JP2003209361A - Manufacturing method for printed board - Google Patents

Manufacturing method for printed board

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JP2003209361A
JP2003209361A JP2002008375A JP2002008375A JP2003209361A JP 2003209361 A JP2003209361 A JP 2003209361A JP 2002008375 A JP2002008375 A JP 2002008375A JP 2002008375 A JP2002008375 A JP 2002008375A JP 2003209361 A JP2003209361 A JP 2003209361A
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hole
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forming
via hole
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Kazuhiko Hara
和彦 原
Yoshiteru Matsubayashi
芳輝 松林
Shigeru Michiwaki
茂 道脇
Shinji Suga
慎司 菅
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Victor Company of Japan Ltd
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Victor Company of Japan Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a printed board of good conductivity for forming a circuit pattern of a high density and turning a conductor layer formed inside a via hole and a through-hole to a sufficient thickness. <P>SOLUTION: The manufacturing method comprises a process of successively forming an inner layer circuit pattern 2 in a prescribed shape and an insulation layer 3 on an insulation substrate 1, a process of forming the via hole 4 at the insulation layer 3 so as to expose the inner layer circuit pattern 2 and the through-hole 5 passing through the insulation layer 3 and the insulation substrate 1, a process of forming a copper layer 6 inside the via hole 4, on the insulation layer 3 and inside the through-hole 5, a process of forming a masking material 7 covering the via hole 4 and the through-hole 5 on the copper layer 6, a process of thinning the copper layer 6 unmasked with the masking material 7 by etching and turning it to a prescribed thickness, and a process of removing the masking material 7 and then grinding the copper layer 6 at a part covered with the masking material 7 to the prescribed thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板の製
造方法に係り、特に、回路パターン幅及び回路パターン
間間隔を小さくして高密度化したプリント基板を製造す
るのに好適なプリント基板の製造方法に関するものであ
る。 【0002】 【従来の技術】従来、プリント基板は、生産性、製造コ
スト等の面より、主にサブトラクティブ法により製造さ
れている。以下、その概略を説明する。図3は、従来例
のプリント基板の製造工程を示す概略断面工程図であ
る。まず、絶縁基板21上に予め貼り付けられている銅
層をフォトリソ加工することにより、所定形状の内層回
路パターン22を形成し、この上に絶縁層23を形成す
る(図3の(a))。 【0003】次に、絶縁層23の所定位置に内層回路パ
ターン22に達するビアホール24を形成し、所定位置
において絶縁層23及び絶縁基板21を貫通するスルー
ホール25を形成する(図3の(b))。次に、絶縁層
23上、スルーホール25内、およびビアホール24内
にメッキによって所定厚さを有する銅層26を形成する
(図3の(c))。その後、銅層26をフォトリソ加工
し、所定の外層回路パターンを形成する。外層回路パタ
ーンはビアホール24を通して内層回路パターン22と
接続し、スルーホールを通して、絶縁基板21の下面に
形成されている回路パターン(図示しない)等に接続す
る。 【0004】このように、多層の回路パターンの形成さ
れているプリント基板においては、各層間の回路パター
ンとの電気的導通を、絶縁基板を貫通するスルーホール
および非貫通のビアホールに形成したメッキ層(導体
層)によって行っている。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したサ
ブトラクティブ法においては、ビアホール内やスルーホ
ール内に形成する導体層の厚みと絶縁層上に形成する回
路パターンの厚みを別々に設定することが出来ない。し
かしながら、現今のプリント基板においては、実装回路
の高密度化が求められており、回路パターン幅、及び回
路パターン間の間隔(これをラインアンドスペースとい
