなり、 該噴射ノズル部は、搬送される該プリント配線基板材の
左右に対向配設されており、表裏の回路形成面に対し処
理液、つまり現像液,エッチング液,剥離液,洗浄液た
る水洗液,又は洗浄液たる薬液等の処理液を、噴射する
こと、を特徴とする基板処理装置。
4. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus includes a step of developing a photosensitive resist for the printed wiring board material, a step of etching a copper foil, a step of removing the photosensitive resist, and an electroless method. It is used in a copper plating quick etching process, a cleaning process for pre-processing and post-processing, etc., and is provided with an injection nozzle part, and the injection nozzle part is disposed opposite to the left and right of the printed wiring board material to be conveyed. A substrate processing apparatus characterized in that a processing liquid, that is, a processing liquid such as a developing liquid, an etching liquid, a stripping liquid, a cleaning liquid that is a cleaning liquid, or a chemical liquid that is a cleaning liquid is sprayed onto the front and back circuit forming surfaces.
【請求項5】 請求項4に記載した基板処理装置におい
て、該噴射ノズル部は、搬送される該プリント配線基板
材の左右にそれぞれ、前後間隔を存しつつ多数列設され
ると共に、左右のものが対称的に対向位置しているこ
と、を特徴とする基板処理装置。
5. The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein the jet nozzle portions are arranged in a plurality of rows at left and right sides of the printed wiring board material to be transported, with a front-rear spacing therebetween, A substrate processing apparatus characterized in that objects are symmetrically opposed to each other.
【請求項6】 請求項5に記載した基板処理装置におい
て、該噴射ノズル部は、縦長のスリット状噴射口を備え
てなり、もって該スリット状噴射口から該処理液を膜状
に噴射するか、又は、縦に列設された孔状噴射口を備え
てなり、もって各該孔状噴射口から該処理液を拡散噴射
すること、特徴とする基板処理装置。
6. The substrate processing apparatus according to claim 5, wherein the jet nozzle portion is provided with a vertically long slit-shaped jet port, so that the treatment liquid is jetted in a film form from the slit-shaped jet port. Alternatively, the substrate processing apparatus is provided with vertically-arranged hole-shaped ejection ports, and diffuses and ejects the processing liquid from each of the hole-shaped ejection ports.
【請求項7】 請求項6に記載した基板処理装置におい
て、該噴射ノズル部は垂直面において、垂直な直立姿勢
と、垂直から搬送方向に沿って前後に傾斜した傾斜姿勢
との間で、姿勢を変更設定可能となっていること、特徴
とする基板処理装置。
7. The substrate processing apparatus according to claim 6, wherein the jet nozzle unit is provided on a vertical plane between a vertical upright posture and an inclined posture inclined from the vertical in the transport direction to the front and back. The substrate processing apparatus is characterized in that it can be changed and set.
【請求項8】 請求項6に記載した基板処理装置におい
て、該噴射ノズル部は、該プリント配線基板材の回路形
成面に対峙した直角位置と、前側向き又は後側向きに角
度が付いた偏向位置との間で、その縦軸を中心に回動可
能かつ位置決め固定可能であり、噴射角度を変更設定可
能となっていること、特徴とする基板処理装置。
8. The substrate processing apparatus according to claim 6, wherein the injection nozzle portion is deflected at a right angle position facing a circuit forming surface of the printed wiring board material and at a front side or a rear side. A substrate processing apparatus, which is rotatable about its vertical axis and positionable and fixed between a position and a position, and is capable of changing and setting an ejection angle.
【請求項9】 請求項2に記載した基板処理装置におい
て、該基板処理装置は、該プリント配線基板材のメッキ
工程にて用いられ、メッキ液の液槽を備えてなり、該コ
ンベヤの溝型ホイール群は、該液槽のメッキ液中に配設
され、該プリント配線基板材を該メッキ液に浸漬しつつ
搬送すること、特徴とする基板処理装置。
9. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein the substrate processing apparatus is used in a plating process of the printed wiring board material, and is provided with a bath of a plating liquid, and a groove type of the conveyor. A substrate processing apparatus, wherein a wheel group is arranged in a plating solution in the solution tank and conveys the printed wiring board material while being immersed in the plating solution.
【請求項10】 請求項9に記載した基板処理装置にお
いて、該基板処理装置は、該プリント配線基板材の化学
銅メッキ工程にて用いられ、該液槽には、無電解銅メッ
キ液が収納されており、該プリント配線基板材は、絶縁
層の外表面に無電解銅メッキが施されること、特徴とす
る基板処理装置。
10. The substrate processing apparatus according to claim 9, wherein the substrate processing apparatus is used in a chemical copper plating step of the printed wiring board material, and the liquid bath contains an electroless copper plating solution. The printed wiring board material is provided with electroless copper plating on the outer surface of the insulating layer.
【請求項11】 請求項9に記載した基板処理装置にお
いて、該基板処理装置は、該プリント配線基板材の電気
銅メッキ工程にて用いられ、該液槽には、陽極が配設さ
れると共に銅イオンを含む電解銅メッキ液が収納されて
おり、 予め無電解銅メッキが施されていた該プリント配線基板
材は、該コンベヤの溝型ホイール群を介し陰極に接続さ
れ、通電により、該無電解銅メッキの外表面に電解銅メ
ッキが施されること、特徴とする基板処理装置。
11. The substrate processing apparatus according to claim 9, wherein the substrate processing apparatus is used in an electrolytic copper plating step of the printed wiring board material, and an anode is provided in the liquid tank. The printed wiring board material containing an electrolytic copper plating solution containing copper ions and previously subjected to electroless copper plating is connected to the cathode through the grooved wheel group of the conveyor, and the non-conductive A substrate processing apparatus, wherein electrolytic copper plating is applied to the outer surface of electrolytic copper plating.
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