い、単に以下L/Sともいう)がどんどん小さくされて
きている。 【0006】この場合には、L/Sの小さい回路パター
ンを形成するのに際して、その寸法精度を確保するに
は、回路パターン形成を行うための導体層のエッチング
におけるサイドエッチングによる精度劣化がないよう
に、導体層厚さとL/Sとの比を所定の値以下にする必
要がある。すなわちL/Sが小さくなるに従って、導体
層の厚さを薄くする必要がある。 【0007】しかしながら、導体層の厚さを薄くする
と、ビアホール内及びスルーホール内部の導体層も薄く
なる。ビアホール内やスルーホール内部はその形状か
ら、メッキに際しては、絶縁層上に付着される銅量より
少ない銅量しか付着させることができない。そのため、
L/Sの小さい回路パターンの対応する薄い導体層を形
成すると、ビアホール内及びスルーホール内に形成され
る導体層の厚さが不十分であるため、電気的導通の信頼
性を十分に確保することが出来ないという問題があっ
た。 【0008】そこで、本発明は、上記問題を解決し、プ
リント基板の製造方法において、高密度の回路パターン
を形成することを可能とすると共にビアホール内及びス
ルーホール内に形成する導体層を十分な厚みにすること
ができる、電気的導通の良好なプリント基板の製造方法
を提供することを目的とするものである。 【0009】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の手段として、本発明のプリント基板の製造方法は、絶
縁基板1上に所定形状の回路パターン(内層回路パター
ン)2を形成する工程と、前記回路パターン(内層回路
パターン)2を蔽って前記絶縁基板1上に絶縁層3を形
成する工程と、前記回路パターン(内層回路パターン)
2を露出すべく前記絶縁層3にビアホール4を形成する
工程と、前記絶縁層3及び前記絶縁基板1に前記絶縁層
3及び前記絶縁基板1を貫通するスルーホール5を形成
する工程と、前記絶縁層3上、前記ビアホール4の内
壁、前記ビアホール4から露出した前記回路パターン
(内層回路パターン)2上、及び前記スルーホール5の
内壁に連続した第1の厚さの導体層(銅層)6を形成す
る工程と、前記ビアホール4内及び前記スルーホール5
内の前記導体層(銅層)6を蔽うマスク材7を形成する
工程と、前記マスク材7でマスクされていない前記導体
層(銅層)6をエッチングして前記第1の厚さよりも薄
い第2の厚さとする工程と、前記マスク材7を除去した
後、前記マスク材7で覆われていた前記導体層(銅層)
6の部分を略前記第2の厚さにまで研磨する工程とを有
することを特徴とするプリント基板の製造方法である。 【0010】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。 【0011】<実施例>図1は、本発明によるプリント
基板の製造方法の実施例の製造工程を示す概略断面工程
図である。まず、図1の(a)に示すように、厚さ略1
8μmの銅が貼られた絶縁基板1の表面に所定の感光性
樹脂層(図示しない)を形成し、フォトリソグラフィに
て、感光性樹脂層を所望の形状にし、これをマスクとし
て、銅層をエッチングして、所定形状の内層回路パター
ン2を形成し、その上に絶縁層3を形成する。 【0012】ここで、絶縁基板1としては、絶縁性を有
するものであれば、特に限定されるものではなく、ガラ
スエポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド等の高分子樹脂を用いることが
出来る。また、予め銅張りされた絶縁基板の代わりに、
絶縁基板に所定厚さの導電層を形成し、この導電層をフ
ォトリソグラフにより所定形状の内層回路パターンに形
成しても良い。また、絶縁層3としては、例えば40μ
mから100μmの厚さを有するエポキシ樹脂、フェノ
ール樹脂、またはアクリル樹脂を用いることができる。
これらの樹脂中には、所定量のフィラー等を含ませてあ
る。 【0013】次に、図1の(b)に示すように、絶縁層
3の所定の位置に内層回路パターン2に達するビアホー
ル4、及び、絶縁層3及び絶縁基板1を貫通するスルー
ホール5を形成し、次に、絶縁層3の表面に後にメッキ
する銅層6の密着を確保するために、過マンガン酸溶液
を用いて絶縁層3の表面を粗化する。ここで、ビアホー
ル4は例えば略直径100μmであり、炭酸ガスレーザ
ー、YAGレーザー等により形成される。スルーホール
は例えば直径略300μmであり、ドリル加工により形
成される。なお、スルーホール4は、例えば、後に説明
する絶縁層3上に形成する銅層6と、ここでは、示して
いない絶縁基板1の下面上に形成されている内層回路パ
ターンとを絶縁基板を貫いて電気的に接続したり、ある
いは、この内層回路パターンの上に絶縁層を介して形成
された銅層とを絶縁基板を貫いて電気的に接続したりす
るものであり、接続したい銅層を接続するのに都合の良
い絶縁層3上の所定の位置に形成される。 【0014】次に、図1の(c)に示すように、銅メッ
キによって銅層6を、絶縁層3上、ビアホールの内壁
面、ビアホール4より露出した内層回路パターン2上及
びスルーホール5の内壁面に形成する。ここで、銅メッ
キは、まず、ロッセル塩浴による無電解メッキを行な
い、その後、硫酸銅メッキのよる電解メッキを行って、
例えば厚さ略35μmの銅層6を形成する。 【0015】次に、図1の(d)に示すように、銅層6
を蔽って、厚さ30乃至40μmのドライフィルムを貼
り付け、所定パターンの露光、炭酸ナトリウムによる現
像を行ない、ビアホール4とスルーホール5のそれぞれ
の内壁面に形成された銅層6を蔽った部分(ビアホール
4及びスルーホール5の直径より大きくしておく)に、
マスク材7を形成する。このマスク材7をマスクとし
て、ビアホール4及びスルーホール5の部分以外の銅層
6を塩化第2銅溶液によりエッチングして、厚さ略14
μmの銅層6aを得る。この厚さは、L/Sが30μm
に対応するものである。 【0016】次に、図1の(e)に示すように、マスク
材7を除去した後、バフ研磨を行ない、選択的にビアホ
ール4とスルーホール5の部分の銅層6を銅層6aの厚
さにまで薄くする。このようにして、絶縁層3上に形成
した銅層6aは、後に回路パターンを形成するために行
うエッチングを良好な精度で行えるような厚さ(薄くな
る)となる。一方、ビアホール4の内壁及び内層回路パ
ターン2を蔽う部分及びスルーホール5の内壁の銅層6
の厚さは、信頼性の高い電気的導通をとるのに十分な厚
さ(厚くなっている)となっている。 【0017】ここで、バフ研磨について、説明する。図
2は、本発明のプリント基板の製造方法に係る研磨装置
の概略構成図である。同図に示すように、バフ研磨を行
う研磨装置20には、概略、バックアップロール11、
11’に対向してバフロール12’、12を配置し、プ
リント基板10を送るための搬送ロール19、19’を
適当のセット数だけ配置してあり、バフロール12,1
2’により研磨される研磨部に純水17,17’を供給
するための一対の純水導入パイプ16、16’を設けて
ある。 【0018】バックアップロール11,11’は、例え
ば略直径100mmである円筒状であり、例えばショア
硬度50乃至100のウレタンゴムより構成されてい
る。 【0019】バフロール12,12’は、例えば略直径
100mmである円筒状のロール13,13’にバフ1
4,14’を巻きつけたものより構成されており、ロー
ル13,13’は例えばアルミニウム又はベークライト
より構成され、バフ14,14’は、例えば厚さ20乃
至30mmであり、研磨剤として例えば粒度#400乃
至#1000程度のシリコンカーバイド又はアルミナを
適度に含浸させたナイロン不織布から構成されている。
なお、バフ14,14’は所定の表面粗さを有するセラ
ミックバフより構成してもよい。バフロール12,1
2’とバックアップロール11、11’間に挟まれるプ
リント基板10に適度な圧力がかかるようにバフロール
12,12’ とバックアップロール11、11’の間
隔が保持されている。 【0020】プリント基板10は、例えば図示の左側よ
り、所定間隔に配置され互いに逆回転する一対の搬送ロ
ール19、19’(プリント基板10の移送方向に複数
セット配置されている)間に供給され、回転する搬送ロ
ール19,19’により矢印18の方向に移送される。
バックアップロール11とバフロール12’との間隔、
バックアップロール11’とバフロール12との間隔
は、良好にバフ研磨がされるように所定間隔に調整され
ている。バフ研磨時には、バフロール12は時計回り
(反時計周りでも良い)に、バフロール12’は反時計
回り(時計回りでも良い)に、1800乃至2000r
pmの範囲の好適な同一回転数で回転する。このとき、
バフ研磨されるプリント基板の部分に冷却用に、純水導
入パイプ16、16’より、純水17、17’が掛けら
れる。なお、純水17,17’に代えて、所定濃度の研
磨剤を含む溶液を使用しても良い。 【0021】なお、バフ14,14’をナイロン不織布
より構成するときは、ロール11,11’には超硬材を
用い、バフ14,14’をセラミックより構成するとき
は、バックアップロール11,11’にはショア硬度5
0乃至100のウレタンゴムを用いる組合せとする。い
ずれの場合も、ロール13,13’は、アルミニウム又
はベークライトより構成する。バフ研磨時には、バック
アップロール11、バフロール12’は時計回りに、バ
ックアップロール11’、バフロール12は反時計周り
に回転する。なお、バフロール12,12’の回転方向
は時計回り,反時計回りのどちらでも可能である。 【0022】バフ研磨時に、バフロール12,12’の
プリント基板10への押し付け強さを調整することによ
り、回路パターンを形成すべき銅層6aにおける研磨量
を少なくし、出っ張っているビアホール4及びスルーホ
ール5の部分の銅層6を多く研磨することにより、平滑
な銅層の表面を得ることができる。なお、図1の(d)
に示したように、マスク材7でマスクされたビアホール
4及びスルーホール5部の銅層6は、エッチングされて
得られた銅層6aに対して出っ張った状態になっている
が、部品実装に不都合がなければ、この状態で使用して
も良い。 【0023】以上、絶縁基板の片面(上面)に内層回路
パータン、絶縁層、ビアホール、スルーホール、外層回
路パターンを順次形成してプリント基板を構成した場合
について説明したが、絶縁基板の両面にこれらを順次形
成し、さらには、繰り返し多層に積層して形成して多層
のプリント基板としても良いことは言うまでもない。以
上、本発明によれば、ビアホールやスルーホール部分に
よる電気的接続に関しては抵抗値が低く、その信頼性が
高い。また、回路パターンを形成する部分においては、
微細パターンの形成が可能となる。 【0024】 【発明の効果】以上説明したように、本発明のプリント
基板の製造方法は、絶縁基板上に所定形状の回路パター
ンを形成する工程と、前記回路パターンを蔽って前記絶
縁基板上に絶縁層を形成する工程と、前記回路パターン
を露出すべく前記絶縁層にビアホールを形成する工程
と、前記絶縁層及び前記絶縁基板に前記絶縁層及び前記
絶縁基板を貫通するスルーホールを形成する工程と、前
記絶縁層上、前記ビアホールの内壁、前記ビアホールか
ら露出した前記回路パターン上、及び前記スルーホール
の内壁に連続した第1の厚さの導体層を形成する工程
と、前記ビアホール内及び前記スルーホール内の前記導
体層を蔽うマスク材を形成する工程と、前記マスク材で
マスクされていない前記導体層をエッチングして前記第
1の厚さよりも薄い第2の厚さとする工程と、前記マス
ク材を除去した後、前記マスク材で覆われていた前記導
体層の部分を略前記第2の厚さにまで研磨する工程とを
有することにより、高密度の回路パターンを形成するこ
とを可能とすると共にビアホール内及びスルーホール内
に形成する導体層を十分な厚みにすることができる、電
気的導通の良好なプリント基板の製造方法を提供するこ
とができるという効果がある。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board, and more particularly, to a printed circuit board having a high density by reducing a circuit pattern width and an interval between circuit patterns. The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board suitable for manufacturing. 2. Description of the Related Art Conventionally, printed circuit boards are mainly manufactured by a subtractive method in view of productivity, manufacturing cost, and the like. Hereinafter, the outline will be described. FIG. 3 is a schematic cross-sectional process diagram showing a manufacturing process of a conventional printed circuit board. First, an inner layer circuit pattern 22 having a predetermined shape is formed by performing photolithography on a copper layer that has been pasted on an insulating substrate 21 and an insulating layer 23 is formed thereon (FIG. 3A). . Next, a via hole 24 is formed at a predetermined position of the insulating layer 23 to reach the inner layer circuit pattern 22, and a through hole 25 penetrating the insulating layer 23 and the insulating substrate 21 is formed at a predetermined position (FIG. )). Next, a copper layer 26 having a predetermined thickness is formed on the insulating layer 23, in the through hole 25, and in the via hole 24 by plating (FIG. 3C). Thereafter, the copper layer 26 is subjected to photolithography to form a predetermined outer circuit pattern. The outer circuit pattern is connected to the inner circuit pattern 22 through the via hole 24 and is connected to a circuit pattern (not shown) formed on the lower surface of the insulating substrate 21 through the through hole. As described above, in a printed circuit board on which a multilayer circuit pattern is formed, electrical conduction with the circuit pattern between the layers is formed by a plating layer formed in a through hole penetrating the insulating substrate and a non-penetrating via hole. (Conductor layer). In the subtractive method described above, the thickness of a conductor layer formed in a via hole or a through hole and the thickness of a circuit pattern formed on an insulating layer are separately set. I can't do it. However, in today's printed circuit boards, there is a demand for higher density of mounted circuits, and circuit pattern widths and intervals between circuit patterns (this is called line and space, and is also simply referred to as L / S hereinafter) are increasing. It is getting smaller. In this case, when forming a circuit pattern having a small L / S, in order to secure the dimensional accuracy, it is necessary to ensure that there is no deterioration in accuracy due to side etching in the etching of the conductor layer for forming the circuit pattern. In addition, it is necessary to make the ratio between the conductor layer thickness and L / S equal to or less than a predetermined value. That is, as the L / S becomes smaller, the thickness of the conductor layer needs to be reduced. However, when the thickness of the conductor layer is reduced, the thickness of the conductor layer in the via hole and the through hole is also reduced. Due to the shape of the inside of the via hole and the inside of the through hole, only a smaller amount of copper than the amount of copper deposited on the insulating layer can be deposited during plating. for that reason,
When a thin conductor layer corresponding to a circuit pattern having a small L / S is formed, the thickness of the conductor layer formed in the via hole and the through hole is insufficient, so that the reliability of electrical conduction is sufficiently ensured. There was a problem that I could not do it. Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and in a method for manufacturing a printed circuit board, it is possible to form a high-density circuit pattern and to sufficiently form a conductor layer formed in a via hole and a through hole. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a printed circuit board having good electrical conductivity, which can be made thick. As a means for achieving the above object, a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention comprises forming a circuit pattern (inner circuit pattern) 2 having a predetermined shape on an insulating substrate 1. Forming an insulating layer 3 on the insulating substrate 1 so as to cover the circuit pattern (inner circuit pattern) 2;
Forming a via hole 4 in the insulating layer 3 so as to expose the insulating layer 2; forming a through hole 5 through the insulating layer 3 and the insulating substrate 1 in the insulating layer 3 and the insulating substrate 1; A first thickness conductive layer (copper layer) continuous on the insulating layer 3, on the inner wall of the via hole 4, on the circuit pattern (inner circuit pattern) 2 exposed from the via hole 4, and on the inner wall of the through hole 5. Forming a via hole 6 in the via hole 4 and the through hole 5;
Forming a mask material 7 covering the conductor layer (copper layer) 6 in the inside, and etching the conductor layer (copper layer) 6 not masked by the mask material 7 to be thinner than the first thickness. A step of forming a second thickness, and the conductor layer (copper layer) covered with the mask material 7 after removing the mask material 7
Polishing the portion 6 to approximately the second thickness. Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. <Embodiment> FIG. 1 is a schematic sectional process diagram showing a manufacturing process of an embodiment of a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention. First, as shown in FIG.
A predetermined photosensitive resin layer (not shown) is formed on the surface of the insulating substrate 1 on which 8 μm of copper is adhered, and the photosensitive resin layer is formed into a desired shape by photolithography. By etching, an inner layer circuit pattern 2 having a predetermined shape is formed, and an insulating layer 3 is formed thereon. Here, the insulating substrate 1 is not particularly limited as long as it has an insulating property, and a polymer resin such as glass epoxy resin, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polyimide can be used. Also, instead of an insulating substrate pre-coppered,
A conductive layer having a predetermined thickness may be formed on an insulating substrate, and the conductive layer may be formed into an inner layer circuit pattern having a predetermined shape by photolithography. The insulating layer 3 is, for example, 40 μm.
An epoxy resin, a phenol resin, or an acrylic resin having a thickness of m to 100 μm can be used.
These resins contain a predetermined amount of filler or the like. Next, as shown in FIG. 1B, a via hole 4 reaching the inner layer circuit pattern 2 at a predetermined position of the insulating layer 3 and a through hole 5 penetrating the insulating layer 3 and the insulating substrate 1 are formed. Then, the surface of the insulating layer 3 is roughened using a permanganic acid solution in order to secure adhesion of the copper layer 6 to be plated later on the surface of the insulating layer 3. Here, the via hole 4 has a diameter of about 100 μm, for example, and is formed by a carbon dioxide laser, a YAG laser, or the like. The through hole has a diameter of about 300 μm, for example, and is formed by drilling. The through-hole 4 penetrates, for example, a copper layer 6 formed on the insulating layer 3 to be described later and an inner circuit pattern formed on the lower surface of the insulating substrate 1 (not shown) through the insulating substrate. Or electrically connect the copper layer formed on the inner circuit pattern via an insulating layer through an insulating substrate. It is formed at a predetermined position on the insulating layer 3 which is convenient for connection. Next, as shown in FIG. 1C, a copper layer 6 is formed by copper plating on the insulating layer 3, the inner wall surface of the via hole, the inner layer circuit pattern 2 exposed from the via hole 4 and the through hole 5. Form on the inner wall. Here, for the copper plating, first, electroless plating is performed using a Rossel salt bath, and then, electrolytic plating is performed using copper sulfate plating.
For example, a copper layer 6 having a thickness of about 35 μm is formed. Next, as shown in FIG.
Then, a dry film having a thickness of 30 to 40 μm is adhered, and a predetermined pattern of exposure and development with sodium carbonate are performed to cover the copper layer 6 formed on each inner wall surface of the via hole 4 and the through hole 5. (The diameter is larger than the diameter of the via hole 4 and the through hole 5)
The mask material 7 is formed. Using the mask material 7 as a mask, the copper layer 6 other than the via hole 4 and the through hole 5 is etched with a cupric chloride solution to a thickness of about 14.
A μm copper layer 6a is obtained. This thickness has an L / S of 30 μm
It corresponds to. Next, as shown in FIG. 1E, after the mask material 7 is removed, buffing is performed, and the copper layer 6 in the portions of the via hole 4 and the through hole 5 is selectively formed on the copper layer 6a. Thin to thickness. Thus, the copper layer 6a formed on the insulating layer 3 has such a thickness (thinness) that etching for forming a circuit pattern later can be performed with good accuracy. On the other hand, a portion covering the inner wall of the via hole 4 and the inner layer circuit pattern 2 and the copper layer 6 on the inner wall of the through hole 5
Is thick enough (thickened) to achieve highly reliable electrical conduction. Here, buffing will be described. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a polishing apparatus according to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention. As shown in the figure, a polishing apparatus 20 for performing buff polishing generally includes a backup roll 11,
Baffles 12 ', 12 are arranged opposite to 11', and a suitable number of sets of transport rolls 19, 19 'for sending the printed circuit board 10 are arranged.
A pair of pure water introduction pipes 16 and 16 'for supplying pure water 17 and 17' to a polishing section to be polished by 2 'are provided. The backup rolls 11, 11 'are cylindrical, for example, having a diameter of approximately 100 mm, and are made of, for example, urethane rubber having a Shore hardness of 50 to 100. The baffles 12, 12 'are buffed on cylindrical rolls 13, 13' having a diameter of, for example, approximately 100 mm.
The rolls 13 and 13 'are made of, for example, aluminum or bakelite, and the buffs 14 and 14' are, for example, 20 to 30 mm in thickness. It is composed of a nylon nonwoven fabric appropriately impregnated with silicon carbide or alumina of about # 400 to # 1000.
The buffs 14 and 14 'may be constituted by ceramic buffs having a predetermined surface roughness. Bafflor 12,1
The space between the baffles 12, 12 'and the backup rolls 11, 11' is maintained so that an appropriate pressure is applied to the printed circuit board 10 sandwiched between the 2 'and the backup rolls 11, 11'. The printed circuit board 10 is supplied between a pair of transport rolls 19 and 19 ′ which are arranged at predetermined intervals and rotate in the opposite direction to each other (a plurality of sets are arranged in the transfer direction of the printed circuit board 10), for example, from the left side of the drawing. Are transported in the direction of arrow 18 by rotating transport rolls 19, 19 '.
The distance between the backup roll 11 and the baffle 12 ',
The interval between the backup roll 11 'and the baffle 12 is adjusted to a predetermined interval so that buffing can be performed well. At the time of buffing, the baffle 12 rotates clockwise (or may be counterclockwise) and the baffle 12 ′ rotates counterclockwise (or may rotate clockwise) from 1800 to 2000 r.
and at a suitable identical speed in the range of pm. At this time,
Pure water 17, 17 'is applied to the portion of the printed circuit board to be buffed from the pure water introduction pipes 16, 16' for cooling. Instead of the pure waters 17 and 17 ', a solution containing a predetermined concentration of an abrasive may be used. When the buffs 14 and 14 'are made of a non-woven nylon fabric, the rolls 11 and 11' are made of a superhard material, and when the buffs 14 and 14 'are made of ceramic, the backup rolls 11 and 11' are made. 'Has a Shore hardness of 5
A combination using 0 to 100 urethane rubbers is used. In any case, the rolls 13 and 13 'are made of aluminum or bakelite. During the buffing, the backup roll 11 and the baffle 12 'rotate clockwise, and the backup roll 11' and the baffle 12 rotate counterclockwise. The rotation direction of the baffles 12, 12 'can be either clockwise or counterclockwise. At the time of buff polishing, the polishing amount of the copper layer 6a on which a circuit pattern is to be formed is reduced by adjusting the pressing strength of the baffles 12, 12 'against the printed circuit board 10, and the protruding via holes 4 and through holes are formed. By polishing a large amount of the copper layer 6 in the portion of the hole 5, a smooth surface of the copper layer can be obtained. In addition, FIG.
As shown in the above, the copper layer 6 in the via hole 4 and the through hole 5 masked by the mask material 7 is in a state protruding from the copper layer 6a obtained by etching, If there is no inconvenience, it may be used in this state. As described above, the case where the printed circuit board is formed by sequentially forming the inner layer circuit pattern, the insulating layer, the via hole, the through hole, and the outer layer circuit pattern on one surface (upper surface) of the insulating substrate has been described. It is needless to say that a multi-layer printed board may be formed by successively forming a plurality of printed circuit boards, and further repeatedly forming a multilayer printed circuit board. As described above, according to the present invention, the electrical connection through the via hole and the through hole has a low resistance value and high reliability. In the part where the circuit pattern is formed,
A fine pattern can be formed. As described above, according to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, a step of forming a circuit pattern having a predetermined shape on an insulating substrate, and a step of covering the circuit pattern and Forming a via hole in the insulating layer to expose the circuit pattern, and forming a through hole through the insulating layer and the insulating substrate in the insulating layer and the insulating substrate. Forming a conductive layer having a first thickness on the insulating layer, the inner wall of the via hole, the circuit pattern exposed from the via hole, and the inner wall of the through hole; Forming a mask material covering the conductor layer in the through hole; and etching the conductor layer not masked with the mask material to form the mask material.
A step of making the second thickness smaller than the thickness of 1; and, after removing the mask material, polishing a portion of the conductor layer covered with the mask material to approximately the second thickness. The production of a printed circuit board with good electrical continuity, which makes it possible to form a high-density circuit pattern and to make the thickness of the conductor layer formed in the via hole and the through hole sufficient. There is an effect that a method can be provided.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明によるプリント基板の製造方法の実施例
の製造工程を示す概略断面工程図である。 【図2】本発明のプリント基板の製造方法に係る研磨装
置の概略構成図である。 【図3】従来例のプリント基板の製造工程を示す概略断
面工程図である。 【符号の説明】 1…絶縁基板、2…内層回路パターン、3…絶縁層、4
…ビアホール、5…スルーホール、6…銅層、6a…
(研磨後の)銅層、7…マスク材、10…(研磨前の)
プリント基板、11,11’…バックアップロール、1
2,12’…バフロール、13,13’…ロール、1
4,14’…バフ、16,16’…純水導入パイプ、1
7,17’…純水、19,19’…搬送ロール、20…
研磨装置、21…絶縁基板、22…内層回路パターン、
23…絶縁層、24…ビアホール(非貫通孔)、25…
スルーホール、26…銅層。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic sectional process drawing showing a manufacturing process of an embodiment of a method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a polishing apparatus according to a method of manufacturing a printed circuit board of the present invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional process diagram showing a manufacturing process of a conventional printed circuit board. [Description of Signs] 1 ... Insulating substrate, 2 ... Inner circuit pattern, 3 ... Insulating layer, 4
... via holes, 5 ... through holes, 6 ... copper layers, 6a ...
Copper layer (after polishing), 7 ... mask material, 10 ... (before polishing)
Printed circuit board, 11, 11 '... backup roll, 1
2,12 '... baffle, 13, 13' ... roll, 1
4, 14 ': buff, 16, 16': pure water introduction pipe, 1
7, 17 '... pure water, 19, 19' ... transport roll, 20 ...
Polishing apparatus, 21: insulating substrate, 22: inner layer circuit pattern,
23 ... insulating layer, 24 ... via hole (non-through hole), 25 ...
Through hole, 26 ... copper layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 道脇 茂 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 菅 慎司 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB01 BB11 CC31 CC44 CD01 CD25 CD32 GG11 5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA26 AA32 AA42 AA43 BB01 BB15 CC08 CC31 DD01 DD22 EE33 FF04 GG17 GG22 GG28 HH07   ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    (72) Inventor Shigeru Michiwaki             3-12 Moriyacho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan (72) Inventor Shinji Suga             3-12 Moriyacho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan F-term (reference) 5E317 AA24 BB01 BB11 CC31 CC44                       CD01 CD25 CD32 GG11                 5E346 AA05 AA06 AA12 AA15 AA26                       AA32 AA42 AA43 BB01 BB15                       CC08 CC31 DD01 DD22 EE33                       FF04 GG17 GG22 GG28 HH07

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】絶縁基板上に所定形状の回路パターンを形
成する工程と、 前記回路パターンを蔽って前記絶縁基板上に絶縁層を形
成する工程と、 前記回路パターンを露出すべく前記絶縁層にビアホール
を形成する工程と、 前記絶縁層及び前記絶縁基板に前記絶縁層及び前記絶縁
基板を貫通するスルーホールを形成する工程と、 前記絶縁層上、前記ビアホールの内壁、前記ビアホール
から露出した前記回路パターン上、及び前記スルーホー
ルの内壁に連続した第1の厚さの導体層を形成する工程
と、 前記ビアホール内及び前記スルーホール内の前記導体層
を蔽うマスク材を形成する工程と、 前記マスク材でマスクされていない前記導体層をエッチ
ングして前記第1の厚さよりも薄い第2の厚さとする工
程と、 前記マスク材を除去した後、前記マスク材で覆われてい
た前記導体層の部分を略前記第2の厚さにまで研磨する
工程とを有することを特徴とするプリント基板の製造方
法。
Claims: 1. A step of forming a circuit pattern having a predetermined shape on an insulating substrate; a step of forming an insulating layer on the insulating substrate by covering the circuit pattern; Forming a via hole in the insulating layer to be exposed; forming a through hole through the insulating layer and the insulating substrate in the insulating layer and the insulating substrate; on the insulating layer, an inner wall of the via hole; Forming a continuous conductive layer of a first thickness on the circuit pattern exposed from the via hole and on an inner wall of the through hole; and a mask material covering the conductive layer in the via hole and the through hole. Forming, and etching the conductor layer that is not masked by the mask material to a second thickness smaller than the first thickness; After removal, the method of manufacturing a printed circuit board, characterized in that a step of polishing a portion of the conductive layer covered by the mask material to substantially the second thickness.
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